JPS5943061A - Stabilized synthetic resin composition - Google Patents

Stabilized synthetic resin composition

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JPS5943061A
JPS5943061A JP15485082A JP15485082A JPS5943061A JP S5943061 A JPS5943061 A JP S5943061A JP 15485082 A JP15485082 A JP 15485082A JP 15485082 A JP15485082 A JP 15485082A JP S5943061 A JPS5943061 A JP S5943061A
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butyl
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tert
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Ii Raisunaa Uiriamu
ウイリアム・イ−・ライスナ−
Yutaka Nakahara
豊 中原
Naohiro Kubota
直宏 久保田
Jun Nishimura
純 西村
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Abstract

PURPOSE:To provide the titled compsn. excellent in resistance to light, by incorporating a specific compd. with synthetic resins. CONSTITUTION:A compd. of formula I is reacted with 2,4-dihydroxy-benzophenones or 2,4-dihydroxyphenylbenzotriazoles to yield a glycol of formula II, which is then reacted with a dicarboxylic acid (lower alkyl ester), isocyanates, or carbonic acid diesters to yield compds. of formula III (wherein X is formula IV, formula V, etc.; Y is carbonyl, diacyl, dicarbamoyl; A is H, acyl, R3-O-Y-; B is formula VI, formula VII; Z is formula VIII, formula IX; R1 is H, alkyl, halogen; R2 is lower alkyl; R3 is alkyl, aryl; n is 1-30). Thereafter, 0.001-10pts.wt. said compd. is incorporated with 100pts.wt. synthetic resin (e.g., PE).

Description

【発明の詳細な説明】 □本発明は光の効果に対して安定化され□た合成□樹脂
□組成物、さちに詳し≦は、同一分子・中に2゜2.6
.6−チトラメチルビペリジル基と2−ヒドロキシベン
ゾフェノン−4−イル基を有する挑分子讐□化合物□を
含有す右こ□とによ′づて耐光性の改善された合成樹脂
組成物に関す名。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention provides a synthetic resin composition stabilized against the effects of light, in which 2°2.6% of the same molecule is present.
.. Concerning a synthetic resin composition with improved light resistance by containing a challenger compound □ having a 6-titramethylbiperidyl group and a 2-hydroxybenzophenon-4-yl group given name.

1つ、                 −2−ボリ
エf、L/ン、ボ、リズ、ロビレン、ABβ樹脂、l’
、lj。
1, -2-Borie f, L/n, Bo, Liz, Robylene, ABβ resin, l'
,lj.

ポリ塩化トール等(7) 、竺、!、、体は一般に光の
効果に対し敏感で0、そめ’h翔によシ砺イ□ヒし:、
””l”=”s” ”:”1あるいは強度の低下、等を
引き:起こし、長期の使 ・用に耐えないことが知られ
ている。
Polychloride tol, etc. (7), ! ,,The body is generally sensitive to the effects of light.
"l" = "s"":" 1 or it is known to cause a decrease in strength, etc., and not be able to withstand long-term use.

そこでこの光によ五重一体、の劣化を防止する1ま ために、従来から種々の安定剤が用いられてきたがζ従
莱用いられてきた光安定剤はその安定化効果が不充分で
あシ、また責定則自体が熱あるいは酸化に対して不安定
下アったり1.水等、の溶剤によ2て重合体から抽出、
ちれやすいものが多く、さらに、重、合体、に着色を与
えるものが多い等の欠点を持っておシ、重合体を長期に
わたって安定化することができ、なかった。
Therefore, in order to prevent the deterioration of the five-fold element due to this light, various stabilizers have been used in the past, but the stabilizing effect of the light stabilizers that have been used is insufficient. Also, the liability rule itself is unstable due to heat or oxidation.1. Extraction from the polymer with a solvent such as water,
Many of them tend to break easily, and furthermore, many of them polymerize, coalesce, and give color.However, it has not been possible to stabilize the polymer for a long period of time.

これら従来用いられてきた光′安定剤の中でもヒンダー
ドピペリジン系の化合物は、特漬な効果を有しておシ近
年特に注目されている。また、2−ヒドロキシフェニル
ベンゾトリアゾール類及び2−ヒドロキシ寅ンゾフエノ
ン類は紫外線吸収剤として作用する有用な光安定剤であ
り1、、、東次、ヒンダー:パビベリジン系の光安定剤
と併用した帯金に相剰的な安定化効果が得られると、1
.1 :1111 1 “ども知られている。
Among these conventionally used photostabilizers, hindered piperidine compounds have attracted particular attention in recent years because of their unique effects. In addition, 2-hydroxyphenylbenzotriazoles and 2-hydroxytorinzophenones are useful light stabilizers that act as ultraviolet absorbers. If a additive stabilizing effect is obtained, 1
.. 1:1111 1 “Everyone is known.

゛・、′近年、同−分子中に紫外線吸収性基とヒンダ胃
」猜ピペリジ<懸結合さ誓←とが蔽みられている。
゛・,'Recently, it has been observed that the same molecule contains an ultraviolet absorbing group and a ``pendant bond''.

例えば特開昭55−49.355号公報にはベンゾ、)
1,17Y、−ルまたは2ニヒ、ドロキシベン/、フェ
ノンとポリアルキルビベ、す、ジ、<との分子結傘物が
提案されている。
For example, Japanese Patent Application Laid-open No. 55-49.355 describes benzo,
Molecular conjugates of 1,17Y, - or 2, droxyben/phenone and polyalkyl bibe, su, di, < have been proposed.

しかしながら1.該化合物は光安定化能が不充分であり
、ま、た、比較的低分子量化合物である為に、ポリマー
の高温加工時に揮散したワ、□水ああいは有機酸痢゛に
、よって抽出されてしまう等の欠点があり、実用上不満
足なものであった。
However, 1. This compound has insufficient photostabilizing ability and is a relatively low-molecular-weight compound, so it is not easily extracted by water or organic acidosis due to volatilization during high-temperature processing of polymers. However, this method has drawbacks such as the fact that it is unsatisfactory in practical use.

本発明者等は、光安定□化能に優れ、また揮発性、耐水
性等の良好な化、合一を見い出すべく鋭意検討を重ねた
結果N−2,5−エポキシプロビルピペリ″ムンM、!
:21’4−ジ−ヒドロキシベンゾフェノン類おるいは
2.4−ジヒドロキシペンツトリアゾール類との付加物
、のポリカーボネート、ポリエステルまたシポリウレタ
ン誘導体が良好な性能を有することを見い出し、本発明
を完成したものである。
The inventors of the present invention have conducted intensive studies to find a combination of excellent photostability, volatility, and water resistance, and as a result, N-2,5-epoxypropylpiperi M,!
It was discovered that polycarbonate, polyester or polyurethane derivatives of adducts with 21'4-di-hydroxybenzophenones or 2,4-dihydroxypenztriazoles have good performance, and the present invention was completed. It is.

即ち本発明は、合成樹脂100重量部に、次の一般式(
1)で表わされるイi合物0. OO1〜10重量部を
添扁してな鼠安門化門′i′、f=′合成樹□脂□組成
物を提供するものである。
That is, in the present invention, the following general formula (
1) Compound i represented by 0. A synthetic resin composition is provided by adding 1 to 10 parts by weight of OO.

一□    ニル基、ジアシル基またはジカルバモイ□
ル基を示す・Aは水素原子・ア、イ、−基!た。憾、句
、−〇−7−を示す。!3は一層−R3,’。
□ Nyl group, diacyl group or dicarbamoy □
・A is a hydrogen atom ・A, I, - group! Ta. Indicates regret, phrase, -〇-7-. ! 3 is more -R3,'.

:1            −・−−44アルキル基
またはハロゲン原子を示す。R2は低級アルキル基を示
す。R5はアルキル基またはアリール基を示す□。nは
1〜5oを示す、)以下本発明で用いられる前記一般式
(1)で表わさ五る□化合物について詳述する。
:1 ---44 represents an alkyl group or a halogen atom. R2 represents a lower alkyl group. R5 represents an alkyl group or an aryl group. (n represents 1 to 5o.) The □ compound represented by the general formula (1) used in the present invention will be described in detail below.

R1で表わされるアルキ、ル、!フしてはメチル、・エ
チル、プロピル、イソプ四ビル、ブチル、第3ブチル、
□ヘキシル□、オクチル、ノニル、ドデシル、オクタデ
シ違等があげられ、ハロゲン原子としては塩素、臭率及
び沃宰があげられる。
Alki, Ru,! represented by R1! Methyl, ethyl, propyl, isoptevir, butyl, tert-butyl,
Examples of the halogen atoms include □hexyl□, octyl, nonyl, dodecyl, and octadecyl, and examples of halogen atoms include chlorine, odor, and odor.

R2で表わされる低級アルキル基としては、メA−−6
− チル、エチル、プロピル、イノプロピル、ブチル、゛イ
ソブチル、第2し°チル等があげられる。
The lower alkyl group represented by R2 is meA--6
- Examples include ethyl, ethyl, propyl, inopropyl, butyl, isobutyl, and ethyl.

R3で表わされるアルキル基として―メチル、エチル、
プロピル、イノプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル
、オクチル、2−エチルヘキシル、ノニル、デシル、ド
デシル、テトラデシル、オフタデクル、ベンジル、フェ
ネチル、シレニヘキシル、メトキシエチル、エトギシェ
チル、ブトキシエチル、メトキシエトキシ□エチル、ブ
トキシエチル等があげられ、アリール基としてはフェニ
ル、トリル、キシリル、第3ブチルフエニル、ジ第3ブ
チルイエニル、オクチルフエAで表わされるアシル基と
゛しては次□に示すカルボン酸からのアシル基があげら
れる。すなわち、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ピ
バリン酸、オクチル酸、ラウリン酸、バルミチン酸、ス
テアリン酸、アク□リル酸、クロトン酸、オレイン酸、
アセト酢酸、レブリン−1,トルビン酸、ケトステアリ
ン酸、アミ゛ノ酢酸、ドデフルメルカブトプロビオン酸
、□ 3,5−ジー第3プチルニ4−ヒドロ代シジエg
kプロピオン酸、安息香酸、トルイル□酸、4−第5ブ
チ、′/L−安71酸、、、5゜5−ジー第3ブチル六
4.−□ヒト□ロキシ安息香酸、ニコチン酸、イソニコ
チン酸、3−第3ブチル−4−ヒドロキシ=5−メチル
フェニルプロピオン酸からi4′さ五るテシー基があげ
られる。
As the alkyl group represented by R3 - methyl, ethyl,
Propyl, inopropyl, butyl, pentyl, hexyl, octyl, 2-ethylhexyl, nonyl, decyl, dodecyl, tetradecyl, oftadecyl, benzyl, phenethyl, sirenyhexyl, methoxyethyl, ethoxyethyl, butoxyethyl, methoxyethoxy□ethyl, butoxyethyl, etc. Examples of the aryl group include phenyl, tolyl, xylyl, tert-butylphenyl, di-tert-butylphenyl, and octylphene A. Examples of the aryl group include acyl groups derived from carboxylic acids shown in the following □. Namely, formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, pivalic acid, octylic acid, lauric acid, valmitic acid, stearic acid, acrylic acid, crotonic acid, oleic acid,
Acetoacetic acid, levulin-1, torbic acid, ketostearic acid, aminoacetic acid, dodeflumercabutoprobionic acid, □ 3,5-di-tert-butyl di-4-hydrosildiyl group
K-propionic acid, benzoic acid, toluyl □ acid, 4-5-butyl, '/L-an71 acid, 5゜5-di-tert-butyl 64. -□human□roxybenzoic acid, nicotinic acid, isonicotinic acid, and 3-tert-butyl-4-hydroxy=5-methylphenylpropionic acid.

Yで表わされるジアシル基としてはシ千つ酸、マロン酸
、コハク酸、□グルタル酸、アジピン酸、セパチン酸、
ドデカンニ酸、エイコサンニ酸、酒石酸・w9イア酸・
 7り、酸・イ2フ“酸・テレフ、タル酸、:イミノジ
酢−1..チ第1ジ、プロでオン酸、ジグリコール酸、
テトラ、勢ドb、フタ元酸、エンドメチレンテトラ、ヒ
ドロ□フ、タル、酸、チオフェンジカルボン酸、フラン
ジカルボン酸、ジカルボキシ−τ−ビ、ペラジンから□
誘導されるジアシル基があげられ、ジヵルバモイル基と
しては、ジフェニルメタンジイソシアネー□ト、二キサ
メチレンジイソシアネート、・リジジジイソシアネート
、フェニルジイソンアネート、トリレンジイソシアネー
ト、ジフェニルエーテルジイソどアネート・キシリレン
ピイソシア$’−)、3フイソシアナトメチル−3,5
,5−トij□メチルシンロヘキシルイソシアナート、
ニス(インシア;トメチル)シクロヘキサン、3  (
2’−’l:/シアナトシクロヘキシル)プロピルイソ
シア4−ト等の二価イソシアネ、−トから鱒導され・る
カル従って、本発明で周部ら、れる前誓己i般式(I)
でバモイル基があげられる。
The diacyl group represented by Y includes citric acid, malonic acid, succinic acid, □glutaric acid, adipic acid, cepatic acid,
Dodecanniic acid, eicosanniic acid, tartaric acid, w9 iaic acid,
7. Acid, acid, tereph, taric acid, : imino diacetic acid - 1.. 1 di, professional acid, diglycolic acid,
From tetra, sedo b, phthalic acid, endomethylenetetra, hydro, tal, acid, thiophenedicarboxylic acid, furandicarboxylic acid, dicarboxy-τ-bi, perazine□
Examples of the diacyl group derived include diphenylmethane diisocyanate, dixamethylene diisocyanate, lydidiisocyanate, phenyldiisonanate, tolylene diisocyanate, diphenyl ether diisoanate, xylylene piisocyanate, etc. $'-), 3-physocyanatomethyl-3,5
,5-toij□methylsinlohexyl isocyanate,
Varnish (incia; tomethyl)cyclohexane, 3 (
Therefore, in the present invention, compounds derived from divalent isocyanates such as 2'-'l:/cyanatocyclohexyl)propyl isocyanate, etc., and the general formula (I)
The bamoyl group is mentioned.

表          、1 本妬明ヤ用いられる前記一般式(1)Lc表わされわさ
れ本化合物と、2,4−ジヒドロキシベンシラ五ル類漬
たは2,4−ジヒドロキシフェニルベンシトリアン−元
類を反応させることに工つれるグリコールをジカルボン
酸お乞いはその低級アルキルエステル、ジイソシアネー
ト類、炭酸ジ土ステル類f反地せしめることによって容
易に製造するどとができる。
Table 1: The compound represented by the general formula (1) Lc used in the present invention and the 2,4-dihydroxybensilagor group or 2,4-dihydroxyphenylbencitrian group. Dicarboxylic acids can be easily produced by reacting glycols with lower alkyl esters, diisocyanates, and carbonic acid esters.

次に本発明で用いられる化合物の具体的な合成例を記す
が、5本発明はこれらの合成例によう七制限を受けるも
のではない。□ 合成例□        □       □表−1.
Na1化合物の合成 2.4−−)ヒドロキシベンゾフェノン4.52 f。
Next, specific synthesis examples of the compounds used in the present invention will be described, but the present invention is not limited to these synthesis examples. □ Synthesis example □ □ □Table-1.
Synthesis of Na1 Compound 2.4-)Hydroxybenzophenone 4.52 f.

1’−(2,3−エボキシプ占しル) −2,2,6′
二6」テトラメール−4−ヒドロキシピペリジン4.2
6F、  1.o7規是カリウム−t−ブトキサイド1
−ブタノール溶液1.5f及びプソイドクメンBOml
をとり、7時間加熱還流した。
1'-(2,3-epoxypyl) -2,2,6'
26” Tetramer-4-hydroxypiperidine 4.2
6F, 1. o7 is potassium t-butoxide 1
-butanol solution 1.5f and pseudocumene BOml
The mixture was heated under reflux for 7 hours.

□水洗、乾燥後不溶物を戸別し、冷蔵庫中に一夜放置し
、黄色粉末の生成物を得た。    □元素分析、赤外
外光分析の結果次式ヤ表わされる盛立はドロキシ−4’
[2−ヒドロキシ−3−(2,2’y6t6−テトラメ
チル−4−ヒトpキジピペリジン−1−イル)〕プロポ
キシベンゾフェノンであることが確認された。
□ After washing with water and drying, the insoluble matter was removed from the house and left in the refrigerator overnight to obtain a yellow powder product. □As a result of elemental analysis and infrared light analysis, the embellishment expressed by the following formula is droxy-4'
It was confirmed to be [2-hydroxy-3-(2,2'y6t6-tetramethyl-4-human p-quidipiperidin-1-yl)]propoxybenzophenone.

上記化合物1.72f、コノ・り′酸ジエチル0.70
■  2、ヶ4.イ22゜1.f2あ−4.。、。52
.1プンイ[゛クメン10mgをとり、iii*気流下
7・蒔1   □l1131i Lえ。
The above compound 1.72f, diethyl conophosphate 0.70
■ 2, month 4. I22゜1. f2a-4. . ,. 52
.. 1 Punyi [゛Take 10mg of cumene, iii*Airflow Downa 7・Maki 1 □l1131i Le.

生成した淡褐色の沈澱物を戸別、乾燥し、軟化点1′7
0〜205′℃の淡黄色粉末の生成物を得た。
The light brown precipitate formed was dried individually and the softening point was 1'7.
The product was obtained as a pale yellow powder with a temperature of 0-205'C.

分午曹 約4,000 IR1595譚−1,16′10釧、 1725m  
   □:本発萌は前記一般式(I)で表わされる花台
物を合成樹脂に添7J′iL、てその耐光性を改善子る
起の    :′であシ、゛そめi加量は、通常、□合
成樹脂100*′□i部に対しo、 a o 1′〜1
0重景部、好ま゛しくは     ′1d、01〜に蓋
置部でお暮。     □−□本廃明における耐光性数
種の対象と雇る合成樹脂としては、例えば、ポiJエチ
レン、ボリア1′ロビレン、ポリブテン、ポリ−3−メ
チルブチ    □ン、などめαニオレフイレ電合体ま
たはエチし     □ンー酢酸ビニル共−合体、エチ
レンーンロビレ     1ジ、。*#4.!’om+
Jオウ、イ、7およヶ、、ユゎ、     □あ共電合
体、ポリー化ビ孟ル、ポリ臭花ビール、    □1余
りフレ化壱ニル、ポリ塩4ヒビ呈リデレ、i::11゜
化ポリエチレン、−素化ボ+jプ占ビレレ、ポリ   
 □::フツソイヒビ=す≠ジ、臭素化ボリーチレン、
□塩    “花斗ム、′蝋化会−λ−酢一一==λ共
重谷体、□塩    □イしビニルニエチレシ共蓋合4
、塩化−二ループ畝ビレ、共重谷体、゛塩化会盃、−艮
チレン共門:′!体、1.塩化ビニルーイソプtレン恭
重含体、塩化ビニル−塩化ビニ、リデン恭重刺船塩化ぐ
二A−スチレイ」蕪氷マ“レイン酸三元共重合体、塩化
ビニル一部テレンーアクリロニトリル共重合体、塩化ビ
ニループタジ、エン共重倉体、塩化ビニル−インプレ/
、:t!:重合体、塩化ビニル−塩素化プロピレン共重
合体、塩化ビニル−塩些ビニリデンー酢酸ビ、ニル三元
共蓋合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重合体、
塩化ビニル−マレイン酸千うチル共重合体、塩化ずニル
−メタクリル等ウスチル共重合体、塩化ビニルーアクリ
ロニトリノヒ共重倉体い、内部可塑化ポリ塩化ビニルな
どの含ハロ:ゲン合成樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂1
.チリ、スチレ、ン1.ボ’)、 rQQ10チル、ア
クリル竺脂、スチ、レンと他の単量体(揶え、ば無水マ
レイン酸1.フリジエン、7冬リヮ、−F−・トリルな
ど)との共重合体、アクリロニトリル、−ブタジェン−
スチレン共重合体、アクリル酸エステル−ブタジェン−
スチレン共重合体、メイクリル酸エステルーブタジェン
−、スチレ<共i 合レート樹脂、ポリてニルア、ル、
コ、アル、:ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラ
ール、直鎖ポリエステル、ポリフェニレンオキシド、ポ
リアミド、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリウ
レタン、繊維素系樹脂、あるいはフェノール樹脂、ユリ
ア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエス
テル樹脂、□シリコーン樹脂などを挙げるととができる
8閃に、イソイレンゴム、ブタジェンゴム、アクリロニ
トリル−ブタジェン共重合ゴム、スチレン−ブタジェン
共重合ゴムなど?ゴム類やこれら、の樹脂のブレンド品
゛であつそもよい。
Bunpo Cao Approximately 4,000 IR1595 Tan-1,16'10 Sen, 1725m
□: The present invention is based on the addition of a flower stand represented by the general formula (I) to a synthetic resin to improve its light resistance. , □ Synthetic resin 100 *' □ o, a o 1' to 1 for i part
Place it in the 0-layered view section, preferably in the lid rest section. □-□Synthetic resins that are used as light resistance targets in this paper include, for example, polyJ ethylene, boria 1'robylene, polybutene, poly-3-methylbutylene, etc. □ - Vinyl acetate co-polymerization, ethylene-vinyl acetate co-polymerization, ethylene-vinyl acetate co-polymerization. *#4. ! 'om+
J Ou, I, 7 Oyoga,, Yuwa, □A Kyoden combination, poly vinyl, poly odor flower beer, □ 1 extra fluoride, poly salt 4 cracking ridele, i::11 Polyethylene chloride, -chlorinated polyethylene, polyurethane, polyethylene
□::Futsusoi crack=su≠di, brominated polyethylene,
□Salt “Hanatomu, 'Rokakai-λ-Vinegar 11==λ Co-polytani body, □Salt □Ishi vinyl nitrate with both lids 4
, chloride-two-loop fin, co-heavy valley body, ゛chloride cup, - 艮Chiren comon:'! Body, 1. Vinyl chloride-isopropylene copolymer, Vinyl chloride-vinyl chloride, Liden Kyo-jusashifune chloride 2A-styrene, Kahyomaleic acid terpolymer, Vinyl chloride partially terene-acrylonitrile copolymer, Vinyl chloride looptadi, enco heavy chloride, vinyl chloride-impre/
, :t! : Polymer, vinyl chloride-chlorinated propylene copolymer, vinyl chloride-chlorinated vinylidene-vinyl acetate, vinyl ternary conjugated polymer, vinyl chloride-acrylic acid ester copolymer,
Halogen-containing synthetic resins such as vinyl chloride-thousyl maleate copolymer, tinyl chloride-ustyl chloride copolymer such as methacryl, vinyl chloride-acrylonitrinohylene copolymer, internally plasticized polyvinyl chloride, Petroleum resin, Kumaron resin 1
.. Chili, styrene, n1. copolymer of rQQ10 tyl, acrylic resin, styrene, ren and other monomers (for example, maleic anhydride 1.furidiene, 7 winter liw, -F- tolyl, etc.), Acrylonitrile, -butadiene-
Styrene copolymer, acrylic acid ester-butadiene-
Styrene copolymer, styrene copolymer, styrene copolymer, polyethylene chloride,
Co, Al: Polyvinyl formal, polyvinyl butyral, linear polyester, polyphenylene oxide, polyamide, polycarbonate, polyacetal, polyurethane, cellulose resin, or phenol resin, urea resin, melamine resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, Among the silicone resins that can be found are isoylene rubber, butadiene rubber, acrylonitrile-butadiene copolymer rubber, styrene-butadiene copolymer rubber, etc. Rubbers and blends of these resins can also be used.

また、過酸化物あるい悴放射、、−等二よ;て架橋させ
た架橋ポリエチレン等の′架橋重谷体及び9発泡重“合
□体も包含され!。 、′、。
Also included are cross-linked polymers such as cross-linked polyethylene and 9-foamed polymers cross-linked with peroxides, peroxides, etc.

本発明め組成物にさらにフェノール系の抗酸化剤、を□
添加することによ、つて酸化安定性を楓善す□ること□
ができ机 これ轡のフェノ一層系抗酸化剤としてはたと
えば、2,6−ジー第3ブチ、11 ルーp−クレゾール)21.φ−シフ、エニ/I/74
−オクタでシロキ汐フェノール、ステ:7リルー1 (3,5ジーメ、チ化−1−ヒドロ:、キど1ンジル)
チオグリコレ−、ト、ステアリル−β−(4−ヒドロキ
、、シー3,51−ジー第3ブチルフェニル)プロピオ
ネート、ジステ、ア、リルー、、3.,5−ジー第3、
ブチル−4−ヒト:ロキシベンジルホス夾ネート、2,
4.6−、)シス(5/ 、 、、5/−ジー第3ブチ
を一4′−ヒドロヤシベイジルチオ)−1,5,5−ト
リアシン1.ビ子で7リル(4−ヒに°、ロキど−3−
メtルー5−第3ブfly>ベンジルマp4−ト、2,
2′メチ5y<づ(4ニイチルを8第3ブチルイエノー
k ) 1.4,4/−メチレイごス(子、6−ジー第
5プールフエノール入、2.2′−メチレンビ、に、[
6,7、(17メチルシイロヘキシル)p−クビゾール
〕1.〈ス〔そ、5−ビラ(4−、ヒト−キシ−チー第
、仝イチルフエ、二ヶ)ブtリックアシド〕グリコーク
エステル、4.4’−ブチリデンビス(6−第3ブチル
−m−クレゾール)、2.2′−エチリデンビス(4,
6−ジー第6プチルフ千ノール)、2,2′−エチリデ
ンビス(,4−第?ブチルー6−第6プチを7エンール
)、1,1゜3−トリス(2−メチル−4−狛ドロキシ
ー5−第y、ブチルフェニル)ブタン、凸ビスC2−4
83ブチルー4−7!チ化−6−(2−ヒト−キシ−3
=第、3プを化−5−メチクベンジル)、フェニル〕テ
レフタレート、1,3.5− )リス(2,4=ジメチ
ル−3−ヒドロヤシ−4−第5’;ブチル)ベンジルイ
ソ/アメレート、1,3.5− ) リ、;< (5,
5−シー第37”チル−,4−ヒドロキシベンジル) 
−2,4,6−ドリメチルベン:イン、テトラキス〔メ
チレン−仝−(s、5.−ジー第3ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル)グロビオネ−1)メ、タン、1,3,5
−、l’リス(3,5−ジー第3ン0チル=、愕二ヒド
ロキシベンジル)インシアヌレート、1:yL5−トリ
ス(:(s、5−ジー第3ブt々−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロピオニk 、i’ di’ジエチル〕イイン
ア不レコレート−オクチルスス−4,6−ジ(4−鴫ド
ロキシ−3,5,−ジー第3プチル)フェノキシ=1.
...3 、5−トリアジン、4..4’−チオビス(
6−第、3ブチ、ルーm−タビゾール)ナトのフェノー
ル類及び4,4′−フ:、チリデンビス(2,−竺3ブ
チルー5−メチルイエノール)の炭酸オリゴエステル、
(例えば重含度2..5 、4.5゜6.7,8..9
,10など)などの多価ンエノ、−ル炭酬オリゴエスチ
ル類があげられる。     。
In addition, a phenolic antioxidant is added to the composition of the present invention.
By adding □ to improve oxidation stability □
Examples of the phenolic single-layer antioxidants include 2,6-dibutylene, 11-p-cresol)21. φ-Schiff, Eni/I/74
- Octasiloxyphenol, Ste: 7 Liru 1 (3,5 dime, Thi-1-hydro:, Kido 1 ndyl)
Thioglycole, stearyl-β-(4-hydroxy, cy-3,51-di-tert-butylphenyl)propionate, diste, a, lilu, 3. ,5-G 3rd,
Butyl-4-human:roxybenzyl phosphonate, 2,
4.6-,)cis(5/,,,5/-di-tertiary-butyl-4'-hydroxybasylthio)-1,5,5-triacin1. Biko de 7 lil (4-hi ni °, loki do-3-
Metlu 5-3rd fly > benzilumat p4-to, 2,
[
6,7, (17methylsilohexyl)p-cubizol]1. <S[So, 5-bira (4-, human-xy-thi-th, hythylph, two) butric acid] glycoke ester, 4,4'-butylidene bis(6-tert-butyl-m-cresol) , 2.2'-ethylidene bis(4,
6-di-6-butylphenol), 2,2'-ethylidenebis(,4-butyl-6-6-butyl-7enyl), 1,1°3-tris(2-methyl-4-komadroxy) 5-th, butylphenyl)butane, convex bis C2-4
83 Butyroux 4-7! -6-(2-human-xy-3)
=3rd, 5-methicbenzyl), phenyl]terephthalate, 1,3.5-)lis(2,4=dimethyl-3-hydroac-4-5'; butyl)benzyliso/americate, 1, 3.5-) ri;< (5,
5-cythyl-,4-hydroxybenzyl)
-2,4,6-drimethylben:yne,tetrakis[methylene-(s,5.-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)globione-1)methane,1,3,5
-, l'Lis(3,5-di-tert-tert-0thyl=,dihydroxybenzyl)in cyanurate, 1:yL5-tris(:(s,5-di-tert-but-4-hydroxyphenyl) ) Propioni k , i'di' diethyl] Iin arecolate-octylsus-4,6-di(4-droxy-3,5,-di-tert-butyl)phenoxy = 1.
.. .. .. 3,5-triazine, 4. .. 4'-thiobis(
6-th, 3-butyl-m-tabisol) phenols and 4,4'-f:, tylidene bis(2,-3-butyl-5-methyl yenol) carbonate oligoester;
(For example, heavy content 2..5, 4.5°6.7, 8..9
, 10, etc.). .

本櫻明の組成物にさらに硫黄系の抗酸化剤を加えてその
酸化安定性の改善をはかることもできる。これらの硫黄
系抗酢化剤としては、例えばジラウリル−、シミリス、
チル−、ジステアリ、:ノヒーなどのジアルキルチオジ
プロピオネート及びブチル−、オ、り、チル−、ラウ、
リルー、ステアリル−などのアル、キルチオプロピオン
酸の多価アルコ、−ル、(例えばグ、リセリン1.トリ
メチロ−。
It is also possible to further add a sulfur-based antioxidant to Sakuramei's composition to improve its oxidative stability. Examples of these sulfur-based antiacetylation agents include dilauryl, similis,
Dialkyl thiodipropionates such as thiol, distearyl, and nohy;
Al, such as lylu, stearyl, polyalcohol of kylthiopropionic acid, -(eg, silyl, lycerin, trimethyl, etc.).

ルエタン、トリメチロ下ルフ、口、ツン1...ツンタ
エリスリトール、トリ、スヒドロキシエ、チルイソシア
ヌレート)のエステル(例えばペンタエリスリ、トニル
テトララウリルもオプロビオネート、)があげられ、る
Ruetan, trimethylo lower rufu, mouth, tsun 1. .. .. Examples include esters of tuntaerythritol, tri-, s-hydroxye, and tylisocyanurate (eg, pentaerythritol, tonyltetralauryl, and oprobionate).

杢発明の組成、物に1.さらにホスファイト等の含リン
化合物を添加することによって、耐光性及び耐熱性を改
善するこ、、とができる。、この含リン化合物としては
1.例えばトリオクチルホスファイト、トリラウリルホ
スファイト、トリデンルホ、スフ:アイニド、オ、久チ
ルージ7工二ルホスファイト、トリス(2,4−ジー第
3プチルフエシル)ホスファイト、トリフェニルホスフ
ァイト、トリ、ス(ブトキシエチル)ホスファイト、ト
リス(ノニルフェニル)ホスファイ、ト、ジステアリル
ベンタエ・リスリトールジホスファイト、、テトラ(ト
リデシル)、−1,1,5−トリス(2ブメチルー、、
5−J、□・3ブチル−4・−ヒドロキシフェニル)ブ
、タンジホスフ、アイト、テトラ(’ CI2〜15混
合フルキル)−at、4’=インプロビリ、、デンジク
エニ、ルジ、ホδファイト、テトラ(トリデシル)−4
,4’−ブ、チリデンビス(3−メチル−6−第3ブチ
ルフエノール)ジホスファイト、トリス(:” s 、
 5、−ジー第3ブチル−4−ヒドロキシ     1
:■ フエニ、ル、)ホスフ、ア、、イト、トリス、(モノや
、ジ混      1合ノニルフェニル)ホスファイト
、水素化−4#47−イツプロビ、リデンジフェノール
ボリホスフ□ァイト、ビδ(オクチルフェニル・)−ビ
ス〔□4,1141ニフチリ:デンビス(3−メチル−
6−轡57”チ7フエノニ逅)〕・、1,6−ヘキサン
シオークジホスフアイト、フエニク:す411’  A
ソプロピ。
1. The composition and product of the heather invention. Furthermore, by adding a phosphorus-containing compound such as phosphite, light resistance and heat resistance can be improved. , as this phosphorus-containing compound, 1. For example, trioctyl phosphite, trilauryl phosphite, tridenulfo, sulfur phosphite, tris(2,4-di-tert-butylfecyl) phosphite, triphenyl phosphite, tris(butoxy) ethyl) phosphite, tris(nonylphenyl) phosphite, distearylbentae lythritol diphosphite, , tetra(tridecyl), -1,1,5-tris(2-bumethyl), ,
5-J. )-4
, 4'-bu, tylidene bis(3-methyl-6-tert-butylphenol) diphosphite, tris(:"s,
5,-di-tert-butyl-4-hydroxy 1
: ■ Phosph, A, Ito, Tris, (mono- and di-mixed nonylphenyl) phosphite, hydrogenated-4#47-itsubrobi, lydendiphenol polyphosphite, biδ( octylphenyl)-bis[□4,1141 nifthyryl:denbis(3-methyl-
A
Sopropi.

リデンジフェノールー、ペシタエリ刻リド、□−ルジ□
1、    ホスファイト、ビス(2,、+−ジー第3
.ブ□チルフ、ノニル)ペンタエリスリト昭、n−M 
永Qアイト:′:ビル(2,6−ジー第3ブチル−4−
メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト
、□トリス〔4,4′−イソブ′口□ピ”す7″/ビス
(2−第:′5ブチルフェノール)〕ホスファイト1.
フ□ニジ□ル・ジイソデシルホ□スファイト、ジ(イニ
ルフ□□、エニル)ペンタ・エリスリトールジホスファ
イト、□トリス(1,3−ジー:ステアロイルオキジイ
ソグロビル)ホスファイト、4.4’−インプ西ビリデ
ンピ、<’、(2−第、3ブチルフエノール)+ジ()
:ニル1フェニル)、ホスファイト、9,10ニシーハ
□イドロー9−オキサ−10−7オスフアフエナンスレ
ンー10−オキサイド、テ、トラキス(2゜4−ジー第
3ブチルフエニル) −4,4’−ヒフエ二ヒ、ンジホ
スホナイトなどがあげられる。
Redendiphenol, peschitaeri, □−ruji□
1, phosphite, bis(2,, +-G 3rd
.. bu□tylph, nonyl) pentaerythritosho, n-M
Long Qite:': Biru(2,6-di-tert-butyl-4-
methylphenyl) pentaerythritol diphosphite, □tris[4,4'-isobutyl 7''/bis(2-th:'5-butylphenol)] phosphite 1.
Nidyl diisodecylphosphite, di(ynylph□□,enyl)penta-erythritol diphosphite, tris(1,3-di:stearoylokidiisoglobil)phosphite, 4.4'- Imp Nishi viridenpi, <', (2-th, tert-butylphenol) + di()
:Nyl-1 phenyl), phosphite, 9,10 Nishiha □ Hydro9-oxa-10-7 Osphenyl-10-oxide, Te, Trakis (2゜4-di-tert-butyl phenyl) -4,4' - Examples include Hifuenihi and Ndiphosphonite.

本発明の組成・、#に他の光安定剤を添加するこよよ、
づ、ヤ。iゆ□bllオ名ユよ781・できる。これら
の光安定剤としてh、”iえil、1′2−ヒト煽キシ
ー4亡メトキシベンシフ1エノン、    12−ビド
□ローV”” 4− n−オクト□キシ々ンゾラ   
  □エノン、”2.2’−ジー□ヒト晶キシ−4」メ
トキシ     :′ベンシフ−ツノ、昼−□ニジεド
ロキレベ“ンゾフ     ;:エノン等のヒト。キン
ベンゾフェ□ノン類、2−:     ′(2′−ヒド
ロキシ−5′−t−ブチル−5′−メチルフェニル)−
5−クロロベンツトリアソール、      □2− 
(2’−ヒドロキシ−3′、5/−ジ−t−ブチルフェ
ニル)−5−クロロベンツトリアソール、2− (2’
−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)1:べ/シトリ
アゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’ 、 5’ 
−シー t−アミルフェニル)ベンツトリアゾール等の
ベンゾトリアゾール類、フェニル? リシレート、p−
t−プチルフェニルサリシレート、2,4−ジ呵t−ブ
チルフェニル−3・、5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロ
キシベンゾ王−ト、ヘキサデシル−3′、5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート等のベンゾエート
類、2.2′−チオビス(4−1−オクチルフェノール
)Ni塩、〔2,ダーチオビス<4−’t’−オク九ル
フルフェノラート−〕n−ブチルアミンNt、5*5−
ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ホスホン酸
モノエチルエステルNl 塩4のニッケル化合物類、α
−シアノ−β−メチル−β二(p−メトキシラエニル)
アクリル類メチル等の置換アクリロニトリル類、N−2
−エチルソエニルーN’−2−エトキシ−5−第5ブチ
ルフエニルシユウ酸シアrド、N−2−エチルフェニル
−N’−2−エトキシフェニルシュウ酸・ジアミド等の
シュウ酸ジアニリド類及びビス(2,2,6゜6−テト
ラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2
,2,6,6−ベンタメテルー4−ピペリジル)セバケ
ート、トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピ
ペリジ・ル)ニトリロトリアセテート、テトラ(2,2
,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブタンテト
ラカルボキシレート、ビス(1,2,2,6’、6−m
ペンタメチル−4hmベリジル) −5,5−ジー第3
ブチルニ4−ヒドロ碑シベンジルニn−プチルマロネ−
1、jlt’s第1クチルアミン7 N ; N’−ビ
ス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)
へキサメチレンジアミンZ塩化シアヌル縮合物、コハク
□酸ジメチル/1−(2−ヒト□ロキシエチル)−’ 
2’+2t6+6−テトラメチル−4−ヒドロ□キンビ
ベlJ’9ン縮合物、ビス(2,2,6,6−テトラメ
チす−4−ビ夫リジル)−ペンタエリスリトールジホス
ファイト等のピペリジン化合物dfあげられる。
Other light stabilizers may be added to the composition of the present invention.
Zu-ya. iyu□bll my nameyu 781・I can do it. These photostabilizers include h, 2-human esters, 1-enone, 12-bido, 4-n-oct, and methoxybenzola.
□Enone, "2.2'-G □Human crystal xy-4"methoxy:'bensif-horn,day-□nijiεdrokirebe'ndzoff;:Humans such as enone.Kinbenzophenones, 2-:'(2 '-Hydroxy-5'-t-butyl-5'-methylphenyl)-
5-chlorobenztriazole, □2-
(2'-hydroxy-3',5/-di-t-butylphenyl)-5-chlorobenztriazole, 2- (2'
-hydroxy-5'-methylphenyl) 1:be/citriazole, 2-(2'-hydroxy-5', 5'
-C Benzotriazoles such as t-amyl phenyl) benztriazole, phenyl? lysylate, p-
t-Butylphenyl salicylate, 2,4-di-t-butylphenyl-3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate, hexadecyl-3',5-di-t-
Benzoates such as butyl-4-hydroxybenzoate, 2,2'-thiobis(4-1-octylphenol)Ni salt, [2,dirthiobis<4-'t'-octylfluphenolate-]n-butylamine Nt , 5*5-
Nickel compounds of di-t-butyl-4-hydroxybenzyl)phosphonic acid monoethyl ester Nl salt 4, α
-cyano-β-methyl-β2(p-methoxylaenyl)
Substituted acrylonitriles such as methyl acrylics, N-2
-Oxalic acid dianilides such as ethylsoenyl-N'-2-ethoxy-5-5-5-butylphenyl oxalate, N-2-ethylphenyl-N'-2-ethoxyphenyl oxalic acid diamide, and bis(2 ,2,6゜6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis(1,2
, 2,6,6-bentamether-4-piperidyl) sebacate, tris(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)nitrilotriacetate, tetra(2,2
,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)butanetetracarboxylate, bis(1,2,2,6',6-m
pentamethyl-4hm beridyl)-5,5-di-3
Butyl di-4-hydrobenzyl di-n-butyl malone
1, jlt's primary cutylamine 7 N; N'-bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)
Hexamethylene diamine Z cyanuric chloride condensate, dimethyl succinate/1-(2-human-oxyethyl)-'
Piperidine compounds such as 2'+2t6+6-tetramethyl-4-hydro□quinbibellJ'9 condensate, bis(2,2,6,6-tetramethys-4-bifulysyl)-pentaerythritol diphosphite, etc. It will be done.

その他必要に応じそ、本発明□組成物□は重金属不活性
化剤、□造核剤、□金属石けん、有□機錫化合物、可塑
剤、エポキシ化合物、顔料、充填剤、発泡剤、帯電防止
剤、1燃剤、滑剤、加工□助剤等を包含させることがで
きる。   □次に本発明を実施例粂よって具体的に説
明する。しかしながら、本発明はこれらの実施例によっ
て限定されるものではない。
In addition, as necessary, the composition of the present invention may contain heavy metal deactivators, nucleating agents, metal soaps, organic tin compounds, plasticizers, epoxy compounds, pigments, fillers, blowing agents, and antistatic agents. Agents, fuel agents, lubricants, processing aids, etc. can be included. □Next, the present invention will be specifically explained using examples. However, the present invention is not limited to these examples.

実施例1    ・ ポリプロピレン         ′    100重
量部ステアリル−β−3,5−ジー第3ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニルプロピオネート0.2安定剤(試料 
表−イ)         、、  o、s上記配合に
て厚さ、、 0.、5 waの、プレスシー1作成し、
高圧水銀ランプを用いて耐光性試験を行なった。また8
0℃の熱水に15時間浸漬後のシートについても耐:光
性試験を行なった。その結果を表−2に示す。    
 。
Example 1 Polypropylene 100 parts by weight Stearyl-β-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenylpropionate 0.2 Stabilizer (sample
Table-A) ,, o, s Thickness with the above formulation, 0. , create press sea 1 of 5 wa,
A light resistance test was conducted using a high-pressure mercury lamp. 8 again
The sheet was also subjected to a light resistance test after being immersed in hot water at 0° C. for 15 hours. The results are shown in Table-2.
.

:・  表    ′     必 実施例2 通常の安定剤は樹脂の高温加工時に揮発、分解等によp
その効果が著るしく失なわれることが知られている。
:・ Table ' Required Example 2 Ordinary stabilizers are volatile due to volatilization, decomposition, etc. during high-temperature processing of resins.
It is known that the effect is significantly lost.

本実施例では押し出し加工を繰p返し行なうことにより
高温加工による影響を確かめた。
In this example, the effect of high-temperature processing was confirmed by repeatedly performing extrusion processing.

1     次の配合によシ樹脂と添加剤をミキサーで
5分間混合した後、押し出し機でコンパウンドを作成し
た。(シリンダー温、度230℃、240℃、ヘッドダ
イス温度250℃、回転数20 rpm )押しm1を
5回線p返・し行なった後このコンパウンドを用いて試
験片を射出成形機で作成した。
1 After mixing the resin and additives in a mixer for 5 minutes according to the following formulation, a compound was prepared using an extruder. (Cylinder temperature: 230 DEG C., 240 DEG C.; head die temperature: 250 DEG C.; rotation speed: 20 rpm) After pressing m1 was repeated 5 times, a test piece was made using an injection molding machine using this compound.

(シリンダ一温度240℃、ノズル温度2500゜射出
圧475にダ/−) 得られた試験片を用いて高圧水銀ランプで耐光性試験を
行なった。また、押し出し1回のものについても同様に
試験した。その結果を表−5に示す。
(Cylinder temperature 240°C, nozzle temperature 2500°, injection pressure 475°/-) Using the obtained test piece, a light resistance test was conducted using a high pressure mercury lamp. In addition, the same test was conducted for a sample that had been extruded once. The results are shown in Table-5.

〈配 合〉 エチレン−プロピレン共重合樹脂    100重量部
ステアリン酸カルシウA         0.2重量
・部、ステアリル−β−□3,5−ジー第50.1、、
、、フチルー4−ヒドロキ7フェニルゾ       
   □ロビオネート            。
<Blend> Ethylene-propylene copolymer resin 100 parts by weight Calcium stearate A 0.2 parts by weight, stearyl-β-□3,5-G No. 50.1,
,,phthyl-4-hydroxy-7phenylzo
□Robionate.

ジラウリルチオジ2’t=qn”ネート  、  ’ 
 O’、2安定剤(試料光−3)、0,2 ] 表    −8 リポリエチいン   “ Ca−スγアレー)1.、、      、    、
  .1.01””          □ヶ4.ヤん
f、し・−3=(3,5−o、1′イ′1ル)プロピオ
、ネートコメタン ジステア男ルテオジグロビオネー)     0.′5
安定剤、(試料光−4)     、   。
dilaurylthiodi2't=qn''nate, '
O',2 stabilizer (sample light-3), 0,2 ] Table 8 Lipolyethin "Ca-su γ array) 1., , , ,
.. 1.01”” 4. Yanf, Shi-3 = (3,5-o, 1'I'1l) Propio, Netocomethane distea male Luteodiglobione) 0. '5
Stabilizer, (sample light-4).

上記配合、物を混線後プレスして厚さ0.5−のオメー
タ」1中で耐光性を測定し、脆化す暮;で     □
、′、′ 1 ■、: 、      表          4− 罵へ一 実施例4 エチレン−酢酸ビニ・ルコボリマー   100 重量
部2、・6−ジー第3ブチルー−−クレゾール o、i
C&−ステアレート            0.1・
:’Zn−ステアレート       ′     0
す1ジイソデシルフエニルホスフアイト    0.2
安定剤(試料 表−5)   ′    ・0.り上記
配合物をロール上150℃で混線後り14′0℃でプレ
スシート(厚さ0.4 vm )を作成した。
After mixing the above composition, press it and measure the light resistance in a 0.5-thickness meter, and it will become brittle.
,',' 1 ■,: , Table 4 - Example 4 Ethylene-vinyl acetate 100 parts by weight 2, 6-di-tert-butyl--cresol o, i
C&-stearate 0.1・
:'Zn-stearate' 0
1 diisodecyl phenyl phosphite 0.2
Stabilizer (Sample Table-5) '・0. A press sheet (thickness: 0.4 vm) was prepared from the above blend at 150°C on a roll and at 14'0°C after cross-wiring.

このシートをウエザオフ−ター中で500 蒔間照射後
の抗張力残率を測定した。その結果を表−5に示す。
The residual tensile strength of this sheet was measured after irradiation for 500 hours in a weather offter. The results are shown in Table-5.

表   −5 36− 実施例5 ポリ塩化ビニル           100 重量部
8 1 エポキシ化大豆油            2  
   。
Table -5 36- Example 5 Polyvinyl chloride 100 parts by weight 8 1 Epoxidized soybean oil 2
.

トリスノニルフェニルホスファイト0.2Ca−ステア
レート1.0 □ Zn−ステアレート            0°
1)記配合物をロール、上で混練し厚さ11シートを作
成した。このシートを用いウェザ、オフ−ター中での耐
光性試験を行なった。その結果1表7.6に示す。  
           −表   −6″□ 実施例6 AB白樹脂    ”””  100  重量部 ・八
、4′−ブチリデンビス(2,−第3・    ・0.
□、11ブチルー〒−クレゾール)         
 1          1:二こ゛ご:二、x、l’
、l D:*”7’、l /<言11□83□。
Trisnonylphenyl phosphite 0.2Ca-stearate 1.0 □ Zn-stearate 0°
1) The above mixture was kneaded on a roll to form a sheet with a thickness of 11. Using this sheet, a light resistance test was conducted in the weather and off-season. The results are shown in Table 7.6.
-Table -6"□ Example 6 AB white resin """ 100 parts by weight ・8,4′-butylidene bis(2,-3rd・・0.
□, 11-butyl-cresol)
1 1: Two children: two, x, l'
,l D:*”7',l /<Word11□83□.

tm(D’/ menよ、、い。3゜7−11ヨl、’
IA、fy 、=c   17オi −p ” r8o
”(l fRm□、よ。1.ヵ、8   ■を測定した
。その結果を表−7に示す。
tm(D'/ men...3゜7-11yol,'
IA,fy,=c 17oi-p”r8o
"(l fRm□, 1.ka, 8) was measured. The results are shown in Table 7.

・: 1 ′表  −7′ 40− 実□流側′71 ポリウレタン樹ml(旭電化製U−10[]’)  1
o’o ″重量部(Ba−ステアl;lト0.7””’
         1′zn−ステアレーh”””′0
.5 2.6−ジー第3ブチル−p−フレジー症 ’6.1’
  ”安定剤(試料 表−8)         0.
3上記配合物を70℃で5分間ロール上で混線し、12
0℃5分間プレスして厚さ0.5’ wmの□シ二トを
作成した。□とめシートをフェードメータ二にて30時
ri5’m射後の伸び残率を測是した。
・: 1 'Table -7' 40- Real □ Flow side '71 Polyurethane resin ml (Asahi Denka U-10[]') 1
o'o ''parts by weight (Ba-steer l;lt 0.7'''''
1'zn-steerleyh"""'0
.. 5 2.6-di-tert-butyl-p-frezi disease '6.1'
"Stabilizer (Sample Table-8) 0.
3 The above formulation was mixed on a roll for 5 minutes at 70°C,
It was pressed at 0° C. for 5 minutes to create a square sheet with a thickness of 0.5'wm. □The remaining elongation rate of the stopper sheet after firing for 5'm at 30 o'clock was measured using a fade meter.

その結果を表−dに示す。      □:□−:11
  1                      
   1 1表   −8 実施例8 本発明の化合物は塗料用の光安定剤としても有用、であ
る。本実施例においては金属顔料を、含有するベースコ
ート及び透明々トップコートか←なる二層金属晃沢塗料
につ−てその効果をみ□た。
The results are shown in Table d. □:□-:11
1
1 Table 8 Example 8 The compounds of the present invention are also useful as light stabilizers for paints. In this example, the effect was examined for a two-layer metal pigment-containing paint consisting of a base coat and a transparent top coat.

a)−<−7:7−)0.     ′メタクリル酸メ
チル100F、アクリル酸n−ブチル66v1メタクリ
ル酸−2−ヒドロキシエチル”’5’ Of 、メタク
リル酸4f、キシレン80v及びn−ブタノール20’
fをとり、1110℃に加熱攪拌しながらアゾビスイソ
プチワニトリル2f、  ドデシルメルカプタン0.5
:1、キシレン802及びn−ブタノール20f、の溶
液を3時間で滴下した。その後同:温度下2時間攪拌し
、樹脂固岬分50&(7)ア作す元樹脂溶液を調製した
a) -<-7:7-)0. 'Methyl methacrylate 100F, n-butyl acrylate 66v1 2-hydroxyethyl methacrylate"'5'Of, methacrylic acid 4f, xylene 80v and n-butanol 20'
Take f and heat to 1110°C while stirring, add 2f of azobis isoptiwanitrile and 0.5 of dodecyl mercaptan.
A solution of: 1, xylene 802 and n-butanol 20f was added dropwise over 3 hours. Thereafter, the mixture was stirred at the same temperature for 2 hours to prepare a base resin solution with a resin solid content of 50 & (7).

上記アクリル樹脂12重量部、ブトキシ化メチロールメ
ラミン(三井東圧社製;ニーバフ20SB60 ;樹脂
固型分60%)2.5重量部、セルロースアセテートプ
チレー) $j JAW 、(,20チ酢酸ブ、チル溶
液)500重量部ア、ルミ、ニウム顔料(東洋アルミニ
ウム社製1;アルペースト1123N)5.5重量部、
キど2710重量部、酢酸ブチル、20重章部及び銅フ
タロシアニンブルーo、ztiL部をとpベース、コー
ト塗料とじ九。      、    、b))ツブコ
ート塗料 上記アクリル樹脂48重量部、7’)、キシ化メチロ−
、ルイラミン1o裏i部、キシレン10重量部、ブチル
グリコールアセテニド4重量部及び試料化合物0.15
重量部(固型分に対し0.5チ)をとシ、トップコート
塗料とした。
12 parts by weight of the above acrylic resin, 2.5 parts by weight of butoxylated methylolmelamine (manufactured by Mitsui Toatsu Co., Ltd.; Knee Buff 20SB60; resin solid content 60%), cellulose acetate petite) $j JAW, (,20 thiacetate, chill solution) 500 parts by weight A, lumi, nium pigment (manufactured by Toyo Aluminum Co., Ltd. 1; Alpaste 1123N) 5.5 parts by weight,
Add 2,710 parts by weight of kid, butyl acetate, 20 parts of copper phthalocyanine blue, and 9 parts of coating paint. , ,b)) 48 parts by weight of the above acrylic resin, 7'), methyloxylated paint
, i part of lylamine 1o, 10 parts by weight of xylene, 4 parts by weight of butyl glycol acetenide, and 0.15 parts by weight of the sample compound.
Part by weight (0.5 inch based on the solid content) was used as a top coat paint.

プライマー処理した鋼板にベースコート塗料を乾燥膜厚
が20μになるようにスプレーし、10分間放置後トッ
プコート塗料を乾燥膜厚が30μになるようにスプレー
した。15分間放置後140℃で30分間焼付し試片と
した。
A base coat paint was sprayed onto the primer-treated steel plate to give a dry film thickness of 20 μm, and after being left for 10 minutes, a top coat paint was sprayed to a dry film thickness of 30 μm. After leaving it for 15 minutes, it was baked at 140° C. for 30 minutes to obtain a test piece.

上記試片をウエザオメーターに入れ塗膜の一45= ワレの発生するまでの時間を測定した。Put the above sample into a weather meter and see if the coating film is 45= The time until cracks appeared was measured.

雪の結、禾を表−9に示す。Table 9 shows the amount of snow and snow.

46− 表   −9 特 許 出 願人   アデヵ・アーガス化学株式会社
47− 455−
46- Table-9 Patent Applicant Adeca Argus Chemical Co., Ltd. 47- 455-

Claims (1)

【特許請求の範囲】 合成樹脂100重量部に・、次の一般式(I)で表わさ
れる化合物0.0’01〜11重量、部□を添加してな
る安定化された合成樹脂組成物。 ギニル基、シア]ンル基またはジカルバ、モイク基を、
示す。Aは水素原子、ア・、・シル基またはR3−〇−
Y−を示す。Bは−0−R3’、   ’ ”    
□11、、          □1・     −−
L−x、l アルキル基またはハロゲン□原子を系す。R2Fi低級
アルキル基を示す。R5はアルキル躯またはアリール基
を示す。′nは1〜50を示す。)
[Scope of Claims] A stabilized synthetic resin composition obtained by adding 0.0'01 to 11 parts by weight of a compound represented by the following general formula (I) to 100 parts by weight of a synthetic resin. Ginyl group, cyanyl group, dicarba, moic group,
show. A is a hydrogen atom, a... syl group, or R3-〇-
Indicates Y-. B is -0-R3', '''
□11、、 □1・ --
L-x, l represents an alkyl group or a halogen □ atom. R2Fi represents a lower alkyl group. R5 represents an alkyl group or an aryl group. 'n represents 1 to 50. )
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