JPS6010849Y2 - laminated film - Google Patents

laminated film

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JPS6010849Y2
JPS6010849Y2 JP10395780U JP10395780U JPS6010849Y2 JP S6010849 Y2 JPS6010849 Y2 JP S6010849Y2 JP 10395780 U JP10395780 U JP 10395780U JP 10395780 U JP10395780 U JP 10395780U JP S6010849 Y2 JPS6010849 Y2 JP S6010849Y2
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JP
Japan
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film
layer
laminated film
laminated
coating
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JP10395780U
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JPS5729327U (en
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勝次 中原
和夫 松浦
桂典 大島
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東レ株式会社
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Description

【考案の詳細な説明】 本考案は絶縁性有機高分子フィルムを基材とする積層フ
ィルムに関するもので、フィルム操作時の静電気発生を
防止する積層フィルムを提供するものである。
[Detailed Description of the Invention] The present invention relates to a laminated film using an insulating organic polymer film as a base material, and provides a laminated film that prevents generation of static electricity during film operation.

従来、絶縁性有機高分子からなる基材フィルムを用いた
積層フィルムは数多くあるが、その代表的な構成例とし
て第1図のようなものが知られている。
Conventionally, there have been many laminated films using a base film made of an insulating organic polymer, and the one shown in FIG. 1 is known as a typical example of the structure.

図において、1は可撓性を有する絶縁性有機高分子から
なるフィルムであり、2は導電層、3は電荷保持機能を
持つ有機樹脂からなる誘電層および/または光導電層で
ある。
In the figure, 1 is a film made of a flexible insulating organic polymer, 2 is a conductive layer, and 3 is a dielectric layer and/or photoconductive layer made of an organic resin having a charge retention function.

しかしながら、かかる絶縁性有機高分子フィルムを基材
とする従来の積層フィルムは、誘電層および/または光
導電層の塗布前後の巻き取り、ハンドリング等フィルム
操作時に静電気が発生し、特に絶縁性有機高分子フィル
ムへの塵埃等の付着の原因となり、積層フィルムの商品
価値を損なうばかりか下記のような問題が発現した。
However, in conventional laminated films based on such insulating organic polymer films, static electricity is generated during film operations such as winding and handling before and after coating the dielectric layer and/or photoconductive layer. This caused the adhesion of dust and the like to the molecular film, which not only impaired the commercial value of the laminated film, but also caused the following problems.

(1)ロールフィルムに混入した塵埃等のため、積層フ
ィルムにピラミッド状の凹凸が発生する。
(1) Pyramid-shaped unevenness occurs in the laminated film due to dust mixed in the roll film.

(2)積層フィルムをドラム等に装填して使用する場合
、塵埃等のため、ドラム等に傷が発生する。
(2) When the laminated film is loaded onto a drum or the like and used, the drum or the like may be scratched due to dust or the like.

(3)複写機、ファクシミリ等のマスクフィルムに使用
した場合、クリーニング時のブラシやブレードにより擦
傷が発生する。
(3) When used as a mask film for copying machines, facsimile machines, etc., scratches occur due to brushes and blades during cleaning.

(4) 静電記録機器等で非接触型電極を用いた場合
のエアギャップのコントロールがむずかしい。
(4) It is difficult to control the air gap when non-contact electrodes are used in electrostatic recording equipment.

(5) 塵埃等が誘電層および/または光導電層に付
着したり混入したりして、たとえばコロナ印加時にいわ
ゆる落雷現象を起こし、画像の欠落等の問題が発生する
(5) Dust and the like may adhere to or be mixed into the dielectric layer and/or the photoconductive layer, causing a so-called lightning phenomenon, for example, when corona is applied, resulting in problems such as missing images.

以上のような問題の発現の結果、マスクフィルムの交換
が頻繁となり、特に高速化が望まれる普通紙使用機器の
場合、実用上の大きな障害となっている。
As a result of the above-mentioned problems, the mask film has to be replaced more frequently, which is a major practical obstacle, especially in the case of equipment using plain paper, where speeding up is desired.

本考案の目的は上記欠点に鑑みて威されたものであり、
特に静電気による塵埃等の付着がなく、かつ複写機など
での長期使用に耐えうる積層フィルムを提供せんとする
ものである。
The purpose of this invention was made in view of the above drawbacks,
In particular, it is an object of the present invention to provide a laminated film that does not attract dust due to static electricity and can withstand long-term use in copying machines and the like.

本考案は上記目的を遠戚するために次の構成、すなわち
、絶縁性有機高分子フィルムA1導電層B、誘電層およ
び/または光導電層Cの各層が、B/A/B/Cの順に
積層されてなる積層フィルムを特徴とするものである。
In order to achieve the above object, the present invention has the following structure, in which each layer of an insulating organic polymer film A1, a conductive layer B, a dielectric layer and/or a photoconductive layer C is arranged in the order of B/A/B/C. It is characterized by a laminated film formed by laminating layers.

次に本考案の一実施態様を図面に基づいて説明する。Next, one embodiment of the present invention will be described based on the drawings.

第2図は、本考案の積層フィルムの断面図である。FIG. 2 is a sectional view of the laminated film of the present invention.

図において、11は絶縁性有機高分子フイルムA112
は導電層B113は誘電層および/または光導電層Cを
示し、また、同図は各層が、12/11/12/13の
順、すなわち、B/A/B/Cの順に積層された積層フ
ィルムを示すものである。
In the figure, 11 is an insulating organic polymer film A112
The conductive layer B113 is a dielectric layer and/or a photoconductive layer C, and the same figure shows a laminated layer in which each layer is laminated in the order of 12/11/12/13, that is, in the order of B/A/B/C. It shows the film.

本考案の絶縁性有機高分子フィルムAを構成する好まし
い絶縁性有機高分子は、たとえば、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン
−2,6−ナフタリンジカルボキシレートなどのポリエ
ステル重合体、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポ
リオレフイ2ン、いわゆるナイロン−6、ナイロン−1
2などのポリアミド、高分子主鎖に五員環イミド結合を
有するポリイミド、セルローズエステルなどのセルロー
ズ誘導体、ポリスチレン、ポリカーボネート、アクリル
酸エステル共重合体、メタクリル酸エステル共重合体、
ポリ塩化ビニル、ポリエーテル、ポリエステルエーテル
、などであり、これらの共重合体あるいはブレンド物を
含むが、必ずしもこれらに限定されない。
Preferred insulating organic polymers constituting the insulating organic polymer film A of the present invention include polyester polymers such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalene dicarboxylate, polyethylene, polypropylene, etc. Polyolefin 2, so-called nylon-6, nylon-1
Polyamides such as 2, polyimides having five-membered ring imide bonds in the polymer main chain, cellulose derivatives such as cellulose esters, polystyrene, polycarbonates, acrylic ester copolymers, methacrylic ester copolymers,
These include polyvinyl chloride, polyether, polyester ether, etc., and include, but are not limited to, copolymers and blends thereof.

これら絶縁性有機高分子は延伸加工、特に二軸。These insulating organic polymers can be stretched, especially biaxially.

延伸加工することにより、機械的性質、熱的性質、光学
的性質、寸法安定性等が向上し好ましい場合がある。
Stretching improves mechanical properties, thermal properties, optical properties, dimensional stability, etc., and may be preferable.

導電層Bは、メッキ、真空蒸着、化学蒸着、スパッタリ
ング、コーティング、ラミネート等により形成したもの
が使用される。
The conductive layer B is formed by plating, vacuum deposition, chemical vapor deposition, sputtering, coating, lamination, or the like.

導電層Bを構成する好ましい組成としては、たとえば、
実開昭5l−1677Kに記載されている金属および/
または金属化合物、カーボンブラック、グラファイトな
どの無機導電顔料、4級アンモニウム塩、スルホン酸塩
、ポリアルコールなどの高分子電解質、等が有効に使用
できるが、これらに限定されない。
Preferred compositions constituting the conductive layer B include, for example,
Metals and/or metals described in Utility Model Publication No. 1677
Alternatively, metal compounds, inorganic conductive pigments such as carbon black and graphite, polymer electrolytes such as quaternary ammonium salts, sulfonates, and polyalcohols can be effectively used, but the present invention is not limited to these.

また該B層はA層を介して、上、下、同−組成でもよい
腰異なった組成でもよく、また2層以上を積層させたも
のでもよい。
Further, the B layer may have the same composition or different compositions between the upper and lower layers with the A layer interposed therebetween, or may be a laminate of two or more layers.

該B層の表面抵抗値は、0層の特性に大きく依存するの
で一概には決定できないが、1012Ω/口以下である
ことが望ましく、A層と0層とに挾まれるB層について
、108Ω/口以下であることが望ましい。
The surface resistance value of the B layer depends largely on the characteristics of the 0 layer, so it cannot be determined unconditionally, but it is preferably 10 12 Ω/or less, and for the B layer sandwiched between the A layer and the 0 layer, the surface resistance value is 10 8 Ω. / mouth or less is desirable.

誘電層および/または光導電層Cを構成する好ましい組
成としては、たとえば、ポリエステル、ポリエーテル、
ポリカーボネート、ポリアミド、ポリウレタン、高分子
主鎖に五員環イミド結合を有するポリイミド、アクリル
酸エステル共重合体、メタクリル酸エステル共重合体、
ポリスチレン−ブタジェン共重合体、酢酸ビニル−塩化
ビニル共重合体、ポリビニルアセクール、塩素化ポリオ
レフィン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アルキッド
樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、エポキシ樹脂などの
絶縁性樹脂、特開昭53−111734号や実開昭54
−53443号に記載されている有機ケイ素化合物など
の誘電層、および、硫化カドミウム、酸化亜鉛、セレン
などの無機化合物、アントラセン、ベンジジン、オキサ
ゾール、トリアジン、ピラゾリン、アゾメチン、アント
ラキノンやその誘導体、さらにはポリインデン、ポリア
セナフテン、ポリビニルキノリン、ポリビニルカルバゾ
ールやその誘導体のようなポリマ、その他多くの光導電
層などがあるがこれらに限定されない。
Preferred compositions constituting the dielectric layer and/or photoconductive layer C include, for example, polyester, polyether,
Polycarbonate, polyamide, polyurethane, polyimide having a five-membered ring imide bond in the polymer main chain, acrylic ester copolymer, methacrylic ester copolymer,
Insulating resins such as polystyrene-butadiene copolymer, vinyl acetate-vinyl chloride copolymer, polyvinyl acecool, chlorinated polyolefin, ethylene-vinyl acetate copolymer, alkyd resin, xylene resin, ketone resin, epoxy resin, etc. 1973-111734 and Utility Model No. 111734
-53443, and inorganic compounds such as cadmium sulfide, zinc oxide, selenium, anthracene, benzidine, oxazole, triazine, pyrazoline, azomethine, anthraquinone and its derivatives, and even polyinden , polyacenaphthene, polyvinylquinoline, polyvinylcarbazole and its derivatives, and many other photoconductive layers.

これらは単独でも2種以上の混合系で用いてもよい。These may be used alone or in a mixed system of two or more.

また高分子結着剤を含んでもよい。本考案において必要
に応じて該0層に表面を粗面化する目的で無機および/
または有機の粒子を添加してもよい。
It may also contain a polymer binder. In the present invention, inorganic and/or
Alternatively, organic particles may be added.

本考案において、該0層の付加方式としては、フィルム
の付着あるいは刷毛塗り、浸漬塗り、ナイフ塗り、ロー
ル塗り、スプレー塗装、流し塗り、回転塗り(スピンナ
ー、ホエラーなど)等の通常に行なわれている塗布方式
が容易に使用可能であるが、方式によらず各れも有効で
ある。
In the present invention, the method of adding the 0 layer includes film attachment, brush coating, dip coating, knife coating, roll coating, spray coating, flow coating, rotary coating (spinner, whaler, etc.), etc. Although any coating method can be easily used, each method is effective regardless of the method.

該0層の厚さは特に限定しないが、1〜100μが望ま
しい。
The thickness of the zero layer is not particularly limited, but is preferably 1 to 100 microns.

また該0層の上に保護層を設けてもよい。Further, a protective layer may be provided on the zero layer.

本考案において、必要に応じて片側から順に、B/A、
A/B、B/C間に接着性等を向上する目的で他のポリ
マ等を付与してもよいが、その厚さは20μ以下で特に
好ましくは、5μ以下であることがよい。
In this invention, B/A,
Other polymers or the like may be added between A/B and B/C for the purpose of improving adhesion, but the thickness thereof is preferably 20 μm or less, particularly preferably 5 μm or less.

なお本考案は上記のごとき積層フィルムを特徴とするが
、0層の機械的強度を改善する目的で、一般の高分子材
料と同様に可塑剤を用いることができる。
Although the present invention is characterized by the above-mentioned laminated film, a plasticizer can be used in the same way as with general polymeric materials in order to improve the mechanical strength of the zero layer.

可塑剤としては、たとえば、塩素化パラフィン、塩素化
ビフェニル、ホスフェート系可塑剤、フタレート系可塑
剤などを用いることができる。
As the plasticizer, for example, chlorinated paraffin, chlorinated biphenyl, phosphate plasticizer, phthalate plasticizer, etc. can be used.

以下実施例に基づいて本考案の一実施例を説明する。An embodiment of the present invention will be described below based on an example.

ただし本考案はこの実施例に限定されるものではない。However, the present invention is not limited to this embodiment.

実施例 1 100μの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィル
ム(東しく+勃“ルミラー”)の片側にAIを1ooo
人真空蒸着した。
Example 1 1ooo of AI was applied to one side of a 100μ biaxially oriented polyethylene terephthalate film (Toshiku+Eki “Lumirror”)
Vacuum evaporated.

さらに二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの
A1蒸着面の反対側にptを表面抵抗値が5XICF’
Ω/口になるようにスパッタリングした導電性フィルム
を得た。
Furthermore, PT was applied to the opposite side of the A1 vapor deposition surface of the biaxially oriented polyethylene terephthalate film with a surface resistance value of 5XICF'.
A conductive film was obtained by sputtering to give a value of Ω/mm.

この導電性フィルムのptの上に、ポリカーボネート樹
脂を固型分が10%になるように、モノクロルベンゼン
/ジクロルエタン=1/1混合溶媒て溶解した塗料を乾
燥後の膜厚が5μになるようにロールコータを用いて塗
布し、150°Cで1分間乾燥したのち、連続的に巻き
取った。
On top of this conductive film PT, a paint prepared by dissolving polycarbonate resin in a 1/1 mixed solvent of monochlorobenzene/dichloroethane so that the solid content is 10% is applied so that the film thickness after drying is 5μ. It was coated using a roll coater, dried at 150°C for 1 minute, and then continuously wound up.

作業性にすぐれ、塵埃等の付着がほとんどみられない静
電記録フィルムが得られた。
An electrostatic recording film with excellent workability and almost no adhesion of dust was obtained.

比較例 1 実施例1においてA1蒸着層のない以外は全て同じ構成
の積層フィルムを製造したが、フィルム搬送時に付着し
た塵埃のため積層フィルムの両側に無数のピラミッド状
の凹凸が発生し静電記録フィルムとして不適当てあった
Comparative Example 1 A laminated film having the same structure as in Example 1 except for the absence of the A1 vapor deposited layer was produced, but due to dust that adhered during film transportation, countless pyramid-shaped irregularities were generated on both sides of the laminated film, which caused electrostatic recording. It was inappropriate as a film.

実施例 2 50μの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム
(東しく掬°゛ルミラー゛)の両側にP、を表面抵抗値
が2XICPΩ/口になるようにスパッタリングした導
電性フィルムを得た。
Example 2 A conductive film was obtained by sputtering P on both sides of a 50 μm biaxially oriented polyethylene terephthalate film (Toshikushiki Kirimirror) so that the surface resistance value was 2×ICPΩ/hole.

この導電性フィルムの片側に、アクリル酸エステル共重
合体を主剤とする接着促進層を乾燥後の膜厚が1μにな
るように設けた後、ポリビニカルバゾール100重量部
、2.4.7−hジニトロフルオレノン5唾量部、ポリ
カーホネート樹脂5唾量部を固型分が10%になるよう
にテトラヒドロフラン/ジクロルエタン=1/1混合溶
媒で溶解した塗料を乾燥後の膜厚が15μになるように
ロールコータを用いて塗布し、100’Cて5分間乾燥
後、連続的に巻き取った。
An adhesion promoting layer containing an acrylic ester copolymer as a main ingredient was provided on one side of the conductive film so that the film thickness after drying was 1 μm, and then 100 parts by weight of polyvinicarbazole, 2.4.7- h 5 parts of dinitrofluorenone and 5 parts of polycarbonate resin are dissolved in a mixed solvent of tetrahydrofuran/dichloroethane = 1/1 so that the solid content is 10%. After drying, the film thickness becomes 15μ. The film was coated using a roll coater as described above, dried at 100'C for 5 minutes, and then continuously wound up.

このようにして得られた感光性マスクをA1ドラムに装
填し、市販の複写機で作像テストを行なった。
The photosensitive mask thus obtained was loaded onto an A1 drum, and an image forming test was conducted using a commercially available copying machine.

この結果、画像の欠落もなく、クリーニング時のブレー
ドによる傷の発生もみられなかった。
As a result, there were no missing images and no scratches caused by the blade during cleaning.

比較例 2 実施例2において、Paを二軸延伸ポリエチレンテレフ
タレートフィルム(東しく掬“ルミラー“)の片側のみ
にスパッタリングした以外は全て同じ構成の感光性マス
クを製造した。
Comparative Example 2 A photosensitive mask having the same structure as in Example 2 was manufactured except that Pa was sputtered only on one side of the biaxially oriented polyethylene terephthalate film (Toshiki Kikki "Lumirror").

このフィルムを実施例2と同様にA1ドラムに装填し、
複写機で作像テストを行なった。
This film was loaded into the A1 drum in the same manner as in Example 2,
An image forming test was conducted using a copying machine.

この結果、フィルム搬送時に裏面に付着した塵埃のため
ドラムに傷が発生したばかりか、クリーニング時のプレ
ートでマスクフィルムが擦傷し、実施例2のマスクフィ
ルムに比べて頻繁に交換しなければならなかった。
As a result, the drum was not only scratched due to dust that adhered to the back surface during film transport, but also the mask film was scratched by the plate during cleaning, and had to be replaced more frequently than the mask film of Example 2. Ta.

また光導電層面に付着したり、混入した塵埃のため、い
わゆる落雷現象(絶縁破壊)を起こし、画像の欠落が生
じた。
Further, due to dust adhering to or entering the photoconductive layer surface, a so-called lightning strike phenomenon (insulative breakdown) occurred, resulting in image loss.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、従来技術による積層フィルムの断面図。 第2図は、本考案の積層フィルムの断面図である。 1.11:絶縁性有機高分子フィルム、2,12:導電
層、3.13:誘電層および/または光導電層。
FIG. 1 is a sectional view of a laminated film according to the prior art. FIG. 2 is a sectional view of the laminated film of the present invention. 1.11: Insulating organic polymer film, 2,12: Conductive layer, 3.13: Dielectric layer and/or photoconductive layer.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 絶縁性有機高分子フィルムA、導電層B、誘電層および
/または光導電層Cの各層がB/A/B/Cの順に積層
されてなる積層フィルム。
A laminated film in which each layer of an insulating organic polymer film A, a conductive layer B, a dielectric layer and/or a photoconductive layer C is laminated in the order of B/A/B/C.
JP10395780U 1980-07-24 1980-07-24 laminated film Expired JPS6010849Y2 (en)

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JPS5729327U JPS5729327U (en) 1982-02-16
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