JPS6033066A - Burn-in method of high frequency transistor - Google Patents
Burn-in method of high frequency transistorInfo
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- JPS6033066A JPS6033066A JP14195283A JP14195283A JPS6033066A JP S6033066 A JPS6033066 A JP S6033066A JP 14195283 A JP14195283 A JP 14195283A JP 14195283 A JP14195283 A JP 14195283A JP S6033066 A JPS6033066 A JP S6033066A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明は、例えハ100 (Mllz) 乃至20 (
G11z )で使用されるようなGaAs電界効果トラ
ンジスタなど高周波トランジスタの品質を保証する為の
加速試験であるバーンイン方法の改良に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Technical Field of the Invention The present invention relates to
This paper relates to improvements in the burn-in method, which is an accelerated test for guaranteeing the quality of high-frequency transistors such as GaAs field-effect transistors used in G11z).
従来技術と問題点
従来、前記のような高周波トランジスタのバーンイン方
法では、該高周波トランジスタが使用される周波数、即
ち、例えばl 00 (Mllz) 〜2 (1(G
llz )で動作させ、且つ、ポット・プレー1〜上に
載置したり、場合に依ってば加熱炉中に配置するなどし
て周囲温度を上昇させ“ζ加速試験を行ない該高周波ト
ランジスタの品質の良否を確認したり或いは破壊される
ものは破壊しζしまう所謂高周波(RF)バーンインな
る方法が採用され一ζきた。Prior Art and Problems Conventionally, in the burn-in method for high-frequency transistors as described above, the frequency at which the high-frequency transistor is used, that is, for example, l 00 (Mllz) ~ 2 (1 (G
The quality of the high-frequency transistor is determined by operating the high-frequency transistor in a high-temperature mode (2000-2000) and increasing the ambient temperature by placing it on a pot play 1 or, depending on the case, placing it in a heating furnace. A so-called radio frequency (RF) burn-in method has been adopted in which the quality of the parts is checked, and what is destroyed is destroyed.
この方法が採用されてきた理由としζは、被試験高周波
トランジスタの実際の使用周波数を温熱と適用した点に
あろうかと考えられる。It is thought that the reason why this method has been adopted is that ζ is applied to the actual operating frequency of the high-frequency transistor under test.
第1図は従来の高周波バーンイン方法を実施する際に用
いる試験装置の要部回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram of a main part of a test device used when carrying out a conventional high frequency burn-in method.
図に於いて、1は高周波発振器、2及び3はカンプリン
グ・コンデンサ、4及び5は分布定数11す路をなすイ
ンダクタンス、6及び′lは高周波バイパス・コンデン
サ、8ば高周波負荷、9は被試験高周波トランジスタ、
−■cはゲート・バイアス電圧、+■。はドレイン電圧
をそれぞれ示す。In the figure, 1 is a high-frequency oscillator, 2 and 3 are compres- ing capacitors, 4 and 5 are inductances forming a path for the distributed constant 11, 6 and 'l are high-frequency bypass capacitors, 8 is a high-frequency load, and 9 is a receiving capacitor. Test high frequency transistor,
−■c is the gate bias voltage, +■. indicate the drain voltage, respectively.
この試験装置では、被試験高周波トランジスタ9のドレ
インにはドレイン電圧+V、を、ゲートにはゲート・バ
イアス電圧−V6をそれぞれ印加し、また、ゲート入力
として高周波発振器1から例えば100 (Mllz)
乃至20(Gllz)の信号を印加して動作させ、且つ
、例えばホ7)・プレートから熱で被試験高周波トラン
ジスタの温度を上昇させた状態で加速試験を行なうもの
である。In this test apparatus, a drain voltage +V is applied to the drain of the high-frequency transistor 9 under test, and a gate bias voltage -V6 is applied to the gate.
An accelerated test is performed in a state where the high frequency transistor under test is operated by applying a signal of 7) to 20 (Gllz) and the temperature of the high frequency transistor under test is raised by heat from the plate.
然し乍ら、このような構成でRFバーンイン方法を実施
するには、高周波発振器l、カンプリング・コンデンサ
2,3、バイアス電源回路、電力モニタ回路等多くの機
器及び部材が必要とされ、しかも、それ等は高周波用で
あることを要求されるから甚だ高価なものとなり、特に
、被試験高周波トランジスタが電力用である場合には、
高周波発振器1、バイアス電源回路等の出力も大きなも
のを使用しなければならないので経済的負担は更に増大
する。However, in order to carry out the RF burn-in method with such a configuration, many devices and components are required, such as a high frequency oscillator 1, compression capacitors 2 and 3, a bias power supply circuit, and a power monitor circuit. Since it is required to be used for high frequencies, it is extremely expensive, especially when the high frequency transistor under test is for power use.
Since the high-frequency oscillator 1, bias power supply circuit, etc. must have large outputs, the economic burden further increases.
また、前記のように経済的負担が大きいことにも増して
悪いことには、RFバーンイン時に被試験高周波トラン
ジスタの動作状態を把握しきれないことである。即ち、
動作周波数があまりにも高い為、現存の測定器、例えば
オソシロスコープ、ボルトメーク等では種々のパラメー
タを観測することができず、電圧×電流のかたぢ、即ち
、電力のかたちでしか観測できない。従っζ、バーンイ
ン条件について制御を行なうことは殆ど不可能であり、
単に、加速試験をしていると云う程度に過ぎない。Moreover, in addition to the heavy economic burden as described above, what is worse is that the operating state of the high-frequency transistor under test cannot be fully grasped during RF burn-in. That is,
Because the operating frequency is too high, various parameters cannot be observed with existing measuring instruments such as oscilloscopes and voltage makers, and can only be observed in the form of voltage x current, that is, in the form of electric power. Therefore, it is almost impossible to control the burn-in conditions,
It is merely an accelerated test.
発明の目的
本発明は、高周波トランジスタのバーンインを行なうに
際し、種々のパラメータ、例えば、ドレイン電圧、ドレ
イン電流、ゲート電圧、ゲート電流等を観測可能にして
バーンイン条件の設定ができるように、また、使用する
機器、部月が安価tI゛もので間に合うようにするもの
である。OBJECTS OF THE INVENTION The present invention provides a method for setting burn-in conditions by making it possible to observe various parameters such as drain voltage, drain current, gate voltage, and gate current when performing burn-in of a high-frequency transistor. The equipment and parts used are inexpensive and can be used in time.
発明の構成
本発明者等の知見に依れば、例えば、100(Mloo
(〜20 (Gllz)の範囲で動作させるようなi8
i周波トランジスタと姉も原理的に該高周波トランジス
タの例えば第2図にみられるよ゛うなドレイン電圧ニド
レイン電流の特性即ち静特性上を高周波負荷インピーダ
ンスに従って動作しているだけであり、従って、負荷線
り上のバイアス点Bを中心に振って所定動作領域の間で
動作させることができれば、動作周波数は前記の如き実
際の動作周波数でなくとも、例えば、オソシロスコープ
、ボルトメータ等の測定器で電圧、電流を観測できる周
波数範囲であるI O(Mllz)以下の低周波或いは
直流を動作周波数としても一向に差支えない筈である。Structure of the Invention According to the knowledge of the present inventors, for example, 100 (Mloo
(i8 that operates in the range of ~20 (Gllz)
In principle, the i-frequency transistor and its sister simply operate according to the high-frequency load impedance based on the characteristics of the drain voltage and drain current, that is, the static characteristics, as shown in FIG. If it is possible to operate within a predetermined operating range by swinging around the bias point B on the There should be no problem even if the operating frequency is a low frequency below I O (Mllz), which is the frequency range in which voltage and current can be observed, or a direct current.
そこで、本発明では、静特性及びバイアス点を基に調整
された負荷インピーダンスが接続された被試験高周波ト
ランジスタにドレイン電圧及びゲート・バイアス電圧を
印加し且つゲートに低周波信号を印加してから所要各点
の電圧及び電流を測定器で観測しつつバーンイン条件を
設定するとともに該被試験高周波トランジスタを加熱し
て加速試験するようにしている。尚、本発明で低周波と
呼んでいるのは前記したような諸測定器で観測可能な動
作周波数である1 0 (Mllz3以下を指すもので
ある。Therefore, in the present invention, a drain voltage and a gate bias voltage are applied to the high-frequency transistor under test to which a load impedance adjusted based on the static characteristics and bias point is connected, and a low-frequency signal is applied to the gate. The burn-in conditions are set while observing the voltage and current at each point with a measuring device, and the high-frequency transistor under test is heated for accelerated testing. Note that in the present invention, the term "low frequency" refers to an operating frequency of 10 (Mllz3 or lower) that can be observed with the various measuring instruments described above.
このようにすることに依り、その時々に応じてドレイン
電圧、ドレイン電流、ゲート電圧、ゲート電流を観測す
ることが出来るから、それをもとに精密なバーンイン制
御が可能である。By doing this, it is possible to observe the drain voltage, drain current, gate voltage, and gate current depending on the time, so that precise burn-in control can be performed based on this.
発明の実施例
第3図は本発明を実施する場合の説明をする為の要部回
路図であり、第1図に関し°ζ説明した部分と同部分は
同記号で指示しである。Embodiment of the Invention FIG. 3 is a main circuit diagram for explaining the implementation of the present invention, and the same parts as those explained with respect to FIG. 1 are indicated by the same symbols.
図に於いて、11は低周波発振器、12は例えば〔μF
〕オーダのカンプリング・コンデンサ、14はゲート抵
抗、18は負荷である可変抵抗をそれぞれ示す。In the figure, 11 is a low frequency oscillator, 12 is, for example, [μF
14 is a gate resistor, and 18 is a variable resistor as a load.
この実施例では、可変抵抗18の値を選択することに依
り、第2図に於ける負荷線りはバイアス点Bを中心にし
てその傾きが変化するので、被試験高周波トランジスタ
9の動作領域を走査しながら試験することができ、負M
lllがどの範囲の動作領域にあるかは例えばオソシロ
スコープを用いれば簡単に知ることができる。また、ゲ
ート電圧VG及びドレイン電圧VDははトランジスタ9
のゲートに於ける電圧及びドレインに於ける電圧をそれ
ぞれ観測するごとに依り、そして、ゲート電流IG及び
ドレイン電流IDは倍ゲート抵抗14の両端電圧及び可
変抵抗18の両端電圧を観測することに依り容易にまる
。更にまた、周囲温度は通當の手段、例えば、熱電対を
用いる等して節単に知ることができる。In this embodiment, by selecting the value of the variable resistor 18, the slope of the load line in FIG. Can be tested while scanning, negative M
The operating range of Ill can be easily determined using, for example, an oscilloscope. Also, the gate voltage VG and drain voltage VD are the transistor 9
The gate current IG and drain current ID are determined by observing the voltage across the double gate resistor 14 and the voltage across the variable resistor 18. Fits easily. Furthermore, the ambient temperature can be conveniently determined by any conventional means, such as by using a thermocouple.
このように、負荷の状態、ゲート電圧■G、ゲート電流
IG、ドレイン電圧V111、ドレイン電流■G、周囲
温度等の観測ができれば、被試験高周波トランジスタ9
にはどの程度の加速試験が加えられているのかを容易に
知ることができ、また、例えば、トランジスタ9が破壊
される瞬間のデータを採ることも可能であり、このよう
なことは、負荷が分布定数で決るインピーダンスであっ
て調整が殆ど不可能に近い高周波に依る加速試験では全
くなし得ないところである。尚、本発明に於けるバーン
インに要する時間は通當の場合と同様であって、必要に
応じ、168時間、200時間、500時間、3000
時間など適宜に選択して良い。In this way, if the load condition, gate voltage ■G, gate current IG, drain voltage V111, drain current ■G, ambient temperature, etc. can be observed, the high-frequency transistor under test 9
It is easy to know how much accelerated testing has been applied to the This is completely impossible in acceleration tests using high frequencies, which impedance is determined by distributed constants and is almost impossible to adjust. Incidentally, the time required for burn-in in the present invention is the same as in the conventional case, and may be changed to 168 hours, 200 hours, 500 hours, or 3000 hours as necessary.
You can select the time as appropriate.
発明の効果
本発明のバーンイン方法に依れば、被試験高周波トラン
ジスタを低周波信号で動作させるものであるから、該被
試験高周波トランジスタの負荷としては純抵抗である可
変抵抗を使用することができ、従って、その可変抵抗の
値を適宜選択するごとにより、該被試験高周波トランジ
スタの所定動作領域を走査しつつ加速試験を行なうこと
が可能である。そして、ある時点に於ける加速試験が如
何なる負荷状態のもとで行なわれているか測定器の観測
で直接的に容易に知ることができ、しかも、該被試験高
周波トランジスタのゲート電圧、ゲート電流、ドレイン
電圧、ドレイン電流及び周囲dJ。Effects of the Invention According to the burn-in method of the present invention, since the high-frequency transistor under test is operated with a low-frequency signal, a variable resistor that is a pure resistance can be used as a load for the high-frequency transistor under test. Therefore, by appropriately selecting the value of the variable resistor, it is possible to perform an accelerated test while scanning a predetermined operating region of the high-frequency transistor under test. Furthermore, it is possible to directly and easily know under what load conditions an accelerated test is being conducted at a certain point in time by observing the measuring instrument, and also to check the gate voltage, gate current, and gate voltage of the high-frequency transistor under test. Drain voltage, drain current and ambient dJ.
度なども測定器で直視して観測することができるから、
どの程度の加速試験を行なっているか明確に把握するこ
とが可能であり、従って、その条件の制御も容易に行な
うことができる。また、バーンインを行なうに際して使
用する機器、治具、回路部品等は低周波用のもので良い
から高周波で行なう場合に比較して費用を著しく低く抑
えることができるものである。Since it is possible to observe things such as degrees directly with a measuring device,
It is possible to clearly understand how much acceleration testing is being performed, and therefore the conditions can be easily controlled. Furthermore, since the equipment, jigs, circuit parts, etc. used for burn-in can be those for low frequencies, costs can be kept significantly lower than when performing burn-in at high frequencies.
第1図は従来技術を実施する場合に用いられる試験装置
の要部回路図、第2図はトランジスタの動作を説明する
為のドレイン電圧ニドレイン電流の関係を表わす線図、
第3図は本発明を実施する場合に用いられる試験装置の
一例を表わす要部回路図である。
図に於いて、9は被試験高周波トランジスタ、11は高
周波発振器、12ばカップリング・コンデンサ、14は
ゲート抵抗、18は可変抵抗、−vGはゲート・バイア
ス電圧、+vDはドレイン電圧である。
第1図
−vG +vD
第2図
第3図
−VG +v。FIG. 1 is a circuit diagram of a main part of a test equipment used when implementing the conventional technique, and FIG. 2 is a diagram showing the relationship between drain voltage and drain current to explain the operation of a transistor.
FIG. 3 is a circuit diagram of a main part showing an example of a test device used in carrying out the present invention. In the figure, 9 is a high frequency transistor under test, 11 is a high frequency oscillator, 12 is a coupling capacitor, 14 is a gate resistor, 18 is a variable resistor, -vG is a gate bias voltage, and +vD is a drain voltage. Figure 1 - vG +vD Figure 2 Figure 3 - VG +v.
Claims (1)
ンスが接続された被試験高周波トランジスタにドレイン
電圧及びゲート・バイアス電圧を印加し且つゲートに低
周波信号を印加してから所要各点の電圧及び電流を測定
器で観測しつつバーンイン条件を設定するとともに該被
試験高周波1−ランジスタを加熱して加速試験を行なう
ことを特徴とする高周波トランジスタのバーンイン方法
。Apply the drain voltage and gate bias voltage to the high-frequency transistor under test to which the load impedance adjusted based on the static characteristics and bias point is connected, and apply a low-frequency signal to the gate, then calculate the voltage and current at each required point. 1. A burn-in method for a high-frequency transistor, which comprises setting burn-in conditions and heating the high-frequency transistor under test to perform an accelerated test while observing the high-frequency transistor with a measuring device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14195283A JPS6033066A (en) | 1983-08-04 | 1983-08-04 | Burn-in method of high frequency transistor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14195283A JPS6033066A (en) | 1983-08-04 | 1983-08-04 | Burn-in method of high frequency transistor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6033066A true JPS6033066A (en) | 1985-02-20 |
Family
ID=15303941
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14195283A Pending JPS6033066A (en) | 1983-08-04 | 1983-08-04 | Burn-in method of high frequency transistor |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6033066A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63174628A (en) * | 1987-01-14 | 1988-07-19 | 三洋電機株式会社 | Cooker |
US6197602B1 (en) | 1998-04-15 | 2001-03-06 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Burn-in method for microwave semiconductor transistor |
JP2016096306A (en) * | 2014-11-17 | 2016-05-26 | 三菱電機株式会社 | Method of manufacturing nitride semiconductor device |
-
1983
- 1983-08-04 JP JP14195283A patent/JPS6033066A/en active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH0212085B2 (en) * | 1987-01-14 | 1990-03-19 | Sanyo Electric Co | |
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JP2016096306A (en) * | 2014-11-17 | 2016-05-26 | 三菱電機株式会社 | Method of manufacturing nitride semiconductor device |
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