JPS60203628A - Photo-polymerizable composition - Google Patents

Photo-polymerizable composition

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JPS60203628A
JPS60203628A JP59059316A JP5931684A JPS60203628A JP S60203628 A JPS60203628 A JP S60203628A JP 59059316 A JP59059316 A JP 59059316A JP 5931684 A JP5931684 A JP 5931684A JP S60203628 A JPS60203628 A JP S60203628A
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JP
Japan
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rings
cationic polymerizable
group
polymerizable compound
tetraphenyl
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JP59059316A
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Japanese (ja)
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Takaki Takato
孝毅 高頭
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

PURPOSE:To obtain the titled composition curable with light in a short time, absorbing ultraviolet radiation in high efficiency to enable the saving of irradiation energy, and storable for a long period except for the exposure to short wavelength light, by compounding a cationic polymerizable compound with a novel photo-polymerization catalyst. CONSTITUTION:The objective composition can be produced by compounding (A) a cationic polymerizable compound (preferably epoxy compound) with (B) a salt composed of the positive group consisting of a hetero-cyclic compound containing (thio)pyrilium ring or pyridium ring and the negative group consisting of BF<->, SbF6<-> or AsF6<-> (e.g. N,N'-dimethyl-4,4'-dipyridium-bistetrafluoroborate, etc.). The amount of the component B is preferably 0.5-8pts.wt. per 100pts.wt. of the component A.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は光重合性組成物に関し、更に詳しくは、新規な
光重合触媒を含有するととによシ短時間で光硬化する光
重合性組成物に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a photopolymerizable composition, and more particularly, a photopolymerizable composition that photocures in a particularly short time when it contains a novel photopolymerization catalyst. Regarding.

〔発明の技術的背景とその問題点〕[Technical background of the invention and its problems]

各種のカチオン重合性化合物、とりわけそれらの中でも
エポキシ樹脂はその粘着力、接着性、耐薬品性及び電気
絶縁性などの電気的特性に優れているので、塗装材料、
電気絶縁材料、各種積層材料、接着剤などの用途分野で
汎用されている。
Various cationic polymerizable compounds, especially epoxy resins, have excellent adhesive strength, adhesion, chemical resistance, and electrical properties such as electrical insulation, so they are used as coating materials,
It is widely used in fields such as electrical insulation materials, various laminated materials, and adhesives.

現在、これらの用途分野に使用されるエポキシ樹脂はそ
のほとんどが熱硬化性のものであるため、加熱処理を嫌
う製品への応用や連続加工を施す製品分野への応用には
有効に適合できないという問題がある。
Currently, most of the epoxy resins used in these application fields are thermosetting, so they cannot be effectively applied to products that do not require heat treatment or to products that undergo continuous processing. There's a problem.

近年、この問題を解消するため、エポキシ樹脂に光触媒
として特殊な塩を配合し、ここに可視−紫外線域(通常
365 nm付近の波長)の光を照射して該塩をカチオ
ン重合開始剤としての酸に変換しエポキシ樹脂を光硬化
させるという方法が採用されるようになった。
In recent years, in order to solve this problem, a special salt is added to epoxy resin as a photocatalyst, and the salt is irradiated with light in the visible to ultraviolet range (usually around 365 nm wavelength) to activate the salt as a cationic polymerization initiator. A method of photo-curing epoxy resin by converting it into acid has been adopted.

このような光触媒としては、例えば、シアゾニウム塩型
、芳香族ヨードニウム塩型、芳香族スルホニウム塩型、
芳香族アンモニウム塩型、ピリジウム塩型、チオピリリ
ウム塩型、ビリリウム塩型のものが知られている。これ
らの光触媒はいずれも、光照射を受けると塩の分解が起
シ、その結果陰性基部分が例えばHBF6. HBF4
のような強酸となってエポキシ樹脂(モノマー)を重合
させる。
Such photocatalysts include, for example, siazonium salt type, aromatic iodonium salt type, aromatic sulfonium salt type,
Aromatic ammonium salt types, pyridium salt types, thiopyrylium salt types, and biryllium salt types are known. In all of these photocatalysts, when exposed to light, the salt decomposes, and as a result, the negative group moiety becomes, for example, HBF6. HBF4
It becomes a strong acid such as and polymerizes epoxy resin (monomer).

しかしながら、これらの方法においては、光触媒がいず
れも上記したような強酸を発生するKもかかわらず、樹
脂の硬化速度が小さいという問題がある。
However, in these methods, there is a problem in that the curing speed of the resin is slow despite the fact that the photocatalyst is K, which generates the above-mentioned strong acid.

これは、上記した波長域では、光触媒の陽性基部分の光
吸収が充分に進行しない、光を吸収したのちの陽性基部
分の分解速度が遅いということに起因するものと推察さ
れる。
This is presumably due to the fact that in the above-mentioned wavelength range, light absorption by the positive group portion of the photocatalyst does not proceed sufficiently, and the rate of decomposition of the positive group portion after absorbing light is slow.

例えば、従来用いられている代表的な光触媒の光吸収特
性を第1表に示す。
For example, Table 1 shows the light absorption characteristics of typical photocatalysts used conventionally.

第1表 カッコ内は、’Ogε(ε:分子吸光係数)を表わす。Table 1 The value in parentheses represents 'Ogε (ε: molecular extinction coefficient).

第1表から明らかなように従来の光触媒は、その極大吸
収波長が常用の紫外線ランプの照射波長域(365nm
伺近)よシもかなシ短波長側に位置している。そのため
光の吸収効果が充分ではない。
As is clear from Table 1, the maximum absorption wavelength of conventional photocatalysts is within the irradiation wavelength range of commonly used ultraviolet lamps (365 nm).
It is located on the short wavelength side. Therefore, the light absorption effect is not sufficient.

このため、これら触媒に各種の置換基をイ1加するなど
の手段によシ吸収波長をより長波長側に移行させる方法
、又はこれら触媒のス(クトル感度を特定の範囲に移行
させうる光増感剤を添加する方法などが試みられている
が、これらの方法はいずれも照射した光エネルギーを光
触媒の陽性基部分そのものの分解に活用することにはな
っていない。
For this reason, methods for shifting the absorption wavelength to longer wavelengths by adding various substituents to these catalysts, or using light that can shift the absorption wavelength of these catalysts to a specific range, have been proposed. Although methods such as adding a sensitizer have been attempted, none of these methods utilizes the irradiated light energy to decompose the positive group portion of the photocatalyst itself.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明は、新規な光触媒を含有することにょシ、短時間
の光照射で硬化する光重合性組成物の提供を目的とする
An object of the present invention is to provide a photopolymerizable composition that contains a novel photocatalyst and is cured by short-term light irradiation.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明の光重合性組成物は、カチオン重合性化合物と、
共役する2個のピリジウム環、チオピリリウム環又はピ
リジウム環を含む複素環式化合物の陽性基及びBF4 
+ PF6−* 5bF6−* AsF6−の群から選
ばれる1種の陰性基とから成る塩を必須成分とする。
The photopolymerizable composition of the present invention comprises a cationically polymerizable compound;
A positive group of a heterocyclic compound containing two conjugated pyridium rings, a thiopyrylium ring or a pyridium ring, and BF4
+ PF6-* 5bF6-* One type of negative group selected from the group AsF6- as an essential component.

本発明の組成物は、まず、カチオン重合性化合物がマト
リックスである。カチオン重合性化合物としては、例え
ば、エポキシ化合物;ビニル有機単量体、ビニル有機低
重合体、環状有機エーテル、環状有機エステル、環状有
機スルフィド、環状アミン、環状有機ケイ素化合物など
があげられる。
In the composition of the present invention, first, the cationic polymerizable compound is the matrix. Examples of the cationically polymerizable compound include epoxy compounds; vinyl organic monomers, vinyl organic low polymers, cyclic organic ethers, cyclic organic esters, cyclic organic sulfides, cyclic amines, and cyclic organosilicon compounds.

これらのものはそれぞれ単独で用いてもよいし、2種以
上を適宜に混合して用いてもよい。
Each of these may be used alone, or two or more may be used in an appropriate mixture.

これらカチオン重合性化合物のうち、エポキシ化合物は
好適なものである。エポキシ化合物としては、通常知ら
れているエポキシ樹脂であれば何であってもよく格別限
定されるものではない。例えば、ビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂;ビスフェノールF型エポキシ樹脂:フェノ
ールノブラック型工Iキシ樹脂;脂環式1Iキシ樹脂;
トリグリシシールイソシアネートやヒダントインエポキ
シの如き含複素環工Iキシ樹脂;水添ビスフェノールA
型二1?キシat脂:プロピレングリコール−ジグリシ
ジルエーテルやペンタエリスリトール−ポリグリシジル
エーテルなどの脂肪族系エポキシ樹脂;芳香族、脂肪族
もしくは脂環式のカルビン酸とエピクロルヒドリンとの
反応によって得られる工Iキシ樹脂;スピロ環含有エポ
キシ樹脂;オルソ・アリル・フェノールノボラック化合
物とエピクロルヒドリンとの反応生成物であるグリシジ
ルエーテル型エポキシ樹脂;ビスフェノールAのそれぞ
れの水酸基のオルソ位にアリル基を有するジアリルビス
フェノール化合物とエピクロルヒドリンとの反応生成物
であるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂などのいずれ
を用いても差支えない。
Among these cationically polymerizable compounds, epoxy compounds are preferred. The epoxy compound may be any commonly known epoxy resin and is not particularly limited. For example, bisphenol A type epoxy resin; bisphenol F type epoxy resin: phenol black type I-oxy resin; alicyclic I-oxy resin;
Heterocyclic-containing I-oxy resins such as triglycyl isocyanate and hydantoin epoxy; hydrogenated bisphenol A
Type 21? Xylate resin: aliphatic epoxy resin such as propylene glycol-diglycidyl ether and pentaerythritol-polyglycidyl ether; engineered Ixy resin obtained by reaction of aromatic, aliphatic or alicyclic carbic acid with epichlorohydrin; Spiro ring-containing epoxy resin; glycidyl ether type epoxy resin which is the reaction product of an ortho-allyl-phenol novolak compound and epichlorohydrin; reaction between a diallyl bisphenol compound having an allyl group at the ortho position of each hydroxyl group of bisphenol A and epichlorohydrin Any product such as glycidyl ether type epoxy resin may be used.

本発明組成物に配合する光触媒は、共役する2個のピリ
リウム環、チオぎリリウム項又はピリリウム環を含む複
素環式化合物の陽性基及びBP; 。
The photocatalyst blended into the composition of the present invention includes two conjugated pyrylium rings, a thiogyrylium term, or a positive group of a heterocyclic compound containing a pyrylium ring, and BP;

PF7 + 5bF6−*、 AsF;の群から選ばれ
る1種の陰性基とから成る塩である。
It is a salt consisting of one type of negative group selected from the group of PF7 + 5bF6-*, AsF;

具体的に例示すれば、次式: (式中、Xa−t Xb−+ Xi + Xtr e 
X411− * X「はそれぞれBy; e PF、−
、sbp、″* AsF5−の陰性基のいずれか1つを
表わす) で示される塩である。すなわち、N、N’−ジメチル−
4,4’−ノぎりゾウムービステトラフルオロ?レート
、N、N’−ジメチル−4,4′−ジピリジウムービス
へキサフルオロホスフェ−)、N、N’−ジメチル−4
,4’−ジピリジウムーピスヘキサフルオロアンチモネ
ート、N、N’−ジメチル−4,4′−ジピリゾウムー
ビスへキサフルオロアルセネート:N、N’−ジメチル
−2,2’、6.6’−テトラフェニル−4,4′−ビ
スピリノウムービステトラフルオロデレー)、N、N’
−ジメチル−2,2’、6,6’−テトラフェニル−4
,4’−ビスピリジウム−ビスへキサフルオロホスフェ
ート、NtN’−ジメチル−2,2’、6.6’−テト
ラフェニル−4,4’−ピスピリゾウムービスヘキサフ
ルオロアンチモネート、N、N’−ジメチル−2,2’
、6.6’−テトラフエニル−4,4′−ビスピリジウ
ム−4,4′−へキサフルオロアルセネート: 2.2
’、6,6’−テトラ7エ二ルー4.4′−ゾビリリウ
ムービステトラフルオロ?レート、2,2’ 、 6,
6’−テトラフェニル−4,4′−ジヒリリウムービス
ヘキサフルオロホス7エート、2.2’、6.6’−テ
トラフェニル−414’−・クビリリウムービスへキサ
フルオロアンチモー4−ト、2.2’、6.6’−テト
ラフェニル−4,4′−ゾピリリウムービスへキサフル
オロアルセネート: 2,2’、6.6’−テトラフェ
ニル−4,4′−ジぎリルビオレンービステトラフルオ
ロデレート、2.2’、6.6’−テトラフェニル−4
,41−ジチリルビオレンービスへキサフルオロホスフ
ェート、S2.’2’、 6.6’−テトラフェニル−
4,4’−ゾビリルビオレンービスヘキサフルオロアン
チモネート、2.2’、6.6’−テトラフェニル−4
,4′−ジピリルピオレンービスへキサフルオロアルセ
ネート;2t2’t6.e’−テトラフェニル−4,4
′−ジチオビリリウム−ビステトラフルオロ?レート、
212’、L6’−テトラフェニル−4,4′−ジチオ
ビリリウム−ビスへキサフルオロホスフェ−) 、2.
2’、6.6’−テトラフェニル−4,41−ジチオビ
リリウムービスヘキサフルオロアンチモネート、2.2
’、6.6フーテトラフエニルー4,4′−ジチオビリ
リウム−ビスへキサフルオロアルセネート: 2.2’
、6,6’−テトラフェニル−4,4′−ジチオビリル
ビオレン−ビステトラフルオロ?レート、2 、’2’
、6.6’−テトラフェニル−4,4’ −ジチオビリ
ルビオレン−ビスへキサフルオロホスフェート、2.2
’、6.6’−テトラフェニル−4,4′−ジチオピリ
ルビオレンービスヘキサフルオロアンチモネート、2.
2’、6.6’−テトラフェニル−4,41−ジチオビ
リルビオレン−ビスへキサフルオロアルセネートなどで
ある。これらの塩は単独で用いてもよいし、2種以上を
適宜に混合して用いてもよい。
To specifically illustrate, the following formula: (wherein, Xa-t Xb-+ Xi + Xtre
X411- *X" is each By; e PF, -
, sbp, "*represents any one of the negative groups of AsF5-). In other words, N,N'-dimethyl-
4,4'-Nogirizomobistetrafluoro? rate, N,N'-dimethyl-4,4'-dipyridium-bishexafluorophosphate), N,N'-dimethyl-4
,4'-dipyridium-pishexafluoroantimonate, N,N'-dimethyl-4,4'-dipyridium bishexafluoroarsenate: N,N'-dimethyl-2,2',6 .6'-tetraphenyl-4,4'-bispirino-bistetrafluorodeley), N, N'
-dimethyl-2,2',6,6'-tetraphenyl-4
, 4'-bispyridium-bishexafluorophosphate, NtN'-dimethyl-2,2', 6,6'-tetraphenyl-4,4'-pispyridium bishexafluoroantimonate, N,N'- dimethyl-2,2'
, 6.6'-tetraphenyl-4,4'-bispyridium-4,4'-hexafluoroarsenate: 2.2
',6,6'-tetra7enyl-4,4'-zovirylium-bistetrafluoro? Rate, 2, 2', 6,
6'-tetraphenyl-4,4'-dihyrylium-bishexafluorophos 7ate, 2.2',6.6'-tetraphenyl-414'-cubyrylium-bishexafluoroantimo 4-t , 2,2',6,6'-tetraphenyl-4,4'-zopyrylium-bishexafluoroarsenate: 2,2',6,6'-tetraphenyl-4,4'-digylyl Violene-bistetrafluoroderate, 2.2',6.6'-tetraphenyl-4
, 41-dityrylviolene bishexafluorophosphate, S2. '2', 6.6'-tetraphenyl-
4,4'-zovirylviolene-bishexafluoroantimonate, 2.2',6.6'-tetraphenyl-4
, 4'-dipyrylpiolene bishexafluoroarsenate; 2t2't6. e'-tetraphenyl-4,4
′-dithiobyrylium-bistetrafluoro? rate,
212', L6'-tetraphenyl-4,4'-dithiobyrylium-bishexafluorophosphate), 2.
2',6.6'-Tetraphenyl-4,41-dithiobyrylium-bishexafluoroantimonate, 2.2
', 6.6 futetraphenyl-4,4'-dithiobyrylium-bishexafluoroarsenate: 2.2'
, 6,6'-tetraphenyl-4,4'-dithiobilylviolene-bistetrafluoro? rate, 2, '2'
, 6.6'-tetraphenyl-4,4'-dithiobilylviolene-bishexafluorophosphate, 2.2
', 6.6'-tetraphenyl-4,4'-dithiopyrylbiolene-bishexafluoroantimonate, 2.
2',6,6'-tetraphenyl-4,41-dithiobilylviolene-bishexafluoroarsenate and the like. These salts may be used alone or in an appropriate mixture of two or more.

これらの化合物のうち例えば陰性基がBF4−である塩
の光吸収特性は第2表のとおυである。
Among these compounds, for example, the light absorption properties of salts whose negative group is BF4- are as shown in Table 2.

第2表 第2表から明らかなように、本発明にかかる塩はその極
大吸収波長が従来のもの(第1表に例示)に比べて長波
長側に位置しており、紫外線ランプの照射波長域に接近
している。したがって、この光触媒はランプから照射さ
れる光を効率よく吸収することができる。
Table 2 As is clear from Table 2, the maximum absorption wavelength of the salt according to the present invention is located on the long wavelength side compared to the conventional salt (exemplified in Table 1), and the irradiation wavelength of the ultraviolet lamp is approaching the area. Therefore, this photocatalyst can efficiently absorb the light emitted from the lamp.

この光触媒の酸発生の機構は、従来の光触媒が陽性基部
分の光分解によって酸を発生させていたのとは異なって
、陽性基部分の骨格構造を変化させることなく、例えば
、次のような過穆を経て強酸を発生するものと推考され
る。
The acid generation mechanism of this photocatalyst is different from that of conventional photocatalysts, which generate acid by photodecomposition of the positive group moiety, without changing the skeletal structure of the positive group moiety. It is thought that strong acid is generated through hyperglycemia.

本発明にかかるこの光触媒は、マトリックスであるカチ
オン重合性化合物100重量部に対し、0.5〜8重量
部配合される。0.5重量部よシナない場合には光触媒
としての効果が有効に発揮されず、8重量部より多くな
ると、組成物の腐食性が増し、導電性も増大するととも
に、そもそも全体のコストが上昇するので好ましくない
The photocatalyst according to the present invention is blended in an amount of 0.5 to 8 parts by weight based on 100 parts by weight of the cationic polymerizable compound that is the matrix. If it is less than 0.5 parts by weight, the effect as a photocatalyst will not be exhibited effectively, and if it exceeds 8 parts by weight, the corrosiveness of the composition will increase, the conductivity will increase, and the overall cost will increase in the first place. Therefore, it is not desirable.

本発明組成物は以上の2成分を必須成分とするが、必要
に応じては次のような添加剤を配合してもよい。
The composition of the present invention has the above two components as essential components, but the following additives may be added as necessary.

歪み解消のためのシリカ、アルミナ、炭酸カルシウム、
タルク、マイカ、アスベスト、ガラス細片のような無機
フィラー;ぬれ性を向上するための高級アルコール、ア
ルキルフェノールリン酸エステル塩、含フッ素系界面活
性剤、高級アミン脂肪酸塩のようなレベリング剤;接着
性を高めるためのシランカップリング剤、リン酸系カッ
プリング剤のようなカップリング剤;二酸化チタン、カ
ドミウムレッドメディウム、ナショナル7アーストレツ
ドのような色素などである。
Silica, alumina, calcium carbonate to eliminate distortion,
Inorganic fillers such as talc, mica, asbestos, and glass chips; leveling agents such as higher alcohols, alkylphenol phosphate ester salts, fluorine-containing surfactants, and higher amine fatty acid salts to improve wettability; adhesive properties Coupling agents such as silane coupling agents and phosphoric acid-based coupling agents to increase the oxidation properties; dyes such as titanium dioxide, cadmium red medium, and National 7 Earth Stretch.

本発明の組成物は、以上のような各成分を常法により配
合して容易に調製することができる。また、短波長の光
を当てない限シ室温で長時間貯蔵することができる。
The composition of the present invention can be easily prepared by blending the above-mentioned components in a conventional manner. In addition, it can be stored for a long time at room temperature as long as it is not exposed to short wavelength light.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

実施例1〜17 カチオン重合性化合物として、A:ビスフェノールAグ
リシ・ゾルエーテルをペースとするエポキシ樹脂(シェ
ル社製、商品名EP828)、B :脂環式エポキシ樹
脂(ダイセル社製、商品名上ロキサイド2021 )を
用意した。
Examples 1 to 17 The cationic polymerizable compounds were: A: epoxy resin based on bisphenol A glycysol ether (manufactured by Shell, trade name: EP828), B: alicyclic epoxy resin (manufactured by Daicel, trade name: ROXIDE) 2021) was prepared.

これら100重量部に、第3表に示した光触媒を表示の
割合で配合して各種の樹脂組成物を調製した。
Various resin compositions were prepared by blending the photocatalysts shown in Table 3 in the ratios shown in 100 parts by weight of these.

各組成物をアルミ板の上に厚み10〜30μm塗布し、
30W/LMの紫外線ランプを3機備えた光照射装置の
中を通過させた。光硬化した塗膜の鉛筆硬度を調べた。
Each composition was applied to a thickness of 10 to 30 μm on an aluminum plate,
The sample was passed through a light irradiation device equipped with three 30W/LM ultraviolet lamps. The pencil hardness of the photocured coating was examined.

このとき、塗膜の硬度がHに達するまでに必要な照射時
間を測り、それを第3表に一括して示した。
At this time, the irradiation time required until the hardness of the coating film reached H was measured, and the results are summarized in Table 3.

第3表 〔発明の効果〕 本発明の光硬化性組成物は、通常の紫外線ランプを用い
た光硬化において、その硬化速度が非常に大きい(硬化
時間が短い)。そして、紫外線を効率よく吸収するので
、照射エネルギーの節約に資する。
Table 3 [Effects of the Invention] The photocurable composition of the present invention has a very high curing speed (short curing time) in photocuring using a normal ultraviolet lamp. Since it efficiently absorbs ultraviolet rays, it contributes to saving irradiation energy.

本発明の組成物は、金属、紙、木材、ガラス、グラスチ
ックなどの基材表面の保護、装飾に用いることができ、
また熱処理を嫌う製品を単時間で接着させるときの接着
剤として有用である。更には、印刷インキの硬化、積層
品、印刷板の製造にも適用できる。
The composition of the present invention can be used to protect and decorate the surface of base materials such as metal, paper, wood, glass, and plastic.
It is also useful as an adhesive for bonding products that do not require heat treatment in a short period of time. Furthermore, it can be applied to the curing of printing inks, the production of laminates, and printing plates.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 】、 カチオン重合性化合物と、 共役する2個のピリリウム環、チオピリリウム環又はピ
リジウム環を含む複素環式化合物の陽性基及びBF4”
−、PF6− * 5bF6− + AsF6−の群か
ら選ばれる1種の陰性基とから成る塩を必須成分とする
光重合性組成物。 2、 カチオン重合性化合物と、 共役する2個のビリリウム環、チオピリリウム環又はピ
リジウム環を含む複素環式化合物の陽性基及びBF4−
 + PF6− + 5bF6− + AsF6−の群
から選ばれる1種の陰性基とから成る塩を必須成分とし
、更に必要に応じて各種添加剤を含有している特許請求
の範囲第1項記載の光重合性組成物。 3、該カチオン重合性化合物がエポキシ化合物である特
許請求の範囲第1項又は第2項記載の光重合性組成物。 4、該塩が、次式: (式中、Xa t Xb * Xc−t Xd−r X
e−I Xf−はそれぞれBF、−+ PF6− + 
SbF、−+ AsF6−の陰性基のいずれか1つを表
わす) で示される塩である特許請求の範囲第1項又は第2項記
載の光重合性組成物。
[Claims]] A cationic polymerizable compound, a positive group of a heterocyclic compound containing two conjugated pyrylium rings, thiopyrylium rings, or pyridium rings, and BF4''
-, PF6- * 5bF6- + one type of negative group selected from the group of AsF6-. 2. A cationic polymerizable compound, a positive group of a heterocyclic compound containing two conjugated biryllium rings, thiopyrylium rings, or pyridium rings, and BF4-
+ PF6- + 5bF6- + one type of negative group selected from the group of AsF6- as an essential component, and further containing various additives as required, according to claim 1. Photopolymerizable composition. 3. The photopolymerizable composition according to claim 1 or 2, wherein the cationic polymerizable compound is an epoxy compound. 4. The salt has the following formula: (wherein, Xa t Xb * Xc-t Xd-r
e-I Xf- are respectively BF, -+ PF6- +
3. The photopolymerizable composition according to claim 1 or 2, which is a salt represented by:
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