JPS60175435A - Inspecting method for pattern width of circuit pattern - Google Patents

Inspecting method for pattern width of circuit pattern

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JPS60175435A
JPS60175435A JP3021384A JP3021384A JPS60175435A JP S60175435 A JPS60175435 A JP S60175435A JP 3021384 A JP3021384 A JP 3021384A JP 3021384 A JP3021384 A JP 3021384A JP S60175435 A JPS60175435 A JP S60175435A
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pattern
circuit
image
change point
circuit pattern
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JP3021384A
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Japanese (ja)
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Makoto Ariga
有賀 誠
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor

Abstract

PURPOSE:To eliminate the good and adverse influences of an accurate positioning and the accuracy of the pattern itself by producing a logic signal in sequence from an arbitrary position on the circumference toward the prescribed rotating direction, and counting the number of varying logic levels. CONSTITUTION:A circuit pattern is converted by a television camera into an electric signal, and output as a video signal 7. The signal 7 is converted by a binary threshold level preset by a binary circuit 8 into a binary image. The varying point of the circuit pattern and the background is obtained from the binary image by a varying point segment circuit 9, and X and Y coordinates of the varying point are simultaneously stored in a varying point memory 10. The portion narrower than the specified pattern width is detected by the binary image and the varying point coordinates by a circle detector 11. The discriminated result is stored in an error point memory 12, and the defect is indicated by an image.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は回路パターンのパターン幅検査方法に関−する
ものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Application of the Invention] The present invention relates to a method for inspecting the pattern width of a circuit pattern.

〔発明の背景〕[Background of the invention]

従来のパターン欠陥検査方法には、設計データ比較方式
や同一品種の比較検査方式が存在する。両者の欠点とし
ては、被検査対象と比較データの位置合わせ、あるいは
比較用のワークとの位置合わせが非常に難しく、この位
置合わせ精度と検出欠陥精度の関係から誤判定する場合
がある。
Conventional pattern defect inspection methods include a design data comparison method and a comparison inspection method for the same product. The disadvantage of both methods is that it is very difficult to align the inspection target with the comparison data or with the comparison workpiece, and there are cases where erroneous judgments are made based on the relationship between the alignment accuracy and the detected defect accuracy.

また、検査するパターン自体が幾何学的に精度が良いも
のであれば、上記した従来方式で検査できるが、パター
ンそれ自体が各サンフールによって歪んでいたり、バラ
ツキが大きい場合には、正確な欠陥判定ができない欠点
がある。これらの事情はパターン幅検査でも同様であっ
た。
In addition, if the pattern to be inspected has good geometrical precision, it can be inspected using the conventional method described above, but if the pattern itself is distorted or has large variations due to each sun wheel, accurate defect determination cannot be performed. There is a drawback that it cannot be done. These circumstances were the same in pattern width inspection.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は、上記した従来技術の欠点をなくし、正
確な位置決めやパターン自体の精度の良悪を問題にする
ことなく、パターン欠陥検査中のパターン幅検査を行な
うことができる、回路パターンのパターン幅検査方法を
提供することにある。
An object of the present invention is to eliminate the drawbacks of the above-mentioned prior art, and to enable pattern width inspection during pattern defect inspection without worrying about accurate positioning or accuracy of the pattern itself. An object of the present invention is to provide a pattern width inspection method.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明の回路パターンのパターン幅検査方法は次の様な
ものである。先ず、光電変換した回路パターンの2次元
映像信号全背景画像と回路パターンとに所定のしきい値
レベルで2値化変換し、2値化画像1に得る。第1図(
α)はこうして得られた2値化画像の一例を示す図であ
り、図示する様に回路パターン1と背景画像2がらなっ
ている。
The method for inspecting the pattern width of a circuit pattern according to the present invention is as follows. First, the photoelectrically converted two-dimensional video signal of the circuit pattern, the entire background image, and the circuit pattern are binarized at a predetermined threshold level to obtain a binarized image 1. Figure 1 (
α) is a diagram showing an example of a binarized image obtained in this way, and as shown, it consists of a circuit pattern 1 and a background image 2.

次に、上記の2値化画像がら回路パターン1と背景画像
2の変化点を検出し、変化点のX。
Next, change points between circuit pattern 1 and background image 2 are detected from the above binarized image, and X of the change points is detected.

Y座標と変化点画像を形成する。第1図(h)は変化点
画像の一例を示す図であり、変化点画像(境界線)1a
〜1kが形成されている。
Form a Y coordinate and a change point image. FIG. 1(h) is a diagram showing an example of a changing point image, in which changing point image (border line) 1a
~1k are formed.

次に、ある変化点fcX、Y)k中心として所定半径り
の円周上に位置する全画素と上記変化点画像の各画素の
うち、両者が重複している画素を抽出する。その場合、
上記両者が重複している画素の内容を1″とし、円周上
の重複していない画素の内容を加”として抽出する(論
理設定は、この逆でも良い。)。そして、抽出された円
周上の各画素の内容を、円周上の任意の位置の画素から
所定の回転方向に向って順に61″、0″の論理信号と
し、て取り出す。そしてこの論理信号の論理レベルが′
1”から加”又は0″から1”に遷移する回数を計数し
、この計数値が7′ft:越えた場合に限p、回路パタ
ーン1のパターン幅が所定幅よりも狭く、欠陥が生して
いると判断する。
Next, out of all pixels located on a circumference with a predetermined radius around a certain change point fcX, Y)k and each pixel of the change point image, pixels in which both overlap are extracted. In that case,
The content of the pixel where the above two overlap is set as 1'', and the content of the non-overlapping pixel on the circumference is extracted as ``add'' (the logical setting may be the reverse of this). Then, the content of each extracted pixel on the circumference is extracted as a logic signal of 61'' and 0'' in order from a pixel at an arbitrary position on the circumference in a predetermined rotation direction. And the logic level of this logic signal is ′
Count the number of transitions from 1" to 0" or from 0" to 1", and only if this count exceeds 7'ft: p, the pattern width of circuit pattern 1 is narrower than the predetermined width and a defect has occurred. judge that it is.

即ち、回路パターン1のパターン幅は、一般に電流を流
すための最小パターン幅として規定され友ある幅を持っ
ていれば良いわけである。
That is, the pattern width of the circuit pattern 1 is generally defined as the minimum pattern width for flowing current, and it is sufficient if it has a certain width.

そこで、ある変化点を中心にパターン幅に等しい半径り
の円周上に位置する全画素と変化点画像の各画素の関係
を考えると、パターン幅が正常で9以上の距離が保持さ
れている場合には、上記した半径りの円周〔以後判定サ
ークルと呼称する。〕と変化点画像の交点は2箇所にな
る。
Therefore, when considering the relationship between all pixels located on the circumference of a circle with a radius equal to the pattern width around a certain change point and each pixel of the change point image, it is found that the pattern width is normal and a distance of 9 or more is maintained. In this case, the circumference of the above-mentioned radius [hereinafter referred to as determination circle]. ] and the change point image intersect at two points.

又、パターン幅が、丁度距離りの場合は、交点の数は3
箇所になる。その場合、各交点の面積(重複する画素数
)は回路パターンの形状によって異なるのが通常である
。そこで、半径りの判定サークルと変化点画像の重複す
る画素の内容を1”又は′0″として検出し、判定サー
クル上の変化点画像と重複しない画素をその逆論理とし
て抽出する。そして、判定サークル上の任意の位置の画
素から所定の回転方向に向って順に′1”、0″の論理
信号として取り出し、論理レベルが1″から0”又は0
”から1Hに遷移する回数を計数する。判定サークルと
変化点画像の交点が1箇所のとき、論理レベルの遷移は
2回になるため、パターン幅が丁度距離りであるときは
、前記した様に交点が3箇所とな夛、論理レベルの遷移
は6回となる。そこで、論理レベルの遷移が7回以上検
出されたとき、回路パターン幅が所定幅よρも狭く、欠
陥があると判定する。
Also, if the pattern width is exactly the distance, the number of intersections is 3.
It becomes a place. In that case, the area of each intersection (the number of overlapping pixels) usually differs depending on the shape of the circuit pattern. Therefore, the contents of the pixels that overlap the judgment circle of the radius and the change point image are detected as 1'' or '0'', and the pixels that do not overlap with the change point image on the judgment circle are extracted using the reverse logic. Then, logic signals of ``1'' and 0'' are taken out in order from a pixel at an arbitrary position on the judgment circle in a predetermined rotation direction, and the logic level is changed from 1'' to 0'' or 0.
” to 1H. When the intersection of the judgment circle and the change point image is at one point, the logic level transitions twice, so if the pattern width is exactly the distance, If there are 3 intersections, there will be 6 logic level transitions. Therefore, when 7 or more logic level transitions are detected, the circuit pattern width is narrower than the predetermined width by ρ, and it is determined that there is a defect. do.

第1図(C)、(d)は、変化点画flUy、1iと変
化点ム+ fs * fsからパターン幅の欠陥の有無
の判定を行なう具体例を示す図である。第1図(clに
おいて、変化点f、全中心とする半径りの判定サークル
上の画素と変化点画像1y、 1iの画素との交点は、
α1.blの2点となり、判定サークル上の論理レベル
の遷移は4回となる。従って、変化点f1に基づく判定
からは、パターン幅は正常と判定される。第1図(d)
に示す変化点f1. ft、 fsK基づく判定も、交
点がそれぞれ、aI + hI * at+hl+α3
.h、となり、論理レベルの遷移は4回とな9、正常と
判定される。しかし、第1図(c)VC示す変化点f、
に基づく判定では、交点がαt+’t+’!*Gの4点
となり、論理レベルの遷移数が8回になるため、パター
ン幅が所定幅りよりも狭く欠陥があると判断される。
FIGS. 1C and 1D are diagrams showing a specific example of determining whether there is a defect in the pattern width from the change point image flUy, 1i and the change point m+fs*fs. In Fig. 1 (cl), the intersection of the change point f, the pixel on the judgment circle with the radius centered on the entire center, and the pixel of the change point images 1y, 1i is
α1. There are two points of bl, and the logic level transition on the judgment circle is four times. Therefore, based on the determination based on the change point f1, the pattern width is determined to be normal. Figure 1(d)
The change point f1 shown in In the judgment based on ft and fsK, the intersection points are aI + hI * at + hl + α3, respectively.
.. h, the logic level transitions four times9, and is determined to be normal. However, the change point f shown in FIG. 1(c) VC,
In the judgment based on , the intersection is αt+'t+'! Since the number of *G points is 4 and the number of logic level transitions is 8, it is determined that the pattern width is narrower than the predetermined width and there is a defect.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

以下、本発明の一実施例を第2図、第3図。 An embodiment of the present invention is shown in FIGS. 2 and 3 below.

第4図、第5図、第6図を用いて説明する。This will be explained using FIG. 4, FIG. 5, and FIG. 6.

第2図は本発明の一実施例を示すブロック図である。図
示する様に、被検査回路部品5上に形成されている回路
パターンは、光学系6全通してテレビカメラ4に結像さ
れる。そして、この回路パターンはテレビカメラ4によ
って電気信号に変換され、映像信号7として出方される
FIG. 2 is a block diagram showing one embodiment of the present invention. As shown in the figure, the circuit pattern formed on the circuit component to be inspected 5 is imaged on the television camera 4 through the entire optical system 6. This circuit pattern is then converted into an electrical signal by the television camera 4 and output as a video signal 7.

映像信号7は、2値化回路8にょシあらがじめ背景と回
路パターンを分岐するために設定してかいた2値化しき
い値レベルに上り、第6図(alの様な2値化画像を得
る。次に、2値化画像から第6図Cb)に示す様な回路
パターンと背景の変化点(即ち、回路パターンの境界画
像)を変化点線分化回路9によってめ、同時に変化点の
x、y座標を変化点メモ+710に記憶する。そして、
上記の2値化画像と変化点座標によって規定パターン幅
よりも狭い部分の検出をサークル検定回路11により行
う。このとき規定パターン幅は外部から設定可能とし、
判定基準信号14として与える。判定結果はエラ一点メ
モリ12に記憶し、第3図(α)に示す様な欠陥20が
第3図(C)に示す欠陥検出画像21として得られる。
The video signal 7 reaches the binarization threshold level previously set in the binarization circuit 8 to separate the background and the circuit pattern, and the video signal 7 reaches the binarization threshold level previously set to separate the background and circuit pattern, Obtain an image. Next, from the binarized image, change points between the circuit pattern and the background (i.e., the boundary image of the circuit pattern) as shown in FIG. Store the x and y coordinates in the change point memo +710. and,
The circle test circuit 11 detects a portion narrower than the specified pattern width using the above-mentioned binarized image and change point coordinates. At this time, the specified pattern width can be set externally.
It is given as a determination reference signal 14. The determination result is stored in the error single point memory 12, and a defect 20 as shown in FIG. 3(α) is obtained as a defect detection image 21 shown in FIG. 3(C).

次にサークル検定回路11について説明する。Next, the circle verification circuit 11 will be explained.

第4図に示す様に、着目する変化点fCi、j)k中心
として、検査パター、ン幅を半径とする円に相当する画
素EI + El +・・・EK−1+ El”を、あ
らかじめ判定サークル22として設定して訃〈。ここで
、設定する円周の画像は外部から任意にその半径が変え
られる様に、あらかじめいくつか設定してかき、外部か
らの判断基準信号14により切換える。
As shown in Fig. 4, the pixel EI + El +...EK-1 + El'', which corresponds to a circle whose radius is the width of the inspection pattern, is determined in advance with the change point of interest fCi,j)k as the center. The image of the circumference is set as a circle 22. Here, several images of the circumference to be set are set in advance so that the radius can be arbitrarily changed from the outside, and the images are switched by the judgment reference signal 14 from the outside.

ここで、変化点f Ci、j)に対する判定基準たる半
径fD画素分の距離とし、変化点fci、j)を中心と
し半径がD画素分の距離に相当する円周上の画素で、次
の条件式(1)を満足する全ての画素EI =’hをめ
る。
Here, the distance from the change point f Ci, j) is defined as the criterion for radius fD pixels, and the following pixels on the circumference whose center is the change point f Ci, j) and whose radius corresponds to the distance D pixels. Find all pixels EI='h that satisfy conditional expression (1).

但し、m、 +c=−1)、 −、−1、0,1、=−
、D。
However, m, +c=-1), -, -1, 0,1, =-
,D.

0≦αく1である。0≦α×1.

次に、これらのに個の画素E、〜EKのうち、変化点の
画素の内容ヲ″1”とし、それ以外の画素の内容を”0
”として、サークル画素抽出回路111全用いて抽出す
る。サークル画素抽出回路111によって抽出された判
定サークル22上のに個の画素E、〜Eρ内容はパラレ
ル信号であυ、パラレル/シリアル変換器112によっ
て画素E、〜Ekノ順のシリアル信号に変換される。シ
リアル信号に変換されたに個の画素E、−Ekの内容は
、信号遷移状態検出回路113に人力され、ここで論理
レベルが”1”から”0″及び加”から1”に遷移する
回数が計数される。そして、その計数値が7以上にな巳
た場合に限り、回路パターンに欠陥があると判断してエ
ラー信号114ヲ出力しエラーメモリ12に記憶させる
Next, among these pixels E, ~EK, the content of the pixel at the change point is set to "1", and the content of the other pixels is set to "0".
”, the entire circle pixel extraction circuit 111 is used to extract the pixels E, ~Eρ on the judgment circle 22 extracted by the circle pixel extraction circuit 111, and the contents are parallel signals υ, and the parallel/serial converter 112 The contents of the pixels E, -Ek are converted into serial signals in the order of pixels E, -Ek.The contents of the pixels E, -Ek that have been converted into serial signals are input to the signal transition state detection circuit 113, where the logic level is " The number of transitions from "1" to "0" and from "+" to "1" is counted. Then, only when the counted value is 7 or more, it is determined that there is a defect in the circuit pattern and an error signal 114 is sent. is output and stored in the error memory 12.

第4図は、サークル検定回路11の具体例を示す図であ
る。サークル画素抽出回路111(第4図には図示せず
)から出力される画素E、 −Ekの内容は、取り込み
パルス30の出力タイミングでにビットのシフトレジス
タ31に取り込まれる。
FIG. 4 is a diagram showing a specific example of the circle verification circuit 11. The contents of the pixels E and -Ek output from the circle pixel extraction circuit 111 (not shown in FIG. 4) are taken into the bit shift register 31 at the output timing of the take-in pulse 30.

その際、シフトレジスタ51の第1ビツト目には画素E
kの、内容が取り込まれ、第2ビツト目には画素Ek、
+の内容が取り込まれ、以後同様にして第にビット目に
は画素E、の内容が取り込まれる。
At this time, the first bit of the shift register 51 contains the pixel E.
The contents of pixel Ek are taken in, and the second bit contains pixel Ek,
The contents of + are taken in, and thereafter, the contents of pixel E are taken in in the same manner as the th bit.

このシフトレジスタ31は前記したパラレル/シリアル
変換器112に相当するもので、シフトパルスが入力さ
れる毎に各ビットの内容を1段シフトする。そして、第
にビット目と第(&−1)ビット目の内容は、信号遷移
状態検出回路113に入力される。信号遷移状態検出回
路113内の排 ′他オア回路62は、第にビット目と
第(&−1)ビット目の内容を受け、シフトレジスタ3
1の内容が1段シフトされる毎に、第にビット目と第(
&−1)ビット目の内容が1″と0″の組み合せになっ
たか否かを検出する。そして、1″と0″の組み合せに
なった場合に限って′1”を出力する。
This shift register 31 corresponds to the parallel/serial converter 112 described above, and shifts the contents of each bit by one stage each time a shift pulse is input. The contents of the first bit and the (&-1)th bit are input to the signal transition state detection circuit 113. The exclusive OR circuit 62 in the signal transition state detection circuit 113 receives the contents of the th bit and the (&-1)th bit, and then outputs the contents of the shift register 3.
Every time the contents of 1 are shifted by one stage, the bit-th and (
&-1) Detect whether the contents of the bit are a combination of 1'' and 0''. Then, it outputs '1' only when it becomes a combination of 1'' and 0''.

これによって、画素E、−Ekの内容(1”、′0″)
の遷移点が検出される。排他オア回路32から出力され
る遷移点を示す1”は、アンド回路33でシフトパルス
とアンド条件をとった後、カウンタ34に入力され、計
数される。そして、カウンタ34の計数値は比較器35
に入力され、計数値が7以上になった場合に1比較器3
5から前記エラー信号114に相当する”1”が出方さ
れる。
As a result, the contents of pixels E, -Ek (1", '0")
A transition point is detected. 1'' indicating the transition point output from the exclusive OR circuit 32 is subjected to an AND condition with the shift pulse in the AND circuit 33, and then input to the counter 34 and counted. 35
1 comparator 3 when the count value is 7 or more.
5, "1" corresponding to the error signal 114 is output.

第5図(a)、 (A)は、第2図に示す変化点分化回
路9から出力される回路パターンの変化点画像1、.1
i(境界線)の具体例を示す図である。第5図←)は、
変化点f(i、j)を中心とする判定サークル22が変
化点画像1.と2点で交わる場合を示シ、fin5図(
A)FX変什点f Ci、ノ) k中心とする判定サー
クル22が変化点メモリ、1.と4点で交わる場合を示
している。従って、第5図(α)は回路パターンが正常
な場合であシ、第5図(b)は回路パターンに欠陥が生
じている場合である。尚、第5図(α)、 Cb)にお
いて、判定サークル22は28個f)画素E1〜Et8
から形成されている。
5A and 5A show changing point images 1, . . . of the circuit pattern output from the changing point differentiation circuit 9 shown in FIG. 1
It is a figure which shows the specific example of i (boundary line). Figure 5←) is
The determination circle 22 centered on the change point f(i, j) is the change point image 1. fin5 diagram (
A) FX change point f Ci, d) Judgment circle 22 centered on k is change point memory; 1. The figure shows the case where the two points intersect at four points. Therefore, FIG. 5(α) shows a case where the circuit pattern is normal, and FIG. 5(b) shows a case where a defect has occurred in the circuit pattern. In addition, in FIG. 5 (α), Cb), there are 28 judgment circles 22 f) pixels E1 to Et8.
It is formed from.

第6図(α)、Cb)ij、第5図(α)、(h)K示
す判定サークル22上の各画素E、〜E!81に第4図
に示すサークル検定回路11で処理し′fc場合の、サ
ークル判、定回路11内のサークル画素抽出回路111
の出力とアンド回路33の出力を示すタイムチャートで
ある。ここで、第6図←)は第5図(eL)に示す各画
素E1〜E!st−処理した場合であシ、第6図(A)
は第5図(h)に示す各画素E、〜E!sを処理した場
合である。第5図(α)及び第6図(α)に示す場合は
、図示する様に、画素E□、E4 と画素E26 * 
E17の2組がサークル画素抽出回路111によって1
′′として検出され、そのためアンド回路36がらは論
理レベルの遷移を示す4個のパルスが出力される。
Each pixel E, ~E! on the determination circle 22 shown in FIG. 6 (α), Cb) ij, and FIG. 5 (α), (h) K! 81, a circle pixel extraction circuit 111 in the circle judgment and determination circuit 11 in the case of 'fc' processed by the circle verification circuit 11 shown in FIG.
3 is a time chart showing the output of the AND circuit 33. Here, FIG. 6 ←) represents each pixel E1 to E shown in FIG. 5 (eL)! In the case of st-treatment, Fig. 6 (A)
are each pixel E, ~E! shown in FIG. 5(h). This is the case when s is processed. In the case shown in FIG. 5 (α) and FIG. 6 (α), pixels E□, E4 and pixel E26 *
Two sets of E17 are combined into one by the circle pixel extraction circuit 111.
Therefore, the AND circuit 36 outputs four pulses indicating a logic level transition.

従って、この場合には第4図に示すカウンタ34の計数
値が4となシ、7より小さいため、回路パターンは正常
と判定される。第5図(α)及び第6図(h)に示す場
合は、図示する様に、画素E、と画素EII * E6
と、画素EIor 41 と、画素E0の4組がサーク
ル抽出回路111によって”1”として検出され、その
ためアンド回路33がらは論理レベルの遷移を示す8個
のパルスが出力される。従って、この場合には第4図に
示すカウンタ34の計数値が8となり、7より大きくな
るため、回路パターンに欠陥があると判定される。
Therefore, in this case, since the count value of the counter 34 shown in FIG. 4 is 4, which is smaller than 7, the circuit pattern is determined to be normal. In the case shown in FIG. 5 (α) and FIG. 6 (h), as shown, pixel E and pixel EII * E6
, pixel EIor 41 , and pixel E0 are detected as "1" by the circle extraction circuit 111, and therefore the AND circuit 33 outputs eight pulses indicating a transition of logic levels. Therefore, in this case, the count value of the counter 34 shown in FIG. 4 is 8, which is greater than 7, and therefore it is determined that the circuit pattern has a defect.

尚、本発明はソフトウェア処理で実現することも可能で
あるが、パイプライン画像メモリを使用しハードウェア
による実時間処理で実現することもできる。
Note that the present invention can be realized by software processing, but it can also be realized by real-time processing by hardware using a pipeline image memory.

以上の様に本実施例によれば、高精度の位置決め及び比
較するための標準パターン金持たずして、簡単な判定基
準により、パターン幅を検査することが可能になる。し
たがって、検査装置の低価格化が実現できる。
As described above, according to this embodiment, it is possible to inspect the pattern width using a simple criterion without requiring highly accurate positioning and standard pattern metals for comparison. Therefore, the cost of the inspection device can be reduced.

〔発明の効果] 本発明によれば、判定基準の単純化がはかられ、従来技
術士必要とされた高精度の位置決めや標準パターンが不
要となり、又、回路パターン自体の精度を問題にしない
回路パターンのパターン幅検査方法が提供できる。従っ
て、比較用の標準パターン発生装置等が不要となシ、検
査装置の小形化・低価格化をはかることができる。
[Effects of the Invention] According to the present invention, the judgment criteria are simplified, the high precision positioning and standard patterns that conventionally required engineers are no longer required, and the accuracy of the circuit pattern itself is not a problem. A method for inspecting the pattern width of a circuit pattern can be provided. Therefore, there is no need for a standard pattern generating device for comparison, and the inspection device can be made smaller and cheaper.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図←)、 (A)l (C)9 (d)は本発明の
原理を示す図、第2図は本発明の一実施例を示す図、第
3図(α)、 (A)、 CC)は第2図に示す実施例
の動作を示す説明図、第4図は第2図に示す実施例にお
けるサークル検定回路の一例を示す図、第5図(α)。 (b)は第2図に示す実施例における変化点分化回路か
ら出力される回路パターンの変化点画像の具体例を示す
図、第6図(eL(A)は第2図に示す実施例における
サークル検定回路による判定サークル上の各画素の処理
を示すタイムチャートである。 1・・・回路パターン 1α〜1k・・・変化点画像2
・・・背景画像 4・・・テレビカメラ5・・・被検査
回路部品 6・・・光学系8・・・2値化回路 9・・
・変化点分化回路10・・・変化点メモリ11・・・サ
ークル検定回路12・・・エラーメモリ 20・・・欠
陥21・・・欠陥検出画像 22・・・判定サークル3
1・・・シフトレジスタ 32・・・排他オア回路33
・・・アンド回路 34・・・カウンタ35・・・比較
器 111・・・サークル画素抽出回路 112・・・パラレル/シリアル変換器113・・・信
号遷移状態検出回路 第1図 第2図 14図
Figure 1←), (A)l (C)9 (d) is a diagram showing the principle of the present invention, Figure 2 is a diagram showing an embodiment of the present invention, Figure 3 (α), (A) , CC) is an explanatory diagram showing the operation of the embodiment shown in FIG. 2, FIG. 4 is a diagram showing an example of the circle verification circuit in the embodiment shown in FIG. 2, and FIG. 5 (α). (b) is a diagram showing a specific example of a changing point image of a circuit pattern output from the changing point differentiation circuit in the embodiment shown in FIG. 2, and FIG. It is a time chart showing the processing of each pixel on the determination circle by the circle test circuit. 1... Circuit pattern 1α to 1k... Change point image 2
...Background image 4...Television camera 5...Circuit components to be inspected 6...Optical system 8...Binarization circuit 9...
- Change point differentiation circuit 10... Change point memory 11... Circle verification circuit 12... Error memory 20... Defect 21... Defect detection image 22... Judgment circle 3
1... Shift register 32... Exclusive OR circuit 33
...AND circuit 34...Counter 35...Comparator 111...Circle pixel extraction circuit 112...Parallel/serial converter 113...Signal transition state detection circuit Fig. 1 Fig. 2 Fig. 14

Claims (1)

【特許請求の範囲】 光電変換した回路パターンの2次元映像信号を、背景画
像と回路パターンとに所定のしきい値レベルで2値化変
換して2値化画像全形成し、次に上記2値化画像から背
景画像と回路パターンとの変化点を検出して、変化点の
X、Y座標と変化点画像を形成し、次にある変化点fc
X。 Y)を中心にして所定半径の円周上に位置する全画素と
上記変化点画像とが重複する画素を論理レベル″1”又
は0″とし、重複していない上記円周上の画素を上記重
複する画素の逆論理として抽出し、次に抽出された論理
信号を上記円周上の任意の位置から一定回転方向に向っ
て順に取り出し、論理レベル”1”、”0”が遷移する
回数を計数し、この計数値が所定数を越えた場合に限っ
て、パターン幅が所定幅よりも狭く欠陥が生じていると
判定すること全特徴とする回路パターンのパターン幅検
査方法。
[Claims] The photoelectrically converted two-dimensional video signal of the circuit pattern is binarized into the background image and the circuit pattern at a predetermined threshold level to form the entire binarized image, and then the above two The change point between the background image and the circuit pattern is detected from the value image, the X and Y coordinates of the change point and the change point image are formed, and the next change point fc is detected.
X. All pixels located on a circumference of a predetermined radius with Y) as the center and pixels where the change point image overlaps are set to logic level "1" or 0, and pixels on the circumference that do not overlap are set to the logic level "1" or 0. The inverse logic of the overlapping pixels is extracted, and then the extracted logic signals are sequentially extracted from any position on the circumference in a constant rotation direction, and the number of times the logic level "1" and "0" transition is calculated. 1. A method for inspecting a pattern width of a circuit pattern, characterized in that the pattern width is counted and, only when the counted value exceeds a predetermined number, it is determined that the pattern width is narrower than the predetermined width and a defect has occurred.
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