JPS5989689A - 7-substituted-3-vinyl-3-cephem compound, its production and antimicrobial agent containing the same - Google Patents

7-substituted-3-vinyl-3-cephem compound, its production and antimicrobial agent containing the same

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JPS5989689A
JPS5989689A JP58184036A JP18403683A JPS5989689A JP S5989689 A JPS5989689 A JP S5989689A JP 58184036 A JP58184036 A JP 58184036A JP 18403683 A JP18403683 A JP 18403683A JP S5989689 A JPS5989689 A JP S5989689A
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高谷 隆男
Hisashi Takasugi
高杉 寿
Takashi Masugi
馬杉 峻
Hideaki Yamanaka
秀昭 山中
Koji Kawabata
浩二 川端
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/14Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
    • C07D501/16Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
    • C07D501/207-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
    • C07D501/227-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with radicals containing only hydrogen and carbon atoms, attached in position 3
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P31/00Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
    • A61P31/04Antibacterial agents

Abstract

NEW MATERIAL:A syn isomer of a compound expressed by formula I [R<1> is (protected) amino; R<2> is (protected)carboxyl] and a salt thereof. EXAMPLE:7-[ 2-( 2-Amiothiazol-4-yl )-2-hydroxyiminoacetamido ]-3-vinyl-3-cephem- 4-carboxylic acid (syn isomer). USE:An antimicrobial agent against Gram-positive and Gram-negative bacteria, etc. useful particularly for oral administration. PROCESS:A compound expressed by formula II (X is halogen) or a salt thereof is reacted with a compound expressed by formula III usually in an inert solvent, e.g. ethyl acetate, to give the compound expressed by formula I . The compound expressed by formula II is a novel substance, and can be obtained by reacting a compound expressed by formula IV with a compound expressed by the formula X-CH2COCH2COOH to form a compound expressed by formula V, and reacting the resultant compound expressed by formula V with a nitrosating agent.

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は新規な、7−置換−3−ビニル−3−セフェ
ム化合物およびその医薬として許容される塩に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION This invention relates to novel 7-substituted-3-vinyl-3-cephem compounds and pharmaceutically acceptable salts thereof.

さらに詳細には、この発明は抗菌活性を有する新iな7
  f!1%−3−ビニル−3−セフェム化合物および
その医薬として許容される塩、それらの製法、それらを
含有する抗菌剤に関する。
More specifically, the present invention discloses a novel i.7
f! The present invention relates to 1%-3-vinyl-3-cephem compounds and pharmaceutically acceptable salts thereof, methods for producing them, and antibacterial agents containing them.

すなわち、この発明の目的は、種々の病原菌に対して高
い活性を有する抗菌剤、特に経口投与用に有用な新規7
−置換−3−ビニル−3−セフェム化合物およびその医
薬として許容される塩を提供することにある。
That is, an object of the present invention is to develop antibacterial agents having high activity against various pathogenic bacteria, particularly novel 7 antibacterial agents useful for oral administration.
- Substituted-3-vinyl-3-cephem compounds and pharmaceutically acceptable salts thereof.

この発明の他の目的は、新規7−置換−3−ビニル−3
−セフェム化合物およびその塩の製法を提供することに
ある。
Another object of this invention is the novel 7-substituted-3-vinyl-3
- To provide a method for producing cephem compounds and salts thereof.

この発明のさらにもう一つの目的は、前記7−置換−3
−ビニル−3−セフェム化合物およびその医薬として許
容される塩を含有する抗菌剤を提供することにある。
Yet another object of the present invention is the 7-substituted-3
An object of the present invention is to provide an antibacterial agent containing a vinyl-3-cephem compound and a pharmaceutically acceptable salt thereof.

この発明の7−置換−3−ビニル−3−セフェム化合物
は新規化合物であり、下記一般式CI)で示される。
The 7-substituted-3-vinyl-3-cephem compound of this invention is a new compound and is represented by the following general formula CI).

(式中 R1はアミ7基または保護されたアミ7基、R
2はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基をそれ
ぞれ意味する)。
(In the formula, R1 is an ami 7 group or a protected ami 7 group, R
2 means a carboxy group or a protected carboxy group, respectively).

この明細書における「シン異性体」とは、基1 −OH で示される立体構造を有する化合物(I)を意味する。In this specification, "syn isomer" refers to the group 1 -OH It means a compound (I) having the steric structure shown below.

化合物(I)の医薬として許容される好適な塩類は、慣
用の無毒性塩類であり、例えばす) IJクム塩、カリ
ウム塩等のアルカリ金属塩、例えばカルシウム塩ごグネ
シクム塩等のアルカリ土金属塩、アンモニウム塩などの
無機塩基との塩、例えばトリエチルアミン塩、ピリジン
塩、ピコリン塩、エフノールアミン塩、トリエタノール
アミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、NIN’−ジベ
ンジルエチレンジアミン塩等の有機アミン塩などの有機
塩基との塩、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、燐
酸塩等の無機酸付加塩、例えばぎ酸塩、酢酸塩、トリフ
ルオル酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホ
ン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン
酸塩等の有機カルボン酸付加塩もしくは有機スルホン酸
付加塩々どの有機酸付加塩;例えばアルギニン、アスパ
ラギン酸、グルタミン酸等の塩基性アミノ酸または酸性
アミノ酸との塩等が挙げられる。
Suitable pharmaceutically acceptable salts of compound (I) are customary non-toxic salts, such as alkali metal salts such as IJcum salts, potassium salts, alkaline earth metal salts such as calcium salts, and potassium salts. , salts with inorganic bases such as ammonium salts, organic amine salts such as triethylamine salts, pyridine salts, picoline salts, ehnolamine salts, triethanolamine salts, dicyclohexylamine salts, NIN'-dibenzylethylenediamine salts, etc. Inorganic acid addition salts such as salts with bases, such as hydrochlorides, hydrobromides, sulfates, phosphates, such as formates, acetates, trifluoroacetates, maleates, tartrates, methanesulfonates. Organic acid addition salts such as organic carboxylic acid addition salts or organic sulfonic acid addition salts such as benzenesulfonate, p-toluenesulfonate; for example, salts with basic or acidic amino acids such as arginine, aspartic acid, and glutamic acid. etc.

この発明の化合物(I)またはその医薬として許容され
る塩は下記反応式で示される方法により製造できる。
Compound (I) of the present invention or a pharmaceutically acceptable salt thereof can be produced by the method shown in the reaction formula below.

0)製法I ([1) またはその塩 (I) またはその塩 (2)製法2 Rλ (Ia) またはその塩 (Ib) またはその塩 (3)製法3 またはその塩 (4)製法4 (Ic) またはその塩 またはその塩 1式中 R1およびR2はそれぞれ前と同じ意味であり
、Xはハロゲン、鴫は保護されたカルボキシ基、RAは
保護されたカルボキシ(低級)アルコキシカルボニル基
、呪はカルボキシ(低級)アルコキシカルボニル基をそ
れぞれ意味する]。
0) Manufacturing method I ([1) or its salt (I) or its salt (2) Manufacturing method 2 Rλ (Ia) or its salt (Ib) or its salt (3) Manufacturing method 3 or its salt (4) Manufacturing method 4 (Ic ) or a salt thereof or a salt thereof 1 In the formula, R1 and R2 each have the same meaning as before, X is a halogen, 零 is a protected carboxy group, RA is a protected carboxy (lower) alkoxycarbonyl group, and the cursor is a carboxy group. (lower)alkoxycarbonyl group].

製Ii法1で使用される原料化合物叫は新規であり、例
えば下記方法によって製造できる。
The raw material compound used in Production II Method 1 is new and can be produced, for example, by the following method.

製法A もしくけそのカルボキシ基における反応性誘導体または
その塩 またはそC嶋 製法B 2 もしくはそのアミノ基における反応性 誘導体またはその塩 l(6 またはその塩 捷たけその塩 (式中、R2およびXは前と同じ意味であり、「C0O
RJなる基は保護されたカルボキシ基を意味する)。
Production method A A reactive derivative at the carboxyl group or a salt thereof, or a salt thereof (C) Production method B 2 or a reactive derivative at the amino group or a salt thereof l (6 or a salt thereof (where R2 and X are It has the same meaning as before, “C0O
The group RJ means a protected carboxy group).

この発明で使用される種々の定義の適切な例と説明とを
以下詳細に述べる。
Suitable examples and explanations of the various definitions used in this invention are discussed in detail below.

「低級」とは、特にことわらない限り、炭素数1〜6個
を有する基を意味する。
"Lower" means a group having 1 to 6 carbon atoms, unless otherwise specified.

「高級」とは、特にことわらない限り、炭素数7〜20
個を有する基を意味する。
"High-grade" means 7 to 20 carbon atoms, unless otherwise specified.
means a group having .

「保護されたアミノ」基としては、ペニシリン化合物お
よびセファロスポリン化合物で使用される慣用のアミノ
保護基によって置換されたアミン基が含まれ、そのよう
なアミン保護基の例としては、後述するアシル基、例え
ばベンジル、ベンズヒドリル、トリチル等のモノ(また
はジまたはトリ)フェニル(低級)アルキ!しのような
アル(低級)アルキル基、例えば1−メトキシカルボニ
ル−1−プロペン−2−イル等の低級アルコキシカルボ
ニル(低級)アルキレンまたはそのエナミン型互変異性
体、例えばジメチルアミノメチレン等のジ(低級)アル
キルアミノメチレン等が挙げられる。
"Protected amino" groups include amine groups substituted with conventional amino protecting groups used in penicillin and cephalosporin compounds; examples of such amine protecting groups include the acyl groups described below. Groups, such as mono (or di or trip) phenyl (lower) alkyl, such as benzyl, benzhydryl, trityl, etc.! Al(lower)alkyl groups such as, for example, lower alkoxycarbonyl(lower)alkylene such as 1-methoxycarbonyl-1-propen-2-yl or its enamine-type tautomer, e.g. di(lower)alkylene such as dimethylaminomethylene, (lower) alkylaminomethylene and the like.

「アシル」基としては、脂肪族アシル基、芳香族アシル
基、複素環アシル基および、芳香族基または複素環基に
よって置換された脂肪族アシル基が挙げられる。
"Acyl" groups include aliphatic acyl groups, aromatic acyl groups, heterocyclic acyl groups, and aliphatic acyl groups substituted with aromatic or heterocyclic groups.

脂肪族アシル基としては、例えばホルミル、アセチル、
プロピオニル、ブチリル、インブチリル、バレリル、イ
ンバレリル、ピパロイル、ヘキサノイル等の低級アルカ
ノイル基、例えばメシル、エタンスルホニル、プロパン
スルホニル等の低級アルカンスルホニル基、例えばメト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカル
ボニル、ブトキシカルボニル、第三級ブトキシカルボニ
ル等の低級アルコキシカルボニル基、例えばアクリロイ
ル、メタアクリロイル、タロトノイル等の低級アルケノ
イル基、例えばシクロへキサンカルボニル等の(03〜
C7)−シクロアルカジカルボニル基、アミジノ基等の
ような飽和または不飽和の、環式または非環式脂肪族ア
シル基が挙げられる。
Examples of aliphatic acyl groups include formyl, acetyl,
Lower alkanoyl groups such as propionyl, butyryl, imbutyryl, valeryl, invaleryl, piparoyl, hexanoyl, lower alkanesulfonyl groups such as mesyl, ethanesulfonyl, propanesulfonyl, e.g. methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, butoxycarbonyl, tertiary Lower alkoxycarbonyl groups such as butoxycarbonyl, lower alkenoyl groups such as acryloyl, methacryloyl, tarotonoyl, etc. (03-
C7) - Saturated or unsaturated cyclic or acyclic aliphatic acyl groups such as cycloalkadicarbonyl groups, amidino groups and the like.

芳香族アシル基としては、例えばベンゾイル、トルオイ
ル、キシロイル等のアロイル基、ベンゼンスルホニル、
トシル等のアレーンスルホニル基等が挙けられる。
Examples of aromatic acyl groups include aroyl groups such as benzoyl, toluoyl, and xyloyl, benzenesulfonyl,
Examples include arenesulfonyl groups such as tosyl.

複素環アシル基としては、例えばフロイル、テノイル、
ニコチノイル、インニコチノイル、チアゾリルカルボニ
ル、チアジアゾリルカルボニル、テトラゾリルカルボニ
ル等の複素環カルボニル基等が挙げられる。
Examples of the heterocyclic acyl group include furoyl, thenoyl,
Examples include heterocyclic carbonyl groups such as nicotinoyl, innicotinoyl, thiazolylcarbonyl, thiadiazolylcarbonyl, and tetrazolylcarbonyl.

芳香族基によって置換された脂肪族アシル基としては、
例えばフェニルアセチル、フェニルプロピオニル、クエ
ニルヘキサノイル等のフェニル(低級)アルカノイル基
のようなアル(低級)アルカノイル基、例えばベンジル
オキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニル等のフ
ェニル(低級)アルコキシカルボニル基のようなアル(
低級)アルコキシカルボニル基、例えばフェノキシアセ
チル、フェノキシプロピオニル等の7エノキシ(低級)
アルカノイル基等が挙げられる。
As an aliphatic acyl group substituted with an aromatic group,
Al(lower)alkanoyl groups such as phenyl(lower)alkanoyl groups such as phenylacetyl, phenylpropionyl, quenylhexanoyl, and phenyl(lower)alkoxycarbonyl groups such as benzyloxycarbonyl, phenethyloxycarbonyl, etc. (
(lower) alkoxycarbonyl group, such as 7-enoxy (lower) such as phenoxyacetyl, phenoxypropionyl, etc.
Examples include alkanoyl groups.

複素環基によって置換された脂肪族アシル基としては、
チェニルアセチル、イミダゾリルアセチル、フリルアセ
チル、テトラゾリルアセチル、チアゾリルアセチル、チ
アジアゾリルアセチル、チェニルプロピオニル、チアジ
アゾリルプロピオニル等が挙げられる。
As an aliphatic acyl group substituted with a heterocyclic group,
Examples include thenyl acetyl, imidazolylacetyl, furylacetyl, tetrazolylacetyl, thiazolyl acetyl, thiadiazolyl acetyl, thenylpropionyl, thiadiazolylpropionyl, and the like.

これらのアシル基はさらに、例えばメチル、工チル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル等
の低級アルキル基、例えば塩素、臭素、よう素、ふっ素
等のハロゲン、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ
、インプロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシ
ルオキシ等のtiアルコキシ基、例えばメチルチオ、エ
チルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチ
オ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ等の低級アルキルチオ
基、ニトロ基等のような、1個以上の適当々置換基で置
換されていてもよく、そのような置換基を有するアシル
基としては、例えばタロロアセチル、ブロモアセチル、
ジクロロアセチル、トリフルオロアセチル等のモノ(ま
たはジまたはトリ)ハロ(低級)アルカノイル基、例え
ばタロロメトキシカルボニル、ジクロロメトキシカルボ
ニル、2,2.2−トリクロロエトキシカルボニル等の
モノ(またはジまたはトリ)ハロ(低級)アルコキシカ
ルボニル基、例えばニトロベンジルオキシカルボ二ノへ
タロロペンジルオキシ力ルボニル、メトキシベンジルオ
キシカルボニル等・のニトロ(またはハロまだは低級ア
ルコキシ)フェニル(低級)アルコキシカルボニル基等
が挙げられる。
These acyl groups may further include lower alkyl groups such as methyl, engineered, propyl, isopropyl, butyl, pentyl, hexyl, halogens such as chlorine, bromine, iodine, fluorine, methoxy, ethoxy, propoxy, impropoxy, etc. , ti-alkoxy groups such as butoxy, pentyloxy, hexyloxy, lower alkylthio groups such as methylthio, ethylthio, propylthio, isopropylthio, butylthio, pentylthio, hexylthio, nitro groups, etc. Examples of the acyl group having such a substituent include taloloacetyl, bromoacetyl,
Mono (or di or tri) halo (lower) alkanoyl groups such as dichloroacetyl, trifluoroacetyl, etc., mono (or di or tri) halo (lower) alkanoyl groups such as thalolomethoxycarbonyl, dichloromethoxycarbonyl, 2,2.2-trichloroethoxycarbonyl, etc. Halo (lower) alkoxycarbonyl groups, such as nitro (or halo or lower alkoxy) phenyl (lower) alkoxycarbonyl groups such as nitrobenzyloxycarbonyl, thalolopenzyloxycarbonyl, methoxybenzyloxycarbonyl, etc. .

「保護されたカルボキシ」基および「保護されたカルボ
キシ(低級)アルコキシカルボニル」における「保護さ
れたカルボキシ」部分としては、ペニシリン化合物まだ
はセファロスポリン化合物において使用されるエステル
化されたカルボキシ基が挙げられる。このような「エス
テル化されたカルボキシ」の「エステル部分」としては
、例えばメチルエステル、エチルエステル、プロピルエ
ステル、イソプロピルエステル、ブチルエステル、イソ
ブチルエステル、第三級ブチルエステル、ペンチルエス
テル、第三級ペンチルエステル、ヘキシルエステル等の
低級アルキルエステル、例えばビニルエステル、アリル
エステル等の低級アルケニルエステル、例工ばエチニル
エステル、フロビニルエステル等の低級アルキニルエス
テル、例えばメトキシメチルエステル、エトキシメチル
エステル、インプロポキシメチルエステル、1−メトキ
シエチルエステル、1−エトキシエチルエステル等の低
級アルコキシ(低級)アルキルエステル、例えばメチル
チオメチルエステル、エチルチオメチルエステル、エチ
ルチオエチルエステル、イソプロピルチオメチルエステ
ル等の低級アルキルチオ(低級)アルキルエステル、例
えばカルボキシメチルエステル、2−カルボキシエチル
エステル、3−カルボキシプロピルエステル等のカルボ
キシ(低級)アルキルエステル、例えば第三級フトキシ
力ルポニルメチルエステル、2−第三級ブトキシカルボ
ニルエチルエステル、3−第三級ブトキシカルボニルプ
ロピルエステル等の低級アルコキシカルボニル(低級)
アルキルエステルのような保護されたカルボキシ(低級
)アルキルエステル、例tば2−ヨードエチルエステル
、2.2.2−’) IJクロロエチルエステル等のモ
ノ(またはジ捷たはトリ)ハロ(低級)アルキルエステ
ル、例えばアセトキシメチルエステル、プロピオニルオ
キシメチルエステル、ブチリルオキシメチルエステル、
バレリルオキシメチルエステル、ピパロイルオキシメチ
ルエステル、ヘキサノイルオキシメチルエチルエステル
、1(または2)−アセトキシエチルエステル、1(ま
だは2捷たI″13)−アセトキシプロピルエステル、
l(または2まだは3または4)−アセトキシブチルエ
ステル、1(まだは2)−プロピオニルオキシエチルエ
ステル、1(または2または3)−プロピオニルオキシ
プロピルエステル、1(または2)−ブチリルオキシエ
チルエステル、1(または2)−イソブチリルオキシエ
チルエステル、1(!、たは2)−ピパロイルオキシエ
チルエステル、1(tたは2)−ヘキサノイルオキシエ
チルエステル、インブチリルオキシメチルエステル、2
−エチルブチリルオキシメチルエステル、3,3−ジメ
チルブチリルオキシメチルエステル、1(または2)−
ペンタノイルオキシエチルエステル等の低級アルカノイ
ルオキシ(低級)アルキルエステル、例えばヘプタノイ
ルオキシメチルエステル、オクタノイルオキシメチルエ
ステル、ノナノイルオキシメチルエステノにデカノイル
オキシメチルエステル、クンデカノイルオキシメチルエ
ステル、ラウロイルオキシメチルエステル、トリデカノ
イルオキシメチルエステル、ミリストイルオキシメチル
エステル、ペンタデカノイルオキシメチルエステル、パ
ルミトイルオキシメチルエステル、ヘプクデカノイルオ
キシメチルエステル、ステアロイルオキシメチルエステ
ル、ノナデカノイルオキシメチルエステル、エイコサノ
イルオキシメチルエステル、1(’!たは2)−ヘプタ
ノイルオキシエチルエステル、■(または2)−オクタ
ノイルオキシエチルエステル、1(jたは2)−ノナノ
イルオキシエチルエステル、l(または2)−デカノイ
ルオキシエチルエステル、■(または2)−クンデカノ
イルオキシエチルエステル、1(または2)−ラフロイ
ルオキシエチルエステル、1(または2)−トリデカノ
イルオキシエチルエステル、1(tたは2)−ミリスト
イルオキシエチルエステル、1(または2)−ペンタデ
カノイルオキシエチルエステル、1(または2)−バル
ミトイルオキシエチルエステル、1(捷たは2)−ヘプ
クデカノイルオキシエチルエステル、1(または2)−
ステアロイルオキシエチルエステル、1(!、だは2)
−7ナデカノイルオキシエチルエステル −エイコサノイルオキシエチルエステル等の高級アルカ
ノイルオキシ(低級)アルキルエステル、例えばメトキ
シカルボニルオキシメチルエステルエトキシカルボニル
オキシメチルエステル、プロポキンカルボニルオキシメ
チルエステル、インプロポキシカルボニルオキシメチル
エステル、第三級ブトキシカルボニルオキシメチルエス
テル、1(または2)−メトキシカルボニルオキシエチ
ルエステル、■(またけ2)−エトキシカルボニルオキ
シエチルエステル、1(または2)−プロポキシカルボ
ニルオキシエチルエステル、1(または2)−イソプロ
ポキシカルボニルオキシエチルエステル、1(または2
)ブトキシカルボニルオキシエチルエステル、1(また
け2)−イソブトキシカルボニルオキシエチルエステル
、1(または2)−第三級ブトキシカルボニルオキシエ
チルエステル、1(または2)−へキシルオキシカルボ
ニルオキシエチルエステル、1(または2または3)−
メトキシカルボニルオキシプロピルエステルニルオキシ
プロピルエステル、1(4だは2寸たは3)−イソプロ
ポキシカルボニルオキシプロピルエステル、l(まだは
2または3または4)−エトキシカルボニルオキシフ まだは2または3または4)−ブトキシカルボニルオキ
シブチルエステル、1(まだは2または3マタは4また
は5)ペンチルオキシカルボニルオキシペンチルエステ
ル、1(または2または3まりtri4?たは5)−ネ
オペンチルオキシカルボニルオキシペンチルエステル、
1(または2″!.だは3またけ4またけ5まだは6)
−エトキシカルボニルオキシヘキシルエステル等の低級
アルコキシカルボニルオキシ(低級)アルキルエステル
、例えば(5−メチル−2−オキソ−1,3−ジオキソ
−ルー4−イル)メチルエステル、(5−エチル−2−
オキソ−1.3−ジオキソ−ルー4−イル)メチルエス
テル、(5−プロピル−2−オキソ−1、3−ジオキソ
−ルー4−イル)エチルエステル等の(5−低級アルキ
ルー2−オキソ−1.3−ジオキソ−ルー4−イル)(
低級)アルキルエステル、例えばメシルメチルエステル
、2−メシルエチルエステル等の低級アルカンスルホニ
ル(低級)アルキルエステル、例えばベンジルエステル
、4−メトキシベンジルエステル、4−ニトロベンジル
エステル、フェネチルエステル、ベンズヒドリルエステ
ル、トリチルエステル、ビス(メトキシフェニル)メチ
ルエステル、3.4−ジメトキシベンジルエステル、4
−ヒドロキシ−3.5 −シ91三級ブチルベンジルエ
ステル等の1個以上の適当な置換基を有していてもよい
モノ(またはジまたはトリ)フェニル(低級)アルキル
エステルのような1個以上の置換基を有していてもよい
アル(低級)アルキルエステル、例えばフェニルエステ
ル、トリルエステル、第三級ブチルフェニルエステル、
キシリルエステル、メシチルエステル、クメニルエステ
ル、サリシルエステル等の1個以上の置換基を有してい
てもよいアリニルエステル、例えばフタリジルエステル
等の複素環エステル等が挙げられる。
The "protected carboxy" group and the "protected carboxy" moiety in "protected carboxy(lower)alkoxycarbonyl" include esterified carboxy groups used in penicillin compounds and cephalosporin compounds. It will be done. Examples of the "ester moiety" of such "esterified carboxy" include methyl ester, ethyl ester, propyl ester, isopropyl ester, butyl ester, isobutyl ester, tertiary butyl ester, pentyl ester, and tertiary pentyl ester. Lower alkyl esters such as esters and hexyl esters, lower alkenyl esters such as vinyl esters and allyl esters, lower alkynyl esters such as ethynyl esters and flovinyl esters, such as methoxymethyl esters, ethoxymethyl esters, and impropoxymethyl esters. , 1-methoxyethyl ester, 1-ethoxyethyl ester, lower alkoxy (lower) alkyl ester, such as lower alkylthio (lower) alkyl ester, such as methylthiomethyl ester, ethylthiomethyl ester, ethylthioethyl ester, isopropylthiomethyl ester, etc. , carboxy (lower) alkyl esters such as carboxymethyl ester, 2-carboxyethyl ester, 3-carboxypropyl ester, e.g. Lower alkoxycarbonyl (lower) such as tertiary butoxycarbonylpropyl ester
protected carboxy (lower) alkyl esters such as alkyl esters, e.g. 2-iodoethyl ester, 2.2.2-') ) alkyl esters such as acetoxymethyl ester, propionyloxymethyl ester, butyryloxymethyl ester,
valeryloxymethyl ester, piparoyloxymethyl ester, hexanoyloxymethylethyl ester, 1 (or 2)-acetoxyethyl ester, 1 (still 2)-acetoxypropyl ester,
l(or 2 but not 3 or 4)-acetoxybutyl ester, 1(but not 2)-propionyloxyethyl ester, 1(or 2 or 3)-propionyloxypropyl ester, 1(or 2)-butyryloxyethyl ester, 1 (or 2)-isobutyryloxyethyl ester, 1 (!, or 2)-piparoyloxyethyl ester, 1 (t or 2)-hexanoyloxyethyl ester, imbutyryloxymethyl ester ,2
-Ethylbutyryloxymethyl ester, 3,3-dimethylbutyryloxymethyl ester, 1 (or 2)-
Lower alkanoyloxy (lower) alkyl esters such as pentanoyloxyethyl ester, such as heptanoyloxymethyl ester, octanoyloxymethyl ester, nonanoyloxymethyl ester, decanoyloxymethyl ester, Kundecanoyloxymethyl ester, lauroyl Oxymethyl ester, tridecanoyloxymethyl ester, myristoyloxymethyl ester, pentadecanoyloxymethyl ester, palmitoyloxymethyl ester, hepucdecanoyloxymethyl ester, stearoyloxymethyl ester, nonadecanoyloxymethyl ester, eicosa Noyloxymethyl ester, 1('! or 2)-heptanoyloxyethyl ester, ■(or 2)-octanoyloxyethyl ester, 1(j or 2)-nonanoyloxyethyl ester, l(or 2)- )-decanoyloxyethyl ester, ■(or 2)-cundecanoyloxyethyl ester, 1(or 2)-lafuroyloxyethyl ester, 1(or 2)-tridecanoyloxyethyl ester, 1(t)-decanoyloxyethyl ester, 2)-Myristoyloxyethyl ester, 1 (or 2)-pentadecanoyloxyethyl ester, 1 (or 2)-valmitoyloxyethyl ester, 1 (or 2)-hepkudecanoyloxyethyl ester , 1 (or 2) −
Stearoyloxyethyl ester, 1 (!, daha 2)
-7 Nadecanoyloxyethyl ester - higher alkanoyloxy (lower) alkyl esters such as eicosanoyloxyethyl ester, e.g. methoxycarbonyloxymethyl ester ethoxycarbonyloxymethyl ester, propoquine carbonyloxymethyl ester, impropoxycarbonyloxymethyl ester ester, tertiary butoxycarbonyloxymethyl ester, 1 (or 2)-methoxycarbonyloxyethyl ester, ■ (straight 2)-ethoxycarbonyloxyethyl ester, 1 (or 2)-propoxycarbonyloxyethyl ester, 1 ( or 2)-isopropoxycarbonyloxyethyl ester, 1 (or 2)
) Butoxycarbonyloxyethyl ester, 1 (or 2)-isobutoxycarbonyloxyethyl ester, 1 (or 2)-tertiary butoxycarbonyloxyethyl ester, 1 (or 2)-hexyloxycarbonyloxyethyl ester, 1 (or 2 or 3) -
Methoxycarbonyloxypropyl ester Nyloxypropyl ester, 1(4 or 2 or 3)-isopropoxycarbonyloxypropyl ester, l(still 2 or 3 or 4)-ethoxycarbonyloxyph or 2 or 3 or 4)-Butoxycarbonyloxybutyl ester, 1 (or 2 or 3 but 4 or 5) pentyloxycarbonyloxypentyl ester, 1 (or 2 or 3 or tri4? or 5)-neopentyloxycarbonyloxypentyl ester ,
1 (or 2″!. 3 straddles, 4 straddles 5, 6 straddles)
-lower alkoxycarbonyloxy(lower)alkyl esters such as ethoxycarbonyloxyhexyl ester, e.g. (5-methyl-2-oxo-1,3-dioxo-4-yl)methyl ester, (5-ethyl-2-
(5-lower alkyl-2-oxo-1) such as oxo-1,3-dioxo-4-yl)methyl ester, (5-propyl-2-oxo-1,3-dioxo-4-yl)ethyl ester, etc. .3-dioxol-4-yl) (
(lower) alkyl esters, e.g. mesyl methyl ester, lower alkanesulfonyl (lower) alkyl esters such as 2-mesylethyl ester, e.g. benzyl ester, 4-methoxybenzyl ester, 4-nitrobenzyl ester, phenethyl ester, benzhydryl ester, trityl ester, bis(methoxyphenyl)methyl ester, 3,4-dimethoxybenzyl ester, 4
one or more mono(or di- or tri)phenyl (lower) alkyl esters which may have one or more suitable substituents such as -hydroxy-3.5-cy91 tertiary butyl benzyl esters Al (lower) alkyl esters which may have substituents such as phenyl esters, tolyl esters, tertiary butyl phenyl esters,
Allinyl esters which may have one or more substituents such as xylyl esters, mesityl esters, cumenyl esters, and salicyl esters; for example, heterocyclic esters such as phthalidyl esters; and the like.

「ハロゲン」としては、塩素、臭素、よう素等が挙げら
れる。
Examples of "halogen" include chlorine, bromine, and iodine.

「保護されたカルボキシ(低級)アルコキシカルボニル
」および「カルボキシ(低級)アルコキシカルボニル」
における「低級アルコキシカルボニル」基としては、メ
トキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカ
ルボニル等が挙ケラれる。
"Protected carboxy(lower)alkoxycarbonyl" and "carboxy(lower)alkoxycarbonyl"
Examples of the "lower alkoxycarbonyl" group include methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, and the like.

[低級アルコキシカルボニルオキシ(低級)アルキル」
基としては、メトキシカルボニルオキシメチル、エトキ
シ力lレボニルオキシメチルポキシカルボニルオキシメ
チル、インプロポキシカルボニルオキシメチル、第三級
ブトキシカルボニルオキシメチル、1(またけ2)−メ
トキシカルボニルオキシエチル、1(または2)−エト
キシカルボニルオキシエチル、1(または2)−プロポ
キシカルボニルオキシエチル、1(または2)−イソプ
ロポキシカルボニルオキシエチル、1(または2)−ブ
トキシカルボニルオキシエチル、1(壕だは2)−イン
ブトキシカルボ五ルオキシエチル、1(捷たは2)−第
三級ブトキシカルボニルオキシエチル、l(または2)
−へキシルオキシカルボニルオキシエチル、■(まだは
2または3)−メトキシカルボニルオキシプロピル、■
(捷たは2または3)−エトキシカルボニルオキシプロ
ピル、1(または2またけ3)−イソプロポキシカルボ
ニルオキシプロピル、1.(4たは2捷たは3または4
)−エトキシカルボニルオキシブチル、1(I!.だは
2または3捷たは4)−ブトキシカルボニルオキシブチ
ル、1(まだは2またけ3または4捷たは5)−ペンチ
ルオキシカルボニルオキシペンチル、1(または2また
は3または4または5)−ネオペンチルオキシカルボニ
ルオキシペンチル、1(または2または3または4まだ
は5捷たは6)−エトキシカルボニルオキシヘキシル等
が挙げられる。
[Lower alkoxycarbonyloxy (lower) alkyl]
The groups include methoxycarbonyloxymethyl, ethoxyl-levonyloxymethylpoxycarbonyloxymethyl, impropoxycarbonyloxymethyl, tert-butoxycarbonyloxymethyl, 1 (and 2)-methoxycarbonyloxyethyl, 1 (or 2)-Ethoxycarbonyloxyethyl, 1 (or 2)-propoxycarbonyloxyethyl, 1 (or 2)-isopropoxycarbonyloxyethyl, 1 (or 2)-butoxycarbonyloxyethyl, 1 (or 2)- Imbutoxycarboxyloxyethyl, 1 (or 2)-tert-butoxycarbonyloxyethyl, l (or 2)
-hexyloxycarbonyloxyethyl, ■(still 2 or 3)-methoxycarbonyloxypropyl, ■
(or 2 or 3)-ethoxycarbonyloxypropyl, 1 (or 2 or 3)-isopropoxycarbonyloxypropyl, 1. (4 or 2 or 3 or 4
)-Ethoxycarbonyloxybutyl, 1 (I!. is 2 or 3 or 4)-butoxycarbonyloxybutyl, 1 (or 2 or 3 or 4 or 5)-pentyloxycarbonyloxypentyl, Examples include 1 (or 2 or 3 or 4 or 5)-neopentyloxycarbonyloxypentyl, 1 (or 2 or 3 or 4 or 5 or 6)-ethoxycarbonyloxyhexyl.

目的化合物(I)の好ましい例は次のとおりである。Preferred examples of the target compound (I) are as follows.

R1の好ましい例としてはアミノが R2の好ましい例
としてはカルボキシまたはエステル化されたカルボキシ
が、さらに好ましくはカルボキシ(低級)アルコキシカ
ルボニル、低級アルコキシカルボニル(低級)アルコキ
シカルボニル、低級アルカノイルオキシ(低級)アルコ
キシカルボニル、高級アルカノイルオキシ(低級)アル
コキシカルボニル、低級アルコキシカルボニルオキシ(
低級)アルコキシカルボニル、(5−[&アルキルー2
ーオキソー1,3−ジオキソ−ルーイル)([9)アル
コキシカルボニル、ジフェニル(低級)アルコキシカル
ボニル等のアル(低級)アルコキシカルボニルまたはツ
タリジルオキシカルボニルであ“る。
A preferred example of R1 is amino, and a preferred example of R2 is carboxy or esterified carboxy, more preferably carboxy (lower) alkoxycarbonyl, lower alkoxycarbonyl (lower) alkoxycarbonyl, lower alkanoyloxy (lower) alkoxycarbonyl. , higher alkanoyloxy (lower) alkoxycarbonyl, lower alkoxycarbonyloxy (
(lower) alkoxycarbonyl, (5-[&alkyl-2
-oxo-1,3-dioxo-ruyl) ([9) Al(lower)alkoxycarbonyl such as alkoxycarbonyl, diphenyl(lower)alkoxycarbonyl, or tutaridyloxycarbonyl.

化合物(Ilまたはその塩の製法を以下詳細に説明する
The method for producing the compound (Il or its salt) will be explained in detail below.

(1)製法1 化合物(11またはその塩は、化合物(II)またはそ
の塩に、化合物(III)を反応させることにより製造
できる。
(1) Production method 1 Compound (11 or a salt thereof) can be produced by reacting compound (II) or a salt thereof with compound (III).

化合物(II)の塩としては、化合物(I)において例
示“した塩基との塩がそ”の・まま挙げられる。
Examples of the salt of compound (II) include the salts with bases exemplified for compound (I) as they are.

この反応は通常、酢酸エチル、塩化メチレン、クロロホ
ルム、四塩化炭素、テトラヒドロフラン、N,N−ジメ
チルホルムアミド、凡Nージメチルアセトアミド、ジオ
キサン、水、酢酸、ぎ酸等のこの反応に悪影響を及ぼさ
ない慣用の溶媒またはそれらの混合物中で行われる。
This reaction is usually carried out using any conventional solvent that does not adversely affect the reaction, such as ethyl acetate, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, tetrahydrofuran, N,N-dimethylformamide, N-dimethylacetamide, dioxane, water, acetic acid, or formic acid. solvent or mixtures thereof.

反応温度は特に限定されないが、通常冷却下々いし加温
下で行われる。
Although the reaction temperature is not particularly limited, it is usually carried out under cooling or under heating.

製法2 化合物[Iblまたはその塩は、化合物[Ia]または
その塩をカルボキシ保護基の脱離反応に付すことにより
製造できる。
Production method 2 Compound [Ibl or a salt thereof can be produced by subjecting compound [Ia] or a salt thereof to an elimination reaction of a carboxy protecting group.

化合物(Ia)および(Ib)の塩としては、化合物(
1)伏 において例示した塩?のまま外挙げられる。
Salts of compounds (Ia) and (Ib) include compounds (Ia) and (Ib);
1) What about the salt exemplified in Fu? It is raised as it is.

この反応におけるカルボキシ保護基の脱離方法としては
、加水分解、還元等のような慣用の方法が挙げられる。
Methods for removing the carboxy protecting group in this reaction include conventional methods such as hydrolysis, reduction and the like.

(1)加水分解 加水分解は酸の存在下に行うのが好ましい。(1) Hydrolysis Hydrolysis is preferably carried out in the presence of an acid.

そのような酸としては、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸
等の無機酸、ぎ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオ
ン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−ト
ルエンスルホン酸等の有機酸、酸性イオン交換樹脂等が
挙げられる。これらの酸のうち、トリフルオロ酢酸およ
びp−)ルエンスルホン酸のような有機酸を使用する場
合、例えばアニソール等の陽イオン捕捉剤の存在下に反
応を行うことが望ましい。
Examples of such acids include inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, and sulfuric acid; organic acids such as formic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, propionic acid, methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, and p-toluenesulfonic acid. , acidic ion exchange resins, and the like. When using organic acids such as trifluoroacetic acid and p-)luenesulfonic acid among these acids, it is desirable to carry out the reaction in the presence of a cation scavenger such as anisole.

さらに上記酸の代りに、三ふっ化はう素、三ふっ化はう
素エーテレート、三塩化アルミニウム、五塩化アンチモ
ン、塩化第二鉄、塩化第二すず、四塩化チタン、塩化亜
鉛等のようなルイス酸も使用することができ、さらにル
イス酸を使用する場合にもアニソールのような陽イオン
捕捉剤の存在下で反応を行うことができる。
Furthermore, in place of the above acids, boronate trifluoride, borofluoride etherate, aluminum trichloride, antimony pentachloride, ferric chloride, stannic chloride, titanium tetrachloride, zinc chloride, etc. Lewis acids can also be used, and even when Lewis acids are used, the reaction can be carried out in the presence of a cation scavenger such as anisole.

加水分解は通常、水、メタノール、エタノール、プロパ
ツール、第三級ブチルアルコール、テトラヒドロフラン
、N、N−ジメチルホルムアミド、N。
Hydrolysis is typically performed using water, methanol, ethanol, propatool, tertiary butyl alcohol, tetrahydrofuran, N,N-dimethylformamide, N.

N−ジメチルアセトアミド、ジオキサン等のこの反応に
悪影響を及ぼさない慣用の溶媒まだはそれらの混合物中
で行われ、さらに前記酸が液体である場合も溶媒として
使用することができる。
Customary solvents which do not adversely affect this reaction, such as N-dimethylacetamide, dioxane, etc., can also be used in mixtures thereof, and also when the acid is liquid.

この加水分解の反応温度は特に限定されないが、通常冷
却下ないし加温下で行われる。
The reaction temperature for this hydrolysis is not particularly limited, but it is usually carried out under cooling or heating.

(n)還元 還元は化学還元および接触還元を含む慣用の方法により
行われる。
(n) Reduction Reduction is carried out by conventional methods including chemical reduction and catalytic reduction.

化学還元で使用される還元剤としては、例えばすす、亜
鉛、鉄等の金属もしくは例えば塩化クロム、酢酸クロム
等の金属化合物と、ぎ酸、酢酸、プロピオン酸、トリフ
ルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、塩酸、臭化水素
酸等の有機もしくは無機酸との組合せが挙げられる。
Reducing agents used in chemical reduction include metals such as soot, zinc, and iron, or metal compounds such as chromium chloride and chromium acetate, and formic acid, acetic acid, propionic acid, trifluoroacetic acid, and p-toluenesulfonic acid. , a combination with an organic or inorganic acid such as hydrochloric acid or hydrobromic acid.

接触還元で使用される触媒としては、例えば白金板、白
金海綿、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線等の
白金触媒、例えばパラジウム黒綿、パラジウム黒、酸化
パラジウム、バラジクム炭素、コロイドパラジクム、パ
ラジクム硫酸パリクム、パラジウム炭酸パリクム等のパ
ラジウム黒媒、例えば還元ニッケル、酸化ニッケル、ラ
ネーニッケル等のニッケル触媒、例えば還元コバルト、
ラネーコバルト等のコバルト触媒、例えば還元鉄、ラネ
ー鉄等の鉄触媒、例えば還元銅、ラネー銅、クルマン銅
等の銅触媒等のような慣用の触媒が挙げられる。
Catalysts used in catalytic reduction include platinum catalysts such as platinum plates, platinum sponges, platinum black, colloidal platinum, platinum oxide, and platinum wires, such as palladium black cotton, palladium black, palladium oxide, baladicum carbon, and colloidal palladium. , palladium black media such as palladium pallicum sulfate and palladium pallicum carbonate, nickel catalysts such as reduced nickel, nickel oxide and Raney nickel, reduced cobalt,
Common catalysts include cobalt catalysts such as Raney cobalt, eg reduced iron, iron catalysts such as Raney iron, copper catalysts such as reduced copper, Raney copper, Kulmann copper, and the like.

還元は通常、水、メタノール、エタノール、プロパツー
ル、N、N−ジメチルホルムアミドのような、この反応
に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒またはそれらの混合物
中で行われる。さらに、化学還元に使用される前記酸が
液体である場合、それらを溶媒として使用するこさもで
きる。′!!ださらに、接触還元に使用される溶媒とし
ては、上記溶媒に加えて、ジエチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等の慣用の溶媒またはそれらの
混合物が挙げられる。
The reduction is usually carried out in conventional solvents or mixtures thereof that do not adversely affect the reaction, such as water, methanol, ethanol, propatool, N,N-dimethylformamide. Furthermore, if the acids used in the chemical reduction are liquids, they can also be used as solvents. ′! ! Furthermore, the solvent used in the catalytic reduction includes, in addition to the above-mentioned solvents, conventional solvents such as diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, etc., or mixtures thereof.

反応温度は特に限定されないが、通常冷却下ないし加温
下で行われる。
Although the reaction temperature is not particularly limited, it is usually carried out under cooling or heating.

製法3 化合物(Ia)またはその塩は、化合物(Ib)もしく
はそのカルボキシ基における反応性誘導体またはその塩
に、カルボキシ保護基を導入することにより製造できる
Production method 3 Compound (Ia) or a salt thereof can be produced by introducing a carboxy protecting group into compound (Ib) or a reactive derivative thereof at a carboxy group or a salt thereof.

ゲン化物等の、この反応に適用できる慣用の反応性誘導
体が挙げられる。
Mention may be made of the customary reactive derivatives applicable to this reaction, such as genides.

この反応に使用されるカルボキシ保護基の導入剤として
は、アルコールまたはそのハロゲン化物、スルホン酸エ
ステル、硫酸エステル、ジアゾ化合物等の反応性均等物
のような慣用のエステル化剤が挙げられる。
The carboxy protecting group introducing agent used in this reaction includes conventional esterifying agents such as reactive equivalents of alcohols or their halides, sulfonic acid esters, sulfuric esters, diazo compounds and the like.

この反応は、例えばリチウム、ナトリウム、カリウム等
のアルカリ金属、例えばカルシツム等のアルカリ士金属
、例えば水素化ナトリウム等の水素化アルカリ金属、例
えば水素化力ルシウム等の水素化アルカリ士金属、例え
ば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカ
リ金属、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セ
シウム等の炭酸アルカリ金属、例えば炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム等の炭酸水素アルカリ金属、例え
はナトリクムメトキサイド、ナトリクムエトキサイド、
カリウム第三級ブトキサイド等のアルカリ金属アルコキ
サイド、例えば酢酸ナトリウム等のアルカリ金属アルカ
ン酸塩、例えばトリエチルアミン等のトリアルキルアミ
ン、■、8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンテス−
7−エン、例えばピリジン、ルチジン、ピコリン等のピ
リジンおよびその誘導体、キノリン等のような有機塩基
型たは無機頃基の存在下に行うこともでき、さらに例え
ばよう化ナトリウム、よう化カリウム等の金属よう化物
の存在下に行うこともできる。
This reaction can be carried out using alkali metals such as lithium, sodium, potassium, etc., alkaline metals such as calcium, alkali metal hydrides such as sodium hydride, alkaline metals hydrides such as lucium hydroxide, e.g. Alkali metal hydroxides such as sodium, potassium hydroxide, alkali metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, alkali metal bicarbonates such as sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, e.g. sodium methoxide, sodium cum ethoxide,
Alkali metal alkoxides such as potassium tertiary butoxide, alkali metal alkanoates such as sodium acetate, trialkylamines such as triethylamine, ■,8-diazabicyclo[5,4,0]untes-
7-enes, such as pyridine, lutidine, picoline, etc., pyridine and its derivatives, quinoline, etc. can also be carried out in the presence of an organic base type or an inorganic group, such as sodium iodide, potassium iodide, etc. It can also be carried out in the presence of metal iodides.

カルボキシ保護基導入剤としてアルコールを使用する場
合、例えばN、N’−ジシクロへキシルカルボジイミド
、N−シクロへキシル−N’−(4−ジエチルアミノシ
クロヘキシル)カルボジイミド、N、N’−ジエチルカ
ルボジイミド、N、N’−ジイソプロピルカルボジイミ
ド、N−エチル−N’−(3−ジメチルアミノプロピル
)カルボジイミド等のカルボジイミド化合物、例えば1
−(4−クロロベンゼンスルホニルオキシ)−6−クロ
ロ−IH−ベンゾトリアゾール等のN−ヒドロキシベン
ゾトリアゾール誘導体のスルホン酸エステル等のよう々
縮合剤の存在下に行うことができる。
When alcohol is used as a carboxy protecting group introducing agent, for example, N,N'-dicyclohexylcarbodiimide, N-cyclohexyl-N'-(4-diethylaminocyclohexyl)carbodiimide, N,N'-diethylcarbodiimide, N, Carbodiimide compounds such as N'-diisopropylcarbodiimide, N-ethyl-N'-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide, e.g.
It can be carried out in the presence of a condensing agent such as a sulfonic acid ester of an N-hydroxybenzotriazole derivative such as -(4-chlorobenzenesulfonyloxy)-6-chloro-IH-benzotriazole.

この反応は通常、アセトン、ジオキサン、アセトニトリ
ル、クロロホルム、′ベンゼン、塩化メチレン、塩化エ
チレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、ジメチルス
ルホキシド、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−
ジメチルアセトアミド、ピリジン、ヘキサメチルホスホ
ルアミド等の、この反応に悪影響を及ぼさない溶媒オた
はそれらの混合物中で行われる。
This reaction is typically performed using acetone, dioxane, acetonitrile, chloroform, benzene, methylene chloride, ethylene chloride, tetrahydrofuran, ethyl acetate, dimethyl sulfoxide, N,N-dimethylformamide, N,N-
It is carried out in a solvent or mixture thereof that does not adversely affect the reaction, such as dimethylacetamide, pyridine, hexamethylphosphoramide, etc.

反応温度は特に限定されないが、通常冷却下、常温また
は加熱下で行われる。
Although the reaction temperature is not particularly limited, it is usually carried out under cooling, room temperature, or heating.

製法4 化合物(Id) tだはその塩は、化合物(Ic)また
はその塩を、Rモのカルボキシ保護基の脱離反応に付す
ことにより製造できる。
Production Method 4 Compound (Id) or its salt can be produced by subjecting Compound (Ic) or its salt to an elimination reaction of the carboxy protecting group of R.

この反応は加水分解および還元等の常法により行われる
This reaction is carried out by conventional methods such as hydrolysis and reduction.

加水分解および還元の方法、ならびに例えば反応温度、
溶媒等の反応条件は、製法2で詳述した化合物(Ia)
のカルボキシ保護基の脱離反応と実質的に同じであり、
従ってその説明を援用できる。
Hydrolysis and reduction methods and e.g. reaction temperatures,
The reaction conditions such as solvent are as follows for compound (Ia) detailed in Production Method 2.
is substantially the same as the elimination reaction of the carboxy protecting group of
Therefore, that explanation can be used.

目的化合物CI+は慣用の方法によって、その医薬とし
て許容される塩に転化できる。
The target compound CI+ can be converted into its pharmaceutically acceptable salt by conventional methods.

原料化合物の製法を以下詳細に説明する。The method for producing the raw material compound will be explained in detail below.

製法A 化合物(■b)まだはその塩は、化合物(IVa)もし
くはそのカルボキシ基における反応性誘導体またはその
塩に、化合物(v)もしくはそのヒドロキシ基における
反応性誘導体重たはその塩と反応させることにより製造
できる。
Production method A Compound (■b) or its salt is reacted with compound (IVa) or its reactive derivative at the carboxy group or its salt with compound (v) or its reactive derivative at the hydroxy group or its salt. It can be manufactured by

化合物(IVa)のカルボキシ基における反応性誘導体
としては、製麹法3における化合物(Ib)の反応性誘
導体の例示がそのまま挙げられる。
As the reactive derivative at the carboxy group of compound (IVa), the same examples as the reactive derivative of compound (Ib) in Koji Making Method 3 can be mentioned.

化合物(■)のヒドロキシ基における反応性誘導体トシ
ては、ヒドロキシ基が例えば塩素、臭素、よう素等のハ
ロゲンのような酸残基によって置換されている化合物(
v)が挙げられる。
Reactive derivatives at the hydroxyl group of the compound (■) are compounds in which the hydroxyl group is substituted with an acid residue such as a halogen such as chlorine, bromine, iodine, etc.
v).

化合物(IVa)および(Ivb)の塩としては、化合
物(I)において例示しだ塩がそのまま挙げられ、化合
物(v)の塩としては、化合物(I)において例示した
塩基との塩がそのまま挙げられる。
Examples of the salts of compounds (IVa) and (Ivb) include the salts exemplified for compound (I), and examples of the salts of compound (v) include the salts with bases exemplified for compound (I). It will be done.

この反応は製法3で述べたエステル化法と実質的に同じ
であり、従って、例えば反応温度、溶媒、塩基等の反応
条件はその説明を援用できる。
This reaction is substantially the same as the esterification method described in Production Method 3, and therefore, the explanation can be referred to for reaction conditions such as reaction temperature, solvent, base, etc.

製法B−■ 化合物(Vl)またはその塩は、化合物(■)もしくは
そのアミノ基における反応性誘導体またはその塩に、化
合物(W)もしくはそのカルボキシ基における反応性誘
導体またはその塩を反応させることにより製造できる。
Production method B-■ Compound (Vl) or its salt is prepared by reacting compound (■) or its reactive derivative at the amino group or its salt with compound (W) or its reactive derivative at the carboxyl group or its salt. Can be manufactured.

化合物(■)のアミ7基における反応性誘導体としては
、慣用の誘導体例えば、化合物(■)と、トリメチルシ
リルアセトアミド、ビス(トリメチルシリル)アセトア
ミド、ビス(トリメチルシリル)尿素等のようなシリル
化合物との反応によって生成するシリル誘導体が挙げら
れ、また化合物(Vl)の反応性誘導体としては、酸塩
化物、酸臭化物等のような酸ハロゲン化物が挙げられ、
これらの酸ハロゲン化物はジケテンとハロゲンとの反応
によって製造できる。
Reactive derivatives at the amine 7 group of compound (■) include conventional derivatives such as those obtained by reaction of compound (■) with silyl compounds such as trimethylsilylacetamide, bis(trimethylsilyl)acetamide, bis(trimethylsilyl)urea, etc. Examples of reactive derivatives of compound (Vl) include acid halides such as acid chlorides, acid bromides, etc.
These acid halides can be produced by reacting diketene with halogen.

化合物(IT)の塩としては、化合物(I)における塩
の例示がそのまま挙げられ、化合物(W)および(至)
の塩としては、化合物(I)における塩基との塩の例示
がそのまま挙げられる。
Examples of the salt of compound (IT) include the same examples of the salt of compound (I), and compounds (W) and (to)
Examples of the salt include the salts of compound (I) with bases.

反応は通常、水、アセトン、ジオキサン、アセトニトリ
ル、クロロホルム、ベンゼン、塩化メチレン、塩化エチ
レン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、N、N−ジメ
チルホルムアミド、ピリジン、ネ ヘキサメチルホス≠岬ルアミド等のこの反応に悪影響を
及ぼさない慣用の溶媒捷だけそれらの混合物中で行われ
る。
The reaction is usually carried out using chemicals that adversely affect this reaction, such as water, acetone, dioxane, acetonitrile, chloroform, benzene, methylene chloride, ethylene chloride, tetrahydrofuran, ethyl acetate, N,N-dimethylformamide, pyridine, nehexamethylphos≠misakiruamide, etc. Only conventional solvent evaporation with no effect is carried out on these mixtures.

反応温度は特に限定されないが、通常冷却下ないし加温
下で行われる。
Although the reaction temperature is not particularly limited, it is usually carried out under cooling or heating.

製法B−■ 化合物(nlまたはその塩は、化合物(2)まだはその
塩にニトロソ化剤を反応させることにより製造できる。
Production method B-① Compound (nl or its salt) can be produced by reacting compound (2) or its salt with a nitrosating agent.

ニトロソ化剤としては、亜硝酸およびその誘導体、例え
ば塩化ニトロシル、臭化ニトロシル等のニトロシルハロ
ゲン化物、例えば亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム等
の亜硝酸アルカリ金属、例えば亜硝酸ブチル、亜硝酸ペ
ンチル、亜硝酸インカリ金属塩を使用する場合、例えば
塩酸、硫酸、ぎ酸、酢酸等の無機捷たは有機酸の存在下
で反応を行うのが好ましい。
As nitrosating agents, nitrous acid and its derivatives, such as nitrosyl halides such as nitrosyl chloride and nitrosyl bromide, alkali metal nitrites such as sodium nitrite and potassium nitrite, such as butyl nitrite, pentyl nitrite, nitrous acid When using an inkali metal salt, the reaction is preferably carried out in the presence of an inorganic or organic acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid, formic acid, or acetic acid.

この反応はアヤチルアセトン、アセト酢酸エチル等のよ
うな活性メチレン化合物の存在下で行うことが好捷しい
This reaction is preferably carried out in the presence of an active methylene compound such as ayathylacetone, ethyl acetoacetate, and the like.

この反応は通常、水、酢酸、ベンゼン、メタノール、エ
タノール、テトラヒドロフラン、塩化メチレン等のこの
反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒またはそれらの混
合物中で行われる。
This reaction is usually carried out in a conventional solvent or mixture thereof that does not adversely affect the reaction, such as water, acetic acid, benzene, methanol, ethanol, tetrahydrofuran, methylene chloride, etc.

反応温度は特に限定されないが、通常冷却下ないし常温
で行われる。
Although the reaction temperature is not particularly limited, it is usually carried out under cooling or at room temperature.

この反応で得られる化合物(II)のヒドロキシイミノ
基において、シン異性体、アンチ異性体およびそれらの
混合物が含捷れていてもよく、そのような化合物は次の
部分構造によって示される。
The hydroxyimino group of compound (II) obtained by this reaction may contain a syn isomer, an anti isomer, and a mixture thereof, and such a compound is represented by the following partial structure.

1 H この発明の目的化合物(I)およびその医薬として許容
される塩は、新規化合物であり、ダラム陽性菌およびダ
ラム陰性菌を含む多くの病原菌の発育を阻止する高い抗
菌活性を有し、抗菌剤、特に経口投与用抗菌剤として有
用である。
1 H Compound (I) and its pharmaceutically acceptable salts are novel compounds, have high antibacterial activity that inhibits the growth of many pathogenic bacteria including Durum-positive bacteria and Durum-negative bacteria, and have antibacterial properties. It is useful as an antibacterial agent, especially for oral administration.

次に、目的化合物(I)の有用性を示すために、この発
明の代表的な化合物の尿中排泄試験結果を示す。
Next, in order to demonstrate the usefulness of the target compound (I), the results of a urinary excretion test of a representative compound of this invention are shown.

尿中排泄試験 (1)試験法 試験化合物100■/lvを、1群3匹のラットに経口
投与し、尿試料を0〜24時間採集した。
Urinary excretion test (1) Test method 100 μ/lv of the test compound was orally administered to 3 rats per group, and urine samples were collected for 0 to 24 hours.

(2)試験化合物 (A+  7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−ヒドロキシイミノアセトアミド〕−3−ビニ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸ピパロイルオキシメ
チル(シン異性体)(以下化合物Aと記す) (B)  7− (2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)−2−ヒドロキシイミノアセトアミド〕=3−ビ
ニル−3−セフェム−4−カルボン酸1−DL−エトキ
シカルボニルオキシエチル(シン異性体)(以下化合物
Bと記す) (3)試験結果 尿中排泄値を百分率で示す。
(2) Test compound (A+ Piparoyloxymethyl 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylate (syn isomer ) (hereinafter referred to as compound A) (B) 7- (2-(2-aminothiazole-4-
(3) Test results: Urinary excretion Values are expressed as percentages.

この発明の目的化合物(I)またはその医薬上許容され
る塩類を治療の目的で投与するにあたっては、上記化合
物を主成分として合作、これに医薬上許容される担体、
例えば経口、非経口、または外用に適した有機もしくは
無機、固体もしくは液体の賦形薬を加えた慣用製剤の形
で投与できる。このような製剤としては、錠剤、顆粒剤
、散剤、カプセル等の固体、および液剤、けんだく剤、
シロップ、乳剤、レモネード等の液体が含まれる。
When administering the object compound (I) of this invention or its pharmaceutically acceptable salts for therapeutic purposes, the compound (I) or its pharmaceutically acceptable salts is prepared using the above-mentioned compound as a main ingredient, a pharmaceutically acceptable carrier,
For example, they can be administered in the form of conventional preparations with organic or inorganic, solid or liquid excipients suitable for oral, parenteral or topical use. Such preparations include solids such as tablets, granules, powders, and capsules, as well as liquids, powders,
Includes liquids such as syrups, emulsions, and lemonade.

さらに、必要に応じて、上記製剤中に補助剤、安定剤、
湿潤剤、そのほか乳糖、クエン酸、酒石酸、フマル酸、
ステアリン酸、ステアリン酸マグネシウム、白土、しょ
糖、コーンスターチ、クルク、ゼラチン、寒天、ペクチ
ン、ピーナツ油、オリーブ油、カカオ脂、エチレングリ
コール等の繁用される添加物を含有させることができる
Furthermore, if necessary, adjuvants, stabilizers,
Wetting agents, as well as lactose, citric acid, tartaric acid, fumaric acid,
Commonly used additives such as stearic acid, magnesium stearate, clay, sucrose, cornstarch, curcum, gelatin, agar, pectin, peanut oil, olive oil, cocoa butter, ethylene glycol, etc. can be included.

化合物CI)の投与量は、患者の年令、状態、疾病の種
類、および投与化合物(I)の種類により異なるが、一
般に1日当り1■ないし約4000■またはそれ以上の
量を患者に投与できる。1回の平均投与量としては、こ
の発明の目的化合物(I)約50■、1100tn、2
50■、500■、1000■、2000 mgを、病
原性微生物による疾病の治療に用いることができる。
The dosage of compound CI) varies depending on the patient's age, condition, type of disease, and type of compound (I) to be administered, but generally an amount of 1 to about 4000 or more can be administered to the patient per day. . The average dose of the compound (I) of the present invention is about 50 tn, 1100 tn, 2
50■, 500■, 1000■, 2000mg can be used to treat diseases caused by pathogenic microorganisms.

次に、この発明を実施例により詳細に説明する。Next, the present invention will be explained in detail using examples.

製造例1 炭酸 エチル 1−DL−ヨードエチル(7,32y)
を、7−アミノ−3−ビニル−3−−t!フェムー4−
カルボン酸(4,52y)および1,8−ジアザビシク
ロ[5,4,0]クンデス−7−エン(4,5me )
のN、N−ジメチルアセトアミドC45me)溶液に水
冷下、−挙に加える。混合物を0〜3℃で45分間撹拌
後、反応混合物を氷水(200me)中に注ぎ、酢酸エ
チル(200me)で抽出する。
Production example 1 Ethyl carbonate 1-DL-iodoethyl (7,32y)
, 7-amino-3-vinyl-3--t! Femme 4-
Carboxylic acid (4,52y) and 1,8-diazabicyclo[5,4,0]cundes-7-ene (4,5me)
N,N-dimethylacetamide (C45me) solution under water cooling. After stirring the mixture at 0-3°C for 45 minutes, the reaction mixture is poured into ice water (200me) and extracted with ethyl acetate (200me).

抽出した有機層を水および食塩水で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥後、最初の都の1/4容まで濃縮する。濃
縮液を濃塩酸(2me)に加える。生成する沈澱を戸数
し、酢酸エチルで洗浄後、風乾して、7−ア三ノー3−
ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸DL’−1−エ
トキシカルボニルオキシエチルの塩酸塩(2,669)
を得る。
The extracted organic layer is washed with water and brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated to 1/4 volume of the original volume. Add the concentrate to concentrated hydrochloric acid (2me). The formed precipitate was collected, washed with ethyl acetate, and air-dried to obtain 7-asanino-3-
Vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid DL'-1-ethoxycarbonyloxyethyl hydrochloride (2,669)
get.

工R(ヌジョール)礪−1:  3400. 1775
. 1755゜72O NMR(DMSO−d6)δ : 1.27(3H,t
、 J=7Hz)。
Engineering R (nujol) 礪-1: 3400. 1775
.. 1755°72O NMR (DMSO-d6) δ: 1.27 (3H, t
, J=7Hz).

1.53(3H,d、 J=6Hz)、  3.93(
2H,m)、  4.23(2H,q、J=7)Iz)
、  5.06.0(4H,m)、  6.7−7.2
(2H,m)、  8.0−40.0(2H,ブロード
 m)製造例2 7−アミノ−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン
酸ベンズヒドリルの塩酸jlK(150y)およびトリ
メチルシリルアセトアミド(189y)を酢酸エチル(
1,5/)に溶解し、−20℃に冷却する。これに、塩
化メチレン(200mlり中、ジケテン(39p )お
よび臭素(75y>から得られる4−ブロモアセト酢酸
プロミドを一20℃で加え、−10℃で1時間撹拌する
。反応混合物を塩化メチレン(21)と水(Ilりとの
混合物に注ぎ、有機層を分取して水および塩化す) I
Jクム水溶液で洗浄する。溶媒を減圧下に留去後、生成
する沈澱を酢酸エチルで洗浄し、乾燥すると、7−(4
−ブロモアセトアセトアミド)−3−ビニル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(171y)を得
る。融点133〜137℃(分解)。
1.53 (3H, d, J=6Hz), 3.93 (
2H, m), 4.23 (2H, q, J=7)Iz)
, 5.06.0 (4H, m), 6.7-7.2
(2H, m), 8.0-40.0 (2H, broad m) Production Example 2 7-amino-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl hydrochloride jlK (150y) and trimethylsilylacetamide (189y) ) to ethyl acetate (
1,5/) and cooled to -20°C. To this was added 4-bromoacetoacetate bromide obtained from diketene (39p) and bromine (75y) in methylene chloride (200ml) at -20°C, and the mixture was stirred at -10°C for 1 hour. ) and water (I), and the organic layer is separated and water and salted.
Wash with J cum aqueous solution. After distilling off the solvent under reduced pressure, the resulting precipitate was washed with ethyl acetate and dried to give 7-(4
-bromoacetoacetamide)-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl (171y) is obtained. Melting point 133-137°C (decomposition).

工R(ヌジョール)ffl−1:  3270. 17
65. 1705゜1650、 155O NMR(DMSO−d6) l  :  3.5−4.
5(6H,m)、  5.2−6.0(4H,m)、6
.83(IH,m)、  7.00(IH,s)。
Engineering R (nujol) ffl-1: 3270. 17
65. 1705°1650, 155O NMR (DMSO-d6) l: 3.5-4.
5 (6H, m), 5.2-6.0 (4H, m), 6
.. 83 (IH, m), 7.00 (IH, s).

7.45(IOH,m)、9.25(LH,d、J=8
Hz)製造例3 製造例2の方法に準じて下記化合物を得る。
7.45 (IOH, m), 9.25 (LH, d, J=8
Hz) Production Example 3 The following compound was obtained according to the method of Production Example 2.

7−(4−ブロモアセトアセトアミド)−3−ビニル−
3−セフェム−4−カルボン酸DL−1=エトキシカル
ボニルオキシエチル。
7-(4-bromoacetoacetamide)-3-vinyl-
3-cephem-4-carboxylic acid DL-1 = ethoxycarbonyloxyethyl.

IR(ヌジョール)cm  : 1780. 1760
. 1270゜08O NMR(DMSO−a6)a Hl、27(3H,t、
J=7Hz)、 1.53(3H,d、J=’6Hz)
、  3.93(2H,m)、  4.17(2H,s
)、  4.23(2H,q、 J=7Hz)、  4
.33(2H,s)、  5.0−6.0(4H,m)
、  6.5−7.2(2H,m)、  9.17(I
H,d、J−8Hz)製造例4 7−(4−ブロモアセトアセトアミド)−3−ビニル−
3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(40?
 )の塩化メチレン(400ml’)および酢酸(20
0d)溶液に、亜硝酸ナトリクム(7,5y)を水(5
0mlりにとかした溶液を−10〜−5℃で滴下し、−
5℃で30分間撹拌する。
IR (Nujol) cm: 1780. 1760
.. 1270°08O NMR (DMSO-a6)a Hl, 27(3H,t,
J=7Hz), 1.53 (3H, d, J='6Hz)
, 3.93 (2H, m), 4.17 (2H, s
), 4.23 (2H, q, J=7Hz), 4
.. 33 (2H, s), 5.0-6.0 (4H, m)
, 6.5-7.2 (2H, m), 9.17 (I
H, d, J-8Hz) Production example 4 7-(4-bromoacetoacetamide)-3-vinyl-
Benzhydryl 3-cephem-4-carboxylate (40?
) of methylene chloride (400 ml') and acetic acid (20 ml')
0d) In a solution, add sodium nitrite (7,5y) to water (5y).
Add the solution dissolved to 0 ml dropwise at -10 to -5°C, and -
Stir for 30 minutes at 5°C.

尿素(7y)を加え常温で30分間撹拌後、反応混合物
に水(400mt’)を加える。有機層を分取し、水お
よび10%塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥する。溶媒を留去し、得られる固体を真空
乾燥して、7−(4−ブロモ−2−ヒドロキシイミノア
セトアセトアミド)−3−ビニル−3−セフェム−4−
カルボン酸ベンズヒドリル(48y)を得る。融点10
5〜108℃。
After adding urea (7y) and stirring at room temperature for 30 minutes, water (400 mt') was added to the reaction mixture. The organic layer is separated, washed with water and 10% aqueous sodium chloride solution, and dried over magnesium sulfate. The solvent was distilled off, and the resulting solid was dried in vacuo to give 7-(4-bromo-2-hydroxyiminoacetoacetamide)-3-vinyl-3-cephem-4-
Benzhydryl carboxylate (48y) is obtained. melting point 10
5-108°C.

工R(ヌジョール)σ−1:  3250. 1770
. 1705゜1655、 154O NMR(DMSO−d6)δ : 3.80(2H,m
)、  4.67(2H。
Engineering R (nujol) σ-1: 3250. 1770
.. 1705°1655, 154O NMR (DMSO-d6) δ: 3.80 (2H, m
), 4.67 (2H.

s)、5.2 6.2(4H,m)、  6.80(L
H,m)。
s), 5.2 6.2 (4H, m), 6.80 (L
H, m).

7.00(IH,s)、  7.45(IOH,m)、
  9.42(LH。
7.00 (IH, s), 7.45 (IOH, m),
9.42 (LH.

d、 J=8Hz)、  13.20(IH,s)実施
例1 7−(4−ブロモー2−ヒドロキシイミノアセトアセト
アミド)−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸
ベンズヒドリル(48y)のN、N−ジメチルアセトア
ミド(200m+’)溶液に、チオ尿素(7,1’)を
5°Cで加え、常温で1時間撹拌する。反応混合物を3
%炭酸水素ナトリウム水溶液(lIり中に注いだ後、塩
化ナトリウム(150y)を加える。沈澱を許取し、次
いでアセトン(200me)と酢酸エチル(500me
)との混液に溶解する。
d, J=8Hz), 13.20 (IH,s) Example 1 N of 7-(4-bromo-2-hydroxyiminoacetoacetamide)-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl (48y) , Thiourea (7,1') was added to a solution of N-dimethylacetamide (200m+') at 5°C, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The reaction mixture was
% sodium bicarbonate aqueous solution (lI), then add sodium chloride (150y). A precipitate was obtained, and then acetone (200m) and ethyl acetate (500m) were added.
) is dissolved in a mixture with

有機層を塩化ナトリクム水溶液で洗浄し、次いで溶媒を
留去する。生成する沈澱をp取し、酢酸エチルおよびジ
エチルエーテルで洗浄し、真空乾燥して、7−(2−(
2−アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイ
ミノアセトアミド]−3−ビニル−3−セフェム−4−
カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)(16,9y
)を得る。
The organic layer is washed with an aqueous sodium chloride solution, and then the solvent is distilled off. The resulting precipitate was collected, washed with ethyl acetate and diethyl ether, and dried in vacuo to give 7-(2-(
2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-
Benzhydryl carboxylate (syn isomer) (16,9y
).

融点133〜136°c。Melting point 133-136°c.

IR(ヌジr−ル)(2−1:  3200+  17
80. 1720+1670、 161O NMR(DMSO−d6)δ : 3.75(2H,m
)、  5.2−6.1(4H,m)、  6.67(
IH,s)、  6.75(IH,m)。
IR (nuji r-ru) (2-1: 3200+ 17
80. 1720+1670, 161O NMR (DMSO-d6) δ: 3.75 (2H, m
), 5.2-6.1 (4H, m), 6.67 (
IH, s), 6.75 (IH, m).

7.00(LH,s)、  7.20(2H,m)+ 
 7.34(IOH,m)。
7.00 (LH, s), 7.20 (2H, m)+
7.34 (IOH, m).

9.50(IH,d、J=8Hz) 実施例2 実施例1の方法に準じて下記化合物を得る。9.50 (IH, d, J=8Hz) Example 2 According to the method of Example 1, the following compound is obtained.

+1+  7−(2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−ビニ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸DL−1=エトキシ
カルボニルオキシエチル(シン異性体)。
+1+ 7-(2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid DL-1 = ethoxycarbonyloxyethyl (syn isomer).

工R(ヌジョール)am   、3300. 1780
. 1750゜67O NMR(DMSO−a6)a : 1.17(3H,t
、 J=7Hz)。
Engineering R (Nujoor) am, 3300. 1780
.. 1750°67O NMR (DMSO-a6)a: 1.17(3H,t
, J=7Hz).

1、50 (3Hld、J=6Hz )、3−75 (
2H+ m )。
1, 50 (3Hld, J=6Hz), 3-75 (
2H+m).

4.13(2H,、q、J=7Hz)、  5.176
.0(4H,m)。
4.13 (2H,, q, J=7Hz), 5.176
.. 0 (4H, m).

6.63(IH,s)、  6.7−7.3(4f(、
m)。
6.63(IH,s), 6.7-7.3(4f(,
m).

9.45(1,H,d、 J=8Hz)、  11.3
3(IH,5)(217−[2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)−2−ヒドロキシイミノアセトアミド]
−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸第三級ブ
トキシカルボニルメチル(シン異性体)。
9.45 (1, H, d, J=8Hz), 11.3
3(IH,5)(217-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide]
-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid tertiary-butoxycarbonylmethyl (syn isomer).

IR(ヌジョール)cm−1: 3300. 3170
. 1780゜1730、 1665. 1620 (3)  7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−ヒドロキシイミノアセトアミド]=3−ビニ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸DL−1−プロピオ
ニルオキシエチル(シンX性体)。
IR (Nujol) cm-1: 3300. 3170
.. 1780°1730, 1665. 1620 (3) DL-1-propionyloxyethyl 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide]=3-vinyl-3-cephem-4-carboxylate (syn-X body).

工R(ヌジョール)am−1:  3300. 320
0. 1780゜1.765. 172Q、  171
0. 1660. 1630(417−(2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノア
セトアミド]−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ピバロイルオキシメチル(シン異性体)。
Engineering R (nujol) am-1: 3300. 320
0. 1780°1.765. 172Q, 171
0. 1660. 1630 (417-(2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid pivaloyloxymethyl (syn isomer).

IR(ヌジョール)□−1:  3400. 1785
. 1750゜1670、 1615. 1530. 
1310. 1220+5)  7− (2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノア
セトアミド〕−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボ
ン酸パルミトイルオキシメチル(シン異性体)。
IR (Nujol) □-1: 3400. 1785
.. 1750°1670, 1615. 1530.
1310. 1220+5) Palmitoyloxymethyl 7-(2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer).

工R(ヌジョール)c+++−1:  3300. 1
775. 1670゜1615、 1530. 130
5. 1210(617−(2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)−2−ヒドロキシイミノアセトアミド]
−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸(5−メ
チル−2−オキソ−1,3−ジオキソ−ルー4−イル)
メチル(シン異性体)。
Engineering R (nujol) c+++-1: 3300. 1
775. 1670°1615, 1530. 130
5. 1210 (617-(2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide)
-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid (5-methyl-2-oxo-1,3-dioxo-4-yl)
Methyl (syn isomer).

IR(ヌジョール)cIn ’:  3300. 18
12. 1772゜1730、 1668. 1611 +7+  7− C2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)−2−ヒドロキシイミノアセトアミド〕−3−ビ
ニル−3−セフェム−4−カルボン酸フタリド−3−イ
ル(シン異性体)。
IR (Nujol) cIn': 3300. 18
12. 1772°1730, 1668. 1611 +7+ 7- C2-(2-aminothiazole-4-
yl)-2-hydroxyiminoacetamido]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid phthalid-3-yl (syn isomer).

IR(ヌジョール)am−1:  3200(ブロード
)、  1772(ブロード)、  1728(肩)、
  1660. 1620+81 7− [2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノ
アセトアミド]−3−ビニル−3−セフェム−4−カル
ボン酸カルボキシメチル(シン異性体)。
IR (Nujol) am-1: 3200 (broad), 1772 (broad), 1728 (shoulder),
1660. 1620+81 7- [2-(2-
Carboxymethyl aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylate (syn isomer).

工R(ヌジョール)cm’  :  1765(ブロー
ド)、  1720゜1660(ブロード) +91 7−[2’−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−ビニ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム(シン異
性体)。
Engineering R (nujol) cm': 1765 (broad), 1720°1660 (broad) +91 7-[2'-(2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-3- Sodium cephem-4-carboxylate (syn isomer).

IR(ヌジョール)σ−1:  3200. 1760
. 1660゜600 実施例3 7−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−ビニル−3−セ
フェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)
(68,5y)を、2.2.2− )リフルオロ酢酸(
60+++e)およびアニソール(60me )の混合
物に5〜7°Cで少隼ずつ加え、5°Cで1時間撹拌す
る。反応混合物をジイソプロピルエーテル(1,!M)
に滴下し、沈澱をF取する。
IR (nujol) σ-1: 3200. 1760
.. 1660°600 Example 3 7-(2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-
Hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl (syn isomer)
(68,5y), 2.2.2-)lifluoroacetic acid (
60+++e) and anisole (60me) little by little at 5-7°C and stirred at 5°C for 1 hour. The reaction mixture was diisopropyl ether (1,!M)
and collect the precipitate.

テトラヒドロフラン(100ml?)と酢酸エチル(1
00+++1りとの混合溶媒に溶解後、炭酸水素ナトリ
ウム水溶液で抽出する。得られる水層を10%塩酸でp
H5,0に調整し、酢酸エチルで洗浄した後酸化アルミ
ニウムを用いたクロマトグラフィーに付す。3チ酢酸ナ
トリクム水溶液で溶出し、所望の化合物を含む両分を集
める。10%塩酸でpH6,0に調整後、水溶液を再度
活性炭を用いたクロマトグラフィーに付す。20嘱アセ
トン水溶液で溶出し、目的化合物を含む両分を集めて減
圧濃縮後、凍結乾燥して、7−(2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノアセトアミ
ド]−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ナト
リウム(シン異性体)(14,B)を得る。220℃以
上で分解。
Tetrahydrofuran (100ml?) and ethyl acetate (1
After dissolving in a mixed solvent of 00+++1, it is extracted with an aqueous sodium bicarbonate solution. The resulting aqueous layer was diluted with 10% hydrochloric acid.
After adjusting to H5.0 and washing with ethyl acetate, it is subjected to chromatography using aluminum oxide. Elute with aqueous sodium trithiacetate solution and collect both fractions containing the desired compound. After adjusting the pH to 6.0 with 10% hydrochloric acid, the aqueous solution was again subjected to chromatography using activated carbon. Elute with a 20-liter acetone aqueous solution, collect both fractions containing the target compound, concentrate under reduced pressure, and lyophilize to obtain 7-(2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide]-3 - Sodium vinyl-3-cephem-4-carboxylate (syn isomer) (14, B) is obtained. Decomposed at 220°C or higher.

工R(ヌジョール)(2−1:  3200. 176
0. 1660゜60O NMR(D20)δ: 3.67(2H,s)、  5
.2−5.7(3H,m)。
Engineering R (Nujol) (2-1: 3200. 176
0. 1660°60O NMR (D20) δ: 3.67 (2H, s), 5
.. 2-5.7 (3H, m).

5.83(IH,d、 J=5Hz)、 6.80(I
H,m)。
5.83 (IH, d, J=5Hz), 6.80 (I
H, m).

7、00(IH,s ) 実施例4 炭酸 エチル 1−DL−ヨードエチル(22−イル込
−ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−ビニル−3−
セフェム−4−カルボン酸ナトリウム(シン異性体)(
15y)のN、N−ジメチルアセトアミド(1’20m
fり溶液に5〜7°Cで滴下し、5°Cで30分間撹拌
する。反応混合物に酢酸エチル(200me)を加え、
許過する。F液を水および塩化ナトリ゛クム水溶液で洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去後、残
液を酢酸エチルで洗浄し、真空乾燥して、7−[2−(
2−アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイ
ミノアセトアミド〕−3−ビニル−3−セフェム−4−
カルボン酸DL−1−エトキシカルボニルオキシエチル
(シン異性体X7.4 f;! ) 41ル。
7,00(IH,s) Example 4 Ethyl carbonate 1-DL-iodoethyl (22-yl-hydroxyiminoacetamide)-3-vinyl-3-
Sodium cephem-4-carboxylate (syn isomer) (
15y) N,N-dimethylacetamide (1'20m
Add dropwise to the solution at 5-7°C and stir at 5°C for 30 minutes. Add ethyl acetate (200me) to the reaction mixture,
Forgive. Solution F is washed with water and an aqueous sodium chloride solution, and dried over magnesium sulfate. After distilling off the solvent, the remaining liquid was washed with ethyl acetate and dried in vacuum to give 7-[2-(
2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-
Carboxylic acid DL-1-ethoxycarbonyloxyethyl (syn isomer X7.4 f;!) 41 l.

融点126〜130℃。Melting point: 126-130°C.

工R(ヌジコール)(至)  、3300. 1780
. 1750゜1670、 162O NMR(DMSO−d6)δ: 1.17(3H,t、
 J=7Hz)。
Engineering R (nujikor) (to), 3300. 1780
.. 1750°1670, 162O NMR (DMSO-d6) δ: 1.17 (3H, t,
J=7Hz).

1.50(3H,d、J=6Hz)、  3.75(2
H,m)、  4.13(2H,q、J=7Hz)、 
 5.1−6.0(4H,m)、  6.65(LH2
s)+  6.7 7.3(4H,m)、  9.45
(IHld。
1.50 (3H, d, J=6Hz), 3.75 (2
H, m), 4.13 (2H, q, J=7Hz),
5.1-6.0 (4H, m), 6.65 (LH2
s) + 6.7 7.3 (4H, m), 9.45
(IHld.

J=8Hz)、  11.33(IH,s)実施例5 炭酸セシウム(2,06y)を、?−[2−(2−アミ
ノチアゾールー4−イル)−2−ヒドロキシイミノアセ
トアミド]−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン
酸(シン異性体)(5y)のN、N−ジメチルアセトア
ミド(50me)溶液に25°Cで加える。混合物を常
温で1時間撹拌し、次いで水浴」−で冷却する。この冷
混合物に炭酸エチル 1−DL−ヨードエチル(9,2
y)を−挙に加え、0〜3℃で40分間撹拌する。反応
混合物に酢酸エチル(300m+りを加え、濾過する。
J=8Hz), 11.33 (IH, s) Example 5 Cesium carbonate (2,06y), ? -[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) (5y) N,N-dimethylacetamide ( 50me) solution at 25°C. The mixture is stirred for 1 hour at ambient temperature and then cooled in a water bath. Add ethyl carbonate 1-DL-iodoethyl (9,2
Add y) all at once and stir at 0-3°C for 40 minutes. Add ethyl acetate (300ml) to the reaction mixture and filter.

P液を水で2回、次いで食塩水で洸浄し、活性炭処理し
て硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧下に留去後
、残渣をジイソプロピルエーテルで洗浄し、風乾して、
7−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−ビニル−3−セ
フェム−4−カルボン酸DL−1−エトキシカルボニル
オキシエチル(シン異性体)(4,6y)を得る。融点
126〜130℃。
The P solution is washed twice with water and then with saline, treated with activated carbon and dried over magnesium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the residue was washed with diisopropyl ether, air-dried,
7-(2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-
Hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid DL-1-ethoxycarbonyloxyethyl (syn isomer) (4,6y) is obtained. Melting point: 126-130°C.

工R(ヌジョール)cIn’ :  3300. 17
80. 1750゜67O NMR(DMSO−d6)δ: 1.17(3H,t、
 J’=7Hz)。
Engineering R (nujol) cIn': 3300. 17
80. 1750°67O NMR (DMSO-d6) δ: 1.17 (3H, t,
J'=7Hz).

1.50(3H,d、J=6Hz)、  3.75(2
H,m)。
1.50 (3H, d, J=6Hz), 3.75 (2
H, m).

4.13(2H,(1,J=7H2)、5.1−6.0
(4H,m)。
4.13 (2H, (1, J=7H2), 5.1-6.0
(4H, m).

6.63(IHls)+  6.7 7.3(4H1m
)。
6.63 (IHLs) + 6.7 7.3 (4H1m
).

9.45(LH,d、J=8Hz)、  11.33(
LH,s)実施例6 よう化カリツム(4,0y)を、クロロ酢酸第三級ブチ
ル(1,2y)のN、N−ジメチルアセトアミド(50
mff)溶液に加え、常温で40分間撹拌する。沈澱を
F去する。炉液に7− [2−3伊5ノチアゾールー4
−イル)−2−ヒドロキシイミノアセトアミド〕−3−
ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸カリクム(シン
U性体) (3,2y)を常温で加え、同温度で1.5
時間撹拌する。反応混合物を水と酢酸エチルとの混合物
知加え、20係炭酸カリウム水溶液でpH7,0に調整
する。有機層を分取し、次いで水洗した後硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、溶媒を留去すると、?−(2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノア
セトアミド〕−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボ
ン酸第三級ブトキシカルボニルメチル(シン異性体)(
2,OF)を得る。
9.45 (LH, d, J = 8Hz), 11.33 (
LH,s) Example 6 Potassium iodide (4,0y) was converted into N,N-dimethylacetamide (50
mff) solution and stir for 40 minutes at room temperature. Remove the precipitate. Add 7- [2-3 I5-nothiazole-4 to the furnace solution.
-yl)-2-hydroxyiminoacetamide]-3-
Potassium vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn-U type) (3,2y) was added at room temperature, and at the same temperature 1.5
Stir for an hour. A mixture of water and ethyl acetate was added to the reaction mixture, and the pH was adjusted to 7.0 with a 20% aqueous potassium carbonate solution. The organic layer is separated, washed with water, dried over magnesium sulfate, and the solvent is distilled off. -(2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid tert-butoxycarbonylmethyl (syn isomer) (
2, OF) is obtained.

工R(ヌジョール)cm−’:  3300. 317
0. 1780゜1730、 1665. 162O NMR(DMS 0−a6)δ: 1.43(9H,s
)、  3.76(2H,q+J−18,0Hz)、 
 4.73(2H,s)、  5.24(IH,d。
Engineering R (nujol) cm-': 3300. 317
0. 1780°1730, 1665. 162O NMR (DMS 0-a6) δ: 1.43 (9H, s
), 3.76 (2H, q+J-18,0Hz),
4.73 (2H, s), 5.24 (IH, d.

J=5.0Hz)、  5.38(IH,d、 J=1
1.0H2)、  5.68(LH,d、、J−18,
0Hz)、  5.82(IH,dd、J=5.0Hz
J=5.0Hz), 5.38(IH,d, J=1
1.0H2), 5.68(LH,d,,J-18,
0Hz), 5.82 (IH, dd, J=5.0Hz
.

8.0Hz)、  6.66(LH,s)、  7.0
3(IH,dd、 J−11、OHz、 18.0Hz
)、  9.46(IH,d、 J=8.0Hz)実施
例7 実施例5の方法に準じて、7−[2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノアセトアミ
)’ ]−]3−ビニル−3−ヤフエムー4カルボン酸
(シン異性体)(5y)にプロピオン酸DL−1−ブロ
モエチル(4,56y)を反応させて、7−(2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミ
ノアセトアミド]−3−ビニル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸DL−1−プロピオニルオキシエチル(シン異
性体)(1,38y)を得る。
8.0Hz), 6.66(LH,s), 7.0
3 (IH, dd, J-11, OHz, 18.0Hz
), 9.46 (IH, d, J = 8.0 Hz) Example 7 According to the method of Example 5, 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide )']-]3-vinyl-3-yahuemu 4carboxylic acid (syn isomer) (5y) was reacted with DL-1-bromoethyl propionate (4,56y) to form 7-(2-(2
-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid DL-1-propionyloxyethyl (syn isomer) (1,38y) is obtained.

IR(ヌジョール)cm−1:  3300. 320
0. 1780゜1765、 1720. 1710.
 1660. 163ONMR(DMSO−d6 )δ
: 1.03(3H,t、 J=7Hz)。
IR (Nujol) cm-1: 3300. 320
0. 1780°1765, 1720. 1710.
1660. 163ONMR(DMSO-d6)δ
: 1.03 (3H, t, J=7Hz).

1.48(3H,d、J=6Hz)、  2.38(2
H,q、J=7Hz)。
1.48 (3H, d, J=6Hz), 2.38 (2
H, q, J = 7Hz).

3.53および3.97(2H,ABq、 J−18H
z)、5.23(IH,d、 J=5Hz)、  5.
4(IH,d、 J=11Hz)。
3.53 and 3.97 (2H, ABq, J-18H
z), 5.23 (IH, d, J=5Hz), 5.
4 (IH, d, J=11Hz).

5.65(IH,d、、T=18Hz)、  5.85
(IH,dd。
5.65 (IH, d, T=18Hz), 5.85
(IH, dd.

J=8Hz、5Hz)、  6.67(LH,s)、 
 6.83(LI(。
J=8Hz, 5Hz), 6.67(LH,s),
6.83(LI(.

dd、 J=18Hz、 11Hz)、  6.93(
IH,q、 J=6Hz)。
dd, J=18Hz, 11Hz), 6.93(
IH, q, J=6Hz).

7.1(2H,ブロード s)、  9.43(IH,
d、J=8Hz)。
7.1 (2H, broad s), 9.43 (IH,
d, J=8Hz).

11.33(LH,s) 実施例8 実施例5の方法に準じて、7−[2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノアセトアミ
ド]−3−ビニル−3−−t!フェムー4−カルボン酸
(シン異性体)(3y)にピパリン酸ヨードメチル(5
,05に’)を反応させて、?−[2−(2−アミノチ
アゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノアセトア
ミド]−3−ピニル−3−セフェム−4−カルボン酸ピ
パロイルオキシメチル(シン異性体)(1,24y)4
する。
11.33(LH,s) Example 8 According to the method of Example 5, 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-- T! Iodomethyl piperate (5
, React ') to 05, ? -[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide]-3-pinyl-3-cephem-4-carboxylic acid piparoyloxymethyl (syn isomer) (1,24y) 4
do.

融点90〜100°C(分解)。Melting point 90-100°C (decomposition).

工R(ヌジョール)a  : 3400. 178’5
. 1750゜1670、 1615. 1530. 
1310. 122ONMR(DMSO−d6)δ: 
 1.14(9H,s)、  3.58および3.97
(2H,ABq、 J=18I(z)、  5.24(
IH,d。
Engineering R (nujol) a: 3400. 178'5
.. 1750°1670, 1615. 1530.
1310. 122ONMR (DMSO-d6) δ:
1.14 (9H, s), 3.58 and 3.97
(2H, ABq, J=18I(z), 5.24(
IH, d.

J−5Hz)、  5.39(IH,d、J=11Hz
)、  5.7−6.0(3H,m)、  5.77(
IH,d、 J−17Hz)、 ’ 6.70(IH,
8)、  6.83’(1)i、 cld、 J=11
Hz、 17Hz)。
J-5Hz), 5.39 (IH, d, J=11Hz
), 5.7-6.0 (3H, m), 5.77 (
IH, d, J-17Hz), ' 6.70 (IH,
8), 6.83'(1)i, cld, J=11
Hz, 17Hz).

7.12(2H,ブロード s)、  9.49(IH
,d、J=8Hz)。
7.12 (2H, broad s), 9.49 (IH
, d, J=8Hz).

16、24(IH,s ) ス薫廻1 実施例5の方法に準じて、?−(2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノアセトアミ
ド]−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸(シ
ン異性体)(3y)にバルミチン酸ヨードメチル(4,
13y)を反応させて、7−[2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノアセトアミド
]−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸パルミ
トイルオキシメチル(シン異性体)(1,86y)t[
る。融点90〜105°C3 lR(ヌジョール)c+++−1:  3300. 1
775. 1670゜1615、 1530. 130
5. 121ONMR(’DMSO−d6)δ:1.1
−1.7(26H,m)、  2.3−2.5(2H,
m)、  3.56および3.95(2H,ABq。
16, 24 (IH, s) Su Kunmawari 1 According to the method of Example 5, ? -(2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) (3y) and iodomethyl valmitate (4,
13y) to form palmitoyloxymethyl 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylate (syn isomer). (1,86y)t[
Ru. Melting point 90-105°C3 1R (Nujol) c+++-1: 3300. 1
775. 1670°1615, 1530. 130
5. 121ONMR('DMSO-d6)δ:1.1
-1.7 (26H, m), 2.3-2.5 (2H,
m), 3.56 and 3.95 (2H, ABq.

J=18Hz)、 5.21(IH,d、、T=5Hz
)、  5.37(IH,d、 J=11Hz)、  
5.7−6.0(3H,m)+5゜75(IH,d、J
=17Hz)、  6.66(iH,s)。
J=18Hz), 5.21(IH,d,,T=5Hz
), 5.37 (IH, d, J=11Hz),
5.7-6.0 (3H, m) + 5゜75 (IH, d, J
=17Hz), 6.66(iH,s).

6.7−7.0(IH,m) 実施例10 ?−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
ヒドロキシイミノアセトアミド〕−3−ビニル−3−セ
フェム−4−カルボン酸カリウム(シン異性体)(2,
1’)のN、N−ジメチルアセトアミド(30mf)溶
液に、4−ブロモメチル−5−メチル−1,3−ジオキ
ソ−ルー2−オン(1,0y)を水冷下撹拌しながら加
える。反応混合物を同温度で30分間撹拌する。この混
合物を酢酸エチル(200mlり中に注ぎ、3回水洗す
る。有機層を分取して硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
濃縮する。残渣をシリカゲル(SO? )を用いたカラ
ムクロマトグラフィーに付して、7−(2−(2−ア三
ノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノアセ
トアミドコ−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン
酸(5−メチル−2−オキソ−1,3−ジオキソ−ルー
4−イル)メチル(シン異性体)(0,62y)を得る
6.7-7.0 (IH, m) Example 10? -(2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-
Hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid potassium (syn isomer) (2,
4-Bromomethyl-5-methyl-1,3-dioxol-2-one (1,0y) is added to a solution of 1') in N,N-dimethylacetamide (30 mf) while stirring under water cooling. The reaction mixture is stirred for 30 minutes at the same temperature. The mixture was poured into 200 ml of ethyl acetate and washed three times with water. The organic layer was separated, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to column chromatography using silica gel (SO?). and 7-(2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamidoco-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid (5-methyl-2-oxo-1, 3-dioxol-4-yl)methyl (syn isomer) (0,62y) is obtained.

IR(ヌジョール)砿−1:  3300. 1812
. 1772゜1730、 1668. 1611 NMR(DMSO−d6)δ: 2.17(3H,s)
、  3.52. 3.98(2H,ABq、J−17
Hz)、  5.15(2H,s)、  5.20(I
H,(1,J=5H2)、、 5.30(IH,、d、
、 J=11Hz)。
IR (Nujol) Ko-1: 3300. 1812
.. 1772°1730, 1668. 1611 NMR (DMSO-d6) δ: 2.17 (3H, s)
, 3.52. 3.98 (2H, ABq, J-17
Hz), 5.15 (2H, s), 5.20 (I
H, (1, J=5H2), 5.30 (IH,, d,
, J=11Hz).

5.63(IH,d、J=17Hz)、  5.76(
IH,dd、J=5Hz。
5.63 (IH, d, J = 17Hz), 5.76 (
IH, dd, J = 5Hz.

8H2)、6.63(IH28)、6.83(IHld
d、J−1IH2゜17Hz)、  9.42(IH;
 d、 J=8Hz)、  11.3(IH,s)実施
例11 実施例1.0の方法に準じて、7−(2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノアセト
アミド]−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸
カリウム(シン異性体)(1,0y)に3−ブロモツク
リド(0,91を反応させて、7−[2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノアセト
アミド]−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸
フタリド−3−イル(シン異性体)(1,osy)を得
る。
8H2), 6.63 (IH28), 6.83 (IHld
d, J-1IH2°17Hz), 9.42 (IH;
d, J=8Hz), 11.3(IH,s) Example 11 According to the method of Example 1.0, 7-(2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide ]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid potassium (syn isomer) (1,0y) was reacted with 3-bromotuclide (0,91) to form 7-[2-(2-aminothiazole-4 -yl)-2-hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid phthalid-3-yl (syn isomer) (1,osy) is obtained.

IR(ヌジョール)σ−1:3200(ブロード)、 
 1772(ブロード)、  1728(肩)、  1
660. 162ONMR(DMSO−d6)δ :3
.70(2H,m)、  5.18(IH。
IR (nujol) σ-1:3200 (broad),
1772 (broad), 1728 (shoulder), 1
660. 162ONMR (DMSO-d6) δ:3
.. 70 (2H, m), 5.18 (IH.

d、J=5Hz)、  5.43(IH,d、J=11
H2)、  5.73(IH,d、J=17H2)、 
 5.83(LH,dd、J=5Hz。
d, J=5Hz), 5.43(IH, d, J=11
H2), 5.73 (IH, d, J=17H2),
5.83 (LH, dd, J=5Hz.

8Hz)、  6.75(IH,s)、  6.7−7
.2(2H,m)。
8Hz), 6.75 (IH, s), 6.7-7
.. 2 (2H, m).

7.66−’8.0(6H,m)、  9.87(IH
,d、 J=8Hz)実施例12 トリフルオロ酢酸(5,4ml?)を、7−[2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミ
ノアセトアミド〕−3−ビニル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸第三級ブトキシ力ルポニルメチル(シン異性体
)(1,8y)の塩化メチレン(4mtりおよびアニソ
ール(1,8me)中懸濁液に常温で加え、同温度で2
時間撹拌する。この溶液にジイソプロピルエーテルを加
えて撹拌スる。
7.66-'8.0 (6H, m), 9.87 (IH
, d, J=8 Hz) Example 12 Trifluoroacetic acid (5.4 ml?) was added to 7-[2-(2
-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid tertiary-butoxyluponylmethyl (synisomer) (1,8y) in methylene chloride (4mt) and a suspension in anisole (1,8me) at room temperature.
Stir for an hour. Add diisopropyl ether to this solution and stir.

生成する沈澱を戸数し、ジイソプロピルエーテルで洗浄
する。この沈澱を酢酸エチルと水との混液に加え、撹拌
下20チ炭酸ナトリウム水溶液でpH7に調整する。分
離した水層に10%塩酸を水冷下に加え、pH2,2に
調整する。沈澱を戸数し氷水で洗浄し、五酸化燐で真空
乾燥して、7−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−ヒドロキシイミノアセトアミド〕−3−ビニ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸カルボキシメチル(
シン異性体)(0,73y)を得る。
Separate the resulting precipitate and wash with diisopropyl ether. This precipitate is added to a mixture of ethyl acetate and water, and the pH is adjusted to 7 with 20% aqueous sodium carbonate solution while stirring. Add 10% hydrochloric acid to the separated aqueous layer while cooling with water to adjust the pH to 2.2. The precipitate was separated, washed with ice water, and vacuum dried over phosphorous pentoxide to give 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4. -Carboxymethyl carboxylate (
syn isomer) (0,73y) is obtained.

工R(ヌジョール)cm’  :  1765(ブロー
ド)、  1720゜1660(ブロード) NMR(DMSO−d、 )δ: 3.76(2H,q
、 J=18.0E(z)。
Engineering R (nujol) cm': 1765 (broad), 1720°1660 (broad) NMR (DMSO-d, )δ: 3.76 (2H,q
, J=18.0E(z).

、   t7s(2u、s)+5.24(la、d、、
r=s、oaz)。
, t7s(2u,s)+5.24(la,d,,
r=s, oaz).

5.37(IH,d、 、T=11.0Hz)、  5
.86(1,H,d。
5.37 (IH, d, , T=11.0Hz), 5
.. 86 (1, H, d.

J=17.0H2)、7.83(IHldd、J−5,
0H2,8,0H2)。
J=17.0H2), 7.83(IHldd, J-5,
0H2, 8, 0H2).

6.69(IH,s)、  6.61−7.67(3H
,’ m)。
6.69 (IH, s), 6.61-7.67 (3H
,' m).

9.50(IH,d、J−8,0Hz)実施例13 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−ビニル−3−セ
フェム−4−カルボン酸DL−1−エトキシカルボニル
オキシエチル(シン異性体)(1y)の、酢酸エチル(
50m(’)およびエタノール(2+++f)混液に濃
塩酸(0,3me)を水冷下に加え、0〜3℃で10分
間撹拌する。この溶液にジインプロピルエーテル(50
me )を加え、生成する沈澱をF取し、酢酸エチルで
洗浄した後風乾して、7−(2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)−2−ヒドロキシイミノアセトアミド〕
−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸DL−1
−エトキシカルボニルオキシエチルの塩酸塩(シン異性
体)(0,8y)を得る。
9.50 (IH, d, J-8,0 Hz) Example 13 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-
Hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid DL-1-ethoxycarbonyloxyethyl (syn isomer) (1y), ethyl acetate (
Concentrated hydrochloric acid (0.3me) was added to a mixture of 50m(') and ethanol (2+++f) under water cooling, and the mixture was stirred at 0 to 3°C for 10 minutes. Add diimpropyl ether (50%
7-(2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide) was added, the resulting precipitate was collected, washed with ethyl acetate, and air-dried.
-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid DL-1
-Ethoxycarbonyloxyethyl hydrochloride (syn isomer) (0,8y) is obtained.

工R(ヌジョール)α  :  3100. 1780
. 1750゜64O NMR(DMso−a6)δ: 1.23(3H,t、
 J=7Hz)+  1.53(3H,d、J=6Hz
)、  3.75(2H,m)、  4.20(2H。
Engineering R (nujol) α: 3100. 1780
.. 1750°64O NMR (DMso-a6) δ: 1.23 (3H, t,
J = 7Hz) + 1.53 (3H, d, J = 6Hz
), 3.75 (2H, m), 4.20 (2H.

q、 J=7Hz)、 5.0−6.0(6H,m)、
 6.83(1)I、 B)。
q, J=7Hz), 5.0-6.0 (6H, m),
6.83(1)I, B).

6.7−7.2(2H,m)、  9.7(IH,d、
J=8Hz)。
6.7-7.2 (2H, m), 9.7 (IH, d,
J=8Hz).

12.5(IH,ブロード8) 実施例14 7−(4−ブロモアセトアセトアミ)’)−3−ビニル
−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(10
y)の塩化メチレン(70me)および酢酸(25mt
’)混液に、亜硝酸イソアミル(3,5rne )を−
3〜−5℃で滴下する。混合物を一5℃で40分間撹拌
1次いでアセチルアセトン(4y)を加えて5℃で30
分間撹拌する。反応混合物にチオ尿素(3y)を加え、
3時間撹拌後、酢酸エチル(70me )およびジイソ
プロピルエーテル(100me)を滴下する。生成する
沈澱をp取、真空乾燥して、7−(2−(2−アミノチ
アゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノアセトア
ミF]&ムー4−カルボン酸ベンズヒ ドリルの臭化水素酸塩(シン異性体)lt、7y)を得
る。この生成物のうち3yを5〜7°Cで2,2゜2−
トリフルオロ酢酸(5yd)とアニソール(5−)との
混合物に少量ずつ加える。5°Cで1時間撹拌後、反応
混合物をジイソプロピルエーテル(150me )に滴
下する。生成する沈澱を戸数してテトラヒドロフラン(
10me)と酢酸エチル(10−)との混合物に溶解す
る。この溶液を炭酸水素ナトリクム水溶液で抽出する。
12.5 (IH, Broad 8) Example 14 Benzhydryl 7-(4-bromoacetoacetami)')-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylate (10
y) methylene chloride (70me) and acetic acid (25mt
') Add isoamyl nitrite (3,5rne) to the mixture.
Add dropwise at 3 to -5°C. The mixture was stirred at -5°C for 40 min, then acetylacetone (4y) was added and the mixture was stirred at 5°C for 30 min.
Stir for a minute. Add thiourea (3y) to the reaction mixture,
After stirring for 3 hours, ethyl acetate (70me) and diisopropyl ether (100me) are added dropwise. The resulting precipitate was collected and dried under vacuum to obtain 7-(2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide F] & Mu4-carboxylic acid benzhydryl hydrobromide ( syn isomer) lt, 7y) is obtained. Of this product, 3y was heated to 2,2°2- at 5-7°C.
Add portionwise to the mixture of trifluoroacetic acid (5yd) and anisole (5-). After stirring for 1 hour at 5°C, the reaction mixture is added dropwise to diisopropyl ether (150me). The resulting precipitate was mixed with tetrahydrofuran (
10me) and ethyl acetate (10-). This solution is extracted with an aqueous sodium bicarbonate solution.

水抽出液をpH5に保ちながら酢酸エチルで洗浄し、次
いで10%塩酸でpH2゜2に調整する。この溶液を0
℃で1時間撹拌し、得られる結晶を戸数した後真空乾燥
して、7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−ビニル−
3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体)(0,7
9y)を得る。
The aqueous extract was washed with ethyl acetate while keeping the pH at 5, and then adjusted to pH 2.2 with 10% hydrochloric acid. This solution is 0
After stirring at ℃ for 1 hour, the resulting crystals were separated and dried under vacuum to give 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl).
-2-Hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-
3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) (0,7
9y) is obtained.

IR(ヌジa−#)am−1:  3300. 178
0. 1665+1180、 1130 実施例15 7−(4−ブロモアセトアセトアミド)−3−ビニル−
3−セフェム−4カルボン酸ベンズヒドリル(15y)
の塩化メチレン(100Wdりおよび酢酸(30me 
)混液に亜硝酸ナトリウム(2,8y)の水(5me)
溶液を−10〜−−15℃で滴下する。反応混合物を一
5°Cで40分間撹拌し、アセトアセトン(4y)を加
え、次いで常温で15分間撹拌する。反応混合物を水(
200me)と塩化メチレン(200+++e)との混
合物中に注ぎ、有機層を分取し、水洗する。溶媒を留去
して残渣をN、N−ジメチルアセトアミド(40me 
)に溶解する。この溶液にチオ尿素(3,4y)を加え
、常温で1時間撹拌し、テトラヒドロフラン(150m
e )、酢酸エチル(300me)および水(300m
e )の混合物中に注ぐ。混合物を20チ水酸化ナトリ
ウム水溶液でpH6,0に調整する。有機層を分取して
20%塩化ナトリウム水溶液で洗浄した後硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。溶媒を減圧下に留去し、沈澱を戸取し
て酢酸エチルおよびジイソプロピルエーテルで洗浄する
。この沈澱を真空乾燥して、7−(2−(2−アミノチ
アゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノアセトア
ミド]−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベ
ンズヒドリル(シン異性体) (8,5f;”)を得る
IR(nujia-#)am-1: 3300. 178
0. 1665+1180, 1130 Example 15 7-(4-bromoacetoacetamide)-3-vinyl-
Benzhydryl 3-cephem-4carboxylate (15y)
methylene chloride (100 Wd) and acetic acid (30 me
) Add sodium nitrite (2,8y) to the mixture (5me)
The solution is added dropwise at -10 to -15°C. The reaction mixture is stirred at -5°C for 40 minutes, acetoacetone (4y) is added, and then stirred at ambient temperature for 15 minutes. The reaction mixture was diluted with water (
200me) and methylene chloride (200+++e), and the organic layer is separated and washed with water. The solvent was distilled off and the residue was dissolved in N,N-dimethylacetamide (40me
) dissolves in Thiourea (3,4y) was added to this solution, stirred at room temperature for 1 hour, and tetrahydrofuran (150m
e), ethyl acetate (300mE) and water (300mE)
e) Pour into the mixture. The mixture was adjusted to pH 6.0 with 20% aqueous sodium hydroxide solution. The organic layer is separated, washed with a 20% aqueous sodium chloride solution, and then dried over magnesium sulfate. The solvent is distilled off under reduced pressure, and the precipitate is taken and washed with ethyl acetate and diisopropyl ether. This precipitate was dried under vacuum, and the benzhydryl 7-(2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) ( 8,5f;”) is obtained.

工R(ヌジョール)Qm−1: 3200. 1780
. 1720゜1670、 1610 実施例16 7−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)=2−
ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−ビニル−3−セ
フェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)
 (5f/ )のアニソール(20me )および酢酸
(5+++Il’)混液に、三ふっ化はう素エーテレー
ト(5me)を10°Cで滴下する。10℃で20分間
撹拌後、反応混合物をテトラヒドロフラン(100mf
?)、酢酸エチル(loOml’)および水(100m
f?)の混合物中に注ぎ、次いで20%水酸化ナトリウ
ム水溶液でpH6,0に調整する。水層を分取し、pH
6,0に保ちながら酢酸エチルで洗浄する。この溶液を
酸化アルミニウムを用いたクロマトグラフィーに付す。
Engineering R (Nujol) Qm-1: 3200. 1780
.. 1720°1670, 1610 Example 16 7-(2-(2-aminothiazol-4-yl)=2-
Hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl (syn isomer)
Boron trifluoride etherate (5me) is added dropwise to a mixture of anisole (20me) and acetic acid (5+++Il') of (5f/ ) at 10°C. After stirring for 20 minutes at 10°C, the reaction mixture was diluted with tetrahydrofuran (100mf
? ), ethyl acetate (loOml') and water (100 m
f? ) and then adjusted to pH 6.0 with 20% aqueous sodium hydroxide solution. Separate the aqueous layer and adjust the pH
Wash with ethyl acetate while maintaining the temperature at 6.0. This solution is subjected to chromatography using aluminum oxide.

3%酢酸ナトリウム水溶液で抽出し、目的物を含む両分
を集め、10チ塩酸でpH4,0に調整する。この溶液
をさらに、非イオン吸着樹脂「ダイヤイオンHP−20
J (商標、三菱化成社製)を用いたクロマトグラフィ
ーに付す。20係アセトン水溶液による溶出画分を集め
、減圧濃縮し、10係塩酸によりpH2,0に調整する
。生成する沈澱を戸数、真空乾燥して、7−(2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミ
ノアセトアミ1’ ) −3−ビニルー−3−セフェム
−4−カルボン酸(シン異性体)(1,23y)を得る
Extract with a 3% aqueous sodium acetate solution, collect both fractions containing the target product, and adjust the pH to 4.0 with 10% hydrochloric acid. This solution was further mixed with a nonionic adsorption resin “Diaion HP-20”.
Chromatography using J (trademark, manufactured by Mitsubishi Kasei Corporation). The fractions eluted with the 20% acetone aqueous solution are collected, concentrated under reduced pressure, and adjusted to pH 2.0 with 10% hydrochloric acid. The resulting precipitate was dried in vacuum several times to give 7-(2-(2
-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetami1')-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) (1,23y) is obtained.

IR(ヌジョール)c+++’ : 3300. 17
80. 1665゜1180、 113O NMR(DMSO−d6)δ:3.76(2H,ABq
、 J=18Hz)。
IR (nujol) c+++': 3300. 17
80. 1665°1180, 113O NMR (DMSO-d6) δ: 3.76 (2H, ABq
, J=18Hz).

5.2−6.0(4H,m)、  6.73(IH,s
)、  6.8−7.50(3H1m)、9.5(IH
,d、J=8Hz)、  11.4(IH。
5.2-6.0 (4H, m), 6.73 (IH, s
), 6.8-7.50 (3H1m), 9.5 (IH
, d, J=8Hz), 11.4 (IH.

ブロード 8) 実施例17 (1)7−アミノ−3−ビニル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸ベンズヒドリルの塩酸塩(1kg−)および1
.3−ビス(トリメ□チルシリル)尿素(1,4’6k
f)をテトラヒドロフラン(81)に溶!し、−20°
Cに冷却する。どの溶液に、塩化メチレン中でジケテン
(224me)および臭素(147me )から得られ
る4−ブロモアセトアセチルプロミドを一20°Cで加
え、−15℃で30分間撹拌する。反応混合物を酢酸エ
チル(121りと水(6Iりとの混合物中に注ぐ。有機
層を分取し、塩化ナトリクム水溶液で洗浄し、次いで減
圧下に溶媒を留去する。沈澱をジイソプロピルエーテル
(10Iり中、0°Cで1時間撹拌し、得られる結晶を
戸取、真空乾燥して、7−(4−ブロモアセトアセトア
ミ)’)−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸
ベンズヒドリル(1,27kg)を得る。
Broad 8) Example 17 (1) 7-Amino-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl hydrochloride (1 kg) and 1
.. 3-bis(trimethylsilyl)urea (1,4'6k
Dissolve f) in tetrahydrofuran (81)! and -20°
Cool to C. To this solution is added 4-bromoacetoacetyl bromide obtained from diketene (224me) and bromine (147me) in methylene chloride at -20°C and stirred for 30 minutes at -15°C. The reaction mixture is poured into a mixture of ethyl acetate (121) and water (6I). The organic layer is separated and washed with an aqueous sodium chloride solution, and then the solvent is distilled off under reduced pressure. The precipitate is poured into diisopropyl ether (10I). The crystals obtained were stirred at 0°C for 1 hour and dried under vacuum to give benzhydryl 7-(4-bromoacetoacetami)')-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylate. (1,27 kg) is obtained.

融点133〜137℃(分解)。Melting point 133-137°C (decomposed).

(2)7−(4−ブロモアセトアセトアミド)−3−ビ
ニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(
50’Oy)の塩化メチレン(4,5/)および酢酸(
1,71)混液に、亜硝酸ナトリウム(93,2y)の
水(450me )溶液を−15〜−22°Cで滴下す
る。反応混合物を一15℃で7分間撹拌し、次いでアセ
ト酢酸エチル(117y)を加え、常温で5分間撹拌す
る。反応混合物を水(6I!、2回)および塩化ナトリ
ウム水溶液(6e)で洗浄する。分取した有機層に、N
、N−ジメチルアセトアミド(IIりに溶解したチオ尿
素(82,2,p)を加え、36°Cで1時間撹拌する
。塩化メチレンを減圧下に留去後、残る油状物をテトラ
ヒドロフラン(3,51り、酢酸エチル(71)および
氷水(41)の混合物中に注ぐ。この混液を10チ水酸
化ナトリウム水溶液でpH6,0に調整する。有機層を
分取し、水(4I!、2回)および塩化す) IJクム
水溶液で洗浄する。溶媒を減圧下に留去し、残渣の結晶
を酢酸エチル(1,61りおよびジイソプロピルエーテ
ル(2,47?)のU合物中、0°Cで1時間撹拌する
。結晶を戸数して、7−(2−(2−アミノチアゾール
−4−イル)−2−ヒドロキシイミノアセトアミド]−
3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リル(シン異性体)(394,5y)を得る。
(2) Benzhydryl 7-(4-bromoacetoacetamide)-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylate (
50'Oy) of methylene chloride (4,5/) and acetic acid (
1,71) A solution of sodium nitrite (93,2y) in water (450me) is added dropwise to the mixed solution at -15 to -22°C. The reaction mixture is stirred at -15° C. for 7 minutes, then ethyl acetoacetate (117y) is added and stirred at room temperature for 5 minutes. The reaction mixture is washed with water (6I!, twice) and aqueous sodium chloride solution (6e). Add N to the separated organic layer.
, thiourea (82,2,p) dissolved in N-dimethylacetamide (II) is added and stirred at 36°C for 1 hour. After distilling off the methylene chloride under reduced pressure, the remaining oil is dissolved in tetrahydrofuran (3, 51, and poured into a mixture of ethyl acetate (71) and ice water (41). The mixture was adjusted to pH 6.0 with an aqueous solution of 10% sodium hydroxide. The organic layer was separated and diluted with water (4I!, twice). ) and diisopropyl ether (2,47?) at 0 °C. Stir for 1 hour at
3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl (syn isomer) (394,5y) is obtained.

IR(ヌジョール)cm−1: 3200. 1780
. 1720゜1670、 1610 実施例18 実施例5の方法に準じて、7−[2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノアセトアミ
l’ ]−]3−ビニルー3−セフェムー4−カルボン
酸シン異性体)(5y)に、炭酸セシウム(2,01’
)の存在下酢酸DL−1−ブロモエチル(3,42y)
を反応させ、7−[2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)−2−ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−ビ
ニル−3−セフェム−4−カルボン酸DL−1−アセト
キシエチル(1,12y)を得る。
IR (Nujol) cm-1: 3200. 1780
.. 1720° 1670, 1610 Example 18 According to the method of Example 5, 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamyl']-]3-vinyl-3-cephemu 4-carboxylic acid syn isomer) (5y), cesium carbonate (2,01'
) in the presence of DL-1-bromoethyl acetate (3,42y)
7-[2-(2-aminothiazole-4-
yl)-2-hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid DL-1-acetoxyethyl (1,12y) is obtained.

工R(ヌジョール)c+++ −1: 3300. 1
780. 1760゜1670、 121O NMR(DMS O−d 6)δ: 1.50(3H,
d、 J=6Hz)、  2.03(3H,s)、  
3.75(2H,ABq、 J=18Hz)、  5.
0−6.0(4H,m)、  6.67(IH,s)、
  6.5−7.5(4H。
Engineering R (nujol) c+++ -1: 3300. 1
780. 1760°1670, 121O NMR (DMS O-d 6) δ: 1.50 (3H,
d, J=6Hz), 2.03(3H,s),
3.75 (2H, ABq, J=18Hz), 5.
0-6.0 (4H, m), 6.67 (IH, s),
6.5-7.5 (4H.

m)、  9.22(IH,d、 J=8Hz)、  
11.37(LH,s)特許出願人  藤沢薬品工業株
式会社 代理人 弁理士青水 高 手続補正書(自発) 1、事件の表示 昭和 58 年特許願第  184036  号2、発
明の名称 7−f!換−3−ビニfiy−3−セフェム化合物、ソ
の製法およびそれを含有する抗菌剤 3、補正をする者 特許出願人 大阪市東区道修町4丁目3番地 (524)藤沢薬品工業株式会社 代表者藤澤友吉部 4、代 理 人 〒532 大阪市淀用区加島2丁目1番6号 藤沢薬品工業株式会社 大阪工場内 (6300)弁理士 青 木   高 5、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 6、補正の内容 明細書第72頁、下から第2行目の「特許出願人 藤沢
薬品工業株式会社」の前に次の記載・を挿入し1す。
m), 9.22 (IH, d, J=8Hz),
11.37 (LH, s) Patent applicant Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. Agent Patent attorney Aomizu High procedural amendment (spontaneous) 1. Indication of the case 1982 Patent Application No. 184036 2. Name of the invention 7-f! Convert-3-vinyfiy-3-cephem compound, process for producing it, and antibacterial agent containing the same 3, person making the amendment Patent applicant: 4-3 Doshomachi, Higashi-ku, Osaka (524) Representative, Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. Fujisawa Tomoyoshibe 4, Agent Address: 2-1-6 Kashima, Yodoyou-ku, Osaka 532 Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. Osaka Factory (6300) Patent attorney Aoki High School 5, Details of the invention in the specification to be amended Insert the following statement in column 6 of ``Explanation'', page 72 of the specification of the amendment, in the second line from the bottom, before ``Patent applicant: Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd.''.

「酢酸エチル溶媒中、上記化合物に塩化7水素を含むイ
ソプロピルアルコ−)Vを常法により作用させ、上記化
合物の塩酸塩を得る。
"In an ethyl acetate solvent, the above compound is treated with isopropyl alcohol (V) containing heptahydrogen chloride in a conventional manner to obtain the hydrochloride of the above compound.

IR(、(ジg/l/)1m  、1780.1760
.1620.1210゜07DJ 以上
IR (, (di g/l/) 1 m, 1780.1760
.. 1620.1210°07DJ or more

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)一般式: (式中 R1はア三)基または保護された。アミン基、
R2はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基をそ
れぞれ意味する) で示される化合物のシン異性体およびその医薬として許
容される塩。 2)R1がアミノ基である特許請求の範囲第1)項記載
の化合物。 3)7−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2−ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−ビニル−3
−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体)、そのナト
リウム塩またはそのカリウム塩である特許請求の範囲第
2)項記載の化合物。 4)R2がエステル化されたカルボキシ基である特許請
求の範囲第2)項記載の化合物。 5)R2が低級アルコキシカルボニルオキシ(低級)ア
ルコキシカルボニル基である特許請求の範囲第4)項記
載の化合物。 6)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2−ヒドロキシイミノアナドアミド〕−3−ビニル−3
−セフェム−4−カルボン酸1−エトキシ力ルポニルオ
キシエチル(シン異性体)またはその塩酸塩である特許
請求の範囲第5)項記載の化合物。 7)R2が低級アルコキシカルボニル(低級)アルコキ
シカルボニル基である特許請求の範囲第4)項記載の化
合物。 8)7−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2−ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−ビニル−3
−セフェム−4−カルボン酸第三級プトキシ力ルポニル
メチイレ(シン異性体)である特許請求の範囲第7)項
記載の化合物。 9)R2がカルボキシ(低級)アルコキシカルボニル基
である特許請求の範囲第4)項記載の化合物。 10)”7−(’ 2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)−2−ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−ビ
ニル−3−セフェム−4−カルボン酸カルボキシメチル
(シン異性体)である特許請求の範囲第9)項記載の化
合物。 11)  R2が低級アルカノイルオキシ(低級)アル
コキシカルボニル基である特許請求の範囲第4)項記載
の化合物。 12)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−ビニル−
3−セフェム−4−カルボン酸1−プロピオニルオキシ
エチル(シン異性体)である特許請求の範囲第11)記
載の化合物。 13)7−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−ビニル−
3−セフェム−4−カルボン酸ピパロイルオキシメチル
(シン異性体)である特許請求の範囲第11)項記載の
化合物。 14)  R2が高級アルカノイルオキシ(低級)アル
゛  コキシカルボニル基である特許請求の範囲第4)
項、記載の化合物。 15)  7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−ヒドロキシイミノアセトアミド〕−3−ビニ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸パルミトイルオキシ
メチル(シン異性体)である特許請求の範囲第14)項
記載の化合物。 16)  R2が(5−低級アルキルー2−オキソ−1
゜3−ジオキソ−ルー4−イル)(低級)アルコキシカ
ルボニル基である特許請求の範囲第4)項記載の化合物
。 17)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−ヒドロキシイミノアセトアミド〕−3−ビニル−
3−セフェム−4−カルボン酸(5−メチル−2−オキ
ソ−1,3−ジオキソ−ルー4−イル)メチル(シン異
性体)である特許請求の範囲第16)項記載の化合物。 18)  R2がフタリジルオキシカルボニル基である
特許請求の範囲第4)項記載の化合物。 19)?−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−ヒドロキシイミノアセトアミド〕−3−ビニル−
3−セフェム−4−カルボン酸フタリド−3−イル(シ
ン異性体)である特許請求の範囲第18)項記載の化合
物。 20) +11式: (式中 R2はカルボキシ基または保護されたカルボキ
シ基、Xけハロゲンをそれぞれ意味する)で示される化
合物またはその塩に、式:%式%([0 (式中、R1はアミン基または保護されたアミノ基を意
味する) で示される化合物を反応させ、式: (式中、R1およびR2はそれぞれ前と同じ意味)で示
される化合物またはその塩を得るか、(2)式: (式中、R1は前と同じ意味であり、RAは保護された
カルボキシ基を意味する) で示される化合物またはその塩を、カルボキシ保護基の
脱離反応に付し、式: (式中、R1は前と同じ意味) で示される化合物またはその塩を得るか、(3)式: (式中、R1は前と同じ意味) で示される化合物もしくはそのカルボキシ基における反
応性誘導体またはその塩にカルボキシ保護基を導入し、
式: (式中、R1およびR2はそれぞれ前と同じ意味)で示
される化合物捷たけその塩を得るか、捷だけ、(4)式
: [式中、R1は前々回じ意味であり、RAは保護された
カルボキシ(低級)アルコキシカルボニル基ヲ意味する
] で示される化合物捷たはその塩を、RAにおけるカルボ
キシ保護基の脱離反応に付し、式:[式中 R1は前と
同じ意味であり、R2はカルボキシ(低級)アルコキシ
カルボニル基を意味する〕で示される化合物またはその
塩を得ることを特徴とする一般式: (式中 R1およびR2はそれぞれ前と同じ意味)で示
される化合物のシン異性体およびその塩の製法。 21)一般式 (式中、R1はアミ7基捷たけ保護されたアミノ基、R
2はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基をそれ
ぞれ意味する) で示される化合物のシン異性体およびその医薬として許
容される塩を含有することを特徴とする抗菌剤。
[Claims] 1) General formula: (wherein R1 is atri) group or protected. amine group,
R2 means a carboxy group or a protected carboxy group, respectively) and a pharmaceutically acceptable salt thereof. 2) The compound according to claim 1), wherein R1 is an amino group. 3) 7-(2-(2-aminothiazol-4-yl)-
2-Hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-3
-Cephem-4-carboxylic acid (syn isomer), its sodium salt or its potassium salt, the compound according to claim 2). 4) The compound according to claim 2), wherein R2 is an esterified carboxy group. 5) The compound according to claim 4), wherein R2 is a lower alkoxycarbonyloxy(lower) alkoxycarbonyl group. 6) 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-
2-Hydroxyiminoanadamide]-3-vinyl-3
The compound according to claim 5), which is 1-ethoxyluponyloxyethyl -cephem-4-carboxylate (syn isomer) or its hydrochloride. 7) The compound according to claim 4), wherein R2 is a lower alkoxycarbonyl group. 8) 7-(2-(2-aminothiazol-4-yl)-
2-Hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-3
-Cephem-4-carboxylic acid tertiary ptoxyl methylbenzene (syn isomer). 9) The compound according to claim 4), wherein R2 is a carboxy(lower)alkoxycarbonyl group. 10)"7-(' 2-(2-aminothiazole-4-
The compound according to claim 9, which is carboxymethyl (syn isomer)-2-hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylate. 11) The compound according to claim 4), wherein R2 is a lower alkanoyloxy(lower)alkoxycarbonyl group. 12) 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)
-2-Hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-
The compound according to claim 11, which is 1-propionyloxyethyl 3-cephem-4-carboxylate (syn isomer). 13) 7-(2-(2-aminothiazol-4-yl)
-2-Hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-
The compound according to claim 11), which is piparoyloxymethyl 3-cephem-4-carboxylate (syn isomer). 14) Claim 4) in which R2 is a higher alkanoyloxy (lower) alkoxycarbonyl group
Section, Compounds Listed. 15) The claimed compound is palmitoyloxymethyl 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylate (syn isomer). A compound according to range 14). 16) R2 is (5-lower alkyl-2-oxo-1
The compound according to claim 4, which is a ゜3-dioxol-4-yl)(lower)alkoxycarbonyl group. 17) 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)
-2-Hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-
The compound according to claim 16, which is (5-methyl-2-oxo-1,3-dioxo-4-yl)methyl 3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer). 18) The compound according to claim 4), wherein R2 is a phthalidyloxycarbonyl group. 19)? -[2-(2-aminothiazol-4-yl)
-2-Hydroxyiminoacetamide]-3-vinyl-
The compound according to claim 18, which is phthalid-3-yl 3-cephem-4-carboxylate (syn isomer). 20) +11 Formula: (In the formula, R2 means a carboxy group or a protected carboxy group, and X means a halogen, respectively.) (2) A compound represented by the formula: (wherein R1 has the same meaning as before and RA means a protected carboxy group) or a salt thereof is subjected to an elimination reaction of the carboxy-protecting group, and the compound represented by the formula: (formula (wherein, R1 has the same meaning as above) or a salt thereof, or obtain a compound of formula (3): (wherein, R1 has the same meaning as before) or a reactive derivative at its carboxy group, or its Introducing a carboxy protecting group to the salt,
Formula: (In the formula, R1 and R2 each have the same meaning as before) To obtain a salt of a compound represented by the formula (4), where R1 and R2 have the same meanings as before, RA is means a protected carboxy(lower)alkoxycarbonyl group] or a salt thereof is subjected to a reaction for eliminating the carboxy protecting group in RA, and the formula: [wherein R1 has the same meaning as before] and R2 means a carboxy (lower) alkoxycarbonyl group] or a salt thereof. Process for producing syn isomer and its salts. 21) General formula (wherein, R1 is an amino group protected by 7 amino groups, R
2 means a carboxy group or a protected carboxy group, respectively) An antibacterial agent characterized by containing a syn isomer of the compound represented by the formula (2) and a pharmaceutically acceptable salt thereof.
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