JPS60160098A - Programming voltage generation circuit - Google Patents
Programming voltage generation circuitInfo
- Publication number
- JPS60160098A JPS60160098A JP60010710A JP1071085A JPS60160098A JP S60160098 A JPS60160098 A JP S60160098A JP 60010710 A JP60010710 A JP 60010710A JP 1071085 A JP1071085 A JP 1071085A JP S60160098 A JPS60160098 A JP S60160098A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transistor
- programming voltage
- transistors
- capacitor
- circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C17/00—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
- G11C16/10—Programming or data input circuits
- G11C16/12—Programming voltage switching circuits
Landscapes
- Read Only Memory (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は(漂遊)キャパシタンスによって橋絡されるプ
ログラムすべきメモリ段に充電抵抗を介して接続される
電圧源を具えている消去可能プログラマブル読取り専用
メモリ(EPROM、 EEPROM)に対するプログ
ラミング電圧用回路に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The invention relates to an erasable programmable read-only memory (EPROM, EEPROM) comprising a voltage source connected via a charging resistor to a memory stage to be programmed which is bridged by a (stray) capacitance. The programming voltage circuit for
EFROM (消去可能プログラマブル読取り専用メモ
リ)及びI!EPROM (電気的消去可能プログラマ
ブル読取り専用メモリ)タイプの不揮発性プログラマブ
ルメモリの使用は最近非常に高まってきた。EFROM (Erasable Programmable Read Only Memory) and I! The use of non-volatile programmable memories of the EPROM (Electrically Erasable Programmable Read Only Memory) type has increased significantly in recent times.
その理由は、これらメモリはプログラミング及び消去が
簡単で、しかも電気計算機又はマイクロプロセッサのメ
モリユニットの更新プログラミングも容易であると云う
利点があり、従って新規°プログラムの入力についての
融通性が実質工高められるからである。斯種のHEPR
OM又はE1!PROMは通常、コン9ユータ又はマイ
クロプロセッサの一部を成す他の算術ユニット及び制御
ユニットと一緒に半導体本体に屡々集積化せしめる。This is because these memories have the advantage of being easy to program and erase, as well as easy to update programming of the memory units of electrical computers or microprocessors, thus increasing the flexibility of inputting new programs. This is because it will be done. This kind of HEPR
OM or E1! PROMs are typically integrated into semiconductor bodies, often along with other arithmetic and control units that form part of a computer or microprocessor.
EPROM又はHEPROMのプログラミングには通常
半導体本体における他の半導体素子の作動電圧よりも1
かに高い作動電圧、即ちEPROM又はI!llROM
を構成する半導体領域に逆向きに作動する(接合降服)
半導体接合の降服電圧よりもごく僅かだけ低い電圧が必
要とされる。Programming an EPROM or HEPROM typically requires a voltage 1 higher than the operating voltage of other semiconductor devices in the semiconductor body.
very high operating voltage, i.e. EPROM or I! llROM
(junction yield)
A voltage only slightly lower than the breakdown voltage of the semiconductor junction is required.
しかし、llPROM及びEl!FROMは高いプログ
ラミング電圧を必要とするだけでなく、このようなプロ
グラミング電圧をこれらのメモリに高速度で供給するた
めに、EPROt4及びHEPROMは故障し易いこと
を確かめた。増大するプログラミング電圧の縁部が過度
に急峻となると、(B) EPROMメモリセルのイン
ジェクターオキサイド(injector−oxide
)にピーク電流が発生するために、(1りIIPRO?
lメモリセルのサービス・ライフ(再プログラミング操
作可能な数)に悪影響が及ぶ。However, llPROM and El! Not only do FROMs require high programming voltages, but we have found that EPROt4 and HEPROMs are prone to failure due to the high speed with which such programming voltages are applied to these memories. If the edges of the increasing programming voltage become too steep, (B) the injector-oxide
), a peak current occurs at (1 or IIPRO?).
l The service life (number of available reprogramming operations) of memory cells is adversely affected.
斯様な問題の解決策として、プログラムすべきメモリ段
を例えば10009Pのような相当大きなコンデンサに
よって橋絡されることが考えられるが、このように高容
量のコンデンサを半導体本体に形成するのは相当大きな
半導体表面積を必要とし、このことは勿論不所望なこと
である。他の解決策として、電圧源とメモリ段との間の
充電回路に例えばソースホロワのような電圧ホロワを結
線して、この電圧ホロワのゲートを非常に小さなコンデ
ンサ(例えば10pF)を介して接地する方法もある。A possible solution to this problem is to bridge the memory stage to be programmed with a fairly large capacitor, for example 10009P, but it is quite difficult to form such a high capacitance capacitor in the semiconductor body. A large semiconductor surface area is required, which is of course undesirable. Another solution is to wire a voltage follower, e.g. a source follower, to the charging circuit between the voltage source and the memory stage and ground the gate of this voltage follower via a very small capacitor (e.g. 10 pF). There is also.
しかし、斯かるソースホロワのドレインとソースとの間
の電圧損失のために有効プログラミング電圧が低減して
しまい、しかもプログラミング速度が実際上例えば1/
100以下に低下してしまう。However, the voltage loss between the drain and source of such a source follower reduces the effective programming voltage, and furthermore, the programming speed may be reduced by a factor of, for example,
It will drop below 100.
本1発明の目的はプログラミング電圧の立上り時間を安
全限度内に維持し得るようにして、前述した諸欠点をな
くすように適切に接続配置した上述した種類のプログラ
ミング電圧発生用回路を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a circuit for generating a programming voltage of the type described above, which is suitably connected and arranged so as to be able to maintain the rise time of the programming voltage within safe limits and to eliminate the disadvantages mentioned above. be.
本発明による回路は、前記(漂遊)キャパシタンスによ
って橋絡されるメモリ段の充電回路に並列に第1トラン
ジスタを接続し、該第1トランジスタの制御電極を、第
2トランジスタの導通通路に直列で、前記充電回路のキ
ャパシタンスに並列に接続されるコンデンサの電圧によ
り制御し、前記第1及び第2トランジスタを電流ミラー
として接続し、この電流ミラーにより前記第2トランジ
スタから前記第1)ランジスタへの電流を増幅せしめる
ようにしたことを特徴とする。The circuit according to the invention connects a first transistor in parallel to the charging circuit of the memory stage bridged by the (stray) capacitance, the control electrode of the first transistor being connected in series with the conduction path of the second transistor, The first transistor is controlled by the voltage of a capacitor connected in parallel to the capacitance of the charging circuit, and the first and second transistors are connected as a current mirror, and the current mirror flows from the second transistor to the first transistor. It is characterized by being amplified.
斯かる本発明による回路はバイポーラトランジスタによ
って構成することができるが、実際には電界効果トラン
ジスタによって構成するのが好適である。その理由は、
電界効果トランジスタは上起電流ミラーによって電流増
幅率を十分に高く(例えば1000倍)することができ
、従って小容量のコンデンサを使用できるからである。Although such a circuit according to the present invention can be constructed using bipolar transistors, it is actually preferably constructed using field effect transistors. The reason is,
This is because the field effect transistor can have a sufficiently high current amplification factor (for example, 1000 times) by using an upper electromotive current mirror, and therefore a small capacitance capacitor can be used.
以下図面につき本発明を説明する。The invention will be explained below with reference to the drawings.
第1図は本発明によるプログラミング電圧発生用回路の
第1例を示したものであり、ここには1!PRO?l又
はEBPROMタイプのメモリlの等価回路を示しであ
る。実際にはメモリ1そのものは21’lオ一ム以上の
漏洩抵抗1′と例えば10pFのような漂遊キャパシタ
ンス2とを有しており、半導体本体に形成されるメモリ
の半導体素子(ツェナーダイオード5により記号で示し
である)は例えば20Vのような接合降服電圧を有して
いる。例えば電圧逓倍器又は電荷−ポンプタイプの電圧
源3はメモリ1にプログラミング電圧を供給する作用を
する。FIG. 1 shows a first example of a programming voltage generation circuit according to the present invention, in which 1! PRO? 1 shows an equivalent circuit of a memory 1 or an EBPROM type memory 1. In reality, the memory 1 itself has a leakage resistance 1' of more than 21'l ohm and a stray capacitance 2 of, for example, 10 pF. (indicated by the symbol) has a junction breakdown voltage of, for example, 20V. A voltage source 3, for example of the voltage multiplier or charge-pump type, serves to supply the memory 1 with a programming voltage.
この電圧源3を充電抵抗4を介してメモリ1に接続する
。This voltage source 3 is connected to the memory 1 via a charging resistor 4.
実際上、充電抵抗4(例えば4Mオーム)と、メモリ1
のキャパシタンス2及び漏洩抵抗1′とによって形成さ
れる充電回路の時定数は小さく、斯かるプログラミング
電圧がメモリlに供給される際に、そのメモリ1のサー
ビス・ライフは悪影響を受ける。そこで、本発明によれ
ば充電回路の漂遊キャパシタンス2に並列に第1トラン
ジスタQIを接続し、このトランジスタのゲートをコン
デンサC間の電圧によって制御する。コンデンサCは第
2トランジスタQtのチャネルに直列に接続すると共に
、この直列回路が前記キャパシタンス2に並列となるよ
うに接続する。第1及び第2トランジスタQ r 、Q
tは、その一方のトランジスタQ2からQ、への電流
を増幅する電流ミラーとして接続する。In practice, the charging resistor 4 (e.g. 4M ohm) and the memory 1
The time constant of the charging circuit formed by the capacitance 2 and the leakage resistance 1' is small, and the service life of the memory 1 is adversely affected when such a programming voltage is applied to the memory 1. Therefore, according to the present invention, a first transistor QI is connected in parallel to the stray capacitance 2 of the charging circuit, and the gate of this transistor is controlled by the voltage across the capacitor C. A capacitor C is connected in series to the channel of the second transistor Qt, and the series circuit is connected in parallel to the capacitance 2. First and second transistors Q r , Q
t is connected as a current mirror that amplifies the current from one of the transistors Q2 to Q.
バイポーラトランジスタから成る電流−増幅ミラーは、
これらトランジスタのエミッタ領域の面積を適当に選定
することによって簡単に実現することができる。しかし
、前述したように電界効果型のトランジスタの方が好適
である。その理由は、斯種トランジスタの電流増幅率は
例えば1000倍のように非常に高い値とし得るからで
ある。トランジスタQ1及びQ8のソースはゲートと同
様に相互接続し、かつトランジスタQ+のチャネルの幅
と長さの比は、トランジスタQ3のそれよりも遥かに大
きくする。トランジスタQ、のチャネルの長さくソース
からドレインまでの長さ)は例えば3μmとし、そのチ
ャネルの幅は100μ園とするが、トランジスタQ、の
チャネルの長さは100μmとし、そのチャネル幅は3
μmとする。このよう−にする場合に、トランジスタQ
1に流れる電流はトランジスタQ2に流れる電流よりも
1000倍も大きくなる。A current-amplifying mirror consisting of bipolar transistors is
This can be easily realized by appropriately selecting the areas of the emitter regions of these transistors. However, as mentioned above, field effect transistors are more suitable. This is because the current amplification factor of such a transistor can be very high, for example 1000 times. The sources of transistors Q1 and Q8 are interconnected as are the gates, and the channel width to length ratio of transistor Q+ is much larger than that of transistor Q3. For example, the length of the channel of transistor Q (from the source to the drain) is 3 μm, and the width of the channel is 100 μm.
Let it be μm. In this case, transistor Q
The current flowing through transistor Q2 is 1000 times larger than the current flowing through transistor Q2.
電圧源3をスイッチ・オンさせると、抵抗4に流れる充
電電流の大部分は最初トランジスタQ。When the voltage source 3 is switched on, most of the charging current flows through the resistor 4 initially through the transistor Q.
を経て流れ、回路Qt−C及びキャパシタンス2並びに
抵抗1′に達するのは上記充電電流の内のごく僅かの電
流である。従って、コンデンサC(例えば1pF)は充
電抵抗4.コンデンサC及びキャパシタンス2だけの時
定数に相当する速度よりも皇かにゆっくり(上述した数
値例では1000倍遅く)充電される。コンデンサCが
さらに充電されると、トランジスタQ、及びQ2が次第
にターン・オフして、十分なプログラミング電圧がメモ
リ1に達するようになる。プログラミング電圧源3を不
作動とした後にはコンデンサCがトランジスタ6によっ
て放電される。Only a small portion of the charging current flows through the circuit Qt-C and reaches the capacitance 2 and the resistor 1'. Therefore, capacitor C (eg 1 pF) is a charging resistor 4. It charges much more slowly (1000 times slower in the numerical example given above) than the rate corresponding to the time constant of capacitor C and capacitance 2 alone. As capacitor C charges further, transistors Q and Q2 gradually turn off so that sufficient programming voltage reaches memory 1. After the programming voltage source 3 has been deactivated, the capacitor C is discharged by the transistor 6.
図示の電流ミラーは処理展開による妨害作用を抑圧する
ために既知の方法で拡張させることができる。例えば、
トランジスタQ2に直列に他のトランジスタを縦続接続
して、ドレインからゲートへの妨害帰還を抑圧すること
ができる。第2図に示した例では、電圧ホロワとして接
続される追加のトランジスタQ、をトランジスタQ2と
コンデンサCとの間に接続し、このトランジスタQ、の
ゲートをコンデンサCに接続し、また斯がるトランジス
タQ3の電圧ホロワ電極(図示の場合にはソース)をト
ランジスタQ1のゲートに接続する。The illustrated current mirrors can be extended in known ways to suppress disturbances due to processing developments. for example,
Other transistors can be cascaded in series with transistor Q2 to suppress disturbance feedback from drain to gate. In the example shown in FIG. 2, an additional transistor Q, connected as a voltage follower, is connected between transistor Q2 and capacitor C, the gate of this transistor Q is connected to capacitor C, and The voltage follower electrode (source in the illustrated case) of transistor Q3 is connected to the gate of transistor Q1.
トランジスタQ、の(ゲート・ソース)限界電圧(この
限界電圧でトランジスタは導通し始める)が、(通常の
場合のように)トランジスタQ!及びQ3の限界電圧間
の差よりも高くなると、トランジスタQ、はトランジス
タQ!及びQ3よりも早く電流を流さなくなる。トラン
ジスタQ1に流れる電流がトランジスタQ!に流れる電
流よりも多数倍も大きな電流値のままとなるようにする
ためには、トランジスタQ、のチャネルの幅/長さの比
をトランジスタQ、のそれよりも十分に大きく、例えば
少なくとも10倍以上に大きくする必要がある。If the (gate-source) limiting voltage of transistor Q, at which the transistor begins to conduct, (as in the normal case) transistor Q! and Q3, transistor Q becomes transistor Q! And the current stops flowing earlier than Q3. The current flowing through transistor Q1 is transistor Q! In order for the current value to remain many times larger than the current flowing through the transistor Q, the width/length ratio of the channel of the transistor Q must be sufficiently larger than that of the transistor Q, for example at least 10 times. It needs to be larger than that.
トランジスタQ、及びQ2 (並びにQ3も)は原則と
して図示のようなP−チャネル電界効果トランジスタの
代わりにN−チャネル電界効果トランジスタとして構成
することもできる。Transistors Q and Q2 (and also Q3) could in principle also be constructed as N-channel field effect transistors instead of P-channel field effect transistors as shown.
最後に、第3図はプロゲラ暇ング電圧源3に接続される
(E/IliPROM)メモリの漂遊容量値に無関係に
、単位時間当りの電圧上昇を常に安全制限値以下に留め
ることのできるようにする回路を示したものである。こ
れがため、トランジスタQIを多重構造のものとする。Finally, FIG. 3 shows that the voltage rise per unit time can always be kept below the safe limit value, regardless of the stray capacitance value of the (E/IliPROM) memory connected to the progera idle voltage source 3. This figure shows the circuit that does this. For this reason, the transistor QI has a multiple structure.
即ち、他のトランジスタQI’+Ql #等を元のトラ
ンジスタQlに並列に接続する。これらの他のトランジ
スタは(1個以上の) トランジスタ7.7’、?”等
に相互接続することによってメモリ(段)の(漂遊)キ
ャパシタンスの大きさに応じて所望通りにスイッチ・オ
ンさせることができる。これらトランジスタQI’+Q
I #等のチャネルの幅/長さの比は150/3゜30
0/3等のように互いに相違するように選定して、トラ
ンジスタQ2からトランジスタQ、’(及び/又はQl
’等)への電流増幅率を調整することのできるように
する。第3図に示したトランジスタのチャネルの幅/長
さの比を上述したような値とすると、仮想コンデンサC
fO値はつぎのようになる。即ち、
Cf、= (50−B + 1) ・にこに、Bは2進
数のlO進値であり、関連するトランジスタがそれぞれ
ターン・オン又はターン・オフする際にb3.bz、b
+及びbi(3≧i≧O)の値は1又は0となる。That is, other transistors QI'+Ql #, etc. are connected in parallel to the original transistor Ql. These other transistors are (one or more) transistors 7.7', ? These transistors QI'+Q can be switched on as desired depending on the magnitude of the (stray) capacitance of the memory (stage) by interconnecting them to
The width/length ratio of channels such as I# is 150/3°30
0/3, etc., from transistor Q2 to transistor Q,' (and/or Ql).
', etc.) to be able to adjust the current amplification factor. If the width/length ratio of the channel of the transistor shown in FIG. 3 is set to the above value, then the virtual capacitor C
The fO value is as follows. That is, Cf, = (50-B + 1) where B is a binary lO-adic value, and when the associated transistor turns on or off, respectively, b3. bz,b
The values of + and bi (3≧i≧O) are 1 or 0.
第1図は本発明による1路の第1例を示す回路図、
第2図は第1図の改善例を示す回路図、第3図は第1図
の変形例を示す回路図である。
l・・−メモリ 1′・・・・漏洩抵抗2・・−漂遊キ
ャパシタンス゛
3−プログラミング電圧源
4・−・充電抵抗 5・・・−ツェナーダイオード6
、7−)ランジスタ Ql・−・第1トランジスタQ、
・−第2トランジスタ
Q、−・第3トランジスタ
C−・コンデンサFIG. 1 is a circuit diagram showing a first example of a one-way system according to the present invention, FIG. 2 is a circuit diagram showing an improved example of FIG. 1, and FIG. 3 is a circuit diagram showing a modification of FIG. 1. l...-Memory 1'...-Leakage resistance 2...-Stray capacitance 3-Programming voltage source 4--Charging resistance 5...-Zener diode 6
, 7-) Transistor Ql--first transistor Q,
-Second transistor Q, -Third transistor C-, capacitor
Claims (1)
ラムすべきメモリ段に充電抵抗を介して接続される電圧
源を具えている消去可能プログラマブル読取り専用メモ
リ(1!PR()M。 EHPROM)に対するプログラミング電圧発生用回路
において、 前記(漂遊)キャパシタンスによって橋絡されるメモリ
段の充電回路に並列に第1トラ ゛ンジスタを接続し、
該第1トランジスタの制御電極を、第2トランジスタの
導通通路に直列で、前記充電回路のキャパシタンスに並
列に接続されるコンデンサの電圧により制御し、前記第
1及び第2トランジスタを電流ミラーとして接続し、こ
の電流ミラーにより前記第2トランジスタから前記第1
トランジスタへの電流を増幅せしめるようにしたことを
特徴と子るプログラミング電圧発生用回路。 2、 前記第2トランジスタと前記コンデンサと、の間
に電圧ホロワとして接続される第3トラ°ンジスタを設
け、該第3トランジスタのゲートヲ前記コンデンサに接
続すると共に、前記第3トランジスタの電圧ホロラミ極
を前記第1トランジスタのゲートに接続するようにした
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載のプログ
ラミング電圧発生用回路。 3、前記各トランジスタを電界効果トランジスタとした
特許請求の範囲第1項に記載の回路において、前記第1
トランジスタのチャネルの幅/長さの比を第2トランジ
スタのチャネルの輻/長さの比よりも遥かに大きくし、
少なくとも1桁以上大きくするようにしたことを特徴と
するプログラミング電圧発生用回路。 4、 第3トランジスタも電界効果トランジスタとした
特許請求の範囲第2又は3項のいずれかに記載の回路に
おいて、前記第3トランジスタのチャネルの輻/長さの
比を第2トランジスタのチャネルの幅/長さの比以上と
じたことを特徴とするプログラミング電圧発生用回路。 5、前記各トランジスタを電界効果トランジスタとした
特許請求の範囲第1項に記載の回路において前記第1ト
ランジスタに並列に1個以上の他のトランジスタを接続
し、これらの他のトランジスタを所要に応じスイッチ・
オンし得るようにすると共に、これら他のトランジスタ
のチャネルの幅/長さの比を相対的に相違させるように
したことを特徴とするプログラミング電圧発生用回路。Claims: 1. Erasable programmable read-only memory (1!PR()M In a circuit for generating a programming voltage for an EHPROM (EHPROM), a first transistor is connected in parallel to the charging circuit of the memory stage bridged by the (stray) capacitance;
The control electrode of the first transistor is controlled by the voltage of a capacitor connected in series with the conduction path of the second transistor and in parallel with the capacitance of the charging circuit, and the first and second transistors are connected as a current mirror. , the current mirror causes the current to flow from the second transistor to the first transistor.
A programming voltage generation circuit characterized by amplifying the current flowing to the transistor. 2. A third transistor connected as a voltage follower is provided between the second transistor and the capacitor, the gate of the third transistor is connected to the capacitor, and the voltage follower pole of the third transistor is connected to the capacitor. 2. The programming voltage generating circuit according to claim 1, wherein the programming voltage generating circuit is connected to the gate of the first transistor. 3. The circuit according to claim 1, wherein each of the transistors is a field effect transistor, wherein the first
the channel width/length ratio of the transistor is much larger than the channel width/length ratio of the second transistor;
A programming voltage generation circuit characterized in that the programming voltage is increased by at least one order of magnitude. 4. In the circuit according to claim 2 or 3, in which the third transistor is also a field effect transistor, the ratio of the radius/length of the channel of the third transistor is the width of the channel of the second transistor. A programming voltage generation circuit characterized in that the length is greater than or equal to the length ratio. 5. In the circuit according to claim 1, in which each of the transistors is a field effect transistor, one or more other transistors are connected in parallel to the first transistor, and these other transistors are connected as required. switch·
1. A programming voltage generating circuit characterized in that the programming voltage generating circuit is configured to be turned on and the channel width/length ratios of these other transistors are made relatively different.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8400225A NL8400225A (en) | 1984-01-25 | 1984-01-25 | CIRCUIT FOR GENERATING THE PROGRAMMING VOLTAGE OF AN ERASABLE READING MEMORY. |
NL8400225 | 1984-01-25 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60160098A true JPS60160098A (en) | 1985-08-21 |
JPH0519799B2 JPH0519799B2 (en) | 1993-03-17 |
Family
ID=19843380
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60010710A Granted JPS60160098A (en) | 1984-01-25 | 1985-01-23 | Programming voltage generation circuit |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4644250A (en) |
EP (1) | EP0152651B1 (en) |
JP (1) | JPS60160098A (en) |
KR (1) | KR940010420B1 (en) |
CA (1) | CA1235505A (en) |
DE (1) | DE3479545D1 (en) |
IE (1) | IE56266B1 (en) |
NL (1) | NL8400225A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6267988U (en) * | 1985-10-19 | 1987-04-28 |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2600810A1 (en) * | 1986-06-27 | 1987-12-31 | Eurotechnique Sa | METHOD FOR PROGRAMMING DATA IN AN ELECTRICALLY PROGRAMMABLE DEAD MEMORY |
FR2605447B1 (en) * | 1986-10-20 | 1988-12-09 | Eurotechnique Sa | ELECTRICALLY PROGRAMMABLE NON-VOLATILE MEMORY |
FR2611954B1 (en) * | 1987-03-02 | 1992-02-14 | Crouzet Sa | UNIVERSAL BASE FOR ELECTRONIC PAYMENT TERMINAL |
US4931778A (en) * | 1989-02-27 | 1990-06-05 | Teledyne Industries, Inc. | Circuitry for indicating the presence of an overload or short circuit in solid state relay circuits |
US4916572A (en) * | 1989-02-27 | 1990-04-10 | Teledyne Industries, Inc. | Circuitry for protecting against load voltage transients in solid state relay circuits |
US4924344A (en) * | 1989-02-27 | 1990-05-08 | Teledyne Industries, Inc. | Circuitry for protection against electromotively-induced voltage transients in solid state relay circuits |
JP2805210B2 (en) * | 1989-06-09 | 1998-09-30 | 日本テキサス・インスツルメンツ株式会社 | Boost circuit |
US5146617A (en) * | 1990-10-15 | 1992-09-08 | Seiko Corp. | Harmonic noise minimization in a radio receiver by selectively optimizing ic's which produce harmonics in the radio's frequency range |
US5260643A (en) * | 1992-07-16 | 1993-11-09 | National Semiconductor Corporation | Programmable reference voltage generator |
US5408133A (en) * | 1993-05-03 | 1995-04-18 | Delco Electronics Corporation | Ramp control circuit |
US5745323A (en) * | 1995-06-30 | 1998-04-28 | Analog Devices, Inc. | Electrostatic discharge protection circuit for protecting CMOS transistors on integrated circuit processes |
EP0793343B1 (en) * | 1996-02-29 | 2001-07-18 | Co.Ri.M.Me. Consorzio Per La Ricerca Sulla Microelettronica Nel Mezzogiorno | Current limitation programmable circuit for smart power actuators |
KR100725373B1 (en) * | 2006-01-20 | 2007-06-07 | 삼성전자주식회사 | Flash memory device |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55115729A (en) * | 1979-02-28 | 1980-09-05 | Toshiba Corp | Mos transistor circuit |
JPS56500108A (en) * | 1979-03-13 | 1981-02-05 | ||
US4441172A (en) * | 1981-12-28 | 1984-04-03 | National Semiconductor Corporation | Semiconductor memory core program control circuit |
-
1984
- 1984-01-25 NL NL8400225A patent/NL8400225A/en not_active Application Discontinuation
- 1984-12-19 EP EP84201918A patent/EP0152651B1/en not_active Expired
- 1984-12-19 DE DE8484201918T patent/DE3479545D1/en not_active Expired
-
1985
- 1985-01-10 KR KR1019850000112A patent/KR940010420B1/en not_active IP Right Cessation
- 1985-01-17 US US06/692,153 patent/US4644250A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-01-22 IE IE132/85A patent/IE56266B1/en not_active IP Right Cessation
- 1985-01-23 JP JP60010710A patent/JPS60160098A/en active Granted
- 1985-01-24 CA CA000472779A patent/CA1235505A/en not_active Expired
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6267988U (en) * | 1985-10-19 | 1987-04-28 | ||
JPH0442558Y2 (en) * | 1985-10-19 | 1992-10-07 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3479545D1 (en) | 1989-09-28 |
EP0152651B1 (en) | 1989-08-23 |
IE56266B1 (en) | 1991-06-05 |
IE850132L (en) | 1985-07-25 |
US4644250A (en) | 1987-02-17 |
EP0152651A3 (en) | 1985-10-23 |
NL8400225A (en) | 1985-08-16 |
KR940010420B1 (en) | 1994-10-22 |
CA1235505A (en) | 1988-04-19 |
EP0152651A2 (en) | 1985-08-28 |
JPH0519799B2 (en) | 1993-03-17 |
KR850005632A (en) | 1985-08-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR950003346B1 (en) | Nonvolatile semiconductor memory device | |
JPS60160098A (en) | Programming voltage generation circuit | |
KR100387001B1 (en) | Nonvolatile semiconductor memory device capable of high speed generation of rewrite voltage | |
JP2588483B2 (en) | Voltage switch circuit applying MOS technology | |
US5740106A (en) | Apparatus and method for nonvolatile configuration circuit | |
JPH06507039A (en) | Non-volatile programmable/erasable interconnect cells | |
JPH09233699A (en) | Pcmcia power interface device and its operating method | |
EP0750314B1 (en) | Negative word line voltage regulation circuit for electrically erasable semiconductor memory devices | |
EP0661715B1 (en) | Non-volatile electrically programmable semiconductor memory device comprising a voltage regulator | |
JP2851035B2 (en) | Programmable logic device | |
JPS621193A (en) | Semiconductor memory device | |
KR930001656B1 (en) | Integrated memory circuit | |
US5872733A (en) | Ramp-up rate control circuit for flash memory charge pump | |
US5736891A (en) | Discharge circuit in a semiconductor memory | |
EP0864158B1 (en) | Power supply independent current source for flash eprom erasure | |
US4787047A (en) | Electrically erasable fused programmable logic array | |
KR0141698B1 (en) | Memory circuit | |
US6449211B1 (en) | Voltage driver for a memory | |
JP2002150786A (en) | Non-volatile semiconductor memory | |
JPH0263219A (en) | Charge pump circuit | |
GB2201058A (en) | MOSFET protection circult | |
JPH0737385A (en) | Voltage drop circuit for internal power source | |
JPS6322393B2 (en) | ||
JPH0574307B2 (en) | ||
JPS61148860A (en) | Semiconductor integrated circuit device |