JPS60208039A - Ion beam generator - Google Patents

Ion beam generator

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JPS60208039A
JPS60208039A JP59066899A JP6689984A JPS60208039A JP S60208039 A JPS60208039 A JP S60208039A JP 59066899 A JP59066899 A JP 59066899A JP 6689984 A JP6689984 A JP 6689984A JP S60208039 A JPS60208039 A JP S60208039A
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ion
ion beam
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synchrotron radiation
substance
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植田 至宏
Koichi Ono
高一 斧
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重人 藤田
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    • H01J27/00Ion beam tubes
    • H01J27/02Ion sources; Ion guns
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
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    • H01J37/02Details
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    • H01J37/08Ion sources; Ion guns

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Abstract

PURPOSE:To improve the ionization efficiency by irradiating light emitted from a synchrotron light emitting section onto material to be ionized thereby performing resonance light excitation of said material from the bottom energy state to Rydber condition. CONSTITUTION:Magnesium vapor 10 to be ionized is led into a container 1 while electrodes 5, 6 are provided to lead a light beam B3 of 1,625Angstrom emitted from a synchrotron light emitting section 3 between said electrodes 5, 6. Said beam B3 will resonance excite the vapor 10 from the bottom state to Rydberg condition while voltage is applied between saie electrodes 5, 6 synchronously in time to ionize the vapor 10 under Rydberg condition through Shutalk effect and taken out as an ion beam 9 composed only of magnesium under the voltage between the electrodes 6, 8a to be irradiated onto a specimen 8. Consequently, the ionization efficiency and the selectivity of ion can be improved considerably.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、半導体加工装置をはじめ材料改質。[Detailed description of the invention] [Technical field of invention] The present invention is applicable to material modification including semiconductor processing equipment.

材料合成等に使われるイオンビーム発生装置に関するも
のである。
This relates to ion beam generators used for materials synthesis, etc.

〔従来技術〕[Prior art]

従来、イオンビーム発生装置によるイオン発生方法とし
ては、種々の手法が考えられ実用化されて来た。その大
部分は放電を利用したものであったが、近年レーザ光を
使ったイオン源が考え出されて来ている。このレーザ光
等の光を使った方式には2つあり、1つは光を金属等の
固体に照射してそのプラズマをイオン源として使ったり
、光を集光して気体、液体に照射してプラズマを作り、
これをイオン源としたりするものであり、他の1つは波
長の可変な光源を使い、光の単一波長を対象とするイオ
ン化されるべき物質のエネルギ準位に共鳴させて該物質
をイオン化させるものであり、本発明は後者、特に光と
してレーザ光でなくシンクロトロン放射光を使うものに
関するものである。
Conventionally, various methods have been considered and put into practical use as ion generation methods using ion beam generators. Most of them used electric discharge, but in recent years ion sources using laser light have been devised. There are two methods of using light such as laser light: one is to irradiate a solid such as a metal with light and use the resulting plasma as an ion source, and the other is to focus the light and irradiate it onto a gas or liquid. to create plasma,
This is used as an ion source, and the other method uses a variable wavelength light source to ionize the substance by making a single wavelength of light resonate with the energy level of the substance to be ionized. The present invention relates to the latter, and particularly to one that uses synchrotron radiation rather than laser light as the light.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明は、上記共鳴光励起、イオン化方式のイオンビー
ム発生装置において、イオン化させる物質の共鳴光励起
にてイオン化させる直前の状態として、該物質のシュタ
ルク効果によりイオン化できるリュードベルグ状態(R
ydberg 1evel )を使うことにより、従来
の共鳴光励起、イオン化方式に比べ入力光エネルギに対
するイオン化効率を数桁以上向上でき、かつ選択イオン
化における選択性に優れたイオンビーム発生装置を提供
することを目的としている。
The present invention provides an ion beam generator using resonant light excitation and ionization as described above, in which the substance to be ionized is set in the Rydberg state (R
The purpose of this project is to provide an ion beam generator that can improve the ionization efficiency for input light energy by several orders of magnitude compared to conventional resonant optical excitation and ionization methods, and has excellent selectivity in selective ionization. There is.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

まず本発明装置におけるイオン化方法をマグネシウムイ
オンビームを発生する場合を例にとって従来の方法と比
較しつつ説明する。第1図はマグネシウム中性原子のエ
ネルギ準位図である。
First, the ionization method in the apparatus of the present invention will be explained by comparing it with a conventional method, taking as an example the case of generating a magnesium ion beam. FIG. 1 is an energy level diagram of a neutral magnesium atom.

従来のイオン化方法は、例えば波長が2853人。In the conventional ionization method, for example, the wavelength is 2853.

5528人の2本のレーザビームBl、B2をイオン化
させたいマグネシウム蒸気に照射する方法であり、即ち
基底状態3s(13)にあるマグネシウム原子をまず2
853人のレーザビームB1により第1励起状態3p(
iPQ)に共鳴励起し、その後5528人のレーザビー
ムB2によりエネルギ準位3d (I D)に共鳴励起
し、さらに2853人のレーザビームB1でイオン化さ
せるものである。
This is a method of irradiating the magnesium vapor to be ionized with the two laser beams Bl and B2 of 5528 people, that is, the magnesium atoms in the ground state 3s (13) are first ionized into 2
The first excited state 3p (
iPQ), then resonantly excited to energy level 3d (I D) by the laser beam B2 of 5528 people, and further ionized by the laser beam B1 of 2853 people.

本発明装置におけるイオン化方法が上記従来のイオン化
方法と異なる点は、最終励起状態をリュードベルグ状態
とする点、励起用光源としてシンクロトロン放射光、特
に相対論的シンクロトロン放射光を使用する点にある。
The ionization method in the device of the present invention differs from the conventional ionization method described above in that the final excited state is the Rydberg state and that synchrotron radiation, particularly relativistic synchrotron radiation, is used as the excitation light source. be.

シンクロトロン放射光はレーザ光と同様に方向性を有し
、かつレーザ光よりはるかに大強度、高エネルギ光子で
あり、そのため第1図に示すように1本の光子によりマ
グネシウム蒸気を基底状態から高励起状態に励起できる
。さらに該励起蒸気をイオン化す、るには該蒸気に例え
ば次式で示される電界をシンクロトロン放射光と共に印
加することにより、この励起状態からシュタルク効果に
よりイオン化を行なうものであり、この点も従来のイオ
ン化方法と異なる。
Synchrotron synchrotron radiation has directionality like laser light, and is a photon with much greater intensity and energy than laser light. Therefore, as shown in Figure 1, a single photon can bring magnesium vapor out of the ground state. Can be excited to a highly excited state. Furthermore, the excited vapor is ionized, for example, by applying an electric field represented by the following equation to the vapor together with synchrotron radiation light, ionization is performed from this excited state by the Stark effect, which is also conventional. The ionization method is different.

E (V/e11)−0,3125X10S−n−4こ
こでnはリュードベルグ状態の有効主量子数である。
E (V/e11)-0,3125X10S-n-4 where n is the effective principal quantum number of the Rydberg state.

この発明装置におけるイオン化方法の場合、従来のイオ
ン化方法がエネルギ準位3d(ID)から直接イオン化
させるのに比べ、イオン化させる衝突断面積が数桁以上
高い。従ってシンクロトロン放射光の出力エネルギが小
さくてすみ、しかも完全に共鳴のみを使うため、該放射
光のエネルギ準位、波長を不純物原子のそれらと一致し
ないように選択すればイオン化させたい物質のみをイオ
ン化でき、しかも純度の高いものができる。
In the case of the ionization method in the device of this invention, the collision cross section for ionization is several orders of magnitude higher than that in the conventional ionization method, which directly ionizes from energy level 3d (ID). Therefore, the output energy of synchrotron radiation is small, and since only resonance is used, only the substance to be ionized can be ionized by selecting the energy level and wavelength of the synchrotron radiation so that they do not match those of the impurity atoms. It can be ionized and produces highly pure products.

また上記シンクロトロン放射光の波長や電界強度を変え
ることにより、容易に他種の物質のイオンビームを発生
することができ、この場合イオン化される多種の物質を
前もってイオンビーム発生容器内に導入しておいても良
い。このように発生するイオンビームの種類を容易に変
えることができる本発明の手法は従来の方法にないもの
であり、イオンビームで処理する2つ以上の行程を連続
して行なうことができる利点がある。
Furthermore, by changing the wavelength and electric field strength of the synchrotron radiation light, ion beams of other types of substances can be easily generated.In this case, various types of substances to be ionized can be introduced into the ion beam generation container in advance. You can leave it there. The method of the present invention, which allows the type of ion beam generated to be easily changed, is different from conventional methods, and has the advantage of being able to perform two or more processing steps using an ion beam in succession. be.

次にこの発明の実施例を図について説明する。Next, embodiments of the invention will be described with reference to the drawings.

第2図は本発明の第1の実施例を示す。図において、l
はイオン化されるべき物質が導入される容器、laは上
記物質を該容器1内に導入するためのガス導入孔、1b
は上記容a1を真空にするための真空排気装置(図示せ
ず)に接続された排気通路、3は1625人の波長幅の
狭いシンクロトロン放射光B3を発生するシンクロトロ
ン放射光発生部、5,6は上記シンクロトロン放射光B
3を挟んで配置された電極、5a、6aは上記電極5゜
6に電圧を印加する端子であり、これらは上記容器1内
に上記物質をイオン化するためのイオン化電界を印加す
る電界発生部15を構成している。
FIG. 2 shows a first embodiment of the invention. In the figure, l
1 is a container into which the substance to be ionized is introduced, la is a gas introduction hole for introducing the substance into the container 1, and 1b is
3 is an exhaust passage connected to a vacuum evacuation device (not shown) for evacuating the volume a1; 3 is a synchrotron radiation generating unit that generates synchrotron radiation B3 having a narrow wavelength width; 5; , 6 is the synchrotron radiation B
Electrodes 5a and 6a arranged across 3 are terminals for applying voltage to the electrodes 5 and 6, and these are terminals for applying an ionizing electric field to ionize the substance in the container 1. It consists of

8は試料、8aは該試料8を保持する試料台であり、該
試料台8aと上記電極6との間には直流電圧が印加され
、これによりイオン化された物質をイオンビームとして
引き出すための引き出し電界が発生される。なお、上記
イオン化電界が上記引き出し電界を兼ねるようにしても
よい。
8 is a sample, and 8a is a sample stand that holds the sample 8. A direct current voltage is applied between the sample stand 8a and the electrode 6, and a drawer is used to extract the ionized substance as an ion beam. An electric field is generated. Note that the ionization electric field may also serve as the extraction electric field.

次に動作について説明する。Next, the operation will be explained.

本実施例装置により、マグネシウムのイオンビームを発
生する場合を考える。まず容器1にガス導入孔1aより
マグネシウム蒸気10を導入する。
Let us consider the case where a magnesium ion beam is generated by the apparatus of this embodiment. First, magnesium vapor 10 is introduced into the container 1 through the gas introduction hole 1a.

そして上記シンクロトロン放射光発生部3から波長16
25人のシンクロトロン放射光B3が上記容器1内に導
入され、これにより上記マグネシウム蒸気10は、該放
射光B3により基底状!@33(IS)からり二−ドベ
ルグ状態29p(IPO)に共鳴励起される。
Then, from the synchrotron radiation light generating section 3, a wavelength of 16
The synchrotron radiation B3 of 25 people is introduced into the container 1, whereby the magnesium vapor 10 is radiated into the basal state by the radiation B3. @33 (IS) is resonantly excited to Niedberg state 29p (IPO).

また上記シンクロトロン放射光の導入と時間的に同期し
て電極5と電極6の各々に端子5a、6aから電圧が印
加され、これにより、上記リュードベルグ状fi29p
(IPO)にあるマグネシウム蒸気10に電界が印加さ
れ、その結果マグネシウム蒸気10はシュタルク効果に
よりイオン化される。また上記電極6と試料台8aとの
間には直流電圧が印加されており、これにより上記イオ
ン化されたマグネシウム蒸気10はマグネシウムのイオ
ンのみからなるイオンビーム9として引き出され、該イ
オンビーム9は上記試料8に照射される。
In addition, a voltage is applied to each of the electrodes 5 and 6 from the terminals 5a and 6a in temporal synchronization with the introduction of the synchrotron radiation light, thereby causing the Rydberg-like fi29p
An electric field is applied to the magnesium vapor 10 at (IPO), so that the magnesium vapor 10 is ionized due to the Stark effect. Further, a DC voltage is applied between the electrode 6 and the sample stage 8a, whereby the ionized magnesium vapor 10 is extracted as an ion beam 9 consisting only of magnesium ions. The sample 8 is irradiated.

以上の動作説明における本実施例の特徴を示すと、まず
第1に本実施例は完全に共鳴のみを用いて選択イオン化
を行なうものであるので、上記容器1内にイオン化させ
るべき物質、この場合マグネシウム、以外の不純物、酸
素、窒素、炭素、水素等が含まれていて、しかもその量
がマグネシウムより多くても、レーザビームのエネルギ
準位。
The characteristics of this embodiment in the above operation description are as follows: First of all, since this embodiment performs selective ionization completely using only resonance, the substance to be ionized in the container 1, in this case, Even if it contains impurities other than magnesium, such as oxygen, nitrogen, carbon, hydrogen, etc., and even if the amount is greater than magnesium, the energy level of the laser beam will change.

波長を上記不純物等のそれらと一致させないようにして
希望の元素、この場合はマグネシウム、のみがイオン化
された純粋なマグネシウムイオンビームが得られる。
A pure magnesium ion beam in which only the desired element, in this case magnesium, is ionized can be obtained by making the wavelength not coincident with those of the above-mentioned impurities.

第2に本実施例は上述のとおり、選択イオン化を行なう
ものであり、かつ共鳴光励起によるイオン化を行なうも
のであるので、電子や他の元素が励起されたり、エネル
ギ吸収により温度上昇したりすることはなく、その結果
イオンビームを照射する対象試料8、例えば半導体の場
合は基板、の温度を上昇させることはなく、低温処理が
できる。
Second, as mentioned above, this embodiment performs selective ionization and ionization by resonant optical excitation, so there is no possibility that electrons or other elements will be excited or that the temperature will rise due to energy absorption. As a result, low-temperature processing can be performed without increasing the temperature of the target sample 8 to be irradiated with the ion beam, such as a substrate in the case of a semiconductor.

第3にイオンビームの種類や特性を変える場合はシンク
ロトロン放射光の波長及び印加電圧を変えれば良く、従
来のような試料を取り出したり、イオン源部を交換する
ために容器を開閉したりする必要はなく、従って、イオ
ン注入とアニーリング等の連続動作が容易にできる。
Third, if you want to change the type or characteristics of the ion beam, you can simply change the wavelength of the synchrotron radiation light and the applied voltage, and you can remove the sample or open and close the container to replace the ion source, as in the case of conventional methods. This is not necessary, and therefore, continuous operations such as ion implantation and annealing can be easily performed.

第3図は本発明の第2の実施例を示す。図において、第
2図と同一符号は同−又は相当部分を示し、13はイオ
ン化させるべき物質12を収容する容器、13aは上記
容器13の外周に設けられたヒータであり、これにより
上記容器13は上記物質12を蒸発せしめるオーブンと
なっている。
FIG. 3 shows a second embodiment of the invention. In the figure, the same reference numerals as those in FIG. serves as an oven in which the substance 12 is evaporated.

11はイオン化されたマグネシウム蒸気10を容器1の
軸心に集束せしめるマグネット、14は上記集束された
マグネシウム蒸気10をイオンビーム9として引き出す
引き出し電極である。
11 is a magnet that focuses the ionized magnesium vapor 10 on the axis of the container 1, and 14 is an extraction electrode that extracts the focused magnesium vapor 10 as an ion beam 9.

次に動作について説明する。Next, the operation will be explained.

容器13内にイオン化させる物質であるマグネシウム1
2を入れ、ヒータ13aにより容器13を加熱すると上
記マグネシウム12が溶融、気化してマグネシウム蒸気
10が発生する。そして波長1625人のシンクロトロ
ン放射光B3が上記容器13内に導入されて上記蒸気1
0に照射され、また同時に電極5,6に電圧が印加され
て上記蒸気10に電界が印加される。するとこれにより
蒸気10は基底状態3 s (’ S)からりュードベ
ルグ状j@29p (I PO)に励起され、さらにシ
ュタルク効果によりリュードベルグ状態29p(IPO
)にあるマグネシウム蒸気10の電子が自由電子となり
、これによりマグネシウムイオンが生成され、該マグネ
シウムイオンはマグネット11により軸心に集束された
後、引き出し電極14によってイオンビーム9として放
出される。
Magnesium 1 which is a substance to be ionized in the container 13
When the container 13 is heated by the heater 13a, the magnesium 12 is melted and vaporized, and magnesium vapor 10 is generated. Then, synchrotron radiation B3 with a wavelength of 1625 people is introduced into the container 13, and the vapor 1
At the same time, a voltage is applied to the electrodes 5 and 6 to apply an electric field to the vapor 10. As a result, the vapor 10 is excited from the ground state 3 s (' S) to the Rydberg state j@29p (I PO), and further to the Rydberg state 29p (I PO) due to the Stark effect.
) electrons in the magnesium vapor 10 become free electrons, thereby generating magnesium ions, which are focused to the axis by the magnet 11 and then emitted as an ion beam 9 by the extraction electrode 14.

第4図は本発明に用いるシンクロトロン放射光発生装置
の構成例である0図において、21は線形加速器、22
は電子蓄積リング、23はウィグラー、24は分光系、
33は容器である。
FIG. 4 shows an example of the configuration of a synchrotron radiation generating device used in the present invention. In FIG. 0, 21 is a linear accelerator, 22
is an electron storage ring, 23 is a wiggler, 24 is a spectroscopic system,
33 is a container.

上記容器33に導入されるシンクロトロン放射光は、ま
ず線形加速器121により電子が加速されて電子蓄積リ
ング22に打ち込まれ、該リング22において相対論的
速度になった電子からシンクロトロン放射光が放出され
、さらに分光系24に導入され該分光系24により単一
波長にされた光可変性の範囲を拡げることができ、多種
の物質のイオンビームを発生できる。
In the synchrotron radiation introduced into the container 33, electrons are first accelerated by the linear accelerator 121 and shot into the electron storage ring 22, and synchrotron radiation is emitted from the electrons that have reached relativistic speed in the ring 22. The ion beam is further introduced into the spectroscopic system 24 and made into a single wavelength by the spectroscopic system 24.The range of optical tunability can be expanded, and ion beams of various substances can be generated.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

このように、本発明に係るイオンビーム発生装置によれ
ば、イオン化されるべき物質をシンクロトロン放射光の
照射によりその基底状態からりュードベルグ状態に共鳴
光励起し、さらに上記物質を電界の印加により該励起状
態からイオン状態にするようにしたので、イオン化効率
及びイオンの選択性を大きく向上できる効果がある。
As described above, according to the ion beam generator of the present invention, the substance to be ionized is resonantly excited from its ground state to the Rydberg state by irradiation with synchrotron radiation light, and the substance is further excited into the Rydberg state by applying an electric field. Since the state is changed from an excited state to an ion state, the ionization efficiency and ion selectivity can be greatly improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はマグネシウム中性原子のシングレット系のエネ
ルギ状態図、第2図は本発明の第1の実施例によるシャ
ワー型イオンビーム発生装置の概略構成図、第3図は本
発明の第2の実施例による集束型イオンビーム発生装置
の概略構成図、第4図は本発明に用いるシンクロトロン
放射光発生部の概略構成図である。 1.13.33・・・容器、15・・・電界発生部、2
0・・・シンクロトロン放射光発生部、B3・・・シン
クロトロン放射光。 なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。 代理人 大岩増雄 第1図 工 手続補正書く自発) 1.事件の表示 特願昭59−66899号2、発明の
名称 イオンビーム発生装置 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 代表者片山仁へ部 4、代理人 5、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 6、補正の内容 (1) 明m置薬3頁第16行のrRydberg 1
evel」をrRydberg 5tate Jに訂正
する。 (2) 同第8頁第1行の「同期して電極」を「1μs
程度遅れて電極」に訂正する。 (3) 同第1O頁第13行の「同時に電極」を[lμ
s程度遅れて電極]に訂正する。 以 上
FIG. 1 is an energy phase diagram of a singlet system of magnesium neutral atoms, FIG. 2 is a schematic diagram of the shower type ion beam generator according to the first embodiment of the present invention, and FIG. FIG. 4 is a schematic diagram of a focused ion beam generator according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a schematic diagram of a synchrotron radiation generator used in the present invention. 1.13.33... Container, 15... Electric field generating section, 2
0... Synchrotron radiation generating section, B3... Synchrotron radiation light. Note that the same reference numerals in the figures indicate the same or equivalent parts. Agent: Masuo Oiwa (Volunteer to write the first drafting procedure amendment) 1. Indication of the case: Japanese Patent Application No. 59-66899 2, name of the invention, ion beam generator 3, person making the amendment Relationship to the case: Representative Hitoshi Katayama of the patent applicant, Department 4, Attorney 5, of the specification to be amended. Detailed Description of the Invention Column 6, Contents of Amendment (1) Rydberg 1, page 3, line 16
evel” is corrected to rRydberg 5tate J. (2) In the first line of page 8, change “electrodes in sync” to “1μs”.
Corrected to "electrode with some delay." (3) “Simultaneous electrode” on page 1O, line 13 of the same page [lμ
electrode after a delay of about s]. that's all

Claims (1)

【特許請求の範囲】 fυ イオン化されるべき物質を収容する容器と、該容
器内の上記物質をこれにシンクロトロン放射光を照射し
てエネルギ準位の基底状態がらりュードベルグ状態に共
鳴光励起するシンクロトロン放射光発生部と、上記容器
内の上記物質をこれに電界を印加してシュタルク効果に
よりリュードベルグ状態からイオン状態とする電界発注
部とを備えたことを特徴とするイオンビーム発生装置。 (2)上記シンクロトロン放射光発生部は、加速器を有
するものであることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載のイオンビーム発生装置。 (3) 上記加速器として、電子蓄積リング又は電子サ
イクロトロンを用いたことを特徴とする特許請求の範囲
第2項記載のイオンビーム発生装置。 (41上記シンクロトロン放射光発生部は、加速器及び
分光器又は分光系を存し、加速器からの出力を上記分光
器又は分光系を通過させた単一波長の光を発生するもの
であることを特徴とする特許請求の範囲第2項又は第3
項記載のイオンビーム発生装置。 (5)上記シンクロトロン放射光発生部は、分光器又は
分光系を有し、上記物質を基底状態から中間状態を経て
リュードベルグ状態に階段状に共鳴光励起をするような
複数の単一波長の光を発生するものであることを特徴と
する特許請求の範囲第1項記載のイオンと一ム発生装置
[Claims] fυ A synchrotron comprising a container containing a substance to be ionized, and a synchrotron which resonantly excites the substance in the container by irradiating the substance with synchrotron radiation light so that the ground state of the energy level becomes the Rirudberg state. An ion beam generation device comprising: a synchrotron radiation generating section; and an electric field injection section that applies an electric field to the substance in the container to change it from a Rydberg state to an ion state by the Stark effect. (2) The ion beam generating device according to claim 1, wherein the synchrotron radiation light generating section includes an accelerator. (3) The ion beam generator according to claim 2, wherein an electron storage ring or an electron cyclotron is used as the accelerator. (41) The synchrotron radiation light generating section includes an accelerator and a spectrometer or spectroscopic system, and generates light of a single wavelength by passing the output from the accelerator through the spectrometer or spectroscopic system. Characteristic claim 2 or 3
The ion beam generator described in Section 1. (5) The synchrotron radiation generating section has a spectroscope or a spectroscopic system, and emits a plurality of single wavelengths that resonantly excite the substance stepwise from the ground state to the Rydberg state via the intermediate state. 2. The ion and ion generator according to claim 1, wherein the ion generator generates light.
JP59066899A 1984-04-02 1984-04-02 Ion beam generator Granted JPS60208039A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59066899A JPS60208039A (en) 1984-04-02 1984-04-02 Ion beam generator

Applications Claiming Priority (1)

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JP59066899A JPS60208039A (en) 1984-04-02 1984-04-02 Ion beam generator

Publications (2)

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