JPS60185343A - Planar display device - Google Patents
Planar display deviceInfo
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- JPS60185343A JPS60185343A JP4115184A JP4115184A JPS60185343A JP S60185343 A JPS60185343 A JP S60185343A JP 4115184 A JP4115184 A JP 4115184A JP 4115184 A JP4115184 A JP 4115184A JP S60185343 A JPS60185343 A JP S60185343A
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J31/00—Cathode ray tubes; Electron beam tubes
- H01J31/08—Cathode ray tubes; Electron beam tubes having a screen on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted, or stored
- H01J31/10—Image or pattern display tubes, i.e. having electrical input and optical output; Flying-spot tubes for scanning purposes
- H01J31/12—Image or pattern display tubes, i.e. having electrical input and optical output; Flying-spot tubes for scanning purposes with luminescent screen
- H01J31/123—Flat display tubes
- H01J31/125—Flat display tubes provided with control means permitting the electron beam to reach selected parts of the screen, e.g. digital selection
- H01J31/126—Flat display tubes provided with control means permitting the electron beam to reach selected parts of the screen, e.g. digital selection using line sources
Landscapes
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
産業−4=の利用分野
本発明は、電子ビームを用いた平板型表示装置に関する
ものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Application of Industry-4= The present invention relates to a flat panel display device using an electron beam.
従来例の構成とその問題点
寸ず、ここで用いられる画像表示装置の基本的な一構成
例を第1図に示して説明する。An example of a basic configuration of an image display device used here will be described in detail with reference to FIG. 1, in detail the configuration of the conventional example and its problems.
この表示素子は、後方から前方に向って順に、背面電極
1、ビーム源としての線陰極2、垂直集束電極3,3′
、垂直偏向電極4、ビーム流制御電極5、水平集束電極
6、水平偏向電極7、ビーム加速電極8およびスクリー
ン板9が配置されて構成されており、とれらが扁平なガ
ラスパルプ(図示せず)の真空になされた内部に収納さ
れている。This display element includes, in order from the back to the front, a back electrode 1, a line cathode 2 as a beam source, and vertical focusing electrodes 3, 3'.
, a vertical deflection electrode 4, a beam flow control electrode 5, a horizontal focusing electrode 6, a horizontal deflection electrode 7, a beam acceleration electrode 8, and a screen plate 9. ) is housed inside a vacuum chamber.
ここでは、電子ビーム取り出し手段とj〜で垂直集束電
極3、電子ビーム制御手段としてビーム流制御電極6、
電子ビーム偏向手段として垂直、水平偏向電極4,7、
発光手段としてスクリーン板9がそれぞれ対応すること
になる。Here, a vertical focusing electrode 3 is used as an electron beam extraction means and a beam flow control electrode 6 as an electron beam control means.
vertical and horizontal deflection electrodes 4 and 7 as electron beam deflection means;
The screen plate 9 corresponds to each light emitting means.
ビーム源としての線陰極2は水平方向に線状に分布する
電子ビームを発生するように水平方向に張加されており
、かかる線陰極2が適宜間隔を介し、て垂直方向に複数
本くことでは2イ〜2二の4本のみ示1〜でいる)設け
られている。この実施例では15本設けらJlているも
の、)−する。2イ〜2夕とする。これらの線陰極2I
″iたとえば10〜20 /jφのタングステン線の表
面に酸化物陰極材料が塗着されて構成されている。そし
て、後述するように、上方の線陰極2イから順に一定時
間づつ電子ビームを放出するように制御される。(背向
電極1は、その一定時間電子ビ−)、を放出ずべく制御
される線陰極2以外の他の線陰極2からの電子ビームの
発生を抑屯し、かつ、発生された電子ビームを前方向だ
けに向けて押し出す作用をする。)この背面電極1はガ
ラスバルブの後壁の内面に付着さ、ltた導電利料の塗
膜によって形成されていてもよい。件だ、これら背面電
極1と線陰極2とのかわりに、面状の電子ビーム放出陰
極を用いてもよい。A line cathode 2 as a beam source is stretched in the horizontal direction so as to generate an electron beam distributed linearly in the horizontal direction, and a plurality of such line cathodes 2 are arranged vertically at appropriate intervals. In the figure, only four wires, 2i to 22 (indicated by 1 to 2) are provided. In this embodiment, 15 wires are provided. It will be from 2 to 2 evenings. These line cathodes 2I
For example, an oxide cathode material is coated on the surface of a tungsten wire having a diameter of 10 to 20 /jφ.As will be described later, electron beams are emitted sequentially from the upper wire cathode 2a for a fixed period of time. (The back electrode 1 suppresses the generation of electron beams from other line cathodes 2 other than the line cathode 2 which is controlled not to emit electron beams for a certain period of time, (The back electrode 1 is attached to the inner surface of the rear wall of the glass bulb and is formed of a coating film of a conductive material.) That's fine. Instead of these back electrode 1 and line cathode 2, a planar electron beam emitting cathode may be used.
垂直集束電極3は線陰極2イ〜2夕のそ才↑ぞれと対向
する水平方向に長いス1ルソト1oを有する導電板11
であり、線陰極2から放出された電子ビームをそのスリ
71−10を通して取り出し2、かつ、垂直方向に集束
させる。(スリット10は途中に適宜の間隔で桟が設け
られていてもよく、あるいは、水平方向に小さい間隔(
はとんど接する程度の間隔)で多数側部べて設けられた
貫通孔の列で実質的にスリットとじて構成されていても
よい)。垂直集束電極3′も同様のものである。The vertical focusing electrode 3 is a conductive plate 11 having a horizontally long thread 1o facing each of the line cathodes 2a to 2b.
The electron beam emitted from the line cathode 2 is taken out through the slot 71-10 and focused in the vertical direction. (The slit 10 may be provided with crosspieces at appropriate intervals in the middle, or at small intervals in the horizontal direction (
The slits may be formed by rows of through holes provided on multiple sides at intervals of almost touching each other). The vertical focusing electrode 3' is also similar.
垂直偏向電極4は上記スリット10のそれぞわの中間の
位置に水平方向にして複数個配置されており、そJlそ
れ、絶縁基板12の上面と下面とに導電体13 、13
’が設けられたもので構成されている。そして、相対向
する導電体13.13’の間に垂直偏向用電圧が印加さ
れ、電子ビームを垂直方向に偏向する。この実施例では
、一対の導電体13.13’によって1本の線陰極2か
らの電子ビームを垂直方向に16ライン分の位置に偏向
する。そして、16個の垂直偏向電極4によって15本
の線陰極2のそhぞれに対応する16対の導電体対が構
成され、結局、スクリーン9」二に240本の水平ライ
ンを描くように電子ビーノ・を偏向する。A plurality of vertical deflection electrodes 4 are arranged horizontally at intermediate positions of the slits 10, and conductors 13, 13 are provided on the upper and lower surfaces of the insulating substrate 12.
' is provided. Then, a vertical deflection voltage is applied between the opposing conductors 13 and 13' to deflect the electron beam in the vertical direction. In this embodiment, the electron beam from one line cathode 2 is vertically deflected to a position corresponding to 16 lines by a pair of conductors 13, 13'. The 16 vertical deflection electrodes 4 constitute 16 pairs of conductors corresponding to each of the 15 line cathodes 2, so that 240 horizontal lines are drawn on the screen 9. Deflect the electronic beano.
次に、制御電極6はそわそれが垂直方向に長いスリット
14を有する導電板15で構成されており、所定間隔を
介して水平方向に複数個並設されている。この実施例で
は320本の制御電極用導電板16a〜16nが設けら
れている(図では10本のみ示している)。(この制御
電極5は、そわそれが電子ビームを水平方向に1絵素分
づつに区分して取り出し、かつ、その通過量をそれぞれ
の絵素を表示するだめの映像信号に従って制御する。)
従って、制御電極6を320本設ければ水平1ライン分
当り320絵素を表示することができる。件だ、映像を
カラーで表示するために、各絵素はR,G、Hの3色の
螢光体で表示することとし、各制御電極6にはそのR,
G、Bの各映像信号が順次加えられる。丑だ、320本
の利潤電極板6には1ライン分の320組の映像信号が
同時に加えら扛、1ライン分の映像が一時に表示される
。Next, the control electrode 6 is composed of a conductive plate 15 having a vertically long slit 14, and a plurality of conductive plates 15 are arranged in parallel in the horizontal direction at predetermined intervals. In this embodiment, 320 control electrode conductive plates 16a to 16n are provided (only 10 are shown in the figure). (This control electrode 5 extracts the electron beam horizontally by dividing it into one picture element at a time, and controls the amount of electron beam passing through it according to the video signal for displaying each picture element.)
Therefore, if 320 control electrodes 6 are provided, 320 picture elements can be displayed per horizontal line. In order to display images in color, each picture element is displayed with phosphors of three colors, R, G, and H, and each control electrode 6 is provided with the R, G, and H phosphors.
G and B video signals are sequentially added. Unfortunately, 320 sets of video signals for one line are applied to the 320 profit electrode plates 6 at the same time, and the video for one line is displayed at the same time.
水平集束電極6は制御電極らのスリット14と相対向す
る垂直方向に長い複数本320オのスリット16を治す
る導電板17で構成され、水平方向に区分されたそれぞ
れの絵素毎の電子ビームをそれぞれ水平方向に集束して
細い電子ビームにする。The horizontal focusing electrode 6 is composed of a conductive plate 17 that covers a plurality of vertically long slits 16 of 320 mm opposite to the slits 14 of the control electrodes. are focused horizontally into a narrow electron beam.
水平偏向電極7は上記スリット16のぞれぞJlの中間
の位置に垂直方向にして複数本配置された導電板18で
構成されており、それぞれの間に水平偏向用電圧が印加
されて、各絵素毎の電子ビームをそれぞれ水平方向に偏
向し、スクリーン9上でR,G、Bの各螢光体を順次照
射して発光させるようにする。その偏向範囲は、この実
施例では各電子ビーム毎に1絵素分の幅である。The horizontal deflection electrode 7 is composed of a plurality of conductive plates 18 arranged vertically in the middle of each of the slits 16, and a horizontal deflection voltage is applied between each conductive plate 18. The electron beams for each picture element are deflected in the horizontal direction, and the R, G, and B phosphors are sequentially irradiated on the screen 9 to cause them to emit light. In this embodiment, the deflection range is the width of one picture element for each electron beam.
加速電極8は垂直偏向電極4と同様の位置に水平方向に
して設けられた複数個の導電板19で構成されており、
電子ビームを充分なエネルギーでスクリーン9に衝突さ
ぜるように加速する。The acceleration electrode 8 is composed of a plurality of conductive plates 19 provided horizontally at the same position as the vertical deflection electrode 4.
The electron beam is accelerated to collide with the screen 9 with sufficient energy.
スクリーン9は電子ビームの照射によって発光される螢
光体20がガラス板21の裏面に塗布され、寸だ、メタ
ルバック層(図示せず)が伺加さI″1て構成さFlで
いる。螢光体20は制御電極5の1つのスリット14に
対して、ずなわら、水イ方向に区分さ打た各1本の電子
ビームに対して、R2O,Bの3色の螢光体が1対づつ
設けられてお・す、垂直方向にストライブ状に塗布され
ている。第1図中でスクリーン9に記入した破線は複数
本の線陰極2のそれぞれに対応し、て表示される垂直方
向での区分を示し、2点鎖線は複数本の制御電極6のぞ
Jlそれに対応して表示さ′11る水平方向での区分を
示す・これら両者で仕切られた1つの区画には、第2図
に拡大して示すように、水平方向では1絵素分のR,G
、Bの螢光体2oがあり、垂直方向では16ライン分の
幅を治している。1つの区画の大きさは、たとえば、水
平方向が1 mm、垂rM方向が16mnである。The screen 9 is composed of a phosphor 20 that emits light when irradiated with an electron beam is coated on the back surface of a glass plate 21, and a metal back layer (not shown) is added thereto. The phosphors 20 are divided into sections in the horizontal direction for one slit 14 of the control electrode 5, and the phosphors of the three colors R2O and B respond to each one electron beam struck. They are provided in pairs and applied vertically in stripes.The broken lines drawn on the screen 9 in FIG. 1 correspond to each of the plurality of wire cathodes 2, and are The two-dot chain line indicates the division in the vertical direction, and the two-dot chain line indicates the division in the horizontal direction where the plurality of control electrodes 6 are displayed correspondingly. As shown in the enlarged view in Figure 2, in the horizontal direction, the R and G of one picture element are
, B, and covers a width of 16 lines in the vertical direction. The size of one section is, for example, 1 mm in the horizontal direction and 16 mm in the vertical direction.
々お、第1図においては、わかり易くするために水平方
向の長さが垂直方向に対して非常に大きく引き伸ばして
描かれている点に注意されたい。Please note that in FIG. 1, the horizontal length is greatly expanded relative to the vertical direction for clarity.
また、この実施例では1本の制御電極6すなわち1本の
電子ビームに対してR、G、Hの螢光体20が1絵素分
の1対のみ設けられているが、2絵素以上分の2対以上
設けられていてももちろんよく、その場合には制御電極
6には2つ以上の絵素のだめのR,、G 。Further, in this embodiment, only one pair of R, G, and H phosphors 20 for one picture element is provided for one control electrode 6, that is, one electron beam, but for two or more picture elements. Of course, two or more pairs of picture elements may be provided, and in that case, the control electrode 6 has two or more pairs of picture elements R, , G.
B IS @信シづが順次加えられ、それと同期して水
平偏向がなされ7る。B IS @signs are added sequentially, and horizontal deflection is performed in synchronization with it.
以上の様な平板型表示装置において、次のような問題が
あった。複数本の線陰極2が酸化物陰極材料で塗着され
構成さねているために、電子ビームを取り出す時は、線
陰極2が600℃〜了○O℃程度の高温に維持されてい
ることが必要である。The flat panel display device described above has the following problems. Since the plurality of wire cathodes 2 are coated with oxide cathode material, the wire cathodes 2 must be maintained at a high temperature of about 600°C to ○0°C when taking out the electron beam. is necessary.
とのために線陰極の両端に電圧を印加して電流(ヒータ
電流)を流し、線陰極2を高温に維持する。この丑\で
電子ビームを取り出すと、線陰極2の両端に電圧が印加
されているために、線陰極の長さ方向の部分毎に電圧値
が異り、長さ方向に渡って均一 な電子ビーム電流を得
ることが難しくなる。丑だ、電子ビームを取り出す時の
み、一時的にヒータ電流を流さずに線陰極の両端の電圧
値を等しくしても、線陰(夕から放出される電子ビーム
電流により、線陰極の長さ方向に渡って部分的に電位差
が発生して前記同様、均一な電子ビーム電流を得ること
が難しく、より均質外画質が得られない問題点があった
。For this reason, a voltage is applied to both ends of the wire cathode to flow a current (heater current) to maintain the wire cathode 2 at a high temperature. When an electron beam is extracted with this ox\, since a voltage is applied to both ends of the line cathode 2, the voltage value differs for each part in the length direction of the line cathode, and the electron beam is uniform across the length. It becomes difficult to obtain beam current. Unfortunately, only when taking out the electron beam, even if the voltage value at both ends of the line cathode is equalized without passing the heater current temporarily, the length of the line cathode will be reduced due to the electron beam current emitted from the line shade (event). Similar to the above, it is difficult to obtain a uniform electron beam current because a potential difference occurs partially in the direction, and there is a problem in that it is difficult to obtain a non-homogeneous image quality.
発明の目的
本発明の目的は、電子ビームを前方に放射させるだめの
背面電極手段に抵抗体を形成することにより前記問題点
を解消し、均一な電子ビーム電流を得て、均質な画質を
提供することにある。OBJECTS OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems by forming a resistor on the back electrode means for emitting the electron beam forward, obtain a uniform electron beam current, and provide uniform image quality. It's about doing.
なお、前記抵抗体に一部金属部分を形成することにより
、また、前記抵抗体を部分的に面積抵抗が異る様に形成
することにより、より一一層均一一な電子ビーム電流を
得て、より一層均質彦画質を提供することができる。Furthermore, by forming a part of the resistor with a metal part, and by forming the resistor so that the resistor has a different area resistance, a more uniform electron beam current can be obtained. This makes it possible to provide even more uniform image quality.
発明の構成
本発明は、」−記の目的を達成するだめに、以下の構成
にて平板型表示装置を構成することを特徴とする。DESCRIPTION OF THE INVENTION In order to achieve the object of the invention, the present invention is characterized in that a flat panel display device is configured as follows.
平板型表示装置は、電子ビーム源としての複数本の線陰
極、電子ビーノ・を前方に走らすだめの背面電極手段、
電子ビーム取り出し手段、電子ビーム制御手段、発光手
段で構成され、前記背面電極手段が抵抗体で構成されて
いる。なお、その抵抗体の一部を金属部分或は面積抵抗
が異った部分で0
構成してもよい。A flat panel display device includes a plurality of wire cathodes as an electron beam source, a back electrode means for driving the electron beam forward,
It is composed of an electron beam extraction means, an electron beam control means, and a light emitting means, and the back electrode means is composed of a resistor. Incidentally, a part of the resistor may be constructed of a metal part or a part having different sheet resistance.
このことにより1.1:り均一な電子ビーム電流を得る
ことができる。As a result, a uniform electron beam current of 1.1 can be obtained.
実施例の説明
本発明の詳細な一実施例を第3図を用いて説明する。こ
の一実施例の構成は以下の如くである。DESCRIPTION OF EMBODIMENTS A detailed embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The configuration of this embodiment is as follows.
背面電極手段は、通常、基板としてガラス板31が用い
られる。このガラス板310表面にI n 203膜を
100人〜6000人程蒸着均一な膜厚に蒸着等にて形
成し抵抗体膜32とする。この抵抗体膜32は必ずしも
In2O3膜である必要もない。The back electrode means usually uses a glass plate 31 as a substrate. An I n 203 film is formed on the surface of the glass plate 310 by evaporation or the like to a uniform thickness using about 100 to 6000 people to form the resistor film 32 . This resistor film 32 does not necessarily have to be an In2O3 film.
例えばAuを極めて薄く蒸着しても極めて高抵抗の抵抗
体膜が得られる。捷だ、この抵抗体膜32の両端には、
リード端子用電極33がAu等の膜厚を厚くして導電体
として付着されている。この平板型表示装置の有効表示
面積を200X160triとすると、背面電極手段の
抵抗体膜320表面に約70端間隔で、Au、Ni等の
金属膜でできだストライブ状の電極34を巾約1咽、膜
厚約3000人で付着して、背面電極手段が構成される
。さらにその前面に約2脆離れて線陰極35が配置され
ている。この線陰極36は長さが約210胡位で酸化物
陰極拐料を20〜26 lrmφのタングステン線上に
イス1着し2て形成されている。1プこ、この線陰極3
5のさらに前面に電子ビーム取り出し手段用電極36が
配置されている。この電極36は、板厚0.2m、電子
ビーム通過孔37の径は、0.37g、φ、ピッチは1
.○祁で形成されている。For example, even if Au is deposited extremely thinly, a resistor film with extremely high resistance can be obtained. Well, on both ends of this resistor film 32,
The lead terminal electrode 33 is made of a thick film of Au or the like and is attached as a conductor. Assuming that the effective display area of this flat panel display device is 200 x 160 tri, stripe-shaped electrodes 34 made of a metal film such as Au or Ni are placed on the surface of the resistor film 320 of the back electrode means at intervals of about 70 edges, and are made of a metal film such as Au or Ni. The back electrode means is formed by adhering to the throat with a film thickness of about 3,000 people. Furthermore, a wire cathode 35 is arranged on the front surface at a distance of about 2 mm. This wire cathode 36 has a length of about 210 mm and is formed by placing an oxide cathode coating material on a tungsten wire of 20 to 26 lrmφ and placing a chair on it. 1, this line cathode 3
An electrode 36 for electron beam extraction means is arranged further in front of the electrode 5 . This electrode 36 has a plate thickness of 0.2 m, a diameter of the electron beam passage hole 37 of 0.37 g, φ, and a pitch of 1.
.. ○It is formed by Qi.
以下、さらに発光手段に至る寸での電極構成の一例と1
7では、従来例とはマ同でである。Hereinafter, an example of the electrode configuration in a size that reaches the light emitting means and 1
7 is the same as the conventional example.
次にこの構成での動作例について説明する。線陰極35
は、30〜4.0 m Aのヒーター電流を常時流して
、600〜700℃程度の高温に維持する。背面電極手
段の抵抗体膜32の両端にあるリード端子用電極33の
一方の電極に一60■、他方の電極に一57Vを印加す
る。1だ金属膜でできたストライブ状電極の一方を−6
8,5V、他方を−67,5Vに、さらに、電子ビーム
取出し手段用電極36((は+soVをそ゛れぞれ印加
する。Next, an example of operation in this configuration will be described. line cathode 35
A heater current of 30 to 4.0 mA is constantly applied to maintain the temperature at a high temperature of about 600 to 700°C. A voltage of 160 V is applied to one electrode of the lead terminal electrodes 33 at both ends of the resistor film 32 of the back electrode means, and 157 V to the other electrode. 1. One side of the striped electrode made of metal film is -6
8.5V and -67.5V to the other, and +soV to the electron beam extraction means electrode 36 (().
この状態で線陰極3已に負の〕くルス電圧−30■を印
加すると、線陰極35から一斉に電子ビームが線状にな
って電子ビーム取出し2用電極36に向けて放出される
。この時の放出ビーム電流密度は、線陰極の長さ方向に
沿って、はソ同じ位の値に々す、は\゛均一電子ビーム
電流が得られる。In this state, when a negative pulse voltage of -30 .mu. At this time, the emitted beam current density is approximately the same along the length of the line cathode, so that a uniform electron beam current is obtained.
との結果線状電子ビームは電子ビーム取出し手段用電極
36を通過して、さらて他の電極手段を通過後、発光手
段に至る寸で、常に均一な電流密度を得ることができる
。As a result, the linear electron beam can always obtain a uniform current density after passing through the electron beam extraction means electrode 36 and further passing through other electrode means until it reaches the light emitting means.
以1−のことは、第4図aに示す様々モデルから理解出
来る。線陰極36の長さをL1点Aを原点として点Bの
方向をX方向に取り、単位長さをdx、ダイオード41
を点Bの後に接続し、点への方からパルス電圧42を印
加する。線陰極36のり1位長さ当りの抵抗をRx、放
出電流をエエとすると、線陰極36のX点にかかる電位
差■工は、近似的に次式で表わせる。The following 1- can be understood from the various models shown in FIG. 4a. The length of the line cathode 36 is L1 with the point A as the origin and the direction of point B as the X direction, the unit length is dx, and the diode 41
is connected after point B, and pulse voltage 42 is applied from the direction toward point B. If the resistance per length of the wire cathode 36 is Rx, and the emission current is E, then the potential difference (1) applied to the X point of the wire cathode 36 can be approximately expressed by the following equation.
こ\で、放出電流が線陰極36に流れる方向は3
点Bから点Aであり、点Aに一定電位vA(負のパルス
電圧)が印加されているとする。Here, it is assumed that the direction in which the emission current flows through the wire cathode 36 is from point B to point A, and that a constant potential vA (negative pulse voltage) is applied to point A.
この時、=L記式は第4図すの曲線43の様に表わせる
。縦軸は電位、横軸は線陰極の長さでXとして表わして
いる。長さx = Lの時の電子☆差ばVLであるから
、電位はvA−IvLとなる。At this time, the =L notation can be expressed as a curve 43 in Figure 4. The vertical axis is the potential, and the horizontal axis is the length of the wire cathode, which is expressed as X. When the length x = L, the difference in electrons is VL, so the potential is vA-IvL.
このことから、電子ビーム取出し手段用電極36と線陰
極35との電位差は、線陰極35の長さ方向に沿って一
定ではなく、VLだけ異る。よってこれを補償すべく背
面電極手段の電位をvLに対応して長さ方向に沿って異
らぜることにより電子ビーム電流を均一に取出すことが
出来ることになる。さらに他の実施例を第6図(、)
、 (1)) 、 (C)を用いて説明する。Therefore, the potential difference between the electron beam extraction means electrode 36 and the line cathode 35 is not constant along the length of the line cathode 35, but differs by VL. Therefore, in order to compensate for this, by varying the potential of the back electrode means along the length direction in accordance with vL, it is possible to uniformly extract the electron beam current. Still another example is shown in Figure 6 (,)
, (1)) and (C).
第5図(−)の51は背面電極手段用基板31に、In
2O3等の抵抗体膜32を曲線43に対応して、膜厚を
はソ連続的に変化させて蒸着を行い、線陰極35の長さ
方向に沿って面積抵抗を連続的に変化させて形成した背
面電極手段の一例である。51 in FIG. 5(-) is an In
A resistor film 32 of 2O3 or the like is deposited by continuously changing the film thickness in accordance with the curve 43, and by continuously changing the sheet resistance along the length direction of the linear cathode 35. This is an example of a back electrode means.
第5図(1〕)の52は、51と同様に膜厚をはソ連1
4 ・
続的に変化させて蒸着を行っているが、二層目に別の抵
抗体膜38、例えばAllの極薄膜等を伺着し面積抵抗
を著しく変化させて、線陰極の電位差が著しい場合、或
は、電極基板と蒸着物質との付着強度が弱い場合等に対
応できる様にした背面電極手段の一例である。丑だ線陰
極36の両端にダイオード等の半導体素子を結線した場
合、線陰極35の長さ方向の放出電流による電位差は、
線陰極の真中付近を中心にして対称に近い分布になる。52 in Figure 5 (1), like 51, has a film thickness of 1 in the Soviet Union.
4 - Vapor deposition is performed by continuously changing the resistance, but by depositing another resistor film 38, such as an extremely thin film of Al, in the second layer, the sheet resistance changes significantly, and the potential difference between the line cathodes becomes significant. This is an example of a back electrode means that can be used in cases where the adhesion strength between the electrode substrate and the vapor deposition material is weak. When a semiconductor element such as a diode is connected to both ends of the wire cathode 36, the potential difference due to the emitted current in the length direction of the wire cathode 35 is as follows.
The distribution is nearly symmetrical around the center of the line cathode.
この場合の電位差に対応した背面電極手段の抵抗体膜は
第6図(C)の63に示すような凹型形状の膜厚分布に
なる。In this case, the resistor film of the back electrode means corresponding to the potential difference has a concave thickness distribution as shown at 63 in FIG. 6(C).
以」−の如く、抵抗体膜の膜厚をはゾ連続的に変化させ
て、面積抵抗を部分的に異らせることにより、線陰極の
放出電流による連続的な電位差の変化に十分力J応して
、より均一な電子ビーム電流を得ることができる。この
場合、抵抗体膜−ヒの電位分布で、線陰極と直角方向で
常に同電位を確保するために、前記金属部分を線陰極と
直交した方向に、巾の狭い(例えば100μm巾)スト
ライブ15
状r(利着すると、より均一な分布が得られて、線陰極
間相互においてもより均一な電子ビーム電流を得ること
ができる効果がある。By continuously changing the film thickness of the resistor film and partially varying the area resistance as shown in the following, a sufficient force J can be applied to the continuous change in potential difference due to the emission current of the wire cathode. Accordingly, a more uniform electron beam current can be obtained. In this case, in order to always ensure the same potential in the direction perpendicular to the line cathode in the potential distribution of the resistor film H, a narrow strip (for example, 100 μm width) is formed on the metal part in the direction perpendicular to the line cathode. 15 type r (gain gain) has the effect that a more uniform distribution can be obtained and a more uniform electron beam current can be obtained even between the line cathodes.
前記実施例より、背向電極手段電位とX方向の任意の点
との関係を第6図に示す。こ\で、二点鎖線61は、従
来例の背面電極手段を用いた電位分布で、何れの場所で
も同電位であることを示している。すなわち、不均一な
電子ビーム電流を得ることになる。一点鎖線62は背面
電極手段に抵抗体を付着1−で電位差を与えた場合で、
前記従来例より、第4図43で示す曲線に対応してより
近い−・直線となり、均一な電子ビーム電流を得ること
が出来る。寸た、点線63は背面電極手段に抵抗体を付
着1〜でさらに、その抵抗体の両端間に一部金属部分を
旧著して電位を印:Iyn L、た場合で、前記62よ
りもさらに、より均一な電子ビーム電流を得ることがで
きる。捷だ実線64は背面電極手段に部分的に面積抵抗
を異らせて、連続的に膜厚を変化させて抵抗体を付着さ
せた場合ではX゛連続的により均一な電子ビーム電流を
得ることができる。以上のことから均質な画質を得るこ
とができる効果がある。From the above embodiment, the relationship between the potential of the back electrode means and an arbitrary point in the X direction is shown in FIG. Here, the two-dot chain line 61 shows the potential distribution using the conventional back electrode means, and shows that the potential is the same everywhere. In other words, a non-uniform electron beam current is obtained. The one-dot chain line 62 shows the case where a resistor is attached to the back electrode means and a potential difference is applied.
Compared to the conventional example, the electron beam becomes a straight line that is closer to the curve shown in FIG. 43, and a uniform electron beam current can be obtained. In addition, the dotted line 63 indicates a case where a resistor is attached to the back electrode means 1~, and a part of the metal part is placed between both ends of the resistor to mark the potential: Iyn L, and it is more than 62 above. Furthermore, a more uniform electron beam current can be obtained. The broken solid line 64 indicates that when a resistor is attached by partially varying the area resistance of the back electrode means and continuously changing the film thickness, a more uniform electron beam current can be obtained in a continuous manner. I can do it. From the above, there is an effect that uniform image quality can be obtained.
址た、1油記で述べ/こ如く、ストライプ状に金属部分
を配置することは、常にその部分が同電位に維持される
ために、均一 な電位分布が得られ、各線陰極間におい
ても均一な電子ビーム電流を得ることができる効果があ
る。As mentioned in 1. As mentioned above, by arranging the metal parts in a striped pattern, the parts are always maintained at the same potential, so a uniform potential distribution can be obtained, and even between each line cathode. This has the effect of making it possible to obtain a high electron beam current.
発明の効用
以上のように本発明の平板型表示装置により線状陰極よ
り均一な電子ビームが得られ、均質な画像が得られる。Effects of the Invention As described above, the flat panel display device of the present invention provides a more uniform electron beam than a linear cathode, and a more homogeneous image can be obtained.
第1図は従来例としての平板型表示装置の基本的な一構
成例を示す図、第2図は同装置のスクリーン板の拡大図
、第3図は本発明の一実施例の装置部分的剥視図、第4
図は本発明の詳細な説明するための図、第5図は本発明
の他の実施例の装置の部分的断面図、第6図は本発明の
種々の実施例ておける効果を説明j−る図である。
31 ・ 背面電極手段用基板としてのガラス板、 7
32 ・・抵抗体膜、33 リード端子用電極、34
・金属部分、35 線陰極、36・・・・電子ビーム取
出し手段用電極。FIG. 1 is a diagram showing a basic configuration example of a flat panel display device as a conventional example, FIG. 2 is an enlarged view of a screen plate of the same device, and FIG. 3 is a partial view of a device according to an embodiment of the present invention. External view, No. 4
5 is a partial cross-sectional view of an apparatus according to another embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a diagram for explaining the effects of various embodiments of the present invention. This is a diagram. 31 ・Glass plate as substrate for back electrode means, 7 32 ・Resistor film, 33 Electrode for lead terminal, 34
・Metal part, 35 Line cathode, 36... Electrode for electron beam extraction means.
Claims (3)
陰極をはさんで電子ビームを前方に放出するだめの背面
電極手段と、電子ビームを取り出すだめの電子ビーム取
り出し手段と、前記電子ビームを制御するだめの電子ビ
ーム制御手段と、前記電子ビームの射突により発光する
発光手段とを備え、前記背面電極手段を抵抗体にて形成
することを特徴とする平板型表示装置。(1) A plurality of line cathodes as an electron beam source, back electrode means for emitting the electron beam forward across the line cathodes, electron beam extraction means for extracting the electron beam, and 1. A flat panel display device comprising an electron beam control means for controlling a beam, and a light emitting means for emitting light upon impact of the electron beam, and wherein the back electrode means is formed of a resistor.
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の平板型表
示装置。(2) A flat panel display device according to claim 1, characterized in that the resistor of the back electrode means is partially provided with a metal portion.
って形成されていることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の平板型表示装置。(3) A flat panel display device according to claim 1, wherein the resistor of the back electrode means is formed so that one portion thereof has a different sheet resistance.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4115184A JPS60185343A (en) | 1984-03-02 | 1984-03-02 | Planar display device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4115184A JPS60185343A (en) | 1984-03-02 | 1984-03-02 | Planar display device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60185343A true JPS60185343A (en) | 1985-09-20 |
JPH0425661B2 JPH0425661B2 (en) | 1992-05-01 |
Family
ID=12600417
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4115184A Granted JPS60185343A (en) | 1984-03-02 | 1984-03-02 | Planar display device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60185343A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0226817A2 (en) * | 1985-11-21 | 1987-07-01 | Nokia Unterhaltungselektronik (Deutschland) GmbH | Flat picture display tube |
EP0250821A2 (en) * | 1986-07-02 | 1988-01-07 | Nokia Unterhaltungselektronik (Deutschland) GmbH | Flat display device |
EP0328164A2 (en) * | 1985-11-21 | 1989-08-16 | Nokia (Deutschland) GmbH | Cathode arrangement for a flat electron beam display device |
-
1984
- 1984-03-02 JP JP4115184A patent/JPS60185343A/en active Granted
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0226817A2 (en) * | 1985-11-21 | 1987-07-01 | Nokia Unterhaltungselektronik (Deutschland) GmbH | Flat picture display tube |
EP0226817A3 (en) * | 1985-11-21 | 1988-01-07 | Nokia Unterhaltungselektronik (Deutschland) GmbH | Flat picture display tube |
EP0328164A2 (en) * | 1985-11-21 | 1989-08-16 | Nokia (Deutschland) GmbH | Cathode arrangement for a flat electron beam display device |
EP0328164A3 (en) * | 1985-11-21 | 1990-10-31 | Nokia (Deutschland) GmbH | Cathode arrangement for a flat electron beam display device |
EP0250821A2 (en) * | 1986-07-02 | 1988-01-07 | Nokia Unterhaltungselektronik (Deutschland) GmbH | Flat display device |
US4896080A (en) * | 1986-07-02 | 1990-01-23 | Nokia Unterhaltungselektronik | Flat picture-reproducing device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0425661B2 (en) | 1992-05-01 |
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