JPS5928426B2 - 金属の連続又は半連続鋳造法 - Google Patents

金属の連続又は半連続鋳造法

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JPS5928426B2
JPS5928426B2 JP15850877A JP15850877A JPS5928426B2 JP S5928426 B2 JPS5928426 B2 JP S5928426B2 JP 15850877 A JP15850877 A JP 15850877A JP 15850877 A JP15850877 A JP 15850877A JP S5928426 B2 JPS5928426 B2 JP S5928426B2
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JP
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ingot
inductor
continuous
annular
metal
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JP15850877A
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ジノヴイ・ナウモヴイチ・ゲツエレフ
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、電磁界によって金属インゴットを形成するこ
とのできる鉄及び排鉄金属又はこれらの合金の連載又は
半連続鋳造法に関するものである。
英国特許第1157977号に開示された金属の連続又
は半連続鋳造法が知られており、この特許によると、環
状誘導子(インダクター)の透孔内に置かれた底板上に
溶融金属が供給されかつ誘導子の電磁界がこの金属をイ
ンゴットに形成する。
インゴットの側面が凝固するにつれて、インゴットが底
板と共に下げられ、かつ同時に冷却媒体(水)がインゴ
ットの側面に吹きつけられる。
英国%許第1328166号によると、インゴットが複
数の環状スリットからの複数の冷却媒体流によって冷却
され、そして、環状スリットは形成されているインゴッ
トに関して異なった高さにかつ周りに配置されている。
インゴットの初期凝固(外殻の出現)を確実にする最も
高い環状スリットが誘導子の底と同じ高さにある。
鋳造の最中に、インボッ)ff面での液相と固相との界
面が誘導子の中央高さに近り。
なお、この中央高さのところで誘導子の磁界が最も強い
電磁界によって形成されたインゴットの液状区域は普通
30ないし50圏の高さである。
通常のインゴットの形成条件に合った液状区域の形状は
インゴットの縦断面においてはインゴットの形状に近い
、すなわち、液状区域は凸状メンスカスを有する。
このことは、磁界遮蔽部材を備えること及び液状区域の
最上部が誘導子の頂面より上方にあることによって達成
される。
このために誘導子の高さは液状区域の高さを考慮して普
通20ないし70mである。
このような高さの誘導予力使用されるときに、既知の方
法では35ないし50rmn/minの引抜き速度にて
インゴットを鋳造することができる。
合金量が多いアルミニウム合金に介しては、この合金を
低引抜き速度(15ないし25m/ minにてインゴ
ットに鋳造するととは全く不可能であり、このことは以
下の駆のせいである。
鋳造での一般的な場合において、インゴット側面での液
相と固相との界面は磁界の最も強いところである誘導子
中央高さに近へ前述の固−液界面と最も高い位置の環状
スリットとの距離は大体においてインゴット引抜き速度
の関数であって、引抜き速度と反比例する。
従って、インゴット引抜き速度が15ないし25 ra
n/ mi nに低下したときには、インゴット側面で
の固−液界面と最も高い環状スリットとの距離が80な
いし160mとなる。
冷却媒体流形成の最も高い環状スリットが誘導子のすぐ
下にありかつ液状区域が50m以下の高さである場合に
は、通例の高さの誘導子では、凝固前面(すなわち、固
−液界面)がインゴットの上面で側面近くにあることに
なって形成区域に入る液状金属がしたたり落ちてインゴ
ットの側面上にランダム形状の付着物が生じ、このよう
にして、インゴットの形成工程が完全に乱れる。
この場合の低鋳造速度では固−液界面が溶融金属柱の金
属静圧を惺持できない程弱まった誘導子の磁界の領域に
あることになり、すなわち、側面での固−液界面は誘導
子の上端よりも数センチ上方で磁界が弱くなっていると
ころに位置することになる。
従って、低鋳造速度にて通常のインゴットを形成すると
きには、インゴットP面上の液状区域の底面界面(すな
わち、固−液面界)と関連して最も高い環状スリットを
低く配置する必要がある。
このことは、15ないし25m/m i n の引抜
き速度に対して誘導子の高さを140ないし、300叫
まで増大することによって達成されるであろう。
しかしながら、このような高さの誘導子には多くの難点
がある。
通常のインゴットの形成及びエネルギの最少の消費を仮
定すれば、30ないし50団の液状区域高さにとって誘
導子の最適高さは30ないし70mである。
加えて、誘導子の高さを大きくすることはインゴット鋳
造手段の全ての寸法が大きくなり、このことはこれら鋳
造手段の連続鋳造プラント内への編入がむずかしくなる
大きくした高さの誘導子を有する鋳造手段は引抜き速度
が低いとき及び比較的に速い(50m/min以上)と
きの両方において使用できない。
これは引抜き速度が速いと固相と液相との界面が誘導子
の底部へ移動するととになり、このことはインゴットの
形成及びエネルギ消費に関して許容できないからである
従って、本発明の主要な目的は、凝固速度の遅い合金金
属を直径500ないし1100mのインゴットへ連続又
は半連続鋳造する方法を提供することである。
本発明の同様に重要な目的は、単一の手段によって引抜
き速度が遅くても速くてもインゴットを鋳造できるよう
にすることであり、かつ、鋳造作業員の数及び必要な床
面積をできるだけ小さくすることである。
本発明のその他の目的は、広範囲のインゴット引抜き速
度であってもインゴットの固−液界面位置の変動を抑え
て液相の金属がインゴット凝固した側面上に流れるのを
防止することによって、インゴットの表面品質を改善す
ることである。
本発明の目的のひとつは前述した欠点を解消することで
ある。
本発明の目的としては次のようにして行なわれる金属の
連続又は半連続鋳造法を提供することであり、この鋳造
法は(イ)インゴットの引抜き速度の範囲を拡大して、
特に、(ロ)ひとつの鋳造ユニットにてインゴットを異
なる速度で鋳造するようにして、(ハ)鋳造手順を簡単
にして、及び、に)インゴットの表面品質を改善するよ
うにして行なわれる。
これら目的が下記の鋳造方法を提供することによって達
成される。
すなわち、この鋳造方法とは、仔)環状誘導子の透孔内
側に配置された底板上に溶融金属を供給すること、(ロ
)誘導子の電磁界によって金属のインゴットを形成する
こと、及び、(ハ)異なった高さにある複数の環状スリ
ットを通してインゴットの側面に複数の冷却媒体流を供
給すると同時に、金属インゴットとともに底板を引き下
げること、を含んでなる金属の連続又は半連続鋳造法に
おいて、複数の環状スリットからの冷却媒体流によって
金属インゴット側面での固−液界面を実質的に誘導子の
中央高さに維持するようにインゴットの引抜き速度に応
じて最も高い環状スリットから順にその冷却媒体流のい
くつかを停止することを特徴とする金属の連続又は半連
続鋳造法である。
インゴット引抜き速度が遅いときには固−液界面がイン
ゴット引抜き速度よりも速い速度にて上方へ移動するこ
とになるので、環状冷却スリットからの冷却媒体流を最
も高い位置の流れから逐次停止してインゴット側面での
固−液界面を誘導子の中央高さと同じ高さにする。
固−液界面に最も近い(すなわち、最も高い)環状スリ
ット(又は順次幾つかの環状スリット)からの冷却媒体
流を停止することによって、インゴット側面での液−固
界面の移動速度とインゴット引抜き速度とを同じにする
ことができる。
本発明の目的及び特徴を、添付図面に関連した実施態様
を説明することによってさらに明らかにする。
なお、添付図面(第1図)は本発明に係る方法を実施す
るための装置の概略縦断面図である。
金属インゴットの連続鋳造又は半連続鋳造法が以下のよ
うにして行なわれる。
鋳造の最初に、冷却媒体が環状冷却器1からインゴット
2に沿って異なる高さに配列された複数の環状スリン)
3,6.7および8から環状流れでインゴット2の側面
上に供給される。
最も高い環状スリット3が環状誘導子4のすぐ下で誘導
子4の中央高さから距離りに位置する。
鋳造工程は、通常、底板5上に置かれたインゴット2の
側面での液相と固相との界面を誘導子4の中央高さに維
持することによって進行する。
環状スリット6゜7及び8がそれぞれ誘導子4の中央高
さから距離h1.h2及びh3にある。
誘導子4の電磁界が底板上の金属を特定高さの円柱形法
にする。
冷却媒体が作用することによって円柱の溶融金属が底か
ら上方へかつ側面からインゴット2の縦軸の方へ凝固し
始める。
インゴット2の形成(5hap ing)が底板5と共
にこのインゴットを降下させることによって行なわれる
鋳造の最初に、冷却媒体が全ての環状スリット3゜6.
7,8び8から冷却媒体流として供給される。
所定の実施例において、最も高い環状スリット3が誘導
子4の下端から5ないし15TrrJrLの距離に配置
されている。
研究及び実験から最も高い環状スリットからの冷却媒体
流がインゴット2の側面での固−液界面の移動速度にか
なり影響を及ぼすことがわかった。
インゴット2中の固−液界面の移動速度に対する誘導子
4の作用領域からインゴット2を引抜く速度の割合は、
インゴット2の上面での溶融金属が誘導子4から離れる
前に凝固するのに十分な時間を与えそして溶融金属がイ
ンゴット2の側面を流れ落ちるのを防止するように調整
されるべきである。
この処置には、本発明によると、前述の複数の環状スリ
ットからの冷却媒体流を逐次停止することが伴う。
インゴットの底部が、インゴット2の移動方向で誘動子
4の中央高さから距離h1にある次の環状スリット6の
高さまで来たとぎに、最も高い環状スリット3からの冷
却媒体流を停止する。
残っている環状スリット6.7および8の冷却媒体流が
インゴットの側面での固液界面を実質的に誘導子4の中
央高さに維持する限りは、これら環状スリット6.7.
8は鋳造が終るまで冷却媒体をインゴット2の側面に供
給する。
もし固−液界面が凝固しているインゴットの頂上面の方
へ上昇しようとするならば、誘導子4の中央高さから距
離h2に配置されたその次の環状スリット7の高さにイ
ンゴットの底部が来たときに、環状スリット6が遮断さ
れる。
インゴット引抜き速度がより小さい場合に、誘導子4の
中央高さから距離h2にある第3環状スリツト7および
/又は誘導子4の中央高さから距離h3にある第4環状
スリツト8からの冷却媒体流が鋳造を安定させるので、
鋳造の初期段階の後に環状スリット3.6そして場合に
よってスリット7からの冷却媒体流を停止する。
本発明に係る方法を実施するために、4ないし6本の環
状スリットシ設けられることはインゴット引抜き速度の
必要な全範囲をカバーするのに十分である。
提案した方法が23ないし28m/minの引抜き速度
で直径485772711の高合金アルミニウムを鋳造
するのに使用された。
最も高い環状スリット3と第2環状スリツト6との間の
距離が50mであり、かつ、hlの値が約70ないし8
5mであった。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る方法を行なうための装置の概略縦
断面図である。 1・・・・・・環状冷却器、2・・・・・・インゴット
、3・・・・・・環状スリット、4・・・・・・誘導子
、5・・・・・・底板、6゜7.8・・・・・・環状ス
リット。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 下記イ〜ハ: (イ)環状誘導子の透孔内側に配置された底板上に溶融
    金属を供給すること、 (ロ)前記誘導子の電磁界によって前記金属のインゴッ
    トを形成すること、及び、 (ハ)異なった高さにある複数の環状スリットを通して
    前記インゴットの側面に複数の冷却媒体流を供給すると
    同時に、前記金属インゴットとともに前記底板を引き下
    げること、 を含んでなる金属の連続又は半連続鋳造法において、イ
    ンゴット引抜き速度に応じて最も高い環状スリットから
    順にその冷却媒体流のいくつかを停止することによって
    前記金属インゴットの側面での固−液界面を実効に前記
    誘導子の中央高さに維持することを特徴とする金属の連
    続又は半連続鋳造法。
JP15850877A 1977-12-29 1977-12-29 金属の連続又は半連続鋳造法 Expired JPS5928426B2 (ja)

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Publication Number Publication Date
JPS5492522A JPS5492522A (en) 1979-07-21
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI491353B (zh) * 2012-07-18 2015-07-11 Animal Health Res Inst Council Of Agriculture Executive Yuan Insect holder

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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TWI491353B (zh) * 2012-07-18 2015-07-11 Animal Health Res Inst Council Of Agriculture Executive Yuan Insect holder

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JPS5492522A (en) 1979-07-21

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