JPS60113399A - Semicondutor integrated circuit device - Google Patents

Semicondutor integrated circuit device

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Publication number
JPS60113399A
JPS60113399A JP58219408A JP21940883A JPS60113399A JP S60113399 A JPS60113399 A JP S60113399A JP 58219408 A JP58219408 A JP 58219408A JP 21940883 A JP21940883 A JP 21940883A JP S60113399 A JPS60113399 A JP S60113399A
Authority
JP
Japan
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electrode
fuse
circuit
fuse means
address
Prior art date
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Pending
Application number
JP58219408A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tetsuo Matsumoto
哲郎 松本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPS60113399A publication Critical patent/JPS60113399A/en
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals

Landscapes

  • Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

PURPOSE:To make it possible to inspect the presence or absence of the defect or the fusing of a fuse means by installing a electrode supplying the ground electric potential for the fusing to a source of MOSFET, by installing a switch MOSFET between an electrode and an electrode supplying the ground electric potential of a circuit and by measuring the resistance value of the fuse means through the MOSFET for the fusing, setting the switch MOSFET to ''off''. CONSTITUTION:The source of MOSFET 3 for the fusing is made common to the source of other same MOSFET for the fusing and is connected to an electrode P4 of supply the ground electric potential Vss' for the fusing. Namely, when a fuse means F0, etc., are fused, the electric potential is supplied to the electrode P4 by means of probing. Switch MOSFET Q15 and Q16 are in a serial shape installed between the electrode P4 and the electrode P5 supplying the ground electric potential Vss of the circuit. To the gate of these MOSFET Q15 and Q16, control signals phipow0 and phipowl are respectively impressed. Thus, the presence or absence of the defect or fusing of fuse means F0, etc., can be identified from the outside.

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は、半導体集積回路装置技術に関するもので、
例えば、欠陥ビット救済のための不良アドレス記憶回路
が設けられたダイナミック型RAM(ランダム・アクセ
ス・メモリ)に有効な技術に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Technical Field] This invention relates to semiconductor integrated circuit device technology.
For example, the present invention relates to a technique effective for a dynamic RAM (random access memory) provided with a defective address storage circuit for relieving defective bits.

〔背景技術〕[Background technology]

例えば、ダイナミック型RAMのような半導体記憶装置
において、その製品歩留りを向上させるために、欠陥ビ
ット救済方式を利用することが考えられている。
For example, in semiconductor memory devices such as dynamic RAMs, it has been considered to use a defective bit relief method in order to improve the product yield.

欠陥ビンtl&済方式を採用するために、半導体記憶装
置には、メモリアレイにおける欠陥ピントを指示するア
ドレス(以下、不良アドレスと称すスと半導体記憶装置
に供給されたアドレスとを比較するアドレス比較回路か
らなるアドレスコンベアと冗長メモリアレイ (予備メ
モリアレイ)とが設けられる。
In order to adopt the defect bin tl & completed method, the semiconductor memory device is equipped with an address comparison circuit that compares an address (hereinafter referred to as a defective address) that indicates defect focus in the memory array with an address supplied to the semiconductor memory device. An address conveyor consisting of an address conveyor and a redundant memory array (spare memory array) are provided.

上記不良アドレスを記憶する記憶手段として、第1図に
示すような記憶回路が考えられる。この記憶回路は、欠
陥メモリセルのアドレスを記憶するものであり、記憶手
段としてヒユーズ手段Fが用いられる。このヒユーズ手
段Fを上記アドレスに従って溶断させるため、次の回路
が設けられる。
As a storage means for storing the defective address, a storage circuit as shown in FIG. 1 can be considered. This memory circuit stores the address of a defective memory cell, and fuse means F is used as the storage means. In order to blow out this fuse means F according to the above address, the following circuit is provided.

電極P1からのタイミング信号φpにより、不良アドレ
ス信号aOを受ける論理回路が動作させられる。すなわ
ち、上記論理回路は、負荷MO3FETQIと、上記不
良アドレス信号10とを受けるインバータ回路によって
構成される。
A logic circuit receiving the defective address signal aO is operated by the timing signal φp from the electrode P1. That is, the logic circuit is constituted by an inverter circuit that receives the load MO3FETQI and the defective address signal 10.

また、電極P2と回路の接地電位との間には、ヒユーズ
手段FとMO5FETQ3とが直列形態に接続され、上
記MO3FETQ3のゲートに上記インバータ回路を構
成するMOS F ETQ 2のドレイン出力が印加さ
れる。
Furthermore, a fuse means F and a MOSFETQ3 are connected in series between the electrode P2 and the ground potential of the circuit, and the drain output of the MOSFETQ2 constituting the inverter circuit is applied to the gate of the MO3FETQ3. .

また、上記ヒユーズ手段Fが溶断されているか否かを識
別して、相補アドレス信号aO,aOを形成するため、
ランチ回路が設けられる。すなわち、そのドレインが上
記ヒユーズ手段Fに接続されたMO3FETQ4と、こ
のMO3FETQ4とゲート、ドレイン間が互いに交差
結線されたMO3FETQ5とによりランチ回路が構成
される。
Further, in order to identify whether or not the fuse means F is blown, and to form complementary address signals aO, aO,
A launch circuit is provided. That is, a launch circuit is constituted by an MO3FET Q4 whose drain is connected to the fuse means F, and an MO3FET Q5 whose gate and drain are cross-connected to each other.

なお、回路の電源電圧供給用の電極P3と上記ヒユーズ
溶断用電極P2との間には、抵抗R2からなる電流制限
手段が設けられている。ヒユーズ手段F(溶断させるか
否かのプログラム時には、プローブによって上記電極P
2に直接に溶断用の電圧vCCrが供給される。
Note that current limiting means consisting of a resistor R2 is provided between the electrode P3 for supplying the power supply voltage of the circuit and the electrode P2 for blowing the fuse. Fuse means F (when programming whether to fuse or not, use the probe to
A voltage vCCr for fusing is directly supplied to the voltage vCCr.

このような記憶回路においては、次のような問題の生じ
ることが本願発明者の研究によって明らかにされた。す
なわち、例えば、ヒユーズ手段Fとしてポリシリコン層
を用いた場合、その製造上のバラツキによって形状異常
又は構造異常が生じることがある。上記形状異常とは、
ヒユーズ手段Fを構成するポリシリコン層の途中に欠は
部分が生じること等であり、これによって、その抵抗値
が通常の10倍以上も大きくなってしまう、また、上記
構造異常とは、ポリシリコン層が鱗状に形成されそれぞ
れの接続部分に微少な間隙が形成されてしまう様なこと
であり、これによって上記形状異常が生じた場合と同様
にその抵抗値が大きくなってしまう。
The inventor's research has revealed that the following problems occur in such a memory circuit. That is, for example, when a polysilicon layer is used as the fuse means F, irregularities in shape or structure may occur due to manufacturing variations. What is the above shape abnormality?
The above-mentioned structural abnormality is caused by the occurrence of a chip in the middle of the polysilicon layer that constitutes the fuse means F, and this causes the resistance value to increase by more than 10 times the normal value. The layers are formed in the form of scales, and minute gaps are formed between the respective connection parts, which increases the resistance value as in the case where the above-mentioned shape abnormality occurs.

このような形状異常又は構造異常を有するヒユーズ手段
Fにあっては、上記MO3FETQ3のオン状態により
流れる溶断電流が小さくなるため、完全な溶断が行われ
なくなる。また、形状異常又は構造異常がないヒユーズ
手段Fにあっても、上記MO3FETQ3等の特性不良
等により不十分な溶断電流しか流れないことにより溶断
不良が発生する場合がある。これにより比較的大きな抵
抗値のもとに両端が接続された状態となる場合力、!る
(不完全溶断)。
In the fuse means F having such a shape abnormality or structural abnormality, the blowing current flowing through the ON state of the MO3FET Q3 becomes small, so that complete blowing is not performed. Further, even if the fuse means F has no abnormality in shape or structure, a fusing failure may occur due to insufficient fusing current flowing due to defective characteristics of the MO3FETQ3, etc. As a result, if both ends are connected under a relatively large resistance value, the force,! (incomplete fusion).

このように、ヒユーズ手段Fの書込み不良があフ ると
、欠陥ビ・7トの切り換えが行われなし)ままとなって
しまう。また、不完全溶断状態では、正常に動作したり
、誤動作したりすることになるので、機能試験でそれを
検出することが極めて難しいものとなる。したがって、
不良品が市場に流れてしまい、製品に使用され、実際の
稼働状態において重大な不良を引き起こす虞れがある。
In this way, when a writing failure occurs in the fuse means F, the defective bit 7 remains unswitched. Furthermore, in an incompletely fused state, the device may operate normally or malfunction, making it extremely difficult to detect this in a functional test. therefore,
Defective products end up on the market, are used in products, and may cause serious defects in actual operating conditions.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

この発明の目的は、高信頼性のヒユーズ手段を用いた記
憶回路を含む半導体集積回路装置を提供することにある
An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device including a memory circuit using highly reliable fuse means.

この発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、
この明細書の記述および添付図面から明らかになるであ
ろう。
The above and other objects and novel features of this invention include:
It will become clear from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔発明の概要〕 本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
[Summary of the Invention] A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、ヒユーズ手段を溶断させるMO3F’ETの
ソースに溶断用の接地電位を供給する電極を役け、この
電極と回路の接地電位を供給する電極との間にスイッチ
MO3FETを設けるとともに、このスイッチMO3F
ETをオフ状態にして上記ヒユーズ手段の抵抗値を上記
溶断用MO3FETを介して測定することによってヒユ
ーズ手段の欠陥又は溶断の有無を検査できるようにする
ものである。
That is, the source of the MO3F'ET that blows the fuse means serves as an electrode that supplies a ground potential for blowing, and a switch MO3FET is provided between this electrode and an electrode that supplies the ground potential of the circuit.
By turning off the ET and measuring the resistance value of the fuse means via the blowing MO3FET, it is possible to inspect the fuse means for defects or blowouts.

〔実施例〕〔Example〕

第2図には、ダイナミック型RAMの欠陥ビットの救済
のために設けられるアドレスコンベアにこの発明を適用
した場合の一実施例の回路図が示されている。アドレス
コンベア(冗長回路)は、複数の単位アドレスコンベア
(単位冗長回路)ACOからACnにより構成されてい
る。同図には、単位アドレスコンベアACOのみが詳し
く記載されているが、残りの単位アドレスコンベアも単
位アドレスコンベアACOと同様な構成されている。
FIG. 2 shows a circuit diagram of an embodiment in which the present invention is applied to an address conveyor provided for repairing defective bits in a dynamic RAM. The address conveyor (redundant circuit) is composed of a plurality of unit address conveyors (unit redundant circuits) ACO to ACn. In the figure, only the unit address conveyor ACO is described in detail, but the remaining unit address conveyors have the same configuration as the unit address conveyor ACO.

特に制限されないが、以下実施例で説明するMOSFE
Tは、Nチャンネルエンハンスメント型MOS F E
Tである。
Although not particularly limited, the MOSFE described in the examples below
T is N-channel enhancement type MOS F E
It is T.

不良アドレスを記憶する記憶回路は、次の各回路素子に
より構成される。溶断用の電圧V ccrを供給する電
極P2と、溶断用の接地電位Vss’ を供給する電極
P4との間には、ヒユーズ手段FOと溶断用MO3FE
TQ3とが直列に接続される。
The memory circuit that stores defective addresses is composed of the following circuit elements. Between the electrode P2 that supplies the voltage Vccr for blowing and the electrode P4 that supplies the ground potential Vss' for blowing, there is a fuse means FO and a MO3FE for blowing.
TQ3 is connected in series.

このMO3FETQ3のゲートには、負荷MO3FET
Q1と駆動MO3FETQ2.Q2’ とで構成された
論理回路の出力が印加される。上記負1M03FETQ
1は、プログラム用のパルスφpOが供給される電極P
1から供給されるところの電圧により動作状態にされる
。上記論理回路の駆動MO3FETQ2のゲートには、
不良アドレス信号aOが印加される。また、駆動MO5
FETQ2°のゲートには、制御信号φpoivoが印
加される。特に制限されないが、プログラム用のパルス
をφpo、φp1及び制御信号dl powO+ e 
powlとの組み合わせにより、同じアドレス端子から
供給される4種頬の不良アドレス信号をそれぞれ4組の
アドレスコンベアに書込むことができるものである。
A load MO3FET is connected to the gate of this MO3FETQ3.
Q1 and drive MO3FET Q2. The output of the logic circuit composed of Q2' is applied. Above negative 1M03FETQ
1 is an electrode P to which a programming pulse φpO is supplied.
It is activated by the voltage supplied from 1. At the gate of the drive MO3FETQ2 of the above logic circuit,
A defective address signal aO is applied. In addition, drive MO5
A control signal φpoivo is applied to the gate of FETQ2°. Although not particularly limited, programming pulses φpo, φp1 and control signals dl powO+ e
In combination with powl, four types of defective address signals supplied from the same address terminal can be written to four sets of address conveyors, respectively.

すなわち、X系とY系のそれぞれの不良アドレスに対し
て2組づつの予備メモリアレイを設けてその切り換えを
行うことができる。同図には、代表として1組のアドレ
スコンベアのみが示されている。
That is, two sets of spare memory arrays can be provided for each of the defective addresses in the X system and the Y system, and switching between them can be performed. In the figure, only one set of address conveyors is shown as a representative.

上記電極P2と回路の電源電圧Vccを供給する電源供
給用電極P3との間には、ヒユーズ手段FO等の読み出
し時における電流制限手段として抵抗R1が設けられる
。また、電極P1と回路の接地電位点との間には、電極
P1がフローティング状態になるのを防止するため、高
抵抗値の抵抗R3が設けられている。
A resistor R1 is provided between the electrode P2 and the power supply electrode P3 for supplying the power supply voltage Vcc of the circuit as current limiting means during reading of the fuse means FO or the like. Further, a high resistance resistor R3 is provided between the electrode P1 and the ground potential point of the circuit in order to prevent the electrode P1 from being in a floating state.

上記ヒユーズ手段Fの溶断の有無を識別して、相補不良
アドレス信号aO,aoを形成するため、次の各回路素
子が設けられる。
In order to identify whether or not the fuse means F is blown and to form complementary defective address signals aO and ao, the following circuit elements are provided.

そのゲート、ドレイン間が互いに交差結線されたMO3
FETQ4.Q5は、ランチ形態に構成される。上記M
OS F ETQ 4のドレインは、ヒユーズ手段FO
に接続される。特に制限されないが、このヒユーズ手段
FOは、ポリ(多結晶)シリコン層により形成される。
MO3 whose gate and drain are cross-connected to each other
FETQ4. Q5 is configured in lunch form. Above M
The drain of OS F ETQ 4 is the fuse means FO
connected to. Although not particularly limited, this fuse means FO is formed by a polysilicon layer.

上記MO3FETQ5のドレインには、そのハイレベル
出力を電源電圧Vccレベルにまでプルアップさせるた
め、特に制限されないが、次のグイナミソクプルアンプ
回路が設けられる。
The drain of the MO3FET Q5 is provided with the following pull amplifier circuit, although not particularly limited, in order to pull up its high level output to the level of the power supply voltage Vcc.

MO3FETQ5のドレインと電源電圧Vcc(上記電
極P3)との間には、プリチージMO3FETQ7と、
MO3FETQ8とが並列形態に接続される。上記MO
3FF、TQ4は、低消費電力化のためにそのコンダク
タンス特性が比較的小さく設定される。上記MO3FE
’l”QBのゲート電圧を上記ヒユーズ手vJtFOの
溶断の有無に従った記憶情報、言い換えればMO3FE
TQ5のドレイン信号レベルに従ってロウレベル又は電
源電圧Vcc以上の高レベルとするため、MO3FET
Q8のゲートにMO8容量0のゲート電極側が接続され
る。また、このMO3O3容量上方の電極側には、タイ
ミング信号φが印加される。このM’O8容量C容量上
の閾値電圧以上のハイレベルが印加されるとMO3容量
が形成され、上記閾値電圧以下のロウレベルが印加され
るとMO39i1が形成されない可変容量素子と理解さ
れたい。1こめMO3O3容量上記MO5FETQ50
ドレイン信号を伝えるため、MO3FETQ9が設けら
れる。このMO3FETQ9のゲートには、上記電極P
3から供給される電源電圧Vccが定常的に印加される
Between the drain of MO3FETQ5 and the power supply voltage Vcc (the above-mentioned electrode P3), there is a Prechizi MO3FETQ7,
MO3FETQ8 is connected in parallel. The above MO
The conductance characteristics of 3FF and TQ4 are set to be relatively small in order to reduce power consumption. MO3FE above
'l'QB gate voltage is stored information according to whether or not the fuse hand vJtFO is blown, in other words MO3FE
According to the drain signal level of TQ5, MO3FET is set to low level or high level higher than power supply voltage Vcc.
The gate electrode side of MO8 with a capacitance of 0 is connected to the gate of Q8. Further, a timing signal φ is applied to the electrode side above this MO3O3 capacitor. It should be understood that this is a variable capacitance element in which when a high level higher than the threshold voltage on the M'O8 capacitor C capacitor is applied, an MO3 capacitor is formed, and when a low level lower than the threshold voltage is applied, an MO39i1 is not formed. 1 MO3O3 capacity above MO5FETQ50
MO3FETQ9 is provided to convey the drain signal. The gate of this MO3FETQ9 is connected to the electrode P
A power supply voltage Vcc supplied from No. 3 is constantly applied.

特に制限されないが、上記タイミング信号φは、ダイナ
ミック型RAMにおけるロウアドレスストローブ信号R
ASに基づいて形成される内部タイミング信号が用いら
れる。
Although not particularly limited, the timing signal φ is the row address strobe signal R in the dynamic RAM.
An internal timing signal formed based on the AS is used.

上記MO3FETQ4.Q5のドレインから得られる記
憶情報aQ、τ0は、アドレス比較回路を構成するMO
8FETQI O,Ql 1のゲートに印加される。こ
れらのMO3FETQIO,Qllは、直列形態に接続
され、MO3FETQIO側からアドレス信号aO°が
、M OS F E ’I’ Qll側からアドレス信
号aO”がそれぞれ相捕的に供給され、その共通接続点
から比較出力を得るものである。
Above MO3FETQ4. The storage information aQ, τ0 obtained from the drain of Q5 is the MO that constitutes the address comparison circuit.
Applied to the gate of 8FET QI O, Ql 1. These MO3FETQIO and Qll are connected in series, and the address signal aO° is supplied from the MO3FETQIO side and the address signal aO'' from the MOSFETQIO side in a complementary manner, and from their common connection point. This is to obtain a comparative output.

上記記憶情報とアドレス信号とが一致した場合、記憶情
報によりオン状態になっているM OS F ETQI
O又はQllを通してアドレス信号aO’又はaOoの
ロウレベルの一致信号が出力される。
If the above stored information matches the address signal, the MOS FETQI that is in the on state due to the stored information
A low level match signal of address signal aO' or aOo is output through O or Qll.

一方、記憶情報とアドレス信号とが不一致の場合、記憶
情報によりオン状態になっているMO3FETQIO又
はQllを通してアドレス信号aO’又はaOoのハイ
レベルの不一致信号が出力されることになる。
On the other hand, if there is a mismatch between the stored information and the address signal, a high-level mismatch signal of the address signal aO' or aOo will be output through MO3FET QIO or Qll, which is turned on depending on the stored information.

他のアドレス信号anに対して設けられた単位アドレス
コンベアACn等も同様な記憶回路及び比較回路により
構成される。
Unit address conveyors ACn and the like provided for other address signals an are also constituted by similar storage circuits and comparison circuits.

上記比較出力は、MO3FETQI 2ないしQl3及
びプリチャージMO3FETQI 4とで構成されたノ
アゲート回路に入力され、このノアゲート回路を通して
アドレス切り換え制御信号arが形成される。すなわち
、すべての記憶情報とアドレス信号とが一致した時、そ
のロウレベル出力によりMO3FETQ12ないしQl
3がオフ状態となって、ハイレベルのアドレス切り換え
制御信号arが形成される。
The comparison output is input to a NOR gate circuit composed of MO3FETQI 2 to Ql3 and precharge MO3FET QI 4, and an address switching control signal ar is formed through this NOR gate circuit. In other words, when all stored information and address signals match, the low level output causes MO3FETQ12 to Ql
3 is turned off, and a high-level address switching control signal ar is generated.

この実施例においては、上記ヒユーズ手段FO等の欠陥
又は溶断の有無を外部から識別できるようにするため、
上記溶断用のMO3FETQ3のソースは、他の同様な
溶断用のMOSFET (図示せず)のソースと共通化
され、溶断用の接地電位Vss’を供給するための電極
P4に接続される。
In this embodiment, in order to be able to identify from the outside whether or not the fuse means FO is defective or fused,
The source of the MO3FET Q3 for blowing is shared with the source of another similar MOSFET for blowing (not shown), and is connected to an electrode P4 for supplying ground potential Vss' for blowing.

すなわち、ヒユーズ手段FO等を溶断させるとき、プロ
ーブピングによってこの電極P4に接地電位が供給され
る。そして、この電極P4と回路の接地電位Vssを供
給する電極P5との間にスイッチMO3FETQI 5
.Ql 6が直列形態に設けられる。そして、これらの
MO3FETQ15.Ql6のゲートには、上記制御信
号φpow(L φpowlがそれぞれ印加される。
That is, when blowing out the fuse means FO, etc., the ground potential is supplied to this electrode P4 by probe ping. A switch MO3FETQI5 is connected between this electrode P4 and an electrode P5 that supplies the ground potential Vss of the circuit.
.. Ql 6 is provided in series configuration. And these MO3FETQ15. The control signal φpow (L φpowl) is applied to the gate of Ql6.

なお、MO3FF、TQl 6と上記電極P5との間に
設けられた抵抗R2は、上記MO3FETQ16と電極
P5とを接続する配線の等価抵抗を示している。これは
、例えば、アドレスコンベアを電源電圧Vccを供給す
る電極P3側に近接して設けることによってアドレスコ
ンベアと回路の接地電位Vssを供給する電極(ポンデ
ィングパッド)との距離が長くなってしまうことにより
生じるものである。
Note that the resistance R2 provided between the MO3FF, TQl 6 and the electrode P5 indicates the equivalent resistance of the wiring connecting the MO3FET Q16 and the electrode P5. This is because, for example, by providing the address conveyor close to the electrode P3 side that supplies the power supply voltage Vcc, the distance between the address conveyor and the electrode (ponding pad) that supplies the circuit ground potential Vss becomes longer. This is caused by

次にこの実施例回路の動作を説明する。Next, the operation of this embodiment circuit will be explained.

図示した単位アドレスコンベアACOに不良アドレス信
号;0を書込むとき、次のような手順によりヒユーズ手
段FO等の欠陥の有無を識別する。
When writing a defective address signal; 0 to the illustrated unit address conveyor ACO, the presence or absence of a defect in the fuse means FO, etc. is determined by the following procedure.

すなわち、制御信号φpowQを口うレベルに、制御信
号φpowlをハイレベルにする。この制御信号φpo
woのロウレベルを受けるMO3FETQI 5がオフ
状態になるので、端子P4と、P5とを電気的に分離で
きる。また、制御信号φpoiyoのロウレベルにより
図示した単位アドレスコンベアACOのMO5FETQ
2″がオフ状態になるので、アドレス信号10等に従っ
てMO3FETQ3等を制御できる。したがって、電極
P1に供給するパルスφpOのみをハイレベルにすると
ともに、電極P3から抵抗測定用の電圧を供給する。そ
して、例えば、アドレス信号aOのみをロウレベルにす
ることによってMO3FETQ3のみをオン状態にする
。これによりヒユーズ手段FOのみが電極P2.P4間
に接続されるので、その電流と電圧を検出することによ
ってヒユーズ手段FOとMO5FETQ3との直列合成
抵抗を知ることができる。
That is, the control signal φpow1 is set to a high level while the control signal φpowQ is set to a high level. This control signal φpo
Since MO3FET QI 5 receiving the low level of wo is turned off, terminals P4 and P5 can be electrically isolated. Furthermore, the MO5FETQ of the unit address conveyor ACO shown in the figure is
2'' is turned off, MO3FETQ3 etc. can be controlled according to the address signal 10 etc. Therefore, only the pulse φpO supplied to the electrode P1 is set to high level, and a voltage for resistance measurement is supplied from the electrode P3. For example, by setting only the address signal aO to a low level, only the MO3FET Q3 is turned on.As a result, only the fuse means FO is connected between the electrodes P2 and P4. The series combined resistance of FO and MO5FETQ3 can be known.

この場合、上記電極P4とP5との間を電気的に分離し
たのは次の理由によるものである。すなわち、電極P2
と電極P5との間には、電極P3を介して全回路の電源
側から見た比較的小さな抵抗値となる等価合成抵抗が接
続されるものである。
In this case, the reason why the electrodes P4 and P5 are electrically separated is as follows. That is, electrode P2
An equivalent combined resistance having a relatively small resistance value when viewed from the power source side of the entire circuit is connected between the electrode P5 and the electrode P5.

したがって、上記電極P4とP5とを接続した状態では
、ヒユーズ手段FO等と上記等価合成抵抗とが並列形態
となるので、ヒユーズ手段FO等の正確な抵抗値の測定
が不能となるものである。
Therefore, when the electrodes P4 and P5 are connected, the fuse means FO, etc. and the equivalent combined resistance are in a parallel configuration, making it impossible to accurately measure the resistance value of the fuse means FO, etc.

上記ポリシリコン層で形成されたヒユーズ手段に形状異
常又は構造異常がなければ、200Ωから500Ω程度
の比較的小さな抵抗値となるのに対して、形状異常又は
構造異常がをると、数にΩ以上の大きな抵抗値となるの
で、その識別を行うことができる。以下、アドレス信号
丁1から順にアドレス信号anまでロウレベルにして、
対応するヒユーズ手段F1〜Fnの欠陥の有無を識別す
0〜Fnについて欠陥が無いことを検出した後、電極P
2に溶断用の電圧V ccrを供給するとともに、不良
アドレス信号a(1−anを供給することによって、そ
のビットパターンにしたがってヒユーズ手段FO〜Fn
を溶断させるものである。
If the fuse means formed of the polysilicon layer has no abnormality in shape or structure, it will have a relatively small resistance value of about 200Ω to 500Ω, but if it has an abnormality in shape or structure, the resistance will increase Since the resistance value is as large as the above, it can be identified. Hereafter, the address signal D1 to the address signal an are set to low level in order,
After detecting that there are no defects in the corresponding fuse means F1 to Fn, the electrode P
By supplying the fusing voltage Vccr to 2 and the defective address signal a (1-an), the fuse means FO to Fn are supplied according to the bit pattern.
It melts.

この後、上記同様にしてそれぞれのヒユーズ手段FO〜
Fnの抵抗値を再び測定して、完全に所定のヒユーズ手
段が溶断されているか否かを識別して、その確認を行う
ものである。溶断されたヒユーズ手段に対しては、その
抵抗値かは!■になるので、簡単にヒユーズ手段の完全
溶断を判定することができる。
After that, in the same manner as above, each fuse means FO~
The resistance value of Fn is measured again to identify and confirm whether or not the predetermined fuse means is completely blown. What is the resistance value for the blown fuse means? (2) Therefore, it is easy to determine whether the fuse means is completely blown.

以下、残りの3組のアドレスコンベアを使用するときも
、上記それぞれ2組のパルスφpと制御信号φpo−と
の組み合わせによりそれを選択して同様に行うものであ
る。
Hereinafter, when using the remaining three sets of address conveyors, they are selected by the combination of the two sets of pulses φp and the control signal φpo-, and the same operation is performed.

なお、このような書込み動作が終了したものは、上記制
御信号φpowO+ φpoivlが共にプルアップ抵
抗を介して回路の電源電圧Vccが供給されるので、M
O3FETQ2°等とMO3FETQ15.Q16が定
常的にオン状態になっている。このため、電極P4によ
って構成される寄生容量に不所望な静電結合又はイオン
等によりチャージアップがなを されも、これらのMO3FETQ15.Q16を介して
回路の接地電位点に引き抜かれる。これにより、電極P
4をフローティング状態にすることによって上記寄生容
量へのチャージアップによる静電破壊を防止するもので
ある。
Note that when such a write operation has been completed, the control signals φpowO+φpoivl are both supplied with the power supply voltage Vcc of the circuit via the pull-up resistor, so the M
O3FETQ2° etc. and MO3FETQ15. Q16 is constantly on. Therefore, even if the parasitic capacitance formed by the electrode P4 is charged up due to undesired electrostatic coupling or ions, these MO3FETs Q15. It is pulled out to the ground potential point of the circuit via Q16. As a result, the electrode P
4 is placed in a floating state to prevent electrostatic damage due to charge-up to the parasitic capacitance.

〔効 果〕〔effect〕

+11 ヒユーズf4断用(7)MOSFETのソース
電位を供給する電極と回路の接地電位との間を分離する
ことによって、ヒユーズ手段の溶断前後の抵抗値を測定
することができるので、ヒユーズ手段の形状又は構造等
の欠陥を簡単に識別できる。したがって、確実な不良ア
ドレスの書込みと、読み出しを行うことができるので、
高信頼性の欠陥ビット救済を実現できるという効果が得
られる。
+11 For blowing fuse f4 (7) By separating the electrode that supplies the source potential of the MOSFET and the ground potential of the circuit, the resistance value before and after blowing the fuse means can be measured, so the shape of the fuse means Or structural defects can be easily identified. Therefore, since it is possible to reliably write and read defective addresses,
The effect is that highly reliable defective bit relief can be realized.

(2)ヒユーズ手段の欠陥の判定は、ヒユーズ溶断用の
接地電位を供給する電極と回路の接地電位点との間にス
イッチMO3FE’l”を設けるだけでよいので、極め
て簡単な回路により構成できるという効果が得られる。
(2) Determining a defect in the fuse means can be configured with an extremely simple circuit, since it is only necessary to provide a switch MO3FE'l'' between the electrode that supplies the ground potential for blowing the fuse and the ground potential point of the circuit. This effect can be obtained.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。例えば、上記電極P4
は、完全に回路の接・地電位点とは電気的に分離するも
のであってもよい。ただ、この場合には、上記のような
静電破壊が生じる虞れがあるので、上記ヒユーズ手段の
抵抗測定に影響を与えない、言い換えるならば上記ヒユ
ーズ手段の抵抗値にくらべて十分大きな高抵抗値の抵抗
によって回路の接地電位点(P5)と接続するものであ
ってもよい。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that this invention is not limited to the above Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Nor. For example, the electrode P4
may be completely electrically separated from the ground/earth potential point of the circuit. However, in this case, since there is a risk of electrostatic damage as described above, a high resistance that does not affect the resistance measurement of the fuse means, in other words, a sufficiently large resistance value compared to the resistance value of the fuse means. It may be connected to the ground potential point (P5) of the circuit by a resistor of a certain value.

また、第2図の回路において、ダイナミ’7クプルアツ
プ回路は、種々の変形を採ることができるものである。
Furthermore, in the circuit shown in FIG. 2, the dynamic '7 pull-up circuit can be modified in various ways.

また、上記ヒユーズ手段の溶断の有無を判別して相補対
の不良アドレス信号を形成する回路は、フリップフロッ
プ回路等を利用するものであってもよい。
Further, the circuit for determining whether or not the fuse means is blown and forming a complementary pair of defective address signals may utilize a flip-flop circuit or the like.

さらに、アドレスコンベアの数は、必要に応じて増減で
きるものである。前記実施例において電極P4とP5と
の間設けられるスイッチMO3FETは1個により構成
し、上記制御信号φpow(Lφpoy1をアンド(A
ND)論理回路を通しへ信号により制御するものであっ
てもよい。また、使用するヒユーズ手段は、ポリシリコ
ン層の他、MOSFETで形成した電流によってその溶
断が行われるものであれば何であってもよい。
Furthermore, the number of address conveyors can be increased or decreased as needed. In the embodiment, one switch MO3FET is provided between the electrodes P4 and P5, and the control signal φpow(Lφpoy1 is combined with AND(A
ND) It may be controlled by a signal passed through a logic circuit. In addition to the polysilicon layer, the fuse means used may be of any type as long as it can be blown by a current generated by a MOSFET.

また、この実施例の回路は、Nチャンネルエンハンスメ
ント型MO3FETにより構成されていたが、Pチマン
ネルエンハンスメント9M03FETで構成してもよい
し、CMO3(相補型MO8)回路で構成してもよい。
Furthermore, although the circuit of this embodiment was constructed with an N-channel enhancement type MO3FET, it may be constructed with a P-channel enhancement 9M03FET or a CMO3 (complementary type MO8) circuit.

〔利用分野〕[Application field]

以上の説明では主として本願発明者によってなされた発
明をその背景とった技術分野であるダイナミック型RA
Mにおける欠陥ビット救済のためのアドレスコンベア(
冗長回路)に通用した場合について説明したが、これに
限定されるものではなく、この発明は、ヒユーズ手段を
記憶手段として利用する半導体集積回路装置に広く利用
できるものである。
The above explanation mainly focuses on the dynamic type RA, which is a technical field based on the invention made by the inventor of the present application.
Address conveyor for defective bit relief in M (
Although the present invention has been described with reference to a case where it is applicable to a redundant circuit, it is not limited thereto, and the present invention can be widely used in semiconductor integrated circuit devices that utilize fuse means as storage means.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、この発明に先立って考えられる不良アドレス
記憶回路の一例を示す回路図、第2図は、この発明をア
ドレスコンベアに適用した場合の一実施例を示す回路図
である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an example of a defective address storage circuit considered prior to the present invention, and FIG. 2 is a circuit diagram showing an embodiment in which the present invention is applied to an address conveyor.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、電圧供給電極に一端が接続されたヒユーズ手段と、
このヒユーズ手段の他端にドレインが接続されたヒユー
ズ溶断用MOS F ETと、このヒユーズ溶断用MO
S F ETのゲートに供給する制御信号を形成する論
理回路と、上記ヒユーズ溶断用MOS F ETのソー
スに共通に設けられ、ヒユーズ溶断用の接地電位を供給
し、回路の接地電位点とは電気的に分離することのでき
る電極とを含むことを特徴とする半導体集積回路装置。 2、上記ヒユーズ溶断用の接地電位を供給する電極と回
路の接地電位との電気的な分離は、スイッチMOS F
 ETを用いるものであることを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の半導体集積回路装置。 3、上記ヒユーズ手段は、ポリシリコン層により形成さ
れるものであることを特徴とする特許請求の範囲第1又
は第2項記載の半導体集積回路装置。 4、上記半導体集積回路装置は、ダイナミック型RAM
を構成し、上記ヒユーズ手段には欠陥メモリセルのアド
レスが書込まれるものであることを特徴する特許請求の
範囲第1、第2又は第3項記載の半導体集積回路装置。
[Claims] 1. Fuse means having one end connected to a voltage supply electrode;
A fuse blowing MOS FET with a drain connected to the other end of the fuse means, and a fuse blowing MOSFET having a drain connected to the other end of the fuse means.
The logic circuit that forms the control signal to be supplied to the gate of the S FET and the source of the fuse blowing MOS FET are provided in common to supply the ground potential for fuse blowing, and the ground potential point of the circuit is electrically connected to the ground potential point for the fuse blowing. 1. A semiconductor integrated circuit device comprising: electrodes that can be separated from each other. 2. Electrical separation between the electrode that supplies the ground potential for fuse blowing and the ground potential of the circuit is achieved using a switch MOS F.
2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the semiconductor integrated circuit device uses ET. 3. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1 or 2, wherein the fuse means is formed of a polysilicon layer. 4. The above semiconductor integrated circuit device is a dynamic RAM.
4. A semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein said fuse means has an address of a defective memory cell written therein.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03269185A (en) * 1990-03-16 1991-11-29 Miki Riken Kogyo Kk Production of cloth product of melange pattern

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