JPS60145392A - Production of amorphous alloy - Google Patents
Production of amorphous alloyInfo
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- JPS60145392A JPS60145392A JP26041284A JP26041284A JPS60145392A JP S60145392 A JPS60145392 A JP S60145392A JP 26041284 A JP26041284 A JP 26041284A JP 26041284 A JP26041284 A JP 26041284A JP S60145392 A JPS60145392 A JP S60145392A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は非晶質(アモルファス)合金の製造方法に関す
るものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for manufacturing an amorphous alloy.
近年、非晶質合金はその構造と物理的性質(特に熱的、
電気的及び磁気的性質)、更には力学的性質の点で注目
されはじめている。即ち、非晶質合金の一般的な特長と
して下記のものが考えられる。In recent years, amorphous alloys have been developed to improve their structure and physical properties (especially thermal,
It is beginning to attract attention for its electrical and magnetic properties, as well as its mechanical properties. That is, the following can be considered as general features of amorphous alloys.
(1) 機械的強度が実用金属材料に比べて高く、実用
金属材とウィスカーとの中間であること。(1) The mechanical strength is higher than that of practical metal materials, and is intermediate between that of practical metal materials and whiskers.
(2) 剛性率が結晶金属に比べて20〜40%低いこ
と。(2) The rigidity is 20 to 40% lower than that of crystalline metals.
(3) 殆ど加工硬化がないこと。(3) Almost no work hardening.
(4) 電気抵抗が一般に高いこと。(4) Electrical resistance is generally high.
(5) Cr等の転化によって耐食性が著しく向上する
こと。(5) Corrosion resistance is significantly improved by conversion of Cr, etc.
(6) 高透磁性を有するものの製造が可能であること
。(6) It is possible to manufacture products with high magnetic permeability.
従来此種の非晶質合金の製造方法としては、スパッタリ
ングによる方法、容融物の急冷法(例えばガン法、ピス
トンアンビル法、圧延法、遠心法)等が知られているが
、後者の急冷法の方が一般的に行なわれている。この方
法によれば、Fe系金属と、非晶質元素(例えばP、C
,B、 Si) (7)2種以上とを一旦溶解せしめ、
これを冷却してから粉砕し、再び溶解せしめ、これを吹
き付ける等して急冷することにより非晶質化するように
している。Conventionally, known methods for producing this type of amorphous alloy include sputtering, rapid cooling of a melt (e.g. gun method, piston anvil method, rolling method, centrifugal method), etc. The law is more commonly practiced. According to this method, Fe-based metal and amorphous elements (such as P and C
, B, Si) (7) Once the two or more species are dissolved,
This is cooled, pulverized, melted again, and quenched by spraying or the like to make it amorphous.
この結果、非晶質合金被膜を形成することは出来るが、
Feの融点が高く、共晶温度を下げて製造を容易にする
ために非晶質元素を少なくとも2種類含有させることが
必要となる。従って例えばFe −Pの2元素からなる
合金を製造することは不可能であり、然も急冷法による
プロセスは非常に面倒なものである。また合金被膜の膜
厚をコントロールしたり或いは合金被膜の形状のパター
ンを様々なものとするのは困難である。As a result, although it is possible to form an amorphous alloy film,
Since Fe has a high melting point, it is necessary to contain at least two types of amorphous elements in order to lower the eutectic temperature and facilitate manufacturing. Therefore, it is impossible to produce an alloy consisting of two elements, for example Fe--P, and the rapid cooling process is very complicated. Furthermore, it is difficult to control the thickness of the alloy coating or to vary the shape of the alloy coating.
本発明は上述の如き欠陥を是正すべ〈発明されたもので
あって、FeSO4・711□0として計算して100
〜500g/j!に相当する2価Feイオンを供給する
量の硫酸第一鉄及び/又はスルファミン酸鉄と、Na1
lzPOz ・tlzoとして計算して8〜30g/l
に相当する次亜リン酸及び/又は次亜リン酸塩とを主と
して含有するメッキ浴を用いて、pH1,4〜2.2、
温度30〜50°C1電流密度5〜20A/dm2の条
件下で電気メッキするごとにより、Fe−Pを主体とす
る非晶質合金を製造するようにした非晶質合金の製造方
法に係るものである。この方法によって、1種の非晶質
元素を用いて非晶質合金を極めて簡単に製造することが
出来、然も非晶質元素の量を少なくすることが出来、ま
た合金の膜厚及び形状のコントロールも非常に簡単とな
る。The present invention is intended to correct the above-mentioned defects.
~500g/j! Ferrous sulfate and/or iron sulfamate in an amount that supplies divalent Fe ions corresponding to Na1
Calculated as lzPOz ・tlzo 8-30g/l
Using a plating bath mainly containing hypophosphorous acid and/or hypophosphite corresponding to pH 1.4 to 2.2,
A method for producing an amorphous alloy, in which an amorphous alloy mainly composed of Fe-P is produced by electroplating at a temperature of 30 to 50°C and a current density of 5 to 20 A/dm2. It is. By this method, it is possible to manufacture an amorphous alloy using one type of amorphous element very easily, and the amount of the amorphous element can be reduced, and the film thickness and shape of the alloy can be Control is also very easy.
なお本発明の方法によって製造されるFe−P系の非晶
質合金はFeが60〜88at%でPが12〜30at
%であるのが好ましい。Reを60〜88at%(原子
数の割合)としたのは、Feが60at%未満ではメッ
キの付きが悪くなりかつまたP濃度が増えて磁束密度B
mが低下してしまい、またFeが88at%を越えると
P濃度が減少して非晶質(アモルファス)合金とならな
いからである。またPを12〜3Qat%としたのは、
上記のFeの割合と丁度逆の関係からPが12at%未
満では非晶質合金が得られ難く、またPが30at%を
越えると電気抵抗が高くなりすぎてメッキの付きが悪く
なりかつまた磁束密度Bmが低下してしまうからである
。Note that the Fe-P-based amorphous alloy produced by the method of the present invention contains 60 to 88 at% Fe and 12 to 30 at% P.
% is preferred. The reason for setting Re to 60 to 88 at% (ratio of the number of atoms) is that if Fe is less than 60 at%, plating will not adhere well and the P concentration will increase, resulting in a decrease in magnetic flux density B.
This is because m decreases, and if Fe exceeds 88 at %, the P concentration decreases and an amorphous alloy cannot be formed. Also, P was set to 12 to 3 Qat% because
Because of the exact opposite relationship to the Fe ratio mentioned above, if P is less than 12 at%, it is difficult to obtain an amorphous alloy, and if P exceeds 30 at%, the electrical resistance becomes too high, resulting in poor plating adhesion and magnetic flux. This is because the density Bm will decrease.
第1図には、後述するメッキ条件を満足した状態でメッ
キを行った場合のメッキ浴中のPの濃度とメッキ被膜中
のPの濃度との関係が示されている。これによれば析出
物(即ち合金)中のPの濃度が12at%未満となれば
、非晶質となりにくいことが分る。また第2図には、後
述するスルファミン酸浴を用いて後述するメッキ条件を
満足した状態で、メッキ浴のp++を変化させた場合に
メッキ被膜中のPの濃度が変化する状態が示されている
が、これによっても析出物(即ち合金)中のPの濃度が
128t%以上でないと、非晶質になりにくいことか分
る。FIG. 1 shows the relationship between the concentration of P in the plating bath and the concentration of P in the plating film when plating is performed while satisfying the plating conditions described below. According to this, it can be seen that if the concentration of P in the precipitate (that is, the alloy) is less than 12 at%, it is difficult to become amorphous. Figure 2 also shows how the concentration of P in the plating film changes when the p++ of the plating bath is changed using a sulfamic acid bath, which will be described later, and satisfying the plating conditions described below. However, this shows that unless the concentration of P in the precipitate (that is, the alloy) is 128 t% or more, it is difficult to become amorphous.
なお本発明の方法によって製造される非晶質合金は一ヒ
述のFe及びP以外に、Cr等を1〜2at%含有せし
めて合金の耐食性を向」ニさせることも出来るが、この
場合CrがCr”としてメッキ浴中に存在していないと
Pe2+をFe3+に酸化させてしま・うので望ましく
ない。In addition to Fe and P mentioned above, the amorphous alloy produced by the method of the present invention can also contain 1 to 2 at% of Cr, etc. to improve the corrosion resistance of the alloy, but in this case, Cr If it is not present as Cr'' in the plating bath, it is undesirable because Pe2+ will be oxidized to Fe3+.
また本発明による非晶質合金の製造方法において、メッ
キ浴の主成分である2価のFeイオンは、硫酸第一鉄(
FeSO4)、スルファミン酸鉄(Fe(Nl12SO
3) 2 ) 、或いはこれらの混合物から得られる。In addition, in the method for manufacturing an amorphous alloy according to the present invention, divalent Fe ions, which are the main component of the plating bath, are ferrous sulfate (
FeSO4), iron sulfamate (Fe(Nl12SO
3) 2) or a mixture thereof.
なおp e 2 +を供給するものとして塩化第一鉄(
FeCβ2)も存在するが、こればFe3+を生成し易
いので、メッキされないで沈澱するFe成分が増大し、
好ましくない。またメッキ浴の他方の主成分はPの供給
源であって、次亜リン酸(113PO2) 、次亜リン
酸塩、或いはこれらの混合物を用いるが、この次亜リン
酸塩としては次亜リン酸すトリウム(Nat12PO2
)次亜リン酸カリウム(Kl12PO2)等が挙げられ
る。In addition, ferrous chloride (ferrous chloride (
Although FeCβ2) also exists, it tends to generate Fe3+, so the Fe component that is not plated and precipitates increases,
Undesirable. The other main component of the plating bath is a source of P, and hypophosphorous acid (113PO2), hypophosphite, or a mixture thereof is used. Thorium oxide (Nat12PO2
) Potassium hypophosphite (Kl12PO2) and the like.
次にメッキの原理を概略的に述べると、例えばFeSO
4はFe2+とS04′−に解離してp e 2 +が
陰極側に移動し、ここで還元されてFeとして電着され
る。Next, to roughly describe the principle of plating, for example, FeSO
4 dissociates into Fe2+ and S04'-, and p e2+ moves to the cathode side, where it is reduced and electrodeposited as Fe.
また次亜リン酸塩、例えばNa1lzPOzは一旦Na
+と(II2PO2)−ニ解離し、これらはIhOニよ
ってNa0IIとIl、pH6となるが、このうちN
a OHはメッキ浴のpHが低いために1Ja2sO4
に変化してしまう。従って次亜リン酸塩はほとんどH3
P0□となり、これがらPが供給されるものと考えられ
る。なおNat12PO2のNaはこの試薬を安定化さ
せる作用をする。In addition, hypophosphite, such as Na1lzPOz, is once converted to Na1lzPOz.
+ and (II2PO2)-2 dissociate, and these become Na0II and Il, pH 6, due to IhO2, but among these, N
a OH is 1Ja2sO4 due to the low pH of the plating bath.
It changes to. Therefore, hypophosphite is mostly H3
P0□, and it is considered that P is supplied from these. Note that Na in Nat12PO2 acts to stabilize this reagent.
本発明によるメッキ浴は下記の基本組成から成リ、下記
の条件下で電気メッキするのが望ましい。The plating bath according to the present invention has the following basic composition and is preferably electroplated under the following conditions.
FeSO4’71120100〜500g/AT7−ア
スコルビン酸 2〜10g#’Na1lzPOz −1
1208〜30 g/ 7!pH1,0〜 2.2
電流密度 5〜2〇八へdm2
浴 温 30〜 50°に
の場合、■、−アスコルビン酸はpe2+の安定化剤と
して作用する。また上記基本組成の成分以外に、ポウ酸
(H3BO:+)や塩化アンモニウム(N11.C7り
を添加してもよい。FeSO4'71120100~500g/AT7-ascorbic acid 2~10g#'Na1lzPOz -1
1208~30 g/7! When the pH is 1.0 to 2.2, the current density is 5 to 208 dm2, and the bath temperature is 30 to 50°, -ascorbic acid acts as a stabilizer for pe2+. In addition to the components of the above basic composition, poric acid (H3BO:+) and ammonium chloride (N11.C7) may be added.
メッキ条件としてpllが」−記の範囲から外れ、1.
4未満になるとPの濃度が増えるので、メッキの付きが
悪くなると共にPeの割合が低下して磁束密度Bmが低
下し、2.2を越えるとメッキはイ1くが非晶質のメッ
キにするのが困難となる。また電流密度が」1記の範囲
から外れ、5Δ/dm2未満になるとメッキが困難とな
り、20 八/dm2を越えると電極に焼けが生じるの
で好ましくない。また浴温もあまり高すぎるとメッキ浴
の成分が沈澱してしまう。As a plating condition, pll is outside the range specified in "-", 1.
If it is less than 4, the P concentration will increase, so the adhesion of the plating will be poor, and the proportion of Pe will decrease, resulting in a decrease in the magnetic flux density Bm.If it exceeds 2.2, the plating will not be good, but will be amorphous plating. It becomes difficult to do so. Furthermore, if the current density falls outside the range specified in 1. and is less than 5 Δ/dm2, plating becomes difficult, and if it exceeds 20 8/dm2, the electrode will be burnt, which is not preferable. Furthermore, if the bath temperature is too high, the components of the plating bath will precipitate.
第3図には、メッキ浴のpllとFe系の酸化還元電位
Ehとの関係が示されているが、これによればFe、l
!:Fe”との間の酸化還元電位は−0,47mVであ
ってpH=o〜6では一定である。第4図には、メッキ
浴のpHとP系の酸化還元電位Ehとの関係が示されて
いるが、FeとPとの共晶によるFe−P系共晶合金を
メッキするためには、Feに関する上記酸化還元電位(
−0,47mV)とPに関する酸化還元電位とが接近し
ていなければならない。ところが第4図によれば、pl
lが2以上になれば、PとIl、PO□又はH2PO□
−との間の酸化還元電位が非常に低下する傾向があり、
従ってFeの」1記酸化還元電位ではPが共析されに<
<、非晶質のものが得難いことが分る。このため第4図
において、Pの酸化還元電位に近づけた状態で非晶質合
金を得るにはpllを2.2以下、好ましくは1.5〜
2.0にすることが必要である。Figure 3 shows the relationship between the pll of the plating bath and the Fe-based oxidation-reduction potential Eh.
! :Fe'' is -0.47 mV and is constant at pH=o~6. Figure 4 shows the relationship between the pH of the plating bath and the redox potential Eh of the P system. However, in order to plate a Fe-P-based eutectic alloy made of eutectic Fe and P, the above-mentioned oxidation-reduction potential (
-0.47 mV) and the redox potential with respect to P must be close. However, according to Figure 4, pl
If l becomes 2 or more, P and Il, PO□ or H2PO□
- The redox potential between
Therefore, at the redox potential of Fe, P is eutectoid and <
It turns out that it is difficult to obtain an amorphous material. Therefore, in FIG. 4, in order to obtain an amorphous alloy in a state close to the oxidation-reduction potential of P, pll is 2.2 or less, preferably 1.5-1.
It is necessary to set it to 2.0.
また本発明によるメッキ浴は上記基本組成を変更したも
のであってよく、FeSO4・711゜0の代わりに1
73〜573モルのスルファミン酸鉄を用いてよく、ま
たこの変更した基本組成に対し、低活性及び光沢性付与
のために0〜130g#!の尿素、pllを調節してバ
ッファ作用をする20〜60g/βのスルファミン酸ア
ンモニウム、少量の光沢剤を夫夫添加してもよい。また
適量のスルファミン酸ニッケルやスルファミン酸コバル
トを添加することにより、Pe−Ni又はCo−P系非
晶質合金とすることも出来る。Furthermore, the plating bath according to the present invention may have the above basic composition modified, with FeSO4.1 instead of 711°0.
73 to 573 moles of iron sulfamate may be used and for this modified basic composition, 0 to 130 g #! for low activity and gloss imparting! 20 to 60 g/β of ammonium sulfamate, which adjusts PLL and acts as a buffer, and a small amount of brightener may be added. Furthermore, by adding an appropriate amount of nickel sulfamate or cobalt sulfamate, a Pe-Ni or Co-P based amorphous alloy can be formed.
本発明による上述のメッキ浴を用いて非晶質合金を製造
する際には、メッキの前処理として、例えばCu試験片
からなる被メッキ物をまずトリクレン蒸気に脱脂洗浄し
、次いで例えば30g/j2のメタレックスWスペシャ
ル(マクダーミド社製の商品名)にて陰極洗浄してから
後水洗し、本メッキに入った。また他の前処理として、
^β試験片をトリクレン蒸気で洗浄し、次いでZn又は
Sn置換法によりシアン化銅浴からCuストライク(即
ち薄いCu膜を付けること)を行い、更にピロリン酸銅
浴からCuメッキした後に本メッキに入った。When producing an amorphous alloy using the above-mentioned plating bath according to the present invention, as a pretreatment for plating, the object to be plated, for example, consisting of a Cu test piece, is first degreased and cleaned in trichlene vapor, and then, for example, 30 g/j2 After cathodic cleaning with Metalex W Special (trade name, manufactured by MacDermid), and subsequent washing with water, the main plating was carried out. In addition, as another pretreatment,
The β test piece was cleaned with trichlene vapor, then Cu struck (i.e., applying a thin Cu film) from a copper cyanide bath using the Zn or Sn substitution method, and then Cu plated from a copper pyrophosphate bath before main plating. Has entered.
本メッキは、以下に述べる本発明の各実施例によるメッ
キ浴で行った。This plating was carried out using plating baths according to the following examples of the present invention.
実施例1 下記の組成の酸性メッキ浴を調製した。Example 1 An acidic plating bath having the following composition was prepared.
Fe5Ot ・7!120 300 g/ A’113
B03 30 g/ e
L−アスコルビン酸 5g/β
Na1lzPOz 21 g/ l1
NI1.Cβ 20g/Il
そしてこのメッキ浴を用い、下記の条件でメッキを行な
った。Fe5Ot ・7!120 300 g/ A'113
B03 30 g/e L-ascorbic acid 5 g/β Na1lzPOz 21 g/l1 NI1. Cβ 20g/Il Using this plating bath, plating was performed under the following conditions.
pll 2.2
電流密度 10A/dm2
浴 ’Pi、 40℃
この結果、第5図に示す如く、厚さ0.2 mm程度の
An試験片1上の厚さ1℃程度のCu膜2には、Fe−
P系の非晶質合金メッキ被膜3が厚さ30〜1001!
(例えば50μ程度)に析出した。このメッキ被膜3の
みを取出すには、Aff試験片1をまずNa0Il又は
KO)Iでエツチング除去し、更にCu膜2をNI+4
.OH+ NI+4.CRで電解エツチングして除去す
0
ればよい。pll 2.2 Current density 10 A/dm2 Bath 'Pi, 40°C As a result, as shown in Fig. 5, the Cu film 2 with a thickness of about 1°C on the An specimen 1 with a thickness of about 0.2 mm , Fe-
The P-based amorphous alloy plating film 3 has a thickness of 30 to 100 mm!
(for example, about 50μ). To remove only this plating film 3, first remove the Aff test piece 1 by etching with Na0Il or KO)I, and then remove the Cu film 2 with NI+4
.. OH+NI+4. It is sufficient to remove it by electrolytic etching with CR.
本実施例によれば、メッキ被膜3の膜厚はメッキ浴の成
分の濃度、pl+、電流密度等のコントロールによって
自由に変えることが出来る。またCu膜2の表面に所定
パターンのメソキレシスト層(図示せず)を被着してお
けば、このメンキレジスト層が存在しない部分にメッキ
被膜3を付けられるから、メソキレシスト層の形状によ
って様々なパターンのメッキ被膜を容易に形成すること
が出来る。According to this embodiment, the thickness of the plating film 3 can be freely changed by controlling the concentration of the components of the plating bath, pl+, current density, etc. In addition, if a mesochyresist layer (not shown) with a predetermined pattern is deposited on the surface of the Cu film 2, the plating film 3 can be applied to areas where this mesochyresist layer does not exist, so various patterns can be formed depending on the shape of the mesochyresist layer. A plating film can be easily formed.
次に以上のようにして製造したFe−P系の合金につい
てX線回折を行ったところ、第6図に示す如く、ブロー
ドなスペクトルを示し、結晶質特有のピークは現れなか
った。また、磁気天秤による磁化量の温度変化を第7図
に示したが、これによれば温度上昇に伴って磁化量が低
下し、300℃を越えたあたりで結晶質であれば点線の
ように磁化量が低下してゼロ(キュリ一点)となるのに
、本実施例による非晶質合金の場合、磁化量がゼロにな
らず温度上昇に伴って磁化量が上昇すること1
が分る。この磁化量の上昇は、非晶質が結晶化すること
により生じるものであり、従って本実施例により製造さ
れたメッキ被膜は非晶質のものであることが明らかであ
る。また第8図には、メッキ被膜を示差熱分析した結果
が示されているが、これによれば磁化量の」−記」−昇
(第7図)が起こる温度において非晶質の結晶化によっ
て示差熱での発熱反応が起こっていることが明らかであ
る。Next, when X-ray diffraction was performed on the Fe--P alloy produced in the above manner, it showed a broad spectrum as shown in FIG. 6, and no peaks characteristic of crystallinity appeared. Figure 7 shows the change in magnetization with temperature using a magnetic balance, and it shows that as the temperature rises, the magnetization decreases, and when the temperature exceeds 300°C, it becomes crystalline as shown by the dotted line. It can be seen that although the amount of magnetization decreases to zero (one Curie point), in the case of the amorphous alloy according to this example, the amount of magnetization does not become zero and increases as the temperature rises1. This increase in magnetization is caused by crystallization of amorphous material, and it is therefore clear that the plated film produced according to this example is amorphous. Furthermore, Fig. 8 shows the results of differential thermal analysis of the plating film, which shows that amorphous crystallization occurs at the temperature at which the amount of magnetization increases (Fig. 7). It is clear that an exothermic reaction with differential heat is occurring.
なお本実施例により得られたRe−P系非晶質合金は例
えばFeBs、 IP + 4. qからなり、磁束密
度Bm−13200gaussであった。Note that the Re-P-based amorphous alloy obtained in this example is, for example, FeBs, IP + 4. q, and the magnetic flux density was Bm-13200 gauss.
以上説明したように、Feの供給源であるFe5Onと
Pの供給源であるNaHzPO□とを主成分とする酸性
メッキ浴を用いて電気メッキするようにしているから、
従来不可能であったFe−Pの2元素からなる非晶質合
金を製造することが可能となった。As explained above, since electroplating is performed using an acidic plating bath whose main components are Fe5On, which is a Fe supply source, and NaHzPO□, which is a P supply source,
It has now become possible to manufacture an amorphous alloy consisting of two elements, Fe-P, which was previously impossible.
然もメッキ法によるものであるから、従来法と比べてそ
の操作が極めて簡単となり、また非晶質元素であるPの
量も比較的少なくなる。本実施例による非晶質合金は従
来の非晶質合金の有する諸特2
性を具備している。即ち、機械的強度が高く、加工硬化
が殆どなく、剛性率が比較的低く、電気抵抗が高く、然
も高透磁性を有したものとなり、磁性材料をはしめ、強
度が要求される小物部品や複合材料、板材、線材等に非
常に有用である。Since the plating method is used, the operation is extremely simple compared to conventional methods, and the amount of P, which is an amorphous element, is relatively small. The amorphous alloy according to this example has various characteristics possessed by conventional amorphous alloys. In other words, it has high mechanical strength, almost no work hardening, relatively low rigidity, high electrical resistance, and high magnetic permeability. Very useful for composite materials, plates, wires, etc.
実施例2 本実施例では下記の組成の酸性メッキ浴を調製した。Example 2 In this example, an acidic plating bath having the following composition was prepared.
Fe5Ot ・71120 300 g/ n113B
03 30 g/ ll
l7−アスコルビン酸 5g/n
NaHzPOz ・t120 8.5g/ EN84C
620g/β
そしてこのメッキ浴を用い、下記の条件でメッキを行な
った。Fe5Ot ・71120 300 g/n113B
03 30 g/ll l7-ascorbic acid 5g/n NaHzPOz ・t120 8.5g/EN84C
620 g/β Using this plating bath, plating was performed under the following conditions.
pH1,8
電流密度 1〇八へdm2
浴 温 40℃
上記メッキ浴ではNaH,PO□・H2Oを前記実施例
1よりも少なくしているが、前記実施例1で述べ3
たと同様のFe−P系非晶質合金を製造することが出来
た。pH 1,8 Current density 108 dm2 Bath temperature 40°C In the above plating bath, NaH and PO□・H2O are lower than in Example 1, but Fe-P similar to 3 mentioned in Example 1 is used. We were able to produce a non-crystalline alloy.
実施例3
本実施例では下記の組成の酸性メッキ浴を用い、前記実
施例2と同一条件でメッキを行なった。Example 3 In this example, plating was carried out under the same conditions as in Example 2 using an acidic plating bath having the following composition.
Fe5On・711zO278g/ ItN:SO4・
711□0 8 g/ j!+1JO3a o g/
p
L−アスコルビン酸 5 g/ 7!
Na1lzPOz ・H2O10,6g/ 7!N11
tC130g/ρ
このメッキ浴から製造された非晶質合金はpegsNi
z、+P+□、、からなっていた。この合金もX線回折
を行ったところ第6図と同様にブロードなスペクトルが
得られ、またその他の特性も前記実施例1で得られたも
のと同様であった。Fe5On・711zO278g/ ItN:SO4・
711□0 8 g/j! +1JO3a o g/
p L-ascorbic acid 5 g/7! Na1lzPOz ・H2O10.6g/7! N11
tC130g/ρ The amorphous alloy produced from this plating bath is pegsNi
It consisted of z, +P+□,,. When this alloy was subjected to X-ray diffraction, a broad spectrum similar to that shown in FIG. 6 was obtained, and other characteristics were also similar to those obtained in Example 1.
実施例4 本実施例では下記の組成の酸性メッキ浴を調製した。Example 4 In this example, an acidic plating bath having the following composition was prepared.
スルファミン酸鉄(鉄として)56g#!4
L−アスコルビン酸 5g/4
尿 素 120g/A
スルファミン酸アンモニウム 40g/ρNa1l。P
O□・1120 10.68/ ff光沢剤 少 量
そしてこのメッキ浴を用い、下記の条件でメッキを行な
った。Iron sulfamate (as iron) 56g#! 4 L-ascorbic acid 5g/4 Urea 120g/A Ammonium sulfamate 40g/ρNa1l. P
Plating was carried out using a small amount of O□・1120 10.68/ff brightener and this plating bath under the following conditions.
pl+ 1.83
電流密度 1〇八へdm2
浴 温 30°C
上記メッキ浴から析出したFe−P系の合金についてX
線回折を行ったところ、第9図に示すスペクトルaに示
す如く、ブロードなスペクトルが得られたが、シャープ
なピークを示すα−鉄のスペクトルbと比較すれば本実
施例による合金は非晶質のものであることを表している
。また本実施例による合金は、分析の結果、Pe8□、
2P1□1.の組成を有しており、磁気天秤による磁気
量の測定結果は磁束密度Bm = 14200gaus
sであり、その温度特性は第10図に示す如くになった
。即ち、温度上昇5
に伴って磁化量が減少するが、点線で示す結晶質のもの
とは違って更に温度を上げた場合に逆に磁化量が増えた
。これは結晶化によるものであり、本実施例による合金
が明らかに非晶質であることを示している。また示唆熱
分析の結果を示す第11図によれば、温度上昇に伴って
吸熱反応から発熱反応を起こすようになるが、これは非
晶質の結晶化によるものであることを示している。pl+ 1.83 Current density 108 dm2 Bath temperature 30°C Regarding the Fe-P alloy deposited from the above plating bath
When line diffraction was carried out, a broad spectrum was obtained as shown in spectrum a shown in Figure 9, but compared to spectrum b of α-iron, which shows a sharp peak, the alloy according to this example was amorphous. It shows that it is of high quality. Further, as a result of analysis, the alloy according to this example has Pe8□,
2P1□1. It has a composition of
s, and its temperature characteristics were as shown in FIG. That is, the amount of magnetization decreases as the temperature increases 5, but unlike the crystalline material shown by the dotted line, the amount of magnetization increases when the temperature is further increased. This is due to crystallization and shows that the alloy according to this example is clearly amorphous. Furthermore, according to FIG. 11 showing the results of suggestive thermal analysis, as the temperature rises, the endothermic reaction turns into an exothermic reaction, which indicates that this is due to crystallization of the amorphous state.
なお比較のために、上記メッキ浴のpHを2.27とし
てメッキした場合、第9図のスペクトルbで示ずような
α−鉄の(110)のピークが現れ、この合金メッキは
非晶質ではないことが分る。For comparison, when plating was carried out with the pH of the above plating bath set to 2.27, a (110) peak of α-iron appeared as shown in spectrum b in Figure 9, indicating that this alloy plating was amorphous. It turns out that it is not.
実施例5
本実施例では、前記実施例4で述べたメッキ浴において
、NaHzPO□・thOを42g/ffに増加させ、
かつIf、BO3を20g添加した。そしてこのメッキ
浴を用い、下記の条件でメッキを行った。Example 5 In this example, in the plating bath described in Example 4, NaHzPO□・thO was increased to 42 g/ff,
And If, 20g of BO3 was added. Then, plating was performed using this plating bath under the following conditions.
pH1,68
電流密度 7 A/dm2
浴 温 40℃
上記メッキ浴から析出したFe−P系の合金のX線回折
は第9図に示したスペクトルaと同様であり、やはり非
晶質であることを示している。また本実施例による合金
は、分析の結果、Few+、 a P ze、 zの組
成を有しており、磁束密度Bm = 12000gau
ssであった。pH 1,68 Current density 7 A/dm2 Bath temperature 40°C It shows. Further, as a result of analysis, the alloy according to this example has a composition of Few+, a P ze, z, and a magnetic flux density Bm = 12000 gau.
It was ss.
本発明は上述のような構成であるから、磁束密度Bmが
大きくかつFe−P系の非晶質合金特有の緒特性を有す
る非晶質合金を製造することができる。Since the present invention has the above-described configuration, it is possible to manufacture an amorphous alloy having a large magnetic flux density Bm and having characteristics peculiar to Fe-P-based amorphous alloys.
またこの非晶質合金を電気メッキで製造するようにして
いるから、1種の非晶質元素Pを用いて非晶質合金を極
めて簡単に製造出来、然も膜厚及び形状のコントロール
も非常に容易である。In addition, since this amorphous alloy is manufactured by electroplating, it is possible to manufacture an amorphous alloy using one kind of amorphous element P very easily, and the film thickness and shape can also be controlled very easily. Easy to use.
図面は本発明による非晶質合金を説明するためのもので
あって、第1図はメッキ浴中のPGM度とメッキ析出物
のP?a度との関係及び非晶質領域を示す曲線図、第2
図はメッキ浴のpnとメッキ析出物のP濃度の関係及び
非晶質領域を示す曲線図、第3図はメッキ浴のpHとF
e系の酸化還元電位Eh7
■b
との関係を示すダイヤグラム、第4図はメッキ浴のpH
とP系の酸化還元電位Ehとの関係を示すダイヤグラム
、第5図はFe−P系非晶質合金メッキ被膜が析出した
An試験片の断面図、第6図はFe−P系非晶質合金の
X線回折スペクトル図、第7図はその磁化量の温度特性
を示す曲線図、第8図はその示差熱分析の結果を示す曲
線図、第9図は別のFe−P系非晶質合金及びα−鉄の
X線回折スペクトル図、第10図はその非晶質合金の磁
化量の温度特性を示す曲線図、第11図はその示差熱分
析の結果を示す曲線図である。
代理人 上屋 勝
常包 芳男
8
F
−與ヨ=0−−帽)
−掬:!A零蝉V慄ミThe drawings are for explaining the amorphous alloy according to the present invention, and FIG. 1 shows the PGM degree in the plating bath and the P? of the plating precipitate. Curve diagram showing the relationship with a degree and the amorphous region, 2nd
The figure is a curve diagram showing the relationship between the pn of the plating bath and the P concentration of the plating precipitates and the amorphous region.
A diagram showing the relationship between the oxidation-reduction potential Eh7 ■b of the e system, and Figure 4 shows the pH of the plating bath.
Fig. 5 is a cross-sectional view of an An specimen on which a Fe-P-based amorphous alloy plating film has been deposited, and Fig. 6 is a diagram showing the relationship between P-based oxidation-reduction potential Eh and An X-ray diffraction spectrum diagram of the alloy, Figure 7 is a curve diagram showing the temperature characteristics of its magnetization, Figure 8 is a curve diagram showing the results of its differential thermal analysis, and Figure 9 is another Fe-P amorphous one. FIG. 10 is a curve diagram showing the temperature characteristics of magnetization of the amorphous alloy, and FIG. 11 is a curve diagram showing the results of differential thermal analysis. Agent Ueya Katsutsunekae Yoshio 8 F -Yo=0--Hat) -Kikki:! A Zero Semi V Horror
Claims (1)
00g/12に相当する2価Feイオンを供給する量の
硫酸第一鉄及び/又はスルファミン酸鉄と、NaHzP
O2・1120として計算して8〜30g/Itに相当
する次亜リン酸及び/又は次亜リン酸塩とを主として含
有するメッキ浴を用いて、p I+ 1 、4〜2.2
、iWt度30〜50℃、電流密度5〜20A/dm
2の条件下で電気メッキすることにより、Fe−Pを主
体とする非晶質合金を製造するようにした非晶質合金の
製造方法。Calculated as Fe5Ot' 7+120, 100~5
Ferrous sulfate and/or iron sulfamate in an amount that supplies divalent Fe ions corresponding to 00g/12, and NaHzP
Using a plating bath mainly containing hypophosphorous acid and/or hypophosphite corresponding to 8 to 30 g/It calculated as O2.1120, p I+ 1, 4 to 2.2
, iWt degree 30~50℃, current density 5~20A/dm
A method for producing an amorphous alloy, in which an amorphous alloy mainly composed of Fe-P is produced by electroplating under the conditions of 2.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26041284A JPS60145392A (en) | 1984-12-10 | 1984-12-10 | Production of amorphous alloy |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26041284A JPS60145392A (en) | 1984-12-10 | 1984-12-10 | Production of amorphous alloy |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5830576A Division JPS5910998B2 (en) | 1976-05-20 | 1976-05-20 | Manufacturing method of amorphous alloy |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60145392A true JPS60145392A (en) | 1985-07-31 |
JPS6319599B2 JPS6319599B2 (en) | 1988-04-23 |
Family
ID=17347566
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26041284A Granted JPS60145392A (en) | 1984-12-10 | 1984-12-10 | Production of amorphous alloy |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60145392A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018508648A (en) * | 2014-12-24 | 2018-03-29 | ポスコPosco | Fe-P-Cr alloy sheet and method for producing the same |
-
1984
- 1984-12-10 JP JP26041284A patent/JPS60145392A/en active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018508648A (en) * | 2014-12-24 | 2018-03-29 | ポスコPosco | Fe-P-Cr alloy sheet and method for producing the same |
US10563316B2 (en) | 2014-12-24 | 2020-02-18 | Posco | Fe—P—Cr alloy thin plate and method for manufacturing same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6319599B2 (en) | 1988-04-23 |
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