JPS60196588A - 粉粒体の乾燥・冷却装置 - Google Patents
粉粒体の乾燥・冷却装置Info
- Publication number
- JPS60196588A JPS60196588A JP5317884A JP5317884A JPS60196588A JP S60196588 A JPS60196588 A JP S60196588A JP 5317884 A JP5317884 A JP 5317884A JP 5317884 A JP5317884 A JP 5317884A JP S60196588 A JPS60196588 A JP S60196588A
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- JP
- Japan
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- powder
- granules
- perforated plate
- drying
- plate
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明は、結合性を持つ粉粒体の1ffl風による乾燥
・冷却装置に関する。
・冷却装置に関する。
従来技術と問題点
粉粒体の乾燥・冷却は、その品質保持上および取扱い上
、不可欠な処理である。即ち、粉粒体の乾燥は製品の水
分量の調整などのために、また冷却は、高温の粉粒体を
紙、プラスチックなどのシートで包装すると焼失や軟化
を生しるのでこれを回避するという目的などから不可欠
な処理である。
、不可欠な処理である。即ち、粉粒体の乾燥は製品の水
分量の調整などのために、また冷却は、高温の粉粒体を
紙、プラスチックなどのシートで包装すると焼失や軟化
を生しるのでこれを回避するという目的などから不可欠
な処理である。
従来これらの乾燥・処理には、粉粒体の物性面から、所
望精度分布、比重および水分量、工程処理などの面から
、品質特性、処理量、均一処理の必要性の有無、前後工
程の関係などの諸因子を考Lti’lシて適当な装置を
採用している。代表的にはキルン方式、回分式流動層方
式、気流j般送方式、および連続流動層方式などがある
。回分式流動層方式は第1図に示すように炉(容器)1
0の底部に多孔板または112112を取付け、その上
に粉粒体14を投入し、下方より空気などのガス16を
送って粉粒体14の層を通過させ、この間に乾燥・冷却
を行なう。即ち粉粒体14が多湿のもので気流16が高
温、低湿度のものなら該粉粒体は乾燥され、粉粒体14
が高温で気流16が低塩なら該粉粒体は冷却される。乾
燥・冷却が済むと気流16の供給を停止し、粉粒体14
を外部へ取出す。その後、再び粉粒体を炉内に装填し、
気流16を送って乾燥・冷却を再開し、以下同様操作を
繰り返す。動作は間欠的であり、連続処理はできない。
望精度分布、比重および水分量、工程処理などの面から
、品質特性、処理量、均一処理の必要性の有無、前後工
程の関係などの諸因子を考Lti’lシて適当な装置を
採用している。代表的にはキルン方式、回分式流動層方
式、気流j般送方式、および連続流動層方式などがある
。回分式流動層方式は第1図に示すように炉(容器)1
0の底部に多孔板または112112を取付け、その上
に粉粒体14を投入し、下方より空気などのガス16を
送って粉粒体14の層を通過させ、この間に乾燥・冷却
を行なう。即ち粉粒体14が多湿のもので気流16が高
温、低湿度のものなら該粉粒体は乾燥され、粉粒体14
が高温で気流16が低塩なら該粉粒体は冷却される。乾
燥・冷却が済むと気流16の供給を停止し、粉粒体14
を外部へ取出す。その後、再び粉粒体を炉内に装填し、
気流16を送って乾燥・冷却を再開し、以下同様操作を
繰り返す。動作は間欠的であり、連続処理はできない。
第2図は連続処理の例を示す。炉(処理gll)10ば
やはり多孔板12を備え、その上粉粒体14が領ふ1板
またはコンヘア18を通して供給され、下部より気流1
6が供給され、乾燥・冷却処理される。処理済みの粉粒
体14は傾斜板またはコンベア20を通して排出される
。気流16が多孔板12を通ってその上の粉粒体140
層に出ると、該気流16の流速に応して粉粒体層はエア
クッション上に乗った形となり、或いはバブリング(あ
わ立ち又は沸とう)を生じ、流動性を生して下流へ移動
し、こうして乾燥・冷却は連続的に行なわれる。
やはり多孔板12を備え、その上粉粒体14が領ふ1板
またはコンヘア18を通して供給され、下部より気流1
6が供給され、乾燥・冷却処理される。処理済みの粉粒
体14は傾斜板またはコンベア20を通して排出される
。気流16が多孔板12を通ってその上の粉粒体140
層に出ると、該気流16の流速に応して粉粒体層はエア
クッション上に乗った形となり、或いはバブリング(あ
わ立ち又は沸とう)を生じ、流動性を生して下流へ移動
し、こうして乾燥・冷却は連続的に行なわれる。
多孔板の上に粉粒体を置き、下方から気流を供給すると
、該気流の流(により粉粒体は種々の状態をとる。即ち
■流速が小なら粉粒体は静止している、■流速が少し速
くなると浮動する、■流速が更に速くなると粉粒体はバ
ブリングを生じる、■流速が更に速くなると粉粒体は吹
き飛ばされ、飛ft&する、等である。第1図は■の状
態、第2図は■の状態で行なわれる。■つまりバブリン
グによる乾燥等を連続的に行なう装置も開発されており
、第3図がその例である。(81は縦断面図、(ト))
は横断面図で共に概略説明図である。処理室を構成する
本体30は下部に多孔板を備え、この上部の室が隔壁3
2で部分的に仕切られ、下方より気流16を供給され、
該気流は上方フード部34を通って排出される。粉粒体
14はホンパー22よりロータリバルブ24を通って本
体30内に供給される。本体30内は気流16により加
圧されるので、ロータリバルブ24はこの加圧室内へ粉
粒体1・1を円滑に導くためのものである。ロータリバ
ルブ24を出ると粉粒体14は本体30の周壁と第1の
隔壁及び多孔板12で仕切られた空間30aに入る。仕
切り板32は一端が本体周壁との間に間隙Gを作ってお
り、従って隔壁32等で仕切られる空間30a、30b
、30cは該間隙により連1fflLでいる。多孔板1
2の下方からは気流16が送られ、粉粒体はこの気流と
混合してバブリングを生し、流動状態となる。従ってロ
ータリバルブ24から切出されて第1の室30aに入っ
た粉粒体は該第1の室内にとどまることができす、間隙
Gt−通って隣り室30bに入る。こ\でも同様であり
、粉粒体は更に隣りの室30Cに入る。
、該気流の流(により粉粒体は種々の状態をとる。即ち
■流速が小なら粉粒体は静止している、■流速が少し速
くなると浮動する、■流速が更に速くなると粉粒体はバ
ブリングを生じる、■流速が更に速くなると粉粒体は吹
き飛ばされ、飛ft&する、等である。第1図は■の状
態、第2図は■の状態で行なわれる。■つまりバブリン
グによる乾燥等を連続的に行なう装置も開発されており
、第3図がその例である。(81は縦断面図、(ト))
は横断面図で共に概略説明図である。処理室を構成する
本体30は下部に多孔板を備え、この上部の室が隔壁3
2で部分的に仕切られ、下方より気流16を供給され、
該気流は上方フード部34を通って排出される。粉粒体
14はホンパー22よりロータリバルブ24を通って本
体30内に供給される。本体30内は気流16により加
圧されるので、ロータリバルブ24はこの加圧室内へ粉
粒体1・1を円滑に導くためのものである。ロータリバ
ルブ24を出ると粉粒体14は本体30の周壁と第1の
隔壁及び多孔板12で仕切られた空間30aに入る。仕
切り板32は一端が本体周壁との間に間隙Gを作ってお
り、従って隔壁32等で仕切られる空間30a、30b
、30cは該間隙により連1fflLでいる。多孔板1
2の下方からは気流16が送られ、粉粒体はこの気流と
混合してバブリングを生し、流動状態となる。従ってロ
ータリバルブ24から切出されて第1の室30aに入っ
た粉粒体は該第1の室内にとどまることができす、間隙
Gt−通って隣り室30bに入る。こ\でも同様であり
、粉粒体は更に隣りの室30Cに入る。
最後の室30cの排出口側隔壁36は可動でかつ他の隔
壁とは高さが低い。このため最後の室30Cに流動して
きた粉粒体はこの隔壁36をオーバフローして排出口3
0dへ出る。この出る星(粉粒体流量)は隔壁36の高
さを調節することにより、開棺される。排出口30dに
もロークリバルブ38が設けられており、粉粒体をコン
ヘア40上へ排出する。
壁とは高さが低い。このため最後の室30Cに流動して
きた粉粒体はこの隔壁36をオーバフローして排出口3
0dへ出る。この出る星(粉粒体流量)は隔壁36の高
さを調節することにより、開棺される。排出口30dに
もロークリバルブ38が設けられており、粉粒体をコン
ヘア40上へ排出する。
この装置では室30a〜30cを通っている間に粉粒体
は気流16による乾燥、冷却等の処理をされ、その処理
の程度は流速(室30a〜30cの通過時間)により調
整できる。
は気流16による乾燥、冷却等の処理をされ、その処理
の程度は流速(室30a〜30cの通過時間)により調
整できる。
これらの流動層方式は■気流と粉粒体の混合がよく、接
触面積が大で、粉粒体表面近傍の空気層が断熱層となる
ことがない、■流動層内の温度分布が均一である、■風
速や気流温度などを選んで所望条件下で粉粒体を処理し
、製品水分レベルの調節、包装前製品の温度調節などを
行なうことができる。
触面積が大で、粉粒体表面近傍の空気層が断熱層となる
ことがない、■流動層内の温度分布が均一である、■風
速や気流温度などを選んで所望条件下で粉粒体を処理し
、製品水分レベルの調節、包装前製品の温度調節などを
行なうことができる。
しかしなからか\る処理装置では、粉粒体14が溶接用
焼結型フランクスなどのように造粒のための結合剤を含
むものや、含有水分が乾燥中に結果的に結合剤として働
いてしまうものでは、問題がある。即ち乾燥中に粒同志
が結合してブロック化し、または器壁等信の部材に粒が
付着し例えば多孔板I2上に堆積して目詰りを起す。こ
れは流’MJ状態を不均一にすると共に、甚だしい場合
は流動しない部分を生し、キャリーオーバ防1に用隔壁
32に付着して粉粒体1ffl路Gを塞いだりする。
焼結型フランクスなどのように造粒のための結合剤を含
むものや、含有水分が乾燥中に結果的に結合剤として働
いてしまうものでは、問題がある。即ち乾燥中に粒同志
が結合してブロック化し、または器壁等信の部材に粒が
付着し例えば多孔板I2上に堆積して目詰りを起す。こ
れは流’MJ状態を不均一にすると共に、甚だしい場合
は流動しない部分を生し、キャリーオーバ防1に用隔壁
32に付着して粉粒体1ffl路Gを塞いだりする。
発明の目的
本発明はか\る点を改善し、結合性を有する粉粒体を連
続的に、円〆h確実に、乾燥・冷却処理できる装置を提
供しようとするものである。
続的に、円〆h確実に、乾燥・冷却処理できる装置を提
供しようとするものである。
発明の構成
本発明の粉粒体の乾燥・冷却装置は粉粒体を落とされ、
下刃から気流をイノ1′給されて該粉粒体を流動層とし
て支持する多孔板と、該多孔板の周囲に配設されてバブ
リングにより飛散する該多孔板上の粉粒体を受け、安息
角内の粉粒体の山を堆積させてその安息角を越える分の
粉粒体はオーバフローさせる支持板を備えることを特徴
とするが、次に実施例を参照しながらこれを詳細に説明
する。
下刃から気流をイノ1′給されて該粉粒体を流動層とし
て支持する多孔板と、該多孔板の周囲に配設されてバブ
リングにより飛散する該多孔板上の粉粒体を受け、安息
角内の粉粒体の山を堆積させてその安息角を越える分の
粉粒体はオーバフローさせる支持板を備えることを特徴
とするが、次に実施例を参照しながらこれを詳細に説明
する。
発明の実hト例
第4図は本発明の実施例を示し、50は処理室となる本
体部で、多孔板12はその内部に設けられ、この多孔板
の上方にホンパー22が置かれて粉粒体14が多孔板中
央に落される。多孔Fj、12は本例では円形でありそ
の周囲には環状の普通の板42 (充実板)が取付けら
れる。環状支持板42は気流15を供給する内室52の
一部ともなり、この内室の多孔板下方には整流板54が
配置される。
体部で、多孔板12はその内部に設けられ、この多孔板
の上方にホンパー22が置かれて粉粒体14が多孔板中
央に落される。多孔Fj、12は本例では円形でありそ
の周囲には環状の普通の板42 (充実板)が取付けら
れる。環状支持板42は気流15を供給する内室52の
一部ともなり、この内室の多孔板下方には整流板54が
配置される。
内室52へは高圧の気流を(Jl給するパイプ56が取
込まれ、このバイブ56は多孔fl!52の中央の粉わ
l落T位置を相って気流を噴射する。処理室50の下部
には粗い目のスクリーン58が傾斜して取付けられ、こ
のスクリーンで篩ねれた大径粒14aはバイブロ2によ
り粉砕機60に導かれ、こ−て粉砕されたのちバイブロ
4を通って本体50の最下部排出口50aへ戻される。
込まれ、このバイブ56は多孔fl!52の中央の粉わ
l落T位置を相って気流を噴射する。処理室50の下部
には粗い目のスクリーン58が傾斜して取付けられ、こ
のスクリーンで篩ねれた大径粒14aはバイブロ2によ
り粉砕機60に導かれ、こ−て粉砕されたのちバイブロ
4を通って本体50の最下部排出口50aへ戻される。
多孔板12上にはスクレーパ70が取付けられ、その支
持及び駆動機構72が本体50の内壁に固着される。
持及び駆動機構72が本体50の内壁に固着される。
また本体50の上部には排気口50bが設けられる。
動作を説明するに、粉粒体14は供給ホッパー22から
多孔板12上へ落される。この多孔板12へは気流16
.56の供給があるので粉粒体はン 流動層となり、ホッパー22から落下する粉粒体14は
この流動層−ヒヘ落ちる。これは、多孔板12に目詰り
を生しさせないのに有効である。多孔板12上の粉粒体
はバブリングを起しており(流体が沸騰しているような
状感)、周囲に敗った粉粒体は支持板またはシーリング
板42上にたまり、環状の山を作る。この山は安息角以
上になると粉粒体を堆積させることはできず、周囲へく
ずれ落ら(オーバフロー)させる。ホッパー22から粉
粒体14が落下する限り、そして気流16.56が供給
される限り上記バブリング、堆積、オーバフローが続き
、この間に粉粒体14は乾燥・冷却処理される。処理時
間はシーリング板42の人ささく径方向の長さ)を変え
ることにより調整できる。あるいはシーリング板42の
1喚きを変え、外周へ向うにつれて下降する斜面、また
は上昇する斜面にしても同様効果を得ることができる。
多孔板12上へ落される。この多孔板12へは気流16
.56の供給があるので粉粒体はン 流動層となり、ホッパー22から落下する粉粒体14は
この流動層−ヒヘ落ちる。これは、多孔板12に目詰り
を生しさせないのに有効である。多孔板12上の粉粒体
はバブリングを起しており(流体が沸騰しているような
状感)、周囲に敗った粉粒体は支持板またはシーリング
板42上にたまり、環状の山を作る。この山は安息角以
上になると粉粒体を堆積させることはできず、周囲へく
ずれ落ら(オーバフロー)させる。ホッパー22から粉
粒体14が落下する限り、そして気流16.56が供給
される限り上記バブリング、堆積、オーバフローが続き
、この間に粉粒体14は乾燥・冷却処理される。処理時
間はシーリング板42の人ささく径方向の長さ)を変え
ることにより調整できる。あるいはシーリング板42の
1喚きを変え、外周へ向うにつれて下降する斜面、また
は上昇する斜面にしても同様効果を得ることができる。
粉粒体14の乾燥、冷却処理量は多孔板12の大きさを
変えることにより変更できる。
変えることにより変更できる。
シーリング板42の外周辺から落下した処理済み粉粒体
は本体50の下部排出口50aを通ってコンベア40上
へ落ち、排出される。このとき径の大きい粉粒体14a
はスクリーン58により落下を阻止され、粉砕機60で
粉砕されたのち排出口50aへ導かれる。
は本体50の下部排出口50aを通ってコンベア40上
へ落ち、排出される。このとき径の大きい粉粒体14a
はスクリーン58により落下を阻止され、粉砕機60で
粉砕されたのち排出口50aへ導かれる。
この装置は第3図の隔壁32がなく、また室30a〜3
0Cを区画する器壁もな(、従って粉粒体が壁に付着し
てブロック化することはない。隔壁32は粉粒体流動層
の移動速度を調整する上で重要であるが、本装置ではこ
の隔壁の機能はシーリング板42上の粉粒体堆積層が代
行する。粉粒体相互の結合は有り得るが、これに対して
はスクレーパ70が用意されている。駆動機構例えばモ
ータ72は間欠的にスクレーパ70を駆動し、多孔板お
よびシーリング板上の粉粒体ブロックを落下させる。こ
うして本装置によれば粉粒体のブロック化、壁への付着
がない、長期間連続運転が可能な乾燥・冷却装置が得ら
れる。
0Cを区画する器壁もな(、従って粉粒体が壁に付着し
てブロック化することはない。隔壁32は粉粒体流動層
の移動速度を調整する上で重要であるが、本装置ではこ
の隔壁の機能はシーリング板42上の粉粒体堆積層が代
行する。粉粒体相互の結合は有り得るが、これに対して
はスクレーパ70が用意されている。駆動機構例えばモ
ータ72は間欠的にスクレーパ70を駆動し、多孔板お
よびシーリング板上の粉粒体ブロックを落下させる。こ
うして本装置によれば粉粒体のブロック化、壁への付着
がない、長期間連続運転が可能な乾燥・冷却装置が得ら
れる。
パイプ56による高速気流の噴射はバブリングを常に発
生させ、結果として多孔板12の目詰りを防止する点で
有効である。シーリング板42は内室52より突出させ
て(内室52を多孔板12程度の径にして)フランジ状
に形成してもよい。
生させ、結果として多孔板12の目詰りを防止する点で
有効である。シーリング板42は内室52より突出させ
て(内室52を多孔板12程度の径にして)フランジ状
に形成してもよい。
多孔板】2としては板に多数の孔をあけたものの他、金
網、布などとしてもよい。スクレーパ70等は第5図に
示すように適宜の形状のものにしてよい。
網、布などとしてもよい。スクレーパ70等は第5図に
示すように適宜の形状のものにしてよい。
第5図(a)は第4図のものを横から見た図で、スクレ
ーパを概念的に示すが、同図(b)はスクレーパをU字
状支持部70aと、それに張られた複数本ノヒアノ線(
硬鋼線)70bで構成している。モーフ72によりこれ
らはシーリング板42の一端から他端まで回動し、播き
落とし作業を行なう。
ーパを概念的に示すが、同図(b)はスクレーパをU字
状支持部70aと、それに張られた複数本ノヒアノ線(
硬鋼線)70bで構成している。モーフ72によりこれ
らはシーリング板42の一端から他端まで回動し、播き
落とし作業を行なう。
シーリング板42上の粉粒体の山を崩すのは好ましくな
いから、スクレーパの移動速度は小にする。
いから、スクレーパの移動速度は小にする。
ピアノ線70bはスクレーパ上、本例では太い支持部7
0aにホッパーから落下した粉粒体が付着するのを防止
する点で有効である。第5図(C1はガイドレール74
.76を設け、駒78.80をガイドレールに沿って走
らせるようにし、これらの駒78.80間に複数本のピ
アノ線70bを張ってなる。この場合はホッパーからの
粉粒体がスクレーパに付着する恐れはない。第5図+d
lはやはりピアノ線70bを用いるが、支持部70aを
図示形状にして、軸70cを中心とする回動操作で掻き
落し作業ができるようにされている。
0aにホッパーから落下した粉粒体が付着するのを防止
する点で有効である。第5図(C1はガイドレール74
.76を設け、駒78.80をガイドレールに沿って走
らせるようにし、これらの駒78.80間に複数本のピ
アノ線70bを張ってなる。この場合はホッパーからの
粉粒体がスクレーパに付着する恐れはない。第5図+d
lはやはりピアノ線70bを用いるが、支持部70aを
図示形状にして、軸70cを中心とする回動操作で掻き
落し作業ができるようにされている。
第6図は粉砕機60をや\詳細に示す図で、歯付きロー
ラ60a、60bを備え、粗大粒14aをこれらのロー
ラ間に導いて粉砕する。
ラ60a、60bを備え、粗大粒14aをこれらのロー
ラ間に導いて粉砕する。
第3図の室30a、30b、30c、による多段処理は
、本装置では多孔板12、シーリング板42、気流供給
機構からなる処理部を複数個、上下方向に一列に重ねて
配置することにより、または多孔板12とシーリング板
12の外周に同心円状に第2の多孔板及びシーリング板
を配置して多環構造とすることにより可能である。
、本装置では多孔板12、シーリング板42、気流供給
機構からなる処理部を複数個、上下方向に一列に重ねて
配置することにより、または多孔板12とシーリング板
12の外周に同心円状に第2の多孔板及びシーリング板
を配置して多環構造とすることにより可能である。
発明のすJ果
以上説明したように本発明では乾燥・冷却処理中に結合
性のある粉粒体を相互結合、ブロック化、器壁へのイ」
着を阻止または排除しながら連続的に長期に亘って、流
動層形成型の乾燥・冷却処理でき、甚だ有すJである。
性のある粉粒体を相互結合、ブロック化、器壁へのイ」
着を阻止または排除しながら連続的に長期に亘って、流
動層形成型の乾燥・冷却処理でき、甚だ有すJである。
第1図〜第3図は従来装置の説明図、第4図は本発明の
実施例を示す説明図、第5図及び第6図は各部の説明図
である。 図面で、14は粉粒体、16は低速気流、56は高速気
流、12は多孔板、42は支持板、70はスクレーパで
ある。 出 願 人 株式会社環境総研コンサルタント出 願
人 日鐵ン容接工業株式会社 代理人弁理士 青 柳 稔 第1図 6 第3図 第4図 第5図 第6図
実施例を示す説明図、第5図及び第6図は各部の説明図
である。 図面で、14は粉粒体、16は低速気流、56は高速気
流、12は多孔板、42は支持板、70はスクレーパで
ある。 出 願 人 株式会社環境総研コンサルタント出 願
人 日鐵ン容接工業株式会社 代理人弁理士 青 柳 稔 第1図 6 第3図 第4図 第5図 第6図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1ン粉粒体を落とされ、下方から気流を供給されて該
粉粒体を流動層として支持する多孔板と、該多孔板の周
囲に配設されてバブリングにより飛散する該多孔板上の
粉粒体を受け、安息角内の粉粒体の山を堆積させてその
安息角を越える分の粉粒体はオーバフローさせる支持板
を備えることを特徴とする粉粒体の乾燥・冷却装置。 (2ン粉粒体を落とされ、下方から気流を供給されて該
粉粒体を流動層として支持する多孔板と、該多孔板の周
囲に配設されてバブリングにより飛1にする該多孔板上
の粉粒体を受け、安息角内の粉粒体の山を堆積させてそ
の安息角を越える分の粉粒体はオーバフローさせる支持
板と、該多孔板上の大径粉粒体を掻き落とすスクレーバ
を備えることを特徴とする粉粒体の乾燥・冷却装置。 (3)多孔板の下方から供給される気流は、粉粒体が落
とされる部分に対する高速気流による噴流助層と、その
周囲の低速気流による流動層とからなることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項または第2項記載の粉粒体の乾
燥・冷却装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5317884A JPS60196588A (ja) | 1984-03-19 | 1984-03-19 | 粉粒体の乾燥・冷却装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5317884A JPS60196588A (ja) | 1984-03-19 | 1984-03-19 | 粉粒体の乾燥・冷却装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60196588A true JPS60196588A (ja) | 1985-10-05 |
JPH0437354B2 JPH0437354B2 (ja) | 1992-06-19 |
Family
ID=12935609
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5317884A Granted JPS60196588A (ja) | 1984-03-19 | 1984-03-19 | 粉粒体の乾燥・冷却装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60196588A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6392192U (ja) * | 1986-12-05 | 1988-06-15 |
-
1984
- 1984-03-19 JP JP5317884A patent/JPS60196588A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6392192U (ja) * | 1986-12-05 | 1988-06-15 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0437354B2 (ja) | 1992-06-19 |
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