JPS5980732A - Batch annealing device - Google Patents
Batch annealing deviceInfo
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- JPS5980732A JPS5980732A JP19003582A JP19003582A JPS5980732A JP S5980732 A JPS5980732 A JP S5980732A JP 19003582 A JP19003582 A JP 19003582A JP 19003582 A JP19003582 A JP 19003582A JP S5980732 A JPS5980732 A JP S5980732A
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- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
- C21D9/52—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for wires; for strips ; for rods of unlimited length
- C21D9/54—Furnaces for treating strips or wire
- C21D9/663—Bell-type furnaces
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D2281/00—Making use of special physico-chemical means
- C21D2281/02—Making use of special physico-chemical means temperature gradient
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は金属コイルのバッチ焼鈍装置、特に金属コイ
ルの幅″1.たは長さ方向にわたる各部位が特定の温度
勾配で特定温度域を通過するようにして金属コイルを加
熱するバッチ焼鈍装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a metal coil batch annealing apparatus, and more particularly to a metal coil batch annealing apparatus in which each part of the metal coil over its width or length passes through a specific temperature range with a specific temperature gradient. This invention relates to a batch annealing device for heating.
従来、一般に用いられる金属コイルの焼鈍炉に金属コイ
ルをベースプレート上に載せ、金属コイルを静止させた
状態で所定のヒートパターンを与えて焼鈍していた。た
とえば、一方向性電磁鋼板の製造工程において、最終仕
上焼鈍(二次再結晶焼鈍)は第1図に示すようなバッチ
焼鈍炉により広く行われていた。Conventionally, a metal coil has been placed on a base plate in a commonly used metal coil annealing furnace, and a predetermined heat pattern has been applied to the metal coil to anneal the metal coil in a stationary state. For example, in the manufacturing process of unidirectional electrical steel sheets, final finish annealing (secondary recrystallization annealing) has been widely performed in a batch annealing furnace as shown in FIG.
すなわち、第1図に示すように電磁鋼板コイルCをコイ
ル軸を垂直にしてベースプレート3上に載置し、インナ
カバー2をこれに被ぶせる。そして、更にインナカバー
2をベル形炉体1により覆い、インナカバー2内に給気
管4によりN2. AX。That is, as shown in FIG. 1, the electromagnetic steel coil C is placed on the base plate 3 with the coil axis perpendicular, and the inner cover 2 is placed over it. Then, the inner cover 2 is further covered with the bell-shaped furnace body 1, and the air supply pipe 4 is connected to the inner cover 2 to provide an N2. AX.
H2ガスなどの雰囲気ガスを供給する。そして、炉体l
内側に取り付けられた電熱ヒーター5およびベースプレ
ート3下方に配置された電熱ヒーター6によりコイルC
全体を同時に、比較的均一に加熱、昇温する。コイルC
を所定温度(1150〜1200℃)まで昇温し、均熱
保持したのち、炉体l内にこれの頂部に接続された冷却
ガス吹込管7から冷却ガスを吹き込み、所定温度1で冷
却し、焼鈍を完了する。昇温した冷却ガスは冷却装置8
で冷却されたのち再び炉体1内に吹き込丑れる。Supply atmospheric gas such as H2 gas. And the furnace l
The coil C is heated by the electric heater 5 installed inside and the electric heater 6 placed below the base plate 3
Heating and raising the temperature of the whole at the same time and relatively uniformly. Coil C
After raising the temperature to a predetermined temperature (1150 to 1200 ° C.) and holding it for soaking, cooling gas is blown into the furnace l from the cooling gas blowing pipe 7 connected to the top of the furnace body l to cool it at a predetermined temperature 1, Complete annealing. The heated cooling gas is transferred to the cooling device 8.
After being cooled down, it is blown into the furnace body 1 again.
ところで、最近、一方向性電磁鋼板を使用した変圧器等
の電気機器の小型化が重要な問題となυつつある。これ
ら電気機器の鉄心重量の軽減化のためには励磁特性(8
6%性)および鉄損特性が更に改良された一方向性電磁
鋼板が必要となって来た。By the way, miniaturization of electrical equipment such as transformers using unidirectional electrical steel sheets has recently become an important issue. In order to reduce the weight of the iron core of these electrical devices, excitation characteristics (8
There has been a need for grain-oriented electrical steel sheets with further improved iron loss properties (6%) and iron loss properties.
本出願人が先に出願した熱処理方法(特願昭55−75
033.56−20154.56−198443゜56
−96740)に、−次男結晶領域と二次結晶領域との
境界領域において電磁鋼板コイルに所定の温度勾配を与
えながら二次再結晶を進行させる。すなわち、−次男結
晶焼鈍の終った電磁鋼板コイルの一端から他端に向って
加熱を進めて行き、コイル全幅にわたクニ次再結晶させ
る。このとき、930〜1050℃の温度範囲内におい
て一次再結晶領域と二次再結晶領域との境界領域に0.
5℃塩以上の温度勾配を与えるように加熱する。この方
法によれば、従来得られなかった、画期的に優れたB8
特性および鉄損特性をもった電磁鋼板を製造できるよう
になった。The heat treatment method previously applied for by the present applicant (Japanese Patent Application No. 55-75)
033.56-20154.56-198443゜56
-96740), secondary recrystallization is advanced while applying a predetermined temperature gradient to the electromagnetic steel sheet coil in the boundary region between the -secondary crystal region and the secondary crystal region. That is, the heating proceeds from one end of the electromagnetic steel sheet coil, which has undergone crystal annealing, toward the other end to cause continuous recrystallization over the entire width of the coil. At this time, within the temperature range of 930 to 1050°C, the boundary area between the primary recrystallization area and the secondary recrystallization area has 0.
Heat to give a temperature gradient of 5°C or higher. According to this method, an epoch-makingly excellent B8 that could not be obtained conventionally.
It has become possible to manufacture electrical steel sheets with specific characteristics and core loss characteristics.
しかし、従来のバッチ焼鈍炉では前述のようにコイル全
体をほぼ均一に加熱しながら昇温しで行く。したがって
、上記境界領域において金属コイルに所要の温度勾配を
与えることはできない。However, in a conventional batch annealing furnace, the temperature is increased while heating the entire coil almost uniformly as described above. Therefore, it is not possible to provide the required temperature gradient to the metal coil in the boundary area.
そこで、この発明に金属コイルの焼鈍において、特定の
領域に所定の温度勾配を与えながら金属コイルを加熱、
昇温することができるバッチ焼鈍装置を提供しようとす
るものである。Therefore, in annealing a metal coil, this invention involves heating the metal coil while applying a predetermined temperature gradient to a specific region.
The present invention aims to provide a batch annealing device that can raise the temperature.
この発明のバッチ焼鈍装置ではベル形炉体、ベースプレ
ートおよびインナカバーを備えた装置において、上方に
向って開口し、内径が金属コイルの外径よりやや大きく
、金属コイルの収納可能なボトムチャンバーが炉体の下
方に設けられている。The batch annealing apparatus of the present invention is equipped with a bell-shaped furnace body, a base plate, and an inner cover. It is located below the body.
ボトムチャンバー内にはこれと同軸に、ボトムチャンバ
ー底部から上方に延びる柱状の固定ベースが設けられて
いる。固定ベースは外径が金属コイルの内径よりやや小
さく、ボトムチャンバーの開口部に位置する仕切部をも
っている。また、前記ベースグレートは環状をしており
、冷却手段を備えている。そして、ベースグレートにボ
トムチャンバーの底部を貫通し昇降自在な支持部材に支
持されている。支持部材の下端部に昇降駆動装置に連結
されている。A columnar fixed base is provided coaxially within the bottom chamber and extends upward from the bottom of the bottom chamber. The fixed base has an outer diameter slightly smaller than the inner diameter of the metal coil, and has a partition located at the opening of the bottom chamber. Further, the base grate has an annular shape and is equipped with a cooling means. The base grate is supported by a support member that penetrates through the bottom of the bottom chamber and is movable up and down. The lower end of the support member is connected to a lifting drive.
上記のように構成されたバッチ焼鈍装置において、特定
の領域で所定の温度勾配を与えながら金属コイルを加熱
する[ii、まず金属コイルを載置したベースグレート
を下降させて、金属コイルをボトムチャンバー内に収納
する。ついで、ベースグレートを徐々に上昇させる。こ
のとき、金属コイルのボトムチャンバーから上方に突出
した部分−す力わちインナカバー内に入った部分は上記
加熱手段により加熱され二次再結晶が進む。金属コイル
のボトムチャンバー内の部分は一次再結晶のままの状態
である。この二次再結晶領域と一次再結晶領域との境界
領域、すなわち金属コイルのボトムチャンバー開口部付
近に位置する部分が所定の温度勾配となるように上記加
熱手段、金属コイルの上昇速度、さらにこれらに加えて
ベースプレートの冷却手段をそれぞれ調整する。In the batch annealing apparatus configured as described above, the metal coil is heated while giving a predetermined temperature gradient in a specific region [ii. First, the base grate on which the metal coil is placed is lowered, and the metal coil is placed in the bottom chamber Store inside. Then, the base grade is gradually increased. At this time, the portion of the metal coil that protrudes upward from the bottom chamber, that is, the portion that enters the inner cover, is heated by the heating means and secondary recrystallization proceeds. The part of the metal coil inside the bottom chamber remains in the state of primary recrystallization. The heating means, the rising speed of the metal coil, and the like are arranged so that the boundary area between the secondary recrystallization region and the primary recrystallization region, that is, the portion of the metal coil located near the bottom chamber opening, has a predetermined temperature gradient. In addition, adjust the cooling means for the base plate.
この発明のバッチ焼鈍装置は上記のようにボトムチャン
バーを設け、ボトムチャンバーの内径を金属コイルの外
径よりやや太きぐすると共に、外径が金属コイル内径よ
りやや小さい仕切部をtった円柱状固定ベースをボトム
チャンバー内に設けている。したがって、ボトムチャン
バーU高温(7)インナカバーとは金属コイルおよび固
定ベースの仕切部によって仕切られることになるので、
ボトムチャンバー内はインナカバー内に比べてかなり低
温に保持することができる。これより、金属コイルをボ
トムチャンバーからインナカバー内に送り出すとき、前
記境界領域に所要の温度勾配を与えることができる。The batch annealing apparatus of the present invention is provided with a bottom chamber as described above, and the inner diameter of the bottom chamber is slightly larger than the outer diameter of the metal coil, and the outer diameter of the bottom chamber is a cylindrical shape with a partition portion that is slightly smaller than the inner diameter of the metal coil. A fixed base is provided within the bottom chamber. Therefore, the bottom chamber U high temperature (7) is separated from the inner cover by the metal coil and the fixed base partition.
The inside of the bottom chamber can be kept at a much lower temperature than the inside of the inner cover. Thereby, when the metal coil is sent out from the bottom chamber into the inner cover, a required temperature gradient can be given to the boundary area.
また、この発明の装置ではベースプレートに冷却手段を
設けているので、ボトムチャンバー内にとど丑っている
金属コイルの部分を低い温度に保持することができる。Furthermore, in the apparatus of the present invention, since the base plate is provided with a cooling means, the portion of the metal coil that reaches the bottom chamber can be maintained at a low temperature.
この結果、上記境界領域に大きな温度勾配を与えること
ができる。さらに、冷却を制御することに上り温度勾配
を所要の値に調節することもできる。As a result, a large temperature gradient can be applied to the boundary area. Furthermore, in controlling the cooling it is also possible to adjust the temperature gradient to the desired value.
以下、この発明の実施例について説明する。Examples of the present invention will be described below.
第2図はこの発明のバッチ焼鈍装置の一例を示す縦断面
図である。なお、第2図において第1図に示す従来装置
の部材と同一の部材VCハ同一の参照符号を付け、以下
これら部材の説明は省略する。FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing an example of the batch annealing apparatus of the present invention. In FIG. 2, the same members VC as those of the conventional device shown in FIG. 1 are given the same reference numerals, and the explanation of these members will be omitted hereinafter.
ボトムチャンバー11ハ上端にフランジ13を有する円
筒状胴体I2と底部材14よりなっており、耐火レンガ
により構築されている。胴体12と底部材14とは分解
5組立が容易なように分割されており、両者の間にサン
ドシール15ヲ設けてボトムチャンバー 11内への大
気の侵入を防いでいる。また、胴体12内周面には柔軟
で弾力性をもった断熱材16(たとえばセラミックファ
イバーブロック)で内張内径は金属コイルCの外径より
僅かに小さく、コイルC外周面が断熱材16に摺動する
ようにしている。このように構成されたボトムチャンバ
ー11はフランジ13において支柱21により床す上に
支持されている。The bottom chamber 11 consists of a cylindrical body I2 having a flange 13 at the upper end and a bottom member 14, and is constructed of firebrick. The body 12 and the bottom member 14 are separated for easy disassembly and assembly, and a sand seal 15 is provided between them to prevent atmospheric air from entering the bottom chamber 11. In addition, the inner peripheral surface of the body 12 is lined with a flexible and elastic heat insulating material 16 (for example, a ceramic fiber block), and the inner diameter of the inner lining is slightly smaller than the outer diameter of the metal coil C. It is designed to slide. The bottom chamber 11 configured in this manner is supported on the floor by supports 21 at the flange 13.
なお、炉体1はフランジ13上に載置され、炉体1とボ
トムチャンバー11との間はサンドシール5および液体
シール26により気密が保たれる。!、た、インナカバ
ー2もフランジ13上に載置され、サンドシールあによ
りシールされる。The furnace body 1 is placed on a flange 13, and the space between the furnace body 1 and the bottom chamber 11 is kept airtight by the sand seal 5 and the liquid seal 26. ! In addition, the inner cover 2 is also placed on the flange 13 and sealed with a sand seal.
ボトムチャンバー11内[U胴体12と同軸にして底部
材J4より上方に突出するようにして円柱状の固定ベー
ス31が設けられている。固定ベース31i耐火レンガ
製であって、中心に雰囲気ガス供給孔32が貫通してい
る。固定ベース31の、ボトムチャンバー11の開口部
17に位置する部分は仕切部33となっている。仕切部
の外周面には胴体12内周面に内張すされた断熱材16
と同じ断熱材34が張り付けられている。仕切部33の
外径はコイルCの内径よジ僅かに小さく、コイルC内周
面が仕切部33外周面を摺動するようになっている。ま
た、仕切部33の上端はボトムチャンバー11の上面と
同じ高さに位置している。仕切部33の上、下はそれぞ
れ若干直径が小さく、それぞれ第1加熱部35および第
2加熱部37となっている。各加熱部35.37には電
熱ヒーター36.38が取り付けられている。第2加熱
部37の下端から底部材14の間は基部39であり、上
記仕切部33と同径であり、断熱材40が張り付けられ
ている。Inside the bottom chamber 11, a cylindrical fixed base 31 is provided coaxially with the U body 12 and protruding upward from the bottom member J4. The fixed base 31i is made of refractory bricks, and an atmospheric gas supply hole 32 passes through the center. A portion of the fixed base 31 located at the opening 17 of the bottom chamber 11 serves as a partition portion 33 . A heat insulating material 16 lined on the inner circumferential surface of the body 12 is provided on the outer circumferential surface of the partition.
The same heat insulating material 34 is attached. The outer diameter of the partition part 33 is slightly smaller than the inner diameter of the coil C, so that the inner peripheral surface of the coil C slides on the outer peripheral surface of the partition part 33. Further, the upper end of the partition portion 33 is located at the same height as the upper surface of the bottom chamber 11. The upper and lower parts of the partition part 33 each have a slightly smaller diameter, and serve as a first heating part 35 and a second heating part 37, respectively. An electric heater 36.38 is attached to each heating section 35.37. A base portion 39 is located between the lower end of the second heating portion 37 and the bottom member 14, has the same diameter as the partition portion 33, and has a heat insulating material 40 pasted thereon.
ベースプレート41ハ環状をしており、内径はコイルC
内径と等しいか、これよりやや小さく、外径はコイルC
外径と等しいか、これよりやや大きい。ベースグレート
41内部Vcid円周に沿って冷却ガス流路42が設け
られている。冷却ガス流路42には冷却ガス供給管45
およびこれより円周方向に180゜離れた位置にある冷
却ガス排出管(第3図に符号46として示す)が連通し
ている。両管45,41J、ボトムチャンバー11の底
部材14を貫通し、たわみ管47を介して次に述べる冷
却ガス循環装置51に接続されている。なお、両管45
,46がボトムチャンノ;−11の底部材14を貫通す
る部分にはダイナミックベローズ48が取り付けられて
おり、ボトムチャンバー11内の気密を図っている。ま
だ、両管45,46の途中にベローズ49を設け、装置
運転中に生ずる熱膨張を吸収するようにしている。The base plate 41 has an annular shape, and the inner diameter is the coil C.
The outer diameter is equal to or slightly smaller than the inner diameter of coil C.
Equal to or slightly larger than the outer diameter. A cooling gas flow path 42 is provided along the circumference of Vcid inside the base grate 41 . A cooling gas supply pipe 45 is provided in the cooling gas flow path 42.
A cooling gas discharge pipe (indicated by reference numeral 46 in FIG. 3) located 180 degrees away from this in the circumferential direction communicates therewith. Both pipes 45 and 41J pass through the bottom member 14 of the bottom chamber 11, and are connected via a flexible pipe 47 to a cooling gas circulation device 51, which will be described below. In addition, both pipes 45
, 46 are attached to the portion of the bottom chamber 11 that penetrates the bottom member 14, and a dynamic bellows 48 is attached to the bottom chamber 11 to make the inside of the bottom chamber 11 airtight. A bellows 49 is also provided in the middle of both tubes 45 and 46 to absorb thermal expansion that occurs during operation of the device.
第3図は上記冷却ガス循環装置51の系統図である。FIG. 3 is a system diagram of the cooling gas circulation device 51.
冷却ガス循環装置51は冷却ガス溜52に供給元弁53
および遮断弁54を介してブロアー55が接続されてい
る。ブロアー55は温度調節弁56を介して上記冷却ガ
ス供給管45に接続されている。−万、冷却ガス排出管
46は冷却器57を介してブロアー55人側に接続され
ている。 ゛
前記ベースグレート41ホ環状の断熱材61および中間
部材63を介して支柱67[より支持されている。A cooling gas circulation device 51 connects a cooling gas reservoir 52 to a supply source valve 53.
A blower 55 is connected via a cutoff valve 54. The blower 55 is connected to the cooling gas supply pipe 45 via a temperature control valve 56. - 10,000, the cooling gas discharge pipe 46 is connected to the blower 55 side via the cooler 57. The base grate 41 is supported by a support column 67 via an annular heat insulating material 61 and an intermediate member 63.
熱膨張を吸収するために、中間部材63に設けられたビ
ン孔64および支柱67頂部に設けられたビン孔(図示
しない)に挿入されたピン65を介して中間部材63と
支柱67とが連結されている。支柱67の下部はボトム
チャンバー11の底部材14を貫通している。この貫通
部分[Uダイナミックベローズ69が取り付けられてお
り、ボトムチャンバー11内の気密を保っている。In order to absorb thermal expansion, the intermediate member 63 and the support column 67 are connected through a pin 65 inserted into a bottle hole 64 provided in the intermediate member 63 and a bottle hole (not shown) provided at the top of the support column 67. has been done. The lower part of the column 67 passes through the bottom member 14 of the bottom chamber 11. This penetrating portion [U dynamic bellows 69 is attached to keep the inside of the bottom chamber 11 airtight.
上記支柱67の基部は昇降駆動装置71に連結されてい
る。昇降駆動装置71は減速機付きモーター72および
これに駆動されるスクリュージヤツキ73を備えている
。スクリュージヤツキ73ハ垂直に延びる連結棒74を
介してガイドバー76に連結されている。ガイドバー7
6の両端に床乙に固定されたガイドボスト77に案内さ
れている。そして、ガイドバー76に前記支柱67の基
部を支持している。The base of the support column 67 is connected to a lifting drive device 71. The lifting drive device 71 includes a motor 72 with a speed reducer and a screw jack 73 driven by the motor 72. A screw jack 73 is connected to a guide bar 76 via a vertically extending connecting rod 74. Guide bar 7
6 is guided by guide posts 77 fixed to the floor. The base of the support column 67 is supported on the guide bar 76.
なお、前記ボトムチャンバー11の底部材14にはパー
ジガス給気管81およびパージガス排気管82が取り付
けられている。Note that a purge gas supply pipe 81 and a purge gas exhaust pipe 82 are attached to the bottom member 14 of the bottom chamber 11.
つぎに、以上のように構成されたバッチ焼鈍装置により
けい素鋼板コイルを二次再結晶焼鈍する方法について説
明する。Next, a method for secondary recrystallization annealing of a silicon steel sheet coil using the batch annealing apparatus configured as described above will be described.
まず、炉体1およびインナカバー2を取り除いた状態で
ベースグレート41を第2図に示す上限位置にセットす
る。そして、ベースプレート41上に一次再結晶焼鈍を
終えたけい素鋼板コイルCを載置する。続いて、コイル
Cをインナカバー2で覆い、更にインチカバー2を炉体
1で覆う。炉体1内は冷却ガス吹込み管7から、またイ
ンチカバー2内は雰囲気ガス供給孔32からそれぞれN
2ガスを供給し、これらの内部をパージする。ボトムチ
ャンバー11内ニパージガス給気管81および排気管8
2によりN2ガスを給、排気してパージされる。First, the base grate 41 is set at the upper limit position shown in FIG. 2 with the furnace body 1 and inner cover 2 removed. Then, the silicon steel plate coil C that has undergone primary recrystallization annealing is placed on the base plate 41. Subsequently, the coil C is covered with the inner cover 2, and the inch cover 2 is further covered with the furnace body 1. The inside of the furnace body 1 is supplied with N from the cooling gas blowing pipe 7, and the inside of the inch cover 2 is supplied with N from the atmospheric gas supply hole 32.
2 gas is supplied to purge the inside of these. Nipurge gas supply pipe 81 and exhaust pipe 8 in the bottom chamber 11
2, it is purged by supplying and exhausting N2 gas.
上記パージが終ったならば、炉体1内側に取り付けた電
熱ヒーター5により、たとえば10〜bN2を加熱する
。このとき固定ベース31の第1電熱ヒーター36を併
用してもよい。インチカバー2内の雰囲気ガスの温度が
第4図に示すように室温T。After the above purge is completed, the electric heater 5 attached to the inside of the furnace body 1 heats, for example, 10 to bN2. At this time, the first electric heater 36 of the fixed base 31 may be used in combination. The temperature of the atmospheric gas inside the inch cover 2 is at room temperature T as shown in FIG.
から所定温度T、(600〜650℃)まで上昇したな
らば、期間A(10〜20時間)の間、炉内を均熱保持
する。炉内均熱開始時に雰囲気ガスN2をバガスに切換
える。この炉内均熱により雰囲気ガスは所定の露点(−
5〜−1θ℃以下)に保持され、コイルCに塗布された
焼鈍分離剤から放出される水分がコイルCの冷却時に結
露することにない。Once the temperature has risen to a predetermined temperature T (600 to 650°C), the inside of the furnace is kept soaked for a period A (10 to 20 hours). At the start of soaking in the furnace, the atmospheric gas N2 is switched to bagasse. Due to this soaking in the furnace, the atmospheric gas reaches a predetermined dew point (-
5 to −1θ° C.), and moisture released from the annealing separator applied to the coil C does not form condensation when the coil C is cooled.
炉内均熱が終ったならば、昇降駆動装置71によりコイ
ルCを下限まで下げ、ボトムチャンバー11内に収納す
る。このとき、コイルCの上端はボトムチャンバー11
の上端および固定ベース31の仕切部33の上端と同じ
高さに並んでいる。そして、コイルCはこれの上端部の
温度が930℃以上になるまで期間B、ボトムチャンバ
ー11内で待機される。この間、炉内温度およびコイル
C上端部の温度は上昇するが、コイルCと仕切部33と
によりインナカバー2と仕切られたボトムチャンバー1
1内に温度が低いためコイルCの下部に若干温度が下る
。When the soaking in the furnace is completed, the coil C is lowered to the lower limit by the lifting drive device 71 and stored in the bottom chamber 11. At this time, the upper end of the coil C is connected to the bottom chamber 11.
It is lined up at the same height as the upper end and the upper end of the partition part 33 of the fixed base 31. The coil C is then kept on standby within the bottom chamber 11 for a period B until the temperature at its upper end reaches 930° C. or higher. During this time, the temperature inside the furnace and the temperature at the upper end of the coil C rise, but the bottom chamber 1 which is partitioned from the inner cover 2 by the coil C and the partition part 33
Since the temperature inside coil C is low, the temperature at the bottom of coil C drops slightly.
待機期間Bが経過してコイルC上端の温度が930℃以
上になると、再び昇降駆動装置7】を駆動して20〜6
0011m/Hの速度でコイルCを上昇する。When the temperature at the upper end of the coil C reaches 930°C or higher after the standby period B has elapsed, the lifting drive device 7] is driven again.
Coil C is raised at a speed of 0011 m/H.
コイルCは徐々にボトムチャンバー11からインナカバ
ー2内に送り出され、コイルCのインナカバー2内に露
出する部分とボトムチャンバー11内にある部分との境
界領域に温度勾配が生じる。炉内加熱速度およびコイル
上昇速度は上記温度勾配が2℃ん以上となるように調整
される。コイルCがある程度インナカバー2内に入り込
むと、コイルCのボトムチャンバー11内にある部分も
かなり昇温し、所定の温度勾配がとれなくなる。この時
点より若干前の時点aよりベースプレート41の冷却を
開始する。The coil C is gradually sent out from the bottom chamber 11 into the inner cover 2, and a temperature gradient is generated in the boundary area between the portion of the coil C exposed inside the inner cover 2 and the portion located inside the bottom chamber 11. The heating rate in the furnace and the coil rising rate are adjusted so that the temperature gradient is 2° C. or more. When the coil C enters the inner cover 2 to some extent, the temperature of the portion of the coil C inside the bottom chamber 11 also rises considerably, making it impossible to maintain a predetermined temperature gradient. Cooling of the base plate 41 is started at time a, which is slightly before this time.
ベースプレート41の冷却は冷却ガス供給管45を介し
て冷却ガス循環装置51よりインナカバー2内の雰囲気
ガスと同じガスをベースプレート41内の冷却ガス流路
42に供給する。(N2ガスでもよい。)冷却ガス流路
42に送られたガスはベースグレート41を冷却して昇
温し、冷却ガス排出管46を経て、冷却器57に至る。To cool the base plate 41, the same gas as the atmospheric gas inside the inner cover 2 is supplied from the cooling gas circulation device 51 to the cooling gas passage 42 inside the base plate 41 via the cooling gas supply pipe 45. (N2 gas may also be used.) The gas sent to the cooling gas passage 42 cools the base grate 41 and rises in temperature, passes through the cooling gas discharge pipe 46, and reaches the cooler 57.
冷却器57で冷却された冷却ガスはブロアー55により
再びベースグレート41に圧送される。冷却ガス流量は
前記温度勾配に応じて温度調節弁56により調節される
。The cooling gas cooled by the cooler 57 is sent under pressure to the base grate 41 again by the blower 55. The cooling gas flow rate is adjusted by a temperature control valve 56 according to the temperature gradient.
このようにして、コイルCを上端から徐々に下端に向っ
て加熱して行き、コイルCの下端がボトムチャンバー1
1を出た時点すでベースプレート41の上昇を停止する
。このとき、コイルCの上端部はほぼ所定温度T2(1
150〜1200℃)に達している。また、ベースグレ
ート41の冷却はコイルC下端部の温度が930℃以上
になるまで(期間C)続けられる。なお、炉内温度が所
定温度T2に達したとき、インナカバー2内の雰囲気ガ
スにバガスからH2ガスに切り換えられる。In this way, the coil C is heated gradually from the upper end to the lower end, and the lower end of the coil C is heated to the bottom chamber 1.
1, the base plate 41 stops rising. At this time, the upper end of the coil C is at approximately the predetermined temperature T2 (1
150-1200°C). Furthermore, cooling of the base grate 41 is continued until the temperature at the lower end of the coil C reaches 930° C. or higher (period C). Note that when the temperature inside the furnace reaches a predetermined temperature T2, the atmospheric gas in the inner cover 2 is switched from bagasse to H2 gas.
コイルCは下端部が1150℃以上になるまで均熱保持
される。この均熱が終了(時点C)すると炉体1内に冷
却ガス吹込管7から冷却ガスを吹き込み、インナカバー
2と共にコイルCを冷却する。コイルCが所定温度まで
下ると、炉体1を取り去り、更にインナカバー2とコイ
ルCとを大気中で冷却する。そして、冷却完了後、イン
チカバー2を取り去って一連の焼鈍作業が完了する。The coil C is uniformly heated until the lower end reaches 1150° C. or higher. When this soaking is completed (time point C), cooling gas is blown into the furnace body 1 from the cooling gas blowing pipe 7 to cool the coil C together with the inner cover 2. When the temperature of the coil C drops to a predetermined temperature, the furnace body 1 is removed, and the inner cover 2 and the coil C are further cooled in the atmosphere. After cooling is completed, the inch cover 2 is removed and a series of annealing operations are completed.
なお、コイルCの寸法が大きい場合、炉体1の内側に設
けた電熱ヒーター5のみでは、コイルCのインナカバー
2内に入り込んだ部分を十分に加熱できず、所要の温度
勾配が得られないことがある。この場合、固定ベース3
1の第1電熱ヒーター36で補助加熱する。また、コイ
ルC全体を1150℃以上の温度で均熱保持する際、コ
イルC下端部からベースプレート41を軽で熱が放散さ
れる。このとき、ベースグレート41は冷却されておら
ず、また断熱材61によって熱の放散が防止されている
。In addition, when the dimensions of the coil C are large, the portion of the coil C that has entered the inner cover 2 cannot be sufficiently heated with only the electric heater 5 provided inside the furnace body 1, and the required temperature gradient cannot be obtained. Sometimes. In this case, fixed base 3
Auxiliary heating is performed by the first electric heater 36 of No. 1. Further, when the entire coil C is kept uniformly heated at a temperature of 1150° C. or higher, heat is dissipated from the lower end of the coil C by lightly touching the base plate 41. At this time, the base grate 41 is not cooled, and the heat insulating material 61 prevents heat from dissipating.
しかし、コイルCのサイズによっては熱の放散によりコ
イルC下端部の温度保持が困難なことがある。この場合
、固定ベース31の第2電熱ヒーター38により補助加
熱を行う。However, depending on the size of the coil C, it may be difficult to maintain the temperature at the lower end of the coil C due to heat dissipation. In this case, auxiliary heating is performed by the second electric heater 38 of the fixed base 31.
この発明は上記実施例に限られるものではない。This invention is not limited to the above embodiments.
たとえば、加熱手段として電熱ヒーター5に代えて直火
式バーナーを用いてもよく、炉体1の周壁のみならず天
井にも加熱手段を配設してもよい。For example, a direct burner may be used instead of the electric heater 5 as the heating means, and the heating means may be provided not only on the peripheral wall of the furnace body 1 but also on the ceiling.
ベースグレート41の冷却手段としては冷却ガス流路4
2の代りに断熱材61の上面に配設された冷却管であっ
てもよい。また、ボトムチャンバー11および固定ベー
ス31にそれぞれ張り付けられた断熱材16、34.4
0あるいは固定ベース31に取り付けられた電熱ヒータ
ー36.38に必須のものでにない。断熱材16.34
を設けない場合には、ボトムチャンバ−11内周面とコ
イルC外周面との間の間隙および仕切部33外周面とコ
イルC内周面との間の間隙は一インチカバー2内の高温
雰囲気ガスがボトムチャンバー11内に流入してボトム
チャンバー11 内ヲFF容温度以上としない程度(た
とえば1〜5 m)にとられる。さらに、昇降駆動装置
71の減速機付モーター72およびスクリュージヤツキ
73Vc代えて油圧ジヤツキを用いてもよい。The cooling gas flow path 4 serves as a cooling means for the base grate 41.
2 may be replaced by a cooling pipe disposed on the upper surface of the heat insulating material 61. Insulating materials 16 and 34.4 are attached to the bottom chamber 11 and the fixed base 31, respectively.
0 or is not essential for the electric heater 36 or 38 attached to the fixed base 31. Insulation material 16.34
If not provided, the gap between the inner circumferential surface of the bottom chamber 11 and the outer circumferential surface of the coil C and the gap between the outer circumferential surface of the partition part 33 and the inner circumferential surface of the coil C are 1 inch. The temperature is set to such an extent (for example, 1 to 5 m) that the gas does not flow into the bottom chamber 11 and cause the temperature inside the bottom chamber 11 to exceed the FF temperature. Furthermore, a hydraulic jack may be used in place of the reduction gear motor 72 and the screw jack 73Vc of the lifting drive device 71.
第1図は従来のバッチ焼鈍装置の一例を示す縦断面図、
第2図にこの発明のバッチ焼鈍装置の一例を示す縦断面
図、第3図に第2図に示す装置に用いられる冷却ガス循
環装置の系統図および第4図は炉内温度、コイル温度、
コイル位置の時間による変化を示す線図である。
1・・・炉体、2・・・インナカバー、3・・・ベース
プレー)、11・・・ボトムチャンバー、12・・・チ
ャンバー周壁、14・・・チャンバー底部材、31・・
・固定ベース、33・・・仕切部、41・・・ベースグ
レート、42・・・冷却ガス流路、51・・・冷却ガス
循環装置、71・・・昇降駆動装置。
特許出願人 代理人
弁理士 矢 葺 知 之
(ほか1名)
第2図
第4図FIG. 1 is a longitudinal cross-sectional view showing an example of a conventional batch annealing device;
FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing an example of the batch annealing apparatus of the present invention, FIG. 3 is a system diagram of a cooling gas circulation device used in the apparatus shown in FIG. 2, and FIG. 4 shows the temperature inside the furnace, coil temperature,
FIG. 3 is a diagram showing changes in coil position over time. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Furnace body, 2... Inner cover, 3... Base plate), 11... Bottom chamber, 12... Chamber peripheral wall, 14... Chamber bottom member, 31...
- Fixed base, 33... Partition part, 41... Base grate, 42... Cooling gas flow path, 51... Cooling gas circulation device, 71... Lifting drive device. Patent applicant Representative patent attorney Tomoyuki Yafuki (and 1 other person) Figure 2 Figure 4
Claims (1)
体、炉体内に設けられたベースプレート、およびベース
プレート上にコイル軸を垂直にして載置された金属コイ
ルを覆う着脱自在なインナカバーを備えた装置において
、上方に向って開口し、内径が金属コイルの外径J:り
やや大きく、金属コイルの収納可能なボトムチャンバー
が前記炉体の下方に設けられており、ボトムチャンバー
内にはこれと同軸に、ボトムチャンバー底部から上方に
延びる柱状の固定ベースが設けられており、固定ベース
は外径が金属コイルの内径よりやや小さく、ボトムチャ
ンバーの開口部に位置する仕切部を有し、前記ベースプ
レー)H環状をなし、冷却手段を備えており、前記ボト
ムチャンバーの底部を貫通し昇降自任な支持部材に支持
されており、支持部材の下端部は昇降駆動装置に連結さ
れていることを特徴とするバッチ焼鈍装置。Equipped with a removable bell-shaped furnace body equipped with a 11Vc heating means, a base plate provided inside the furnace body, and a removable inner cover that covers a metal coil placed on the base plate with the coil axis perpendicular. In this apparatus, a bottom chamber is provided below the furnace body, which opens upward, has an inner diameter slightly larger than the outer diameter J of the metal coil, and can accommodate the metal coil. A columnar fixed base is provided coaxially with the bottom chamber and extends upward from the bottom of the bottom chamber, and the fixed base has an outer diameter slightly smaller than the inner diameter of the metal coil and has a partition located at the opening of the bottom chamber. Base plate) H has an annular shape, is equipped with a cooling means, and is supported by a support member that passes through the bottom of the bottom chamber and can be raised and lowered freely, and the lower end of the support member is connected to a lifting drive device. Characteristic batch annealing equipment.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19003582A JPS5980732A (en) | 1982-10-30 | 1982-10-30 | Batch annealing device |
US06/542,193 US4502671A (en) | 1982-10-30 | 1983-10-14 | Batch annealing apparatus |
DE8383110817T DE3369703D1 (en) | 1982-10-30 | 1983-10-28 | Batch annealing apparatus |
EP83110817A EP0108357B1 (en) | 1982-10-30 | 1983-10-28 | Batch annealing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19003582A JPS5980732A (en) | 1982-10-30 | 1982-10-30 | Batch annealing device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5980732A true JPS5980732A (en) | 1984-05-10 |
JPS6235469B2 JPS6235469B2 (en) | 1987-08-01 |
Family
ID=16251274
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19003582A Granted JPS5980732A (en) | 1982-10-30 | 1982-10-30 | Batch annealing device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5980732A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100560809B1 (en) * | 2001-09-11 | 2006-03-14 | 주식회사 포스코 | Outcover suppoting apparatus of annealing furnace |
CN115323146A (en) * | 2021-11-10 | 2022-11-11 | 大丰科鑫热技术有限公司 | Horizontal multi-hearth multipurpose tempering furnace |
-
1982
- 1982-10-30 JP JP19003582A patent/JPS5980732A/en active Granted
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100560809B1 (en) * | 2001-09-11 | 2006-03-14 | 주식회사 포스코 | Outcover suppoting apparatus of annealing furnace |
CN115323146A (en) * | 2021-11-10 | 2022-11-11 | 大丰科鑫热技术有限公司 | Horizontal multi-hearth multipurpose tempering furnace |
CN115323146B (en) * | 2021-11-10 | 2023-12-26 | 大丰科鑫热技术有限公司 | Horizontal multi-hearth multi-purpose tempering furnace |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6235469B2 (en) | 1987-08-01 |
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