JPS60156063A - Method and apparatus for automatically developing photosensitive lithographic plate - Google Patents
Method and apparatus for automatically developing photosensitive lithographic plateInfo
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- JPS60156063A JPS60156063A JP1174684A JP1174684A JPS60156063A JP S60156063 A JPS60156063 A JP S60156063A JP 1174684 A JP1174684 A JP 1174684A JP 1174684 A JP1174684 A JP 1174684A JP S60156063 A JPS60156063 A JP S60156063A
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/3042—Imagewise removal using liquid means from printing plates transported horizontally through the processing stations
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の分野〕
本発明は感光性平版印刷版(以下、28版と記す。)の
現像方法、更に詳しくは自動現像装置を用いて多数枚の
28版を現像するに際して、現像液の水が蒸発して濃縮
するのを補償する手段を構して現像液の濃度を常に一定
の範囲内に維持させ、もって均質の現像を達成させる現
像方法およびその為の自動現像装置に関するものである
。[Detailed Description of the Invention] [Field of the Invention] The present invention relates to a method for developing photosensitive lithographic printing plates (hereinafter referred to as 28 plates), and more specifically, to developing a large number of 28 plates using an automatic developing device. A developing method that maintains the concentration of the developing solution within a certain range at all times by compensating for the evaporation and concentration of water in the developing solution, thereby achieving homogeneous development, and an automatic developing method for that purpose. It is related to the device.
一般に、自動現像装置を用いて28版を現像する場合に
は、多数枚の28版を現像しても自動現像装置の現像タ
ンクに仕込まれた現像液の交換頻度がなるべく少邊〈て
済むようにする為に、28版の処理量およびその処理に
要した時間に応じて補充液を加えることが行なわれてい
る。即ち、28版の処理量が増えていくにつれて現像タ
ンクに仕込まれた現像液の有効成分が消費され現像能力
が低下していき、遂には所望の現像が達成されなくなる
ので、これを補償するために当該有効成分を含有する補
充液を加えること、更には現像液がアルカリ性の場合に
は、経時とともに空気中の炭酸ガスを吸収し、これが現
像液の現像能力を劣化させるので、これを補償する為に
上記のような補充液を加えることが行なわれておシ、こ
れらについては英国特許出願公開第20弘6りJ/A号
明細書、国際特許出願公開WOI210101t号明細
書、特開昭37−10≠j号公報などに詳しく記載され
ている。Generally, when developing 28 plates using an automatic developing device, the frequency of replacing the developer stored in the developing tank of the automatic developing device should be kept as low as possible even if a large number of 28 plates are developed. In order to achieve this, a replenisher is added depending on the amount of 28 plates to be processed and the time required for the process. That is, as the processing amount of 28 plates increases, the effective components of the developer stored in the developing tank are consumed and the developing ability decreases, until the desired development is no longer achieved, so in order to compensate for this, In addition, if the developer is alkaline, it absorbs carbon dioxide gas from the air over time, which deteriorates the developing ability of the developer, so this should be compensated for. For this purpose, the above-mentioned replenisher is added, and these are described in British Patent Application Publication No. 20 Ko6ri J/A Specification, International Patent Application Publication No. WOI 210101t, and Japanese Patent Application Laid-open No. 1987-37. -10≠J publication etc., it is described in detail.
しかし乍ら、このような補償を行ないつつ28版の現像
を行なっても、現f象処理する環境の温湿度条件によっ
ては現像液中の水分が蒸発して現像液が濃縮される結果
、感光層の非画像部を溶出させる能力が低下し、現像不
良を呈したシ、現像液中に溶解していた感光層成分が析
出し、それがカスとなって版面に付着したシする問題が
新たに見い出され、この問題に対しては経験的に、カス
が出たらまたは出ると予想される頃合いを見計らって事
前に水を手作業で補充していた。しかし、との様な手作
業による方法では、水を補充しすぎて逆に現像不良とな
ったシ或いはカスが出てから補充したときにはカスが付
着した版を廃棄してもう一度作シ直さなければならない
という問題があった。However, even if 28 plates are developed with such compensation, depending on the temperature and humidity conditions of the environment in which the image is processed, water in the developer evaporates and the developer becomes concentrated, resulting in poor exposure to light. The ability to elute the non-image areas of the layer is reduced, resulting in poor development, and new problems arise in which components of the photosensitive layer that have been dissolved in the developer precipitate and become scum that adheres to the plate surface. As a result of experience, water was refilled manually in advance when scum appeared or was expected to occur. However, with manual methods such as this, if you replenish too much water and end up with poor development, or if you replenish after scum appears, you have to discard the plate with the scum and have to start over. The problem was that it didn't.
従って、本発明の目的は現像液の水分の蒸発によシ発生
する問題を解消した、改良された28版の現像方法を提
供することであシ、よシ詳細には現像液の水分、の蒸発
を自動的に補償することかできる28版の現像方法およ
びその為の自動現像装置を提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide an improved 28 plate development method that eliminates the problems caused by the evaporation of water in the developer. It is an object of the present invention to provide a 28-plate developing method capable of automatically compensating for evaporation and an automatic developing device therefor.
本発明者等は上記目的を達成すべく研究を重ねていたと
ころ、現像液の交流インピーダンス値を測定することに
よシ現像液の水分の蒸発の程度を 1知ることができる
ことを見い出し、本発明をなすに至った。即ち、本発明
は自動現像装置を用いて、画像露光された多数枚の感光
性平版印刷版を電解質を含有する水溶液からなる現像液
で現像する方法において、該自動現1象機中の該現像液
の交流インピーダンス値を測定し、該値が所定の管理値
に達した時に、該現像液へ一定量の水、又は該現1象液
に含まれる成分の内の少なくとも1つを該現像液中の濃
度よシも低い濃度で含有する水溶液(以下、両者をまと
めて稀釈剤と称す。)を添加して、該現は液の濃度を常
に一定の範囲内に維持することを特徴とする感光性平版
印刷版の現1象方法である。The present inventors have conducted repeated research to achieve the above object, and have discovered that the degree of water evaporation in the developer can be determined by measuring the alternating current impedance value of the developer. I came to do this. That is, the present invention provides a method for developing a large number of image-exposed photosensitive lithographic printing plates with a developer consisting of an aqueous solution containing an electrolyte using an automatic developing device. The AC impedance value of the solution is measured, and when the value reaches a predetermined control value, a certain amount of water or at least one of the components contained in the developing solution is added to the developer. The concentration of the liquid is always maintained within a certain range by adding an aqueous solution (hereinafter collectively referred to as a diluent) containing an aqueous solution that is lower in concentration than the concentration in the diluent. This is a method of developing a photosensitive lithographic printing plate.
本発明によれば、現像液の濃度が常に一定範囲となるよ
うに自動的に維持されるので、従来のような手作業によ
る方法に比べて稀釈剤の過補充による現像不良や稀釈剤
の補充不足によるカスの発生といった問題が生じること
はなくなり、常に安定した現像を行なうことができる。According to the present invention, the concentration of the developer is automatically maintained within a certain range at all times, so compared to the conventional manual method, there is no problem with poor development due to excessive replenishment of diluent or replenishment of diluent. Problems such as generation of scum due to shortage no longer occur, and stable development can be performed at all times.
更に、水の補充といった煩わしい作業から解放されるの
で、作業効率の向上も計られる。Furthermore, since you are freed from the troublesome work of refilling water, you can improve your work efficiency.
本発明において、現像液の交流インピーダンス値の測定
方法としては交流インピーダンス計、交流ブリッジ計あ
るいは、その他のインピーダンス計などの公知の手段を
用いることができる。In the present invention, as a method for measuring the AC impedance value of the developer, known means such as an AC impedance meter, an AC bridge meter, or other impedance meter can be used.
又、該測定装置の測定電流値や発振周波数等は、現像液
の組成等によシ最適条件は異なるが電流値は装置的にも
又水溶性の現像液の電気分解を防ぐ為にもある程度低い
事が好ましく、数百rrLAから数mAが好ましい。In addition, the optimum conditions for the measurement current value and oscillation frequency of the measuring device vary depending on the composition of the developer, etc., but the current value is set to a certain extent depending on the device and to prevent electrolysis of the water-soluble developer. It is preferably low, preferably from several hundred rrLA to several mA.
又、周波数は、現像液中の静電容量成分との関係から、
数百Hz〜数百KHzのものが好ましい。Also, the frequency is determined by the relationship with the capacitance component in the developer.
A frequency of several hundred Hz to several hundred KHz is preferable.
電解質を含む現像液のインピーダンス値は、水溶液の温
度に依存し、液温か上るとその値は低下する。従って、
よシ好ましくは、温度センサーおよび温度保証回路を付
した測定器が望ましい。The impedance value of a developing solution containing an electrolyte depends on the temperature of the aqueous solution, and its value decreases as the temperature of the solution increases. Therefore,
Preferably, a measuring device is provided with a temperature sensor and a temperature guarantee circuit.
交流インピーダンス計、交流ブリッジ計あるいは、その
他のインピーダンス計のセンサー設置位置は、測定時に
現像液に浸漬され、現像液の交流インピーダンス値が測
定できる場所であれば良く、例えば自動現像機の現像液
循環系、特に現像タンク中もしくは、循環パイプ中が好
ましい位置である。The sensor installation position of the AC impedance meter, AC bridge meter, or other impedance meter may be any place where it is immersed in the developer during measurement and where the AC impedance value of the developer can be measured, such as in the developer circulation of an automatic processor. The preferred location is in the system, especially in the developer tank or in the circulation pipe.
現像液のインピーダンス値は濃縮されるに従って低くな
るので、疲労しない初期の現像液のインピーダンス値(
以下、第一インピーダンス値と記す。)と当該現像液が
疲労、濃縮されてカスが発生しはじめる時のインピーダ
ンス値(以下第二インピーダンス値と記す。)とを知れ
ば第一インピーダンス値よりも低く、第二インピーダン
ス値よりも高い所定のインピーダンス値に達した時に、
例工ば自動計量ポンプのような自動計量手段を作動し、
一定量の稀釈剤が現像液へ添加されるようにすることに
よって、インピーダンス値を一定の範囲内に管理するこ
とが出来る。一般的な目安としては、上記所定のインピ
ーダンス値は、第一インビニダンス値と第二インピーダ
ンス値の中央値付近に設定することが好ましい。また、
補充される稀釈剤の量は、第一インピーダンス値になる
に必要な量が好ましく、これは稀釈剤及び現像液の各組
成と現像タンクへの現像液の仕込量が決まれば簡単な試
行テストで決定することができる。The impedance value of the developer decreases as it becomes concentrated, so the impedance value of the initial developer without fatigue (
Hereinafter, this will be referred to as the first impedance value. ) and the impedance value (hereinafter referred to as the second impedance value) at which the developer becomes fatigued and concentrated and begins to generate scum, it is possible to determine the predetermined impedance value that is lower than the first impedance value and higher than the second impedance value. When the impedance value of
activating an automatic metering means, such as an automatic metering pump;
By adding a certain amount of diluent to the developer, the impedance value can be controlled within a certain range. As a general guideline, it is preferable that the predetermined impedance value is set near the median value of the first invinidance value and the second impedance value. Also,
The amount of diluent to be replenished is preferably the amount necessary to reach the first impedance value, and this can be determined by a simple trial test once the composition of the diluent and developer and the amount of developer charged to the developer tank are determined. can be determined.
第1図は、本発明の現像方法を実施する為の自動現像装
置の時に好ましい態様に係る模式的断面図である。この
自動現像装置は送シローラ1等の搬送手段によってPS
版を矢印コの方向へ搬送する過程において、搬送路の上
方に複数個のノズルノミイブ3を臨設し、現像タンク≠
の中の現像液!をポンプ7によってノズルパイプ3のノ
ズルからPS版の感光層の表面へ噴射させ、必要に応じ
て更にブラシローラー(図示されてい々い。)等で感光
層の表面を擦ることによって現像処理を行なうものであ
シ、使用された現像液はフィルターtを通して不溶物が
除去されたのちにタンク参へ回収されるようになってい
る。そして、現1象装置へPS版が挿入されたことを感
知手段tが感知し、これによってポンプ7が作動して給
液を開始し、ノズルからの現像液の噴射が始まり、PS
版が現 ゛像ゾーンを通過し終わると現像液の噴射が止
まるようにされている。FIG. 1 is a schematic sectional view of a preferred embodiment of an automatic developing apparatus for carrying out the developing method of the present invention. This automatic developing device uses a conveying means such as a feed roller 1 to process the PS.
In the process of conveying the plate in the direction of the arrow C, a plurality of nozzle blades 3 are provided above the conveyance path, and the developing tank ≠
The developer inside! is sprayed onto the surface of the photosensitive layer of the PS plate from the nozzle of the nozzle pipe 3 by the pump 7, and if necessary, the surface of the photosensitive layer is further rubbed with a brush roller (not shown), etc., thereby performing the development process. In this case, the used developer is passed through a filter T to remove insoluble matter, and then collected into a tank. Then, the sensing means t senses that the PS plate has been inserted into the developing device, and the pump 7 is actuated and starts supplying liquid, and the jetting of the developer from the nozzle starts, and the PS plate is inserted into the developing device.
After the plate has passed through the development zone, the jetting of the developer is stopped.
交流インピーダンス値の測定手段は、測定装置?(交流
インピーダンス計、交流ブリッジ計などの測定器によっ
て、該値を測定し、必要時に作動信号を自動計量手段l
lに出力する。)とセンサーioとからなり、センサー
IQはタンク参の中の現像液!に浸漬される位置に設置
されておシ、ここで測定された、交流インピーダンス値
が所定の値にまで低下すると、その出力信号によシ自動
計量手段1/が作動し、稀釈剤12がタンク参へ一定量
添加される。・自動計量手段l/は、測定装置りからの
作動信号を受けるたびごとに一定量の稀釈剤が添加され
るようにセットされており、一定量の稀釈剤を添加し終
わると自動的に止まるようになっている。この自動計量
手段としては、例えばタイマーと送液ポンプからなるも
のなど公知の手段を用いることができる。Is a measuring device used to measure AC impedance values? (Measure the value with a measuring device such as an AC impedance meter or an AC bridge meter, and use automatic measuring means to output the operating signal when necessary.
Output to l. ) and sensor io, and sensor IQ is the developer in the tank! When the AC impedance value measured here drops to a predetermined value, the automatic metering means 1/ is activated by the output signal, and the diluent 12 is immersed in the tank. A certain amount is added to ginseng.・The automatic measuring means is set so that a fixed amount of diluent is added each time it receives an activation signal from the measuring device, and automatically stops when the fixed amount of diluent has been added. It looks like this. As this automatic metering means, for example, a known means such as one consisting of a timer and a liquid feeding pump can be used.
第7図の自動現像装置はPS版の現像のみを行tう装置
であるが、現像ゾーン並びに洗浄ゾーン、水洗ゾーン、
ガム塗布ゾーン及び/又は乾燥ゾーンとを有するPS版
処理装置であって、その現像ゾーンに上記の如き、現像
液の濃度を一定範囲内に維持する為の稀釈手段を組み込
んでもよいことは言うまでもない。また、これらの処理
装置に従来知られている様な現像補充液の補充手段を組
み込んでおくことは、本発明による効果が一層発揮され
るので好ましい。The automatic developing device shown in Fig. 7 is a device that only develops PS plates, but it has a developing zone, washing zone, water washing zone,
It goes without saying that in a PS plate processing apparatus having a gum coating zone and/or a drying zone, a dilution means as described above for maintaining the concentration of the developer within a certain range may be incorporated in the development zone. . Further, it is preferable to incorporate a replenishing means for a developer replenisher as conventionally known in these processing apparatuses, since the effects of the present invention can be further exhibited.
第2図は、このような補充手段をも組み込んだ、本発明
の特に好ましい実施態様に係る自動現像装置の断面図で
ある。この装置においてはPS版を矢印20の方向へ挿
入すると検知手段21が作動して現像タンク3を中の現
像液37がポンプ311゜KよってPS版の搬送経路の
上方および下方に臨設された複数個のノズルノミイブ2
!rへ送られ、現像液のスプレーが開始される。挿入ロ
ーラ2.2に、くわえられたPS版は搬送ロー223.
2≠、3・0132の順に、現像液のスプレーを受けな
がら現像ゾーンを搬送され、その途中でブラシローラ、
2り、31により感光層の表面が擦られて感光層の非画
像部が完全に除かれた後、最後にスキージローラ2jに
よって現像されたPSmK付着している現像液が絞シ取
られ友のち、次の水洗ゾーンへ送られる。スプレーされ
た現像液はフィルター3jで不溶物が除かれたのち、タ
ンク36に回収される。感知手段、2/からは28版を
感知している時間中、自動計量手段≠2へ出力信号が入
力され、その時間に比例して現像補充液≠3が現像液へ
補充される。FIG. 2 is a sectional view of an automatic developing apparatus according to a particularly preferred embodiment of the present invention, which also incorporates such replenishment means. In this device, when the PS plate is inserted in the direction of the arrow 20, the detection means 21 is activated, and the developer 37 in the developing tank 3 is pumped by a pump 311°K into a plurality of pumps installed above and below the PS plate transport path. nozzle nozzle 2
! r, and spraying of the developer starts. The PS plate held by the insertion roller 2.2 is transferred to the conveyance roller 223.
In the order of 2≠, 3.0132, it is transported through the development zone while being sprayed with developer, and on the way, the brush roller,
After the surface of the photosensitive layer is rubbed by steps 2 and 31 to completely remove the non-image area of the photosensitive layer, the developing solution adhering to the developed PSmK is finally squeezed out by the squeegee roller 2j and then removed. , sent to the next flushing zone. The sprayed developer is collected in a tank 36 after insoluble matter is removed by a filter 3j. An output signal is input from the sensing means 2/ to the automatic measuring means≠2 during the time when the 28th plate is being sensed, and the developer replenisher≠3 is replenished to the developer in proportion to that time.
これによp、ps版を処理することによって劣化した現
1象液が補償される。他方、現像液循環系の現像液37
中には、測定センサー3gが設置されておシ、現商液3
7のインピーダンスが測定装置3りで測定され、測定装
置3りでの測定値が所定の値にまで低下すると、その出
力信号により自動計量手段tioが作動し、稀釈剤<4
/が現像液へ一定量添加される。これによシ現像液の水
分の蒸発による濃縮化が補償され、現像補充液の添加に
よる補償と相俟って、より一段と長時間わたって安定し
た現像が可能となる。This compensates for the phenomenon liquid degraded by processing the p and ps plates. On the other hand, the developer 37 in the developer circulation system
Inside, a measurement sensor 3g is installed, and the current commercial liquid 3g is installed.
The impedance of 7 is measured by the measuring device 3, and when the measured value by the measuring device 3 drops to a predetermined value, the automatic measuring means is actuated by the output signal, and the diluent < 4
/ is added in a certain amount to the developer. This compensates for the concentration caused by the evaporation of water in the developer, and together with the compensation due to the addition of the developer replenisher, it becomes possible to perform stable development over a much longer period of time.
現像ゾーンを通過した版は、次いで水洗ゾーンへ送られ
、ここで十分に水洗される。水洗ゾーンは挿入ローラ2
6およびスキージ−ローラ27が設置されており、その
間でノズルパイプ33から水がスプレーされる。水洗水
は直ちに廃水されるか、タンクなどに一度回収され、必
要な処理が施されたのちに廃棄される。After passing through the development zone, the plate is then sent to a washing zone where it is thoroughly washed with water. The washing zone is the insertion roller 2
6 and a squeegee roller 27 are installed between which water is sprayed from a nozzle pipe 33. Rinsing water is either immediately discarded or collected in a tank, etc., and then disposed of after being subjected to necessary treatment.
本発明の現像方法は、現像液の交流インピーダンス値を
測定し、その値から濃度を検知する関係上、使用される
現像液が電解質を含有する水溶液からなるものである必
要があり、よシ好ましくは70〜ヂj重量%の水からな
り、かつ無機イオンを含有しているものである。従って
、このような現像液で現1象できる28版に対して本発
明の現像方法を好都合に適用することができる。In the developing method of the present invention, since the AC impedance value of the developer is measured and the concentration is detected from that value, the developer used must be an aqueous solution containing an electrolyte, and is therefore particularly preferred. is composed of 70 to 70% by weight of water and contains inorganic ions. Therefore, the developing method of the present invention can be conveniently applied to 28 plates that can be developed using such a developer.
かかる28版の好ましいものは、ジアゾ樹脂とカルボキ
シ基のような酸性基もしくはアルカリ可溶性基を有する
バインダーからなる感光層を有する28版を挙げること
ができる。′上記ジアゾ樹脂としては、例えば米国特許
第3,300,302号に記載されているよりなp−ジ
アゾジフェニルアミンとp−ホルムアルデヒドとの縮合
物の有機スルホン酸塩、特開昭j≠−タrtis号に記
載されているようなジアゾ化合物とカルボニル含有有機
縮合剤との縮合物のハロゲン化ルイス酸塩または過ハロ
ゲン酸塩(例えばBF、塩% P F a塩)などのよ
うな実質的に水不溶性で有機溶剤可溶性のジアゾ樹脂が
好ましい。また、上記のバインダーとしては、ポリアミ
ド、ポリエーテル、ポリエステル、ポリカーボネート、
ポリスチレン、ポリウレタン、ポリビニルクロリドおよ
びそのコポリ寸−、ポリビニルブチ2−ル樹脂、ポリビ
ニルホルマール樹脂、シェラツク、エポキシ樹脂、フェ
ノール樹脂、アクリル樹脂などが挙げられる。Preferred examples of the 28th edition include the 28th edition which has a photosensitive layer comprising a diazo resin and a binder having an acidic group such as a carboxy group or an alkali-soluble group. 'The above-mentioned diazo resin includes, for example, an organic sulfonate of a condensate of p-diazodiphenylamine and p-formaldehyde described in U.S. Pat. No. 3,300,302, and Substantially aqueous compounds such as halogenated Lewis salts or perhalogenated salts of condensates of diazo compounds and carbonyl-containing organic condensing agents (e.g. BF, salt% PFa salts) as described in Diazo resins that are insoluble and soluble in organic solvents are preferred. In addition, the above binders include polyamide, polyether, polyester, polycarbonate,
Examples include polystyrene, polyurethane, polyvinyl chloride and copolymer thereof, polyvinyl butyl resin, polyvinyl formal resin, shellac, epoxy resin, phenol resin, acrylic resin and the like.
さらに、好ましくは、下記(1)〜鰻に掲げられるモノ
マーの共重合体が挙げられる。Furthermore, copolymers of the monomers listed in (1) to Eel below are more preferable.
(1)N−(4’−ヒドロキシフェニル)アクリルアミ
ド、N−(4A−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(4’−ヒドロキシナフチル)メタクリルアミ
ド。(1) N-(4'-hydroxyphenyl)acrylamide, N-(4A-hydroxyphenyl)methacrylamide, N-(4'-hydroxynaphthyl)methacrylamide.
(21o−1m−1またはp−ヒドロキシスチレン。(21o-1m-1 or p-hydroxystyrene.
(3)o−1m−1またはp−ヒドロキシフェニルメタ
クリレート。(3) o-1m-1 or p-hydroxyphenyl methacrylate.
(4)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イ
タコン酸等の不飽和カルボン酸。(4) Unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, and itaconic acid.
(5)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸メチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−
2−クロロエチル、λ−ヒドロキシエチルアクリレート
、グリシジルアクリレート、N−ジメチルアミノエチル
アクリレート等のアルキルアクリレート。(5) Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, methyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, acrylic acid-
Alkyl acrylates such as 2-chloroethyl, λ-hydroxyethyl acrylate, glycidyl acrylate, and N-dimethylaminoethyl acrylate.
(6) メチルメタクリレート、エチルメタクリレート
、プロピルメタアクリレート、ブチルメタクリレート、
アミルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート
、コーヒドロキシエチルメタクリレート、≠−ヒドロキ
シブチルメタクリレート、グリシルメタクリレート、N
−ジメチルアミノエチルメタクリレート、ベンジルメタ
クリレート等のアルキルメタクリレート。(6) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate,
Amyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, co-hydroxyethyl methacrylate, ≠-hydroxybutyl methacrylate, glycyl methacrylate, N
-Alkyl methacrylates such as dimethylaminoethyl methacrylate and benzyl methacrylate.
(7)アクリルアミド、メタクリルアミド、N −メチ
ロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミ
ド、N−エチルアクリルアミド、N−へキシルメタクリ
ルアミド、N−シクロへキシルアミド、N−ヒドロキシ
エチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、
N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N−
フェニルアクリルアミド等ノアクリルアミド、メタクリ
ルアミド類。(7) Acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-methylolmethacrylamide, N-ethylacrylamide, N-hexylmethacrylamide, N-cyclohexylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide,
N-nitrophenyl acrylamide, N-ethyl-N-
Noacrylamide such as phenylacrylamide, methacrylamide.
(8) エチルビニルエーテル1.2−クロルエチルビ
ニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロ
ピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチル
ビニルエーテル、フェニルビニルエーテル類。(8) Ethyl vinyl ether 1.2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, phenyl vinyl ether.
(9) ビニルアセテート、ビニルクロルアセテート、
ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類。(9) Vinyl acetate, vinyl chloroacetate,
Vinyl esters such as vinyl butyrate and vinyl benzoate.
(101スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロルメチルスチレン等のスチレン類。(Styrenes such as 101 styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, and chloromethylstyrene.
Ql) メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プ
ロピルビニルケトン、フェニルビニルケト7 等(7)
ビニルケトン類。Ql) Methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, phenyl vinyl ketone 7, etc. (7)
Vinyl ketones.
Q21 エチレン、プロピレン、インブチレン、フタジ
エン、イソプレン等のオレフィン類。Q21 Olefins such as ethylene, propylene, inbutylene, phtadiene, and isoprene.
(t31 N−ビニルピロリド0ン、N−ビニルカルバ
ゾール、≠−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタ
クリルニトリル等。(t31 N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, ≠-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile, etc.)
さらに、上記モノマーと共重合し得るモノマーを共重合
させてもよい。また、上記モノマーの共重合によって得
られる共重合体を例えば、グリシジルメタクリレート、
グリシジルアクリレート、等によって修飾したものも含
まれる。Furthermore, a monomer that can be copolymerized with the above monomer may be copolymerized. In addition, copolymers obtained by copolymerizing the above monomers, such as glycidyl methacrylate,
Also included are those modified with glycidyl acrylate, etc.
これらのジアゾ樹脂とバインダーからなる感光層のより
具体的なものは、例えば米国特許第3゜7!l、217
号、同第≠、123,276号、特公昭よ7−≠3♂り
0号、同!7−≠J77コ号などに記載されている。More specific photosensitive layers comprising these diazo resins and binders are described in, for example, US Pat. No. 3.7! l, 217
No., Same No. ≠, No. 123,276, Tokuko Shoyo 7-≠3♂ri No. 0, Same! 7-≠J77, etc.
一カ、4工。、、ヵよよヶ□。5□ゆ (前述の如く電
解質を含む水溶液、よシ好ましくは無機イオンを含む7
0−20重量%の水からなるものであシ、更に必要に応
じて有機溶剤、アルカリ剤、界面活性剤、無機塩、有機
塩及び/又はその他の添加剤を含むものである。1 car, 4 works. ,,Kayoyoga□. 5□yu (as mentioned above, an aqueous solution containing an electrolyte, preferably containing an inorganic ion)
It consists of 0-20% by weight of water, and further contains an organic solvent, an alkaline agent, a surfactant, an inorganic salt, an organic salt and/or other additives as necessary.
上記無機イオンとしてはナトリウムイオン、カリウムイ
オン、リチウムイオンのようなアルカリ金属イオン、カ
ルシウムイオン、マグネシウムイオンおよびアンモニウ
ムイオンが好ましく、その供給源としてはアニオン界面
活性剤、アルカリ剤、無機塩、有機塩などを挙げること
ができる。The inorganic ions mentioned above are preferably alkali metal ions such as sodium ions, potassium ions, and lithium ions, calcium ions, magnesium ions, and ammonium ions, and their sources include anionic surfactants, alkaline agents, inorganic salts, organic salts, etc. can be mentioned.
また上記の有機溶剤としては、常温における水に対する
溶解性が10重量%以下のものが好ましく、例えば酢酸
エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸
ベンジル、エチレングリコールモノブチルエーテルア七
テート、乳酸ブチル、レブリン酸ブチルなどのようなカ
ルボン酸エステル;エチルブチルケトン、メチルイソブ
チルケトン、シクロヘキサノンなどのよりなケトン;エ
チレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコ
ールモノベンジルエーテル、エチレングリコールモノブ
チルエーテル、ベンジルアルコール、メチルフェニルカ
ルビノール、n−アミルアルコール、メチルアミルアル
コールなどのようなアルコールなどがあり、これらの内
でもエチレングリコールモノフェニルニーテルトヘンジ
ルアルコールは特に好ましい。このような有機溶剤は現
像液中に約l−−〇重景係、より好ましくはλ〜i。The above-mentioned organic solvents preferably have a solubility in water of 10% by weight or less at room temperature, such as ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, benzyl acetate, ethylene glycol monobutyl ether heptatate, butyl lactate. , butyl levulinate, etc.; more ketones such as ethyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone; ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monobenzyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, benzyl alcohol, methylphenyl carbinol , n-amyl alcohol, methyl amyl alcohol, etc. Among these, ethylene glycol monophenyl nitrate henzyl alcohol is particularly preferred. Such an organic solvent is used in the developing solution in a concentration of about 1--0, more preferably λ-i.
重量多含有させられる。Contains a large amount of weight.
一方上記アルカリ剤としては、例えば珪酸ナトリウム、
珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第
二まtcは第三燐酸のナトリウムまたはアンモニウム塩
、メタ珪酸ナトリウムなどの無機アルカリ剤;モノ、ジ
またはトリメチルアミン、モノ、ジま罠はトリエチルア
ミン、モノまたはジイソプロピルアミン、n−ブチルア
ミン、モノエタノールアミン、ジェタノールアミン、ト
リエタノールアミン、モノイソプロパツールアミン、ジ
イソプロパツールアミン、トリインプロパツールアミン
、エチレンイミ/、エチレンジイミンなどの有機アルカ
リ剤があり、これらの内でも有機アルカリ剤が好ましい
。アルカリ剤は現像液中に約o、os−+重量%、より
好ましくはo、s〜λ重i%含有させられる。On the other hand, examples of the alkaline agent include sodium silicate,
Potassium silicate, sodium hydroxide, lithium hydroxide, dibasic is sodium or ammonium salt of tertiary phosphate, inorganic alkaline agent such as sodium metasilicate; mono, di or trimethylamine, mono, dima is triethylamine, mono or There are organic alkaline agents such as diisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, jetanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, triimpropanolamine, ethyleneimine/ethylenediimine, etc. Among these, organic alkaline agents are preferred. The alkaline agent is contained in the developer in an amount of about o, os-+% by weight, more preferably o, s to i% by weight.
また上記界面活性剤としてはアニオン界面活性剤が好ま
しく、例えばラウリルアルコールサルフェートのナトリ
ウム塩ま九はアンモニウム塩、オクチルアルコールサル
フェートのナトリウム塩またはアンモニウム塩などのよ
うな高級アルコール硫酸エステル塩;例えばセチルアル
コール燐酸エステルのナトリウム頃などのような脂肪族
アルコールft、 酸xステル塩;例えばドデシルベン
ゼンスルホン酸ナトリウム、イソプロピルナフタレンス
ルホン酸ナトリウム、ジナフタレンスルホン酸ナトリウ
ム、メタニトロベンゼンスルホン駿ナトリウムなどのア
ルキルアリールスルホン酸塩;例えばC17H33CO
NlcH3)CH2CH2SO3Naなどのようなアル
キルアミドスルホン酸塩;例えばナトリウムスルホこは
く酸ジオクチルエステル、ナトリウムスルホこはく酸ジ
ヘキシルエステルナトのような二塩基性脂肪酸エステル
のスルホン酸塩;例えばジブチルナフタレンスルホン酸
ナトリウムのホルムアルデヒド縮合物などのようなアル
キルナツタレンスルホン酸塩のホルムアルデヒド縮合物
などを挙げることができ、中でも芳香族スルホン酸基を
有するものが好ましい。界面活性剤は、現像液中に約0
./、10重量%、より好ましくは0、3−、!1に:
%□。□あ。 (
上記無機塩としては、亜硫酸塩、硫酸塩、炭酸塩、燐酸
塩などが上げられ、塩種としてはナトリウム塩、カリウ
ム塩、アンモニウム塩、リチウム塩等が挙げられる。有
機塩としては、くえん酸塩、蓚酸塩、酒石酸塩、安息香
酸塩、フタル酸塩、りんご酸塩などのようなカルボン酸
塩や、その他、スルホン酸塩、硫酸塩等も上げられる。The above-mentioned surfactant is preferably an anionic surfactant, such as higher alcohol sulfate ester salts such as sodium salt or ammonium salt of lauryl alcohol sulfate, sodium salt or ammonium salt of octyl alcohol sulfate; for example, cetyl alcohol phosphoric acid. Aliphatic alcohols such as sodium esters, acid x ster salts; alkylaryl sulfonates such as sodium dodecylbenzenesulfonate, sodium isopropylnaphthalenesulfonate, sodium dinaphthalenesulfonate, sodium metanitrobenzenesulfonate; For example, C17H33CO
NlcH3) Alkylamide sulfonates such as CH2CH2SO3Na; sulfonates of dibasic fatty acid esters such as sodium sulfosuccinate dioctyl ester, sodium sulfosuccinate dihexyl ester; formaldehyde condensation of sodium dibutylnaphthalene sulfonate, etc. Examples include formaldehyde condensates of alkylnutthalene sulfonates, such as those having an aromatic sulfonic acid group. Approximately 0 surfactant is present in the developer solution.
.. /, 10% by weight, more preferably 0,3-,! 1:
%□. □Ah. (The above-mentioned inorganic salts include sulfites, sulfates, carbonates, phosphates, etc.; the salt types include sodium salts, potassium salts, ammonium salts, lithium salts, etc.; the organic salts include citric acid Examples include salts, carboxylates such as oxalates, tartrates, benzoates, phthalates, malates, etc., as well as sulfonates, sulfates, etc.
現f象液に加えることができるその他の添加剤としては
、例えばポリオキシエチレンノエルフエニが挙げられる
。Other additives that can be added to the reaction solution include, for example, polyoxyethylene nitrogen.
本発明の現像方法に使用される現像液の更に詳細な組成
については、例えば米国特許第3,662.660号、
同第J 、73/ 、237号、同第a、tir6.o
ob号、英国特許第i、ris。For more detailed composition of the developer used in the developing method of the present invention, see, for example, U.S. Patent No. 3,662.660;
J, 73/, No. 237, A, tir6. o
ob, British Patent No. I, ris.
/74A号、同第コ、otr 、tJt号、西独特許公
開用s、toり、774’−4、特開昭j/−77≠o
i号、同j/−90602号、同jl−14j 、2
J号、同31−320!μ号、同33−/J17440
号、同!!−/!333;!号、同56−703≠j号
に記載されている。/74A, same number, otr, tJt, West German patent publication s, tori, 774'-4, Japanese Patent Application Publication No. Shoj/-77≠o
No. i, No. j/-90602, No. jl-14j, 2
J issue, 31-320! μ issue, 33-/J17440
Same issue! ! -/! 333;! No. 56-703≠j.
一方、本発明に使用される稀釈剤は、水(純水、水道水
、井戸水など)、又は現像液に含まれている成分の少な
くともl′;1を含有する水溶液であって、該水溶液中
に含まれている当該成分の濃度が現像液中におけるそれ
よりも低いものが使用される。例えば、現像液としてア
ルカリ剤、界面活性剤、有機溶剤、亜硫酸塩およびキレ
ート剤會含む水溶液が使用される場合には、これらの成
分から選ばれた少なくとも7つを含む水溶液であって、
当該水溶液中に含まれる成分の濃度が当該現像液中に含
まれるその成分の濃閾よりも低いもの、好ましくは当該
現像液中のIIk度の2分のlからi。On the other hand, the diluent used in the present invention is water (pure water, tap water, well water, etc.) or an aqueous solution containing at least 1 of the components contained in the developer, and in the aqueous solution. The concentration of the component contained in the developer is lower than that in the developer. For example, when an aqueous solution containing an alkaline agent, a surfactant, an organic solvent, a sulfite, and a chelating agent is used as a developer, an aqueous solution containing at least seven selected from these components,
The concentration of the component contained in the aqueous solution is lower than the concentration threshold of the component contained in the developer, preferably from 1/2 of the degree IIk in the developer.
0分のlの濃度で含むものが稀釈剤として使用される。A diluent containing a concentration of 0/1 is used as a diluent.
本発明の特に好ましい実施態様で使用される稀釈剤は水
又は現1象液を水で稀釈したもの、より具体的にはl容
量部の現像液をl〜タタ容量部の水で稀釈したものであ
り、最も好ましくけ水である。The diluent used in a particularly preferred embodiment of the invention is water or a developer solution diluted with water, more specifically one part by volume of developer diluted with one to one part by volume of water. The most preferred is water.
本発明の現像方法が適用される28版の感光層に無機イ
オン性化合物が多量に含まれている場合には、28版の
処理量が増大するにつれてPS版の感光層中の無機イオ
ン性金属が現像液へ溶出し、これが現像液のインピーダ
ンス値を低下させる為、現像液の水の蒸発による濃縮に
伴うインピーダンス値の低下と区別できなくなる。従っ
て、このような場合には、PS版の処理量の増大に伴う
現1象液のインピーダンス値の低下を予め算出しておき
、これを例えばコンピューターにインプットしておいて
水の蒸発によるインピーダンス値の低下分のみ検知しつ
るようにし、これが所定の値に低下し罠峙て一定量の稀
釈剤を補充するように制御すれば良い。勿論、PS版の
感光層に無機イオン性金属が含まれていないものである
場合には、このような煩雑な操作が不要なので有利であ
ることは言うまでもない。If the photosensitive layer of the 28th plate to which the developing method of the present invention is applied contains a large amount of inorganic ionic compounds, as the processing amount of the 28th plate increases, the amount of inorganic ionic compounds in the photosensitive layer of the PS plate increases. is eluted into the developer, and this lowers the impedance value of the developer, making it indistinguishable from the decrease in impedance value that accompanies concentration due to evaporation of water in the developer. Therefore, in such a case, the decrease in the impedance value of the phenomenon liquid due to the increase in the processing amount of the PS plate should be calculated in advance, and this can be input into a computer, for example, to calculate the impedance value due to water evaporation. It is only necessary to detect only the decrease in the diluent, and to control the diluent so that it drops to a predetermined value and then replenishes a certain amount of diluent. Needless to say, it is advantageous if the photosensitive layer of the PS plate does not contain an inorganic ionic metal, since such complicated operations are not necessary.
本発明の現像方法は、例えば特開昭67760US号に
記載されている様な現像補充液を補充する方法を併用す
ることができる。The developing method of the present invention can be used in conjunction with a method of replenishing a developer replenisher as described in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 67760 US.
以下、本発明により更に詳細に説明する。なお、「係」
は他に指定のない限り重1t%を示すものとする。The present invention will be explained in more detail below. In addition, "person in charge"
indicates weight 1t% unless otherwise specified.
実施例1
窒素気流下にエチレングリコールモノメチルエーテル3
001を1oo0cに加熱し、この中へコーヒドロキシ
エチルメタクリレート70f1アクリロニトリルrot
、ベンジルメタアクリレート/ J Of、メタクリル
酸20?及び過酸化ベンゾイル1.λ1の混合液を2時
間かけて滴下した。Example 1 Ethylene glycol monomethyl ether 3 under nitrogen flow
Heat 001 to 1oo0c and add co-hydroxyethyl methacrylate 70f1 acrylonitrile rot into it.
, benzyl methacrylate/J Of, methacrylic acid 20? and benzoyl peroxide 1. A mixture of λ1 was added dropwise over 2 hours.
滴下終了15分後にエチレングリコールモノメチルエー
テル300fと過酸化ベンゾイル0.31を加えて、そ
のままμ時間反応させ罠。反応終了後メタノールで希釈
して水中に投じて共重合体を沈澱させ、700Cで真空
乾燥させ罠。この2−ヒドロキシエチルメタクリレート
共重合体(I)の酸1曲は4AO,2であつ罠。15 minutes after the completion of the dropping, 300 f of ethylene glycol monomethyl ether and 0.3 l of benzoyl peroxide were added, and the reaction was allowed to continue for μ hours. After the reaction is complete, the copolymer is diluted with methanol and poured into water to precipitate the copolymer, which is then dried under vacuum at 700C. The acid number of this 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer (I) is 4AO,2.
厚さ00−2μ間の/Sアルミニウム板2tro0cに
保たれた第3りん酸ナトリウムの10%水溶液 [に3
分間浸漬して脱脂し、パミス/水スラリーとナイロンブ
ラシで砂目立て後、toocのアルミン酸ナトリウム3
チ水溶液でデスマットした。このアルミニウム板IJO
%硫酸中で一2A/dm2の電流密度で2分間陽極酸化
し、その後700Cの珪酸ナトリウムのJ、5%水溶液
で7分間処理し罠。A 10% aqueous solution of tertiary sodium phosphate kept at a /S aluminum plate 2tro0c with a thickness between 00 and 2μ [Ni3
After degreasing by soaking for a minute and sanding with pumice/water slurry and a nylon brush, tooc's sodium aluminate 3
It was desmutted with an aqueous solution. This aluminum plate IJO
% sulfuric acid at a current density of -2 A/dm2 for 2 minutes, and then treated with a J, 5% aqueous solution of sodium silicate at 700 C for 7 minutes.
このアルミニウム板につぎの感光液を塗布し、1oo0
Cで2分間乾燥してpsit得た。The following photosensitive liquid was applied to this aluminum plate and 1oo0
Drying at C for 2 minutes gave psit.
コーヒドロキシエチルメタクリ
レート共重合体II) ざ71
p−ジアゾジフェニルアミンと
ノξラホルムアルデヒドの縮合
物のλ−メトキシーμmヒド
ロキシ−よ一ベンンイルベン
ゼンスルホン酸塩 iov
亜りん酸のsoチ水溶液 31
オイルブルー#603
(オリエント化学工業株式会
社製、トリフェニルメタン系
油溶性染料)32
2−メトキシエタノール 6002
メタノール 6oot
エチレンジクロライド AOOf
乾燥塗布量はコ、OS’ / tn 2であった。この
PS版を未露光のままで、次の組成よりなるアルカリ性
現像液/lを使用し、皿現像によりum2/lまで現像
処理を行つ友。co-hydroxyethyl methacrylate copolymer II) 71 λ-methoxy μm condensate of p-diazodiphenylamine and no-ξ-formaldehyde hydroxy-bennylbenzene sulfonate iov So-thi aqueous solution of phosphorous acid 31 Oil blue #603 (Triphenylmethane oil-soluble dye, manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.) 32 2-methoxyethanol 6002 Methanol 6oot Ethylene dichloride AOOf The dry coating amount was 2, OS'/tn. This PS plate, left unexposed, is developed to um2/l by plate development using an alkaline developer having the following composition/l.
紅キニトリロ三酢酸ナトリウム 0. !?亜硫酸ナト
リウム 31
ベンジルアルコール 30f
トリエタノールアミン 20?
モノエタノールアミン 3f
t−i−y−ルナフタレンスルホン酸
ナトリウムの35チ水溶液= 3θを
水道水 タ2.2a
この現像の除液の損失を極力少なくする罠めに現像後、
プレートの裏表をスキージして液の回収を心掛け、父、
処理過程で現像液の水分が不必要に蒸発しないよう速や
かに塩1象処理を行なった。Beniquinitrilotrilotriacetic acid sodium 0. ! ? Sodium sulfite 31 Benzyl alcohol 30f Triethanolamine 20? Monoethanolamine 3f ti-y-35% aqueous solution of sodium lunaphthalene sulfonate = 3θ with tap water Ta 2.2a After developing to minimize the loss of liquid removal during this development,
My father, trying to collect the liquid by squeezing the front and back of the plate,
Salt treatment was quickly carried out to prevent water in the developer from evaporating unnecessarily during the treatment process.
この結果、スタート時/7であった液量はμm2/lの
処理終了後でOoりtrtであった。はぼ水の蒸発はな
いと考えられる処理液を得た。As a result, the liquid volume, which was /7 at the start, became Oo trt after the completion of the treatment of μm2/l. A treated solution was obtained in which it was thought that there would be no evaporation of water.
第1表にはこの弘m2/ を処理までの境1寮処理液の
交流インピーダンス値とこの44m/l処理までの処理
液より70%及び20%の水を蒸発させたそれぞれの交
流インピーダンス値との比較もして処理液の交流インピ
ーダンス値を示し罠。なお、交流インピーダンス値tf
jmAの定電流、1OKHzの周波数を用い、交流イン
ピーダンス計により測定した。センサーは約/cm の
対電極を用い、電極間距離は約/cmである。Table 1 shows the AC impedance value of the Sakai 1 dormitory treatment solution up to the treatment and the AC impedance value of the treatment solution after evaporating 70% and 20% of water from the treatment solution up to the 44 m/l treatment. The comparison also shows the AC impedance value of the treatment liquid. In addition, AC impedance value tf
The measurement was carried out using an AC impedance meter using a constant current of 1 kHz and a frequency of 1 kHz. The sensor uses a counter electrode of approximately /cm 2 and the distance between the electrodes is approximately /cm 2 .
また同時に1水の蒸発に伴う現像カスの発生を示した。At the same time, development scum was generated due to evaporation of water.
第1表より液の蒸発による交流インピーダンス値の変化
量と比較すれば現像処理に伴う交流インピーダンス値の
変化は小さいことが判る。From Table 1, it can be seen that the change in AC impedance value due to development processing is small when compared with the amount of change in AC impedance value due to liquid evaporation.
そこで、蒸発した処理液の蒸発した量に相当する水を補
充すること罠より交流インピーダンス値け蒸発により濃
縮した処理液は現像カスとしてプレートに付着し;汚れ
の″原因となるヘドロ状の沈澱物を生じた。Therefore, it is necessary to replenish water equivalent to the amount of the evaporated processing solution.The processing solution concentrated by evaporation from the AC impedance value adheres to the plate as development scum; sludge-like precipitate that causes stains occurred.
そしてこのものに蒸発量に相幽する水?加え攪拌すると
ヘドロ状の沈澱物は液中に溶解し消失してしまった。And is this water related to the amount of evaporation? When added and stirred, the sludge-like precipitate dissolved into the liquid and disappeared.
水が一定量加えられる様にした自動現像装置tヲ用いて
多数枚のプレートを現像処理した。すなわち、 82図
で示される自動現像装置の現像タンクへ前記の現像液t
ot’に仕込み前記の感光性プレートを多数枚現像処理
した。A large number of plates were developed using an automatic developing device that added a constant amount of water. That is, the developer t is poured into the developing tank of the automatic developing device shown in Figure 82.
A large number of the photosensitive plates described above were developed.
咳自動現像装置内の現像液循環パイプ内に前記のインピ
ーダンス測定用センサー(ステンレス製)を取りつけ、
常時現像タンク中の現像液のインピーダンス値が測定で
きるように設置した。センサーにて得られ罠信号は交流
インピーダンス計本体補充装置が働き、タイマースイッ
チによって0゜12の水が添加されるようにした。Attach the impedance measurement sensor (made of stainless steel) to the developer circulation pipe in the automatic developing device.
It was installed so that the impedance value of the developer in the developing tank could be measured at all times. The trap signal obtained by the sensor was activated by the AC impedance meter main unit replenishment device, and water at 0°12 was added using the timer switch.
この自動31i像装置によυ前記の1003tHXIθ
0■で厚さ0.JOTIMMからなる画像露光した28
版を20m 7日の割合で処理し3〜ぴ日間隔でlケ月
itom のランニングを実施した。With this automatic 31i imager, υ the above 1003tHXIθ
0■ thickness 0. 28 exposed images consisting of JOTIMM
The plate was processed at a rate of 20 m/7 days, and running was carried out for 1 month at intervals of 3 to 7 days.
1日の処理時間は5時間で、/m 処理ごとに水補充と
は別に270tdの現像液を補充し現像不良になるのを
防止し罠。The processing time per day is 5 hours, and 270 td of developer is refilled in addition to water for each processing to prevent poor development.
交流インピーダンス値は処理日数の経過に伴って低下し
、インピーダンス値が管理値に達した時点でo、slの
水が補充され、lケ月の間に10回、j、Otの水が補
充された。このようにして現1象処理されて得られた平
版印刷版は、いずれも現謙カスd付着が一切ない事は勿
論、印刷においても汚れが発生せず良好な印刷性能が得
られた。 1比較として水補充を行なわないで上記と同
様の現像処理倉実施し罠ところ、100m の28版を
処理した時点で現像槽内で現像カスの発生が認められ、
その現像カスが平版印刷版の非画家部に付 。The AC impedance value decreased as the number of treatment days passed, and when the impedance value reached the control value, o, sl water was replenished, and j, ot water was replenished 10 times during l months. . All of the planographic printing plates obtained by the above-mentioned phenomenon treatment had no adhesion of scum d at all, and no staining occurred during printing, resulting in good printing performance. As a comparison, we carried out the same process in the developing tank as above without replenishing water, but when we processed 28 plates of 100 m, development residue was observed in the developing tank.
The development residue is attached to the non-artist area of the lithographic printing plate.
着して、そのプレートt−実際に印刷するとカスが付着
し罠部分が汚れとなった。When the plate was actually printed, residue adhered to it and the trap area became dirty.
実施例2
実施例1において補充装置によって添加される希釈剤を
水の代わりに、現像液1部、水2部の割合の希釈剤?用
いた。その他は、実施fl11と同様にしてランニング
を行なった。Example 2 In Example 1, instead of water, the diluent added by the replenishing device was replaced by a diluent in the ratio of 1 part developer to 2 parts water. Using. Other than that, running was carried out in the same manner as in the experiment fl11.
lケ月の間にl弘回、計7.01の希釈剤が補充され、
実施例1と同様、現f家カスの付着のないプレートが得
られた。A total of 7.01 diluents were replenished 1 times in 1 months,
As in Example 1, a plate free from adhesion of family debris was obtained.
第1図および第2図は、本発明の自動現像装置の断面図
である。
l・・・ローラ 3・・・ノズルノミイブμ・・・現像
タンク j・・・現像液
り・・・インピーダンス測定装#lθ・・・センサー/
/・・・自動計量手段 コト・・検知手段n、ム ・・
・挿入ローラ
23 、JIA、30 、j+2 ・・・搬送ローラ2
1、コア ・・・スキージローラ
コタ、J/ ・・・ブラシローラ
コム33 ・・・ノズルノqイブ
3弘・・・ポンプ 37・・・現像液
3g・・・センサー
3り・・・測定装置(交流インピーダンス計)ao、a
コ・・・自動計量手段1 and 2 are cross-sectional views of the automatic developing device of the present invention. l...Roller 3...Nozzle feed μ...Developer tank j...Developer liquid...Impedance measurement device #lθ...Sensor/
/... automatic measuring means... detection means n, m...
・Insertion roller 23, JIA, 30, j+2...Conveyance roller 2
1. Core... Squeegee roller comb, J/... Brush roller comb 33... Nozzle no. AC impedance meter) ao, a
K...Automatic measuring means
Claims (2)
感光性平版印刷板を、電解質を含有する水溶液からなる
現像液で現像する方法において、該自動現像機中の現像
液の交流インピーダンス値を測定し、現像液の水分蒸発
によって該現像液が濃縮されて該値が所定の管理値に達
した時に、該現像液へ一定量の水、又は該現像液に含ま
れる成分の内の少なくとも1つを該現像液中の濃度より
も低い濃度で含有する水溶液を添加して、該現像液の濃
度を一定の範囲内に維持することを特徴とする感光性平
版印刷版の現像方法。(1) In a method of developing a large number of image-exposed photosensitive lithographic printing plates using an automatic developing device with a developer consisting of an aqueous solution containing an electrolyte, the alternating current impedance value of the developer in the automatic developing device is measured, and when the developer is concentrated by water evaporation and the value reaches a predetermined control value, a certain amount of water or at least one of the components contained in the developer is added to the developer. 1. A method for developing a photosensitive lithographic printing plate, characterized in that the concentration of the developer is maintained within a certain range by adding an aqueous solution containing one of the two at a concentration lower than that in the developer.
光性平版印刷版に現像液を施し、該現像液を循環使用す
るようにした感光性平版印刷版の自動現像装置において
、該現像液の循環系に該現像液の交流インピーダンス値
を測定する手段を設ける一方一該測定手段からの出力信
号にょシ作動し、該循環系に所定量の稀釈剤を供給する
給液手段を設けたことを特徴とする自動現像装置。(2) In an automatic developing device for a photosensitive lithographic printing plate, which applies a developer to the photosensitive lithographic printing plate during the process of transporting the photosensitive lithographic printing plate, and recycles the developer, the developer is applied to the photosensitive lithographic printing plate. A means for measuring an AC impedance value of the developer is provided in the circulation system of the developer, and a liquid supply means is provided which is actuated by an output signal from the measurement means and supplies a predetermined amount of diluent to the circulation system. An automatic developing device featuring:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1174684A JPS60156063A (en) | 1984-01-25 | 1984-01-25 | Method and apparatus for automatically developing photosensitive lithographic plate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1174684A JPS60156063A (en) | 1984-01-25 | 1984-01-25 | Method and apparatus for automatically developing photosensitive lithographic plate |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60156063A true JPS60156063A (en) | 1985-08-16 |
JPH0428296B2 JPH0428296B2 (en) | 1992-05-14 |
Family
ID=11786583
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1174684A Granted JPS60156063A (en) | 1984-01-25 | 1984-01-25 | Method and apparatus for automatically developing photosensitive lithographic plate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60156063A (en) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1984
- 1984-01-25 JP JP1174684A patent/JPS60156063A/en active Granted
Patent Citations (2)
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0428296B2 (en) | 1992-05-14 |
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