JPS5932934A - Mass transfer contact apparatus - Google Patents

Mass transfer contact apparatus

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JPS5932934A
JPS5932934A JP11501483A JP11501483A JPS5932934A JP S5932934 A JPS5932934 A JP S5932934A JP 11501483 A JP11501483 A JP 11501483A JP 11501483 A JP11501483 A JP 11501483A JP S5932934 A JPS5932934 A JP S5932934A
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liquid
gas
grid
lattice
module
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ケニス・シイ・シフトナ−
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  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は気流中(て混入した固体また(−1液体粒子
全除去[7、またげ電流中の溶解可能なカス成分を除去
するためのガス、もしりC−4−γ〜体用スクラバー(
洗浄器)をハむ物質移動接触装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION This invention is a method for completely removing solid or (-1) liquid particles mixed in an air flow [7]. -γ~Body scrubber (
This article relates to a mass transfer contact device that uses a cleaning device (cleaning device).

本発明は−また、棚11.−i−気体及び液体間の親密
な接触k jji *的シて要求−rる何らかのガス処
理■二程に適用できるものである。
The present invention also includes a shelf 11. It is applicable to any gas treatment requiring intimate contact between a gas and a liquid.

この種の処理操作は、概し7て気体及び液体間の熱交換
を行なわせる処理と、物’It #、動処理L1冷却さ
れた液体と接触させることにより液体飽和し、もしくは
部分的に飽和したλ流を乾・操させる処理と、色抜き処
理(stripping)、蒸留その他の処理を含むも
のである。
Processing operations of this type generally involve heat exchange between the gas and the liquid, and the liquid is saturated or partially saturated by contacting the liquid with a cooled liquid. This process includes drying and processing the λ stream, stripping, distillation, and other treatments.

化学工業技術Qておいて(ハ、」−述のガス洗浄−1′
程に加えて、常套的に所定の容器内てガス寸たは蒸気7
!:液体とを互いに親密に接触させることにより物質移
動反応、エネルギー移動反応、及び化学反応、捷たはこ
れら全結合した反応を行なわせる種々の分野が存在する
。液体または気体の原料の流れは気液接触容器Vこ連続
的に導入され、気体及び液体の生成流が連続的に引き出
される。容器ケ通る2つの流れの流路は大部分の場合、
自流型であり、液体は容器の頂部近傍より導入され底部
から引き出されるが、逆に気体は容器の底部近傍より導
入されて頂部から引き出される。しかし7〉がら場合に
よつ−Cは2つの流れか容器内に同方向に流通する同方
向型が採用される。
Chemical industry technology Q (ha) - mentioned gas cleaning - 1'
In addition to
! There are various fields in which mass transfer reactions, energy transfer reactions, chemical reactions, reactions, or all combinations of these reactions can be carried out by bringing liquids into intimate contact with each other. A liquid or gaseous feed stream is continuously introduced into the gas-liquid contacting vessel V and a gaseous and liquid product stream is continuously withdrawn. In most cases, the two flow paths through the container are
It is a self-flowing type, and liquid is introduced near the top of the container and drawn out from the bottom, whereas gas is introduced near the bottom of the container and drawn out from the top. However, in some cases, a co-directional type is adopted in which two streams flow in the same direction in the container.

通常、気液接触容器内Vこけ受動装置、すなわち液体及
び気体が互いに所望の度合で接触することにより所望の
速度において所期の反応を生ずるようにした構造が取り
伺けられる。すなわち内部構造は何らの駆動力金も供給
されず、可動部公舎はとんど31ないという意味におい
て受動型である(ここにいう可動とは容器中全移動する
気体−またげ液体の影響下において動くことを意味−す
る)。受動装置の構造としてはバルブトレーと、充填カ
ラム及び格子企含むものが採用される。容器の設計は、
理想的には工程ぞ占処理操作及び構造(てついての考察
が1分な、Nれたものでなければならない。接触反応に
4品質(純度)及び数州(収量)の観点から一1分効率
的てなけれはならない。さらシで7効率的に供給さ右た
エネルギーを用いると古もQC、r14低の1+(力降
丁による反応を達成することが+l(四゛である。
Typically, a V-type passive device in a gas-liquid contact vessel is employed, ie, a structure in which the liquid and gas are brought into contact with each other to a desired degree to produce a desired reaction at a desired rate. In other words, the internal structure is passive in the sense that no driving force is supplied and there are almost no moving parts (moving here refers to the entire movement of the gas in the container under the influence of the liquid). ). The structure of the passive device includes a valve tray, a packed column and a grid structure. The design of the container is
Ideally, the process should take only 1 minute to consider the processing operation and structure.The contact reaction should take 11 minutes from the viewpoint of quality (purity) and yield. It must be efficient. Using the right energy supplied efficiently in the drying process, it is possible to achieve a reaction with a power of 1+ (+l) of 1+ (+l) of the old QC, r14 (low).

寸ンr装置(げ単純かつ紅済的に製作−N tl、 、
か−)容易に洗浄し、維持てきるものて・なけ才白ま、
つ・ら々い。4た容器ヅイズも!′1¥貿であり、望−
I L、 < il:↓容器は可能な限り小型で短い・
j″法(・こ仕上(jるへきである。
The device is simply and economically produced - N tl, ,
-) Something that can be easily cleaned and maintained,
Tsu・rarai. There are also 4 containers! '1¥Trade and hope-
I L, < il: ↓The container should be as small and short as possible.
j'' method (・ko finish (jruheki desu).

以−Lの考察(・1次のように要約するこ占かできる。Consideration of L (・1) It can be summarized as follows.

−tなわち気液接触装置は好才1.0:rネルギー効率
及び低い圧力時Fi/こおいて良好な41成品質と収量
を得られるものであること、また気液接触装置は単純に
製作でき、実用的であって、容易に維持できること、さ
らに最小の装置り゛イス及び高さくタワー型イス)にお
い−(最大の処理時間特性(スルーブツト容量)を実現
できるものでなければならない。
In other words, the gas-liquid contact device is capable of obtaining good 41 product quality and yield in energy efficiency and low pressure Fi/, and the gas-liquid contact device is simple. It must be manufacturable, practical, easy to maintain, and provide maximum processing time characteristics (throughput capacity) in minimal equipment space and tall tower chairs.

1、たがって本発明の基本目的は、以上の要求ケ実質的
に満足するより低い製作及び運転コストにおい−こ高い
効率を発揮するようにした気液接触装置を提供すること
である。
1. It is therefore a basic object of the present invention to provide a gas-liquid contacting device which substantially satisfies the above requirements and exhibits high efficiency at lower manufacturing and operating costs.

これらの目的及びそれ以外の目的の達成手段については
以下の詳細な説明及び図面の記載から明らかとなるであ
ろう。要約すれば、本発明の装置口装置内の気流中に配
置された特別の輪郭をイJフる格子部利1−OイJする
改良された気液接触装置である。格f・部材は理想的に
は開放容器内のガス流における理論的速度圧プロフィー
ルと接触液の静及び動波頭との代数和Vこ等しい断面ブ
ロワ・イールを有する。これは自由懸垂カテナリー型格
子によって近似的に実現される。格子には約5〜40%
′またはそれ以上の余分の深さが加えられ、こtにより
導入された液体を支持するエネルギー不均衡を生じ、し
たがってその導出を許容するものである。格子部材は剛
性−または可撓性材料から形成されるが、特に可撓性材
料の場合には洗浄に有利である。格子(づ個個に配列さ
れるか、寸たは所外!の間隔f「jに幻を−なして配列
さ7する。後者の対耐)列構成の場合にQづより改良さ
れた粒子除去性能孕イ1−する。装置は向流系及び同方
向流系におし)で用いることができる。したがって接触
用液体は〉を流、の反勾側から住人されるか、−または
気流乏−緒にtl人される。格子部組は75%以−[の
開E1面積をイJするのが効果的である。
The means for achieving these and other objects will become apparent from the following detailed description and drawings. In summary, the present invention is an improved gas-liquid contacting device that utilizes a special profile placed in the airflow within the device. The case element ideally has a cross-sectional blower eel equal to the algebraic sum V of the theoretical velocity-pressure profile of the gas flow in the open vessel and the static and dynamic wave fronts of the contacting liquid. This is approximately achieved by a free-suspending catenary-type lattice. Approximately 5-40% for the grid
An extra depth of ' or more is added, thereby creating an energy imbalance that supports the introduced liquid and thus allows its evacuation. The grid members may be made of rigid or flexible materials, but cleaning is particularly advantageous in the case of flexible materials. Particles that are improved from Q in the case of a lattice (arranged in individual pieces or arranged with an phantom spacing f'j of the latter) in the case of array configuration. Removal performance: 1-.The device can be used in counter-current and co-current systems.The contacting liquid can therefore be introduced from the opposite side of the flow, or by air flow. It is effective to reduce the open area of the lattice group by 75% or more.

カテナリー型格子Cま気流の速度11.’、 )ryフ
ィールの放物線形どの近似において人きい構造的単純性
を提供するものであるが、多少の効率の変化を伴なって
たとえば浅い円錐型や円狸列などケ用いてもよい。さら
に現イfの容器において本発明の装置を用いようとする
場合、及び現イ1の構造が1個の格子の利用に不都合で
あるよう、を場合には複数の格子モジュールケ採用する
ことができる。これらモジュールの各々id気流の速度
圧プロフィールを近似した形状の格子寸だ(rJ格千対
を含むように設計され、こJ+に1つ−Cそれらの総和
的効果を、実質り容器内に甲−の恰f−または格r・対
が懸垂支持された場合吉同様在効果に接近させるjl−
とができる。
Catenary type grid C airflow velocity 11. ', )ry field parabolic approximation provides reasonable structural simplicity, but may also be used, such as a shallow cone or a circular raccoon array, with some variation in efficiency. Furthermore, if the device of the present invention is to be used in a container of the present type f, and if the current structure of the present type a is inconvenient for the use of a single grating, it is possible to employ a plurality of grating modules. can. Each of these modules is designed to contain a grid size that approximates the velocity-pressure profile of the airflow. If the case f- or case r of - is supported in a suspended manner, jl- approaches the existing effect as in the case of -.
I can do that.

+−発明の原1?1! IJ種々の点の気液IX触装置
に適用できるものと理解−r・\きである。しかしなが
ら説明の便宜上、以上の記載においてはガススクラバー
装置に組込−まhたものとする。
+- Origin of invention 1?1! It is understood that IJ can be applied to various types of gas-liquid IX contact devices. However, for convenience of explanation, the above description assumes that it is incorporated into a gas scrubber device.

第1図を参照すると、装置(10)は汚染ガスを通過さ
せるためのハウジング部材(12) 4具備し、このハ
ウジング部イオv1人D (14)及び(lli) l
−有−rるものとして示さす1ている。これらの人口及
び出L1間(でfAI浄容型容器8)寸だは管路が配置
されている。
With reference to FIG. 1, the device (10) comprises four housing parts (12) for the passage of contaminated gases, the housing parts (14) and (lli) l
- Yes - 1 is shown as being present. A conduit is arranged between these ports and the outlet L1 (in the fAI clean container 8).

容器をでU↓゛さらにドレイン出IJ f2[]) 、
丙循環用液接続1−I i2力、及びシェブロンすなわ
ちミストエリミネータ()4)が配置されるが、こ11
らは本発明とは基本的に無関係な要素である。
Remove the container from U↓゛Further drain IJ f2[]),
C. Circulating liquid connection 1-I i2 power and chevron or mist eliminator (4) are arranged, but this 11
These are elements basically unrelated to the present invention.

容器内(〆て1/」−数の格T′一部手・1シロ)〜(
36)が懸設さハている。これらは図示し、ないが適宜
の手段、たとえば円形リム片など(でより、容器の側面
から懸架されている。こ!Lらの格子部材(は基本的し
て気流〕j向と直交するように配列されている。
Inside the container (〆te 1/''-number case T' one move/1 shiro)~(
36) is hanging. These are suspended from the sides of the container by suitable means (not shown), such as circular rim pieces. are arranged in

この図において格r−s拐(J対配列として示さn、で
いるが、後述するところかD−3明らか!、、 iTi
す、本発明の原理は格子部4“」の甲独配L/IJ V
CJ−=・いCも同様(で適用される。
In this figure, the case r-s is shown as a J-pair array, but as will be explained later, it is clear that D-3!,, iTi
The principle of the present invention is that the lattice portion 4" is arranged L/IJ V
The same applies to CJ-=・C.

第1図から明うカ7S:通り、(各J’ 部44 :2
fi! 〜(、(6) 4−、j浅い放物線形の輪弱;
を(iする。ぞ(7)設d1の1、〒宇及び効果につい
て(71以トに述′\え) iMりである。。
It is clear from Figure 1 that each J' section 44:2
Fi! ~(, (6) 4-, j shallow parabolic ring weakness;
(7) Regarding the 1, 〒u and effect of setting d1 (described in 71 and above), it is iM.

図示の実施例において品格r・対θ)hhに(1洗浄液
を各格子−χ・土の上部格f−0・i″工、・(する門
型側jlζ1゜に分配するだめのT段+38)がILI
Flt;へさr’1. Yいイ)4、(二の分配手段は
洗浄R々源(・で接続、N、li’l /ζ−ツゲー・
・t()□へ(44及び(飢金具備し7ている。内側バ
イブ(4(・、、(4,K・及び([io)はそ右それ
暁、刑及び峻″(=)J′:、す開放1j11合設計か
らなる複数のIJ14を的ろ二低1t:(5−ro肋1
1シ)ノズルに液を分配するものてlりる。こt′L’
ニー、:r L’j ′ズル(−L容器の横11’ii
i孕横切二)へ頂部格r部利121if、f叫及び(3
4)の4−面に液滴を落下さ−1−るも・7ノ)である
In the illustrated embodiment, the grade r vs. θ) hh is such that (1 cleaning solution is distributed to each grid −χ・soil upper grade f−0・i″, ·(gate type side jlζ1°) T step +38 ) is ILI
Flt;Hesa r'1. 4, (The second distributing means is connected to the cleaning source (・, N, li'l /ζ-tsuge・
・t()□(44 and ':, multiple IJ14 consisting of open 1j11 joint design target 2 low 1t: (5-ro rib 1
1) A device that distributes the liquid to the nozzle. kot'L'
Knee, :r L'j 'zuru (-L side 11'ii
i pregnant cross 2) to top case r section 121if, f shout and (3
A droplet is dropped on the 4th surface of 4).

液注入法は本発明の性能にとつこそJ白・1と車装なも
のではなく、たとマーは゛スプレ一式、自]11流通式
、接触式及び溢流式なとの種々の液注入P。
Due to the performance of the present invention, the liquid injection method is not limited to J White 1 and vehicle equipment, but the market is equipped with a spray set, 11 various liquid injection methods such as flow type, contact type and overflow type. .

J々を月Iいることができる。I can stay with J for a month.

ガスが導管、−[なわちスクラバー容器を通過すると、
速度+−++:ブロソイールは浅い放物線を近似する形
となる。こ+17)速度圧は容器の中央におい−て最大
、Lなり、側壁部においてほぼ0に減少する。
When the gas passes through the conduit, - [i.e. the scrubber vessel,
Velocity +-++: Brosoil has a shape that approximates a shallow parabola. 17) The velocity pressure is maximum at the center of the container, L, and decreases to approximately 0 at the side walls.

いずれかり、に7ら1また点における単位質M流量では
(均fj混合物であるものと仮定して)次のようになる
In either case, the unit mass M flow rate at the point 7-1 is as follows (assuming it is a homogeneous fj mixture).

MX=V ρ C)X ここに町−質量流量(11) / f t2/ 5cc
)Vox一点Xにおけるガス速度(ft/5ee)ρ 
二、ガス密度(lb/ft  ) したがってr11位質量流針は容器の中央においで最も
大きくをる。
MX=V ρ C)X Here town - mass flow rate (11) / f t2/ 5cc
) Vox gas velocity at one point X (ft/5ee) ρ
2. Gas density (lb/ft) Therefore, the mass flow needle at the r11th position is the largest at the center of the container.

タワーガス速度が増大(10〜15ft/se+)以上
〕−rればこの効果ばより顕著なものとなる。容器中央
における質量流量は壁部における流量の数百倍となる場
合がある。
This effect becomes more pronounced as the tower gas velocity increases (10-15 ft/se+) or more. The mass flow rate in the center of the vessel can be several hundred times higher than the flow rate at the walls.

もし洗浄液か容器の直径4通(2(均一にスプレーさ〕
11もしくは敗4jさ石、り場合、いず7’Lかの点X
 K :E、・ける乙、浄液一対−’Iに−1i17r
、 liの比率&;J:あり、Mx一点X[お1−ji
るTl fl’t ll’1i j、7 (lb/i1
2/y:t:c)である。
If the cleaning solution or container diameter is 4 (sprayed evenly)
If you lose 11 or lose 4j, point X at 7'L.
K:E,・Keruotsu, a pair of purified liquid-'I-1i17r
, li ratio &; J: Yes, Mx one point
Tl fl't ll'1i j, 7 (lb/i1
2/y:t:c).

こノj−は一定の角度(・7二おい1丁作動−f−珂)
カススクラバーの吸収速度か7LJ染ガス(′で対し 
−(J Mf出り、々洗浄液の特定の品質に関連−f−
るξ3とを示1.−Cいる。
This j- is a certain angle (・72 oi 1 action-f-ka)
The absorption rate of the cass scrubber is 7LJ dye gas (')
- (J Mf output, related to the specific quality of the cleaning solution -f-
1. -C is here.

I7たがって吸収、衝突寸たは遮断速用1づスクラバー
の直径方向ケ通し7て変化する。−Ilわち、の この速度は壁面と容器中央と([11の点(7′lオ、
・けるよりも中央のほうが低くなるが、こtpkJ−前
記中間点のガス速度が中央より人さくなるからである(
MXが大きくなればなる口とI、y41 、 ?’−J
低くなる〕。
I7 Therefore, the absorption, impingement size, or cutoff speed varies depending on the diametrical direction of the scrubber. -Il, that is, this velocity is between the wall surface and the center of the container ([11 points (7'
・This is because the gas velocity at the middle point is lower than at the center.
If MX gets bigger, the mouth and I, y41, ? '-J
[becomes lower].

−[−記のこ吉を補償JるようQ′(=、容器の1(+
f’1.企通じ−C比例的にスプレーケ行なて)た占−
ずノしはに1能はより低下する。これ−気液1’′g:
触時間がガス速度のより速い中央部においてより短くな
るからである。スプレーは所期速度に重力の加速度全結
合することに基づき、この状況はさらに促進される。
−[− To compensate for the loss of
f'1. Through the enterprise - C proportionately done) Tatashi -
Zunoshihan's ability is even lower. This - 1''g of gas and liquid:
This is because the contact time is shorter in the center where the gas velocity is faster. This situation is further facilitated because the spray is based on the total coupling of the acceleration of gravity to the desired velocity.

さらに中央領域においで下部はどスプレー液tft[増
加しく向流型の場合)、tた(ri上下部ど液M k少
なくする場合(同方向流の場合)、分布及びガス混合問
題が発生する。
Furthermore, in the central region, if the lower spray liquid tft [increases in the case of countercurrent flow type], t(ri) and the upper and lower flow liquid Mk decreases (in the case of co-directional flow), distribution and gas mixing problems will occur. .

しかしながら適当な形状の格子が容器側壁とその格子と
の接点より十分低いところにその近傍点(pc口gee
)金イjするならは、その格トの断面プロフィールは容
器内を上昇する;石染ガスの速度圧プロフィールに(鏡
像において)近似したものとなり、吸収その他の速度に
対−す−る速度用の効果はかなりの程度無視1−ること
ができる。
However, if a grid of suitable shape is located at a point sufficiently lower than the point of contact between the side wall of the container and the grid,
), the cross-sectional profile of the case rises in the container; it approximates (in mirror image) the velocity-pressure profile of the dyed gas, and the velocity relative to the absorption and other velocities. The effect of can be ignored to a large extent.

その結果、この高い速度領域においてより多くの洗浄液
を提供し、さらに気流に対し中央領域のより大きい抵抗
全発生させることにより、側壁近傍のガス流全増大させ
ることができる。したがって容器全体を6効に利用する
ことができる。
As a result, the total gas flow near the sidewalls can be increased by providing more cleaning liquid in this high velocity region and creating a greater total resistance in the central region to the air flow. Therefore, the entire container can be used for six purposes.

格子は金属丑たは非金属呵撓性物?ノjから形成するこ
とがてきる。すなわちぞの材料t】1速度プロフィール
に近似された形状としてプレス成形され、これにより所
望の格f石:得るこ3Lができる。−また、所望の格子
形状Q1ぞれUC近似するよう形成された浅い円杉メソ
ンユ−またはrlいに接続された複数の円形メツシュセ
グメントQ′rよって得ることができる。非剛性材料か
らなる格子は、所望に応じて洗浄の便宜のため(・こ捉
械的に撓むことができる。格〕一部本、4につい−(は
芯t・−)、また(メー↓他の補強部イーイを用いる必
′Σ”は、1−1・)。
Is the grid a metal or non-metallic flexible material? It can be formed from No. In other words, the material is press-molded into a shape that approximates the velocity profile, thereby producing the desired grade stone: 3L. The desired grid shape Q1 can also be obtained by a plurality of circular mesh segments Q'r connected to a shallow circular cedar mesonue or rl formed so as to approximate the respective UCs. The grid made of non-rigid material can be mechanically deflected for convenience of cleaning if desired. ↓It is necessary to use other reinforcement parts (1-1・).

格二F−の総量[]面積に1r5II々の条flを・受
は容れるように選択される。たとえば開11面積は使月
1−ヂる洗浄液の量を保存−f−る必・披°かある場合
(・C&J、小さく゛すべきであり、これによって格f
・部14の侵食及び摩滅を減少し、もしくU′、1その
構造的強度(大きい容器径間について)を増大させるこ
とかできる。逆に必要なエネルギー留求を制限すべき場
合、または大量の洗浄液金採Jll−jる場合(ガス汚
染濃度が高い場合〕、も15、< 11石灰石スラリー
なとの固体金高いパーセントで含む洗浄液の排出を容易
にするため、さらには高密度汚染粒子が存n:するよう
な場合には、より大きい開口面積金持つことが要求さノ
する。概して総量に1面積は50〜75%程度が普通で
あるが・場合によっては85〜90%程度寸でのきわめ
て大きい開「1面積が用いられることもある。しかL7
ながらこのようにきわめて大きい開[]面積の場合、格
子スタラバーの性能は通常のスプレータワーの性能に近
いもの吉なり、スプレータワー固有の問題を・考慮しな
けれはならなくなる0格−f・形状の設定において、容
器全横切るいずれかの点におけるその深さくJ−法(I
X は次の式により与えられる。
The area is selected so that the total area of case 2 F- accommodates 1r5II each of the rows fl. For example, the open area should be small if it is necessary to store the amount of cleaning solution that will be used for 1 month.
- It is possible to reduce the erosion and wear of the part 14 or increase its structural strength (for large vessel spans) U',1; Conversely, if the required energy extraction is to be limited, or if a large amount of cleaning fluid is to be mined (when the concentration of gas contamination is high), cleaning fluids containing a high percentage of solid gold, such as limestone slurries, may be used. Furthermore, in cases where there are high-density contaminant particles, it is necessary to have a larger opening area.In general, 1 area is about 50 to 75% of the total amount. Although it is common, in some cases a very large area of 85 to 90% is used.
However, for such extremely large open areas, the performance of the lattice stirrer bar is close to that of a regular spray tower, and problems specific to the spray tower must be taken into account. In the settings, the depth at any point across the vessel is determined by the J-method (I
X is given by the following formula.

dX=■)vX→川I用L+ )IDT、     (
式l〕ここにI)vx一点Xにおけるガスの速度圧1−
I S L−・洗浄液の静止波頭 1−I D L =洗浄液の動作液頭 注:これは代数和であり、成分の相対的な符号は式が同
方向流型及び向流型の両システムに適用できるように定
められるへきである。I、向きに作用する)1:、力を
負とするならば、1:同への11、力は正となる。
dX=■) vX→L+ for river I) IDT, (
Equation l] where I) vx velocity pressure of gas at one point X 1-
I S L - Stationary wave front of the cleaning liquid 1 - I D L = Working liquid head of the cleaning liquid Note: This is an algebraic sum, and the relative signs of the components are such that the equation applies to both co-flow and counter-flow systems. It is a place that is determined so that it can be done. I, acting in the direction) 1:, If the force is negative, 1:11 to the same direction, the force will be positive.

H8L及び!−11) Lは容器を横切る相χ・↑的イ
f宇数である。
H8L and! -11) L is the phase χ・↑ which crosses the container.

iJ撓外性格子あるから、その輪郭しでおいで実質的な
放物線(カテナリー型及び理想格rプOフィールの近似
型〕が描かnるならは、it算は容器の中央部における
格子の深き(1(のみの訓算して弔純化される。
Since there is an iJ flexible lattice, if its contour draws a substantial parabola (catenary type and approximation type of the ideal case rpO field), then the it calculation is the depth of the lattice in the center of the container ( 1 (only kenzan and funeral purification.

dc = Pvc →■−■S L+ III)L  
 (式2)次の常套的なピトー管式を用いて水のガス速
度圧全算定することができる。
dc = Pvc →■−■S L+ III)L
(Formula 2) The total gas velocity pressure of water can be calculated using the following conventional Pitot tube equation.

たた゛し単位G″L”n/ secであり゛ここ′て’
oA1.。1はガス速度の平均値、Q  U流句ft 
/min )VO Ao は容器断面積ft  、そしてρは実際の温度及
び圧り条件におけるキャリアガス密度1(I8/を求め
るには、 による。’AV(Jにおいて得られた値は標準的な手続
きにおいて中火部におけるガス圧■)  にC 変換される。これに1式:3が中央部の圧力で幻、なく
)平均ガス速度圧を表わすが故に11を掛けるζ、とに
よって得らnる。したがっで■゛・・Vc。
The folding unit is G″L″n/sec.
oA1. . 1 is the average value of gas velocity, Q U style ft
/min) VO Ao is the cross-sectional area of the vessel ft, and ρ is the carrier gas density 1 (I8/) at the actual temperature and pressure conditions. The gas pressure at the medium heat section is converted to C. This is then multiplied by 11 because 3 represents the pressure at the center, and ζ represents the average gas velocity pressure, and is obtained by n. . Therefore ■゛...Vc.

” ’ ”’AWI。洗浄液の静止波頭HS Lは次の
式から決定さnる。
” ' ``AWI. The static wavefront HSL of the cleaning liquid is determined from the following equation.

IIS■ノ−−一□−LL−一 ρI!Ao。IIS■No--1□-LL-1 ρI! Ao.

こζ(こLは液流量(gal/m1n)、ρIは液密度
、(giハ【、、A(−+Girま格子間に1面積(f
 tち、そしr n。
ζ(L is liquid flow rate (gal/m1n), ρI is liquid density,
tchi, sor n.

は格子について実験的に定められた保持時r=1c分)
であり、典型的には最小0.1秒/6o(分〕、fなゎ
ち0.0017分である。フィーh4ておける水頭It
S Lは12  とJ:I)υる’−(!T K jリ
イン(−&で沈換J)ノ↑、サラK 2.54と111
けるζ、乏Qでよリセン(ノー)ルに変換される。
is the holding time r = 1 cmin determined experimentally for the lattice)
, typically a minimum of 0.1 seconds/6o (minutes), f = 0.0017 minutes.
S L is 12 and J:I) υru'-(!T K j Rein (- & sinking J)ノ↑, Sarah K 2.54 and 111
ζ is converted to yorisen (nor) with a low Q.

動作水頭II I) L H小係数であり、それほど重
要ではない。ぞれ1・1スブt、−、、’ズル。てよ′
丁−)で格子の近傍に適11シ)れるならば洗浄液の速
度IEとなる。
Operating Head II I) L H Small coefficient and not very important. 1.1 subt, -,, 'cheat, respectively. Teyo'
If the cleaning liquid is applied near the grating with 11), the velocity of the cleaning liquid will be IE.

もしカデナリー格子のIIL地点がtE 47M K 
tr c であるならば、液体J−ガス乏の間にエトル
ギー□+蘭j条件が存在することになる。格子の頂部(
で導入された液体は停N)シもしくは流動−するが、直
らには排出されない。
If the IIL point of the Cadenary lattice is tE 47M K
If tr c , then the ethurgy □+Ran j condition exists between liquid J-gas starvation. The top of the grid (
The liquid introduced at N) stops or flows, but is not immediately discharged.

[1、かじながら発明者が行なった実験Vこよれば、洗
浄液を支持する不平衡全発生させる必要が示されてbる
。こtzn成形さハた格子を゛さらに深くすることに」
、り達せら汎る。この深さの増大とdt  は多くの因
子によって変化するものである。1なわち、 汚染ガスが粒子物質を含んでいるか杏か1汚染ガス密度 洗浄液の粘度 タワーガス速度 格子部材その他の侵食、もし2〈は腐食の許容限度 などである。
[1. Experiments conducted by the inventors show that it is necessary to generate an imbalance to support the cleaning liquid. In order to make the lattice molded even deeper.
, reach spread. This depth increase and dt will vary depending on many factors. 1, that is, whether the contaminated gas contains particulate matter, 1, the density of the contaminated gas, the viscosity of the cleaning liquid, the tower gas velocity, the corrosion of other parts, and 2, the allowable limit of corrosion, etc.

たとえばデスト結宋は上に計算されたda の値全通じ
て5%(粒子−自由ガスの場合)から40%C混入粒子
・の場合)−1で変化し7得ること全示し、ている。
For example, Desto shows that the values of da calculated above can vary from 5% (for particles-free gas) to 40% (for particles-free gas) -1.

単一の格f−のまわりにおける液体と気体との接触状態
を描く略図は第2図に示さ!−>でいる。
A schematic diagram depicting the contact between liquid and gas around a single case f- is shown in Figure 2! -> I am.

洗浄液−は上方から接触部に向か=9で滴下してくるも
のとしで示されている。すでに述べた通り、洗浄液は種
々の方法において格子組の上面恒1に導入され得る。こ
れは以ドに述べる流動域の動作に限るものではない。
The cleaning liquid is shown as being dripped from above toward the contact area at =9. As already mentioned, the cleaning liquid can be introduced into the upper surface 1 of the grid in various ways. This is not limited to the operation of the flow region described below.

流通ガスは速度圧プロフィール64)ヲ有するものとし
て示されている。このガスがカテナリー型格子121に
到達すると、格子上及びその下方に強乱流域暎が形成さ
れる。さらに気液接触面K・〜は格子の頂部」二ヲ通じ
て均〜 に分布形成さnる。
The flowing gas is shown as having a velocity pressure profile 64). When this gas reaches the catenary grating 121, a strongly turbulent region is formed above and below the grating. Furthermore, the gas-liquid contact surface K is evenly distributed throughout the top of the grid.

この接触面画の」二方において、洗浄液の落ド及びラン
ダムに分散した。・j、染カスとか効果的Q・こ相互作
用する流動域が形成される。IQは本発明の改良された
吸収特性をもたr)−fものである。
The cleaning solution was dripped and randomly distributed on both sides of this contact surface.・J, a flowing region where dye scum and Q・K interact effectively is formed. IQ is r)-f with improved absorption properties of the present invention.

流動域の高さは液サイズ及びガス速度の関数となるであ
ろう。この流動域か高くなれはなるほどガス吸収及び粒
子除去特性が増大する。汐当な窪み形状をイ]する格子
の場合、流動域の頂…iυ2は実質上\Ii川なものと
17て示さ石る。比較的浅い窪み形状によれは前記頂部
の中心8(Sは容器側面の近傍域より高くなる。これは
容器側壁Gこ向かうガスの分散が少なく、ガス洗浄効果
が低いこ、J:ヲ・表わL7ている。実際−Lガスのン
hL通L51きわめて浅い窪み形状の格子について41
.するものである。
The height of the flow zone will be a function of liquid size and gas velocity. The higher this flow range, the greater the gas absorption and particle removal properties. In the case of a lattice with a similar concave shape, the top of the flow region...iυ2 is essentially the river \Ii. Due to the relatively shallow shape of the depression, the center 8 (S) of the top is higher than the area near the side of the container. Wow L7.Actual - L gas nhL passage L51 About the extremely shallow concave shaped lattice 41
.. It is something to do.

洗浄液を支持するエネルギーイく平衡のために1流動域
における液滴はしばしば収集さ)11格−r・における
一定の6動作時間”が過きた後、4:JI出される。こ
の排出は基本的(では格子の中央部近傍において発生す
る。排出さ)1だ液は放出、再生、及び再使用のために
F方の排液溜ンζ集めら九る。流動域Cておける液滴の
動作時間は種々の因子に1従って変化−Iるが、それロ
、3〜4秒と17て実験的CC定めらtl−Cいる。
Due to the equilibrium of the energy supporting the cleaning liquid, droplets in one flow zone are often collected (4:JI) after a certain operating time at 11-r. (Drainage occurs near the center of the grid.) 1 Saliva is collected in the drain sump ζ on the F side for release, regeneration, and reuse. Movement of droplets in the flow zone C. The time will vary according to various factors, but an experimental CC of 3 to 4 seconds has been determined.

上記の効果は写真及び実験室試験、・)rびにフィール
ドバイtjットテスト及び分析により検証された。
The above effects were verified by photographic and laboratory tests, and field bite tests and analyses.

正確に形成さn7Th格子であるため、流通ガスの速度
圧プロフィールは比較的均・−となり、中心からのガス
は容器側壁に向かって分散する。
Because of the precisely formed n7Th lattice, the velocity-pressure profile of the flowing gas is relatively uniform, with gas from the center dispersing toward the side walls of the vessel.

格子の情報を流れる流体(はこの運動に逆らって通路[
741K沿って側壁から中央に向かう。
The fluid flowing through the grid (is the path [
741K from the side wall toward the center.

一時汚染物が基本的(・てガス状であるような状況にお
いては、単−格子式のカブナリー格子スクラバーが効果
的であるこ吉が判明した。
In situations where the temporary contaminants are essentially gaseous, a single-grid Cabunary-grid scrubber has been found to be effective.

汚染物質としてso2:2用い、洗浄液として石灰石ス
ラリーを用いたパイロット試験において比較可能な液体
ガス比におけるベンチュリースクラバ・−ヲ通じての8
02除去効率の顕ルな改善が認められた。形成された格
子(てよる80 除、に汀、15−25の1.+/ (
1値(CI=(f…におけるガス流量)を用いて85〜
92%−C−あった。ヘンチュリースクラバーはio〜
:i(lのL/(l値において30〜55%のso2除
去ケ達−f−るこ占がでキタ。1rFJ tlの効率は
タワー スクラバーに=おいても得られたが一、L/、
  比が50〜1oOというきわめて高い値の場合のみ
である。
8 through a venturi scrubber at comparable liquid-to-gas ratios in a pilot test using SO2:2 as the contaminant and limestone slurry as the cleaning fluid.
A significant improvement in the 02 removal efficiency was observed. The formed lattice (by 80, by 15-25 by 1. +/ (
85 ~ using 1 value (CI = (gas flow rate at f...)
There was 92% -C-. Hentury scrubber is io~
:i(l of L/(l) 30-55% SO2 removal at l value -f-ruko is expected.Efficiency of 1rFJ tl was also obtained with tower scrubber, but L/ ,
Only for very high values of the ratio 50-1oO.

第3図−実験的に導き出された7”−タに従”−2)て
i、/(1fi:カテナリー型格子(・てつぃてのツノ
゛ス速度に対し、て作図し、tものである。この曲線の
上方における領域り■(1流動域四全形成−rる受容汎
tげ能な起こり得るガス速度についでの種々のL/U、
[を全反映してい石。曲線のFカの領域q〜においては
流動は生じない。本発明に従ったlり染物性除去効率及
びLjえられたガス速度においてL/+1比は領域(7
φにおいでシステム動作が行ろ・ゎれるように選択され
る。
Figure 3 - According to the experimentally derived 7"-2) i, / (1fi: catenary type lattice) The area above this curve is
[Reflects all of the stones.] No flow occurs in the region q~ of the curve F. The L/+1 ratio is in the region (7
The system operation is selected in φ.

第4図tユ種々のガス速度及び液−勾−ガス比における
単−格子型カデ→−リースクラバーについでの種々の圧
力降ドを示すものである。
FIG. 4 shows various pressure drops through a single-grid cage scrubber at various gas velocities and liquid-to-gradient gas ratios.

これらのパイロットテストはカテナリースクラバーにお
けるガス速度を、典型的なスプレー塔スクラク(−にお
ける速度より早くできることを示17ているo 20 
(t /secまでの対面速度が不規則性を伴なわずに
形成さnた。これより上方のグラフは作図されていない
が、単一格子により、25(psまでの対面速度を達成
“−することができる。より高いガス速度はより小型で
かつ経済的な触触塔の形成f ’ii)能にするもので
あり、[7たがって経済的な投資全制限し、かつ動作ス
ペースを縮小するこ々ができる。
These pilot tests show that the gas velocity in the catenary scrubber can be higher than that in a typical spray tower scrubber.
(t/sec) was formed without irregularities. No graphs above this were plotted, but with a single grid, facing velocities up to 25 (ps) were achieved. Higher gas velocities allow for the formation of smaller and more economical contact towers [7] thus limiting total economic investment and reducing operating space. I can do things.

25 It/sec  以北の液流量パターンは不連続
となる。この場合、乱流状態にある流動洗浄液は破壊さ
れる。したがって第4図の圧力降下曲線は破線で示すよ
うに不連続きなる。カテナリー型における最適ガス速度
CサイズのLi2比における最良の流動状態に基づく)
はタワースクラバーにおける8〜12 ft/sec 
に比較して約16 ft/sec  となるとともに、
好訃しい気液接触状態はこれらの条件下Vζおい−(7
,%ら)Lるものである。
The liquid flow rate pattern north of 25 It/sec becomes discontinuous. In this case, the fluidized cleaning liquid in a turbulent state is destroyed. Therefore, the pressure drop curve in FIG. 4 becomes discontinuous as shown by the broken line. Optimum gas velocity in catenary type (based on best flow condition at Li2 ratio of size C)
is 8-12 ft/sec in tower scrubber
It is about 16 ft/sec compared to
The unfavorable gas-liquid contact state is Vζoi-(7
, % et al.).

ウェットオペレーションにおけるより低い圧力降下tJ
1 ドラ4 、Aべj〜−シコンにおける場合と同様、
緊急状態において容器を直通する−・時的バイパス路の
形成を許容゛Fるものである。ドライ損失は典型的に1
tま02〜04水/格r・程度である。
Lower pressure drop tJ in wet operation
1 Dora 4, Abej ~ - As in the case in Shikon,
This allows for the creation of a temporary bypass path through the container in an emergency situation. Dry loss is typically 1
It is about 02-04 water/grade r.

粒子除去領域(ておいて(−1ミクロン)串−の格子は
約65%の効率をイJ”−[るご、腎が4i!、出され
た。本発明はその基本原理の延長とし、−こ、第1の格
子から所定の最大距離以内のUl)月6“% −c c
、 71に平行した第2の格子を配置する仁、−金へ゛
tI・ものである。第5図は粒子除去能力を一高めるこ
、Fができた格子対を示すものである。
A particle removal area (-1 micron) skewer grid has been found to have an efficiency of approximately 65%.The present invention is an extension of that basic principle, -Ul within a predetermined maximum distance from the first grid 6"% -c c
, which places a second grid parallel to 71. FIG. 5 shows a pair of lattices made by F, which further enhances the particle removal ability.

ここに上部格f・−は丁部格子(82乏同様のJIf状
であって、経験的に定められた距離制)だけF部格子の
上方に位置している。理論−L、2本の格子間隔の最小
値は設定されないが、1本の格子全他方の格子上に物理
的に接触させた場合にはシステム性能は単一格子の場合
と同じになることに明らかである。
Here, the upper case f.- is located above the F-part lattice by a distance of the D-part lattice (JIf shape similar to 82, with a distance system determined empirically). Theory - L, there is no minimum value for the spacing between two grids, but if one grid is physically in contact with the other grid, the system performance will be the same as with a single grid. it is obvious.

2本の格子間の最大距離(ロ)はガス密度及び格子開[
]面積ケ含む種々の変数の関数となるであろう。た、!
l:えばガス対面速度30ft/sec  (格子対に
よって、より高速上なることが可能である)、格子開[
−1面積60%イしてガス密度0. O751bs/f
t  てパイロットテストを行なった結果、約6インチ
の最大間隔が決定された。
The maximum distance (b) between two lattices is determined by the gas density and the lattice opening [
] will be a function of various variables including area. Ta,!
l: For example, gas facing velocity 30 ft/sec (higher speeds can be achieved with grid pairs), grid open [
-1 area 60% and gas density 0. O751bs/f
After pilot testing, a maximum spacing of approximately 6 inches was determined.

概して3〜6インチの間隔は改善さ八た性能をもたらす
ものである。一般に、ガス密度捷たは速度が減少すると
き、格子間隔全減少させる。
Generally, spacing of 3 to 6 inches provides improved performance. Generally, when the gas density or velocity decreases, the total lattice spacing decreases.

また格子開口面積が減少すると間隔は増大する。Also, as the grid opening area decreases, the spacing increases.

間隔を制御する基本的な帰結は、格子間領域(ハ)にお
いて乱流域が形成されるこさである。格子間隔が大き過
ぎる場合、流通ガスは速度圧プロフィールを再確立して
それを下部格子に到達するもの古して示現させることが
できる。
The basic consequence of controlling the spacing is that a turbulent region is formed in the interstitial region (c). If the grid spacing is too large, the flowing gas can reestablish the velocity-pressure profile and make it appear older before reaching the lower grid.

下部格子はエネルギー消散器として作用することができ
る。領域イ6)におけるガスの不規則的な運動と、低1
”−1,たエネルギー レヘルは−f−Vi(3格子の
1a上における乱流域の存在可能性を、l、j(−格子
配列の場合吉同様、最小化するものである。
The lower grid can act as an energy dissipator. Irregular movement of gas in region A6) and low
The energy level of -1, minimizes the possibility of the existence of a turbulent region on 1a of the -f-Vi(3 grid, as in the case of l,j(-) grid arrangement.

その結果、スクラバー格子はL部格子面−1−にフィル
ムを形成1〜、運動は再び通路11Zl 1て沿つ−C
容器の中央に向かうことになる。
As a result, the scrubber grating forms a film on the L-part grating plane -1-1, and the movement is again along the path 11Zl1-C
It will go towards the center of the container.

格子面−I−の右側における洗浄及びフイルノ・(てよ
り粒子除去能力が高められる。パイロットデスl−4で
よれ(工20格−T−、すなわら格子対配列挺より+1
ミクロンの粒子物質を997%除去することができた。
Particle removal ability is enhanced by cleaning and filtering on the right side of the grating plane -I.
It was possible to remove 997% of micron particle matter.

これは格f・対を横切って約19インチW、C,の全圧
JJ降ドにおけるものである。これはベンチュリースク
ラバー、、!:Jt ’F’j L 1サイクロニツク
スクラバーにおいて&;18〜lOインチ〜V Cの圧
力降F全要求するものである。
This is at a total pressure JJ drop of about 19 inches W,C, across the case f. This is a venturi scrubber! :Jt 'F'j L 1 cyclonic scrubber requires a total pressure drop F of 18 to 10 inches to VC.

再び上部格子のi& I−、に注UJ−fると、この1
1(3分の容積内には流動域(ト)が形成される。同一
のパラメータ条件及び格子設計のすべてに対し、流動域
幹υの上面(転)は実質−L単−格f・の場合吉同様、
上部格子の[7,方から等距離の位置にある。この流動
域は単位体積当たりの洗′ff1液Mがjli!l ?
1fI7された高密度値となり1これによって液−粒子
相互作用ケ高め、洗浄液の増大表面領域を通じたガス吸
収特性を向−■−させるものである。
Note UJ-f again on i & I- in the upper grid, and this 1
1 (a flow zone (g) is formed within the volume of 3 minutes. For all the same parameter conditions and grid designs, the upper surface (translation) of the flow zone trunk υ is essentially -L single case f. Like Case Yoshi,
It is located equidistant from the [7, direction of the upper grid. In this flow region, the washing 'ff1 liquid M per unit volume is jli! l?
This results in a high density value of 1fI7, which enhances the liquid-particle interaction and improves the gas absorption properties of the cleaning liquid through its increased surface area.

ガスは再び側壁(・で向かい、液体は容器の中央に向か
”つて移動゛する。液は上部格子を通じて乱流域(財)
に浸入し、かつ排出され、ここでガスと洗浄剤吉の間で
さらなる反応が生ずる。最終的に液体は1一部格子(ト
)乃に浸入して容器の底部に落下し、そこから処理され
て再循環される。
The gas again faces the side wall and the liquid moves towards the center of the container.
and is exhausted, where further reactions occur between the gas and the cleaning agent. Eventually, some of the liquid will penetrate the grate and fall to the bottom of the vessel, from where it will be treated and recycled.

実施例の設計は、流量伸縮性、すなわち最大許容ガス流
量一対一最小ガス流量の比率全3〜1というきわめて高
い値にするものである。
The design of the embodiment provides very high flow elasticity, ie, a maximum allowable gas flow to one minimum gas flow ratio of 3 to 1 overall.

本発明は単一格子の単記ガ捷たは複数の配列とし、ある
いは1または複数の格子対とし、さらKU−小格f・及
び格子対の混合配列として用いることができ、これによ
り所望のガスもしくは粒子吸収能を得ることができる。
The present invention can be used as a single grating array or multiple arrays of single gratings, or as one or more grating pairs, or even as a mixed array of KU-small f and grating pairs, thereby controlling the desired gas Alternatively, particle absorption capacity can be obtained.

格子設計はガス速度プロフィールに洗浄液の静的及び動
的波頭金jJIl味[またものの鏡像を反映しAもので
あるが、そ!″Lはこの設MCカテナリーなど)を近似
I〜、かつ本発明の教示を採用した格子形状が改良され
た吸収及び粒子・除去の度合を・意図的に種々に変化し
得るものと理解−「・\きである。
The grid design reflects the static and dynamic waves of the cleaning liquid in the gas velocity profile [also a mirror image of the A one, but that! It is understood that the lattice shape employing the teachings of the present invention can intentionally vary the degree of absorption and removal of the particles.・It's \ki.

さら(て実施例t、ri本発明の原理全向流)1式に適
用したものであるζ、!:に留意すべきである。設計(
r、iiンそ、同方向スクラノ(−に対し、−こも適用
される。後者の場合、ガス流及び洗浄液は格子の窪み側
面に加えられる。典型的にはこのような適用において格
子が小さい開1−1而債を(fするこ占になる。
In addition, ζ, which is applied to (Example t, ri principle of the present invention omnidirectional flow) 1 equation,! : Should be kept in mind. design(
In this case, the gas flow and the cleaning liquid are applied to the recessed sides of the grating. Typically in such applications the grating has small openings. 1-1 The bond becomes a fortune-telling.

さらに液体とガスとが同方向てあ才1ば、格子はより浅
い窪み型にすることができる。
Furthermore, if the liquid and gas are directed in the same direction, the grid can be made more shallowly recessed.

実施例の設計は液体乱流域全形成することGでより自洗
浄効果全高め、固形物をたい積させるという利益を有す
る。
The design of the embodiment has the advantage of fully forming a liquid turbulence region, thereby enhancing the self-cleaning effect and accumulating solid matter.

壕だ、本発明の原理を用いて現有のシステムを改善する
ことに関し、多くの場合には容器、かつ比較的廉価にこ
れ全行なうことができる。
As far as improving existing systems using the principles of the present invention is concerned, in many cases all this can be done in a container and relatively inexpensively.

−rなわち、格子企装備するにあたって特別の工具、固
定具、寸たは補強材等を要しないからである。実際に、
設計は通常の吸収装置より小さい空間しか心室としない
This is because no special tools, fixtures, dimensions or reinforcing materials are required to install the grid. actually,
The design leaves a smaller chamber in the ventricle than in a typical absorption device.

しかしながら、他の現有のシステムにおいてほこnを改
善しようとして前述した格子配列を用いることは却って
実際的でない場合がある。
However, it may be impractical to use the above-described lattice arrangement in an attempt to improve dust n in other existing systems.

すなわち−・定の適用概念におし)では、改良さrした
接触タワーにおける好捷しい性能孕もたらす本発明の理
論的概念全採用することが可能であり為この場合には十
分な経済性を伴なうものである。
In other words, it is possible to adopt the entire theoretical concept of the present invention resulting in better performance in an improved contact tower, so that sufficient economy can be achieved in this case. It accompanies it.

第6〜lO図は本発明の原理を採用した格子モジュール
を示−I−ものである。第6図及び7図は典型的な装備
におけるセグメントを示すものである。モジュールθ閣
などのような複数の円筒形モジュールはプレー) (1
02)」二に支持される。
Figures 6-10 illustrate a grating module employing the principles of the present invention. Figures 6 and 7 show segments in a typical installation. Multiple cylindrical modules, such as module θ, can be played) (1
02)” secondly supported.

こノプレー)(102)は、これ全容器側壁捷たはプレ
ート懸架支持構造に保持させるための取付け7ランジ(
104)を有する。
This plate (102) has a mounting 7-lunge (102) for holding it on the side wall of the container or on the plate suspension support structure.
104).

各モ・)2ニールは本発明に従つ″i″滴当レク月利か
ら形成されたハウジング(105)’tイi−fる。ハ
ウジング(づ典型的に1cj長さ2フィート以ドて直径
が容器中のガス流@Cc(…)、0及び容器直径Vこ応
じてまたとえは6インチ\8インチ、12インチ、18
インチ、20インチ、24インチというぐあいに変化さ
せられたものである。一般に与ズーられた容器内におけ
るハウジングは均一・な長さ及び直径を有する。
Each module is a housing (105) formed from an "i" droplet according to the present invention. The gas flow in the housing (typically 1cj length and 2 feet or more in diameter) is 6 inches, 12 inches, 18 inches, 0 and the container diameter V.
The size was changed to 1 inch, 20 inches, and 24 inches. Generally, the housing within a given container has a uniform length and diameter.

各モジュールに、bけるガス流の速度フ「」フイールト
ユ、このように変形されない容器(−ヂなわちモジュー
ル盤を用いない容器)(ておける既知のガス速度から紅
験的(て決定される。一般に各モジュールにおけるガス
流量は変形さtL’!+:い容器中のガス流量を使用し
たモジュール数で割pた値となる。
The velocity of the gas flow in each module is determined empirically from the known gas velocity in a vessel that is not thus deformed (i.e., a vessel without a module board). Generally, the gas flow rate in each module is a value obtained by dividing the gas flow rate in the transformed container by the number of modules used.

個々のハウジングにおける格r・構造の設J1は、容器
内格子構造について前述し念設計基準に従い各モジュー
ルでの液体及び気体の特性ニ2(ついて決定される。
The design of the structure in each individual housing is determined in accordance with the design criteria described above for the internal grid structure of the container and the characteristics of the liquid and gas in each module.

第8図(モジコールには単一格子構造を採用することも
できるが、ここではモジュール単位において2個の格子
構造を示している)(ハ格子の窪み而Illに液媒体を
導入する一態様を示1−でいる。液(108)はモジュ
ールを支持したプレートc11o)−1=に分配される
。この液はハウジングの頂部(112)に達し、ここか
らモジュール内に溢流して上部格子構造(114)の窪
み面に向かう。ここに人ってくるガス流(116)は格
子構造上の液媒体と相互作用し、これによって生じた流
動域(117)は両考間における所望の物質移動反応を
もたらす。
Figure 8 (A single lattice structure can be adopted for the module, but here two lattice structures are shown for each module.) The liquid (108) is distributed to the plate c11o)-1= which supported the module. This liquid reaches the top of the housing (112), from where it spills into the module and towards the recessed surface of the upper grid structure (114). The incoming gas stream (116) interacts with the liquid medium on the lattice structure, and the resulting flow zones (117) result in the desired mass transfer reactions between the two.

格子上のハウジング壁の高さは、流動域の高さを受容す
るに十分なものとする。格子−にに流下した液の流速は
液がプレー)(11,(1)上に分配される速度の関数
であり、少なくともモジュール内のガス速度において、
格子の窪み面上に制御された流動域全形成し得る速度で
なければならない。これは−やはりすでに述べた設計基
準に従うものである。流動域における液滴はガス媒体上
の相互作用を経た後、合体して格fをJO′Iり抜け、
容器底部に排出され、そこで再生処理さ715、かつ再
使用に供される。
The height of the housing wall above the grid shall be sufficient to accommodate the height of the flow zone. The flow rate of the liquid flowing down the grid is a function of the rate at which the liquid is distributed over the plate (11, (1)), at least at the gas velocity within the module.
The velocity must be such that a controlled flow zone can be formed over the recessed surfaces of the grid. This again follows the design criteria already mentioned. After the droplets in the flow zone interact on the gas medium, they coalesce and pass through the case f,
It is discharged to the bottom of the container where it is recycled 715 and made available for reuse.

第9図は液媒体を格ト構造1−に導入−f−るためにさ
らに別の方法金用いた実施例を示すものである。ここに
プレート(118)上に位置する液幻(122)及び(
124)で示すような開「1を通って士ジュール(たと
えば(120) )に流入する。プレート14の液の高
さは開口より上位にあり、したがって液体シール全形成
する。こt′lは液流入点ケ通るガスバイパス流の形成
を阻11二するものである。
FIG. 9 shows an embodiment using yet another method for introducing the liquid medium into the grating structure 1. Here, liquid illusion (122) located on plate (118) and (
The liquid level in plate 14 is above the opening and thus forms a liquid seal. This prevents the formation of a gas bypass flow through the liquid inlet point.

開口は、やはり格子上への十分、?i:液流量か格f・
対の上方において制御された流動域を丁形成するように
設計されている。
The opening is still enough onto the grid? i: Liquid flow rate or case f・
It is designed to form a controlled flow zone above the pair.

前述1〜た格子モジュールの変形例は円筒ハウジング内
における単一格子−または格子対(も17くは多格子−
また一1多格子対)からなるものである。ハウジング形
状としては正方形または類似の形状を採用することもで
きる。
Variations of the grating modules 1 to 1 mentioned above include single gratings or grating pairs (or multiple gratings) in a cylindrical housing.
It also consists of 11 polylattice pairs). The housing shape may also be square or similar.

格子構造上に液媒体全分配−1″る他の態様も寸た、前
述のこ吉から自明に採用されるであろう。
Other embodiments of total distribution of the liquid medium on the lattice structure may also be adopted from the above-mentioned Kokichi.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の原理全採用した気液接触装置−またV
まガス洗浄装置全部分的に破断して示す正面図、第2図
は流通ガスの速度プロフィール及び格子部材の設計との
関係を示す略図、第、3図は種々のガス速度において装
置内に流動条件を生成するに必要な液体ガス比を反映1
〜た実験データに基づくグラフ、第4図は種々のガス速
度における液封ガス比との水の圧力降ドケ示す実験デー
タに基づいたグラフ、第5図は本発明の原理に従って設
計され、かつ配置された格子対の捷わりにおける気液活
動状態を示“ノー略図、第6図は本発明の格子モジュー
ル構造の一例を示す平面図、第7図は第6図に示した格
f・モジュールの斜視図、第8図は第6図の8−8線に
沿って取られた側断面図、第9図は格子構造りに液を分
配するための別の方法を含む第2の実施例の格子モジュ
ール構造の部分断面をaむ正面図である。 (10)・・・・・・・・・・ 気液接触装置(12)
・・・−・・・・・・・・・ハウジング部材(14)・
・・−・・・・・・・、入 口(國−・・・・・・・・
・・・出 口 (18)・・・・・・・・・・・・スクラバー容器(2
0)・・・・・・・・・・・・ドレイン出口−・・・・
・・・・・・・・液接続部 (24)・・・・・・・・・・・・ミストエリミネータ
v3)〜測、l121・・・・・・格子部材(ト)・・
・・・・・・・・・・液−分配手段f40+、(42、
(44)・・・・・・ヘッダt+L(ハ)、←0)・・
・・・・バイブ■・・・・・・・・・・・・上部格子 (イ)・・・、・・・・・・・・F部格子(100)−
・・・・・・・・格子モジュール(105)・・・・・
・・・・ハウジング(114)・・・・−・・・・格 
子 特許出i人    ケムーブロ コーボレイション代 
 理  人    新  実  健  部C外1名) 第59 S2図    補正区j ラ 3 と h”7.lJt Ot/5ec) 塔 49 04(Ll&)&AL/IO”ocf b 手続補正書 昭和58年7 月后W 特許庁長官      殿 1、事件の表示 昭和5 g 年tyrIvt>第11
 F〕Ol 4号2、発明の名称  物質g動接触装置 3、補正をする渚 小イ′1との関係  す、’i i71出願人代 名(
名称)    ケノ4−ブ[J コーホルイシテlン4
、代理人    〒604 6、補正により増加する発明の数
Figure 1 shows a gas-liquid contactor that employs all the principles of the present invention.
Fig. 2 is a schematic diagram showing the relationship between the velocity profile of the flowing gas and the design of the grid member, and Figs. Reflecting the liquid-gas ratio required to produce the conditions 1
FIG. 4 is a graph based on experimental data showing the pressure drop of water versus liquid-to-gas ratio at various gas velocities; FIG. FIG. 6 is a plan view showing an example of the lattice module structure of the present invention, and FIG. 8 is a side sectional view taken along line 8--8 of FIG. 6; FIG. 9 is a perspective view of a second embodiment including an alternative method for distributing liquid in the grid structure; FIG. It is a front view showing a partial cross section of the lattice module structure. (10)... Gas-liquid contact device (12)
・・・-・・・・・・Housing member (14)・
・・・-・・・・・・・・・、Entrance (Country-・・・・・・・・・・・・
...Outlet (18) ...... Scrubber container (2
0)・・・・・・・・・Drain outlet
......Liquid connection part (24)...Mist eliminator v3) ~ measurement, l121...Grid member (g)...
......Liquid-distributing means f40+, (42,
(44)...Header t+L (c), ←0)...
... Vibrator■ ......Top grid (A) ...F part grid (100) -
... Lattice module (105) ...
・・・Housing (114)・・・−・・・・case
Child patentee Chemubro Cooperation fee
59 S2 Figure Correction Area J La 3 and h"7.lJt Ot/5ec) Tower 49 04 (Ll &) &AL/IO"ocf b Procedural Amendment July 1988 Mr. W. Commissioner of the Japan Patent Office, 1, Indication of the case 1937
F]Ol No. 4 2, Title of the invention Material g motion contact device 3, Relationship with Nagisa Koi '1 to be amended I,'i i71 Applicant's name (
Name) Keno 4-bu
, Agent 〒604 6. Number of inventions increased by amendment

Claims (1)

【特許請求の範囲】 fll  人に1及び出[]4にひシて前記人「]及び
出[−1全接続する導管路ケ具備したハウジング部材か
らなり1(a)  r’+:J記導管路内、14C懸架
され、ガス流通方向に直交し−C配置さtまた少なくと
も1個の格子部材、及び (b)  i31記格子部拐ト:に液を選択的な流速(
旬において分配するための手段ケ備えており、前記格子
部材は前記接続用導管路におけるガス流の所定の理論速
度圧と、前記分配された液における静的及び動的液頭と
の和に理論上等1〜い断面プロフィルを有し、前記液が
前記格子部材の窪み而I、に分配され、前記選択さtま
た液流速(1,)か′j・えらノした1ろ均ガス速度と
の関係において0り記格f一部材の窪み面の上部に制御
された流動域足形成するにI“分な値となるように形成
さ力、たこと′に特徴とする気液ノど触装置。 (2)入口及び出目と前記入口及び出ロ間ケ接続する導
管路と余有するハウジングjMs 4’4がらなり、(
a)(l  各モジュールが各4人[1人ひ出口をイJ
するそれ自体のハウジング部拐全具イ藷し、(ii) 
 内部に少なくとも1個の格子部N全棉架した少なくと
も1群のモジュールと、 (b)  RiJ記モジ、ニール群をガス流に、直交し
た面内において前記接続用導管路に取り付けることによ
り、各モジュールの前記格子部材が+1iJ記ガス流方
向にCfL交し、さらに各モジュールを通るガス流量か
前記4管路ケ通るガス流量を前記モジュール群tm成す
るモジュール数2によって割った値にほぼ等しくなるよ
うに′fるための手段、及び (c)各モジュールの前記格子部材上に、選択された液
流葉で液を分配して、各モジュールの前記格子部材が前
記モジュールの各々におけルカス流の所定の理論速度月
シブロフィー/I/ ト前記分配された液の静的及び動
的に’i l&7との和に理論I−等しい断面プロフィ
ールをイjするようにし、さらに前記液が前記格子部材
の各々における窪み面Jトに分配されるとともに、前記
選択された液流量が各モジュールにおけるljえらハた
平均ガス速度との関係におい−C前記格P部トjの各々
における窪み而の1一方に制御された流動域を形成する
に十分な値となるようにするための手段 に′:備えたことを特徴とする気液接触装置。 (3)  前記格子・部材が余分の深さをfr−jるこ
とにより、分配された液のコ゛ネルギーレベルと流通ガ
スのJネルギーレベルとの間捉前記液分配全支持するユ
ネルギー不乎衡を生じさぜ、これによって液を前記制御
流動域から前記格子部材を通じて排出させるようにした
ことを特徴とする特許請求の範囲第(1)項または(2
)項記載の装置。 (4)  前記格子部材がカテナリー型であって1、d
c = P vc 4−1−ISL+ Hl)L + 
d+ により決定された近地点深さdc  を有し、こ
の場合において、Pv c  が前記近地点のガス速度
圧であり、H8Lが分配された液の静1[を波頭であり
、11 L) I−、、が動作波頭であり、さらにd+
が液分配全支持するエネルギー不゛■ε衡を生じさせる
ための余分の深さであるこLケ特徴古する1、〒許請求
の範囲第(:3)項記載の装置。 11  +’jl記格子部材の断面プロフィールが[)
1」記制御された流動域をもたらすに十分な理想設W目
て近似したものであることを特徴とする特許J^求の範
囲第(3)項記載の装置。 (6)  前記導管路また(・1モジ−1−ルハウジン
グ部材内Q゛こ少なくさも一対の格子部材ケ懸設置〜、
各対中の格子部材が互いに所定距離たけ隔た9こ配置さ
れていることを特徴とする特許請求の範囲第(3)項記
載の装置。 (7)  前記格子部材を可撓性材料から形成(2、そ
の格子部材の撓みによりたい積された物質を移動させる
ことができるようにしたこLを特徴とする特許請求の範
囲第(3)項記載の装置。 (8)格P開[1面積が50〜85%の範till内に
あるこ、J:を特徴とする特許請求の範囲第(3)項記
載の装置。 (9)  格子間[−1面積が50〜75%の範囲内に
あること?特徴とする特許請求の範囲第(8)項記載の
装置。 (10)  余分の深さが5〜40%の範囲内にあるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第(3)項記載の装置。
[Scope of Claims] 1(a) r'+: J notation 1(a) r' (b) at least one grid member suspended in the conduit and arranged perpendicular to the gas flow direction;
means for dispensing at the same time, said grid member having a predetermined theoretical velocity pressure of the gas stream in said connecting conduit, and a means for dispensing said liquid at a theoretical rate corresponding to the sum of the static and dynamic head of said dispensed liquid. having a cross-sectional profile of the order of 1 to 1, the liquid is distributed into the recesses I of the grid member, and the liquid flow rate t and the liquid flow rate (1,) or the average gas velocity A gas-liquid contact characterized in that the force is formed to a value equal to I to form a controlled flow region on the upper part of the recessed surface of the member. The device. (2) Consists of an inlet and an outlet, a conduit connecting the inlet and the outlet, and a remaining housing jMs4'4, (
a) (l) Each module has 4 people [1 person
(ii)
(b) At least one group of modules having at least one lattice part N fully suspended therein; The lattice member of the module intersects CfL with the +1iJ gas flow direction, and the gas flow rate passing through each module or the gas flow rate passing through the four pipes is approximately equal to the value obtained by dividing the number of modules 2 forming the module group tm. (c) means for distributing liquid in selected liquid flow leaves onto said grid members of each module such that said grid members of each module control the flow of liquid in each of said modules; For a given theoretical velocity, the dispensed liquid statically and dynamically has a cross-sectional profile equal to the sum of 'i l & 7, and further the liquid flows through the grid member. and the selected liquid flow rate is distributed to one of the depressions in each of the sections P in relation to the average gas velocity in each module. 1. A gas-liquid contacting device characterized by comprising means for achieving a value sufficient to form a controlled flow region. (3) By adding an extra depth to the grid/member, the energy imbalance between the energy level of the distributed liquid and the J energy level of the circulating gas, which fully supports the liquid distribution, is reduced. Claims (1) or (2) characterized in that the liquid is caused to flow out of the controlled flow area through the grid member.
). (4) The lattice member is a catenary type, and 1, d
c = P vc 4-1-ISL+ Hl)L +
has a perigee depth dc determined by d+ , where Pv c is the gas velocity pressure at said perigee and H8L is the wave crest of the dispensed liquid, 1[, 11 L) I-, , is the operating wave front, and d+
1. The device according to claim 3, wherein the L is an extra depth to create an energy imbalance that supports the entire liquid distribution. 11 +'jlThe cross-sectional profile of the lattice member is [)
1. The device according to claim 3, characterized in that it approximates the ideal setting W sufficiently to provide a controlled flow region. (6) The conduit path or (-1 module housing member Q) at least a pair of lattice members suspended;
4. The apparatus of claim 3, wherein the lattice members in each pair are spaced a predetermined distance apart from each other. (7) The lattice member is made of a flexible material (2) Claim (3) characterized in that the lattice member is made of a flexible material so that the accumulated material can be moved by the flexure of the lattice member. (8) The device according to claim (3), characterized in that the lattice P open [1 area is within the range of 50 to 85%, J:. -1 area is within the range of 50 to 75%? The device according to claim (8). (10) The extra depth is within the range of 5 to 40%. An apparatus according to claim (3), characterized in that:
JP11501483A 1982-06-23 1983-06-23 Mass transfer contact apparatus Granted JPS5932934A (en)

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US39113982A 1982-06-23 1982-06-23
US496054 1983-05-19
US391139 1995-02-21

Publications (2)

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JPS5932934A true JPS5932934A (en) 1984-02-22
JPS6365373B2 JPS6365373B2 (en) 1988-12-15

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IN (1) IN160409B (en)
MX (1) MX162901B (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0639914U (en) * 1992-11-11 1994-05-27 鐘紡株式会社 Clothing with yoke
JP2013052358A (en) * 2011-09-05 2013-03-21 Ricoh Co Ltd Reactor, toner production method, and toner

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53113267A (en) * 1977-03-15 1978-10-03 Chiyoda Chem Eng & Constr Co Ltd Gas-liquid contacting apparatus

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BR8303307A (en) 1984-02-07
JPS6365373B2 (en) 1988-12-15
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MX162901B (en) 1991-07-08

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