JPS5938946A - Master disk for information storing medium and its production - Google Patents

Master disk for information storing medium and its production

Info

Publication number
JPS5938946A
JPS5938946A JP14977182A JP14977182A JPS5938946A JP S5938946 A JPS5938946 A JP S5938946A JP 14977182 A JP14977182 A JP 14977182A JP 14977182 A JP14977182 A JP 14977182A JP S5938946 A JPS5938946 A JP S5938946A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
substrate
photoresist
forming layer
unevenness
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP14977182A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideo Ando
秀夫 安東
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP14977182A priority Critical patent/JPS5938946A/en
Publication of JPS5938946A publication Critical patent/JPS5938946A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
    • G11B7/263Preparing and using a stamper, e.g. pressing or injection molding substrates

Abstract

PURPOSE:To produce with high yield a master disk for information storing medium which contains tracking guides and signal information pits formed with high accuracy, by forming the 1st recessing/projecting part on the surface of a substrate and then removing a part of said recessing/projecting parts to obtain the 2nd recessing/ projecting part. CONSTITUTION:A photoresist layer 2 is formed on a substrate 1 made of glass, etc., and the laser light condensed by a lens 3 is exposed to form an exposed part 4 on the substrate. Then the part 4 is removed by developing and fixing, and Cr, etc. is vapor- deposited over the entire surface of the substrate 1. A lift-off process is applied after removing the layer 2 and Cr on the layer 2 to obtain the 1st recessing/projecting part 6. Then a chalcogenite glass layer 7A and then a metallic layer 7B of Cu, Al, etc. are vapor-deposited to form a recessing/projecting forming layer 7. Then the laser light is condensed to form a part 7C where the metal of the layer 7B is doped to the layer 7A. The layer 7 is removed by excluding the part 7C to obtain the 2nd recessing/projecting part 11. The parts 6 and 11 are used as a tracking guide and a signal information pit, respectively. In such a way, a master disk is easily produced for an optical information storing medium having high accuracy.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、集光したレーザー元による情報の書込み又は
読取シが可能な情報配憶媒体全製造する之めの情報記憶
媒体用原盤及びその製造方法に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a master disk for an information storage medium for manufacturing all information storage media capable of writing or reading information using a focused laser source, and the manufacturing thereof. Regarding the method.

〔発明の技術的背景とその問題点〕[Technical background of the invention and its problems]

情報記憶媒体としては、ディジタルオーディオディスク
(1)’AD)に用いられるコンパクトディスク(CD
)やyC学式ピイデイオディスクに代表きれるようにデ
ィスク形状やテープ形状tし、集光したレーザー光によ
シ情報葡読取ることが可能な読取シ専用の情報記tは媒
体、画像ファイルやコンピュータアウトプットメモリ 
(c o M)などに用いられているもののようにディ
スク形状やテープ形状をし、集光したレーザー光により
記ISJ、層(て対して情報の1込みやそこからの情報
の読取りが可能な記録再生用情報記憶媒体及び消去可能
な情報記1意媒体などケ挙げることができる。
Compact discs (CDs) used for digital audio discs (1)'AD) are used as information storage media.
) and yC scientific type video disks, the information is written in a disc or tape shape, and the information can be read using a focused laser beam. output memory
It is disk-shaped or tape-shaped, such as those used in (c o M), and it is possible to write information using a focused laser beam and read information from it. Examples include an information storage medium for recording and reproduction and an erasable information storage medium.

このようカ情報記憶媒体は情報の高督度化を図るためK
 ト9ツクピッチが狭くなっている。このため、読取シ
又は書込み時に光学ヘラトラ所定のトラックに追従させ
るために、予めこの種の情報記憶媒体には、平担面に対
して段差含有する溝や凸部から成るトラッキングガイド
が形成されている。さらに、情報を記録した位置を示す
トラック番号やセクタ位置全事前に記録しておけば、記
録再生装置によるソフトウェアが容易になるため、前記
ドラッギングガイドは、平担面に対して段差を有する溝
や凸部から成る信号情報用ビラトラ併せ備えたもの(プ
リフォーマツティング付きトラッキングガイドともいう
)となっている。
In order to improve the information quality of these information storage media,
The pitch is narrower. For this reason, in order to make the optical disc track follow a predetermined track during reading or writing, a tracking guide consisting of a groove or a convex portion having a step difference with respect to the flat surface is formed in advance on this type of information storage medium. There is. Furthermore, if the track number and sector position indicating the position where information is recorded are all recorded in advance, the software for the recording/reproducing device will be easier. It is also equipped with a signal information flyer tracker consisting of a convex portion (also called a tracking guide with preformatting).

上記トラッキングガイドと信号情報用ビットとは、平担
面との凹凸によって形成されておシ、そこからの反射光
量の相違など全情報として読取られるよう罠なっている
。このため、トラッキングガイドは、そこから反射した
光の回折パターンによるトラックずれ検知信号を大きく
して安定したトラッキングができるように、例えば深さ
がλ/8(λは読取用レーザー光の波長である0以下同
じ)で、幅が0.6〜0−8PL程度の方形状の凹溝と
なっている。また信号情報用ビットは、最大の変調度(
信号情報用ビットの真上に読取シ用し−ザー光?照果し
たとき、そこからの反射光強度が最も小さいといりこと
)をとれるように、深さがλ/4で幅が読取用レーザー
光のスポットサイズの1/6程度に設定されている。
The tracking guide and the signal information bit are formed by the unevenness of the flat surface, and are designed to be read as all information such as differences in the amount of light reflected therefrom. For this reason, the tracking guide is designed to have a depth of, for example, λ/8 (λ is the wavelength of the reading laser beam) so that the track deviation detection signal generated by the diffraction pattern of the light reflected from the guide can be increased and stable tracking can be achieved. 0 or less), and is a rectangular groove with a width of about 0.6 to 0-8 PL. In addition, the signal information bits are determined by the maximum modulation degree (
Is the reading laser light directly above the signal information bit? The depth is set to λ/4 and the width is set to about 1/6 of the spot size of the reading laser beam so that the intensity of the reflected light is the smallest when illuminated.

このようなトラッキングガイドや信号情報用ピッ)1−
備え次情報記憶媒体を量産するためには、゛トラッキン
グガイドや信号情報用ビラトラ形成すべき凹凸を備えた
原註ヲ作成し、この原盤の凹凸を種々の工程によって情
報記憶媒体の基板表面に転写することになる0 ところで上記原盤の製造段階でトラッキングガイドと信
号情報用ビラトラ作るための方法としては次のものが知
られている0すなわち、表面全研磨したガラス製の基板
上にフ第1・レジス) Jim t:形成し、信号情報
用ピッ)1−形成する部分では充分な光量のレーザー光
を照射することによって基板に到達するまで穴をあけ、
トラッキングガイド全形成する部分ではレーザー光の光
量全滅らしてフォトレジスト層の途中の深さまで溝全設
けてゆく。
Such a tracking guide or signal information pin) 1-
In order to mass-produce preparatory information storage media, we create a master record with irregularities to be formed on tracking guides and signal information flyers, and transfer the irregularities of this master onto the substrate surface of the information storage medium through various processes. By the way, the following method is known as a method for making tracking guides and signal information flyers at the manufacturing stage of the above-mentioned master disc. In other words, the first plate is made on a glass substrate whose surface has been completely polished. Regis) Jim t: Form and signal information pin) 1- At the part to be formed, drill a hole until it reaches the substrate by irradiating a sufficient amount of laser light.
In the area where the entire tracking guide is to be formed, the amount of laser light is completely quenched and the entire groove is formed to a depth halfway through the photoresist layer.

このようにして深さの異なるトラッキングガイドと、信
号情報用ビットと全形成する。しかしながら、フォトレ
ジスト層の感度はレーザー露光前のフォトレジスト層の
状態によシ異なったり、或いはトラッキングガイドの深
さが至る所で均一になるようにレーザー光の露光量を制
御することは極めて難しいため、トラッキングガイドや
信号情報用ビットをイW度良く形成することができない
という問題点があった〇 また特開昭48−85025に記載されているように、
感度を異にするフォトレジスト層を複数層形成してトラ
ッキングガイドや信号情報用ビット全般ける方法がある
が、フォトレジストは溶剤に溶けやすいので、溶剤に溶
かした数種のフォトレジストを積層して塗布するとき、
下地のフォトレジスト層が侵されやすいという問題点が
あったOさらにフォトレジスト1均−に複数)@塗布す
ることは技術的に困難であるという問題点があつfc。
In this way, tracking guides with different depths and signal information bits are all formed. However, the sensitivity of the photoresist layer varies depending on the state of the photoresist layer before laser exposure, or it is extremely difficult to control the amount of laser light exposure so that the depth of the tracking guide is uniform everywhere. Therefore, there was a problem that it was not possible to form tracking guides and signal information bits with good quality.Also, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 48-85025,
There is a method of forming multiple photoresist layers with different sensitivities to create tracking guides and signal information bits, but since photoresist easily dissolves in solvents, it is possible to layer several types of photoresists dissolved in solvent. When applying,
There was a problem in that the underlying photoresist layer was easily attacked, and there was also a problem in that it was technically difficult to apply multiple layers of photoresist uniformly.

また、この結果、従来の情報記憶媒体用原盤にあっては
、集光したレーザー光によシ正確に情報を読取ることが
できるとともに安定したトラッキングを行なうことがで
きる情報記憶媒体全量産することかできないという問題
点があった。
Additionally, as a result of this, it has become possible to mass produce all information storage media that can accurately read information using a focused laser beam and perform stable tracking in the case of conventional master discs for information storage media. The problem was that it couldn't be done.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明社上記事情に鑑みてなされたものであり、精度良
く形成されたトラッキングガイドと信号情報用ビットと
を備えることによって正1rな情報の読取シ及び安定し
たトラッキングを行なうことのできる情報記憶媒体の量
産に資することができる情報記憶媒体用原盤全提供する
こと全目的とし、さらKこのような情報記憶媒体用原盤
ケ比較的容易で、かつ精度良く作成することができ、ひ
いては生産性の向上と製造コストの低減とを図ることの
できる情報記憶媒体用原盤の製造方法を提供することを
目的とするものである。
The present invention has been developed in view of the above circumstances, and is an information storage medium that can perform positive 1r information reading and stable tracking by being equipped with a precisely formed tracking guide and signal information bits. The overall purpose is to provide all master discs for information storage media that can contribute to the mass production of information storage media, and furthermore, such master discs for information storage media can be produced relatively easily and with high accuracy, which in turn improves productivity. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a master disc for an information storage medium, which can reduce the manufacturing cost.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

第1の発明は集光したレーザー光によシ情報を読取るこ
とが可能な情報記憶媒体を量産するための原盤において
、表面に第1の凹凸部を備え几基板と、この基板表面に
設けられた凹凸形成層の一部全除去して形成された第2
の凹凸部とを具備することを特徴とするものである。第
2の発明は集表面に第1の凹凸部金儲えた基板表面に凹
凸形成層を設け、この凹凸形成層の一部を除去すること
によって第2の凹凸部を形成する工程t−iて作成され
ること全特徴とするものである。
The first invention is a master disk for mass producing an information storage medium in which information can be read by a focused laser beam, and includes a substrate having a first uneven portion on its surface, and a substrate provided on the surface of the substrate. The second layer was formed by completely removing a part of the unevenness forming layer.
It is characterized by comprising a concave and convex portion. The second invention includes a step t-i in which an unevenness forming layer is provided on the surface of the substrate having the first unevenness formed on the collection surface, and a second unevenness is formed by removing a part of the unevenness forming layer. It is created with all the features.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

以下本発明の情報記憶媒体用原盤及びその製造方法につ
いて図面を参照しながら説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An information storage medium master and a method for manufacturing the same according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図(5り〜(1)は本発明の第1の実施例たる製造
方法を工程順に示す断面図である。
FIG. 1 (5-1) is a cross-sectional view showing the manufacturing method according to the first embodiment of the present invention in the order of steps.

先ず第1図(α)に示すように、表面全研磨したガラス
製の基板1にポジタイプの7オトレジス)t−スピナコ
ーティングしてフォトレジスト層2を形成する。そして
対物レンズ6で集光したレーザー光で前記フォトレジス
ト層2全同心円状又はスパイラル状に露光してフォトレ
ジスト露光部4を形成する。その後、このフォトレジス
ト層2′f:現像定着して前記フォトレジスト露光部4
を除去する〇そして第1図(b)に示すように、前記基
板1及び基板上に残存しているフォトレジストW42上
にCrを厚さ700Aで真空蒸着又はスパッタ萎着する
ことによってトラッキングガイド形成M5を設ける。
First, as shown in FIG. 1(a), a photoresist layer 2 is formed by coating a positive type t-spinner on a glass substrate 1 whose surface has been completely polished. Then, the entire photoresist layer 2 is exposed concentrically or spirally with a laser beam focused by an objective lens 6 to form a photoresist exposed portion 4. After that, this photoresist layer 2'f is developed and fixed, and the photoresist exposed area 4 is
Then, as shown in FIG. 1(b), a tracking guide is formed by vacuum evaporating or sputtering Cr to a thickness of 700A on the substrate 1 and the photoresist W42 remaining on the substrate. Provide M5.

このときトラッキングガイド形成層5け前記フォトレジ
スト層2の厚さよシも薄いので、フォトレジスト層2の
側部においてれ前記トラッキングガイド形成層5は分断
されている。し7jがってこ0フォトレジスト層2を有
機溶剤にて溶解すると、フォトレジスト屑2上のトラッ
キングガイド形成層5も除去され、前記基板1に接した
部分のトラッキングガイド形成層5が残存し、これによ
って第1の凹凸部6が形成されることになる(第1図(
C)参照)。
At this time, since the tracking guide forming layer 5 is thinner than the thickness of the photoresist layer 2, the tracking guide forming layer 5 is divided at the side portions of the photoresist layer 2. Then, when the photoresist layer 2 is dissolved in an organic solvent, the tracking guide forming layer 5 on the photoresist scraps 2 is also removed, and the tracking guide forming layer 5 in the portion in contact with the substrate 1 remains, As a result, the first uneven portion 6 is formed (see Fig. 1 (
See C).

次に1このようにして表面に第1の凹凸部6が形成され
た基板1の表面に放射エネルギt−吸収して部分的に高
温になることにょ92種類の物質が混合又は拡散する一
組の物質によって凹凸形成層7を構成する。例えばこれ
は、第1図(d) K示すように前記基板1上にAs2
S3. As2Se2 、 As−5−Te系。
Next, 1. Radiation energy is absorbed on the surface of the substrate 1 on which the first uneven portion 6 is formed in this way, and the temperature becomes high partially, and 92 kinds of substances are mixed or diffused. The unevenness forming layer 7 is made of this material. For example, as shown in FIG. 1(d)K, As2
S3. As2Se2, As-5-Te system.

As−5−5t系などからなるカルコゲナイドガラス層
7A’に形成し、さらにその上にCu、 +Atなどの
金属層7Bt真空蒸着又はスパッタ蒸着によって形成す
る。なお、このようにして形成された凹凸形成層70表
面は、前記第1の凹凸部6にほぼ沿つ1ξ凹凸形状にな
っている。
A chalcogenide glass layer 7A' made of As-5-5t or the like is formed, and a metal layer 7Bt of Cu, +At or the like is further formed thereon by vacuum evaporation or sputter evaporation. The surface of the unevenness forming layer 70 formed in this manner has a 1ξ uneven shape that substantially follows the first unevenness portion 6.

そして、第1図(−)に示すように前記基板1をターン
テーブルに載置して回転させ寿から、対物レンズ9で集
光[またレーザー光を前記第1の凹凸部乙の上部に位置
している金属層7Bに照射してこれ全トレースさせる。
Then, as shown in FIG. 1 (-), the substrate 1 is placed on a turntable and rotated, and then the objective lens 9 focuses the laser beam [and the laser beam is positioned above the first uneven portion B]. It irradiates the metal layer 7B that has been exposed and traces it all.

このトレースは、金属n7Bから反射したレーザー光の
回折パターンによるトラックずれ検知信号ケ得ることに
よって行なう。
This tracing is performed by obtaining a track deviation detection signal based on the diffraction pattern of the laser beam reflected from the metal n7B.

そしてトレース中に信号情報用ピットを設けるべき位置
でレーザー光の光量全増大して前記カルコゲナイドガラ
ス層7,4に金属層7Bの金属層ドーピングさせる。な
お、図において7Cは上記のようにレーリ′−光によっ
て金属がドーピングされたカルコゲナイドガラス部?示
すものであるOそして、溶媒((1’uに対しては37
チ塩化第2鉄溶液、、4/−に対しては゛10%水酸化
ナトリウム水溶液)で前記金属層7Bk溶解し、その後
アルカリ溶液に浸すと、金属がドーピングされたカルコ
ゲナイドガラス部7C?l?残し、その他のカルコゲナ
イドガラス層7Aが除去され、その結果前記第1の凹凸
部6上には部分的に笛2の凹凸部11が形成されるO このような工程欠経ることにより、第1図(f)に示す
ように高さ700λのトラッキングカイトに相当゛Tる
第1の凹凸部6と、旨さ140(Mの信号情報用ビット
に相当する第2の凹凸部11と奮表面に具備した情報記
憶媒体用原盤が製造されることになる。
Then, at a position in the trace where a signal information pit is to be provided, the total amount of laser light is increased to cause the chalcogenide glass layers 7 and 4 to be doped with the metal layer 7B. In the figure, 7C is a chalcogenide glass portion doped with metal by Rayleigh'-light as described above. O and the solvent ((37 for 1'u)
When the metal layer 7Bk is dissolved in a ferric chloride solution, 4/- (10% aqueous sodium hydroxide solution) and then immersed in an alkaline solution, the metal-doped chalcogenide glass portion 7C? l? The remaining chalcogenide glass layer 7A is removed, and as a result, the uneven portion 11 of the flute 2 is partially formed on the first uneven portion 6. As shown in (f), a first uneven portion 6 corresponding to a tracking kite with a height of 700λ and a second uneven portion 11 corresponding to a signal information bit of 140 λ (M) are provided on the surface. A master disk for an information storage medium will be manufactured.

上記のような製造方法にあっては、仄に挙ける特有の効
果を有する。
The manufacturing method as described above has the following specific effects.

(=f)第1の凹凸部及び第2の凹凸部の深さ寸法はト
ラッキングガイド形成層及び凹凸形成層の厚さによって
規制されることになるので、トラッキングガイドや信号
情報用ピッ)k精、度良く形成することができる。
(=f) Since the depth dimensions of the first uneven portion and the second uneven portion are regulated by the thicknesses of the tracking guide forming layer and the uneven forming layer, the tracking guide and signal information pin)k precision , can be formed with good precision.

(ロ)第1の凹凸部と第2の凹凸部との形成プロセスは
完全に分離しているので、第1の凹凸部の形成が不良で
あっても、これを廃棄することによシ、第2の凹凸部の
形成の歩留まD’に低下させずに済む。
(b) Since the formation processes of the first uneven part and the second uneven part are completely separated, even if the first uneven part is poorly formed, it can be discarded. There is no need to reduce the yield D' of forming the second uneven portion.

(ハ)第1の凹凸部と第2の凹凸部との形成プロセスは
完全に分離しているので、第1の凹凸部だけを形成した
ものを予め多数ストックしておき、必要に応じて該原盤
を迅速に製造するという工程を採用することが可能にな
る。
(c) Since the formation process of the first uneven part and the second uneven part are completely separated, a large number of products with only the first uneven part formed can be stocked in advance, and they can be applied as needed. This makes it possible to adopt a process for quickly manufacturing master discs.

に)第2の凹凸部全形成するときKは、第1の凹凸部の
上を光学的にトレースするので、レーザー光全集光させ
る対物レンズの送り機構に対しては機械的高精度が特に
要求されることはなく、ひいては製造装置の簡素化及び
小型化を図ることができる。
(b) When forming the entire second uneven portion, K optically traces the top of the first uneven portion, so high mechanical precision is especially required for the objective lens feeding mechanism that focuses the laser beam completely. Therefore, it is possible to simplify and downsize the manufacturing equipment.

また上記のような構造を有する情報記憶媒体用原盤にあ
っては、第1の凹凸部及び第2の凹凸部が精度良く形成
されているので、この原盤を利用して量産される情報記
憶媒体には寸法制度の良好なトラッキングガイドと信号
情報用ビットとが転写され、その結果正確な情報の読取
りと安定したトラッキングとを行なうことのできる情報
記憶媒体用原盤することかできるようになる。
In addition, in the master disk for information storage medium having the above-described structure, the first uneven portion and the second uneven portion are formed with high accuracy, so that information storage media that are mass-produced using this master disk can be used. A tracking guide with good dimensional accuracy and signal information bits are transferred to the disc, and as a result, a master disc for an information storage medium that can perform accurate reading of information and stable tracking can be obtained.

次に本発明の第2の実施例について説明する0第2図(
α)〜(=)は本発明の第2の実施例1こる2v@方法
金工程順に示す断面図である。      嘴先ず、第
2図(α)に示すようにシ゛モ面ケ研磨したガラス製の
基板1上に、例えばダイアモンド針14で同心円状又は
スパイラル状に第1の凹凸部6ケ形成する0なお第1の
凹凸tコシの深さは例えば7001であシ、読取用レー
ザーブLの波長孕λとしたときλ/8に相当するもので
あるO そして、第2図(h)に示すように、上if己のごとく
形成された基板1の表面に厚さ700AでCu、 fス
パッタ蒸着又は真空蒸着して凹凸形成WJ 7を設ける
。このとき、凹凸形成層7の表面tit: 、前記第1
の凹凸部乙の形状にほぼ沿った凹凸を呈するようになシ
、これによってトラッキングガイド12が形成されるこ
とになる。その後、前記凹凸形成層7の表面にフォトレ
ジスト金スピナコーティングしてフォトレジスト層8全
形成する。そして前記基板1をタンテーブルに載置して
回転させ外がら対物レンズ9で集光したレーザー5Y;
に前トラッキングガ・fドラ2上のフォトレジスト層8
に照射してこれをトレースさせる。このトレースは前記
トラッキングガイド12から反射し1こレーザーうtの
回折パターンによるトラックずれ検知信号?得ることに
よって行なう。そして、このトレース中にt已2の凹凸
部7設けるべき位餘でレーザー元の元fMk増大して前
記フォトレジスト層8にフォトレジスト露元部10を形
成する。
Next, the second embodiment of the present invention will be explained in Fig. 2 (
α) to (=) are cross-sectional views showing the steps of the second embodiment of the present invention. First, as shown in FIG. 2 (α), six first concave and convex portions are formed in a concentric or spiral shape using, for example, a diamond needle 14 on a glass substrate 1 whose surface has been polished. The depth of the unevenness t is, for example, 7001, which corresponds to λ/8 when the wavelength of the reading laser beam L is λ. On the surface of the substrate 1 formed as shown in FIG. At this time, the surface tit of the unevenness forming layer 7: , the first
The tracking guide 12 is formed so that the uneven portion B has unevenness approximately following the shape of the uneven portion B. Thereafter, the surface of the unevenness forming layer 7 is coated with a photoresist gold spinner to completely form a photoresist layer 8. Then, the substrate 1 is placed on a tongue table and rotated, and the laser 5Y is focused by the objective lens 9 from the outside;
Photoresist layer 8 on the front tracking gas driver 2
irradiate it and trace it. This trace is a track deviation detection signal due to the diffraction pattern of the laser beam reflected from the tracking guide 12. Do it by getting it. Then, the laser source fMk is increased to the extent that an uneven portion 7 of t length 2 is to be provided in this trace, and a photoresist exposed portion 10 is formed in the photoresist layer 8.

そして第2図(C)に示゛Tように前記フォトレジスト
層8に現像定漸して前記フォトレジスト露元部10ケ除
去し、前記凹凸形成層7を部分的に〆田式せる〇 その後、残存しているフォトレジスト層8vil−マス
クとして凹凸形成層7の露出部分音エツチングし、第2
図(d)に示すようにエツチング部分音除去してそこに
第2の凹凸部11を形成する0なおこのときのエツチン
グ液は55チ濃度の硝酸第2鉄溶液を用いることが望ま
しい。
Then, as shown in FIG. 2(C), the photoresist layer 8 is developed gradually to remove 10 exposed portions of the photoresist, and the unevenness forming layer 7 is partially finished. , the remaining photoresist layer 8vil--as a mask, the exposed partials of the unevenness forming layer 7 are etched, and the second
As shown in Figure (d), it is desirable to use a ferric nitrate solution with a concentration of 55% as the etching solution to remove the etching partial sound and form the second uneven portion 11 there.

その後、前記フォトレジスト層8奮有機溶剤にて除去す
ることにより、第2図(−)に示すように深さ700A
のトラッキングガイド12と、深さ1400Aの信号情
報用ビットに相当する第2の凹凸部11とを備えた情報
記憶媒体用原盤が製造されることになる。
Thereafter, the photoresist layer 8 was removed using an organic solvent to a depth of 700A as shown in FIG. 2(-).
A master disk for an information storage medium is manufactured, which includes a tracking guide 12 of 1400 A and a second concavo-convex portion 11 having a depth of 1400 A and corresponding to a signal information bit.

このような第2の実施例にあっても第1の実施例と同様
の効果を得ることができる。特に基板と凹凸形成層との
材質は異なっているので、エツチング深さを両者の界面
まで及ぼして第2の凹凸部の深さ全特に均一にできると
いう特有の効果葡有するものである。
Even in such a second embodiment, the same effects as in the first embodiment can be obtained. In particular, since the materials of the substrate and the unevenness forming layer are different, the etching depth can be extended to the interface between the two, so that the entire depth of the second unevenness can be made uniform, which is a unique effect.

次に本発明の第6の実施例について説明する。Next, a sixth embodiment of the present invention will be described.

第3図(α)〜(C)は本発明の第6の実施例たる製造
方法全工程順に示す断面図である。
FIGS. 3(α) to 3(C) are cross-sectional views showing all steps of the manufacturing method according to the sixth embodiment of the present invention.

先ず、第6図(α)に示すように研磨したガラス製の基
板1上にTef厚さ70(Mで真空蒸着又はスパッタ蒸
着してトラッキングガイド形成層5全設ける。そして対
物レンズ3で集光したレーザー光で前記トラッキングガ
イド形成層5全同心円状又はスパイラル状に露光するこ
とによってこの露光部を深さ7oo、2で除去して第1
の凹凸部6を形成する0 そして、このように表面に第1の凹凸部6が形成された
基板1の表面にCttf厚さ700)で真空蒸着又はス
パッタ蒸着して凹凸形成)f47 を設ける。
First, as shown in FIG. 6(α), the entire tracking guide forming layer 5 is provided on a polished glass substrate 1 by vacuum deposition or sputter deposition with a Teflon film thickness of 70 (M).Then, the objective lens 3 focuses the light. The tracking guide forming layer 5 is exposed in a concentric or spiral manner with a laser beam, and this exposed portion is removed at a depth of 70 mm to remove the first layer.
Then, on the surface of the substrate 1 on which the first uneven portion 6 is formed on the surface in this way, a Cttf thickness of 700) is vacuum-deposited or sputter-deposited to form an uneven portion (f47).

なお、このとき、凹凸形成層7の表面は前記第1の凹凸
部6の形状1.は沿った凹凸を呈する。ようになり、こ
れによってトラッキングガイド12が形成されることに
なる。そして第6図(h)に示すように、前記凹凸形成
層7の表面にフオ)L/シストをスピナコーティングし
てフォトレジスト層8を形成する。その後、前記第2の
実施例と同様に1対物レンズ9で集光したレーザー光に
てトラッキングガイド12をトレースし、トレース中に
第2の凹凸部を設けるべき位置でレーザー光の光量全増
大してフォトレジスト露光部10を形成する。
At this time, the surface of the unevenness forming layer 7 has the shape 1 of the first unevenness portion 6. exhibits unevenness along the surface. Thus, the tracking guide 12 is formed. Then, as shown in FIG. 6(h), a photoresist layer 8 is formed by spinner coating the surface of the unevenness forming layer 7 with phosphor/cyst. Thereafter, as in the second embodiment, the tracking guide 12 is traced with the laser beam focused by the first objective lens 9, and the total amount of the laser beam is increased at the position where the second uneven portion is to be provided during the tracing. A photoresist exposed portion 10 is formed.

その後、前記第2の実施例と同様にしてエツチング及び
フォトレジスト層8の除去を行ない、第6図(C)に示
すように、深さ700Aのトラッキングガイド12と深
さ1400,4の信号情報用ビットに相当する第2の凹
凸部11と葡備えた・IN¥!記憶媒体用原盤が製造さ
れることになる。
Thereafter, etching and removal of the photoresist layer 8 are performed in the same manner as in the second embodiment, and as shown in FIG. It has a second uneven part 11 corresponding to a bit for use.・IN¥! A master disk for a storage medium will be manufactured.

このような第3の実施例にあっても第1の実施例とtl
ぼ同様の効果を得ることができる。  ゆ次に本発明の
第4の実施例について説明する。
Even in such a third embodiment, there are differences between the first embodiment and tl.
You can get a similar effect. Next, a fourth embodiment of the present invention will be explained.

第4図(α)〜(−)は本発明の第4の実施例たる製造
方法を工程順に示す断面図である。
FIGS. 4(α) to (-) are cross-sectional views showing the manufacturing method according to the fourth embodiment of the present invention in order of steps.

先ず、第4図(a)に示すよう釦表面ケ研肌し7℃基板
例えばガラス製の基板1の表面にフォトレジストをスピ
ナコーティングしてフォトレジスト層2を形成する0さ
らに、対物レンズ6にて集光したレーザー光で前記フォ
トレジスト層2の表面全同心円状又はスパイラル状に塊
0元し、フォトレジスト露光部4を形成する。そして前
記フォトレジスト層2vc現像定着して前記フォ]・レ
ジストh元部4を除去し、除去した部分から前記基板1
荀露出させる。
First, as shown in FIG. 4(a), the surface of the button is polished and coated with a photoresist on the surface of a substrate 1 made of glass at 7° C. using a spinner to form a photoresist layer 2. The entire surface of the photoresist layer 2 is agglomerated concentrically or spirally with the laser beam focused to form a photoresist exposed portion 4. Then, the photoresist layer 2vc is developed and fixed, the photoresist h base portion 4 is removed, and the removed portion is then developed and fixed on the substrate 1.
Expose Xun.

次に第4図(A)に示7、j″ように、残存しているフ
ォトレジスト層2全マスクとし、このマスクから露出さ
れている基板表面1深さ700Aだけエツチングする。
Next, as shown in FIG. 4A, the entire remaining photoresist layer 2 is masked, and the substrate surface 1 exposed from this mask is etched to a depth of 700A.

このようにして深さ700Aの第1の凹凸部6が形成さ
れることになる。なお、エツチング液としては、フッf
R6%とフッ化アンモニウム40チの混合液紮使用する
ことが望ましい。その後残存しているフォトレジスト層
2葡有様溶剤にて溶解して除去する。
In this way, the first uneven portion 6 having a depth of 700A is formed. In addition, as an etching liquid,
It is desirable to use a mixed solution of 6% R and 40% ammonium fluoride. Thereafter, the remaining photoresist layer 2 is dissolved and removed using a solvent.

そして第4図(C)に示すように1第1の凹凸部6が形
成された基板1上にネガタイプのフォトレジストにスピ
ナコーティングしてフォトレジスト層8全形成する。ぞ
して前記基板1をターンテーブルに載置して回転させな
がら対物レンズ9で集光したレーザー光を前記第1の凹
凸部6上のフォトレジスト層8に照射してこれをトレー
スさせる。
Then, as shown in FIG. 4C, a photoresist layer 8 is entirely formed by spinner coating a negative type photoresist on the substrate 1 on which the first uneven portions 6 are formed. Then, while the substrate 1 is placed on a turntable and rotated, a laser beam focused by an objective lens 9 is irradiated onto the photoresist layer 8 on the first uneven portion 6 and traced.

そして、このトレース中に第2の凹凸部を設けるべき位
置でレーザー光の光量を増大して前耶フォトレジスト層
8にフォトレジスト露光部10を形成する。
Then, the amount of laser light is increased at the position where the second uneven portion is to be provided in this trace to form a photoresist exposed portion 10 in the previous photoresist layer 8.

その後、このフォトレジスト層8會現像定着してフォト
レジスト露光部10以外の部分を除去する。そして第4
図(d)に示すように前記基板1及びフォトレジスト露
光部10上にCrf厚さ700Aで真空蒸着又はスパッ
タ蒸着することによって凹凸形成層7を設ける。このと
き凹凸形成層7は前記フォトレジスト露光部10の厚さ
よシも薄いので、フォトレジストm元部10の11!0
部〜においては前記凹凸形成層7は分断されている。し
たがって、このフォトレジスト露光部10を有機溶剤に
て溶解すると、第4図(−)に示すようにフォトレージ
スト露光部10上の凹凸形成層7も除去され、前記基板
1に接した部分の凹凸形成層7が残存し、フォトレジス
ト露光部10が除去された部分に第2の凹凸部11が形
成されることになる(このような方法全以下単にリフト
オフ法ともいう)。ま窺第1の凹凸部6上に位置してい
る凹凸形成層7の部分は第1の凹凸部6とほぼ同様の凹
凸形状金星するようになり1これによってトラッキング
ガイド12が形成されることになる。このようにして深
さ700Aのトラッキングガイド12と、深さ1400
.4の信号情報用ピットに相当する第2の凹凸部11と
を備えた情報記憶媒体用原盤が製造されることになる。
Thereafter, this photoresist layer 8 is developed and fixed, and the portions of the photoresist other than the exposed areas 10 are removed. and the fourth
As shown in Figure (d), an unevenness forming layer 7 is provided on the substrate 1 and the photoresist exposure section 10 by vacuum deposition or sputter deposition with a CrF thickness of 700A. At this time, since the unevenness forming layer 7 is thinner than the thickness of the photoresist exposed portion 10, the thickness of the photoresist m base portion 10 is 11!0.
The unevenness forming layer 7 is divided in parts ~. Therefore, when this photoresist exposed area 10 is dissolved with an organic solvent, the unevenness forming layer 7 on the photoresist exposed area 10 is also removed, as shown in FIG. The unevenness forming layer 7 remains, and the second unevenness portion 11 is formed in the portion where the photoresist exposed portion 10 has been removed (such a method will hereinafter also simply be referred to as a lift-off method). The part of the unevenness forming layer 7 located on the first unevenness part 6 has an uneven shape that is almost the same as that of the first unevenness part 6 1. As a result, a tracking guide 12 is formed. Become. In this way, the tracking guide 12 with a depth of 700A and the tracking guide 12 with a depth of 1400A are formed.
.. A master disk for an information storage medium is manufactured, which is provided with the second uneven portions 11 corresponding to No. 4 signal information pits.

このような第4の実施例にあっても第1の実施例とはげ
同様の効果を得ることができる。特に1リフトオフ法に
よって第2の凹凸部を形成するので、この第2の凹凸部
の断面形状は極めて高精度で、かつエツジ部分もシャー
プに形成することができるという特有の効果を有するも
のである。
Even in such a fourth embodiment, the same effects as those in the first embodiment can be obtained. In particular, since the second uneven portion is formed by the 1-lift-off method, the cross-sectional shape of the second uneven portion has extremely high precision, and the edge portion can also be formed sharply, which is a unique effect. .

次に本発明の第5の実施例について説明する。Next, a fifth embodiment of the present invention will be described.

第5図(α)〜(ト)は本発明の第5の実施例たる製造
方法を工程順に示す断面図である。第4の実施例と同様
の工程についてはその詳細な説明を省略する。
FIGS. 5(a) to 5(g) are cross-sectional views showing the manufacturing method according to the fifth embodiment of the present invention in the order of steps. Detailed explanations of steps similar to those in the fourth embodiment will be omitted.

異なる工程は、表面に第1の凹凸を備えた基板を形成す
る工程である。すなわち、第5図(α)K示すように、
表面を研磨したガラス製の基板1にネガタイプのフォト
レジスト全スピナコーティングしてフォトレジスト層2
會形成するシして対物レンズ6で集光したレーザー光で
前記フォトレジスト層2tl−同心円状又はスパイラル
状に露光してフォトレジスト露光部4を形成する。その
後、このフォトレジスト層2を現像定着して前記フォト
レジスト露光部4以外の部分を除去する。そして第5図
(h)VC示すように、前記基板1及びフォトレジスト
露光部4上にCrf厚さ700,2で真空蒸着又はスパ
ッタ蒸着することによってトラッキングガイド形成層5
を設ける。このときトラッキングガイド形成層5は前記
フォトレジスト露光部4の厚さよりも薄いので、フォト
レジスト露光部4の側部においては前記トラッキングガ
イド形成層は分断されている。し・たがって、第5図(
t) K示すように5このフォトレジスト露光部4を有
機溶剤にて溶解すると、フォトレジスト露光部4上のト
ラッキングガイド形成層5も除去され、前記基板1に接
した部分のトラッキングガイド形成層5が残存【7、フ
ォトレジスト露光部4が除去された部分に第1の凹凸部
6が形成されることに晩る。
The different process is a process of forming a substrate having a first unevenness on its surface. That is, as shown in FIG. 5(α)K,
A glass substrate 1 with a polished surface is coated with a negative type photoresist, and then a photoresist layer 2 is formed.
After forming the photoresist layer 2tl, the photoresist layer 2tl is exposed concentrically or spirally to a laser beam focused by an objective lens 6 to form a photoresist exposed portion 4. Thereafter, this photoresist layer 2 is developed and fixed, and the portions of the photoresist other than the exposed portions 4 are removed. Then, as shown in FIG. 5(h) VC, a tracking guide forming layer 5 is deposited on the substrate 1 and the photoresist exposure portion 4 by vacuum deposition or sputter deposition with a CrF thickness of 700.2.
will be established. At this time, since the tracking guide forming layer 5 is thinner than the thickness of the photoresist exposed portion 4, the tracking guide forming layer is divided at the side portions of the photoresist exposed portion 4. Therefore, Figure 5 (
t) As shown in K, when this photoresist exposed portion 4 is dissolved in an organic solvent, the tracking guide forming layer 5 on the photoresist exposed portion 4 is also removed, and the tracking guide forming layer 5 in the portion in contact with the substrate 1 is removed. 7, the first uneven portion 6 is formed in the portion where the photoresist exposed portion 4 has been removed.

このようにして表面間第1の凹凸部6を備え次基板1′
f:得た後は、前記第4の実施例と同様例してトラッキ
ングガイド12と第2の凹凸部11とを形成する(第5
図(d)〜(イ)参照)。
In this way, the first uneven portion 6 is provided between the surfaces of the next substrate 1'.
f: After obtaining, the tracking guide 12 and the second concavo-convex portion 11 are formed in the same manner as in the fourth embodiment (fifth
(See figures (d) to (a)).

このようガ第5の実施例にあっても第1の実施例と同様
の効果?得ることができる。%にトラッキングガイド形
成層5と凹凸形成層7とが同じ材質で構成されているの
で両層の密着強度を同一ヒさせることができるという特
有の効果を有するものである。
Does the fifth embodiment have the same effect as the first embodiment? Obtainable. %, since the tracking guide forming layer 5 and the unevenness forming layer 7 are made of the same material, it has the unique effect that the adhesion strength of both layers can be made the same.

次に本発明の第6の実施例について説明する。Next, a sixth embodiment of the present invention will be described.

第6図(α)〜(d)は本発明の第6の実施例たる製造
方法全工程順に示す断面図である0第4の実施例と同様
の工程についてはその詳細な説明全省略する〇先ず、前
記第4の実施例と同様の工程會経ることにより、第1の
凹凸部64表面に備えた基板1會形成する(第6図(a
)参照)。
FIGS. 6(α) to (d) are cross-sectional views showing all steps in the manufacturing method according to the sixth embodiment of the present invention.0 Detailed explanations of the same steps as in the fourth embodiment are omitted. First, a substrate 1 provided on the surface of the first uneven portion 64 is formed by going through the same process as in the fourth embodiment (see FIG. 6(a)).
)reference).

次に第4の実施例と異なる工程について説明する0すな
わち、第6図<h>に示すように前記基板1上にCuf
厚さ700Aでスパッタ蒸着又は真空蒸着して凹凸形成
層7′@:設ける。このとき、凹凸形成層70表面は前
記第1の凹凸部6とtx t!同様の凹凸形状を呈する
ようになシ、これによってトラッキングガイド12が形
成されることKなる。さらにその上表面に熱昇華性物質
例えばTey2真空蒸着してエツチングマスク形成層1
5を設ける。このエツチングマスク形成層15の表面も
前記第1の凹凸部6にはは沿った凹凸形状金星すること
となる。その後基板をターンテーブルに載置して回転さ
せながら対物レンズ9で集光したレーザー光全前記トラ
ッキングガイド12上のエツチングマスク形成層15に
照射してその反射光によってこれをトレースする。そし
て、このトレース中に第2の凹凸部を設けるべき位置で
レーザー光の光量を増大し、前記エツチングマスク形成
層15の一部全除去してそこから凹凸形成層7の一部?
露出させる。その後、このエツチングマスク形成層15
をマスクとして、その下KN出されている凹凸形成層7
をご一ツチングによって除去し、第6図(c)に示すよ
うに1そこに第2の凹凸部11會形成する○なお、この
ときのエツチング液としてけ55チ硝酸第2鉄溶液を使
用することが望ましい。そして前記エツチングマスク形
成層15t:10%水酸化ナトリウム溶液又は10q6
水酸化カリウム溶液にて除去することによシ、第6図(
d)に示すように、深さ700Aのトラッキングガイド
12と深さ1400Aの信号情報用ピットに相当する第
2の凹凸部11とを備えた情報記憶媒体用原盤が製造さ
れることになる。 。
Next, a process different from that of the fourth embodiment will be explained. In other words, as shown in FIG.
An unevenness forming layer 7'@: is provided by sputter deposition or vacuum deposition to a thickness of 700A. At this time, the surface of the unevenness forming layer 70 is connected to the first unevenness portion 6 tx t! The tracking guide 12 is formed so as to have a similar uneven shape. Furthermore, an etching mask forming layer 1 is formed by vacuum-depositing a thermally sublimable substance such as Tey2 on the upper surface.
5 will be provided. The surface of this etching mask forming layer 15 also has an uneven shape along the first uneven portion 6. Thereafter, while the substrate is placed on a turntable and rotated, the laser beam focused by the objective lens 9 is irradiated onto the etching mask forming layer 15 on the tracking guide 12, and the etching mask forming layer 15 is traced by the reflected light. Then, the intensity of the laser beam is increased at the position where the second unevenness portion is to be provided in this trace, and a part of the etching mask forming layer 15 is completely removed, and a part of the unevenness forming layer 7 is removed from there.
expose. After that, this etching mask forming layer 15
As a mask, the unevenness forming layer 7 is exposed under the KN.
is removed by etching, and a second uneven portion 11 is formed there as shown in FIG. This is desirable. And the etching mask forming layer 15t: 10% sodium hydroxide solution or 10q6
By removing with potassium hydroxide solution, Fig. 6 (
As shown in d), an information storage medium master is manufactured which includes a tracking guide 12 with a depth of 700A and a second uneven portion 11 corresponding to a signal information pit with a depth of 1400A. .

第6の実施例においても第1の実施例とほぼ同様の効果
4得ることができる。
Also in the sixth embodiment, substantially the same effect 4 as in the first embodiment can be obtained.

次に本発明の第7の実施例について説明する。Next, a seventh embodiment of the present invention will be described.

第7図(α)〜(C)は本発明の第7の実施例たる製造
方法を工程順に示す断面図である。
FIGS. 7(α) to (C) are cross-sectional views showing the manufacturing method according to the seventh embodiment of the present invention in order of steps.

先ず、前記第5の実施例と同様の工程を経ることにより
(その詳細な説明を省略する)、第1の凹凸部6を表面
に備えた基板全形成する(第7図(α)参照)。
First, by going through the same steps as in the fifth embodiment (detailed explanation thereof will be omitted), the entire substrate having the first uneven portion 6 on its surface is formed (see FIG. 7 (α)). .

次に、第6の実施例と同様に第1の凹凸部6を備えた基
板1表面に凹凸形成層7を設けるとともに、その上にエ
ツチングマスク形成層15奮設け、これ全マスクとして
その下の凹凸形成層7t−エツチングしてそこに第2の
凹凸部11を形成する(その詳細な説明を省略する)工
程を経ることによシ(第7図Ch)参照)、深さ700
Aのトラッキングガイド。
Next, as in the sixth embodiment, an unevenness forming layer 7 is provided on the surface of the substrate 1 having the first unevenness portion 6, and an etching mask forming layer 15 is formed on top of the unevenness forming layer 7. By etching the unevenness forming layer 7t and forming the second unevenness portion 11 there (detailed explanation thereof will be omitted) (see FIG. 7 Ch), the depth is 700.
A tracking guide.

12と深さ1400.(の信号情報用ピットに相当する
第2の凹凸部11とを備えた情報記憶媒体用原盤が製造
されることになる(第7図(C)参照)。
12 and depth 1400. A master disc for an information storage medium having second uneven portions 11 corresponding to signal information pits (see FIG. 7(C)) is manufactured.

第7の実施例によっても第1の実施例とほぼ同様の効果
4得ることができる。
The seventh embodiment also provides the same effect 4 as the first embodiment.

次に本発明の第8の実施例について説明“丈る。。Next, the eighth embodiment of the present invention will be explained.

第8図(α)〜(C)は本発明の第8の実施列たる一契
造方法を工程順に示す断面図である。第1の実施例と同
様の工程についてはその詳細な説明奮省略する。
FIGS. 8(α) to 8(C) are cross-sectional views illustrating, in order of steps, a construction method that is the eighth embodiment of the present invention. Detailed explanation of steps similar to those in the first embodiment will be omitted.

先ず、前記第1の実施例と同様にして第1の凹凸部6七
表面に備えた基板1を形成する(第8図(α)参照)0 次に、第8図(b)に示すように基板1の表面に厚さ7
00Aでネガタイプの7オトレジストffiスピナーコ
ーテイングして凹凸形成層7を形成する0そして基板1
奮ターンテーブルに#、置して回転させながら対物レン
ズ9で集光したレーザー光全前記第1の凹凸部6上に位
置している凹凸形成層7に照射してこれ全トレースする
。そしてトレース中に、信号情報用ピットに設けるべき
取置でV−デー光の光量を増大して前記凹凸形成層7に
フォトレジスト露光部10全形成する。
First, the substrate 1 provided on the surface of the first uneven portion 67 is formed in the same manner as in the first embodiment (see FIG. 8(α)). Next, as shown in FIG. 8(b), the substrate 1 is formed. on the surface of substrate 1 with a thickness of 7
Negative type 7 photoresist ffi spinner coating with 00A to form unevenness forming layer 70 and substrate 1
While the laser beam is placed on a turntable and rotated, the laser beam focused by the objective lens 9 is irradiated onto the unevenness forming layer 7 located on the first unevenness portion 6 and traced. Then, during tracing, the amount of V-day light is increased by setting aside the pits for signal information, and the entire photoresist exposed portion 10 is formed on the unevenness forming layer 7.

そして、前記凹凸形成層7を現像定着すること゛によっ
て前記フォトレジスト露光部10以外の部分全除去する
と、第8図(C)に示すように、残存しているフォトl
/シスト露光部10によって第2の凹凸部11が形成さ
れ、その結果高さ700Aのトラッキングガイドに相当
する第1の凹凸部6と高さ1400,4の(M号情報用
・ビットに相当する第2の凹凸部11とを備えた情報記
憶媒体用原盤が製造されることになる。
When the unevenness forming layer 7 is completely removed except for the photoresist exposed area 10 by developing and fixing it, the remaining photoresist layer 7 is removed as shown in FIG. 8(C).
/A second uneven part 11 is formed by the cyst exposure section 10, and as a result, a first uneven part 6 corresponding to a tracking guide with a height of 700A and a first uneven part 6 with a height of 1400,4 (for M number information/corresponding to a bit) are formed. A master disk for an information storage medium including the second uneven portion 11 will be manufactured.

このような第8の実施例によっても第1の実施例とほぼ
同様の効果を得ることができる。特に凹凸形成層vi−
7ミー7オトレジストて構成したので、エツチング工程
が不要となシ、第2の凹凸部を極めて容易に形成するこ
とができるという特有の効果全有するものである。
The eighth embodiment can also provide substantially the same effects as the first embodiment. In particular, the unevenness forming layer vi-
Since it is constructed using a 7-me-7 photoresist, it has all the unique effects of not requiring an etching process and making it possible to form the second uneven portions extremely easily.

次に本発明の第9の実施例について説明する。Next, a ninth embodiment of the present invention will be described.

第9図(α)〜(d)は本発明の第9の実施例たる製造
方法を工程順に示す断面図である。第8の実施例と同様
の工程についてはその詳IIIな説明を省略する。
FIGS. 9(α) to 9(d) are cross-sectional views showing the manufacturing method according to the ninth embodiment of the present invention in the order of steps. A detailed explanation of the steps similar to those in the eighth embodiment will be omitted.

先ず、第9図(a)釦示すように、表面全研磨したガラ
ス製の基板1上にネガタイプの7オトレジストヲスビナ
コーテイングしてフォトレジスト層2を形成する。さら
に対物レンズろで集光したレーザー光で前記フォトレジ
スト層20表面を同心円状又はスパイラル状に露光して
フォトレジスト露光部4葡形成する。そして前記フォト
レジスト層2會現像定着してフォトレジスト4光部4以
外の部分を除去し、除去した部分から前記基板1全露出
させる。
First, as shown in FIG. 9(a), a photoresist layer 2 is formed by coating a negative type photoresist on a glass substrate 1 whose surface has been completely polished. Further, the surface of the photoresist layer 20 is exposed concentrically or spirally with a laser beam focused by an objective lens to form a photoresist exposed portion 4 . Then, the photoresist layer 2 is developed and fixed, and the portions of the photoresist 4 other than the light portion 4 are removed, and the entire substrate 1 is exposed from the removed portion.

次に、第9図(h)に示すように残存しているフォトレ
ジスト露光部4全マスクとし、このマスクから露出して
いる基板1の表面全閉さ700Aだけエツチングする。
Next, as shown in FIG. 9(h), the remaining photoresist exposure portion 4 is entirely masked, and the surface of the substrate 1 exposed from this mask is etched by a completely closed area 700A.

この結果、残存しているフォトレジスト露光部4の下に
岐高さ700Aの給1の凹凸部6が形成されることにな
る。なおエツチング液としてはフッ酸6%とフッ化アン
モニウム40%の混合液全使用することが望ましい0そ
の後残存しているフォトレジスト露光部4全有機溶剤に
て溶解して除去することにより、表面に第1の凹凸部6
を備えた基板1が形成されることになる。
As a result, a concavo-convex portion 6 having a height of 700 A is formed under the remaining photoresist exposed portion 4. It is preferable to use a mixed solution of 6% hydrofluoric acid and 40% ammonium fluoride as the etching solution.Then, by dissolving and removing the remaining photoresist exposed areas 4 with an organic solvent, the surface will be etched. First uneven portion 6
A substrate 1 having the following structure will be formed.

その後の工程社前記第8の実施例と同様であシ、ネガタ
イプのフォトレジストによって凹凸形成層7全形成し、
そこに第2の凹凸部11を形成する(第9図CC) 、
 (d)参照)。この結果高さ700Aのトラッキング
ガイドに相当する第1の凹凸部6と、高さ1400λの
信号情報用ビットに相当する第2の凹凸部11と4備え
る情報記憶媒体用原盤が製造されることになる。
The subsequent process is the same as in the eighth embodiment, and the unevenness forming layer 7 is entirely formed using a negative type photoresist.
A second uneven portion 11 is formed there (FIG. 9 CC),
(see (d)). As a result, a master disk for an information storage medium is manufactured which includes a first uneven portion 6 corresponding to a tracking guide with a height of 700A and a second uneven portion 11 and 4 corresponding to a signal information bit with a height of 1400λ. Become.

このような第9の実施例によっても第1の実施例と#I
は同様の効果を得ることができる。
Such a ninth embodiment also has the same characteristics as the first embodiment and #I.
can achieve a similar effect.

なお上記実施例は一例であ)、本発明の要旨の範囲内に
おいて種々の変形実施ができることは言う壕でもない。
It should be noted that the above-mentioned embodiment is just an example), and it is not to be said that various modifications can be made within the scope of the gist of the present invention.

特に各実施例においては、1つの製造方法と、それによ
って製造された情報記憶媒体用原盤について説明したが
、各原盤は尚該実施例で説明した方法によって製造され
友ものに限定されるものではなく、他の方法によって製
造することも可能である。また各実施例で説明した第1
の凹凸部及び第2の凹凸部が転写されることによってト
ラッキングガイドと信号情報用ビットと全備えた情報記
憶媒体が製造されることになるが、その際のトラッキン
グガイド及び信号情報用ビットのトラックに沿った方向
に直角な断面の幅に関しては、信号情報用ビットの方を
狭くするように前記第1の凹凸部及び第2の凹凸部を形
成することも可能である。特にこのような原盤によって
製造される情報記憶媒体にあっては、トラッキングガイ
ドの幅のほうが信号情報用ビットの幅に比らべて広くな
っているので、情報の読取シに際してはトラッキングガ
イドの外で反射する光量よ少もトラッキングガイドの中
から反射する光電の方が非常に多くなり、そのため両反
射光の干渉によって従来化じていた光反射強度の低下全
抑制することができる。この結果、トラッキングガイド
上での光反射レベルが高くなり、信号情報用ビットやそ
の他の情報を記憶した記録層の部分からの光反射レベル
との間に大きな光反射レベル差金得ることができるよう
になり、情報読取りのS/N比ヲ亘好にして正確な情報
の読取りが可能になる。
In particular, in each example, one manufacturing method and a master disc for an information storage medium manufactured using the method have been described, but each master disc is manufactured by the method described in the example and is not limited to the following. It is also possible to manufacture it by other methods. In addition, the first
By transferring the concavo-convex portion and the second concave-convex portion, an information storage medium including a tracking guide and a signal information bit is manufactured. Regarding the width of the cross section perpendicular to the direction along , it is also possible to form the first uneven portion and the second uneven portion so that the width of the signal information bit is narrower. In particular, in information storage media manufactured using such master discs, the width of the tracking guide is wider than the width of the signal information bits, so when reading information, the outside of the tracking guide must be used. Even though the amount of light reflected from the tracking guide is much smaller than the amount of light reflected from inside the tracking guide, the amount of photoelectricity reflected from inside the tracking guide is much larger, so that the decrease in light reflection intensity that has conventionally been caused by interference between both reflected lights can be completely suppressed. As a result, the light reflection level on the tracking guide becomes high, and a large difference in light reflection level can be obtained between the light reflection level from the part of the recording layer that stores signal information bits and other information. This improves the S/N ratio for information reading, making it possible to read information accurately.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上の説明から明らかなように、本発明の情報記憶媒体
用原盤にあっては、トラッキングガイド゛と、信号情報
用ビットとが精度良く形成されているので、正確た情報
の読取シや安定したトラッキングを行なうことのできる
情報記憶媒体の量産に資することができるなどの優れた
効果を有するものであり、さらに本発明の情報記憶媒体
用原盤の製造方法にあっては、トラッキングガイドと信
号情報用ビットと全精度良く、シかも比較的容易に形成
することができ、ひいては生産性の同上と製造コストの
低減と全図ることができるなどの優れた効果を有するも
のである。
As is clear from the above explanation, in the information storage medium master of the present invention, the tracking guide and the signal information bits are formed with high precision, so that accurate information reading and stable This has excellent effects such as being able to contribute to the mass production of information storage media that can perform tracking, and furthermore, in the method of manufacturing a master for an information storage medium of the present invention, a tracking guide and a signal information recording medium are used. It is possible to form bits with high precision and relatively easily, and has excellent effects such as improving productivity and reducing manufacturing costs.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図(a)〜(イ)は本発明の第1の実施例たる製造
方法を工程順に示す断面図、第2図(α)〜(りは本発
明の第2の実施例たる製造方法全工程順に示す断面図、
第3図(α)〜(C)Fi本発明の第6の実施例たる製
造方法を工程順に示す断面図、第4図(a)〜(e)は
本発明の第4の実施例たる製造方法を工程順に示す断面
図、第5図(α)〜(7)は本発ツ」の第5の実施例た
る製造方法を工程順に示す断面図、第6図(α)〜(d
)は本発8J]の第6の実施例たる製造方法全工程順に
示す断面図、第7図(α)〜(C) iJ:本発明の第
7の実施例たる製造方法全工程順に示す断面図、第8図
(α)〜(C)は本発明の第8の実施例たる製造方法を
工程順に示す断面図、第9図(α)〜(d、)は本発明
の第9の実施例たる製造方法全工程順に示す断面図であ
る0 1・・・基板、  6・・・第1の凹凸部、  7・・
・凹凸形成層、  11・・・第2の凹凸部。 第6図
FIGS. 1(a) to 1(a) are cross-sectional views showing the manufacturing method according to the first embodiment of the present invention in the order of steps, and FIGS. Cross-sectional diagram showing all steps in order,
Fig. 3 (α) to (C) Fi is a cross-sectional view showing the manufacturing method according to the sixth embodiment of the present invention in order of steps, and Fig. 4 (a) to (e) are cross-sectional views showing the manufacturing method according to the fourth embodiment of the present invention. 5 (α) to (7) are cross-sectional views showing the manufacturing method according to the fifth embodiment of the present invention in order of steps, and FIGS. 6 (α) to (d)
) are cross-sectional views shown in order of all steps of the manufacturing method according to the sixth embodiment of the present invention, and FIGS. 8(α) to (C) are sectional views showing the manufacturing method according to the eighth embodiment of the present invention in order of steps, and FIGS. 9(α) to (d) are sectional views showing the ninth embodiment of the present invention. 0 1...Substrate, 6...First uneven portion, 7...
- Unevenness forming layer, 11... second unevenness part. Figure 6

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (1)  集光したレーザーう℃により情報を読取ると
とが可能な情報記憶媒体全量産ツーるだめの原盤におい
て、表面に第1の凹凸部金儲えた基板と、この基板表面
忙設けられた凹凸形成層の一部ヶ除去して形成された第
2の凹凸部と’r、J<備すること全特徴とする情報記
憶媒体用原盤。 なくとも、表面に第1の凹凸部金儲え7c基板表面に凹
凸形成層を設け、この凹凸形成層の一部ケ除去すること
によって第2の凹凸部を形成する工程を経て作成される
ことを軽微と1−る情報記憶媒体用原盤の製造方法。 (3)前記凹凸形成層は、感光性物質から成る感光層で
あシ、この感光層を部分的に露光°Tることによって第
2の凹凸部を形成すること孕特徴とする特許請求の範囲
第2項記載の情報記憶媒体用原盤の製造方法。 (4)前記感光層は、フ第1・レジストから成るフォト
レジスト層であること全特徴とする特許請求の範囲第6
項記載の情報記憶媒体用原盤の製造方法0 (5)前記感光層は、放射エネルギを吸収して部分的に
高温になることによ、!72種類の異なる物質が混合又
は拡散する一組の物質から成ること全特徴とする特許請
求の範囲第6項記載の情報記憶媒体用原盤の製造方法。 (6)前記凹凸形成層は、エツチング可能な物質によっ
て形成し、その一部1エツチングすることによって第2
の凹凸部に形成すること全特徴とする特許請求の範囲第
2項記載の情報記憶媒体用原盤の製造方法。
[Claims] (1) In a master disc for mass production of information storage media capable of reading information using a focused laser beam, a substrate having a first uneven portion on its surface and A master disk for an information storage medium, comprising: a second uneven portion formed by partially removing an unevenness forming layer formed on the surface of a substrate; At least, it is created through a step of providing a first unevenness forming layer on the surface of the substrate, and forming a second unevenness by partially removing this unevenness forming layer. 1. A method for manufacturing a master disc for an information storage medium, which has a slight amount of damage. (3) The unevenness forming layer is a photosensitive layer made of a photosensitive material, and the second unevenness is formed by partially exposing the photosensitive layer to light. 2. The method for manufacturing a master disc for an information storage medium according to item 2. (4) The photosensitive layer is a photoresist layer made of a first resist.
(5) The photosensitive layer absorbs radiant energy and becomes partially heated to a high temperature. 7. The method for manufacturing a master disk for an information storage medium according to claim 6, characterized in that it consists of a set of substances in which 72 different substances are mixed or diffused. (6) The unevenness forming layer is formed of an etching material, and by etching a part of it, a second layer is formed.
3. The method for manufacturing a master for an information storage medium according to claim 2, characterized in that the uneven portions are formed on the uneven portions.
JP14977182A 1982-08-28 1982-08-28 Master disk for information storing medium and its production Pending JPS5938946A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14977182A JPS5938946A (en) 1982-08-28 1982-08-28 Master disk for information storing medium and its production

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14977182A JPS5938946A (en) 1982-08-28 1982-08-28 Master disk for information storing medium and its production

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS5938946A true JPS5938946A (en) 1984-03-03

Family

ID=15482370

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14977182A Pending JPS5938946A (en) 1982-08-28 1982-08-28 Master disk for information storing medium and its production

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5938946A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2723986B2 (en) Manufacturing method of optical disc master
US5676854A (en) Optical memory having narrowed track pitch
JPS5911551A (en) Optical information storage medium
JPS63255846A (en) Optical disk with guide groove
CN101329883A (en) Recording medium, its manufacturing method, mother disc for recording medium, and its manufacturing method
JP3040894B2 (en) Optical disk substrate and optical disk
JPS60170045A (en) Production of optical disk with address and guide groove
JPH0453015B2 (en)
JPH0770094B2 (en) Method for manufacturing disc-shaped optical recording medium and photomask for manufacturing
US5286583A (en) Method of manufacturing a photomask for an optical memory
JPH11353656A (en) Optical recording medium, substrate for optical recording medium, production of master disk and track access method
JPS5938946A (en) Master disk for information storing medium and its production
JPH0512776B2 (en)
JPS5933645A (en) Master disk for information storing medium and its production
JPS5938947A (en) Master disk for information storing medium
JPH11102541A (en) Production method of matrix of optical disk
JPS5940338A (en) Master disk for information storing medium and its production
JPS5940337A (en) Master disk for information storing medium and its production
JPS5940341A (en) Production of information recording medium
KR100188922B1 (en) Method of manufacturing glass substrate and photo mask for optical disc
JPS5933644A (en) Master disk for information storing medium and its production
JPS5914151A (en) Original board for information storage medium and its production
JPS5979442A (en) Optical recording medium
JP2002184032A (en) Optical disk and its manufacturing method
JPS5940342A (en) Production of information recording medium