JPS5934806Y2 - High frequency heating device - Google Patents

High frequency heating device

Info

Publication number
JPS5934806Y2
JPS5934806Y2 JP6188179U JP6188179U JPS5934806Y2 JP S5934806 Y2 JPS5934806 Y2 JP S5934806Y2 JP 6188179 U JP6188179 U JP 6188179U JP 6188179 U JP6188179 U JP 6188179U JP S5934806 Y2 JPS5934806 Y2 JP S5934806Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heater
intermediate plate
plate
wall surface
heating chamber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP6188179U
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS55162007U (en
Inventor
成一 佐藤
孝明 高椋
Original Assignee
株式会社東芝
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社東芝 filed Critical 株式会社東芝
Priority to JP6188179U priority Critical patent/JPS5934806Y2/en
Publication of JPS55162007U publication Critical patent/JPS55162007U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPS5934806Y2 publication Critical patent/JPS5934806Y2/en
Expired legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Control Of High-Frequency Heating Circuits (AREA)
  • Electric Stoves And Ranges (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 〔考案の技術分野〕 本考案は電気オーブン機能を備えた高周波加熱装置に関
する。
[Detailed Description of the Invention] [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a high frequency heating device with an electric oven function.

〔考案の技術的背景とその問題点〕 一般に電気オーブン機能を備えて被調理物をオーブン調
理することが可能な高周波加熱装置は電気オーブン機能
を使用しているとき被調理物から出−るかす等が加熱室
の壁面に付着し汚れがひどくなる問題が生じた。
[Technical background of the invention and its problems] In general, high-frequency heating devices equipped with an electric oven function and capable of cooking food in an oven do not allow waste to be removed from the food when the electric oven function is used. etc., adhered to the walls of the heating chamber, causing serious staining.

この加熱室壁面の汚れは被調理物から出るかす等に含ま
れるたとえば水分、炭化水素、脂肪、塩分などの中で壁
面に付着後水分のみが蒸発し残りの炭化水素や脂肪等が
高分子化しワニス状になることが主な理由である。
The dirt on the walls of the heating chamber is caused by moisture, hydrocarbons, fat, salt, etc. contained in the scraps from the food being cooked, which adhere to the walls, and then only the moisture evaporates and the remaining hydrocarbons, fats, etc. turn into polymers. The main reason is that it becomes varnish-like.

この問題に対してこのワニス化した壁面状の汚れは高温
度たとえば700℃以上で充分な酸素をもちいて焼きき
れば二酸化炭素と水に分解可能であるが一般の電気オー
ブンでは分解可能に高温度にすることが困難なことやあ
まり高温度にすると他の部品まで酸化し器具の寿命を著
しく低下させることになる。
In response to this problem, this varnished wall stain can be decomposed into carbon dioxide and water if it is baked at a high temperature, e.g., 700°C or higher, with sufficient oxygen, but it cannot be decomposed in a general electric oven at a high temperature. If the temperature is too high, it will oxidize other parts and significantly shorten the life of the appliance.

このようなことから従来第1図及び第2図に示すように
セルフクリーニングホーロー1を加熱室2の天井板3内
壁にヒータ4と接近対向して施す構造が採用された。
For this reason, as shown in FIGS. 1 and 2, a structure has been adopted in which a self-cleaning enamel 1 is applied to the inner wall of a ceiling plate 3 of a heating chamber 2 in close proximity to and facing a heater 4.

このようにするとセルフクリーニングホーロー面は後述
するように触媒作用が十分に働く500℃以上の温度に
なり前記ワニス状の汚れを分解、酸化し水と二酸化炭素
として放出し、セルフクリーニングホーロー1を施した
天井板3の内壁面の汚れを取りのぞくことが出来る。
When this is done, the surface of the self-cleaning enamel reaches a temperature of 500°C or higher, at which the catalytic action is sufficiently effective, as will be described later, and the varnish-like dirt is decomposed and oxidized, releasing water and carbon dioxide. Dirt on the inner wall surface of the ceiling board 3 can be removed.

しかしながら以上のような構造では新たに次のような問
題が生じる。
However, with the above structure, the following new problem arises.

すなわちセルフクリーニングホーロー面を触媒作用が十
分に働くたとえば500℃〜560℃の高温にするため
にはヒータ4をかなり天巾板3に接近して設ける必要が
あり、この天井板3を通常形成しているステンレス板が
ヒータ4の加熱により熱変化をおこしベコ音等を生スる
That is, in order to raise the self-cleaning hollow surface to a high temperature of, for example, 500°C to 560°C, at which the catalytic action is sufficiently effective, it is necessary to install the heater 4 quite close to the ceiling plate 3, and this ceiling plate 3 is normally formed. When the stainless steel plate is heated by the heater 4, it undergoes a thermal change and generates a rattling sound.

この熱変形に対して天井板3の外壁に断面はぼコ字状の
補強板5を設けてこの天井板3の強度を増し熱変形に増
い構造に作成されているがこれでは補強板5の付加によ
りコスト高となる。
To prevent this thermal deformation, a reinforcing plate 5 having a hollow cross section is provided on the outer wall of the ceiling plate 3 to increase the strength of the ceiling plate 3 and to prevent thermal deformation. The cost increases due to the addition of

また加熱された庁井板3は外部に熱リークし加熱室2内
の温度を下げ効率を低下させる。
Furthermore, the heated office plate 3 leaks heat to the outside, lowering the temperature inside the heating chamber 2 and lowering efficiency.

〔考案の目的〕[Purpose of invention]

本考案は以上のような点に鑑みてなされたもので、加熱
室壁面の変形を防止し、効率を低下させることのない高
周波加熱装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above points, and an object thereof is to provide a high-frequency heating device that prevents deformation of the heating chamber wall surface and does not reduce efficiency.

〔考案の概要〕[Summary of the idea]

本考案は上記目的を達成するために導波管の第1のマイ
クロ波励振口を有する加熱室内壁面に接近対向したヒー
タを設け、このヒータと前記内壁面との間にセルフクリ
ーニングホーローを施した面をヒータと対向させた中間
板を配設し、この中間板には前記第1のマイクロ波励振
口と対向する部分に第2のマイクロ波励振口を設けた構
成とするものである。
In order to achieve the above object, the present invention provides a heater that is closely opposed to the wall surface of the heating chamber having the first microwave excitation port of the waveguide, and provides a self-cleaning hollow between the heater and the inner wall surface. An intermediate plate is provided with a surface facing the heater, and a second microwave excitation port is provided in a portion of the intermediate plate that faces the first microwave excitation port.

〔考案の実施例) 以下本考案の一実施例の構造を第3図〜第5図をもちい
て説明する。
[Embodiment of the invention] The structure of an embodiment of the invention will be described below with reference to FIGS. 3 to 5.

第3図および第4図は中間板を取り付けて示す加熱室の
一部切り欠いた縦断面図を示すもので10と11はそれ
ぞれ天井板と側板でスポット溶゛接により結合され加熱
室12を形成する。
Figures 3 and 4 show partially cutaway vertical cross-sectional views of the heating chamber with the intermediate plate attached, and 10 and 11 are the ceiling plate and side plate, respectively, which are joined by spot welding and form the heating chamber 12. Form.

この天井板10にはその外壁に沿って一方にマグネトロ
ン13を取り付けた断面矩形の導波管14が固着され、
天井板10のほぼ中央で導波管14の下面に形成された
第1のマイクロ波励振口15を通して前記マグネトロン
13で発生したマイクロ波を加熱室12に送りこむ。
A waveguide 14 with a rectangular cross section and a magnetron 13 attached to one end is fixed to the ceiling plate 10 along its outer wall.
Microwaves generated by the magnetron 13 are sent into the heating chamber 12 through a first microwave excitation port 15 formed on the lower surface of the waveguide 14 at approximately the center of the ceiling plate 10.

さてこの天井板10の内壁面10aにはこれと接近対向
して設けられるヒータ16とこのヒータ16と天井板1
0の内壁面10aとの間に内壁面10aに接近対向して
設けられる中間板17とを支持する4個の中間板取付板
18および2個のヒータ支持板19がビス止め等により
取り付けられている。
Now, on the inner wall surface 10a of this ceiling board 10, there is a heater 16 provided close to and opposite to this, and this heater 16 and the ceiling board 1.
Four intermediate plate mounting plates 18 and two heater support plates 19 supporting an intermediate plate 17 provided close to and facing the inner wall surface 10a between the inner wall surface 10a of the inner wall surface 10a and the inner wall surface 10a of There is.

すなわち前記ヒータ16は矩形状に形成され、右側板1
1aの上部はぼ中央から電源供給端子16aを加熱室1
2の外部に出し、その両側部16bを前記ヒータ支持板
19の底部19aに支持することにより天井板10の内
壁面10aK接近対向して取り付けられる。
That is, the heater 16 is formed in a rectangular shape, and the heater 16 is formed in a rectangular shape, and
Connect the power supply terminal 16a from the center of the upper part of 1a to the heating chamber 1.
2 and its both sides 16b are supported by the bottom 19a of the heater support plate 19, so that the heater support plate 10 is mounted close to and facing the inner wall surface 10aK of the ceiling plate 10.

次に前記中間板1Tの構造についてさらに第5図をもち
いて説明する。
Next, the structure of the intermediate plate 1T will be further explained using FIG. 5.

20は中間板1γの外周にそって設げられた立ち上り部
である。
20 is a rising portion provided along the outer periphery of the intermediate plate 1γ.

18はほぼ四角形に形成された中間板17内面のそれぞ
れの角付所に1個づつ合計して4個スポット溶接により
設けられた中間板取付板で、ヒータ支持板19より天井
板10の内壁面10aからの距離が短いため前記ヒータ
16と天井板100間に前記中間板11を支持する。
Reference numeral 18 denotes intermediate plate mounting plates, which are provided by spot welding, one at each corner of the inner surface of the intermediate plate 17, which is formed into a substantially rectangular shape. Since the distance from 10a is short, the intermediate plate 11 is supported between the heater 16 and the ceiling plate 100.

21はヒータ支持板19を通すヒータ支持板通し孔で天
井板10の内壁面10aにビス等により固着されたヒー
タ支持板19はこのヒータ支持板通し孔21を通して中
間板17の外部に突出し前記ヒータ16を支持する。
Reference numeral 21 denotes a heater support plate through hole through which the heater support plate 19 passes; the heater support plate 19, which is fixed to the inner wall surface 10a of the ceiling plate 10 with screws or the like, protrudes to the outside of the intermediate plate 17 through the heater support plate through hole 21, and the heater I support 16.

また22はこの中間板11のほぼ中央に設けられた第2
のマイクロ波励振口で導波管14の内部を伝って加熱室
12に導入されたマイクロ波を前記中間板1Tがさえぎ
るのを防止する。
Further, 22 is a second plate provided approximately in the center of this intermediate plate 11.
This prevents the intermediate plate 1T from blocking the microwaves introduced into the heating chamber 12 through the inside of the waveguide 14 at the microwave excitation port.

さらに前記ヒータ16に接近対向して設けられた中間板
1γのヒータ16に対向する面にはセルフクリーニング
ホーローが全面にわたって施されセルフクリーニングホ
ーロー面23を形成する。
Furthermore, a self-cleaning hollow is applied over the entire surface of the intermediate plate 1γ, which is provided close to and facing the heater 16, to form a self-cleaning hollow surface 23.

すなわちセルフクリーニングホーロー面23は500℃
以上の温度により、このホーロー面23に付着したフェ
ス状の高分子を効果的に分解、酸化するための分解触媒
と酸化触媒を含む触媒層を軟鋼、アルミニュウムなどで
形成された中間板110表面に形成したものである。
In other words, the temperature of the self-cleaning hollow surface 23 is 500°C.
At the above temperature, a catalyst layer containing a decomposition catalyst and an oxidation catalyst for effectively decomposing and oxidizing the face-shaped polymer attached to the enamel surface 23 is formed on the surface of the intermediate plate 110 made of mild steel, aluminum, etc. It was formed.

以上のよ5な構成において次に作用を説明する。The operation of the five configurations described above will be explained next.

オープン調理をする場合、まず加熱室12内に被調理物
を入れた後、前記電源供給端子16aに接続された図示
しない電源供給部からヒータ16に電源を供給するとこ
のヒータ16は発熱しはじめ、その輻射熱により調理は
開始される。
In the case of open cooking, after first placing the food to be cooked in the heating chamber 12, when power is supplied to the heater 16 from a power supply section (not shown) connected to the power supply terminal 16a, the heater 16 begins to generate heat. The radiant heat starts cooking.

次に被調理物が加熱されはじめるとこれから出る油やか
す等が加熱室12の内壁面や前記中間板ITのセルフク
リーニングホーロー面23に飛びちり付着する。
Next, when the food to be cooked starts to be heated, oil, dregs, etc. that come out of the food fly and adhere to the inner wall surface of the heating chamber 12 and the self-cleaning hollow surface 23 of the intermediate plate IT.

しかしセルフクリーニングホーロー面23は前記ヒータ
16に接近対向して設けられており触媒が作用を開始す
るたとえば500℃以上に加熱されるためこの触媒が前
記セルフクリーニングホーロー面23に付着した油やか
す等の高分子を分解、酸化し算終的に水と二酸化炭素と
して放出する。
However, since the self-cleaning hollow surface 23 is provided close to and facing the heater 16, the catalyst starts to work, for example, when it is heated to 500° C. or higher, the catalyst may cause oil or debris to adhere to the self-cleaning hollow surface 23. decomposes and oxidizes the macromolecules, ultimately releasing water and carbon dioxide.

すなわちセルフクリーニングホーロー面23に分解触媒
として含まれるたとえば塩化アルミニューム(Atct
3)被調理物から発生するかす等に含まれる炭化水素類
などの高分子を酸化しやすいように低分子に分解し、酸
化触媒として含まれるたとえば五酸化バナジューム(V
2O3)は低分子化された前記炭化水素類を水と二酸化
炭素に分解する。
That is, for example, aluminum chloride (Atct) contained as a decomposition catalyst in the self-cleaning hollow surface 23
3) Decomposes macromolecules such as hydrocarbons contained in the scraps etc. generated from the food to be cooked into low molecules so that they can be easily oxidized. For example, vanadium pentoxide (V
2O3) decomposes the lower molecular weight hydrocarbons into water and carbon dioxide.

またヒータ16からの輻射熱は前記中間板11によりさ
えぎられ直接に天井板10にとどかないため天井板10
の温度は中間板17はど高温度になら々い。
Furthermore, the radiant heat from the heater 16 is blocked by the intermediate plate 11 and does not reach the ceiling plate 10 directly.
The temperature of the intermediate plate 17 is as high as that of the intermediate plate 17.

すなわちこの中間板1Tが熱的に緩衝板の役目をはたし
ヒータ16からの輻射熱を吸収および反射するため中間
板11は触媒が働くほどに高温度になっても天井板10
の温度はそれほど上らない。
That is, this intermediate plate 1T serves as a thermal buffer plate and absorbs and reflects radiant heat from the heater 16, so that even if the intermediate plate 11 reaches a temperature high enough to activate the catalyst, the ceiling plate 10
temperature does not rise that much.

また、マイクロ波による調理をする場合、第4図のよう
に、中間板11に第2のマイクロ波励振口22が設けら
れているので、マグネトロン13からのマイクロ波は第
1及び第2のマイクロ波励振口t5.22を通って加熱
室12内に放射され被調理物が加熱される。
Furthermore, when cooking with microwaves, as shown in FIG. The waves are radiated into the heating chamber 12 through the wave excitation port t5.22, and the food to be cooked is heated.

以上のように本実施例によれば天井板10の内壁面10
aと接近対向して設けられたヒータ16との間にセルフ
クリーニングホーロー面23が前記ヒータ16に接近対
向するように中間板17を設けたことにより天井板10
に対して熱的に緩衝板の役目をはたすため天井板10の
温度は中間板ITはど高温度にならないので熱変形の心
配がなくさらに天井板10からの熱り−クをおさえるこ
とが出来効率を低下させることtlい効果がある。
As described above, according to this embodiment, the inner wall surface 10 of the ceiling board 10
The ceiling plate 10 is provided with an intermediate plate 17 between the heater 16 and the heater 16 provided so that the self-cleaning hollow surface 23 approaches and opposes the heater 16.
Since the temperature of the ceiling plate 10 does not reach as high as that of the intermediate plate IT, the temperature of the ceiling plate 10 acts as a thermal shock absorbing plate for the intermediate plate IT, so there is no need to worry about thermal deformation, and the heat leakage from the ceiling plate 10 can be suppressed. This has the effect of reducing efficiency.

また中間板ITにマイクロ波励振口22を設げたことに
より、マイクロ波を効率良く加熱室内に供給できる。
Further, by providing the microwave excitation port 22 in the intermediate plate IT, microwaves can be efficiently supplied into the heating chamber.

なお、第3図の実施例によればヒータ支持板19は従来
磁器あるいは瀬戸物などで形成されていたが、これを金
属で形成したことにより誤って無負荷状態で電子レンジ
を作動させても従来のようにこのヒータ支持板19にマ
イクロロ波電界が集中することにより赤熱し破損する恐
れがない効果がある。
In addition, according to the embodiment shown in FIG. 3, the heater support plate 19 was conventionally made of porcelain or china, but since it is made of metal, even if the microwave oven is accidentally operated in a no-load state, As shown in FIG. 2, the microwave electric field is concentrated on the heater support plate 19, so that there is no risk of the heater support plate 19 becoming red hot and being damaged.

〔考案の効果〕[Effect of idea]

以上説明したように本考案によれば、導波管の第1のマ
イクロ波励振口を有する加熱室内壁面に接近対向してヒ
ータを設げ、このヒータと前記内壁面との間にセルフク
リーニングホーローを施した面をヒータと対向させた中
間板を配設し、この中間板には第1のマイクロ波励振口
と対向する部分に第2のマイクロ波励振口を設けたこと
により、電気オープンでの調理はもとよりマイクロ波に
よる加熱調理を効率良く行なえるなど幅広い朝理が実施
できる。
As explained above, according to the present invention, a heater is provided close to and opposite to the wall surface of the heating chamber having the first microwave excitation port of the waveguide, and a self-cleaning hollow is provided between the heater and the inner wall surface. An intermediate plate is provided, the surface of which has been subjected to heating facing the heater, and a second microwave excitation port is provided on the intermediate plate in a portion opposite to the first microwave excitation port, thereby making it possible to electrically open. It can be used for a wide range of cooking tasks, including efficient cooking using microwaves.

またヒータ使用時には中間板が高温度に加熱されること
から、この中間板に施したセルフクリーニングホーロー
の触媒作用により調理中、中間板に付着する汚れを分解
して取除くことができるため清掃が不要となる。
In addition, since the intermediate plate is heated to a high temperature when using the heater, the catalytic action of the self-cleaning enamel applied to this intermediate plate can decompose and remove dirt that adheres to the intermediate plate during cooking, making cleaning easier. No longer needed.

しかもこの中間板は熱的に緩衝板の役目をはたし、中間
板はど内壁面は高温に変化しないため加熱室壁面の熱変
形を抑制し、かつ壁面からの熱輻射を抑えることができ
、熱効率を低下させることがない。
Moreover, this intermediate plate serves as a thermal buffer plate, and the inner wall surface of the intermediate plate does not change to high temperature, so it is possible to suppress thermal deformation of the heating chamber wall surface and suppress heat radiation from the wall surface. , without reducing thermal efficiency.

また前記内壁面の温度が抑制できるので導波管への熱伝
導が少なくなリマグネトロンの熱影響がほとんどなくな
り信頼性が向上できる。
Further, since the temperature of the inner wall surface can be suppressed, the thermal influence of the remagnetron, which has little heat conduction to the waveguide, is almost eliminated, and reliability can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来の実施例を示す高周波加熱装置の一部切り
欠き縦断面図、第2図は第1図の■−■線に沿う縦断面
図、第3図は本考案の一実施例を示す高周波加熱装置の
一部切り欠き縦断面図、第4図は第3図のIV−IV線
に沿う縦断面図、第5図は中間板の斜視図である。 図中、10aは内壁面、12は加熱室、16はヒータ、
11は中間板、23はセルフクリーニングホーロー面で
ある。
Fig. 1 is a partially cutaway longitudinal sectional view of a high-frequency heating device showing a conventional embodiment, Fig. 2 is a longitudinal sectional view taken along the line ■-■ in Fig. 1, and Fig. 3 is an embodiment of the present invention. FIG. 4 is a longitudinal sectional view taken along line IV--IV in FIG. 3, and FIG. 5 is a perspective view of an intermediate plate. In the figure, 10a is an inner wall surface, 12 is a heating chamber, 16 is a heater,
11 is an intermediate plate, and 23 is a self-cleaning hollow surface.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] マイクロ波を導波管を介して加熱室に供給するようにし
た高周波加熱装置において、導波管の第1のマイクロ波
励振口を有する加熱室の内壁面と、この内壁面に接近対
向して設けられたヒータと、このヒータと前記内壁面と
の間にセルフクリーニングホーローを施した面が前記ヒ
ータに対向するように配設された中間板と、この中間板
には前記第1のマイクロ波励振口と対向する部分に設け
られた第2のマイクロ波励振口とを具備したことを特徴
とする高周波加熱装置。
In a high-frequency heating device in which microwaves are supplied to a heating chamber through a waveguide, an inner wall surface of the heating chamber having a first microwave excitation port of the waveguide, and an inner wall surface close to and opposite to this inner wall surface are provided. a heater provided therein; an intermediate plate disposed between the heater and the inner wall surface such that a surface provided with a self-cleaning enamel faces the heater; A high-frequency heating device comprising a second microwave excitation port provided in a portion facing the excitation port.
JP6188179U 1979-05-11 1979-05-11 High frequency heating device Expired JPS5934806Y2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6188179U JPS5934806Y2 (en) 1979-05-11 1979-05-11 High frequency heating device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6188179U JPS5934806Y2 (en) 1979-05-11 1979-05-11 High frequency heating device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS55162007U JPS55162007U (en) 1980-11-20
JPS5934806Y2 true JPS5934806Y2 (en) 1984-09-27

Family

ID=29295857

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6188179U Expired JPS5934806Y2 (en) 1979-05-11 1979-05-11 High frequency heating device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5934806Y2 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JPS55162007U (en) 1980-11-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4810846A (en) Container for heat treating materials in microwave ovens
JPS5934806Y2 (en) High frequency heating device
JP2000121064A (en) High-frequency heating device
JPH0345109Y2 (en)
JPS5911290Y2 (en) Cooking device
GB2331687A (en) Microwave oven with drainage holes
JP3708008B2 (en) Clad material and manufacturing method thereof
JPH0217438Y2 (en)
JPS5918241Y2 (en) High frequency heating device
JPS6113843Y2 (en)
JPS5910490Y2 (en) High frequency heating device with heater
JPS63189717A (en) Heating cooker
JPH09318066A (en) High frequency heating and cooking device
JP3985339B2 (en) Cooker
JPS6012969Y2 (en) High frequency heating device
JP2574954Y2 (en) Cooking device
JPS5910485Y2 (en) High frequency heating device
JPS5985281A (en) Heat cooking utensil
JPS6215997Y2 (en)
JPH0527834Y2 (en)
JPS6095A (en) High frequency heater
JPS587134B2 (en) Microwave oven with oven
JPS582972Y2 (en) Cooking device
JPS6017824Y2 (en) High frequency heating cooker with electric heater
JPS6081795A (en) High frequency heater