JPS6045170B2 - Method for molding 1,4,4a,9a-tetrahydroanthraquinone - Google Patents

Method for molding 1,4,4a,9a-tetrahydroanthraquinone

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JPS6045170B2
JPS6045170B2 JP7277777A JP7277777A JPS6045170B2 JP S6045170 B2 JPS6045170 B2 JP S6045170B2 JP 7277777 A JP7277777 A JP 7277777A JP 7277777 A JP7277777 A JP 7277777A JP S6045170 B2 JPS6045170 B2 JP S6045170B2
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thaq
naphthoquinone
solvent
tetrahydroanthraquinone
molding
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亮 松浦
立美 小松
弘章 高橋
健二 臼井
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Kawasaki Kasei Chemicals Ltd
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ナフタレンの接触気相酸化反応熱ガスを湿式
捕集し、分離して得られる1・4−ナフトキノン(以下
NQと略す)とブタジエンとを不活性な有機溶媒中で反
応して得られる1・4・4a、9a−テトラヒドロアン
トラキノン(以下THAQと略す)を主成分とする反応
溶液から、THAQの成型品を得る工業的な方法に関す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention involves the wet collection and separation of the hot gas from the catalytic gas-phase oxidation reaction of naphthalene, and the separation of 1,4-naphthoquinone (hereinafter abbreviated as NQ) and butadiene into an inert organic compound. The present invention relates to an industrial method for obtaining a molded product of THAQ from a reaction solution containing 1,4,4a,9a-tetrahydroanthraquinone (hereinafter abbreviated as THAQ) as a main component obtained by reaction in a solvent.

THAQは、染料中間体、農薬、その他アントラキノン
及びその誘導体の原料として用いられる。THAQは、
一般的にはNQとブタジエンとのデイールスアルダー反
応によりて製造されるが、空気若しくは光などにより脱
水素され又は若干の酸成分の存在でエノール化し、1・
4−ジヒドロアントラヒドロキノン(以下、DHAHQ
と略す)、さらにはジヒドロアントラキノン(以下、I
DHAQと略す)を生成するなど化学的に不安定である
THAQ is used as a raw material for dye intermediates, agricultural chemicals, and other anthraquinones and their derivatives. THAQ is
Generally, it is produced by the Diels-Alder reaction between NQ and butadiene, but it is dehydrogenated by air or light, or enolized in the presence of some acid components.
4-dihydroanthrahydroquinone (hereinafter referred to as DHAHQ)
), and dihydroanthraquinone (hereinafter referred to as I
It is chemically unstable, producing DHAQ (abbreviated as DHAQ).

とくに、工業用NQを用いて得られるTHAQにはこの
傾向が大である。従つて、THAQを安定に貯蔵し或は
運搬するには、フレーク状、粒状又はペレット状などに
成型すること5が好ましい。然るに、工業的にTHAQ
を製造するには、原料NQとしては或程度精製(例えば
、特開昭51−8257号に示すようにナフトキノンの
有機溶媒溶液を有機多塩基性アルカリ塩溶液で洗浄する
方法)してもNQに対して約0.1重量%以上のフタル
酸及び安息香酸などの酸成分を含有したものを使用しな
ければならない。これら酸成分は該NQとブタジエンと
の反応生成物であるTHAQ溶液中に持ち込まれ、デイ
ールスアルダー反応中、そして脱溶媒次いで液状のTH
AQを成型化するまでの間にエノール化即ちTHAQの
DHAHQへの異性化を促進する。精製THAQの融点
は102〜4℃、であるが、前述の工業品THAQの融
点は90〜95゜Cくらいである。一方、該THAQの
異性体てあるDH,AHQの融点は205T〜210℃
であり、DlIAHQの含量が増大すると液状THAQ
からDFlAHQが晶出し、成型工程においてDHAH
Qが配管等に析出して閉塞するなどのトラブルが発生し
て、液状THAQの成型ができなくなる。本発明者等は
、かかる欠点を克服するために鋭意研究した結果、TH
AQ溶液の溶媒工程および次いで得られた液状THAQ
の成型化工程において、エノール化を左右する条件は主
要因としてNQ中の酸成分含量ならびに処理温度である
ことを認め、さらにこれらの条件を制御し成型化するに
当り液状THAQ中のDHAHQ含量を一定量以下に抑
えることによつて、トラブルなく、THAQの成型品を
得ることを見出し本発明を完成した。本発明は、ナフタ
レンの接触気相酸化反応によつて得られるNQl無水フ
タル酸を含む熱ガスを水性媒体により湿式捕集し、生成
したNQとフタル酸の水性スラリーからNQを分離し、
該NQ中の酸成分をNQに対して0.4%以下に除去し
たのち、該NQとブタジエンを芳香族炭化水素溶媒中に
て反応して得られるTHAQ反応溶液より溶媒を120
℃以下て留去し、得られた該溶融状のTHAQを120
℃以下融点以上に保持し、公知の方法により成型化する
ことを特徴とするTHAQの成型化方!法に存する。
This tendency is particularly strong in THAQ obtained using industrial NQ. Therefore, in order to stably store or transport THAQ, it is preferable to form it into flakes, granules, or pellets. However, industrially THAQ
In order to produce NQ, the raw material NQ can be purified to some extent (for example, by washing an organic solvent solution of naphthoquinone with an organic polybasic alkali salt solution as shown in JP-A-51-8257). It is necessary to use a material containing acid components such as phthalic acid and benzoic acid in an amount of about 0.1% by weight or more. These acid components are introduced into the THAQ solution, which is the reaction product of the NQ and butadiene, during the Diers-Alder reaction, and after desolvation, the liquid TH
Enolization, that is, isomerization of THAQ to DHAHQ, is promoted until AQ is molded. The melting point of purified THAQ is 102-4°C, while the melting point of the aforementioned industrial product THAQ is about 90-95°C. On the other hand, the melting points of DH and AHQ, which are isomers of THAQ, are 205T to 210℃.
and as the content of DlIAHQ increases, liquid THAQ
DFlAHQ crystallizes out, and in the molding process DHAH
Troubles such as Q depositing in pipes etc. and clogging occur, making it impossible to mold liquid THAQ. As a result of intensive research to overcome such drawbacks, the inventors of the present invention discovered that TH
Solvent step of AQ solution and then obtained liquid THAQ
In the molding process, it is recognized that the main factors that affect enolization are the acid component content in NQ and the processing temperature, and furthermore, in controlling these conditions and molding, it is necessary to control the DHAHQ content in liquid THAQ. The present invention was completed by discovering that a THAQ molded product can be obtained without any trouble by keeping the amount below a certain level. The present invention wet-collects hot gas containing NQl phthalic anhydride obtained by catalytic gas-phase oxidation reaction of naphthalene using an aqueous medium, and separates NQ from the aqueous slurry of NQ and phthalic acid produced.
After removing the acid component in the NQ to 0.4% or less based on the NQ, the solvent was removed from the THAQ reaction solution obtained by reacting the NQ and butadiene in an aromatic hydrocarbon solvent.
The resulting molten THAQ was distilled off at a temperature below 120°C.
How to mold THAQ, which is characterized by maintaining the temperature below ℃ or above the melting point and molding by a known method! lies in the law.

本発明において、原料のNQは一般的には工業グレード
の製品が用いられる。
In the present invention, an industrial grade product is generally used as the raw material NQ.

本発明に用いるNQとしては酸成分を完全に除去した高
純度NQの使用が好ましいが、NQ自体が皮膚に炎症性
があ′るなど取扱いが困難であり、例えば再結のような
精製処理を行なう場合は工業上極めて不利になるので高
純度NQの使用は通常考えられない。工業用NQは、通
常ナフタレンの接触気相酸化反応によつて得られたNQ
l無水フタル酸及びナフタレンを含む熱ガスからNQを
分離、例えば水性媒体により湿式捕集、分離することに
より得られる。一例を挙げれば、ナフタレンの接触気相
酸化における反応生成ガスを水或はマレイン酸、フタル
酸等を含む水性媒体によつて水洗捕集して得られるNQ
及びフタル酸の水性スラリーを加熱しフタル酸を水に溶
解し、次いで不活性な有機溶媒例えばトルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素で実質的)にNQのみを抽出する
。このようにして得られたNQ溶液には、NQに対して
0.3〜0.8%くらいのフタル酸及び0.1〜0.2
%くらいの安息香酸が含まれているので、フタル酸ジナ
トリウムなどの弱アルカリ性水溶液で洗浄し、フタル酸
ならびに安息香・酸のような有機酸類を除去する。かく
して得られたNQ溶液をブタジエンとの反応に使用する
。NQ溶液中の酸成分は少ない方がよく、とくに0.2
%以下が好ましいが、このように精製したNQ溶液中に
も酸成分が通常0.1〜0.4%(対NQ)が存在゛す
るので、該NQとブタジエンとの反応においても、また
その結果生成するTHAQを主成分とする該反応溶液を
加熱した場合においても、THAQのエノール化による
DHAHQの生成を全く防止することは困難である。
As the NQ used in the present invention, it is preferable to use highly purified NQ from which acid components have been completely removed, but NQ itself is inflammatory to the skin and is difficult to handle. If this is done, it would be extremely disadvantageous industrially, so the use of high-purity NQ is usually not considered. Industrial NQ is usually NQ obtained by catalytic gas phase oxidation reaction of naphthalene.
NQ can be separated from a hot gas containing phthalic anhydride and naphthalene, for example, by wet collection and separation using an aqueous medium. For example, NQ obtained by washing and collecting the reaction product gas in the catalytic gas phase oxidation of naphthalene with water or an aqueous medium containing maleic acid, phthalic acid, etc.
The aqueous slurry of phthalic acid and phthalic acid is heated to dissolve the phthalic acid in water, and then only the NQ is extracted into an inert organic solvent (substantially an aromatic hydrocarbon such as toluene, xylene, etc.). The NQ solution obtained in this way contains about 0.3 to 0.8% phthalic acid and 0.1 to 0.2% of the NQ.
% of benzoic acid, so it is washed with a weakly alkaline aqueous solution such as disodium phthalate to remove phthalic acid and organic acids such as benzoic acid. The NQ solution thus obtained is used for the reaction with butadiene. The lower the acid component in the NQ solution, the better, especially 0.2
% or less, but since the acid component usually exists in the NQ solution purified in this way at a concentration of 0.1 to 0.4% (relative to NQ), the acid component is also present in the reaction between the NQ and butadiene. Even when the resulting reaction solution containing THAQ as a main component is heated, it is difficult to completely prevent the production of DHAHQ due to enolization of THAQ.

本発明に使用される芳香族炭化水素溶媒としては、常圧
下又は減圧下120℃以下において蒸溜又は水蒸気蒸溜
により留去することが比較的容易な溶媒がよい。
The aromatic hydrocarbon solvent used in the present invention is preferably a solvent that can be relatively easily distilled off by distillation or steam distillation at 120° C. or lower under normal pressure or reduced pressure.

例えば、ベンゼン、トルエン又はキシレン等が挙げられ
る。とくに、工業的にはオルソキシレンが好ましい。即
ち、ナフタレンの接触気相酸化による反応生成ガスから
NQを芳香族炭化水素類の溶液として選択的に抽出し、
精製したNQ溶液をデイールスアルダー反応に供給する
。次いで、脱溶媒すれば容易に溶融状のTHAQが得ら
れるからである。NQとブタジエンとの反応は上記の芳
香族炭化水素溶媒中で行なうが、公知の方法例えばNQ
溶液中にt−ブチルカテコールのような重合防止剤とN
Qに対して1モル以上のブタジエンを添加し、90〜1
50℃で反応させ次いで脱ブタジエンする方法によつて
、THAQの溶液が容易に得られる。
Examples include benzene, toluene, and xylene. In particular, ortho-xylene is preferred industrially. That is, NQ is selectively extracted from the reaction product gas by catalytic gas phase oxidation of naphthalene as a solution of aromatic hydrocarbons,
The purified NQ solution is fed to the Diels-Alder reaction. This is because molten THAQ can be easily obtained by removing the solvent. The reaction between NQ and butadiene is carried out in the above-mentioned aromatic hydrocarbon solvent using known methods such as NQ.
A polymerization inhibitor such as t-butylcatechol and N
Adding 1 mol or more of butadiene to Q, 90 to 1
A solution of THAQ can be easily obtained by reacting at 50° C. and then removing butadiene.

THAQの溶液から有機溶媒を留去する方法としては、
常圧又は減圧下120℃以下において蒸留又は水蒸気蒸
留によつて脱溶媒する方法が採られるが、その際の条件
は使用する有機溶媒の種類によつて決定される。
The method for distilling off the organic solvent from the THAQ solution is as follows:
A method of removing the solvent by distillation or steam distillation at normal pressure or reduced pressure at 120° C. or lower is adopted, and the conditions at that time are determined depending on the type of organic solvent used.

しかしながら、いずれの楊合においても120℃以下、
好ましくは100℃以下の温度条件を守らなければなら
ない。120℃以上においては、第1図に示すように原
料NQに由来する酸成分によつてTHAQが急速にエノ
ール化してDHAHQを生成するからである。DHAH
QがTHAQ中に10%以上含有されるならば、後の成
型工程においてDH,AHQが晶出して閉塞等のトラブ
ルが発生し成型不能となる。従つて、酸成分が多い楊合
、即ち0.3%以上含有する場合は脱溶媒に要する時間
を短くしなければならない。例えば、薄膜式蒸発装置を
使用して数十秒という短時間で脱溶媒する。然しながら
、通常は一般に使用される減圧濃縮装置で、バッチ式或
は適当な滞留時間の連続的に処理して、THAQ中のD
HAHQの生成を極力10%以下に抑制する。次いて、
脱溶媒した溶融状THAQは成型装置を用いて成型する
However, in any case, below 120℃,
Preferably, a temperature condition of 100° C. or less must be maintained. This is because, as shown in FIG. 1, at temperatures above 120° C., THAQ is rapidly enolized by the acid component derived from the raw material NQ to produce DHAHQ. DHAH
If Q is contained in THAQ in an amount of 10% or more, DH and AHQ will crystallize in the subsequent molding process, causing problems such as clogging and making molding impossible. Therefore, when the acid content is high, that is, when the acid content is 0.3% or more, the time required for removing the solvent must be shortened. For example, a thin film evaporator is used to remove the solvent in a short period of several tens of seconds. However, D in THAQ is usually treated in a commonly used vacuum concentrator, either batchwise or continuously with a suitable residence time.
Suppress the generation of HAHQ to 10% or less as much as possible. Next,
The molten THAQ from which the solvent has been removed is molded using a molding device.

成型装置としては、フレーカ,一、ペレタイザー、噴霧
冷却造粒装置又は顆粒成型機などがあげられる。工業的
には、フレーカーが安価なため用いられる。フレーカー
の型式としては、ベルト型、テーブル型、ドラム型など
があるが、ドラム型の装置がコンパクトになること、温
度条件その他の操作がしやすいことなどのため好ましい
。このような成型装置を用いてTHAQを成型する場合
において、最も留意すべき点は成型工程において滞留す
る間、溶融状T]IAQ中に含有されるDHAHQの含
量を1呼量%以下に保持することである。これは、前述
したようにDHAHQが15%以上になると溶融状TH
AQからDHAHQが晶出してくるからである。
Examples of the molding device include a flaker, a pelletizer, a spray cooling granulation device, and a granulation molding machine. Industrially, flakers are used because they are cheap. Types of flakers include belt type, table type, drum type, etc., and drum type devices are preferred because they are compact and are easy to operate in terms of temperature conditions and other aspects. When molding THAQ using such molding equipment, the most important point is to maintain the content of DHAHQ contained in the molten T]IAQ at 1% by volume or less while it remains in the molding process. That's true. As mentioned above, when DHAHQ exceeds 15%, molten TH
This is because DHAHQ crystallizes from AQ.

これを溶解するために温度を上げれば逆にエノール化が
進行してDHAHQの生成が加速される。また、DHA
HQの生成にかまわずにその融点である200゜C以上
に温度を上昇すれば、DIU田Qはアントロンなどに変
化するので好ましくない。従つて、温度を120゜C以
下好ましくは100゜C以下融点(不純分含有のため約
93′C)以上に保持しかつ成型化工程において溶融状
THAQ中のDHAHQの含量を10%以下になるよう
に処理しなければならない。例えば、脱溶媒後に含まれ
るDHAHQが4重量%、溶融状THAQ中の酸成分量
が0.3重量%の溶融状THAQを連続的にフレーカー
で処理する場合は保持温度が100℃とすれば、成型化
するまでに約5時間以内の平均滞留時間で処理すればよ
い。好ましくは、THAQ溶液から成型化までを連続化
、例えばTHAQ溶液を回転薄膜式蒸発機で脱溶媒し、
次いで連続的にフレーカー又は噴霧冷却して固型化、す
るなどの方法により短時間で処理するのがよい。 本発
明の方法によつて得られるフレーク状の成r 型した
TIIAQは、長期間安定に貯蔵し或は運搬するため極
めて好都合である。
If the temperature is raised to dissolve this, enolization will progress and the production of DHAHQ will be accelerated. Also, DHA
If the temperature is raised above 200°C, which is the melting point of HQ, regardless of the formation of HQ, DIU-Q will change to anthrone, etc., which is not preferable. Therefore, the temperature is maintained at 120°C or lower, preferably 100°C or lower, above the melting point (approximately 93'C due to the inclusion of impurities), and the content of DHAHQ in molten THAQ is reduced to 10% or less in the molding process. must be treated as such. For example, when molten THAQ containing 4% by weight of DHAHQ after desolvation and 0.3% by weight of acid component in molten THAQ is continuously treated with a flaker, the holding temperature is 100°C. The average residence time may be within about 5 hours before molding. Preferably, the process from the THAQ solution to molding is continuous, for example, the THAQ solution is desolvated in a rotary thin film evaporator,
It is then preferably processed in a short period of time by continuous flaking or spray cooling to solidify. The flaky molded TIIAQ obtained by the method of the present invention is extremely convenient for stable storage or transportation over long periods of time.

また、本発明によつて得られたTHAQから部分酸化
してDHAQlさらに酸化してアントラキノンを製造し
若しくはTHAQをハロゲン化し次いでニトロ化して1
−ニトロアントラキノンを製造する場合合成原料として
使用し得る。
Furthermore, THAQ obtained according to the present invention may be partially oxidized to DHAQl, further oxidized to produce anthraquinone, or THAQ may be halogenated and then nitrated to produce 1
- Can be used as a synthetic raw material in the production of nitroanthraquinone.

以下、実施例によつて、具体的に本発明を説明する。 Hereinafter, the present invention will be specifically explained with reference to Examples.

但し、%は重量%を表す。実施例1 ナフタレンの接触気相化酸化反応生成ガスを水洗捕集
し、次いでオルソキシレンを用いて抽出して得たNQ2
2%のオルソキシレン溶液を、0.3倍量のフタル酸ジ
ナトリウム2.7%水溶液で洗浄した。
However, % represents weight %. Example 1 NQ2 obtained by washing and collecting the gas produced by the catalytic vapor phase oxidation reaction of naphthalene, and then extracting it using ortho-xylene.
The 2% ortho-xylene solution was washed with 0.3 times the volume of a 2.7% aqueous solution of disodium phthalate.

得られたNQ溶液には、NQに対して0.3%のフタル
酸及び0.02%の安息香酸が含有されていた。 該N
Q溶液、及び該NQ溶液1(1)部に対して、t−ブチ
ルカテコール0.054部とブタジエン18部を、オー
トクレーブ中、反応温度120゜C13時間L反応を行
なう。
The resulting NQ solution contained 0.3% phthalic acid and 0.02% benzoic acid based on NQ. The N
0.054 parts of t-butylcatechol and 18 parts of butadiene are reacted with 1 (1) part of the Q solution and the NQ solution in an autoclave at a reaction temperature of 120° C. for 13 hours.

反応終了後、該反応溶液を95℃で3時間でオルソキシ
レンを留去し、溶融状THAQをNQ溶液10CE,に
対して29.4部を得た。
After the reaction was completed, ortho-xylene was distilled off from the reaction solution at 95° C. for 3 hours to obtain 29.4 parts of molten THAQ based on 10 CE of NQ solution.

該溶融状THAQには、DHAHQが6%含まれていた
。7 該溶融状THAQl5Okgを用いて、フレーク
化試験を行なつた。
The molten THAQ contained 6% DHAHQ. 7 A flaking test was conducted using 50 kg of the molten THAQl.

フレーカーはドラム式フレーカーを用い、給液方法はデ
ィップチャージ方式、ドラムの冷却方法はスプレー式並
びにドラムは直径318wnX巾300WrIn及びそ
の表面積は0.3dであつフた。試験条件は、ドラムの
回転数7RPM1ドラム冷却温度41〜43℃とし、溶
融状THAQを100゜Cに維持しながらフレーク化し
た。平均成型量は45kgノHrであり、約3時間後に
試験を終了したが、その間フレーク化は極めて容易であ
り、最終的な溶融状THAQ中のDHAQ量は約10%
であつた。実施例2実施例1において、フタル酸ジナト
リウム2.7%水溶液で洗浄して得られたNQ溶液を、
さらに5倍量の約80℃の温水で洗浄し、NQに対して
0.08%のフタル酸及び0.02%の安息香酸を含む
22%のNQオルソキシレン溶液を得た。
The flaker used was a drum type flaker, the liquid supply method was a dip charge method, the drum cooling method was a spray method, and the drum had a diameter of 318wn x width of 300WrIn and a surface area of 0.3d. The test conditions were a drum rotation speed of 7 RPM, a drum cooling temperature of 41 to 43°C, and molten THAQ was flaked while maintaining it at 100°C. The average molding amount was 45 kg/hr, and the test was completed after about 3 hours, during which time it was extremely easy to form flakes, and the amount of DHAQ in the final molten THAQ was about 10%.
It was hot. Example 2 In Example 1, the NQ solution obtained by washing with a 2.7% aqueous solution of disodium phthalate was
It was further washed with 5 times the amount of warm water at about 80° C. to obtain a 22% NQ ortho-xylene solution containing 0.08% phthalic acid and 0.02% benzoic acid based on NQ.

該溶液を用いて実施例1と同様の方法で、反応、溶媒の
留去及び成型を実施したが、フレーク化は極めて容易で
あり、最終的な溶融状THAQ中のDHAHQ中量は約
5%であつた。
Using this solution, reaction, distillation of the solvent, and molding were carried out in the same manner as in Example 1, but flaking was extremely easy, and the amount of DHAHQ in the final molten THAQ was approximately 5%. It was hot.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はTHAQ中の酸含量とDHAHQ生成速度の関
係を示す。
FIG. 1 shows the relationship between the acid content in THAQ and the DHAHQ production rate.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 ナフタレンの接触気相酸化反応によつて得られる1
・4−ナフトキノン、無水フタル酸を含む熱ガスを水性
媒体により湿式捕集し、生成した1・4−ナフトキノン
とフタル酸の水性スラリーから1・4−ナフトキノンを
分離し、該1・4−ナフトキノン中の酸成分を1・4−
ナフトキノンに対して0.4%以下に除去したのち、該
1・4−ナフトキノンとブタジエンとを芳香族炭化水素
溶媒中にて反応して得られる1・4・4a・9a−テト
ラヒドロアントラキノン反応溶液より溶媒を120℃以
下で留去し、得られた該溶媒融状の1・4・4a・9a
−テトラヒドロアントラキノンを120℃以下融点以上
に保持し、公知の方法により成型化することを特徴とす
る1・4・4a・9a−テトラヒドロアントラキノンの
成型化方法。 2 芳香族炭化水素溶媒が、ベンゼン、トルエン又はキ
シレンである特許請求の範囲第1項記載の方法。 3 ブタジエンとの反応に使用する1・4−ナフトキノ
ンの中の酸含量を1・4−ナフトキノンに対して0.2
%以下に除去することからなる特許請求の範囲第1項記
載の方法。 4 1・4・4a・9a−テトラヒドロアントラキノン
反応溶液より溶媒を100℃以下で留去することからな
る特許請求の範囲第1項記載の方法。 5 溶融状の1・4・4a・9a−テトラヒドロアント
ラキノンを保持し、成型化する温度を100℃以下で実
施する特許請求の範囲第1項記載の方法。
[Claims] 1 1 obtained by catalytic gas phase oxidation reaction of naphthalene
- 1,4-naphthoquinone is separated from the aqueous slurry of 1,4-naphthoquinone and phthalic acid produced by wet collection of hot gas containing 4-naphthoquinone and phthalic anhydride using an aqueous medium. The acid component inside is 1.4-
From a 1,4,4a,9a-tetrahydroanthraquinone reaction solution obtained by reacting the 1,4-naphthoquinone and butadiene in an aromatic hydrocarbon solvent after removing the naphthoquinone to 0.4% or less. The solvent was distilled off at 120°C or lower, and the obtained solvent molten 1, 4, 4a, 9a
- A method for molding 1,4,4a,9a-tetrahydroanthraquinone, which comprises maintaining the tetrahydroanthraquinone at a melting point of 120° C. or higher and molding it by a known method. 2. The method according to claim 1, wherein the aromatic hydrocarbon solvent is benzene, toluene, or xylene. 3 The acid content in 1,4-naphthoquinone used for the reaction with butadiene is 0.2 relative to 1,4-naphthoquinone.
2. A method according to claim 1, comprising removing less than %. 4. The method according to claim 1, which comprises distilling off the solvent from the 1.4.4a.9a-tetrahydroanthraquinone reaction solution at 100°C or lower. 5. The method according to claim 1, wherein molten 1,4,4a,9a-tetrahydroanthraquinone is held and molded at a temperature of 100°C or lower.
JP7277777A 1977-06-21 1977-06-21 Method for molding 1,4,4a,9a-tetrahydroanthraquinone Expired JPS6045170B2 (en)

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JPH062706B2 (en) * 1986-06-24 1994-01-12 川崎化成工業株式会社 Method for molding 1,4,4a, 9a-tetrahydroanthraquinone

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