JPS60173500A - Screen for x-ray photograph and manufacture thereof - Google Patents

Screen for x-ray photograph and manufacture thereof

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Publication number
JPS60173500A
JPS60173500A JP2995684A JP2995684A JPS60173500A JP S60173500 A JPS60173500 A JP S60173500A JP 2995684 A JP2995684 A JP 2995684A JP 2995684 A JP2995684 A JP 2995684A JP S60173500 A JPS60173500 A JP S60173500A
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JP
Japan
Prior art keywords
phosphor
screen
layer
partition wall
ray
Prior art date
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Pending
Application number
JP2995684A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
三浦 美喜雄
久憲 土野
文生 島田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP2995684A priority Critical patent/JPS60173500A/en
Publication of JPS60173500A publication Critical patent/JPS60173500A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

(産業上の利用分野) 本発明は医学用X線写真の直接撮影用増感スクリーン或
いは間接撮影用螢光ス+V−ン及びその製造方法に関す
る。 (従来技術) ゛ 直接抛影用増感ヌクリーン(intensifying
 acreen +一般に増感紙と呼ばれる)及び間接
撮影用螢光スクリーン(f luoremcent a
creen 、一般に螢光板と呼ばれる)は、X線によ
って螢光を発する螢光体を、X線徐影、に支障のない支
持体上に塗設し、更に形成された螢光体層を保護層で彼
覆したものである。 増感紙は撮影0て使用するXレイフィルムがフィルム支
持体の表裏に夫々感光層が塗設されCいるので夫々の感
光層に増感紙を宛かい受光効率な−上げており、螢光板
においてはXね遮断のためにカメラ側に鉛入りガラスを
設けている。 前記増感紙及び螢光板(以後一括1−てスクリーンと称
す)共にX線が人体等の被写体を通過し強弱のパターン
を有する画像X線束と7.「す、該画像X線束が螢光体
層の螢光体粒子を刺戟して螢光を ′生じて画像螢光束
となり、該画像螢光束にXレイフィルムが感光し砂画像
を形成する仲介をするものである。 前述のような構造の従来のスクリーンにおいては、螢光
体層中の螢光体粒子面によるイラジェーション及び保饅
層、支持体等の層界面におけるハレーション尋によって
スクリーン内で螢光が比較的太きく広がってしまい、X
レイフィルム上に生成する画像の鮮鋭度、゛コントラス
トが低下する。 イラジェーション及びハレーション等の光散乱による弊
害に対しては、特開昭55−67700号に螢光を吸収
または反射する多数の隔壁部材を交差させて作った多数
の小区分室に螢光体を独立充填する方法が開示されてい
る。 上記開示方法では、螢光体の発光光の広がりを隔壁部材
で制限することによって鮮鋭性を改良しようとするもの
であるが、本発明者らの検討によると、上記開示方法に
従って製造したスクリーンでは感度低下が生じることが
明らかとなった。 また、隔壁部材の材料によっては十分な深さの小房を形
成することが困難であるため、小房を深くすることによ
って螢光体層を厚くし1感度を上げるという手段を取る
ことができるという欠点な(発明の目的) 本発明の第1の目的は、感度低下をおこすことなく鮮鋭
性のよい螢光体層面の螢光画像及びXレイフィ、ルム面
の銭若しくは色素画像を与えるスクリーンを提供するこ
とである。 また第2の目的は、隔壁部材によるハニカム構造をもつ
スクリーンにおいて、隔壁部材を形成するための材料の
制約を受けることのないスクIJ−ンな提供することで
ある。 更に第3の目的は、上記目的を満足するスクリーンの製
造方法を提供することである。 (発明の構成) 前記した発明の目的は、 (1)隔壁部材によって区切られた多数個の小房から成
るハニカム(honey comb ) 構造の各小房
に螢光体が充填されて構成される螢光体層をイ〕するX
線写真用スクリーンにおいて、該螢光体層が希土類系螢
光体より成る層であることを特徴とするX線写真用スク
リーン、及(2)隔壁部材υ(−よっ−C区すJられた
多数個の小房から成るハニカム(k+ol+ey co
mb ) 構造の各小房な螢光体で充填L 4i#成す
る螢光体層を有するX線写工賃用スクリーンの製造方法
において、該螢光体に希土類系螢光体を用いることを特
徴とするX線写真用スクリーンの製造方法によって満足
させられる。 以下、本発明の詳細な説明する。第1図及び第2図は、
本発明のスクリーンの1つの実施態様を示すものである
。10は螢光体支持基板、11ヲま保護ノー、12は厚
みwl、容積hlX d、 Xd、の小房を作る隔壁部
材である。隔壁部材12は第2図に示すように多数の隔
壁部材が接合して多数の小房を形成する構造になってい
る。小房13の形態は第2図に示されるような形状に限
定されるものではなく、詔3図に示されるような円形で
も良いし、六角その他いか1.cる形状でも良い。また
小房13の配置も第2図に示されるような配置に限定さ
れるものではなく、第3図に示されるもうな配置でも良
いし一小房に分割されていれば他のいかなる配置でもよ
い。 この小房にはそれぞれ希土類系螢光体14が充填され螢
光体層15が形成される。 また、基板】0は螢光体の発光光と透過吸収または反射
するもの等いかなるものでも材料として使用されるが、
発光光を反射する材料の方が感旺が上昇しより好ましい
。なお、基板JOを発光光に対して吸収もしくは反射性
とするためには、この基板10そのものがこれ等の性質
を有していなくとも良く、基板表面に発光光吸収層或い
は発光光反射層を塗布或いは蒸着等の方法で形成しても
良い。 前記隔壁部材12で形成される小房13の壁面は発光光
に対して吸収性もしくは反射性を有していてもよく、隔
壁部拐の基材自身がこれ等の性質を有してなくとも、小
房壁面に発光光吸収層或いは発光光反射層を塗布或いは
蒸着停の方法で形成しても良い。 また、隔壁部材12としてX緑吸収のよい物質、特に金
属或いはこれらの合金若しくはメッキ等によって得られ
るさらに金属の積層構造物等のX線吸収に都合よく整え
られた整合金属を用いる場合には、物体中で散乱された
散乱X線は、隔壁部材]2により吸収され、散乱X線を
少なくすることができ、従って散乱Xね除去用のグリッ
ドを用いる必要がなくなり、X腺撮影が容易となる。 このような構成のスクリーンにおいて、螢光体14の発
光光は、螢光体粒子による散乱等により、あらゆる方向
に向って進むが、隔壁部材12に向った発光光は隔壁部
材12の壁面に与えた物理光学的特性によって吸収もし
くは反射されろ。同様にまた基板】0に向った発光光は
基板によって吸収もしくは反射される。 従って、スクリーンの一点に照射されたX線による螢光
体の発光光の広がりは制限され、且つ希土類系螢光体の
発光効率が島いことにより感度低下をおこすことなく鮮
鋭性の良い放射線画像が得られる。 螢光体が充填される小房の寸法d、+tl11hl は
、スクリーンシステムに要求される画質を設定すればほ
ぼその規模を法定される。 即ち、その目安としては、d、 、d、を10μm〜6
00I’m N隔壁の厚み幅W、を10〜300ttm
とし、深さり。 (即ち、ハニカム構造を構成する隔壁部材の素材として
用いられる材料板の厚さ)は30#m〜1000μm程
度とすれば製作、性能の両面について均衡のとれた、そ
して螢光体を用いた従来のスクリーンに比べて性能の向
上したものが得られる。 尚、本発明のスクリーンは第4図に示すように螢光体を
隔壁部材12より高くして、外観上螢光体が均一に形成
されているようになった場合でも隔壁からの高さh2が
小さければ第1図のように隔壁り面と螢光体の表面が同
一になっている場合にくらべて画質はや反省るが第1図
の弱含に近い画質向上効果が得られる。また第5図に示
すように隔壁上面に対して螢光体の表面が低い場合につ
いても第1図の場合と同様に画質向上効果が得られる。 更に、第6図に示すように隔壁部材が螢光体層中に包含
されるようになった場合でも第4図と同様の画質向上効
果が得られる。 本発明のスクリーンの螢光体支持基板lOに用いしれる
材料としては例えば各UK分子材料、ガラス、クール、
コツトン、紙、金属などの1重々の素材から作られたも
のが使用され得るが、上記のものに限定されるもので(
jない。また、螢光体支持基板jOは1釉類の材料に限
定する心安はなく、2釉類以上の材料から成っていても
よい。これらの螢光体支持基板10は螢光体層をより強
固νこ保持する目的で、螢光体に接する面に螢光体に接
着性のある下塗り層をイイし−Cもよい。 隔壁部材と[2て用いられる材料としては、例えば発光
光に不透明な顔料若しくは染料を含1する各種高分子材
料、ガラス、セラミック、金属等が挙げられイ)。金属
としては、単体としての金属はもちろん、合金、即ち1
種の金属と1種もしくはそれ以上の金属または非金属と
が融合混和したものであってもよい。また、隔壁部材は
メツΦ尋の表面処理をし、ても良いし、2種以上の材料
により層を形成しても良いが、加工性1価格吟を考慮し
た場合Fe−C系合金1さらにX線の散乱線除去効果を
考慮した場合にはpbが好ましい。しかしながら、本発
明に係るスクリーンに用いられる隔壁部材の材料として
は、上述の材料に限られるものではない。 本発明のスクリーンに用いられる希土類系螢光体として
は、Y20J : Tb % Gd201S : Tb
 % La101B :’rb % (Y + Gd)
1028 ”、 Tb z (Y + Gd )102
8 : ’rb +Tm %Y102S : Eu N
 Gd2028 : Eu z (Y +’ Gd )
tows : Eu %Y、O,:Eu % Gd、0
1 :Eu s、 (YtGd)20. :Eu % 
YVO4:Eu % ypo4: ’rb % GdP
O4: Tb N LaPO4: Tb % YPO4
:Eu −s La0Br :Tb 5LaOBr :
Tb+Tms La0Br :Tm5LaOC4! :
Tb −I La0Cl:Tb+Tms La0(J 
:Tms La0Br :Ce 、 La0(J:Ca
、 Gd0Br:TbXGaocl:’rbMBaSO
4: Eu”、(Ba、Sr )804 : Eu″+
、Bmg(PO4)琶2+ Eu” +、BaFCA’:Eu −I BaFBr:
Eu z BaFCl:Eu 。 Tb % BaFBr : Eu t Tb % Ba
F、 + BaC6R,KCI : Eu −5BaF
1 t BaCl21 BaSO4j KCl: Eu
”、(Ba+Mg)Ft 1Ba(Jt + KCl:
 Eu” % (Ba+Sr )s(PO4)g :E
u”+等のX線用螢光体があげられる。 使用する螢光体の平均粒子径は、螢光体の感度や粒状性
を考慮して、平均粒子径0.1〜100111n z好
ましくは1〜30μmのものが用いられる。ただし、隔
壁部材により形成される小房よりも大きな粒径のものは
好ましくない。 本発明のスクリーンにおいて、一般的には上述の螢光体
は適当な結着剤中に分散され、小房に充填される。結着
剤としては、例えばゼラチンの如き蛋白質、デキストラ
ンの如きポリサッカライド又はアラビアゴム、ポリビニ
ルブチラール、ポリ酢酸ビニル、ニトロヒルロース、エ
チルセル【】−ス、塩化ビニリデン−地化ビニルコポリ
マー、ポリメチルメタクリレ−)、m化ビニル−酢酸ビ
ニルコポリマー、ポリウレタン、セルロースアセテート
フチレート、ポリビニルアルコール等のような通常層形
成に用いられる結合剤が使用されろ。 一般に結合剤は螢光体1重景部に対して0.01乃至1
重b(部の範囲で使用される。しかしながら得られるス
クリーン感度と鮮鋭度の点では結合剤は少t
(Field of Industrial Application) The present invention relates to an intensifying screen for direct imaging or a fluorescent screen for indirect imaging of medical X-ray photography, and a method for manufacturing the same. (Prior art) Intensifying Nuclean for direct imaging
(commonly called intensifying screen) and fluorescent screen for indirect photography (fluorescent screen)
A phosphor plate (generally called a phosphor plate) is made by coating a phosphor that emits fluorescence with X-rays on a support that does not interfere with X-ray shadowing, and then coating the formed phosphor layer with a protective layer. That's what he overturned. The X-ray film used for photography has photosensitive layers coated on the front and back sides of the film support, so the intensifying screen is applied to each photosensitive layer to increase the light receiving efficiency, and the fluorescent plate In order to block X radiation, a leaded glass is installed on the camera side. 7. The intensifying screen and the fluorescent plate (hereinafter collectively referred to as the screen) produce an image X-ray flux having a pattern of intensity when X-rays pass through a subject such as a human body. ``The image X-ray flux stimulates the phosphor particles in the phosphor layer and generates fluorescence to become an image fluorescence flux, and the X-ray film is exposed to the image fluorescence flux to act as an intermediary to form a sand image. In the conventional screen having the above-mentioned structure, the irradiation caused by the phosphor particle surface in the phosphor layer and the halation at the layer interfaces of the insulating layer, the support, etc. The fluorescent light spreads out relatively thickly, causing
The sharpness and contrast of images produced on the ray film are reduced. To prevent harmful effects caused by light scattering such as irradiation and halation, Japanese Patent Application Laid-Open No. 55-67700 discloses that a fluorescent substance is installed in a large number of small compartments made by intersecting a large number of partition members that absorb or reflect fluorescent light. A method of independent filling is disclosed. The disclosed method attempts to improve sharpness by restricting the spread of light emitted by the phosphor using a partition member, but according to studies by the present inventors, the screen manufactured according to the disclosed method does not It became clear that a decrease in sensitivity occurred. In addition, since it is difficult to form lobules of sufficient depth depending on the material of the partition wall member, it is possible to take measures to increase the sensitivity by making the lumen deeper and thickening the phosphor layer. The first object of the present invention is to provide a screen that can produce a fluorescent image on the phosphor layer surface and an X-ray image or a dye image on the lumen surface with good sharpness without causing a decrease in sensitivity. It is to provide. A second object of the present invention is to provide a screen having a honeycomb structure of partition members, which is free from restrictions on the materials used to form the partition members. Furthermore, a third object is to provide a method for manufacturing a screen that satisfies the above objects. (Structure of the Invention) The objects of the invention described above are as follows: (1) A honeycomb structure consisting of a large number of lobes separated by partition members, each of which is filled with a fluorescent material. X to make the light layer
An X-ray photographic screen characterized in that the phosphor layer is a layer made of a rare earth phosphor, and (2) a partition wall member υ (- Honeycomb consisting of many locules (k+ol+ey co
mb) A method for manufacturing an X-ray photography screen having a phosphor layer filled with fluorophores each having a structure, characterized in that a rare earth phosphor is used as the phosphor. The present invention is satisfied by a method for manufacturing an X-ray photographic screen. The present invention will be explained in detail below. Figures 1 and 2 are
1 shows one embodiment of the screen of the present invention. 10 is a fluorescent support substrate, 11 is a protective plate, and 12 is a partition member for forming a cell having a thickness wl and a volume hlXd, Xd. As shown in FIG. 2, the partition wall member 12 has a structure in which a large number of partition wall members are joined to form a large number of cells. The shape of the small chamber 13 is not limited to the shape shown in FIG. 2, but may be circular as shown in FIG. It may also have a curved shape. Furthermore, the arrangement of the locules 13 is not limited to the arrangement shown in FIG. 2, but may be another arrangement as shown in FIG. 3, or any other arrangement as long as it is divided into one locule. good. Each of these cells is filled with a rare earth phosphor 14 to form a phosphor layer 15. In addition, the substrate 0 can be any material that transmits, absorbs, or reflects the emitted light of the phosphor.
A material that reflects emitted light is more preferable because it increases the sensitivity. Note that in order to make the substrate JO absorbing or reflecting emitted light, the substrate 10 itself does not need to have these properties, and a emitted light absorbing layer or an emitted light reflecting layer may be provided on the surface of the substrate. It may be formed by a method such as coating or vapor deposition. The wall surface of the cell 13 formed by the partition wall member 12 may have absorbency or reflectivity for emitted light, and even if the base material of the partition wall itself does not have these properties. Alternatively, an emitted light absorbing layer or an emitted light reflecting layer may be formed on the wall surface of the cell by coating or vapor deposition. In addition, when a material with good X-ray absorption is used as the partition member 12, in particular, a metal or a matched metal suitably arranged for X-ray absorption, such as a laminated structure of metals obtained by metals, alloys thereof, plating, etc., is used. Scattered X-rays scattered in the object are absorbed by the partition wall member] 2, and the amount of scattered X-rays can be reduced. Therefore, there is no need to use a grid for removing scattered X-rays, and X-ray imaging becomes easier. . In the screen having such a configuration, the emitted light from the phosphor 14 travels in all directions due to scattering by the phosphor particles, but the emitted light directed toward the partition member 12 is not applied to the wall surface of the partition member 12. be absorbed or reflected by physical-optical properties. Similarly, the emitted light directed toward the substrate 0 is absorbed or reflected by the substrate. Therefore, the spread of the light emitted by the phosphor due to the X-rays irradiated to one point on the screen is limited, and a radiographic image with good sharpness can be obtained without reducing sensitivity due to the low luminous efficiency of the rare earth phosphor. is obtained. The dimensions d, +tl11hl of the lumen filled with the phosphor are determined approximately by the size determined by setting the image quality required for the screen system. That is, as a guideline, d, , d is 10 μm to 6
00I'm N The thickness width W of the partition wall is 10 to 300ttm
and depth. (In other words, the thickness of the material plate used as the material for the partition wall members constituting the honeycomb structure) is set to about 30 #m to 1000 μm, which is balanced in terms of both production and performance, and compared to the conventional method using phosphors. This provides improved performance compared to other screens. As shown in FIG. 4, in the screen of the present invention, even if the phosphor is made higher than the partition wall member 12 and the phosphor is formed uniformly in appearance, the height from the partition wall h2 If is small, the image quality will be slightly lower than that in the case where the partition wall surface and the phosphor surface are the same as shown in FIG. 1, but an image quality improvement effect close to that of FIG. 1 will be obtained. Further, even when the surface of the phosphor is lower than the upper surface of the partition wall as shown in FIG. 5, the same effect of improving image quality as in the case of FIG. 1 can be obtained. Furthermore, even when the partition wall member is included in the phosphor layer as shown in FIG. 6, the same image quality improvement effect as shown in FIG. 4 can be obtained. Examples of materials that can be used for the phosphor support substrate IO of the screen of the present invention include various UK molecular materials, glass, cool,
Items made from a single layer of material such as cotton, paper, or metal may be used, but are limited to those listed above (
jNo. Furthermore, the phosphor support substrate jO need not be limited to one type of glaze material, but may be made of two or more glaze types. These phosphor support substrates 10 may have an undercoat layer adhesive to the phosphor on the surface in contact with the phosphor in order to more firmly hold the phosphor layer. Examples of materials used for the partition members include various polymeric materials containing pigments or dyes that are opaque to emitted light, glass, ceramics, metals, etc. Metals include not only single metals but also alloys, that is, 1
It may also be a mixture of a seed metal and one or more metals or non-metals. In addition, the partition wall member may be surface-treated to a depth of Φ, or a layer may be formed of two or more materials, but in consideration of workability, price, Fe-C alloy, When considering the effect of removing scattered X-rays, pb is preferable. However, the material of the partition member used in the screen according to the present invention is not limited to the above-mentioned materials. Rare earth phosphors used in the screen of the present invention include Y20J: Tb% Gd201S: Tb
% La101B :'rb % (Y + Gd)
1028”, Tb z (Y + Gd) 102
8: 'rb +Tm %Y102S: Eu N
Gd2028: Eu z (Y +' Gd)
tows: Eu %Y, O,: Eu % Gd, 0
1:Eus, (YtGd)20. :Eu%
YVO4: Eu% ypo4: 'rb% GdP
O4: TbN LaPO4: Tb% YPO4
:Eu-s La0Br :Tb5LaOBr :
Tb+Tms La0Br :Tm5LaOC4! :
Tb-I La0Cl: Tb+Tms La0(J
:Tms La0Br :Ce, La0(J:Ca
, Gd0Br:TbXGaocl:'rbMBaSO
4: Eu'', (Ba, Sr) 804: Eu''+
, Bmg(PO4)琶2+Eu"+,BaFCA':Eu-I BaFBr:
EuzBaFCl:Eu. Tb % BaFBr: Eu t Tb % Ba
F, + BaC6R, KCI: Eu-5BaF
1 t BaCl21 BaSO4j KCl: Eu
”, (Ba+Mg)Ft 1Ba(Jt + KCl:
Eu”% (Ba+Sr)s(PO4)g :E
The average particle size of the phosphor used is preferably 0.1 to 100111nz, taking into consideration the sensitivity and granularity of the phosphor. A particle size of 1 to 30 μm is used. However, a particle size larger than the lobule formed by the partition member is not preferred. In the screen of the present invention, the above-mentioned phosphor is generally attached to a suitable binder. The binding agent may be a protein such as gelatin, a polysaccharide such as dextran, or gum arabic, polyvinyl butyral, polyvinyl acetate, nitrohyulose, ethyl cellulose, etc. , vinylidene chloride-vinyl dioxide copolymer, polymethyl methacrylate), vinyl mide-vinyl acetate copolymer, polyurethane, cellulose acetate phthalate, polyvinyl alcohol, etc. may be used. Generally, the amount of binder is 0.01 to 1
However, in terms of the screen sensitivity and sharpness obtained, the binder is less

【い方が好
ましく、塗布の容易さとの兼合いから0.03乃至02
重i部の範囲がより好ましい。 さらに本発明のスクリーンにおいては、一般に螢光体層
の外部に露呈する面(螢光体支持基板で材料トシテハ二
l−ロセルロース、エチルセルロース、セルロースアセ
テート、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート等
のよ5す通常(7)ffl股/G用材料が用いられる。 このような材料で形成される保賎層の膜厚は0.01〜
3ollrIL1特に1〜8μmとするのが好ましい。 本発明に係るハニカム構造をなす隔壁部材の製造方法と
して、まず整合金属板のエツチングによるfM造方法に
ついて説明する。整合金属板として例えばニッケル板の
両面に例えばシラプレー社から販売されている感光性樹
脂AZ −1350を均一に塗布する。次に光透過部分
が島状のパターンを1するマスクを上記のニッケル板の
両面に表裏のパターンが整合する保に密着させ紫外線で
露光する。 露光後この感光性樹脂を現録する。こσ)現像によって
上記の感光性樹脂の小金露光部が流される。 次にこのニッケル板を120℃で30分間ベーキングを
−だ後酸でニッケル板をエツチングすることによって隔
壁部材が形成される。 また、金祠仮の打ち抜き、炭酸ガスレーザーなどL′こ
よる穴あげなどの方法でも非常に微細な細孔をイ]−す
7+スクリーンが製造できる。 次に、母型を用いてノ・ニカムイ苛造を形成する製造方
法(型取り法)について説明する。まず、第7図のよう
に、第1図に示した螢光体支持基板と共軛の形をした母
型別を作製する。この母型はシリコン結晶材より成る平
析の表面に第1図のwl 。 h、より多少大ぎなWl l h4なる幅と深さとを有
する浦をダイヤモンド刃によって形成したものである。 次にこの母型に成形剤を流し込む。この成形剤は二酸化
チタンを顔料どして加えた白色シリコンゴム等の仕上り
後の隔壁での発光光の透過が殆んどなぐ、成形に際して
流動性が良く、離型性に優れ、且つ収縮性が少ない材料
が好ましい。成形剤が固化した後母型からこれを離型す
ることによって隔壁部材が形成される。 次に材料板を浸蝕することによって形成する製造方法に
ついてHII明する。例えば感光性樹脂根な使用した場
合には、まず光に対し不透明部分が島状のパターンなイ
」するマスクを例えば・ノーイロン系感光性樹脂(プリ
ンタイト;東洋紡績株式会社痕)の表面に幣信ざ・せ、
感光波Jぐ域250〜400 nmの波長を含む紫夕目
!aで照射すイ)。露光後にこのA&九性樹脂を現像−
!14)。この現像&(J:って上B己の感光性樹脂の
場合非露光部が6(シされ、ε(“、8図の如く隔壁部
材かが形成される。士たこの出合一般に感光性樹脂はj
h明である為、第8図に示1゛如く小房の隔壁内面に光
吸収体、若1= <は光反射体26が塗布若しくは蒸着
される。 次に本発明のスクリーンの製造方法につい′〔説明する
。まず保藤層被膜を別途形成し水平V(−おく。 次に、この保護層被膜北に、隔壁部材を密着した後、適
当な結着剤中に分散した螢光体を塗布(−1次いで支持
基板な・接着することによって製造される。 また、該製造方法の変形としては、水平に的いた螢光体
支持基根土&コ\本発φIの隔壁部材を密着し、適当な
結賠剤中に分散した螢光体を塗布した稜、保護層波膜を
形成することによって製造される。尚1第6図に示す構
成のスクリーンにおいては、螢光体支持基板上に隔壁部
材を密着する前に上記螢光体塗布液を塗布・乾燥し、次
いで隔壁部材を密着稜、螢光体塗布液を再び塗布し、保
護層を形成することによって製造される。 なお、本発明のスクリーンはfA1図に示すように、螢
光体支持基根10と本発明に係わる隔壁部材との間に螢
光体層が介在しない賜金に最も好ましい画質向上内果が
得られる。 (実施例) 以下実施例により本発明を説明する。 実施例1 別途形成した約6μmのポリエチレンテレフタレー、ト
の透明保鰻膜上に、ニッケルをエツチングして作成した
隔壁部材な置く。この部材の小房の大きさはd、 = 
d、 = 120μm z hl =190μmであり
、隔壁の厚さは最小の所でおμmであった。 次いで、平均粒径5μmのGd、O,S : Tb螢光
体8重量部及びポリビニルブチラール(結>ff剤) 
】重量部をシクロへギサノン(溶剤)を用いて混合分像
して螢光体塗布液とした。この螢光体塗布液を前記保護
膜上に螢光体塗布重信がおよそ4G wry / cr
lとなるように均一に塗布し、−昼夜放置して螢光体層
を形成し、さらにこの螢光体層上に厚さ約200μmの
ポリエチレンテl/フタレート支持体を接着し、増感紙
入を得た。 一方これとは別に、上記の隔壁部材を用いないこと以外
は上記と同様にし7て増感紙B A’得た。 また、上記の螢光体をCILWO4にしたこと以外は上
記入と同様にして増感紙Cを得た。 また、上記ニッケル製の画壁部材を用いないこと及び螢
光体をCaWO4にしたこと以外は上記と同様にして増
感、MDを得た。 次に、螢光体の螢光スペクトル範囲をカバーし。 て受光できる。l、うに」二記増感紙A及びBぞれぞれ
にオルソ、タイプX線写真フィルムを、また、上記1曽
m紙C及びDそハぞれにL/ギュラータイプXm写真フ
ィルムを密尤し、管電圧100 TCVp z ’Gl
電流電流100モA、06秒間アルミニウム製の階段上
ウェッジを介してX線を照射した後フィルム現像し鮮鋭
度及び感度を計画した。舶来を第1表に示す。尚、鮮鋭
度は空間周波D2.O本/1111におけるM1’Fで
、感度はフィルム上で光学0(及がカブリ+1.0とな
るのに要するX線証でJjs較し、j:I感紙りを10
0とする相対値で示す。 第 1 表 上記第1表より、増感紙Bと増感紙りの比較から明らか
なように単に希土類系螢光体を使用するだけでは感朋は
上昇するものの鮮鋭度は向上せず、また増感紙Cと増感
紙りとの比較からハニカム構造をとることで感度低下す
ることは明らがである。 しかるに、本発明に係る増感紙は従来のハニカム構造の
増感紙(増感紙C)に比べ感度が大幅に上昇し且つ鮮鋭
性が改良されており、ハニカム構造であるから感度低下
しない画期的なものである。 実施例2 pb合金箔(pb 95 es、Si20係−)の表面
にホトレジスト 化学エツチングを行なって作成した隔壁部材を200 
Am J♀のポリエチレンテレフタ【/−ト支持体上に
uぐ。この部材の小房の大きさはd, = d, 08
04m111h1=120μmルで隔壁の厚さはWl 
=加μmであった。 次いで平均粒径4,5μmの( Y O. 5+ Gd
 O.5 ) tols :’rb螢光螢光体8ト五1
びポリビニルブチラール7重鼠1(i ヲシクロへギサ
ノンを用いて混合分散して螢光体塗布液とし、前記支持
体上に螢光体塗布型■がおよそ30 try / cH
lとなるように塗布し乾燥した後、厚さ約6μ7nの保
穫層を設けて増感紙Eを得る。 一方これどは別に、螢光体をCaWO4 K L= %
螢光体塗布重量を60’ rv / ctltとなるよ
lζした以外は上記と同様にして増感紙Fを得た。 次に上記+g感紙Eには、オルソタイプX綜写文フィル
ムを幣信し、僧感J7E Fには1/ギユラータイプX
υ写貝フイルムを密般し、管電圧90 KVp %管′
Id流100mAで0.10秒間X綜を照射した後フィ
ルムを現像し、鮮鋭度及び感要を評価した。結果をシ1
2表に示す。第2表では、鮮鋭度は空間周波数2.0本
/關におけるM T F値で、感度は増感紙Fを300
とする相対値で示す。 給2表 上記第2表より明らかなように、本発明に係るj匈感紙
は感度低下することなく大幅に鮮鋭性が向上することが
わかる。
[0.03 to 0.02 is preferable, considering the ease of application.
The range of heavy i parts is more preferable. Furthermore, in the screen of the present invention, the externally exposed surface of the phosphor layer (phosphor support substrate) is generally made of a material such as dichlorocellulose, ethylcellulose, cellulose acetate, polyester, polyethylene terephthalate, etc. 7) FFL crotch/G material is used. The thickness of the protective layer formed from such material is 0.01~
3ollrIL1 is particularly preferably 1 to 8 μm. As a method for manufacturing a partition wall member having a honeycomb structure according to the present invention, an fM manufacturing method by etching matching metal plates will be described first. For example, a photosensitive resin AZ-1350 sold by Silaplay Co., Ltd., is uniformly coated on both sides of a nickel plate as a matching metal plate. Next, a mask having an island-like pattern in the light-transmitting portion is brought into close contact with both surfaces of the nickel plate so that the front and back patterns are aligned, and exposed to ultraviolet light. After exposure, this photosensitive resin is printed. σ) The exposed areas of the photosensitive resin are washed away by development. Next, the nickel plate is baked at 120 DEG C. for 30 minutes, and then the nickel plate is etched with acid to form a partition wall member. In addition, a screen with very fine pores can be produced by methods such as temporary punching of gold or drilling holes using a carbon dioxide laser. Next, a manufacturing method (molding method) for forming a No Nikamui structure using a matrix will be explained. First, as shown in FIG. 7, a matrix having the same shape as the phosphor support substrate shown in FIG. 1 is prepared. This matrix is made of silicon crystal material and has a flat surface as shown in FIG. A ura with a width and depth of Wl l h4, which is slightly larger than h, is formed by a diamond blade. Next, a molding agent is poured into this mold. This molding agent is made of white silicone rubber containing titanium dioxide as a pigment, and after finishing, almost no emitted light passes through the partition walls, has good fluidity during molding, has excellent mold releasability, and has good shrinkage. A material with a small amount of After the molding agent has solidified, it is released from the matrix to form a partition member. Next, a manufacturing method in which a material plate is formed by erosion will be explained. For example, when using a photosensitive resin, first apply a mask with an island-like pattern on the opaque part to the light. Believe me,
Violet evening eyes that include wavelengths in the photosensitive wave range 250-400 nm! Irradiate with a). After exposure, develop this A&9 resin.
! 14). In the case of the photosensitive resin, the non-exposed area is 6 (6) and the partition wall member is formed as shown in Figure 8. haj
Since the light is bright, a light absorber or a light reflector 26 is coated or deposited on the inner surface of the partition wall of the locule as shown in FIG. Next, the method for manufacturing the screen of the present invention will be explained. First, a Hoto layer film is formed separately and placed in a horizontal V (-1).Next, after adhering the partition member to the north of this protective layer film, a phosphor dispersed in a suitable binder is applied (-1 and then It is manufactured by adhering the supporting substrate.Also, as a variation of this manufacturing method, the partition wall member of the phosphor supporting base & Co/Main φI is closely attached horizontally, and an appropriate binder is applied. It is manufactured by forming a protective layer wave film on the edge coated with a phosphor dispersed in an agent.In the screen having the configuration shown in Fig. 6, the partition member is tightly attached to the phosphor support substrate. The screen of the present invention is manufactured by applying and drying the above-mentioned phosphor coating liquid before applying the phosphor coating liquid, and then applying the phosphor coating liquid again to the partition wall member on the adhesion edge to form a protective layer. As shown in FIG. The present invention will be explained with examples.Example 1 A partition member made by etching nickel is placed on a transparent protective film of polyethylene terephthalate with a thickness of about 6 μm which was formed separately.The size of the locule of this member is d, =
d, = 120 μm, z hl = 190 μm, and the thickness of the partition wall was approximately 1 μm at its minimum. Next, 8 parts by weight of a Gd, O, S: Tb phosphor with an average particle size of 5 μm and polyvinyl butyral (resistance>ff agent) were added.
] Parts by weight were mixed and separated using cyclohegisanone (solvent) to prepare a phosphor coating solution. The phosphor coating solution was coated on the protective film at a rate of approximately 4G wry/cr.
A phosphor layer is formed by coating the phosphor layer uniformly so as to give a thickness of 200 μm, and leaving it to stand day and night.Furthermore, a polyethylene tere/phthalate support with a thickness of about 200 μm is adhered to the phosphor layer, and an intensifying screen is formed. I got admission. Separately, an intensifying screen B A' was obtained in the same manner as described above except that the partition wall member described above was not used. Further, an intensifying screen C was obtained in the same manner as described above except that CILWO4 was used as the phosphor. In addition, sensitization and MD were obtained in the same manner as above except that the nickel wall member was not used and CaWO4 was used as the phosphor. Next, we cover the fluorescent spectral range of the phosphor. can receive light. 1, Sea urchin'' 2 Intensifying screens A and B were each covered with ortho and type X-ray photographic films, and each of the above 1sm papers C and D was covered with L/Gular type Xm photographic film. However, the tube voltage is 100 TCVp z 'Gl
After irradiating the film with X-rays at a current of 100 mA for 06 seconds through an aluminum step wedge, the film was developed to determine sharpness and sensitivity. Table 1 shows imported products. Note that the sharpness is determined by the spatial frequency D2. At M1'F in O book/1111, the sensitivity is compared with Jjs on the X-ray certificate required to achieve optical 0 (and fog +1.0) on the film, and j:I photosensitive paper is 10
It is shown as a relative value with 0. Table 1 From Table 1 above, it is clear from the comparison between intensifying screen B and intensifying screen that merely using a rare earth phosphor increases sensitivity but does not improve sharpness. From a comparison between intensifying screen C and intensifying screen R, it is clear that the honeycomb structure lowers the sensitivity. However, the intensifying screen according to the present invention has significantly increased sensitivity and improved sharpness compared to the conventional intensifying screen with a honeycomb structure (intensifying screen C), and because it has a honeycomb structure, it can produce images without decreasing sensitivity. It is temporary. Example 2 A partition wall member made by chemically etching photoresist on the surface of PB alloy foil (PB 95 ES, Si 20) was
Polyethylene terephthalate of Am J♀ is placed on a support. The size of the locule of this member is d, = d, 08
04m111h1=120μm and the thickness of the partition wall is Wl
= additional μm. Then, (YO. 5+ Gd) with an average particle size of 4.5 μm
O. 5) tols: 'rb fluorescent fluorescent material 8 to 5 1
Mix and disperse polyvinyl butyral heptadone and polyvinyl butyral 1 (i) using cyclohegisanone to prepare a phosphor coating solution, and coat the phosphor coating solution on the support at a rate of approximately 30 tries/cH.
After coating and drying, a protective layer with a thickness of about 6μ7n was provided to obtain an intensifying screen E. On the other hand, apart from this, the phosphor is CaWO4 K L=%
An intensifying screen F was obtained in the same manner as above except that the weight of the phosphor coating was changed to 60' rv/ctlt. Next, for the above +g paper E, I used Orthotype
υShakai film is used closely, tube voltage 90 KVp% tube'
After irradiating the film with an X-head for 0.10 seconds at an Id current of 100 mA, the film was developed and evaluated for sharpness and sensitivity. The result is 1
It is shown in Table 2. In Table 2, the sharpness is the MTF value at a spatial frequency of 2.0 lines/angle, and the sensitivity is the intensifying screen F at 300
It is expressed as a relative value. Table 2 As is clear from Table 2 above, it can be seen that the sharpness of the photosensitive paper according to the present invention is significantly improved without decreasing the sensitivity.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の増感紙の実施例な示す断面図、第2図
は第1図の平面図、菌3図は本発明の他の5AM例を示
す平面図、第4図、第5図及び2116図は本発明の池
の実施例な示す断面図。第7図は第1図のスクリーンの
製造に使用する母型の1417面図。第8図は感光性樹
脂を使用して作成した螢光体層基板の断面図である。 10・・・・・・螢光体支持基板 11・・・・・・保
睦層12・・・・・・隔壁部材 14・・・・・・螢光
体15・・・・・・螢光体層 代理人 弁理士 野 口1 義 親 第1図 第2図 第3図 第4図 112 第5R1
Fig. 1 is a sectional view showing an embodiment of the intensifying screen of the present invention, Fig. 2 is a plan view of Fig. 1, Fig. 3 is a plan view showing another 5AM example of the invention, Figs. 5 and 2116 are cross-sectional views showing embodiments of the pond of the present invention. FIG. 7 is a 1417-sided view of the matrix used for manufacturing the screen shown in FIG. 1. FIG. 8 is a cross-sectional view of a phosphor layer substrate made using a photosensitive resin. DESCRIPTION OF SYMBOLS 10... Fluorescent material support substrate 11... Mutual protection layer 12... Partition member 14... Fluorescent material 15... Fluorescence Representative Patent Attorney Noguchi 1 Parent-in-law Figure 1 Figure 2 Figure 3 Figure 4 112 5R1

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)隔壁部材によって区切られた多数個の小房から成
るハニカム(honeycomb)構造の各小房に螢光
体が充填されて構成される螢光体層を有するX線写真用
スクリーンにおいて、該螢光体層が希土類系螢光体より
成る層であることを特徴とするX線写真用スクリーン。
(1) An X-ray photographic screen having a phosphor layer formed by filling each lobule with a phosphor in a honeycomb structure consisting of a large number of lobes separated by partition members. An X-ray photographic screen characterized in that the phosphor layer is a layer made of a rare earth phosphor.
(2) 隔壁部材によって区切られた多数個の小房から
成るハニカム構造の各小房な螢光体で充填して構成する
螢光体層を有するX線写真用スクリーンの製造方法にお
いて、前記螢光体、に希土類系螢光体を用いることを特
徴とするX線写真用スクリーンの製造方法。
(2) A method for manufacturing an X-ray photographic screen having a phosphor layer formed by filling each lobule of a honeycomb structure with a phosphor in a honeycomb structure consisting of a large number of lobes separated by partition members, wherein A method for manufacturing an X-ray photographic screen, characterized in that a rare earth phosphor is used as a light body.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63225200A (en) * 1987-03-14 1988-09-20 株式会社 堀場製作所 Fluorescent screen for x-ray photographing
JP2017214265A (en) * 2016-06-02 2017-12-07 日本碍子株式会社 Porous ceramic structure

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5525411A (en) * 1978-08-11 1980-02-23 Asahi Glass Co Ltd Curable fluorine-containing copolymer and its preparation
JPS5567700A (en) * 1978-11-16 1980-05-21 Canon Kk X rayyvisible ray converter * and manufacture therefor
JPS5618799A (en) * 1979-07-25 1981-02-21 Canon Kk Method of making fluorescence screen for xxray
JPS58160952A (en) * 1982-03-19 1983-09-24 Toshiba Corp Intensifying screen system

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5525411A (en) * 1978-08-11 1980-02-23 Asahi Glass Co Ltd Curable fluorine-containing copolymer and its preparation
JPS5567700A (en) * 1978-11-16 1980-05-21 Canon Kk X rayyvisible ray converter * and manufacture therefor
JPS5618799A (en) * 1979-07-25 1981-02-21 Canon Kk Method of making fluorescence screen for xxray
JPS58160952A (en) * 1982-03-19 1983-09-24 Toshiba Corp Intensifying screen system

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63225200A (en) * 1987-03-14 1988-09-20 株式会社 堀場製作所 Fluorescent screen for x-ray photographing
JP2017214265A (en) * 2016-06-02 2017-12-07 日本碍子株式会社 Porous ceramic structure

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