JPS5970685A - Benzoylthiophene derivative and its preparation - Google Patents
Benzoylthiophene derivative and its preparationInfo
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- JPS5970685A JPS5970685A JP18038182A JP18038182A JPS5970685A JP S5970685 A JPS5970685 A JP S5970685A JP 18038182 A JP18038182 A JP 18038182A JP 18038182 A JP18038182 A JP 18038182A JP S5970685 A JPS5970685 A JP S5970685A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式
で表わされる抗炎症作用及び鎮痛作用を示−を医薬とし
て有用な新規ベンゾイルチオフェン腔導体及びその製法
に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a novel benzoylthiophene cavity conductor represented by the general formula that exhibits anti-inflammatory and analgesic effects and is useful as a medicine, and a method for producing the same.
上記式中、Rは炭素数1乃至8個を有する直鎖状若しく
は分枝鎖状のアルキル基、炭素数2乃至8個を有する直
鎖状若しくは分枝鎖状のアルケニル基または炭素数1乃
至8個を有する脂肪族アシル基を示し、各々の基はさら
にオギソ基、水酸基、低級アルコキシ基、低級脂肪族ア
シルオキシ基、カルボキシ基、低級アルコギシカルボニ
ル基、アミン基、モノ低級アルキルアミノ基、ジ低級ア
ルキルアミノ基または環状アミン基で置換されていても
よ<、R2およびR3は同一または異なって水素原子、
置換基として低級アルコキシ基。低級アルキルチオ基、
アミノ基、モノ低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキル
アミノ基若しくはハロゲン原子を有していてもよい低級
アルキル基、低級アルコキシ基。In the above formula, R is a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a linear or branched alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, or a linear or branched alkenyl group having 1 to 8 carbon atoms. The figure shows an aliphatic acyl group having 8 groups, and each group further includes an ogiso group, a hydroxyl group, a lower alkoxy group, a lower aliphatic acyloxy group, a carboxy group, a lower alkoxycarbonyl group, an amine group, a mono-lower alkylamino group, a di- R2 and R3 are the same or different and may be substituted with a lower alkylamino group or a cyclic amine group,
Lower alkoxy group as a substituent. lower alkylthio group,
An amino group, a mono-lower alkylamino group, a di-lower alkylamino group, or a lower alkyl group or lower alkoxy group which may have a halogen atom.
低級アルキルチオ基またはハロゲン原子を示し。Indicates a lower alkylthio group or a halogen atom.
R4およびR5は同一または異なって水素原子。R4 and R5 are the same or different hydrogen atoms.
低級アルキル基、低級アルケニル基、低級脂肪族アシル
基、水酸基、低級アルコキシ基、低級nh n−g族ア
シルオキシ基、メルカプト基、低級アルキルチオ基、ア
ミノ基、モノ若しくはジ低級アルキルアミノ基、環状ア
ミノ基、ハロゲン原子またはニトロ基を示し、2はオキ
ソ基または: N−OR’基(式中 R6は水素原子あ
るいは低級アルキル基、低級アルケニル基または低級脂
肪族アシル基を示し、各々の基はさらにオキソ基。Lower alkyl group, lower alkenyl group, lower aliphatic acyl group, hydroxyl group, lower alkoxy group, lower NH NG group acyloxy group, mercapto group, lower alkylthio group, amino group, mono- or di-lower alkylamino group, cyclic amino group , halogen atom or nitro group, 2 is an oxo group or: Base.
水酸基、低級アルコキシ基、低級脂肪族アシルオキシ基
、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、アミノ
基、モノ低級アルキルアミノ基9ジ低級アルキルアミノ
基または環状アミン基で置換されていてもよい。)を示
す。但し。It may be substituted with a hydroxyl group, a lower alkoxy group, a lower aliphatic acyloxy group, a carboxy group, a lower alkoxycarbonyl group, an amino group, a mono-lower alkylamino group, a di-lower alkylamino group, or a cyclic amine group. ) is shown. however.
R1が非置換アルキル基である場合VCはその炭素数は
3以上を表わす。When R1 is an unsubstituted alkyl group, VC has 3 or more carbon atoms.
一般式(I+において好適には、R1はメチル。In the general formula (I+), R1 is preferably methyl.
エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イ
ソブチル、派−ブチル* ’e13rt−ブチル。Ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sub-butyl*'e13rt-butyl.
ローヘンチル。インペンチル、n−ヘキシル−イソヘキ
シル、n−ヘプチル、n−オクチルのような炭素数1乃
至8個を有する直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基、
ビニル、アリル、メソフロベニルe 2−フチニル、3
−ペンテニル。Lowhentill. A linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms such as impentyl, n-hexyl-isohexyl, n-heptyl, n-octyl,
vinyl, allyl, mesoflobenyl e 2-futhynyl, 3
-Pentenyl.
3−へキセニル、1−メチル−2−へキセニル。3-hexenyl, 1-methyl-2-hexenyl.
3−オクテニルのような炭素数2乃至8個を有する直鎖
状若しくは分枝鎖状のアルケニル基またはホルミル、ア
セチル、プロピオニル。ブチリル、イソブチリル、バレ
リル、イソバレリル。A linear or branched alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms such as 3-octenyl, formyl, acetyl, propionyl. Butyryl, isobutyryl, valeryl, isovaleryl.
ヘキザノイル、ヘプタノイル、オクタノイルのような炭
素数1乃至8個を有する脂肪族アシル基を示し、各々の
基はさらにオギソ基、水酸基。It represents an aliphatic acyl group having 1 to 8 carbon atoms such as hexanoyl, heptanoyl, and octanoyl, and each group further includes an ogiso group and a hydroxyl group.
メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、インプロポキシ
、n−ブトキシ、インブトキシのような低級アルコキシ
基、アセトキシ、プロビオニルオギシ、n−ブチリルオ
キシ、インブチリルオキシのような低級脂肪族アシルオ
キシ基、カルボキシ基、メトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル、n−プロポキシカルボニル、インプロポキ
シカルボニルのような低級アルコキシカルボニル基、ア
ミノ基、モノメチルアミノ、モノエチルアぐ)、モノn
−プロピルアミン、モノn−プロピルアミンのようなモ
ノ低級アルキルアミノ基、ジメチルアミノ、ジエチルア
ミノ。Lower alkoxy groups such as methoxy, ethoxy, n-propoxy, impropoxy, n-butoxy, imbutoxy, lower aliphatic acyloxy groups such as acetoxy, probionyloxy, n-butyryloxy, imbutyryloxy, carboxy groups , methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, n-propoxycarbonyl, lower alkoxycarbonyl groups such as impropoxycarbonyl, amino group, monomethylamino, monoethyl ag), mono n
- mono-lower alkylamino groups such as propylamine, mono-n-propylamine, dimethylamino, diethylamino.
ジイソプロピルアミノ、ジイソプロピルアミノのような
ジ低級アルキルアミノ基または1−ピロリジニル、ピペ
リジノ、モルホリノ、1−ピペラジニルのような環状ア
ミノ基で置換されていてもよく9R2およびR3は同一
まブこは異なって71(X原子、置換基としてメトキシ
、エトキシ。may be substituted with a di-lower alkylamino group such as diisopropylamino, diisopropylamino, or a cyclic amino group such as 1-pyrrolidinyl, piperidino, morpholino, 1-piperazinyl; 9R2 and R3 are the same but different; 71 (X atom, methoxy, ethoxy as a substituent.
ロープロポキシ、イソプロポキシのような低級アルコキ
シ基、メチルチオ、ニゲ′ルチオ、n−プロピルチオ、
イソプロピルヂオのような低級アルキルチオ基、アミン
基、モノメチルアミン。Lower alkoxy groups such as lowpropoxy, isopropoxy, methylthio, nigerthio, n-propylthio,
Lower alkylthio groups such as isopropyldio, amine groups, monomethylamine.
エチルアミノ、n−プロピルアミノ、イソプロピルアミ
ンのようなモノ低級アルキル゛7” ミ/ a 。Mono-lower alkyl such as ethylamino, n-propylamino, and isopropylamine.
ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジローフロビルアミ
ン、ジイソプロピル“アミンのようなジ低級アルキルア
ミノ基若しくはフッ素、塩素。di-lower alkylamino groups such as dimethylamino, diethylamino, dilaufurobylamine, diisopropylamine, or fluorine, chlorine.
臭素のようなハロゲン原子を有していてもよいメチル、
エチル、n−プロピル、イソプロピル。Methyl which may have a halogen atom such as bromine,
Ethyl, n-propyl, isopropyl.
n−ブチル、イソブチルのような低級アルキル基、メト
キシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソブロポキシ、n
−ブトキシ、イソブトキシのような低級アルコキシ基、
メチルチオ、エチルチオ、n−プロピルチオ、イソプロ
ピルチオ。Lower alkyl groups such as n-butyl, isobutyl, methoxy, ethoxy, n-propoxy, isobropoxy, n
- lower alkoxy groups such as butoxy, isobutoxy,
Methylthio, ethylthio, n-propylthio, isopropylthio.
n−ブチJ・ヂオ、〜イソブチルチオのような低級アル
キルチオ215またはフッ素、塩素、臭素のようなハロ
ゲン原子を示し R4およびR5は同一または異7jっ
て水素原子、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロ
ピル、n−ブチル、イソブグルのよ5か低級アルキ/1
7基、ビュ2.アリ/Llイソプロペニル、2−ブテニ
ル、3−ブテニルのような低級アルケニル基、ホルミル
、アセチA1.プロピオニル、ローブチリル、イソブチ
リルのような低級脂肪族アシル基、水酸基。Represents a lower alkylthio215 such as n-butylthio, ~isobutylthio, or a halogen atom such as fluorine, chlorine, or bromine, and R4 and R5 are the same or different and represent a hydrogen atom, methyl, ethyl, n-propyl , isopropyl, n-butyl, isobutyl, 5 or lower alkyl/1
7 units, view 2. Alli/Ll Lower alkenyl groups such as isopropenyl, 2-butenyl, 3-butenyl, formyl, acetyl A1. Lower aliphatic acyl groups and hydroxyl groups such as propionyl, lobetyryl, and isobutyryl.
メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、−fソブロボキ
シ、n−プトギシ、イソブトキシのような低級アルコキ
シ基、アセトキシ、プロピオニルオキシ、n−ブチ・リ
ルオキシ、イソブチリルオキシのような僚級脂肪族アシ
ルオキシ基、メルカプト基9メチルチオ、エチルチオ、
n−プロビルチオ。イソプロピルチオ、n−ブチルチオ
、イソブチルチオのような低級アルキルチオ基。アミノ
基、モノメチルアミノ、モノエチルアミノ、モノn−プ
ロピルアミン、モノイソプロピルアミノのようなモノ低
級アルキルアミノ基、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ
、ジロープロピルアミン、ジイソプロピルアミノのよう
なジ低級アルキルアミノ基、1−ピロリジニル。Lower alkoxy groups such as methoxy, ethoxy, n-propoxy, -f-sobroboxy, n-butoxy, isobutoxy, lower aliphatic acyloxy groups such as acetoxy, propionyloxy, n-buty-lyloxy, isobutyryloxy, mercapto Group 9 methylthio, ethylthio,
n-Provirthio. Lower alkylthio groups such as isopropylthio, n-butylthio, isobutylthio. Amino group, mono-lower alkylamino group such as monomethylamino, monoethylamino, mono n-propylamine, monoisopropylamino, di-lower alkylamino group such as dimethylamino, diethylamino, dilowpropylamine, diisopropylamino, 1- Pyrrolidinyl.
ピペリジノ、モルホリノ、1−ビベラジニA、(7)よ
うな環状アミン基、フッ素、塩素、臭素のようなハロゲ
ン原子またはニトロ基を示し、2はオキソ基または=N
−OR6基(式中 H6は水素原子あるいはメチル、エ
チル、n−プロピル、イソプロピル、0−ブチル、イソ
ブチルのような低級アルキル基、ビニル、アリル、イン
プロペニル、2−ブテニル、3−ブテニルのような低級
アルケニル基またはホルミル、アセチル、プロピオニル
、n−ブチリル、イソブチリルのような低級脂肪族アシ
ル基を示し、各々の基はさラニオキソ基、水酸基、メト
キシ、エトキシ。It represents a cyclic amine group such as piperidino, morpholino, 1-biverazini A, (7), a halogen atom such as fluorine, chlorine, bromine, or a nitro group, and 2 is an oxo group or =N
-OR6 group (where H6 is a hydrogen atom or a lower alkyl group such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, 0-butyl, isobutyl, vinyl, allyl, impropenyl, 2-butenyl, 3-butenyl) It represents a lower alkenyl group or a lower aliphatic acyl group such as formyl, acetyl, propionyl, n-butyryl, and isobutyryl, and each group is a ranioxo group, a hydroxyl group, methoxy, or ethoxy.
n−プロポキシ、イソプロポキシのような低級アルコキ
シ基、アセトキシ、プロピオニルオキシ、 n −フチ
リルオキシ、インブチリルオキシのような低級脂肪族ア
シルオキシ基、カルボキシ基。メトキシカルボニル、エ
トキシカルボニル、n−プロポキシカルボニル、イソプ
ロポキシカルボニルのような低級アルコキシカルボニル
基、アミン基、モノメチルアミノ、モノエチルアミノ、
モノn−プロピルアミノ、モノイソプロピルアミンのよ
うなモノ低級アルキルアミノ基、ジメチルアミノ、ジエ
チルアミノ、ジロープロピルアミン、ジイソプロピルア
ミノのようなジ低級アルキルアミノ基または1−ピロリ
ジニル、ピペラジノ、モルホリノ、1−ピペラジニルの
ような環状アミン基で置換されていてもよい。)を示す
。Lower alkoxy groups such as n-propoxy and isopropoxy, lower aliphatic acyloxy groups such as acetoxy, propionyloxy, n-phthyryloxy and imbutyryloxy, and carboxy groups. Lower alkoxycarbonyl groups such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, n-propoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, amine groups, monomethylamino, monoethylamino,
Mono-lower alkylamino groups such as mono-n-propylamino, monoisopropylamine, di-lower alkylamino groups such as dimethylamino, diethylamino, dilopropylamine, diisopropylamino, or 1-pyrrolidinyl, piperazino, morpholino, 1-piperazinyl. may be substituted with a cyclic amine group such as ) is shown.
本発明によって得られる前記一般式[I3を有する化合
物の具体例を以下に示す。Specific examples of the compound having the general formula [I3] obtained by the present invention are shown below.
(1)2−イソプロピル−5−ペンソイル−J−オフエ
ン
(212−ノルマルブチル−5−ベンゾイルチオフェン
(3) 2−ノルマルヘプチル−5−ベンゾイルチオ
フェン
(4)2−ノルマルブチル−5−(4−メチルベンゾイ
ル)−チオフェン
(5)2−ノルマルブチル−5−(4−クロルベンゾイ
ル)−チオフェン
(6)2−ノルマルブチル−5−(4−メトキシベンゾ
イル)−チオフェン
(7)3−(5−ベンゾイルチオフェン−2−イル)−
プロパン−2−オン
(8)4−(5−ベンゾイルチオフェン−2−イル)−
ブタン−2−オン
(9)4−(5−ベンゾイルチオフェン−2−イル)−
ブタン−3−オン
(10) 1−ブロム−4−(5−ベンゾイルチオフェ
ン−2−イル)−ブタン−2−オン
(11) 1−フルオロ−4−(5−ベンシイ九チでフ
ェン−2−イル)−ブタン−2−オン(12) 4−
(s −(4−メチルベン、〕°イアL)−”オフエン
−2−イル)−ブタン−2−オン(13) 4−(5−
(4−クロルベンゾイル)−チオフェン−2−イル)−
ブタン−2−オン(14) 4− (5−(4−メトキ
シベンゾイル)−チオフェン−2−イル)−ブタン−2
−オン(15) 4− (5−ベンゾイルチオフェン−
2−イル)−ブタン−2−オール
(16) 4− (5−(4−メチルベンゾイル)−チ
オフェン−2−イ/l/)−ブタン−2−オール(17
) 4− (5−(4−クロルベンゾイル)−チオフェ
ン−2−イル)−ブタン−2−オール(1g) 4−
(5−(4−メトキシベンゾイル)−チオフエンー2−
イル)−ブタン−2−オール
(19) 2−アセトキシ−4−(5−ベンゾイルチオ
フェン−2−イル)−ブタン
(20) 4− (5−ベンゾイルチオフェン−2−イ
ル)−2−メトキシ−ブタン
(21) 4− ’(5−(4−メチルベンゾイル)−
チオフェン−2−イル)−2−メトキシブタン(22)
4− (5−ベンゾイルチオフェン−2−イル)−ブ
タ−3−エン−2−オン
(23) 4− (5−ベンゾイルチオフェン−2−イ
ル)−1−フルオロ−ブタ−3−エン−2−オン
(24) 4− (5−(4−メチルベンゾイル)−チ
オフェン−2−イル)−ブタ−3−エン−2−オン
(25) 4− (5−(4−クロルベンゾイル)−チ
オフェン−2−イル)−ブタ−3−エン−2−オン
(26) 4− (5−ベンゾイルチオフェン−2−イ
ル)−1−プロムーブター3−エン−2−オン
(27) 4− (5−(4−フルオロベンゾイル)−
チオフェン)−フタ−3−エン−2−オン(7,8)
4−(5−(3−メトキシベンゾイル)−チオフェン)
−フタ−3−エン−2−オン(29) 4− (5−ベ
ンゾイルチオフェン−2−イル)−2−(1−モルホリ
ノ)−ブタン(30) 4− (5−ベンゾイルチオフ
ェン−2−イル)−3−(1−モルホリノ)−ブタン(
31) 4− (4−メチル−5−ベンゾイルチオフェ
ン−2−イル)ブタン−2−オン
(32) 4− (4’ −トリフルオロメチル−5−
ペンソイルチオフェン−2−イル)ブタン−2−オン
(33) 4− (4−メチル−5−ベンゾイルチオフ
ェン−2−イル)ブタン−2−オール
(34) 4− (4−メチル−5−(4−フルオロベ
ンソイル)チオフェン−2−イル)ブタン−2−オン
(35) 4− (4−メチル−5−(4−フルオロベ
ンゾイル)チオフェン−2−イル)ブタン−2−オール
(36) 4− (5−ベンゾイルチオフェン−2−イ
ル)−ブタン−2−オン オキシム
(37) 4− (5−ベンゾイルチオフェン−2−イ
ル)−ブタン−2−オン オキシムメチルエーテル
(3B) 、4−(5−ベンゾイルチオフェン−2−イ
ル)−ブタン−2−オン オキシムノルマルブチルエー
テル
(39) 4− (5−ベンゾイルチオフェン−2−イ
ル)−ブタン−2−オン オキシムノルマルヘプチルエ
ーテル
(40) 4− (5−ベンゾイルチオフェン−2−イ
ル)−フ゛タンー2−オン オキシム−(2ニジメチル
アミンエチル)−エーテル
(41) 4− (5−ベンゾイルチオフェン−2−イ
ル)−ブタン−2−オン オキシム−(°2−カルボキ
シメチル)エーテル
(42) 4− (5−ベンゾイルチオフェン−2−イ
ル)ブタン−2−オール オキシム−メチルエーテル
本発明による新規化合物は以下に示す方法によって製造
することができる。(1) 2-isopropyl-5-pensoyl-J-offene (212-n-butyl-5-benzoylthiophene (3) 2-n-heptyl-5-benzoylthiophene (4) 2-n-butyl-5-(4-methyl benzoyl)-thiophene (5) 2-n-n-butyl-5-(4-chlorobenzoyl)-thiophene (6) 2-n-n-butyl-5-(4-methoxybenzoyl)-thiophene (7) 3-(5-benzoylthiophene -2-yl)-
Propan-2-one (8) 4-(5-benzoylthiophen-2-yl)-
Butan-2-one (9) 4-(5-benzoylthiophen-2-yl)-
Butan-3-one (10) 1-bromo-4-(5-benzoylthiophen-2-yl)-butan-2-one (11) 1-fluoro-4-(5-benzoylthiophen-2- yl)-butan-2-one (12) 4-
(s-(4-methylben,]°iaL)-”offen-2-yl)-butan-2-one (13) 4-(5-
(4-chlorobenzoyl)-thiophen-2-yl)-
Butan-2-one (14) 4-(5-(4-methoxybenzoyl)-thiophen-2-yl)-butane-2
-one (15) 4- (5-benzoylthiophene-
2-yl)-butan-2-ol (16) 4-(5-(4-methylbenzoyl)-thiophen-2-y/l/)-butan-2-ol (17
) 4- (5-(4-chlorobenzoyl)-thiophen-2-yl)-butan-2-ol (1 g) 4-
(5-(4-methoxybenzoyl)-thiophene-2-
yl)-butan-2-ol (19) 2-acetoxy-4-(5-benzoylthiophen-2-yl)-butane (20) 4-(5-benzoylthiophen-2-yl)-2-methoxy-butane (21) 4-'(5-(4-methylbenzoyl)-
Thiophen-2-yl)-2-methoxybutane (22)
4-(5-benzoylthiophen-2-yl)-but-3-en-2-one (23) 4-(5-benzoylthiophen-2-yl)-1-fluoro-but-3-en-2- one (24) 4- (5-(4-methylbenzoyl)-thiophen-2-yl)-but-3-en-2-one (25) 4- (5-(4-chlorobenzoyl)-thiophene-2 -yl)-but-3-en-2-one (26) 4- (5-benzoylthiophen-2-yl)-1-promobuter-3-en-2-one (27) 4- (5-(4- fluorobenzoyl)−
Thiophene)-phth-3-en-2-one (7,8)
4-(5-(3-methoxybenzoyl)-thiophene)
-phth-3-en-2-one (29) 4- (5-benzoylthiophen-2-yl)-2-(1-morpholino)-butane (30) 4- (5-benzoylthiophen-2-yl) -3-(1-morpholino)-butane (
31) 4-(4-Methyl-5-benzoylthiophen-2-yl)butan-2-one (32) 4-(4'-trifluoromethyl-5-
pensoylthiophen-2-yl)butan-2-one (33) 4-(4-methyl-5-benzoylthiophen-2-yl)butan-2-ol (34) 4-(4-methyl-5-( 4-fluorobenzoyl)thiophen-2-yl)butan-2-one (35) 4-(4-methyl-5-(4-fluorobenzoyl)thiophen-2-yl)butan-2-ol (36) 4 - (5-benzoylthiophen-2-yl)-butan-2-one oxime (37) 4- (5-benzoylthiophen-2-yl)-butan-2-one oxime methyl ether (3B), 4-(5 -benzoylthiophen-2-yl)-butan-2-one oxime normal butyl ether (39) 4- (5-benzoylthiophen-2-yl)-butan-2-one oxime normal heptyl ether (40) 4- (5- benzoylthiophen-2-yl)-butan-2-one oxime-(2-dimethylamine-ethyl)-ether (41) 4-(5-benzoylthiophen-2-yl)-butan-2-one oxime-(°2- Carboxymethyl)ether (42) 4-(5-benzoylthiophen-2-yl)butan-2-ol oxime-methyl ether The novel compound according to the present invention can be prepared by the method shown below.
製法(1)
一般式
(式中、 R’ 、 R2,R’ 、 R’およびR5
は前述したものと同意義を示す。)
を有するベンゾイルチオフェン誘導体は。Manufacturing method (1) General formula (in the formula, R', R2, R', R' and R5
has the same meaning as above. ) is a benzoylthiophene derivative.
一般式
(式中 R1、R2およびR3は前述したものと同意義
を示す。)
を有するチオフェン誘導体に一般式
(式中 R4およびR5は前述したものと同意義を示し
、又は塩素、臭素のようなハロゲン原子を示す。)
を有する安息香酸ハライド誘導体を反応させることによ
って得られる。A thiophene derivative having the general formula (wherein R1, R2 and R3 have the same meanings as above) is added to a thiophene derivative having the general formula (wherein R4 and R5 have the same meanings as above, or chlorine, bromine, etc.) It is obtained by reacting a benzoic acid halide derivative having a halogen atom).
上記製法を詳細に説明すると、原料のチオフェン(1)
とベンゾイルハライド+1)を無水溶媒中。To explain the above production method in detail, the raw material thiophene (1)
and benzoyl halide +1) in an anhydrous solvent.
酸触媒下にフリーデル・クラフト反応を行なうことによ
って得られる。Obtained by Friedel-Crafts reaction under acid catalyst.
反応溶媒としては無溶媒でも良いが9M、拌を容易なら
しめるために通常不活性溶媒を用いるのが望ましい。溶
媒としては、二硫化炭素、クロロホルム、メチレンクロ
ライド、ジクロルエタン、トリクロルエタン等のハロゲ
ン化炭化水素化合物、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等
の脂肪族炭化水素類、ニトロメタン、エーテル。The reaction solvent may be solvent-free, but it is usually preferable to use an inert solvent to facilitate stirring. Examples of solvents include halogenated hydrocarbon compounds such as carbon disulfide, chloroform, methylene chloride, dichloroethane, and trichloroethane, aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane, and heptane, nitromethane, and ether.
テトラハイドロフラン等のエーテル類を用いることがで
きる。Ethers such as tetrahydrofuran can be used.
又、酸触媒としては、ボロントリフルオライド、塩化ア
ルミニウム、塩化第二スズ、塩化並塩等の金属のハロゲ
ン化物や、硫酸、リン酸のような鉱酸を用いることがで
きる。Further, as the acid catalyst, metal halides such as boron trifluoride, aluminum chloride, stannic chloride, and ordinary salts of chloride, and mineral acids such as sulfuric acid and phosphoric acid can be used.
反応温度は特に限定されないが通常90℃付近から20
0℃である。The reaction temperature is not particularly limited, but is usually around 90°C to 20°C.
It is 0°C.
反応時間は反応温度および原料の反応性により異なるが
通常24時間以内である。The reaction time varies depending on the reaction temperature and the reactivity of the raw materials, but is usually within 24 hours.
反応の後処理は水を加え、エーテル、トルエン、ベンゼ
ン、酢酸エチル等の有機溶媒で抽出し、溶媒を1重ノウ
水で洗浄後、硫酸ナトリウム又は硫酸マグネシウム等の
乾燥剤を用いて乾燥し、溶媒を留去後9残留物をさらに
蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製し目
的化合物を得ることができる。Post-treatment of the reaction involves adding water, extracting with an organic solvent such as ether, toluene, benzene, or ethyl acetate, washing the solvent with 1-layer aqueous solution, and drying using a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate. After distilling off the solvent, the residue 9 can be further purified by distillation, recrystallization, column chromatography, etc. to obtain the target compound.
製法(2)
一般式
(式中 B1 、 R2、R5、R4およびR5は前述
したものと同意義を示す。)
を有するベンゾイルチオフェンオキシム誘導体は、一般
式
(式中 R1、R4およびR5は前述したR1゜a
a aRおよびRにおける
脂肪族アシル基およびオキソ基が保護されている以外は
同意義を示し。Production method (2) A benzoylthiophene oxime derivative having the general formula (wherein B1, R2, R5, R4, and R5 have the same meanings as described above) is produced by the benzoylthiophene oxime derivative having the general formula (wherein R1, R4, and R5 have the same meanings as described above). R1゜a
a Same meaning except that the aliphatic acyl group and oxo group in R and R are protected.
R2およびR5は前述したものと同意義を示す。)を有
するベンゾイルチオフェン誘導体にヒドロキシルアミン
を反応させ、得られる化合物に含まれる保護基を除去す
ることによって得られる。R2 and R5 have the same meanings as described above. ) is reacted with hydroxylamine, and the protecting group contained in the resulting compound is removed.
上記一般式(IC)における脂肪族アシル基およびオキ
ソ基の保護基としては通常使用されるものであれば特に
限定はないが、エチレンジオキシ、トリメチレンジオキ
シのようなケタールを形成するアルキレンジオキシ基あ
るいはエチレンジチオのようなチオケタールを形成する
アルキレンジチオ基が好適である。The protecting group for the aliphatic acyl group and oxo group in the above general formula (IC) is not particularly limited as long as it is commonly used, but alkylene dioxylic acid that forms a ketal such as ethylenedioxy and trimethylene dioxy Oxy groups or alkylene dithio groups forming thioketals such as ethylenedithio are preferred.
上記反応で使用されるハイトロキシルアミン用すればさ
らに反応速度を高めることができる。The reaction rate can be further increased by using hydroxylamine, which is used in the above reaction.
通常ハイトロキシルアミン類をベンゾイルチオフェン1
モルに対して1〜100モル使用する。Usually hytroxylamines are benzoylthiophene 1
1 to 100 moles are used per mole.
反応は無溶媒中でも十分進行するが9反応を均−系で行
なうために不活性溶媒を用いてもよい。溶媒としては、
水、ジオキサン、テトラハイドロフラン等のエーテル類
、ジメチルスルホキシド、メタノール、エタノール等の
低級アルコール等の:容媒が用いられる。Although the reaction proceeds satisfactorily even in the absence of a solvent, an inert solvent may be used to carry out the nine reactions homogeneously. As a solvent,
A vehicle such as water, ethers such as dioxane and tetrahydrofuran, and lower alcohols such as dimethyl sulfoxide, methanol, and ethanol is used.
反応温度は特に限定されないが1通常室温から150℃
である。The reaction temperature is not particularly limited, but usually ranges from room temperature to 150°C.
It is.
反応時間は反応温度および原料の反応性により異ブ’x
るが通常5日以下である。Reaction time varies depending on reaction temperature and reactivity of raw materials.
However, it is usually less than 5 days.
また反応速度を高めるために酢酸、塩酸、トルエンスル
ホン酸、カンファースルホン酸等の酸やピリジン、トリ
エチルアミン9ピロリジン。Also, to increase the reaction rate, acids such as acetic acid, hydrochloric acid, toluenesulfonic acid, camphorsulfonic acid, pyridine, and triethylamine 9-pyrrolidine are used.
ヒヘリジン等の塩基の触媒を用いることができる。Base catalysts such as hyheridine can be used.
オキシム化反応終了後、上記の保護基は常法に従って除
去することができる。例えばケタール保i、2Gは、酢
酸、シュウ酸、トルエンスルホン酸、希塩酸等の触媒を
用いれば容易に除去して目的化合物を得ることができ。After completion of the oximation reaction, the above-mentioned protecting group can be removed according to a conventional method. For example, the ketal 2G can be easily removed using a catalyst such as acetic acid, oxalic acid, toluenesulfonic acid, dilute hydrochloric acid, etc. to obtain the target compound.
チオケタール保護基1ユ塩化第二水銀と接触させること
によって目的化合物を得ることができる。The target compound can be obtained by contacting the thioketal protecting group with 1 unit of mercuric chloride.
以上の反応終了後1本製法の目的化合物は常法に従って
処理し、さらに蒸留、再結晶、クロマトグラフィー等で
精製することによって得ることができる。After completion of the above reaction, the target compound of this production method can be obtained by processing according to a conventional method and further purifying by distillation, recrystallization, chromatography, etc.
製法(3)
一般式
(式中、Rbは低級アルキル基、低級アルケニル基また
は脂肪族ブシル基を示し、各々の基はさらにオキソ基9
水酸基、低級アルコキシ基。Production method (3) General formula (wherein Rb represents a lower alkyl group, a lower alkenyl group, or an aliphatic butyl group, each group further contains an oxo group 9
Hydroxyl group, lower alkoxy group.
低級脂肪族アシルオキシ基、カルボキシ基9低級アルコ
キシカルボニル基、アミン基、モノ低級アルキルアミノ
基または環状アミン基で置換されていてもよ< 、 B
、j 、 R2、R3、R4およびR5は前述したもの
と同意義を示す。)ヲ有するベンゾイルチオフェンオキ
シムエーテル誘導体は、一般式
(式中、呪 R; 、 R; 、 R8およびR1)は
前述したRI R2、R5、RAおよびR5における
水酸基、カルボギシ基、アミン基、モノ低級アルキルア
ミノ基、環状アミノ基およびメルカプト基が保護されて
いる以外は同意義を示す。)を有するベンゾイルチオフ
ェンオキシム誘導体に一般式
%式%()
(式中 R6は低級アルキル基、低級アルケニル基はさ
らにオキソ基,保訛されていてもよい水酸基.低級アル
コギシ基.低級脂肪族アシルオ*シ基.8護されていて
もよいカルボキシ基。B
, j, R2, R3, R4 and R5 have the same meanings as described above. ) The benzoylthiophene oxime ether derivative having the general formula (in the formula, R; They have the same meanings except that the amino group, cyclic amino group and mercapto group are protected. ) is a benzoylthiophene oxime derivative having the general formula %% () (in the formula, R6 is a lower alkyl group, the lower alkenyl group is further an oxo group, a hydroxyl group which may be modified, a lower alkoxy group, a lower aliphatic acyl group). 8. Carboxy group which may be protected.
低級アルコキシカルボニル基.保護されていてもよいア
ミノ基,保護されていCもよいモノ低級アルキルアミレ
基。ジ低級アルキルアミノ基または保護されていてもよ
い環状アミン基で置換されていてもよ<、yは塩素.臭
素のようなハロゲン原子,メタンスルホニルオキシ、エ
タンスルホニルオキシのような低級アルカンスルホニル
オキシ基またはベンゼンスルホニルオキシ、p−トルエ
ンスルホニルオキシのヨリナ7リールスルホニルオキシ
基を示す。)
を有する化合物を反応させ,得られる化合物に含まれる
保護基を除去することWよって得られる。Lower alkoxycarbonyl group. An amino group that may be protected, a mono-lower alkyl amyle group that may also be protected. may be substituted with a di-lower alkylamino group or an optionally protected cyclic amine group, y is chlorine. It represents a halogen atom such as bromine, a lower alkanesulfonyloxy group such as methanesulfonyloxy and ethanesulfonyloxy, or a 7-arylsulfonyloxy group such as benzenesulfonyloxy and p-toluenesulfonyloxy. ) can be obtained by reacting a compound having W and removing the protecting group contained in the resulting compound.
上記一般式(Ie)および(W) において存在する
保護基としては通常使用されるものであれば特に限定は
ないが9水酸基の保護基としては例エバ了セチル、トリ
フルオロアセチル、ベンゾイル、ベンジルオキシカルボ
ニル、p−ニトロベンジルオキシカ/+/ボニルのよう
なアシル基。The protecting groups present in the above general formulas (Ie) and (W) are not particularly limited as long as they are commonly used, but examples of protecting groups for the 9-hydroxyl group include evarocetyl, trifluoroacetyl, benzoyl, and benzyloxy. Acyl groups such as carbonyl, p-nitrobenzyloxyca/+/bonyl.
トリメチルシリル、ジメチル−tert−ブチルシリル
のようなトリアルキルシリル基、ジヒドロピラン−2−
イル基等が好適であり、カルボキシ基の保護基としては
+ tert−ブチル、p−ニトロベンジル、ベンズヒ
ドリル、トリクロルエチルのようなエステルを形成する
基が好適であす、マたチオール基の保護基としては、ア
セチル、トリフルオロアセチルのようなアシル基が用い
られる。trialkylsilyl groups such as trimethylsilyl, dimethyl-tert-butylsilyl, dihydropyran-2-
yl group, etc. are preferable, and groups that form esters such as + tert-butyl, p-nitrobenzyl, benzhydryl, and trichloroethyl are preferable as protecting groups for carboxy groups, and as protecting groups for matathiol groups. is an acyl group such as acetyl or trifluoroacetyl.
上記反応はオキシム体(Ie)を塩基の存在下エーテル
化試剤(Ivlど反応させることによって実施すること
ができる。The above reaction can be carried out by reacting the oxime (Ie) with an etherification agent (Ivl, etc.) in the presence of a base.
物、ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエトレ1
チルアミン、ピリジン等の有機塩基を用キることができ
る。Organic bases such as sodium methoxide, sodium etrethylamine, and pyridine can be used.
反応は無溶媒中でも十分進行するが反応を均−系で行な
うために溶媒を用いてもよい。溶媒としては、ジオキサ
ン、テトラハイドロフラン等のエーテル類、ジメチルス
ルホキサイド、ジメチルホルムアミド、メタノール、エ
タノール等の低級アルコールが用いられる。Although the reaction proceeds satisfactorily even in the absence of a solvent, a solvent may be used to carry out the reaction homogeneously. As the solvent, ethers such as dioxane and tetrahydrofuran, lower alcohols such as dimethyl sulfoxide, dimethylformamide, methanol, and ethanol are used.
反応温度は特に限定されないが9通常室温から150℃
である。The reaction temperature is not particularly limited, but usually ranges from room temperature to 150°C.
It is.
反応時間は反応温度および原料の反応性により異なるが
通例40時間以下である。The reaction time varies depending on the reaction temperature and the reactivity of the raw materials, but is usually 40 hours or less.
ニーチル化反応終了後、上記の保護基は常法に従って除
去することができる。例えば水酸基の保護基であるアセ
チル ) +7フルオロアセチル、ベンゾイル等の脂肪
族アシル基は希水酸化ナトリウム若しくは水酸化カリウ
ム水溶液と処理することによって、ベンジルオキシカル
ボニル、p−ニトロベンジルオキシカルボニル等のアラ
ルキルオキシカルボニル基はパラジウム−炭素触媒を用
いる接触還元法によって、トリメチルシリル、ジメチル
−tert−ブチルシリル等のトリアルキルシリル基又
は、フッ化水素水。After the completion of the neethylation reaction, the above-mentioned protecting group can be removed according to a conventional method. For example, aliphatic acyl groups such as acetyl, +7 fluoroacetyl, and benzoyl, which are protective groups for hydroxyl groups, can be converted to aralkyloxy groups such as benzyloxycarbonyl, p-nitrobenzyloxycarbonyl, etc. by treating with dilute aqueous sodium hydroxide or potassium hydroxide solution. The carbonyl group can be converted into a trialkylsilyl group such as trimethylsilyl, dimethyl-tert-butylsilyl, or hydrogen fluoride water by a catalytic reduction method using a palladium-carbon catalyst.
ボロントリフルオライド等のフルオロ化合物によって、
あるい#ま酢酸、塩酸等によっても除去することができ
、ジヒドロビラン−2−イル基は塩酸9臭化水素酸等の
鉱酸若しくはギ酸、酢酸等の有機酸によって除去するこ
とができる。By fluoro compounds such as boron trifluoride,
Alternatively, it can be removed with acetic acid, hydrochloric acid, etc., and the dihydrobilan-2-yl group can be removed with a mineral acid such as hydrochloric acid, 9-hydrobromic acid, or an organic acid such as formic acid or acetic acid.
カルボキシ基の保護基であるtert−ブチル基。tert-butyl group, which is a protecting group for carboxyl group.
ベンズヒドリル基は塩酸、臭化水素酸等の鉱酸若しくハ
トリフルオロ酢酸等の有機酸と処理するこ七によって、
トリクロルエチル基は亜鉛と酢酸によって処理すること
によって、p−ニトロベンジル基はパラジウム−炭素触
媒を用いる接触還元法によって除去することができる。By treating the benzhydryl group with a mineral acid such as hydrochloric acid or hydrobromic acid or an organic acid such as trifluoroacetic acid,
The trichloroethyl group can be removed by treatment with zinc and acetic acid, and the p-nitrobenzyl group can be removed by catalytic reduction using a palladium-carbon catalyst.
またチオール基の保護基のアセチル、トリフルオロアセ
チルのようなアシル基は相当する水酸基のアシル基と同
様に除去することができる。Further, an acyl group such as acetyl or trifluoroacetyl which is a protecting group for a thiol group can be removed in the same manner as the corresponding acyl group of a hydroxyl group.
以上の反応終了後1本製法の目的化合物は常法に従って
処理し、さらに蒸留。再結晶、クロマトグラフィー等で
精製することによって得ることができる。After the completion of the above reaction, the target compound of the one-step production method was treated according to a conventional method and further distilled. It can be obtained by purification by recrystallization, chromatography, etc.
以上の製法によって合成される前記一般式(1)を有す
るベンゾイルチオフェン誘導体は、必要に応じて薬理学
に許容し得る塩圧することができる。すなわち1例えば
アミン誘導体は酸付加塩として塩酸、硫酸、硝酸のよう
な鉱酸の塩または酒石酸、クエン酸、乳酸、マレイン酸
のような有機酸の塩にすることができ、カルボン酸誘導
体はナトリウム、カリウム、カルシウムのようなアルカ
リ金属若しくはアルカリ土類金属の塩、アルミニウム塩
、アンモニウム塩、トリエチルアミン、ジシクロヘキシ
ルアミン、モルホリン、ピペリジンのような有機塩基の
塩またはリジン、アルギニンのような塩基性アミノ酸の
塩にすることができる。The benzoylthiophene derivative having the general formula (1) synthesized by the above production method can be subjected to pharmacologically acceptable salt pressure, if necessary. For example, amine derivatives can be made into acid addition salts of mineral acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid or salts of organic acids such as tartaric acid, citric acid, lactic acid, maleic acid, and carboxylic acid derivatives can be made into salts of mineral acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, etc. salts of alkali metals or alkaline earth metals such as potassium, calcium, aluminum salts, ammonium salts, salts of organic bases such as triethylamine, dicyclohexylamine, morpholine, piperidine, or salts of basic amino acids such as lysine, arginine. It can be done.
本発明の前記一般式(I)を有する化合物はすぐれた抗
炎症作用あるいは鎮痛作用を有することが明らかである
が、その薬理作用を以下に例示する。It is clear that the compound having the general formula (I) of the present invention has excellent anti-inflammatory or analgesic effects, and the pharmacological effects thereof are illustrated below.
なお薬理試験は次の方法によって行なった。The pharmacological test was conducted using the following method.
抗炎症作用
ウィスター(Wlster )系ラットを用いてカラゲ
ニン浮腫法により試験した。(e、A、wintθr。Anti-inflammatory activity was tested using the carrageenan edema method using Wlster rats. (e, A, wintθr.
Fi、A、R15ley 、 G、W、Nuss: J
、Pharmacol、Exp、Therap−+14
1 、369 (1963) )
鎮痛作用
ウィスター(Wister )系ラットを用いてランダ
ルセリシト法により試験した。(L。O,Randal
leJ、J、5elitto : Arch、int、
Pharmacodyn、 111 * 409(19
57))。Fi, A, R15ley, G, W, Nuss: J
, Pharmacol, Exp, Therap-+14
1, 369 (1963)) Analgesic effect was tested by the Randall-Selicito method using Wistar rats. (L.O., Randal
leJ, J, 5elitto: Arch, int,
Pharmacodyn, 111 * 409 (19
57)).
上記の薬理試験の結果からも明らかなように前記一般式
CI)を有する化合物は鎮痛抗炎症剤として有用である
。その投与形態としてはたとえば2錠剤、カプセル剤、
顆粒剤、散剤などによる経口投与あるいは止剤若しくは
軟膏剤、クリーム剤などの外用剤等による非経口投与を
あげることができる。その使用量は症状1年令1体重等
により異なるが、経口投与の場合には通常。As is clear from the results of the above pharmacological tests, the compound having the general formula CI) is useful as an analgesic and anti-inflammatory agent. The dosage form is, for example, two tablets, a capsule,
Examples include oral administration in the form of granules, powders, etc., and parenteral administration in the form of external preparations such as topical preparations, ointments, and creams. The dosage varies depending on the symptoms, age, weight, etc., but is normal when administered orally.
成人に対して1日約50■から200011?であり。Approximately 50■ to 200,011 per day for adults? Yes.
1回又は数回に分けて投与することができる。It can be administered once or in several doses.
次に実施例をあげて本発明をさらに具体的に説明する。Next, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.
実施例1 4−(5−ベンゾイルチオフェン2、71
の塩化アルミニウム[30−の塩化メチレンを加え、水
冷下1.91のベンゾイルブロマイドを加える。30分
攪拌後1.54 、li’の4−(チオフェン−2−イ
ル)−ブタン−2−オンを加えた後、30分攪拌する。Example 1 4-(5-benzoylthiophene 2,71
of aluminum chloride [30] of methylene chloride is added, and 1.91 of benzoyl bromide is added under water cooling. After stirring for 30 minutes, 1.54 liters of 4-(thiophen-2-yl)-butan-2-one was added, followed by stirring for 30 minutes.
その後冷水に投じエーテルで抽出し、エーテル層を重ソ
ウ水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、エー
テルを留宍し、シリカゲルカラムクロマトグラフ−で精
製すると、目的化合物1.4gが得られた。ノルマルヘ
キサンより再結晶すると9融点40−42℃の結晶が得
られた。After that, it was poured into cold water and extracted with ether, and the ether layer was washed with sodium hydrogen sulfate water and dried over anhydrous sodium sulfate.The ether was distilled off and purified by silica gel column chromatography to obtain 1.4 g of the target compound. Ta. Recrystallization from n-hexane gave 9 crystals with a melting point of 40-42°C.
同様にして以下の化合物を合成した。The following compounds were synthesized in the same manner.
1
実施例 RRR置換位置 融点(C) Ma、s
s(M”〕2 H−0H(C!H5)2
2 olt 2303 H−0
4H920112444H−08H17232−353
00
54−Ol −CJ411q
2 50−51 2786 4−0H5
−04H9255−725874−OT(、、O−0,
R9236−38274H
8′H/ヘメ〜 2 0i1260H
g HI3表 3 //
26000H。1 Example RRR substitution position Melting point (C) Ma, s
s(M”)2 H-0H(C!H5)2
2 olt 2303 H-0
4H920112444H-08H17232-353
00 54-Ol-CJ411q
2 50-51 2786 4-0H5
-04H9255-725874-OT(,,O-0,
R9236-38274H 8'H/Heme~ 2 0i1260H g HI3 Table 3 //
26000H.
1o Ht!(2// 27400
H。1 o Ht! (2//27400
H.
11 Ht9(3// 274000
H5
12H□ 2 //
302000H5
13Ht9(3// 30214
H、−yll、 3 52−54
25815 H/Y′−262−642
581B )(ハ【 2 θB
−64 2440
17 H△人 4 0it258
1114−Fハ人 2 80−82 27
719 H△人) 2 83−85 2
7620 H赫 2 109−111
25621 1[(△人〕” 2 91
−93 33622 HW’ 2
60−62 336T
5−ベンゾイル−2−ブチルチオフェン(2,2,9)
とハイトロキシルアミン塩酸塩1.2gをメタノール2
0m1に溶かし室温−夜装置する。メタノールを留去し
水を加えてエーテルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥後エーテルを濃縮すると、 1.3511の目的化合
物が得られた。融点126 − 128 ℃
実MU例23と同様に。−メチルハイトロキシルアミン
塩酸塩を用いて反応させ目的化合物を得た。11 Ht9(3//274000
H5 12H□ 2 //
302000H5 13Ht9 (3//30214
H, -yll, 3 52-54
25815 H/Y'-262-642
581B ) (c [ 2 θB
-64 2440 17 H△person 4 0it258
1114-F Han 2 80-82 27
719 H△person) 2 83-85 2
7620 H 2 109-111
25621 1 [(△person)]” 2 91
-93 33622 HW' 2
60-62 336T 5-benzoyl-2-butylthiophene (2,2,9)
and 1.2 g of hytroxylamine hydrochloride in methanol 2
Dissolve in 0ml and store at room temperature overnight. Methanol was distilled off, water was added, and the mixture was extracted with ether. After drying over anhydrous sodium sulfate, the ether was concentrated to obtain 1.3511 of the target compound. Melting point 126-128°C Same as actual MU example 23. -The target compound was obtained by reaction using methylhydroxylamine hydrochloride.
同様に以下の化合物を合成した。Similarly, the following compounds were synthesized.
25 H−04H92o:tz 27326
4−○t −04H92tt 30727
H秩 2 tt 289104
l!の5−ベンゾイル−2−ブチルチオフェンオキシ
ムと0.2gの水素化ナトリウムを20m1のジメチル
ホルムアミド中、水冷下1時間攪拌する。これにブチル
ブロマイド(o、eg) f加えさらに室温1時間攪拌
後、氷水に投じ塩酸酸性としエーテルで抽出し、溶媒を
留去しシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製する
と。25 H-04H92o:tz 27326
4-○t -04H92tt 30727
H Chichi 2 tt 289104
l! 5-benzoyl-2-butylthiophene oxime and 0.2 g of sodium hydride were stirred in 20 ml of dimethylformamide for 1 hour under water cooling. Butyl bromide (o, eg) f was added to this, and the mixture was further stirred at room temperature for 1 hour, poured into ice water, acidified with hydrochloric acid, extracted with ether, the solvent was distilled off, and the mixture was purified by silica gel column chromatography.
1゜IIの目的化合物が油として得られた。1°II of the target compound was obtained as an oil.
29 n−Bu、 n−Bu2 01t3
153Q −CH2CH2N(C!H5)2 n−B
u2t/ 33Q31 −0H2000Hn−B
u 2 ” 317ン塩酸塩
ブタ−2−オール(1,3y>をピリジン10ゴに溶か
し水冷下1.0gのメタンスルホニルクロライドを加え
る。2時間攪拌後、氷水を加えエーテルで抽出する。溶
媒を留去し1.4gのモルホリンを加え90℃で2時間
反応させる。水を加えエーテルで抽出し、溶媒を留去し
カラムクロマトグラフィーで精製しエーテル塩酸を加え
る。29 n-Bu, n-Bu2 01t3
153Q -CH2CH2N(C!H5)2 n-B
u2t/ 33Q31 -0H2000Hn-B
But-2-ol (1,3y) hydrochloride is dissolved in pyridine and 1.0 g of methanesulfonyl chloride is added under water cooling. After stirring for 2 hours, ice water is added and extracted with ether. After distilling off, add 1.4 g of morpholine and react at 90° C. for 2 hours. Add water, extract with ether, distill off the solvent, purify by column chromatography, and add ether hydrochloric acid.
エタノール−エーテルより再結晶すると、融点131〜
135℃の目的化合物0.61が得られた。When recrystallized from ethanol-ether, the melting point is 131~
0.61 of the target compound was obtained at 135°C.
実施例32と同様にして融点91−93℃の目的化合物
が得られた。The target compound having a melting point of 91-93°C was obtained in the same manner as in Example 32.
特許出願人 三共株式会社
代理人 弁理士樫出庄治
手続補正書(自発)
昭和58年11月ノP日
特許庁長官 若 杉 オIJ 夫 殿1、事件の表示
昭和5r年特許願第180381号
2、発明の名称
ベンゾイルチオフェン誘導体及びその製法3、補正をす
る者
事件との関係 特許出願人
住所 〒103東京都中央区日本橋本町3丁目1番地の
6名称 (185)三共株式会社
代表者 取締役社長 河村喜典
4、代理人
居所 〒140東京部品川区広町1丁目2番58号三共
株式会社内
詳細な説明の欄
7、補正の内容 別紙の通シ
1、 明細1の待Fl″請求の範囲を下記のようにhf
圧する。Patent Applicant Sankyo Co., Ltd. Agent Patent Attorney Shoji Kashi Procedural Amendment (Voluntary) Date of November 1982 Commissioner of the Patent Office Wakasugi OIJ Husband 1, Indication of Case 1979 Patent Application No. 180381 2 , Title of the invention: benzoylthiophene derivatives and their manufacturing process 3, Relationship with the person making the amendment Patent applicant address: 6 Name, 3-1 Nihonbashi Honmachi, Chuo-ku, Tokyo 103 (185) Sankyo Co., Ltd. Representative Director and President Kawamura Letter 4, Agent residence: Sankyo Co., Ltd., 1-2-58 Hiromachi, Honmonagawa-ku, Tokyo 140 Detailed explanation column 7, Contents of amendment Attachment Circular 1, Specification 1, the scope of claims hf as below
Press.
[(11−1役式
1式中、R1は炭素数1乃至8制を有する1頁鎖状若し
くは分枝鎖状のアルキル基、炭素数2乃至8個を有する
lIl頌状若しくは分枝鎖状のアルケニル基または炭素
数1乃至8個を有する脂肪族アシル基を示し、各々の基
はさらにオキソ基、水酸基、低級アルコキシ基、低級脂
肪族アシルオキシ基、カルボキン基、低級アルコキシカ
ルボニル基、ハロゲン原子、アミン基、モノ低級アルキ
ルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基゛または環状アミ
ン基で置換されていてもよく、R2およびR3は同一ま
たは異なって水素原子、置換基として低級アルコキシ基
、低級アルキルチオ基、アミノ基、モノ低級アルキルア
ミノ基、ジ1氏故アルキルアミノ基若しくはハロゲン原
子葡有していてもよい低級アルキル基、低級アルコキシ
基、低級アルキルチオ基丑たはハロゲン原子を示し R
4およびR5は同一または異なって水素原子、低級アル
キル基、低級アルケニル基、低級脂肪族アシル基、水酸
基、低械アルコキシ基、1氏級力旨肪族アシルオキシ基
、メルカプト基、低級アルキルチオ基、アミ7基、モノ
若しくはジ低級アルキルアミノ基、環状アミン基、ハロ
ゲン原子またはニトロ基を示し、Zはオキソ基または−
N −OR6基(式中 R6は水素原子あるいは低級ア
ルキル基、低級アルケニル基まlヒは低級脂肪族アシル
基r示し、各々の基はさらにオキソ基、水酸基、1代級
アルコキシ基、低級脂肪族アシルオキシ基、カルボキシ
a、+aSアルコキシカルボニル基、アミン基、モノ低
級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基または環
状アミン基で置換されてい一〇もよい。)勿示ず。[(11-1) In the formula 1, R1 is a chain-like or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and lIl is a chain-like or branched alkyl group having 2 to 8 carbon atoms. represents an alkenyl group or an aliphatic acyl group having 1 to 8 carbon atoms, and each group further includes an oxo group, a hydroxyl group, a lower alkoxy group, a lower aliphatic acyloxy group, a carboxyne group, a lower alkoxycarbonyl group, a halogen atom, It may be substituted with an amine group, a mono-lower alkylamino group, a di-lower alkylamino group, or a cyclic amine group, R2 and R3 are the same or different, and hydrogen atoms are substituted, and the substituent is a lower alkoxy group, a lower alkylthio group, or an amino group. R represents a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkylthio group, or a halogen atom, which may contain a mono-lower alkylamino group, a di-lower alkylamino group, or a halogen atom.
4 and R5 are the same or different and are a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower aliphatic acyl group, a hydroxyl group, a lower mechanical alkoxy group, a 1-class aliphatic acyloxy group, a mercapto group, a lower alkylthio group, an amine 7 group, mono- or di-lower alkylamino group, cyclic amine group, halogen atom or nitro group, Z is an oxo group or -
N-OR6 group (in the formula, R6 is a hydrogen atom or a lower alkyl group, a lower alkenyl group or a lower aliphatic acyl group, and each group further represents an oxo group, a hydroxyl group, a primary alkoxy group, a lower aliphatic group) It may be substituted with an acyloxy group, carboxy a, +aS alkoxycarbonyl group, amine group, mono-lower alkylamino group, di-lower alkylamino group or cyclic amine group.) Of course.
但し、Rが非直侠アルキル基で必る揚台に、はその炭素
数は3以上?衣わす。」
を有すめベンゾイルチオフェン誘導体。However, if R is a non-direct alkyl group, does it have 3 or more carbon atoms? clothe ” A benzoylthiophene derivative.
(2)一般式
(式中 R1は炭素数1乃至8個を有する直鎖状若しく
は分枝鎖状のアルキル基、炭素数2乃至8個を町する直
鎖状若しくは分枝鎖状のアルケニル基または炭素数1乃
至8個を有する脂肪族アシル基を示し、各々の基はざら
にオキソ基、水酸基、低級アルコキシ基、低級脂肪族ア
シルオキシ基、カルボキシ基、低級アルコギシカルボニ
ル基、ハロゲン原子、アミノ基、モノ低級アルキルアミ
ノ基、ジ低級アルキルアミノ基または環状アミン基で置
換されていてもよく、R2およびR3は同一または異な
って水垢原子、置換基として低級アルコキシ基、低級ア
ルキルチオ基、アミノ基1低級アルキルアミノ基、ジ低
級アルキルアミノ基若しくはハロゲン、’、’jl +
k 潰し一〇いてもよい低級アルキル基、低級アルコキ
ン基、1氏級アルキルチオ基またはハロゲン原子を示す
。但し、R1が非置換アルキル基である場合にはその炭
素数は3以上を表わす。)
を南するチオフェン訪導体に一般式
(式中 R4およびR5は同一または異なって水素原子
、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級脂肪族アシ
ル基、水酸基、低級アルコキシ基、低級脂肪族アシルオ
キシ基、メルカプト基、低級アルキルチオ基、アミン基
、モノ若しくはジ低級アルキルアミノ基、環状アミン基
、ハロゲン原子またはニトロ基を示し、Xはハロゲン原
子全示す。)
を有する安息査醒ハライド肪導体を反応させることを峙
似とする一般式
(式中、R’ 、 R2+ R’ 、 R’およびR5
は前述したものと同意躾奮示す。)
を有するベンゾイルチオフェン誘導体の製法。(2) General formula (wherein R1 is a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a linear or branched alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms) or an aliphatic acyl group having 1 to 8 carbon atoms, and each group roughly refers to an oxo group, a hydroxyl group, a lower alkoxy group, a lower aliphatic acyloxy group, a carboxy group, a lower alkoxycarbonyl group, a halogen atom, an amino R2 and R3 are the same or different and may be substituted with a limescale atom, a lower alkoxy group, a lower alkylthio group, an amino group as a substituent. Lower alkylamino group, di-lower alkylamino group or halogen, ', 'jl +
k Indicates a lower alkyl group, a lower alkokene group, a 1-degree alkylthio group, or a halogen atom, which may be crushed. However, when R1 is an unsubstituted alkyl group, the number of carbon atoms is 3 or more. ) to a thiophene visiting conductor with the general formula (wherein R4 and R5 are the same or different and are a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower aliphatic acyl group, a hydroxyl group, a lower alkoxy group, a lower aliphatic acyloxy group, (representing a mercapto group, lower alkylthio group, amine group, mono- or di-lower alkylamino group, cyclic amine group, halogen atom or nitro group, where X represents all halogen atoms). The general formula (where R', R2+ R', R' and R5
shows the same behavior as mentioned above. ) A method for producing a benzoylthiophene derivative having the following.
(3) 一般式
(式中、R;、tま炭素数1乃至8飼をイする直鎖状若
しくは分枝鎖状のアルキル基、炭素数2乃至8個を有す
る1IfI C0i状若しくは分枝鎖状のアルケニル基
ま7ζは株数された炭素数1乃至8個を有する脂肪族ア
シル基を示し、各々の基はさらに保護されたオキソ基、
水酸基、低級アルコキシ基、低級脂肪族アシルオキシ基
、カルボキン基、低級アルコキシカルボニル基、ハロゲ
ン原子、アミノ基、モノ低級アルキルアミノ基、ジ低級
アルキルアミノ基または環状アミノ基で置換されていで
もよく、R2およびR3は同一または異なって水素原子
、置換基として低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基
、アミン基、モノ低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキ
ルアミノ基若しくはハロゲン原子盆イjしていてもよい
低級アルキル基、低級アルコキシ基または)10ゲン原
子tボし、Rz およびRzは同一または異なって水素
原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、保躾された
低級脂肪族アシル基、水酸基、低級アルコキシ基、低級
脂肪族アシルオキシ基、メルカプト基、+hmアルキル
チオ基、アミン基、モノ若しくはジ低級アルキルアミノ
基、環状アミン基、ハロゲン原子またはニトロ基を示す
0但し、Rzが非置換アルキル基である場合VCはその
IAT、数Iま3以上を表わす。)
を有するベンゾイルチオフェン844にヒドロキシルア
ミンを反応させ、得られる化合物に含まれる保峨基を除
去することを特徴とする一般式
(式中、R1,R4およびR5は前述したRz、Rzお
よびRzに含まれる保睦基を除去したものと同意義を示
し R2およびR3は前述したものと同意義を示す。)
を有するベンゾイルチオフェンオキシム誘導体の製法。(3) General formula (wherein R; t is a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms; 1IfI C0i or branched chain having 2 to 8 carbon atoms; The alkenyl group or 7ζ represents an aliphatic acyl group having 1 to 8 carbon atoms, and each group further includes a protected oxo group,
R2 and R3 is the same or different and is a hydrogen atom, a lower alkoxy group, a lower alkylthio group, an amine group, a mono-lower alkylamino group, a di-lower alkylamino group, or a lower alkyl group which may have a halogen atom as a substituent; an alkoxy group or) 10 atoms, and Rz and Rz are the same or different and are a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a protected lower aliphatic acyl group, a hydroxyl group, a lower alkoxy group, a lower aliphatic acyloxy group, mercapto group, +hm alkylthio group, amine group, mono- or di-lower alkylamino group, cyclic amine group, halogen atom or nitro group.However, when Rz is an unsubstituted alkyl group, VC is its IAT, number I Represents 3 or more. ) is reacted with hydroxylamine to benzoylthiophene 844, and the binding group contained in the resulting compound is removed. A method for producing a benzoylthiophene oxime derivative having the same meanings as those obtained by removing the included retaining group, and R2 and R3 having the same meanings as described above.
(4) 一般式
(式中 R4は炭素数1乃至8個を有する直鎖状若しく
は分枝鎖状のアルキル基、炭素数2乃至8個を有する直
鎖状若しくは分枝鎖状のアルケニル基または炭素数1乃
至8個を有する脂肪族アシル基を示し、各々の基はさら
にオキソ基、保護された水酸基、低級アルコキシ基、低
級脂肪族アシルオキシ基、保護されたカルボキシ基、低
級アルコキ7力ルボニル基、ハロゲン原子、保護された
アミン基、保護されたモノ低級アルキルアミノ基、ジ低
級アルキルアミノ基または保護された環状アミン基で置
換されていでもよく、吋およびR二は同一または異なっ
て水素原子、置換基として低級アルコキシ基、低級アル
キルチオ基、保護されたアミン基、保護されたモノ低級
アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基若しくはハ
ロゲン原子を治していてもよい低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基、1次級アルキルチオ基またはハロゲン原子
を示し R4および札は同一または異なって水素原子、
低級アルキル基、低級アルケニル基、低級脂肪族アシル
基、保護された水酸基、低級アルコキシ基、低級脂肪族
アシルオキシ基、保護されたメルカプト基、低級アルキ
ルチオ基、保護されたアミン基、保護されたモノ低級ア
ルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、保護された
環状アミノ基、ハロゲン原子またはニトロ基を示す。但
し、Rbが非置換アルキル基である場合にはその炭素数
は3以上を表わす。)
を有するベンゾイルチオフェンオキシム誘導体に一般式
(式中 R6は低級アルキル基、低級アルケニル基また
は低級脂肪族アシル基勿示し、各々の基はさらにオキソ
基、保護されていてもよい水酸基、低級アルコキシ基、
低級脂肪族アシルオキシ基、保護されていてもよいカル
ボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、保護されてい
てもよいアミン基、保護されていてもよいモノ低級アル
キルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基または保護され
ていてもよい環状アミン基で置換されていてもよ<、X
は/%ロゲン原子、低級ブルカンヌルホニルオキシ基ま
たはアリールスルホニルオキシ基葡示ス。)
を有する化合物を反応させ、得られる化合物に含まれる
保腰基を除去することを特徴とするー(式中、R1、R
2、RA 、 R4、R5およびR六は前述したR4
、 R: 、 R: 、 R8、R: およびRaVc
@まれる保護基を除去したものと同意義を示す。)ヲ南
スるベンゾイルチオフェンオキシムエーテル誘導体の製
法。」
2 同第11頁8行目の
「アミン基、」を
[ハロゲン原子、アミン基、」と訂正する。(4) General formula (wherein R4 is a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a linear or branched alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, or It represents an aliphatic acyl group having 1 to 8 carbon atoms, and each group further includes an oxo group, a protected hydroxyl group, a lower alkoxy group, a lower aliphatic acyloxy group, a protected carboxy group, a lower alkoxycarbonyl group. , may be substituted with a halogen atom, a protected amine group, a protected mono-lower alkylamino group, a di-lower alkylamino group or a protected cyclic amine group, and R and R are the same or different and are hydrogen atoms, A lower alkoxy group, a lower alkylthio group, a protected amine group, a protected mono-lower alkylamino group, a di-lower alkylamino group, or a lower alkyl group, a lower alkoxy group, which may have a halogen atom as a substituent, a primary represents a class alkylthio group or a halogen atom, and R4 and the tag are the same or different and represent a hydrogen atom,
Lower alkyl group, lower alkenyl group, lower aliphatic acyl group, protected hydroxyl group, lower alkoxy group, lower aliphatic acyloxy group, protected mercapto group, lower alkylthio group, protected amine group, protected mono-lower Indicates an alkylamino group, a di-lower alkylamino group, a protected cyclic amino group, a halogen atom, or a nitro group. However, when Rb is an unsubstituted alkyl group, the number of carbon atoms is 3 or more. ) A benzoylthiophene oxime derivative having the general formula (where R6 is of course a lower alkyl group, a lower alkenyl group, or a lower aliphatic acyl group, and each group may further include an oxo group, an optionally protected hydroxyl group, or a lower alkoxy group) ,
Lower aliphatic acyloxy group, optionally protected carboxy group, lower alkoxycarbonyl group, optionally protected amine group, optionally protected mono-lower alkylamino group, di-lower alkylamino group or unprotected optionally substituted with a cyclic amine group <,
/% represents a rogen atom, a lower vulcanulphonyloxy group or an arylsulfonyloxy group. ) is characterized by reacting a compound having the following, and removing the hokoshi group contained in the resulting compound - (wherein R1, R
2, RA, R4, R5 and R6 are the above-mentioned R4
, R: , R: , R8, R: and RaVc
It has the same meaning as removing the protective group contained in @. ) Process for producing benzoylthiophene oxime ether derivatives. 2. On page 11, line 8, "amine group" is corrected to "halogen atom, amine group."
3 同第13員下から3行目の
「アミン基、」を
[弗素・塩素、臭素、大業のような・・ロゲン原子、ア
ミノ基、」と訂正する。3 In the third line from the bottom of the 13th member, "amine group," is corrected to "fluorine, chlorine, bromine, chlorine, etc... rogene atom, amino group."
4、 同第22貞下から5行目と4行目の間に下記の語
句を挿入する。4. Insert the following words between the 5th and 4th lines from the 22nd Sadashi.
r (43) 1.1.1− )リフルオロ−4−(
5−ベンゾイルチオフェン−2−イル)−ブタン−2−
オン
(44) 1.1.1− )リフルオ0−4−(5−
(4−フルオロベンゾイル)チオフェン−2−イル)−
ブタン−2−オン
(45) tl、1−トリフルオロ−4−(s−(4
−クロルベンソイル)チオフェン−2−イル)−ブタン
−2−オン
(46) 1,1.1−)リフルオロ−4−(5−(
2−フルオロベンゾイル)チオフェン−2−イル)−ブ
タン−2−オンJ
5、 同第35頁最下行および第36負5行目の「クイ
スター(Wister ) Jを「クイスタ−(Wis
tar ) Jとd」正する06 同第3T員最下行の
「R4つ、リーR1」を
○
「R4−(シー「4すμm1゛」と訂正する。r (43) 1.1.1-) refluoro-4-(
5-benzoylthiophen-2-yl)-butane-2-
On (44) 1.1.1-) Refluor0-4-(5-
(4-fluorobenzoyl)thiophen-2-yl)-
Butan-2-one (45) tl, 1-trifluoro-4-(s-(4
-chlorobenzoyl)thiophen-2-yl)-butan-2-one (46) 1,1.1-)lifluoro-4-(5-(
2-fluorobenzoyl)thiophen-2-yl)-butan-2-one
tar) J and d" Correct 06 3rd T member Correct "R4, Lee R1" in the bottom row to ○ "R4-(C "4μm1゛").
1、 同第38頁1行目の 「実施例 R2R1」を [実施例 R4’ RI Jと訂正する。1, page 38, line 1 "Example R2R1" [Corrected as Example R4' RI J.
8 同第39頁γ行目と8行目の間に下記の耐句を挿入
する。8 Insert the following statement between line γ and line 8 on page 39.
r23 4−F △人ay397−99 3302
44−C1△人。F3110−112 34625 2
−F △人OF 73−76 33026
H△人。F379−81 312」
以上r23 4-F △人ay397-99 3302
44-C1△person. F3110-112 34625 2
-F △person OF 73-76 33026
H△person. F379-81 312" or more
Claims (4)
は分枝鎖状のアルキル基、炭素数2乃至8個を有する直
鎖状若しくは分校鎖状のアルケニル基または炭素数1乃
至8個を有する脂肪族アシル基を示し、各々の基はさら
にオキソ基水酸基、低級アルコキシ基、低級脂肪族アシ
ルオキシ基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル
基、アミノ基、モノ低級アルキルアミノ基9ジ低級アル
キルアミノ基または環状アミノ基で置換されていてもよ
<、R2およびR3は同一またに異なって水素原子、置
換基として低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ア
ミノ基。 モノ低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基若
しくはハロゲン原子を有していてもよい低級アルキル基
、低級アルコキシ基9低級アルキルチオ基またはハロゲ
ン原子を示し H4およびR5は同一または異なって
水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級脂
肪族アシル基、水酸基、低級アルコキシ基、低級脂肪族
アシルオキシ基、メルカプト基、低級アルキルチオ基、
アミン基、モノ若しくはジ低級アルキルアミノ基、環状
アミン基、ハロゲン原子またはニトロ基を示し、2はオ
キソ基また)2 = N−0R6基(式中 R6は水素
原子あるいは低級アルキル基、低級アルケニル基または
低級脂肪族アシル基を示し、各々の基はさらにオキソ基
。 水酸基、低級アルコキシ基、低級脂肪族アシルオキシ基
、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、アミン
基、モノ低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ
基または現状アミン基で置換されていてもよい。)を示
す。但し。 1 Rが非置換アルキル基である場合にはその炭素数は3以
上を表わす。〕 を有するベンゾイルチオフェン誘導体。(1) General formula [wherein Hj is a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a linear or branched alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, or carbon Indicates an aliphatic acyl group having number 1 to 8, and each group further includes an oxo hydroxyl group, a lower alkoxy group, a lower aliphatic acyloxy group, a carboxy group, a lower alkoxycarbonyl group, an amino group, a mono-lower alkylamino group 9 It may be substituted with a di-lower alkylamino group or a cyclic amino group, R2 and R3 are the same or different and are hydrogen atoms, and the substituent is a lower alkoxy group, a lower alkylthio group, or an amino group. A mono-lower alkylamino group, a di-lower alkylamino group, or a lower alkyl group which may have a halogen atom, a lower alkoxy group 9 A lower alkylthio group or a halogen atom, H4 and R5 are the same or different and are a hydrogen atom, lower alkyl group, lower alkenyl group, lower aliphatic acyl group, hydroxyl group, lower alkoxy group, lower aliphatic acyloxy group, mercapto group, lower alkylthio group,
An amine group, a mono- or di-lower alkylamino group, a cyclic amine group, a halogen atom or a nitro group, 2 is an oxo group or) 2 = N-0R6 group (in the formula, R6 is a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkenyl group) or a lower aliphatic acyl group, and each group further includes an oxo group. Hydroxyl group, lower alkoxy group, lower aliphatic acyloxy group, carboxyl group, lower alkoxycarbonyl group, amine group, mono-lower alkylamino group, di-lower alkylamino group. or presently may be substituted with an amine group). however. When 1R is an unsubstituted alkyl group, the number of carbon atoms is 3 or more. ] A benzoylthiophene derivative having the following.
は分枝鎖状のアルキル基、炭素数2乃至8個を有する直
鎖状若しくヲマ分枝鎖状のアルケニル基または炭素数1
乃至8個を有する脂肪族アシル基を示し、各々の基はさ
らにオキソ基。 水酸基、低級アルコキシ基、低級脂肪族アシルオキシ基
、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、アミン
基、モノ低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ
基または環状アミノ基で置換されていてもよく、R2お
よびR5は同一また1ユ異なって水素原子、置換基とし
て低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、アミン基。 低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基若しく
はハロゲン原子を有していてもよい低級アルキル基、低
級アルコキシ基、低級アルキルチオ基またはハロゲン原
子を示す。但し R1が非置換アルキル基である場合に
はその炭素数は3以上を表わす。) を有するチオフェン誘導体に一般式 ) (式中 R4およびR5は同一または異なって水素原子
、低級アルキル基、低級アルケニル基。 似級脂肪族アシル基、水酸基、低級アルコキシ基、低級
脂肪族アシルオキシ基、メルカプト基。 低級アルキルチオ基、アミノ基、モノ若しくはジ低級ア
ルキルアミノ基、環状アミノ基、ハロゲン原子またはニ
トロ基を示し、Xはハロゲン原子を示す。) を有する安息香酸ハライド誘導体を反応させることを特
徴とする一般式 (式中 H+ 、 R2、R5、R4およびR5は前述
したものと同意義を示す。) を有するベンゾイルチオフェン誘導体の製法。(2) General formula (wherein R1 is a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a linear or branched alkyl group having 2 to 8 carbon atoms, Alkenyl group or 1 carbon number
An aliphatic acyl group having 8 to 8 aliphatic acyl groups, each of which is further an oxo group. R2 and R5 may be substituted with a hydroxyl group, a lower alkoxy group, a lower aliphatic acyloxy group, a carboxy group, a lower alkoxycarbonyl group, an amine group, a mono-lower alkylamino group, a di-lower alkylamino group, or a cyclic amino group, and R2 and R5 are Same or different hydrogen atom, lower alkoxy group, lower alkylthio group, amine group as a substituent. Indicates a lower alkylamino group, a di-lower alkylamino group, a lower alkyl group that may have a halogen atom, a lower alkoxy group, a lower alkylthio group, or a halogen atom. However, when R1 is an unsubstituted alkyl group, the number of carbon atoms is 3 or more. ) A thiophene derivative having the general formula) (wherein R4 and R5 are the same or different and are a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkenyl group. A similar aliphatic acyl group, a hydroxyl group, a lower alkoxy group, a lower aliphatic acyloxy group, Mercapto group (represents a lower alkylthio group, an amino group, a mono- or di-lower alkylamino group, a cyclic amino group, a halogen atom or a nitro group, where X represents a halogen atom). A method for producing a benzoylthiophene derivative having the general formula (wherein H+, R2, R5, R4 and R5 have the same meanings as described above).
分枝鎖状のアルキル基、炭素数2乃至8個を有する直鎖
状若しくは分枝鎖状のアルケニル基または保護された炭
素数1乃至8個を有する脂肪族アシル基を示し、各々の
基はさらに保護されたオキソ基、水酸基、低級アルコキ
シ基、低級脂肪族アシルオキシ基、カルボキシ基。 低級アルコキシカルボニル基、アミン基、モノ低級アル
キルアミノ基。ジ低級ア」・キルアミノ基または環状ア
ミノ基で置換されていてもよく。 R2およびR3は同一またげ異なって水素原子。 置換基として低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、
アミン基、モノ低級アルキルアミノ基。 ジ低級アルキルアミノ基若しくは)・ロゲン原子を有し
ていてもよい低級アルキル基、低級アルコキシ基または
ハロゲン原子を示し、 R,およびR5は同一または異
なって水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基9
保護された低級脂肪族アシル基、水酸基、低級アルコキ
シ基、低級脂肪族アシルオキシ基、メルカプト基、低級
アルキルチオ基。アミン基、モノ若しくはジ低級アルキ
ルアミノ基、環状アミノ基、ノ・ロゲン原子またはニト
ロ基を示す。但し、Raが非置換アルキル基である場合
にはその炭素数は3以上を表わす。) を有するベンゾイルチオフェン誘導体ニヒドロキシルア
ミンを反応させ、得られる化合物に含まれる保護基を除
去することを特徴とする特許Wは前述したものと同意義
を示す。) ヲ有するベンゾイルチオフェンオキシム誘導体の製法。(3) General formula (wherein R is a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a linear or branched alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms) or a protected aliphatic acyl group having 1 to 8 carbon atoms, each of which is further protected as an oxo group, hydroxyl group, lower alkoxy group, lower aliphatic acyloxy group, or carboxy group; lower alkoxycarbonyl group; Amine group, mono-lower alkylamino group. May be substituted with di-lower akylamino group or cyclic amino group. R2 and R3 are the same and different hydrogen atoms. As a substituent, lower alkoxy group, lower alkylthio group ,
Amine group, mono-lower alkylamino group. It represents a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a halogen atom which may have a di-lower alkylamino group or )/rogen atom, and R and R5 are the same or different and represent a hydrogen atom, a lower alkyl group, or a lower alkenyl group 9
Protected lower aliphatic acyl group, hydroxyl group, lower alkoxy group, lower aliphatic acyloxy group, mercapto group, lower alkylthio group. It represents an amine group, a mono- or di-lower alkylamino group, a cyclic amino group, a nitrogen atom, or a nitro group. However, when Ra is an unsubstituted alkyl group, the number of carbon atoms is 3 or more. Patent W, which is characterized in that a benzoylthiophene derivative dihydroxylamine having the following formula is reacted and the protecting group contained in the resulting compound is removed, has the same meaning as described above. ) A method for producing a benzoylthiophene oxime derivative having
くは分枝鎖状のアルキル基、炭素数2乃至8個を有する
直鎖状若しくは分枝鎖状のアルケニル基または炭素数1
乃至8個を有する脂肪族アシル基を示し、各々の基はさ
らにオキソ基。 保護された水酸基、低級アルコキシ基、低級脂肪族アシ
ルオキシ基、保護されたカルボキシ基。 低級アルコキシカルボニル基、保護されたアミン基、保
護されたモノ低級アルキルアミノ基。 ジ低級アルキルアミノ基または保護された環状アミン基
で置換されていてもよ<、R2およびRaは同一または
異なって水素原子、置換基として低級アル=+ キシ基
、低級アルキルチオ基、保護されたアミノ基、保護され
たモノ低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基
若しくはハロゲン原子を有していてもよい低級アルキル
基。 低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基またはハロゲン
原子を示し、R8およびR8は同一または異なって水素
原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級脂肪族
アシル基、保護された水酸基、低級アルコキシ基、低級
脂肪族アシルオキシ基、保護されたメルカプト基、低級
アルキルチオ基、保護されたアミノ基、保護されたモノ
低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、保護
された環状アミノ基、ノ・ロゲン原子またはニトロ基を
示す。但し、Rbが非置換アルキル基である場合にはそ
の炭素数は3以上を表わす。) ヲ有スるベンゾイルチオフェンオキシム誘導体に一般式 (式中、Rは低級アルキル基、低級アルケニル基または
低級脂肪族アシル基を示し、各々の基はさらにオキン基
、保護されていてもよい水酸基、低級アルコキシ基、低
級脂肪族アシルオキシ基、保護されていてもよいカルボ
キシ基。 低級アルコキシカルボニル基、保護されていてもよいア
ミン基、保護されていてもよいモノ低級アルキルアミノ
基、ジ低級アルキルアミノ基または保護されていてもよ
い環状アミン基で置換されていてもよく、Yはハロゲン
原子、低級アルカンスルホニルオキシ基または了り−ル
スルホニルオキシ基を示す。) を有する化合物を反応させ、得られる化合物に含まれる
保護基を除去することを特徴とする一般式 (式中 R1、R2、R5、R4、R5およびR6は前
す 述したRb、 Ra、 Ra、 Rh、 RbおよびR
a に含まれる保護基を除去したものと同意義を示す
。)ヲ有スるベンゾイルチオフェンオキシムエーテル誘
導体の製法。(4) General formula (in the formula, R1) is a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or a linear or branched alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms. group or carbon number 1
An aliphatic acyl group having 8 to 8 aliphatic acyl groups, each of which is further an oxo group. Protected hydroxyl group, lower alkoxy group, lower aliphatic acyloxy group, protected carboxy group. Lower alkoxycarbonyl group, protected amine group, protected mono-lower alkylamino group. It may be substituted with a di-lower alkylamino group or a protected cyclic amine group. group, a protected mono-lower alkylamino group, a di-lower alkylamino group, or a lower alkyl group which may have a halogen atom. It represents a lower alkoxy group, a lower alkylthio group, or a halogen atom, and R8 and R8 are the same or different and are a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower aliphatic acyl group, a protected hydroxyl group, a lower alkoxy group, a lower aliphatic group. Indicates an acyloxy group, protected mercapto group, lower alkylthio group, protected amino group, protected mono-lower alkylamino group, di-lower alkylamino group, protected cyclic amino group, norogen atom or nitro group. . However, when Rb is an unsubstituted alkyl group, the number of carbon atoms is 3 or more. ) A benzoylthiophene oxime derivative having the general formula (wherein R represents a lower alkyl group, a lower alkenyl group, or a lower aliphatic acyl group, each group further includes an oxyne group, an optionally protected hydroxyl group, Lower alkoxy group, lower aliphatic acyloxy group, optionally protected carboxy group. Lower alkoxycarbonyl group, optionally protected amine group, optionally protected mono-lower alkylamino group, di-lower alkylamino group or may be substituted with an optionally protected cyclic amine group, and Y represents a halogen atom, a lower alkanesulfonyloxy group, or an alkane sulfonyloxy group). (wherein R1, R2, R5, R4, R5 and R6 are the aforementioned Rb, Ra, Ra, Rh, Rb and R
It has the same meaning as a with the protecting group removed. ) A method for producing benzoylthiophene oxime ether derivatives.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18038182A JPS5970685A (en) | 1982-10-14 | 1982-10-14 | Benzoylthiophene derivative and its preparation |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18038182A JPS5970685A (en) | 1982-10-14 | 1982-10-14 | Benzoylthiophene derivative and its preparation |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5970685A true JPS5970685A (en) | 1984-04-21 |
Family
ID=16082236
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18038182A Pending JPS5970685A (en) | 1982-10-14 | 1982-10-14 | Benzoylthiophene derivative and its preparation |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5970685A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0243071A2 (en) * | 1986-04-22 | 1987-10-28 | Riker Laboratories, Inc. | Di-t-butylphenols substituted by a thenoyl group |
JPH072665A (en) * | 1991-08-29 | 1995-01-06 | Ind Technol Res Inst | Medicine consisting of thiophene compound and its physiologically allowable salts |
JPH08175557A (en) * | 1994-12-26 | 1996-07-09 | Seiji Nishihara | Inner stopper for dispensing in a fixed quantity |
-
1982
- 1982-10-14 JP JP18038182A patent/JPS5970685A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0243071A2 (en) * | 1986-04-22 | 1987-10-28 | Riker Laboratories, Inc. | Di-t-butylphenols substituted by a thenoyl group |
JPH072665A (en) * | 1991-08-29 | 1995-01-06 | Ind Technol Res Inst | Medicine consisting of thiophene compound and its physiologically allowable salts |
JPH08175557A (en) * | 1994-12-26 | 1996-07-09 | Seiji Nishihara | Inner stopper for dispensing in a fixed quantity |
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