JPS593000B2 - Data protection circuit in semiconductor memory devices - Google Patents

Data protection circuit in semiconductor memory devices

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JPS593000B2
JPS593000B2 JP53013991A JP1399178A JPS593000B2 JP S593000 B2 JPS593000 B2 JP S593000B2 JP 53013991 A JP53013991 A JP 53013991A JP 1399178 A JP1399178 A JP 1399178A JP S593000 B2 JPS593000 B2 JP S593000B2
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JP
Japan
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voltage
power supply
memory element
semiconductor memory
control
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健 酒井
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Sanyo Electric Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は半導体メモリ素子、特に不揮発性半導 c体メ
モリ素子を用いてなる半導体メモリ装置に対する電源投
入・遮断時における記憶内容の破壊を防止するデータ保
護回路に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a data protection circuit that prevents the memory contents from being destroyed when power is turned on and off in a semiconductor memory device using a semiconductor memory device, particularly a non-volatile semiconductor C-type memory device. be.

以下不揮発性半導体メモリ素子としてフローティングゲ
ート構造のNチャネル絶縁ゲート型電界効果トランジス
タを用いた場合について説明する。5 まずこの不揮発
性半導体メモリ素子(以下メモリ素子という)について
説明すると、このメモリ素子は後述する方法によりその
スレツシヨールド電圧vtを相異る2つの値に変化させ
ることによつて情報の蓄積を行い、この相異るスレツシ
ヨー10ルド電圧vtを適宜の方法で識別することによ
つて蓄積情報の読出しを行うようにして使用される。
A case will be described below in which an N-channel insulated gate field effect transistor with a floating gate structure is used as a nonvolatile semiconductor memory element. 5 First, to explain this nonvolatile semiconductor memory element (hereinafter referred to as a memory element), this memory element stores information by changing its threshold voltage vt to two different values by the method described later. The stored information is read out by identifying the different threshold voltages vt using an appropriate method.

第T図は斯かるメモリ素子の構造を略示するシンボル図
であつて、?1はコントロールゲート、?2はフローテ
ィングゲート、73はソース、15T4はドレインを夫
々示している。このメモリ素子のソースT3又はドレイ
ンT4の電位をシリコン基板の電位Vssレベルにし、
且つコントロールゲートTiに25〜30V程度の電圧
を数層s印加するとこのメモリ素子のvtは正の値で大
とな!0 り、該メモリ素子はエンハンスメント型とな
る。またコントロールゲートTiをVssレベルにし、
ソース73又はドレイン74のいずれか一方をオープン
状態にしたまま他方に25〜30V程度の電圧を数百t
ts印加するとこのメモリ素子のvtは負’5 の値で
絶対値が大となり該メモリ素子はデプレツシヨン型とな
る。そして前者の場合をデータの書込、また後者の’場
合をデータの消去と称する。なおエンハンスメント型又
はデプレツシヨン型となったメモリ素子のvtの値は印
加電圧の大きさ、■0 パルス幅、コントロールゲート
71とフローティングゲート12との面積比、絶縁膜の
厚さ、シリコン基板の比抵抗値更には製造プロセスの条
件等によつて定まる。このようにメモリ素子のvtを変
化させること5 によつてデータの記憶を行わせるので
あるが、この変化したvt値は全電源をオフ状態にして
もそのまま変化しない、すなわち不揮発性機能を有して
いる。
FIG. T is a symbolic diagram schematically showing the structure of such a memory element. 1 is the control gate, ? 2 is a floating gate, 73 is a source, and 15T4 is a drain. The potential of the source T3 or drain T4 of this memory element is set to the silicon substrate potential Vss level,
Moreover, when a voltage of about 25 to 30 V is applied to the control gate Ti over several layers, the vt of this memory element becomes a large positive value! 0, the memory element becomes an enhancement type. Also, set the control gate Ti to Vss level,
While either the source 73 or the drain 74 is left open, a voltage of approximately 25 to 30 V is applied to the other for several hundred tons.
When ts is applied, vt of this memory element has a negative value of '5' and has a large absolute value, and the memory element becomes a depletion type. The former case is called data writing, and the latter case is called data erasing. Note that the value of vt of an enhancement type or depletion type memory element depends on the magnitude of the applied voltage, the pulse width, the area ratio of the control gate 71 and the floating gate 12, the thickness of the insulating film, and the specific resistance of the silicon substrate. The value is further determined by the conditions of the manufacturing process. Data is stored by changing the vt of the memory element5 in this way, but this changed vt value remains unchanged even when all power is turned off, that is, it has a non-volatile function. ing.

さて上述した如く、データの書込又は消去作用を起こさ
せ記憶内容を書換えるためには25〜30V程度の電圧
を与えるための電源を必要とする。
Now, as mentioned above, in order to cause the data writing or erasing action and to rewrite the stored contents, a power supply for applying a voltage of about 25 to 30 V is required.

一方、斯かるメモリ素子を動作制御するアドレスドライ
バ、デコーダ、入出力回路等の周辺回路の為には前述の
如き高い電圧を必要とせず、+5V又は+10V等、通
常のNチヤンネルエンハンスメント/デプレツシヨンM
OSIC等用の電源で十分であり、若し仮に25〜30
V程度の電源を使用した場合は消費電力が増大し、チヤ
ネルカツトが必要になりまた使用トランジスタが絶縁破
壊する虞れがある等の問題がある。このような理由によ
り前記メモリ素子を用いてなる不揮発性半導体メモリ装
置(以下メモリ装置という)としてはデータの書込・消
去用の25〜30V程度の第1の電源と、周辺回路用の
高々15V程度の第2の電源とを備えているのが一般的
である。而してこのようなメモリ装置において第2の電
源の投入後に第1の電源が投入され、また第1の電源が
遮断された後に第2の電源が遮断される場合には何ら問
題はないが、逆に第2の電源の投入に先立つて第1の電
源が投入されたり、第1の電源が遮断されるに先立つて
第2の電源が遮断された場合には書込・消去を制御する
回路が誤動作し、メモリ素子のコントロールゲート71
又はソース73若しくはドレイン74に書込又は消去を
行わせるような電圧が加わり記憶データが変化する、す
なわちデータ破壊を招来することがある。本発明は前述
した場合の如く、第1の電源がオン状態にある場合にお
いて第2の電源が許容範囲を超えた低い値にあるときに
、これを検出して書込・消去を禁止し、データ破壊を防
止するメモリ装置のデータ保護回路を提供することを目
的とし、以下に本発明をその実施例を示す図面に基いて
詳述する。第1図は本発明に係る保護回路の1実施例を
示している。
On the other hand, peripheral circuits such as address drivers, decoders, and input/output circuits that control the operation of such memory elements do not require such high voltages as mentioned above, but instead use ordinary N-channel enhancement/depletion voltages such as +5V or +10V.
A power supply for OSIC etc. is sufficient, and if 25 to 30
If a power supply of about V is used, there are problems such as increased power consumption, the necessity of channel cutting, and the risk of dielectric breakdown of the transistors used. For this reason, a nonvolatile semiconductor memory device (hereinafter referred to as a memory device) using the above-mentioned memory element has a first power supply of about 25 to 30V for writing and erasing data, and a power supply of at most 15V for peripheral circuits. Generally, the device is equipped with a second power source of about 100 kHz. In such a memory device, there is no problem if the first power source is turned on after the second power source is turned on, and the second power source is turned off after the first power source is turned off. Conversely, if the first power source is turned on before the second power source is turned on, or if the second power source is turned off before the first power source is turned off, writing/erasing is controlled. The circuit malfunctions and the control gate 71 of the memory element
Alternatively, a voltage that causes writing or erasing to be applied to the source 73 or the drain 74 may change the stored data, that is, data may be destroyed. As described above, the present invention detects when the second power supply is at a low value exceeding the allowable range while the first power supply is in the on state, and prohibits writing/erasing. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention is intended to provide a data protection circuit for a memory device that prevents data destruction, and the present invention will be described in detail below with reference to drawings showing embodiments thereof. FIG. 1 shows one embodiment of a protection circuit according to the present invention.

図においてT,l,Tl2,T,3,Tl4はエンハン
スメント型のトランジスタであつて、Tl2のドレイン
及びゲートは通常時には相対的に低い電圧VDDの第2
の電源に連なつており、そのソースはT,lのゲート及
びドレイン並びにTl3のゲートに接続されており、ま
たTllのソースはシリコン基板の電位V8Sとなつて
おり、トランジスタTll,Tl2により分圧回路部1
0aが構成されている。T1のドレイン及びゲートは通
常時には相対的に高い電圧Vggの第1の電源に連なつ
ており、そのソースはTl3のドレインに接続されてお
り、またT,3のソースはシリコン基板の電位V88と
なっており、トランジスタTl3,Tl4により制御回
路部10bが構成されている。そしてこの制御回路部1
0bのトランジスタTl3のドレイン又はトランジスタ
Tl4のソースに出力端子が設けられており制御電圧C
vが出力されるようにしている。なおβ11,β12,
β13,β14は夫々トランジスタTll?Tl2ヲT
l3?Tl4のゲインフアクタである。MTはメモリ素
子であつてメモリ装置の一部を構成しており、そのコン
トロールゲート及びドレインを夫々には書込みのための
電圧を乗せるべきコントロールゲートラインGL及び消
去のための電圧を乗せるべきドレインラインDLが接続
されて(・る。
In the figure, T,l, Tl2, T,3, and Tl4 are enhancement-type transistors, and the drain and gate of Tl2 are normally connected to the second transistor at a relatively low voltage VDD.
The source is connected to the gate and drain of T, l and the gate of Tl3, and the source of Tll is at the potential V8S of the silicon substrate, and the voltage is divided by the transistors Tll and Tl2. Circuit section 1
0a is configured. The drain and gate of T1 are normally connected to a first power supply with a relatively high voltage Vgg, and its source is connected to the drain of T13, and the source of T1 is connected to the silicon substrate potential V88. The transistors Tl3 and Tl4 constitute a control circuit section 10b. And this control circuit section 1
An output terminal is provided at the drain of the transistor Tl3 or the source of the transistor Tl4 of 0b, and the control voltage C
v is output. Note that β11, β12,
β13 and β14 are transistors Tll? Tl2woT
l3? This is the gain factor of Tl4. MT is a memory element and constitutes a part of a memory device, and its control gate and drain are connected to a control gate line GL on which a voltage for writing is to be carried and a drain line on which a voltage for erasing is to be carried, respectively. DL is connected (・ru.

Tl5,Tl6は本発明回路の書込・消去コントロール
部10cを構成するトランジスタであつて、両トランジ
スタTl5,Tl6のゲートには前記トランジスタTl
3のドレイン又はTl4のソースが接続されて制御電圧
Cvが入力されるようにしており、且つ両トランジスタ
Tl5,Tl6のソースの電位はVssになるようにし
ている。更に各トランジスタTl5及びTl6のドレイ
ンは夫々前記コントロールゲートラインGL及びドレイ
ンラインDLに接続されている。而して上述した如き本
発明に係るゼータ保護回路は第2の電源の電圧V。
Tl5 and Tl6 are transistors constituting the write/erase control section 10c of the circuit of the present invention, and the gates of both transistors Tl5 and Tl6 are connected to the transistor Tl6.
The drain of transistor T3 or the source of transistor Tl4 are connected to input the control voltage Cv, and the potential of the sources of both transistors Tl5 and Tl6 is set to Vss. Furthermore, the drains of the transistors Tl5 and Tl6 are connected to the control gate line GL and drain line DL, respectively. Thus, the zeta protection circuit according to the present invention as described above uses the voltage V of the second power supply.

Dを分圧回路部10aのトランジスタT1とTl2とで
分圧して、T,,のドレイン又はTl2のソースからそ
の分圧電圧V1を制御回路部10bのトランジスタTl
3のゲートに入力している。すなわち制御回路部10b
はトランジスタTl3とTl4とによるなるインバータ
であるが、電圧V1を該インバータの入力としている。
いまゲインフアクタβ11とβ12との比及びゲインフ
アクタβ13とβ14との比を適当な値に定めておく場
合は、第1の電源の電圧Vgg及び第2の電源の電圧V
。Oが共に通常の動作電圧又は一定の許容範囲内にある
ときには、分圧回路部10aの出力電圧V1が第2の電
源の電圧値に対応する高レベルにあるのでTl3が導通
し、制御回路部10bの出力電圧、すなわち制御電圧C
vはVssに近い低レベルとなる。一方、第1の電源の
電圧Vggが通常の動作電圧又は一定の許容範囲内にあ
るのに反し、第2の電源の電圧V。Dが零である等許容
範囲を超えた低い値にあるときには、分圧回路部10a
の出力電圧1が第2の電源のこのときの電圧値に対応す
る低レベルにあるのでTl3が非導通となり、制御電圧
Cvは高レベルとなる。さて前述の如く第2の電源の電
圧V。Oが通常の動作電圧又は許容範囲内にあるときに
は制御電圧Cは低レベルとなり、トランジスタTl5,
T,6は非導通状態となり、メモリ素子MTに対するコ
ントロールゲートラインGL及びドレインラインDL夫
々を介して書込のための電圧及び消去のための電圧の印
加が可能である。これに対して電源投入時において第2
の電源の投入に先立つて第1の電源を投入したとき又は
電源遮断時において第1の電源の遮断に先立つて第2の
電源を遮断したとき等、第1の電源がオン状態となつて
通常の電圧にあるにも拘らず第2の電源の電圧が許容範
囲を超えた低レベルにある場合はそれに対応してV1も
低レベルになるので制御電圧Cvは高レベルになり、そ
の結果トランジスタTl5,Tl6が導通し、メモリ素
子MTに対するコントロールゲートラインGL及びドレ
インラインDLを介してのメモリ素子MTに対する電圧
の印加が防止される。すなわちこのようなときに何らか
の原因でコントロールゲートラインGL及びドレインラ
インDLに電圧信号が乗つたとしてもメモリ素子MTに
は印加されることがなく、データの保護が図れる。第2
図及び第3図は夫々分圧回路部10a2,10a3を3
個のトランジスタを用いて構成した本発明回路の他の実
施例を書込・消去コントロール部を省略して示している
The voltage D is divided by the transistors T1 and Tl2 of the voltage dividing circuit section 10a, and the divided voltage V1 is applied from the drain of T, or the source of Tl2 to the transistor Tl of the control circuit section 10b.
It is input to gate 3. That is, the control circuit section 10b
is an inverter made up of transistors Tl3 and Tl4, and the voltage V1 is input to the inverter.
If the ratio between gain factors β11 and β12 and the ratio between gain factors β13 and β14 are set to appropriate values, the voltage Vgg of the first power supply and the voltage Vgg of the second power supply
. When O are both at the normal operating voltage or within a certain tolerance range, the output voltage V1 of the voltage divider circuit section 10a is at a high level corresponding to the voltage value of the second power supply, so Tl3 becomes conductive and the control circuit section The output voltage of 10b, that is, the control voltage C
v becomes a low level close to Vss. On the other hand, while the voltage Vgg of the first power supply is a normal operating voltage or within a certain tolerance range, the voltage V of the second power supply. When D is at a low value exceeding the allowable range, such as zero, the voltage dividing circuit section 10a
Since the output voltage 1 is at a low level corresponding to the current voltage value of the second power supply, Tl3 becomes non-conductive and the control voltage Cv becomes a high level. Now, as mentioned above, the voltage V of the second power supply. When O is at the normal operating voltage or within the tolerance range, the control voltage C is at a low level and the transistors Tl5,
T, 6 becomes non-conductive, and a voltage for writing and a voltage for erasing can be applied to the memory element MT via the control gate line GL and drain line DL, respectively. On the other hand, when the power is turned on, the second
When the first power source is turned on before the first power source is turned on, or when the second power source is cut off before the first power source is turned off when the power is cut off, etc., the first power source is in the on state and the normal If the voltage of the second power supply is at a low level exceeding the allowable range even though the voltage is at a voltage of , Tl6 are rendered conductive, and application of voltage to the memory element MT via the control gate line GL and drain line DL to the memory element MT is prevented. That is, even if a voltage signal is applied to the control gate line GL and drain line DL for some reason in such a case, it will not be applied to the memory element MT, and data can be protected. Second
3 and 3 show voltage dividing circuit sections 10a2 and 10a3, respectively.
Another embodiment of the circuit of the present invention constructed using transistors is shown with the write/erase control section omitted.

第2図のものはエンハンスメント型のトランジスタを、
また第3図のものはデプレツシヨン型のトランジスタを
用いており、いずれも第1図の構成のものと同様の効果
を奏する。第4図は前記第2の電源が電圧DD4lのも
のと電圧VDO42のものと2個有しているメモリ装置
に使用される本発明の他の実施例を書込・消去コントロ
ール部を省略して示したものである。
The one in Figure 2 is an enhancement type transistor,
Further, the structure shown in FIG. 3 uses a depletion type transistor, and both have the same effect as the structure shown in FIG. FIG. 4 shows another embodiment of the present invention used in a memory device in which the second power supply has two voltages, one with voltage DD4l and one with voltage VDO42, with the write/erase control unit omitted. This is what is shown.

この場合には2個の第2の電源夫々に対応して各1個の
分圧回路部10a41,10a42を備え、制御回路部
10b4としては2入力のNANDゲートを用いている
。そして分圧回路部10a41により電圧VDD4lを
分圧して得られる電圧V4l及び分圧回路部10a42
により電圧VDD42を分圧して得られる電圧V42を
制御回路部10b4たるNANDゲートの入力信号とし
ている。この回路においては第1の電源がオン状態にあ
り、その電圧Vggが通常の動作電圧にあるにも拘らず
第2の電源の電圧VOD4l及び/又はVDD42が許
容範囲を超える低レベルとなつた場合にはV4l及び/
又はV42が低レベルとなるので、制御回路部10b4
の出力たる制御電圧Cが高レベルとなつて第1図の場合
と同様にメモリ素子に対する書込・消去を禁止する。更
に第1図の実施例では制御電圧Cが入力される書込・消
去コントロール部10cをコントロールゲートラインG
L及びドレインラインDLに直接接続することとしたが
、第5図又は第6図に示すように、メモリ素子のコント
ロールゲートに加えられる書込電圧W又はドレイン若し
くはソースに加えられる消去電圧Eのレベルを間接的に
低下せしめるように構成してもよい。
In this case, one voltage dividing circuit section 10a41, 10a42 is provided for each of the two second power supplies, and a two-input NAND gate is used as the control circuit section 10b4. Then, the voltage V4l obtained by dividing the voltage VDD4l by the voltage dividing circuit part 10a41 and the voltage dividing circuit part 10a42
The voltage V42 obtained by dividing the voltage VDD42 is used as an input signal to the NAND gate serving as the control circuit section 10b4. In this circuit, when the first power supply is in the on state and the voltage Vgg is at the normal operating voltage, the voltage VOD4l and/or VDD42 of the second power supply becomes an unacceptably low level. V4l and /
Or, since V42 becomes a low level, the control circuit section 10b4
The control voltage C, which is the output of the control voltage C, becomes high level and inhibits writing and erasing to the memory element as in the case of FIG. Furthermore, in the embodiment shown in FIG.
However, as shown in FIG. 5 or 6, the level of the write voltage W applied to the control gate of the memory element or the erase voltage E applied to the drain or source of the memory element It may also be configured to indirectly reduce the

すなわち第5図においてW/EGは書込電圧・消去電圧
作成回路であつて、その出力はゲートにコントロールパ
ルスCPが入力されるトランジスタT52を介してコン
トロールゲートライン、ドレインライン等に連なつてい
る。そして本発明回路の一部たる書込・消去コントロー
ル部10C5はドレインをW/EGの出力端に、ソース
をVssとした1個のトランジスタT,lよりなり、そ
のゲートに制御電圧Cを印加するようにしている。斯か
る構成による場合は、第1の電源及び第2の電源が共に
通常の動作電圧にあるときには制御電圧Cvが低レベル
にあるのでT5lが非導通となり、T52にコントロー
ルパルスCPを与えることにより書込電圧w又は消去電
圧Eが切出され、メモリ素子に対する書込・消去が行わ
れるのに対し、第2の電源が許容範囲を超える低レベル
にあるときには制御電圧Cが高レベルにあるのでT5l
が導通し、T52に対してコントロールパルスに類する
誤信号が入力されても、書込電圧w又は消去電圧Eが切
出されることがなくメモリ素子に対する不要の書込.消
去は行われない。次に第6図においてW/EGCは書込
電圧・消去電圧作成用の制御回路を示し、その出力たる
コントロールパルスはドレインを第1の電源V?に接続
したトランジスタT62のゲート及び本発明回路の=部
たる書込・消去コントロール部10C6を構成するトラ
ンジスタT6lのドレインに入力されるようにしており
、該トランジスタT6,のゲートには制御電圧Cvが入
力され、またそのソースはV88になるようにしている
That is, in FIG. 5, W/EG is a write voltage/erase voltage generation circuit, and its output is connected to a control gate line, a drain line, etc. via a transistor T52 whose gate receives a control pulse CP. . The write/erase control unit 10C5, which is a part of the circuit of the present invention, is composed of one transistor T, l whose drain is connected to the output terminal of W/EG and whose source is Vss, and a control voltage C is applied to its gate. That's what I do. In the case of such a configuration, when both the first power supply and the second power supply are at the normal operating voltage, the control voltage Cv is at a low level, so T5l becomes non-conductive, and writing is performed by applying a control pulse CP to T52. The programming voltage w or erasing voltage E is extracted to perform writing and erasing on the memory element, whereas when the second power supply is at a low level exceeding the tolerance range, the control voltage C is at a high level, so T5l
becomes conductive, and even if an erroneous signal similar to a control pulse is input to T52, the write voltage w or the erase voltage E will not be cut out, and unnecessary writing to the memory element will occur. No erasure occurs. Next, in FIG. 6, W/EGC indicates a control circuit for creating a write voltage/erase voltage, and its output, a control pulse, connects the drain to the first power supply V? The control voltage Cv is input to the gate of the transistor T62 connected to the gate of the transistor T62 and the drain of the transistor T6l constituting the write/erase control section 10C6, which is the = section of the circuit of the present invention. input, and its source is set to be V88.

而して斯かる構成による場合は、第1の電源及び第2の
電源が共に通常の動作電圧にあるときには制御電圧Cv
は低レベルにあるのでT6lが非導通となり、コントロ
ールパルスがトランジスタT62のゲートに入力される
ことによつてT62のソースからは所定時間幅の書込電
圧w又は消去電圧Eが出力されるのに対し、第2の電源
が許容範囲を超える低レベルにあるときには制御電圧C
vが高レベルにあるのでT6lが導通し、T62のゲー
トにはコントロールパルスに類する誤信号が印加されな
いのでT62のソースからは書込電圧w、消去電圧Eが
出力されず、メモリ素子に対する不要の書込・消去は行
われない。以上詳述したように本発明はメモリ素子に対
するデータの書込・消去用の電源の電圧が書込・消去を
生じさせる程に高いのに反して書込・消去を制御する回
路の電源の電圧が許容範囲を超える低レベルである場合
に誤動作により意図しない書込・消去が行われてメモリ
装置の記憶内容の変化を惹起することを防止し、特に、
電源投入・遮断時における記憶内容の破壊を防止するの
で、複数の電源の投入、遮断順序を考慮する必要がなく
なることは勿論不揮発性半導体メモリ装置の信頼度向上
に実益がある。
Therefore, in the case of such a configuration, when both the first power source and the second power source are at the normal operating voltage, the control voltage Cv
Since T6l is at a low level, T6l becomes non-conductive, and by inputting a control pulse to the gate of transistor T62, the write voltage w or erase voltage E for a predetermined time width is output from the source of T62. On the other hand, when the second power supply is at an unacceptably low level, the control voltage C
Since v is at a high level, T6l is conductive, and an erroneous signal similar to a control pulse is not applied to the gate of T62, so the write voltage w and erase voltage E are not output from the source of T62, causing unnecessary interference to the memory element. No writing or erasing is performed. As described in detail above, the present invention provides an advantage in that the voltage of the power supply for writing and erasing data in a memory element is high enough to cause writing and erasing, while the voltage of the power supply for the circuit that controls writing and erasing is high enough to cause writing and erasing. To prevent unintentional writing/erasing due to malfunction and causing changes in the memory contents of the memory device when the level is lower than the allowable range, and in particular,
Since the storage contents are prevented from being destroyed when the power is turned on and off, there is no need to consider the order in which multiple power sources are turned on and off, and there is a practical benefit in improving the reliability of the nonvolatile semiconductor memory device.

尚、以上の説明に於ては、不揮発性半導体メモリ素子と
してフローテイングゲート構造のNチヤネルル絶縁ゲー
ト型電界効果トランジスタを用いた場合について記述し
たが、本発明はNチヤンネルに限らず、Pチャンネル絶
縁ゲート型電界効果トランジスタを用いた場合にも適用
し得る事は云うまでもない事である。
In the above explanation, a case has been described in which an N-channel insulated gate field effect transistor with a floating gate structure is used as a non-volatile semiconductor memory element, but the present invention is not limited to N-channel, but can also be applied to P-channel insulated field effect transistors. Needless to say, the present invention can also be applied to a case where a gate type field effect transistor is used.

ただし、Pチャンネルの場合はNチャンネルの場合に用
いた電源とは逆極性の、即ち負極性の電源を用いなけれ
ばならない。
However, in the case of the P channel, a power source with a polarity opposite to that used in the case of the N channel, that is, a negative polarity must be used.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

図面は本発明の実施例を示すものであつて、第1図は本
発明に係るゼータ保護回路の回路図、第2図、第3図、
第4図は本発明の他の実施例を書込・消去コントロール
部を省略して示した回路図、第5図、第6図は本発明回
路の他の実施例における書込・消去コントロール部を示
す回路図、第7図はメモリ素子のシンボル図である。 Tll?Tl2フTl3?Tl4?Tl5ヲTl6゛゛
゛″トランジスタ、MT・・−・・・メモリ素子、10
a・・・・・・分圧回路部、10b・・・・・・制御回
路部、10c・・・・−・書込・消去コントロール部。
The drawings show embodiments of the present invention, and FIG. 1 is a circuit diagram of a zeta protection circuit according to the present invention, FIG. 2, FIG.
FIG. 4 is a circuit diagram showing another embodiment of the present invention with the write/erase control unit omitted, and FIGS. 5 and 6 are the write/erase control units in other embodiments of the circuit of the present invention. FIG. 7 is a symbol diagram of a memory element. Tll? Tl2fu Tl3? Tl4? Tl5ヲTl6゛゛゛''Transistor, MT---Memory element, 10
a... Voltage divider circuit section, 10b... Control circuit section, 10c... Write/erase control section.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 半導体メモリ素子を用いてなり、各半導体メモリ素
子に対するデータの書込・消去のために該半導体メモリ
素子のスレツシヨールド電圧を変更させるべく用いられ
る第1の電源と、各半導体メモリ素子に対する動作制御
のための第2の電源とを具備する半導体メモリ装置にお
いて、前記第2の電源の電圧に対応する電圧を出力する
ようになした分圧回路部と、前記第1の電源がオン状態
にある場合において、前記分圧回路部の出力電圧が所定
レベルよりも高レベル又は低レベルに変化したときに夫
々対応して低レベル又は高レベルの制御電圧を出力する
制御回路部とを具備し、前記制御電圧が高レベルとなつ
た場合には前記第1の電源による各半導体メモリ素子に
対するデータの書込又は消去を禁止するべくなしたこと
を特徴とする半導体メモリ装置におけるデータ保護回路
1 A first power source that uses a semiconductor memory element and is used to change the threshold voltage of the semiconductor memory element in order to write and erase data in each semiconductor memory element, and a first power supply that controls the operation of each semiconductor memory element. In a semiconductor memory device comprising a second power supply for power supply, when the voltage divider circuit outputs a voltage corresponding to the voltage of the second power supply and the first power supply are in an on state. and a control circuit section that outputs a control voltage of a low level or a high level in response to when the output voltage of the voltage divider circuit section changes to a higher level or a lower level than a predetermined level, respectively, 1. A data protection circuit for a semiconductor memory device, characterized in that the first power supply is configured to inhibit writing or erasing of data in each semiconductor memory element when the voltage reaches a high level.
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