JPS5952648B2 - Modified polybutadiene composition with photocurability - Google Patents

Modified polybutadiene composition with photocurability

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JPS5952648B2
JPS5952648B2 JP5561478A JP5561478A JPS5952648B2 JP S5952648 B2 JPS5952648 B2 JP S5952648B2 JP 5561478 A JP5561478 A JP 5561478A JP 5561478 A JP5561478 A JP 5561478A JP S5952648 B2 JPS5952648 B2 JP S5952648B2
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JP
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polybutadiene
anhydride
added
acrylate
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弘 安野
利宗 吉永
敏和 林
常朝 中野
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Ube Corp
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Ube Industries Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、紫外線照射により硬化しうる、特に金属や
アルキッド樹脂のようなプラスチックス等のコーティン
グ用ワニスとして有用な光硬化性を有する変性ポリブタ
ジエン組成物に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a photocurable modified polybutadiene composition that can be cured by ultraviolet irradiation and is particularly useful as a coating varnish for metals and plastics such as alkyd resins.

従来、金属のコーティングには加熱硬化乾燥法が採用さ
れているが、この方法は乾燥時に有機溶剤が大気中に大
量排出されるため公害対策上は勿論、省資源という点か
らも問題となつている。
Conventionally, heat curing and drying methods have been used to coat metals, but this method releases large amounts of organic solvents into the atmosphere during drying, which poses problems not only from the standpoint of pollution control but also from the standpoint of resource conservation. There is.

この加熱硬化乾燥法の有する欠点を改良する方法として
、塗料として光硬化性組成物を用いる紫外線硬化乾燥法
が開発されている。ポリブタジエン系光硬化性組成物に
ついても、エポキシ化ポリブタジエンのエポキシ基にア
クリル酸を付加させたエステル化変性物、光重合性単量
体および光増感剤からなる光硬化性組成物が提案されて
いる(特開昭51−37128号)が、光硬化乾燥に長
時間を要し実用的ではない。この発明者らは、公知のポ
リブタジエン系光硬゜化性組成物の有する上記欠点を改
良すべ<鋭意研究を行なつた結果この発明を完成した。
As a method for improving the drawbacks of this heat curing drying method, an ultraviolet curing drying method using a photocurable composition as a coating material has been developed. Regarding polybutadiene-based photocurable compositions, a photocurable composition consisting of an esterified modified product in which acrylic acid is added to the epoxy group of epoxidized polybutadiene, a photopolymerizable monomer, and a photosensitizer has been proposed. (Japanese Unexamined Patent Publication No. 51-37128), but it takes a long time for photocuring and drying and is not practical. The inventors completed this invention as a result of intensive research to improve the above-mentioned drawbacks of known polybutadiene photocurable compositions.

この発明は、数平均分子量が500〜5000であり、
粘度(30℃)が20〜10000である液状ポリブタ
ジエンをエポキシ化して得られるエポキシ化ポ)りブタ
ジエンに、(イ)ヒドロキシアルキル基を含有する(メ
タ)アクリレートと芳香族カルボン酸無水物との反応生
成物であるモノエステル化合物、および(口)塩化水素
または脂肪族低級カルボン酸を、エクポキシ化ポリブタ
ジエンのブタジエン構成単位当り、(イ)を0.03〜
0.2個かつ(口)を0.05〜0.3個付加させて得
られる変性ポリブタジエン100重量部、光重合性単量
体30〜200重量部および光増感剤0.5〜15重量
部を含有してなる光硬化性を5 有する変性ポリブタジ
エン組成物(以下光硬化性組成物と略称する)に関する
ものである。
This invention has a number average molecular weight of 500 to 5000,
Epoxidized polybutadiene obtained by epoxidizing liquid polybutadiene having a viscosity (30°C) of 20 to 10,000 is reacted with (a) a (meth)acrylate containing a hydroxyalkyl group and an aromatic carboxylic acid anhydride. The monoester compound that is the product and (a) hydrogen chloride or aliphatic lower carboxylic acid are added to the butadiene constituent unit of the epoxidized polybutadiene in an amount of (a) of 0.03 to 0.03 to
100 parts by weight of modified polybutadiene obtained by adding 0.2 pieces and 0.05 to 0.3 pieces, 30 to 200 parts by weight of photopolymerizable monomer, and 0.5 to 15 parts by weight of photosensitizer. The present invention relates to a modified polybutadiene composition (hereinafter abbreviated as photocurable composition) containing 5% of photocurable composition.

この発明の光硬化性組成物は、光硬化乾燥性が優れ、硬
化塗膜の、金属およびアルキツド樹脂のようなプラスチ
ツクに対する接着性,耐屈曲性,耐衝撃性,耐水性など
の性質が優れているという特長を有している。この発明
の1成分である変性ポリブタジエンは、゛エポキシ化ポ
リブタジエンに塩化水素または脂肪族低級カルボン酸を
付加させた後、モノエステル化合物を付加させることに
よつても製造することができるが、モノエステル化合物
が塩化水素および脂肪族低級カルボン酸に比べて付加し
にくいので、エポキシ化ポリブタジエンにモノエステル
化合物を付加させた後、塩化水素または脂肪族低級カル
ボン酸を付加させる方法によつて製造するのが好ましい
The photocurable composition of the present invention has excellent photocuring drying properties, and the cured coating film has excellent properties such as adhesion to metals and plastics such as alkyd resins, bending resistance, impact resistance, and water resistance. It has the feature of being Modified polybutadiene, which is a component of this invention, can also be produced by adding hydrogen chloride or aliphatic lower carboxylic acid to epoxidized polybutadiene, and then adding a monoester compound. Since the compound is difficult to add compared to hydrogen chloride and aliphatic lower carboxylic acid, it is preferable to produce it by adding a monoester compound to epoxidized polybutadiene and then adding hydrogen chloride or aliphatic lower carboxylic acid. preferable.

前記の液状ポリブタジエンは、数平均分子量500〜5
000、好ましくは600〜3000、粘度(30℃)
20〜10000、好ましくは30〜5000CP(セ
ンチボアズ)を有する液状ポリブタジエンであり、その
ミクロ構造については特に限定されないが、ブタジヱン
構成単位の40%以上が1,4一構造を有し、その1,
4一構造の70%以上がシス構造を有するものが好まし
い。
The liquid polybutadiene has a number average molecular weight of 500 to 5.
000, preferably 600-3000, viscosity (30°C)
It is a liquid polybutadiene having 20 to 10,000 CP (centiboads), preferably 30 to 5,000 CP (centiboads), and its microstructure is not particularly limited, but 40% or more of the butadiene structural units have a 1,4-structure, and the 1,
It is preferable that 70% or more of the 4-structure has a cis structure.

前記の液状ポリブタジエンは、ブタジエンのホモ重合体
のみならず全単量体単位に対してブタジエン単位70%
以上を有するブタジエンとアクリロニトリル,スチレン
, (メタ)アクリル酸エステル,酢酸ビニル,イソプ
レン,1,3−ペンタジエン,無水マレイン酸などとの
共重合体を含む。また、液状ポリブタジエンは、末端に
ヒドロキシル基,カルボキシル基その他の官能基を有す
るものでもよい。液状ポリブタジエ.ンの数平均分子量
および粘度が上記下限より小さいと、光硬化性組成物の
光硬化乾燥性が悪く、また硬化塗膜の耐衝撃性が悪くな
るので好ましくない。また、液状ポリブタジエンの数平
均分子量および粘度が上記上限より大きいと、光硬化性
組成,物の粘度が大きくなり、コーテイング用ワニスと
して使用しにくくなるので好ましくない。前記エポキシ
化ポリブタジエンは、前記液状ポリブタジエンと過酸化
水素および蟻酸,酢酸のような脂肪族低級カルボン酸と
を、有機溶媒体中30・〜40℃で数時間エポキシ化反
応させることによつて製造される。
The liquid polybutadiene mentioned above is not only a butadiene homopolymer but also contains 70% butadiene units based on the total monomer units.
Copolymers of butadiene having the above and acrylonitrile, styrene, (meth)acrylic acid ester, vinyl acetate, isoprene, 1,3-pentadiene, maleic anhydride, etc. are included. Moreover, the liquid polybutadiene may have a hydroxyl group, a carboxyl group, or other functional group at the end. Liquid polybutadiene. If the number average molecular weight and viscosity of the composition are lower than the above-mentioned lower limit, the photocurable drying properties of the photocurable composition will be poor, and the impact resistance of the cured coating film will be poor, which is not preferable. Moreover, if the number average molecular weight and viscosity of the liquid polybutadiene are larger than the above upper limit, the viscosity of the photocurable composition becomes large, making it difficult to use it as a coating varnish, which is not preferable. The epoxidized polybutadiene is produced by subjecting the liquid polybutadiene to an epoxidation reaction with hydrogen peroxide and an aliphatic lower carboxylic acid such as formic acid or acetic acid in an organic solvent at 30-40°C for several hours. Ru.

液状ポリブタジエンと過酸化水素および脂肪族低級カル
ボン酸とを反応させるさいに、脂肪族低級カルボン酸に
対する過酸化水素の割合をモル比で1〜10、特に2〜
6にするのが好ましく、また液状ポリブタジエンに対す
る過酸化水素の割合を重量比で2〜5にするのが好まし
い〜 またエポキシ化ポリブタジエンは、液状ポリブタジエン
と過酢酸とを、酢酸ナトリウムの存在下、有機溶媒中約
50℃で数時間エポキシ化反応させるチヤールズ・イ一
・フイーロツクの「インダストリアル・エンジニアリン
グ・ケミストリ一」第50巻(第3号)、299頁(1
958年)に記載された方法によつても製造される。
When reacting liquid polybutadiene with hydrogen peroxide and aliphatic lower carboxylic acid, the molar ratio of hydrogen peroxide to aliphatic lower carboxylic acid is 1 to 10, especially 2 to 10.
6, and it is preferable that the ratio of hydrogen peroxide to liquid polybutadiene is 2 to 5 by weight.Epoxidized polybutadiene is produced by mixing liquid polybutadiene and peracetic acid in the presence of sodium acetate. The epoxidation reaction is carried out in a solvent at about 50°C for several hours.
958).

エポキシ化反応終了後、反応生成混合液を水洗すること
によつて過剰の過酸化水素または過酢酸のような水溶性
化合物を除き、ついで有機溶媒を留去して、エポキシ化
ポリブタジエンを単離する。エポキシ化ポリブタジエン
のエポキシ基の数は、エポキシ化ポリブタジエンのブタ
ジエン構成単位当り0.08〜0.5個、特に0.15
〜0.45個が好ましい。エポキシ化ポリブタジエンに
付加させるモノエステル化合物は、炭素数2〜16のヒ
ドロキシアルキル基を含有する(メタ)アクリレートと
芳香族カルボン酸無水物との等モル反応生成物である。
After the epoxidation reaction is completed, the reaction product mixture is washed with water to remove excess hydrogen peroxide or water-soluble compounds such as peracetic acid, and then the organic solvent is distilled off to isolate the epoxidized polybutadiene. . The number of epoxy groups in the epoxidized polybutadiene is 0.08 to 0.5, particularly 0.15 per butadiene constituent unit of the epoxidized polybutadiene.
~0.45 pieces is preferable. The monoester compound added to the epoxidized polybutadiene is an equimolar reaction product of a (meth)acrylate containing a hydroxyalkyl group having 2 to 16 carbon atoms and an aromatic carboxylic acid anhydride.

前記ヒドロキシアルキル基を含有する(メタ)アクリレ
ートとしては、2−ヒドロキシエチルアクリレート,
2−ヒドロキシエチルメタアクリレート, 2−ヒドロ
キシプロピルアクリレート,2ヒドロキシプロピルメタ
アクリレート,ポリエチレングリコールモノアクリレー
ト,ポリエチレングリコールモノメタアクリレート,ポ
リプロピレングリコールモノアクリレート,ポリプロピ
レングリコールモノメタアクリレート,ペンタエリ゛ス
リトールトリアクリレートなどを挙げることができる。
前記芳香族カルボン酸無水物は、無水カルボン酸環を1
個有する無水物であつて、ベンゼン環の水素原子が他の
置換基で置換されていてもよい。
The (meth)acrylate containing a hydroxyalkyl group includes 2-hydroxyethyl acrylate,
Examples include 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, polyethylene glycol monoacrylate, polyethylene glycol monomethacrylate, polypropylene glycol monoacrylate, polypropylene glycol monomethacrylate, pentaerythritol triacrylate, etc. be able to.
The aromatic carboxylic acid anhydride has one carboxylic anhydride ring.
The hydrogen atom of the benzene ring may be substituted with another substituent.

置換基としては、ハロゲン原子,アルコキシル基,アル
キル基,アルキルチオ基,ヒドロキシ基,ニトロ基,メ
チレンジオキシ基を挙げることができる。芳香族カルボ
ン酸無水物としては、無水フタル酸,無水トリメリツト
酸, 3−クロル無水フタル酸, 3,6−ジクロル無
水フタル酸、4−クロル無水フタル酸, 4,5−ジク
ロル無水フタル酸,テトラクロル無水フタル酸, 3−
フルオル無水フタル酸, 3,6−ジフルオル無水フタ
ル酸, 3一沃化無水フタル酸, 3,6−ジ沃化無水
フタル酸, 4一沃化無水フタル酸, 4,5−ジ沃化
無水フタル酸,テトラ沃化無水フタル酸, 3−ブロム
無水フタル酸, 3,6−ジブロム無水フタル酸, 4
−ブロム無水フタル酸, 4,5−ジブロモ無水フタル
酸,テトラブロム無水フタル酸,3フルオル無水フタル
酸, 3,6−ジフルオル無水フタル酸, 4−フルオ
ル無水フタル酸,4,5ジフルオル無水フタル酸, 3
,4−ジメトキシ無水フタル酸, 3,6−ジメトキシ
無水フタル酸, 4,5−ジメトキシ無水フタル酸,3
−(ジフ胎ムメチル)無水フタル酸, 3−エチル−6
(エチルチオ)一無水フタル酸,3−(エチルチオ)無
水フタル酸, 3,5−ジメトキシ−4−メチル無水フ
タル酸, 4,6−ジメトキシ−3−メチル無水フタル
酸, 3,6−ジヒドロキシ無水フタル酸, 3,6−
ジヒドロキシ−4−メチル無水フタル酸, 3,6−ジ
メトキシ−4,5−メチレンジオキシ無水フタル酸,
3,4−ジメチル無水フタル酸、3,6−ジメチル無水
フタル酸, 4,5−ジメチル無水フタル酸, 3−メ
゛チル−6(メチルチオ)無水フタル酸, 3−メチル
−無水フタル酸, 4−メチル無水フタル酸, 3−メ
トキシ無水フタル酸, 4−メトキシ無水フタル酸,3
−メトキシ−4,6−ジメチル無水フタル酸,4イソプ
ロピル−3,5,6,一トリメトキシ無水フタル酸,
4−ヒドロキシ無水フタル酸,3ヒドロキシ−4,6−
ジメチル無水フタル酸,3(エチルチオ)−6−メチル
無水フタル酸,5(エチルチオ)−3−メチル無水フタ
ル酸,3ーヒドロキシ−4−メトキシ無水フタル酸,
3−ヒドロキシ−5−メトキシ無水フタル酸, 6−ヒ
ドロキシ−4−メトキシ−3−メチル無水フタル酸,
6−イソブチル−3,4−ジメチル無水フタル酸, 3
−メチル−5−(フエニルチオ)無水フタル酸,3−(
メチルチオ)無水フタル酸,3ニトロ無水フタル酸,
4−ニトロ無水フタル酸,3−(フエニルチオ)無水フ
タル酸, 3−プロピル無水フタル酸,3−(プロピル
チオ)無水フタル酸などを挙げることができる。前記モ
ノエステル化合物は、前述のような1種または2種以上
のヒドロキシアルキル基を含有する(メタ)アクリレー
トと1種または2種以上のノ芳香族カルボン酸無水物と
を、触媒の存在下に、無溶媒または有機溶媒中70〜1
00℃で2〜7時間モノエステル化反応させることによ
つて製造される。
Examples of the substituent include a halogen atom, an alkoxyl group, an alkyl group, an alkylthio group, a hydroxy group, a nitro group, and a methylenedioxy group. Examples of aromatic carboxylic anhydrides include phthalic anhydride, trimellitic anhydride, 3-chlorophthalic anhydride, 3,6-dichlorophthalic anhydride, 4-chlorophthalic anhydride, 4,5-dichlorophthalic anhydride, and tetrachlorophthalic anhydride. Phthalic anhydride, 3-
Fluorophthalic anhydride, 3,6-difluorophthalic anhydride, 3-monoiodophthalic anhydride, 3,6-diiodophthalic anhydride, 4-monoiodophthalic anhydride, 4,5-diiodophthalic anhydride acid, tetraiodophthalic anhydride, 3-bromo phthalic anhydride, 3,6-dibromo phthalic anhydride, 4
-Bromophthalic anhydride, 4,5-dibromo phthalic anhydride, tetrabromo phthalic anhydride, 3-fluorophthalic anhydride, 3,6-difluorophthalic anhydride, 4-fluorophthalic anhydride, 4,5-difluorophthalic anhydride, 3
, 4-dimethoxyphthalic anhydride, 3,6-dimethoxyphthalic anhydride, 4,5-dimethoxyphthalic anhydride, 3
-(dimethylmethyl)phthalic anhydride, 3-ethyl-6
(Ethylthio) monophthalic anhydride, 3-(ethylthio)phthalic anhydride, 3,5-dimethoxy-4-methylphthalic anhydride, 4,6-dimethoxy-3-methylphthalic anhydride, 3,6-dihydroxyphthalic anhydride acid, 3,6-
Dihydroxy-4-methyl phthalic anhydride, 3,6-dimethoxy-4,5-methylenedioxy phthalic anhydride,
3,4-dimethyl phthalic anhydride, 3,6-dimethyl phthalic anhydride, 4,5-dimethyl phthalic anhydride, 3-methyl-6(methylthio) phthalic anhydride, 3-methyl-phthalic anhydride, 4 -Methyl phthalic anhydride, 3-methoxy phthalic anhydride, 4-methoxy phthalic anhydride, 3
-methoxy-4,6-dimethylphthalic anhydride, 4isopropyl-3,5,6,monotrimethoxyphthalic anhydride,
4-Hydroxyphthalic anhydride, 3hydroxy-4,6-
Dimethyl phthalic anhydride, 3(ethylthio)-6-methyl phthalic anhydride, 5(ethylthio)-3-methyl phthalic anhydride, 3-hydroxy-4-methoxy phthalic anhydride,
3-hydroxy-5-methoxy phthalic anhydride, 6-hydroxy-4-methoxy-3-methyl phthalic anhydride,
6-isobutyl-3,4-dimethylphthalic anhydride, 3
-Methyl-5-(phenylthio)phthalic anhydride, 3-(
methylthio) phthalic anhydride, 3-nitro phthalic anhydride,
Examples include 4-nitrophthalic anhydride, 3-(phenylthio)phthalic anhydride, 3-propyl phthalic anhydride, and 3-(propylthio) phthalic anhydride. The monoester compound is prepared by combining a (meth)acrylate containing one or more hydroxyalkyl groups as described above and one or more aromatic carboxylic acid anhydrides in the presence of a catalyst. , 70-1 without solvent or in organic solvent
It is produced by carrying out a monoesterification reaction at 00°C for 2 to 7 hours.

前記のモノエステル化反応において、ゲル化防止の目的
でハイドロキノン, 2,6−ジ第3ブチル−パラ−ク
レゾール,パラ−ベンゾキノンのような公知の適当な熱
重合安定剤を少量添加するのが好ましい。また、前記モ
ノエステル化反応において使用する触媒としては、トリ
エチルベンジルアンモニウムクロライド,メチルトリエ
チルアンモニウムクロライド,テトラエチルアンモニウ
ムタロライド,メチルトリエチルアンモニウムアイオダ
イドなどの有機第4級アンモニウム塩を挙げることがで
きる。芳香族カルボン酸無水物に対するヒドロキシアル
キル基を含有する(メタ)アクリレートの割合をモル比
で1以上にするのが好ましい。前述のモノエステル化反
応は、モノエステル化反応混合液から溶媒および末反応
の(メタ)アクリレートを除去したものを赤外線吸収ス
ベクトル分析し、芳香族カルボン酸無水物が有する芳香
族無水カルボン酸環の吸収ピーク(1760〜1780
cm−1および1840〜1860cm−1)がなくな
るまで行なえばよい。エポキシ化ポリブタジエンへのモ
ノエステル化合物の付加は、前述のようにして得られた
エポキシ化ポリブタジエンとヒドロキシアルキル基を含
有する(メタ)アクリレートと芳香族カルボン酸無水物
との反応生成物であるモノエステル化合物とを、前記有
機アンモニウム塩のような触媒の存″在下に、無溶媒ま
たは有機溶媒中70〜80℃で6〜8時間反応させるこ
とによつて行なうことができる。
In the above monoesterification reaction, it is preferable to add a small amount of a known suitable thermal polymerization stabilizer such as hydroquinone, 2,6-di-tert-butyl-para-cresol, or para-benzoquinone for the purpose of preventing gelation. . Further, examples of the catalyst used in the monoesterification reaction include organic quaternary ammonium salts such as triethylbenzylammonium chloride, methyltriethylammonium chloride, tetraethylammonium talolide, and methyltriethylammonium iodide. It is preferable that the molar ratio of the (meth)acrylate containing a hydroxyalkyl group to the aromatic carboxylic acid anhydride is 1 or more. In the monoesterification reaction described above, the monoesterification reaction mixture after removing the solvent and the terminally reacted (meth)acrylate was subjected to infrared absorption vector analysis to determine the aromatic carboxylic anhydride ring possessed by the aromatic carboxylic anhydride. absorption peak (1760-1780
cm-1 and 1840 to 1860 cm-1) are exhausted. Addition of a monoester compound to epoxidized polybutadiene is performed using a monoester compound which is a reaction product of the epoxidized polybutadiene obtained as described above, a (meth)acrylate containing a hydroxyalkyl group, and an aromatic carboxylic acid anhydride. This reaction can be carried out by reacting a compound with a compound in the presence of a catalyst such as the organic ammonium salt, without a solvent or in an organic solvent, at 70 to 80°C for 6 to 8 hours.

エポキシ化ポリブタジエンと前記モノエステル化合物と
の割合は、エポキシ化ポリブタジエン100重量部に対
しモノエステル化合物が80〜300重7量部である割
合が好ましい。前述の方法によつて、エポキシ化ポリブ
タジエンのブタジエン構成単位当り0.03〜0.2個
のモノエステル化合物を付加させることができる。エポ
キシ化ポリブタジエンへのモノエステル化合物の付加数
が前記下限にθより小さいと、光硬化性組成物の光硬化
乾燥に長時間を要し、また硬化塗膜の耐衝撃性,耐水性
が悪くなるので好ましくない。また、モノエステル化合
物の付加数が前記上限より大きいと、光硬化性組成物の
粘度が大きくなり、金属やプラスチツクのコーテイング
用ワニスとして使用しにくくなるので好ましくない。こ
の発明の1成分である変性ポリブタジエンは、エポキシ
化ポリブタジエンにモノエステル化合物を付加させた後
の反応混合液に、塩化水素または脂肪族低級カルボン酸
を加え、モノエステル化合物を付加したエポキシ化ポリ
ブタジエンに塩化水素または脂肪族低級カルボン酸を付
加させることによつて得ることができる。
The ratio of the epoxidized polybutadiene to the monoester compound is preferably 80 to 300 parts by weight and 7 parts by weight per 100 parts by weight of the epoxidized polybutadiene. By the method described above, 0.03 to 0.2 monoester compounds can be added per butadiene constituent unit of the epoxidized polybutadiene. If the number of monoester compounds added to the epoxidized polybutadiene is less than the lower limit θ, it will take a long time to photocure and dry the photocurable composition, and the impact resistance and water resistance of the cured coating will deteriorate. So I don't like it. Furthermore, if the number of monoester compounds added is greater than the above upper limit, the viscosity of the photocurable composition increases, making it difficult to use it as a varnish for coating metals or plastics, which is not preferred. Modified polybutadiene, which is a component of this invention, is produced by adding hydrogen chloride or an aliphatic lower carboxylic acid to the reaction mixture after adding a monoester compound to epoxidized polybutadiene, and adding the monoester compound to the epoxidized polybutadiene. It can be obtained by adding hydrogen chloride or aliphatic lower carboxylic acid.

前記脂肪族低級カルボン酸としては、蟻酸,酢酸を挙げ
ることができる。モノエステル化合物を付加させたエポ
キシ化ポリブタジエンに塩化水素を付加させるには、前
記反応混合液に、モノエステル化合物を付加させたエポ
キシ化ポリブタジエンの残存エポキシ基に対し当量比で
0.5〜1.0倍の塩化水素を加えて得られる反応溶液
を20〜50℃で0.5〜2時間撹拌混合するのが好ま
しい。また、モノエステル化合物を付加させたエポキシ
化ポリブタジエンに脂肪族低級カルボン酸を付加させる
には、前記反応混合液に、残存エポキシ基に対し当量比
で1〜2倍の脂肪族低級カルボン酸を加えて得られる反
応溶液を30〜70℃で5〜10時間撹拌混合するのが
好ましい。前述の方法によつて、モノエステル化合物を
付加させたエポキシ化ポリブタジエンのブタジエン構成
単位当り0.05〜0.3個の塩化水素または脂肪族低
級カルボン酸を付加させることができる。塩化水素また
は脂肪族低級カルボン酸の付加数が前記下限より小さい
と、光硬化性組成物の、光硬化乾燥性および硬化塗膜の
金属およびプラスチツクに対する接着性が悪くなるので
好ましくない。塩化水素または脂肪族低級カルボン酸の
付加数が前記上限より大きくても、光硬化性組成物の、
光硬化乾燥性および硬化塗膜の金属およびプラスチツク
に対する接着性は変らず、不経済になるので好ましくな
い。付加反応終了後、水洗した後、減圧蒸留して溶媒を
除去して、変性ポリブタジエンとモノエステル化合物と
の混合物を得ることができる。この発明の光硬化性組成
物の1成分である光重合性単量体は、 (メタ)アクリ
ル酸エステルであつて、常圧で200℃以上の沸点を有
するものが好ましい。
Examples of the aliphatic lower carboxylic acids include formic acid and acetic acid. In order to add hydrogen chloride to epoxidized polybutadiene to which a monoester compound has been added, hydrogen chloride is added to the reaction mixture at an equivalent ratio of 0.5 to 1. It is preferable to stir and mix the reaction solution obtained by adding 0 times as much hydrogen chloride at 20 to 50°C for 0.5 to 2 hours. In addition, in order to add an aliphatic lower carboxylic acid to epoxidized polybutadiene to which a monoester compound has been added, an aliphatic lower carboxylic acid is added to the reaction mixture in an equivalent ratio of 1 to 2 times the remaining epoxy groups. It is preferable to stir and mix the resulting reaction solution at 30 to 70°C for 5 to 10 hours. By the above-mentioned method, 0.05 to 0.3 hydrogen chloride or aliphatic lower carboxylic acid can be added per butadiene constituent unit of the epoxidized polybutadiene to which a monoester compound has been added. If the number of hydrogen chloride or aliphatic lower carboxylic acids added is less than the above-mentioned lower limit, the photocurable drying properties of the photocurable composition and the adhesion of the cured coating film to metals and plastics will deteriorate, which is not preferred. Even if the number of hydrogen chloride or aliphatic lower carboxylic acids added is larger than the above upper limit, the photocurable composition
This is not preferred because the photocurable drying properties and the adhesion of the cured coating film to metals and plastics remain unchanged, making it uneconomical. After completion of the addition reaction, the mixture is washed with water and then distilled under reduced pressure to remove the solvent to obtain a mixture of modified polybutadiene and monoester compound. The photopolymerizable monomer that is one component of the photocurable composition of the present invention is preferably a (meth)acrylic ester having a boiling point of 200° C. or higher at normal pressure.

光重合性単量体としては、2−ヒドロキシエチル(メタ
)アクリレート, 2−ヒドロキシプロピル(メタ)ア
クリレートのようなヒドロキシアルキル基を含有する
(メタ)アクリレートや, 2−エチルヘキシル(メタ
)アクリレート,ラウリル(メタ)アクリレート,エチ
レングリコールジ(メタ)アクリレート,ジエチレング
リコールジ(メタ)アクリレート,トリエチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート,テトラエチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート,重合度1〜8のポリエチレ
ングリコールモノ (メタ)アクリレート,重合度1〜
6のポリプロピレングリコールモノ (メタ)アクリレ
ート,プロピレングリコールジ(メタ)アタリレート,
ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート,トリ
プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート,テトラ
プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート, 1,
3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート, 1
,4−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート,
1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート,ネ
オペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート,トリメ
チロールプロパントリ(メタ)アクリレート,ペンタエ
リスリトールトリ (メタ)アクリレートなどを挙げる
ことができる。さらに、光重合性単量体としてヒドロキ
シアルキル基を含有する(メタ)アクリレートと芳香族
カルボン酸無水物との反応生成物であるモノエステル化
合物を使用することができる。この発明において光増感
剤としては、ベンゾインメチルエーテル,ベンゾインエ
チルエーテル,ベンゾインイソプロピルエーテル,ベン
ゾインブチルエーテル,ベンゾイン,α−メチルベンゾ
イン,α−クロルジオキシベンゾイン,ベンゾフエノン
,ジエトキシアセトフエノン,ジメトキシフエニルアセ
トフエノン,ベンジルなどを使用することができる。
Photopolymerizable monomers include those containing hydroxyalkyl groups such as 2-hydroxyethyl (meth)acrylate and 2-hydroxypropyl (meth)acrylate.
(meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, tetraethylene glycol di(meth)acrylate, ) Acrylate, polyethylene glycol mono(meth)acrylate, degree of polymerization 1 to 8
6 polypropylene glycol mono(meth)acrylate, propylene glycol di(meth)arylate,
Dipropylene glycol di(meth)acrylate, tripropylene glycol di(meth)acrylate, tetrapropylene glycol di(meth)acrylate, 1,
3-butylene glycol di(meth)acrylate, 1
, 4-butylene glycol di(meth)acrylate,
Examples include 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, and pentaerythritol tri(meth)acrylate. Furthermore, a monoester compound which is a reaction product of a (meth)acrylate containing a hydroxyalkyl group and an aromatic carboxylic acid anhydride can be used as a photopolymerizable monomer. In this invention, the photosensitizers include benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin butyl ether, benzoin, α-methylbenzoin, α-chlorodioxybenzoin, benzophenone, diethoxyacetophenone, dimethoxyphenyl Acetophenone, benzyl, etc. can be used.

この発明の光硬化性組成物において、前記の光重合性単
量体の配合量は、前記の変性ポリブタジエン100重量
部に対し、30〜200重量部、好ましくは50〜18
0重量部である。
In the photocurable composition of the present invention, the amount of the photopolymerizable monomer is 30 to 200 parts by weight, preferably 50 to 18 parts by weight, based on 100 parts by weight of the modified polybutadiene.
It is 0 parts by weight.

光重合性単量体の配合量が前記下限より少ないと、光硬
化性組成物の粘度が大きくなり、金属やプラスチツクの
コーテイング用ワニスとして使用しにくくなるので好ま
しくない。光重合性単量体の配合量が前記上限より多い
と、光硬化性組成物の硬化塗膜の耐衝撃性が悪くなるの
で好ましくない。この発明の光硬化性組成物において、
前記の光増感剤の配合量は、前記の変性ポリブタジエン
100重量部に対し、0.5〜15重量部、好ましくは
2〜10重量部である。
If the amount of the photopolymerizable monomer is less than the lower limit, the viscosity of the photocurable composition increases, making it difficult to use it as a varnish for coating metals or plastics, which is not preferable. If the amount of the photopolymerizable monomer is more than the above upper limit, the impact resistance of the cured coating film of the photocurable composition will deteriorate, which is not preferable. In the photocurable composition of this invention,
The amount of the photosensitizer to be blended is 0.5 to 15 parts by weight, preferably 2 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the modified polybutadiene.

光増感剤の配合量が前記下限より少ないと、光硬化性組
成物の光硬化乾燥性に長時間を要するので好ましくない
。光増感剤の配合量が前記上限より多くても、光増感の
効果は変らず、不経済になるので好ましくない。この発
明の光硬化性組成物には、熱重合安定剤としてハイドロ
キノン, 2,6−ジ第3ブチルパラ−クレゾール,パ
ラーベンゾキノンなどを使用することができる。
If the amount of the photosensitizer is less than the above-mentioned lower limit, it is not preferable because it takes a long time for photocuring and drying of the photocurable composition. Even if the amount of the photosensitizer is more than the above-mentioned upper limit, the photosensitization effect remains the same and it becomes uneconomical, which is not preferable. In the photocurable composition of the present invention, hydroquinone, 2,6-di-tert-butyl para-cresol, para-benzoquinone, etc. can be used as a thermal polymerization stabilizer.

熱重合安定剤を添加した場合は、光硬化性組成物の光硬
化乾燥性が悪くなるので、熱重合安定剤の添加量はごく
少量にとどめるのが好ましい。熱重合安定剤の好適な添
加量は、光硬化性組成物100重量部に対し5重量部以
下である。この発明の光硬化性組成物の配合方法として
は、従来公知の配合方法で行うことができる。
When a thermal polymerization stabilizer is added, the photocurable drying properties of the photocurable composition deteriorate, so it is preferable that the amount of the thermal polymerization stabilizer added is kept to a very small amount. A suitable amount of the thermal polymerization stabilizer added is 5 parts by weight or less per 100 parts by weight of the photocurable composition. The photocurable composition of the present invention can be blended by conventionally known blending methods.

例えば、前記の変性ポリブタジエンとモノエステル化合
物との混合物に、光増感剤のみを、または光増感剤と追
加の光重合性単量体とを配合することによつて光硬化性
組成物を得ることができる。この発明の光硬化性組成物
は無色かわずかに黄色に着色した液状物であり、粘度が
100〜2000CP(30℃)、特に150〜130
0CP(30℃)であることが好ましい。この発明の光
硬化性組成物はそのままで金属やアルキツド樹脂のよう
なプラスチツクのコーテング用ワニスとして用いること
ができるが、塗膜のスリツプ特性を良くする目的でステ
アリン酸アミド,オレイン酸アミドのような脂肪酸アミ
ドや,カルナウバワツタス,オゾケライトワツクス,ス
パームアセチワツクスなどのワツクスを少量添加しても
よい。
For example, a photocurable composition can be prepared by adding only a photosensitizer or a photosensitizer and an additional photopolymerizable monomer to the mixture of the modified polybutadiene and monoester compound. Obtainable. The photocurable composition of the present invention is a colorless or slightly yellow liquid, and has a viscosity of 100 to 2000 CP (30°C), particularly 150 to 130 CP.
It is preferable that it is 0CP (30 degreeC). The photocurable composition of this invention can be used as it is as a varnish for coating metals and plastics such as alkyd resins, but in order to improve the slip properties of the coating film, it can be used as a varnish for coating plastics such as stearamide and oleic acid amide. A small amount of fatty acid amide or wax such as carnauba wax, ozokerite wax, or spam acetiwax may be added.

また、この発明の光硬化性組成物には、粘度調節の目的
でスチレン,ビニルトルエン,酢酸ビニル,メタクリル
酸メチル,アクリル酸,メタクリル酸,ベンゼン,トル
エン,キシレン,タメン,ヘキサン,シクロヘキサン,
酢酸エチル,ケロシン,メチルイソブチルケトンなどを
少量添加してもよい。以下に実施例、比較例および参考
例を示す。
The photocurable composition of the present invention also contains styrene, vinyltoluene, vinyl acetate, methyl methacrylate, acrylic acid, methacrylic acid, benzene, toluene, xylene, tamene, hexane, cyclohexane,
A small amount of ethyl acetate, kerosene, methyl isobutyl ketone, etc. may be added. Examples, comparative examples, and reference examples are shown below.

参考例において、エポキシ化ポリブタジエンのエポキシ
基の数は、エポキシ化ポリブタジエンの適当量を塩酸−
ジオキサン溶液に加えて塩素化ノし、過剰の塩酸をアル
コール性カリでフエノールフタレンを指示薬として滴定
して求めた。
In the reference example, the number of epoxy groups in epoxidized polybutadiene is determined by adding an appropriate amount of epoxidized polybutadiene to hydrochloric acid.
It was added to a dioxane solution for chlorination, and excess hydrochloric acid was determined by titration with alcoholic potassium using phenolphthalene as an indicator.

エポキシ化ポリブタジエンへのモノエステル化合物の付
加数は、エポキシ化ポリブタジエンとモノエステル化合
物との反応混合液の、反応前と反応後との酸価の差を測
定して求めた。モノエステル化合物を付加させたエポキ
シ化ポリブタジエンへの脂肪族低級カルボン酸の付加数
は、エポキシ化ポリブタジエンにモノエステル化合物を
付加させた後の反応混合液と、モノエステル化合物と変
性ポリブタジエンとの混合物との、エポキシ基の数の差
を測定して求めた。実施例、比較例および参考例におい
て、粘度は東京計器(株)製E型粘度計を用いて測定し
た。実施例および比較例において、光硬化性組成物の光
硬化乾燥性は、脱脂したアルミニウム板に光硬化性組成
物を約10μの厚さに塗布したものを、長さ25cmの
2KWの高圧水銀灯(岩崎電気(株)製)の垂直下9c
mに水平に移動するベルトを設けた紫外線照射器のベル
ト上にのせて、ベルトを所定速度で走らせて光硬化性組
成物塗膜を光硬化し、光硬化後の組成物塗膜表面にサラ
ンラツプ(旭タウ(株)製、登録商標)を押しあてた後
、サランラツプを剥離した後の塗膜表面のくもりを観察
し、塗膜表面にくもりが生じないときのベルトの最大送
り速度(m/Min)で示した。
The number of monoester compounds added to the epoxidized polybutadiene was determined by measuring the difference in acid value of the reaction mixture of the epoxidized polybutadiene and the monoester compound before and after the reaction. The number of aliphatic lower carboxylic acids added to epoxidized polybutadiene to which a monoester compound has been added is determined by the reaction mixture after adding a monoester compound to epoxidized polybutadiene, and the mixture of a monoester compound and modified polybutadiene. It was determined by measuring the difference in the number of epoxy groups. In Examples, Comparative Examples, and Reference Examples, the viscosity was measured using an E-type viscometer manufactured by Tokyo Keiki Co., Ltd. In the Examples and Comparative Examples, the photocurable drying properties of the photocurable compositions were determined by applying the photocurable composition to a thickness of about 10 μm on a degreased aluminum plate using a 2KW high-pressure mercury lamp with a length of 25 cm ( Vertical lower 9c (manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.)
The photocurable composition coating film is placed on the belt of an ultraviolet irradiator equipped with a belt that moves horizontally at a predetermined speed, and Saran Wrap is applied to the surface of the photocured composition coating film. (manufactured by Asahi Tau Co., Ltd., registered trademark), and after peeling off the Saran Wrap, observe the cloudiness of the coating film surface, and check the maximum belt feed speed (m/ Min).

硬化塗膜の密着性は、光硬化乾燥性を測定した条件と同
じ条件で光硬化して得られたアルミニウム板上又はアル
キツド樹脂板上の塗膜に、縦横各2mm巾の直線の切れ
目を入れて100個のゴバン目をつくり、ゼロテープ(
登録商標)を張付け、ついでテープを引きはがして、ア
ルミニウム板上又はアルキツド樹脂板上に残つたゴバン
目の数で示した。
The adhesion of the cured coating film was determined by making straight cuts of 2 mm width in each direction in the coating film on the aluminum plate or alkyd resin plate obtained by photocuring under the same conditions as those used to measure the photocuring drying property. Make 100 gobang stitches using zero tape (
(registered trademark) was applied, the tape was then peeled off, and the number of gobbles remaining on the aluminum plate or alkyd resin plate was shown.

硬化塗膜の鉛筆硬度は、上記と同様に光硬化して得られ
た塗膜を用い、JIS−K54OO6.l4に従つて測
定した。
The pencil hardness of the cured coating film was determined using JIS-K54OO6. Measured according to 14.

硬化塗膜の耐屈曲性およびデユポン衝撃強度測定用試料
は、JIS−K54OOに規定された鉄板上に、耐水性
測定用塗膜はガラス板上に、各々光硬化性組成物を約3
0μの厚さに塗布し、ベルト送り速度1m/Minで3
回光硬化させて得た。
Samples for measuring the bending resistance and Dupont impact strength of cured coatings were placed on iron plates specified in JIS-K54OO, and coatings for measuring water resistance were placed on glass plates.
Apply to a thickness of 0μ and apply at a belt feed speed of 1m/min.
Obtained by photocuring.

耐屈曲性はJIS−K54OO6.l5に従つて測定し
、デユポン衝撃強度はJIS−K54OO6.l3に従
つて測定し、耐水性は硬化塗膜片を40℃の温水に1時
間浸し、塗膜表面にしわ、われ、ふくれが認められず、
つやの減少、くもりの程度が少ないものを○で、しわ、
われ、ふくれが認められ、つやの減少、くもりの程度が
大きいものを×で示し.た。参考例、実施例および比較
例の記載において、部は重量部を意味し、略記の意味は
次のとおりである。
Flexibility is JIS-K54OO6. The Dupont impact strength was measured according to JIS-K54OO6. 13, and water resistance is determined by soaking a cured coating piece in warm water at 40°C for 1 hour, with no wrinkles, creases, or blisters observed on the coating surface.
If there is a slight decrease in gloss or cloudiness, mark it as ○, and the wrinkles will be removed.
Items with blistering, decreased luster, and a large degree of cloudiness are marked with an x. Ta. In the descriptions of Reference Examples, Examples, and Comparative Examples, parts mean parts by weight, and the meanings of abbreviations are as follows.

エポキシ化PB:液状ポリブタジエンのエポキシノ化物
モノエステル化合物;ヒドロキシアルキル基を含有する
(メタ)アクリレートと芳香族カルボン酸無水物との
反応生成物変性ポリブタジエン;エポキシ化ポリブタジ
エン,のモノエステル化合物および塩化水素または脂肪
族低級カルボン酸付加物2HEA;2−ヒドロキシエチ
ルアクリレート2EHA;2−エチルヘキシルアクリレ
ート16HDA;1,6−ヘキサンジオールジアクl)
:レートPHEA;無水フタル酸と2−ヒドロキシエチ
ルアクリレートとの反応生成物THEA;無水トリメリ
ツト酸と2−ヒドロキシエチルアクリレートとの反応生
成物NHEA;4−ニトロ無水フタル酸と2−ヒドロキ
シエチルアタリレートとの反応生成物 参考例 1 (エポキシ化PBの製造) 第1表に示すような分子量、粘度およびミクロ構造を有
する液状ポリブタジエン500部をベンゼン1300部
に添加し、さらに第1表に示す量の30%濃度の過酸化
水素水溶液を添加し、得られた懸濁液に、撹拌下に第1
表に示す量の蟻酸を20℃で約30分間で滴下した。
Epoxidized PB: epoxylated monoester compound of liquid polybutadiene; modified polybutadiene, a reaction product of a (meth)acrylate containing a hydroxyalkyl group and an aromatic carboxylic acid anhydride; a monoester compound of epoxidized polybutadiene, and hydrogen chloride or Aliphatic lower carboxylic acid adduct 2HEA; 2-hydroxyethyl acrylate 2EHA; 2-ethylhexyl acrylate 16HDA; 1,6-hexanediol diacl)
:Rate PHEA; Reaction product of phthalic anhydride and 2-hydroxyethyl acrylate THEA; Reaction product of trimellitic anhydride and 2-hydroxyethyl acrylate NHEA; 4-nitrophthalic anhydride and 2-hydroxyethyl acrylate Reference Example 1 (Production of Epoxidized PB) 500 parts of liquid polybutadiene having the molecular weight, viscosity, and microstructure shown in Table 1 was added to 1300 parts of benzene, and 30 parts of the amount shown in Table 1 was added to 1300 parts of benzene. % concentration aqueous hydrogen peroxide solution and to the resulting suspension was added the first
Formic acid in the amount shown in the table was added dropwise at 20° C. over about 30 minutes.

その後約35℃で5時間反応させ、反応終了後反応液を
水洗し、ベンゼンを減圧蒸留によつて除去し、エポキシ
化PBを得た。このエポキシ化PBのエポキシ基数(エ
ポキシ化PBのブタジエン構成単位当りのエポキシ基の
数)、粘度および収量を第1表に示す。参考例 2 (モノエステル化合物の製造) 2−ヒドロキシエチルアクリレート116部に第2表に
示す種類と量の芳香族カルボン酸無水物を添加し、さら
に2,6−ジ第3ブチル−パラ−クレゾール0.3部お
よびトリエチルベンジルアンモニウムクロライド0.4
5部を添加した後、撹拌下に95℃で5時間反応させた
Thereafter, the reaction was carried out at about 35° C. for 5 hours, and after the reaction was completed, the reaction solution was washed with water, and benzene was removed by vacuum distillation to obtain epoxidized PB. Table 1 shows the number of epoxy groups (number of epoxy groups per butadiene constituent unit of epoxidized PB), viscosity, and yield of this epoxidized PB. Reference Example 2 (Manufacture of monoester compound) Aromatic carboxylic acid anhydride of the type and amount shown in Table 2 was added to 116 parts of 2-hydroxyethyl acrylate, and further 2,6-di-tert-butyl-para-cresol was added. 0.3 parts and 0.4 parts of triethylbenzylammonium chloride
After adding 5 parts, the reaction was carried out at 95° C. for 5 hours with stirring.

反応終了後未反応の2−ヒドロキシエチルアクリレート
を減圧蒸留によつて除去して、赤外吸収スペクトル分析
による芳香族カルボン酸無水物のカルボン酸環の吸収ピ
ーク(1770cm−1、1850cm−りがないモノ
エステル化合物を得た。このモノエステル化合物の収量
を第2表に示す。参考例 3 (変性ポリブタジエンの製造) ベンゼン280部に、第3表に示す種類のエポキシ化P
Bl42部および第3表に示す種類と量のモノエステル
化合物を添加し、さらに2,6−ジ第3ブチル−パラ−
クレゾール0.8部およびトリエチルベンジルアンモニ
ウムクロライド0.8部を添加した後、混合液を75℃
で8時間(ただし、実験番号M−6の実験では4時間)
反応させた。
After the reaction, unreacted 2-hydroxyethyl acrylate was removed by vacuum distillation, and the absorption peaks of the carboxylic acid ring of the aromatic carboxylic anhydride (1770 cm, 1850 cm) were determined by infrared absorption spectroscopy. A monoester compound was obtained.The yield of this monoester compound is shown in Table 2.Reference Example 3 (Production of modified polybutadiene) Epoxidized P of the type shown in Table 3 was added to 280 parts of benzene.
42 parts of Bl and a monoester compound of the type and amount shown in Table 3 were added, and further 2,6-di-tert-butyl-para-
After adding 0.8 parts of cresol and 0.8 parts of triethylbenzylammonium chloride, the mixture was heated to 75°C.
8 hours (4 hours for experiment number M-6)
Made it react.

実験番号M−1の場合を除き反応終了後、反応混合液に
第3表に示す量の塩化水素(2規定メタノール溶液)ま
たは蟻酸を加えて、塩化水素付加の場合は25℃で約2
時間、蟻酸付加の場合は50℃で約10時間反応させた
。反応終了後水洗し、ついで低沸点物を減圧蒸留によつ
て除去して変性ポリブタジエンを含む混合物が得られた
。変性ポリブタジエンの、モノエステル化合物の付加数
、塩化水素または蟻酸の付加数および変性ポリブタジエ
ンを含む混合物の組成と粘度を第3表に示す。参考例3
で得られた第4表に示す量の、変性ポリブタジエンを含
む混合物に、第4表に示す種類と量の光重合性単量体お
よび変性ポリブタジエンを含む混合物と光重合性単量体
との合計量100部に対し5部のベンゾインメチルエー
テルを配合して、光硬化性組成物を調製した。
After the completion of the reaction, except for experiment number M-1, add hydrogen chloride (2 N methanol solution) or formic acid to the reaction mixture in the amount shown in Table 3, and in the case of hydrogen chloride addition, add about 2
In the case of formic acid addition, the reaction was carried out at 50° C. for about 10 hours. After the reaction was completed, the mixture was washed with water, and then low-boiling substances were removed by vacuum distillation to obtain a mixture containing modified polybutadiene. Table 3 shows the number of monoester compounds added, the number of hydrogen chloride or formic acid added to the modified polybutadiene, and the composition and viscosity of the mixture containing the modified polybutadiene. Reference example 3
To the mixture containing the modified polybutadiene in the amount shown in Table 4 obtained in Table 4, add the photopolymerizable monomer of the type and amount shown in Table 4 and the mixture containing the modified polybutadiene and the photopolymerizable monomer. A photocurable composition was prepared by adding 5 parts of benzoin methyl ether to 100 parts.

得られた光硬化性組成物の粘度,光硬化乾燥性,および
光硬化物の鉛筆硬度,密着性,耐屈曲性,デユポン衝撃
強度および耐水性を第4表に示す。参考例 4 (変性ポリブタジエンの製造) 参考例1の実験番号E−1で用いたのと同じ種類の液状
ポリブタジエン100部をベンゼン170部に添加し、
さらに30%濃度の過酸化水素水溶液209部を添加し
、得られた懸濁液に95%硫酸1部を加えた後、撹拌下
に660部の酢酸を添加した。
Table 4 shows the viscosity and drying properties of the photocurable composition obtained, and the pencil hardness, adhesion, bending resistance, Dupont impact strength and water resistance of the photocured product. Reference Example 4 (Manufacture of modified polybutadiene) 100 parts of liquid polybutadiene of the same type as used in Experiment No. E-1 of Reference Example 1 was added to 170 parts of benzene,
Further, 209 parts of a 30% hydrogen peroxide aqueous solution was added, and after adding 1 part of 95% sulfuric acid to the resulting suspension, 660 parts of acetic acid was added with stirring.

その後約35℃で12時間反応させ、反応終了後反応液
を放冷後水洗し、ベンゼンを減圧蒸留によつて除去し、
酢酸が付加したエポキシ化PBllO部を得た。この酢
酸が付加したエポキシ化PBの酢酸付加数0.07個(
ブタジエン構成単位当り、以下同じ)、エポキシ基の数
0.18個、粘度31000CP(30℃)であつた。
得られた酢酸が付加したエポキシ化PB2O部、参考例
2の実験番号R−1で得られたモノエステル化合物(P
HEA)17.4部、2,6−ジ第3ブチル−パラ−ク
レゾール0.2部および゛トリエチルベンジルアンモニ
ウムクロライド0.2部をベンゼン50部に添加し、撹
拌下に約70℃で10時間反応させた。反応終了後ベン
ゼンを減圧蒸留によつて除去して変性ポリブタジエンを
含む混合物37.6部が得られた。この変性ポリブタジ
エンの、モノエステル化合物(PHEA)の付加数0.
08個、酢酸の付加数0.07個、変性ポリブタジエン
を含む混合物の粘度41000CP(30℃)であり、
変性ポリブタジエンを含む混合物の組成は、混合物10
0重量部中、変性ポリブタジエン74部、モノエステル
化合物26部であつた。実施例 15 参考例4で得られた変性ポリブタジエンを含む混合物1
00部を用いた他は実施例1と同様に実施した。
Thereafter, the reaction was carried out at about 35°C for 12 hours, and after the reaction was completed, the reaction solution was allowed to cool, washed with water, and benzene was removed by vacuum distillation.
An epoxidized PBllO portion to which acetic acid was added was obtained. The number of acetic acids added to the epoxidized PB to which this acetic acid was added is 0.07 (
The number of epoxy groups was 0.18 per butadiene structural unit (the same applies hereinafter), and the viscosity was 31,000 CP (30° C.).
The obtained epoxidized PB2O portion to which acetic acid was added, the monoester compound obtained in Experiment No. R-1 of Reference Example 2 (P
17.4 parts of HEA), 0.2 parts of 2,6-di-tert-butyl-para-cresol, and 0.2 parts of triethylbenzylammonium chloride were added to 50 parts of benzene, and the mixture was stirred at about 70°C for 10 hours. Made it react. After the reaction was completed, benzene was removed by vacuum distillation to obtain 37.6 parts of a mixture containing modified polybutadiene. The number of monoester compounds (PHEA) added to this modified polybutadiene is 0.
08, the number of additions of acetic acid is 0.07, and the viscosity of the mixture containing modified polybutadiene is 41000 CP (30 ° C.),
The composition of the mixture containing modified polybutadiene is Mixture 10
Of the 0 parts by weight, 74 parts of the modified polybutadiene and 26 parts of the monoester compound were contained. Example 15 Mixture 1 containing modified polybutadiene obtained in Reference Example 4
The same procedure as in Example 1 was carried out except that 00 parts were used.

得られた光硬化性組成物の、粘度1200CP(30℃
)、光硬化乾燥性30m/Min、および光硬化物の、
鉛筆硬度H、密着性100(アルミニウム板)、100
(プラスチツタ板)、耐屈曲性2mmφ、デユポン衝撃
強度150(500g×1/2″″×Cm)、耐水性○
であつた。比較例 1 変性ポリブタジエンを含む混合物M−2にかえて変性ポ
リブタジエンを含む混合物M−1を146部用いた他は
実施例1と同様に実施した。
The resulting photocurable composition had a viscosity of 1200 CP (30°C
), photocurable drying property 30m/Min, and photocured product,
Pencil hardness H, adhesion 100 (aluminum plate), 100
(Plastic ivy board), bending resistance 2mmφ, Dupont impact strength 150 (500g x 1/2'' x Cm), water resistance ○
It was hot. Comparative Example 1 The same procedure as in Example 1 was carried out except that 146 parts of the mixture M-1 containing modified polybutadiene was used instead of the mixture M-2 containing modified polybutadiene.

光硬化性組成物の粘度250CP(30℃)、光硬化乾
燥性10m/Min、光硬化物の鉛筆硬度HB、密着性
(アルミニウム板)80、耐屈曲性2mmφ、デュポン
衝撃強度80(500g×1/2″″×Cm)、耐水性
xであつた。比較例 2 分子量1530、粘度800CP(30℃)、ミクロ構
造1,2;54%、シス一1,4;37%、トランス1
,4;9%を有する液状ポリブタジエンを参考例1と同
様にエポキシ化して得られたエポキシ化ポリブタジエン
のブタジエン構成単位当りエポキシ基の数が0.06個
であるエポキシ化ポリブタジエン100部、メタクリル
酸12部およびハイドロキノン0.1部をベンゼン20
0部に加えた後、混合液を60℃で3時間反応させた。
Viscosity of photocurable composition 250CP (30°C), photocuring drying property 10m/Min, pencil hardness HB of photocured product, adhesion (aluminum plate) 80, bending resistance 2mmφ, DuPont impact strength 80 (500g x 1 /2″″×Cm), and the water resistance was x. Comparative Example 2 Molecular weight 1530, viscosity 800CP (30°C), microstructure 1,2; 54%, cis-1,4; 37%, trans-1
, 4; 100 parts of epoxidized polybutadiene having 0.06 epoxy groups per butadiene constituent unit of the epoxidized polybutadiene obtained by epoxidizing liquid polybutadiene having 9%, methacrylic acid 12 part and 0.1 part of hydroquinone in 20 parts of benzene.
After adding 0 parts, the mixture was reacted at 60° C. for 3 hours.

反応終了後ベンゼンおよび未反応のメタクリル酸を減圧
蒸留によつて除去して反応生成物105部を得た。この
反応生成物100部に1,3−ブチレングリコールジア
クリレート10部およびベンジル1部を配合して、光硬
化性組成物を得た。この光硬化性組成物は粘度4000
CP(30℃)であり、光硬化乾燥ベルト送り速度5m
/Minでも硬化しなかつた。比較例 3 2−ヒドロキシエチルアクリレート58部と無水フタル
酸74部との混合物に、トリエチルベンジルアンモニウ
ムクロライド2部、ハイドロキノン0.1部およびアン
トラキノン0.1部を加え、110℃で5時間反応させ
たモノエステル化合物を合成した。
After the reaction was completed, benzene and unreacted methacrylic acid were removed by vacuum distillation to obtain 105 parts of a reaction product. 10 parts of 1,3-butylene glycol diacrylate and 1 part of benzyl were blended with 100 parts of this reaction product to obtain a photocurable composition. This photocurable composition has a viscosity of 4000
CP (30℃), photocuring drying belt feeding speed 5m
/Min was not cured. Comparative Example 3 2 parts of triethylbenzylammonium chloride, 0.1 part of hydroquinone, and 0.1 part of anthraquinone were added to a mixture of 58 parts of 2-hydroxyethyl acrylate and 74 parts of phthalic anhydride, and the mixture was reacted at 110°C for 5 hours. A monoester compound was synthesized.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 数平均分子量が500〜5000であり、粘度(3
0℃)が20〜10000である液状ポリブタジエンを
エポキシ化して得られるエポキシ化ポリブタジエンに、
(イ)ヒドロキシアルキル基を含有する(メタ)アクリ
レートと芳香族カルボン酸無水物との反応生成物である
モノエステル化合物、および(ロ)塩化水素または脂肪
族低級カルボン酸を、エポキシ化ポリブタジエンのブタ
ジエン構成単位当り、(イ)を0.03〜0.2個かつ
(ロ)を0.05〜0.3個付加させて得られる変性ポ
リブタジエン100重量部、光重合性単量体30〜20
0重量部および光増感剤0.5〜15重量部を含有して
なる光硬化性を有する変性ポリブタジエン組成物。
1 Number average molecular weight is 500 to 5000, viscosity (3
Epoxidized polybutadiene obtained by epoxidizing liquid polybutadiene with a temperature of 20 to 10,000 (0°C),
(a) A monoester compound which is a reaction product of a (meth)acrylate containing a hydroxyalkyl group and an aromatic carboxylic acid anhydride, and (b) hydrogen chloride or an aliphatic lower carboxylic acid, and a butadiene of epoxidized polybutadiene. 100 parts by weight of modified polybutadiene obtained by adding 0.03 to 0.2 of (a) and 0.05 to 0.3 of (b), and 30 to 20 parts of photopolymerizable monomer per structural unit.
A photocurable modified polybutadiene composition containing 0 parts by weight and 0.5 to 15 parts by weight of a photosensitizer.
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