JPS5922504Y2 - Differential pressure response device - Google Patents
Differential pressure response deviceInfo
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- JPS5922504Y2 JPS5922504Y2 JP2807179U JP2807179U JPS5922504Y2 JP S5922504 Y2 JPS5922504 Y2 JP S5922504Y2 JP 2807179 U JP2807179 U JP 2807179U JP 2807179 U JP2807179 U JP 2807179U JP S5922504 Y2 JPS5922504 Y2 JP S5922504Y2
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- Japan
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- diaphragm
- pressure
- differential pressure
- measuring
- measuring diaphragm
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Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、対向する一対のバックアップ部の中間に配置
された測定ダイアフラムと、一方の測定圧を受けこの圧
力を内部液を介して測定ダイアフラムの一方の面に伝え
るシールダイアフラムと、他方の測定圧を受けこの圧力
を内部液を介して測定ダイアプラムの他方の面に伝える
シールダイアフラムとを有し、バックアップ部に形成さ
れた金属皮膜を固定電極とし、測定電極を移動電極とし
た差動容量検出形の差圧応動装置に関するものである。[Detailed description of the invention] The invention consists of a measuring diaphragm placed between a pair of opposing backup parts, and a seal that receives one measuring pressure and transmits this pressure to one side of the measuring diaphragm through an internal fluid. It has a diaphragm and a seal diaphragm that receives measurement pressure from the other side and transmits this pressure to the other side of the measurement diaphragm through an internal liquid.The metal film formed on the backup part is used as a fixed electrode, and the measurement electrode is used as a moving electrode. The present invention relates to a differential pressure response device of differential capacitance detection type.
この種の差圧応動装置においては、過大差圧がかかると
、測定ダイアフラムが変位してバックアツプ面に密着す
るため、過大差圧による塑性変形は生じない。In this type of differential pressure response device, when an excessive differential pressure is applied, the measuring diaphragm is displaced and comes into close contact with the back-up surface, so that no plastic deformation occurs due to the excessive differential pressure.
しかし、過大差圧が解除されても、内部液(シリコンオ
イル等)の粘性のために、密着状態の両者が離れるのに
時間がかかり、応答特性が悪いという問題がある。However, even if the excessive pressure difference is removed, it takes time for the two in close contact to separate due to the viscosity of the internal liquid (silicone oil, etc.), resulting in poor response characteristics.
本考案の目的は、この点を改善し、応答特性の良好な差
圧応動装置を提供することにある。An object of the present invention is to improve this point and provide a differential pressure response device with good response characteristics.
以下図面を用いて本考案を詳細に説明する。The present invention will be explained in detail below using the drawings.
第1図は本考案に係る差圧応動装置の一実施例を示す断
面図である。FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of the differential pressure responsive device according to the present invention.
図において、1は測定ダイアフラム、2はボディである
。In the figure, 1 is a measurement diaphragm and 2 is a body.
ボテ゛イ2は測定ダイアフラム1に関して2つのブロッ
ク2A、2Bに分けられる。The body 2 is divided into two blocks 2A, 2B with respect to the measuring diaphragm 1.
ブロック2A、2Bの測定ダイアフラム1と対向する側
の座ぐり穴には、バックアップ部を威すガラス等の絶縁
物21.22が充填され、その表面は測定ダイアフラム
1の変位曲面とほぼ等しい形状の球状凹面となっている
。The counterbore holes on the sides of the blocks 2A and 2B facing the measurement diaphragm 1 are filled with an insulating material 21, 22 such as glass that protects the backup part, and its surface has a shape approximately equal to the displacement curved surface of the measurement diaphragm 1. It has a spherical concave surface.
さらに、各ブロック2A、2Bの中央部には貫通孔23
.24が形成されている。Furthermore, a through hole 23 is provided in the center of each block 2A, 2B.
.. 24 is formed.
3,4は、それぞれブロック2A、2Bのバックアップ
部と反対側の面に取付けられたシールダイアフラム、5
,6は絶縁物21゜22の表面に形成された金属皮膜(
たとえば、ニッケルクロムの厚さ1μm程度の膜)であ
る。3 and 4 are seal diaphragms attached to the surfaces of blocks 2A and 2B opposite to the backup portion, respectively; 5;
, 6 is a metal film (
For example, it is a nickel chromium film with a thickness of about 1 μm).
この金属皮膜5,6の表面は、バックアツプ面に放射状
の溝が形成されるように絶縁皮膜(たとえば、酸化ケイ
素の厚さ1μm程度の膜)で覆われている。The surfaces of the metal films 5 and 6 are covered with an insulating film (for example, a silicon oxide film with a thickness of about 1 μm) so that radial grooves are formed on the back-up surface.
第2図はブロック2A側のバックアツプ面を測定ダイア
フラム1側からみた図、第3図は第2図のAA’断面の
一部分を示す断面図である(第1図と同一部分には同一
符号を付して説明を省略する)。FIG. 2 is a view of the back-up surface on the block 2A side viewed from the measurement diaphragm 1 side, and FIG. 3 is a sectional view showing a part of the AA' cross section in FIG. (The explanation will be omitted.)
この第2図および第3図において、7が金属皮膜5を覆
う絶縁皮膜である。In FIGS. 2 and 3, 7 is an insulating film that covers the metal film 5. In FIG.
この実施例の場合、金属皮膜5を放射状に露出させるこ
とにより、バックアツプ面に放射状の溝を形成している
。In this embodiment, radial grooves are formed on the back-up surface by exposing the metal film 5 radially.
金属皮膜5および絶縁皮膜7は、蒸着により形成する。The metal film 5 and the insulating film 7 are formed by vapor deposition.
金属皮膜6およびこれを覆う絶縁皮膜についても同様で
゛ある。The same applies to the metal film 6 and the insulating film covering it.
ブロック2A、2Bの組立は、一定の張力を加えた状態
の測定ダイアフラム1に両側からブロック2A、2Bを
押しつけ、25部分を溶接することによって行なう。The blocks 2A, 2B are assembled by pressing the blocks 2A, 2B from both sides against the measurement diaphragm 1 under a certain tension, and welding the 25 portions.
これによって、放射状の溝を有するバックアツプ面で形
成された空間26の中央に、測定ダイアフラム1が配置
される。This places the measuring diaphragm 1 in the center of the space 26 formed by the back-up surface with radial grooves.
また、シールダイアフラム3,4でそれぞれ形成された
隔室27、28は、貫通孔23.24によって空間26
と連通される。Further, the compartments 27 and 28 formed by the seal diaphragms 3 and 4, respectively, are connected to the spaces 26 and 26 by the through holes 23 and 24.
will be communicated with.
なお、隔室27.28および空間26には、非圧縮性流
体が内部液として封入される。Note that an incompressible fluid is sealed in the compartments 27 and 28 and the space 26 as an internal liquid.
以上の装置においては、測定ダイアフラム1が移動電極
を構成し、金属皮膜5,6が固定電極を構成することに
なる。In the above device, the measuring diaphragm 1 constitutes the moving electrode, and the metal coatings 5 and 6 constitute the fixed electrodes.
次に動作を説明する。シールダイアフラム3,4に測定
圧がかかると、これらの圧力は内部液を介して測定ダイ
アフラム1の両面に加えられる。Next, the operation will be explained. When measuring pressures are applied to the sealing diaphragms 3, 4, these pressures are applied to both sides of the measuring diaphragm 1 via the internal liquid.
したがって、測定ダイアフラム1は、差圧に応じた変位
をし、この変位は金属皮膜5,6と測定ダイアフラム1
との間の容量変化として検出される。Therefore, the measuring diaphragm 1 is displaced according to the differential pressure, and this displacement is caused by the metal coatings 5, 6 and the measuring diaphragm 1.
It is detected as a capacitance change between
過大差圧が加わった場合には、測定ダイアフラム1がい
ずれのバックアツプ面に密着し、測定ダイアプラム1等
の塑性変形を防いでいる。When an excessive differential pressure is applied, the measuring diaphragm 1 comes into close contact with either back-up surface, thereby preventing plastic deformation of the measuring diaphragm 1 and the like.
このような装置においては、過大差圧が解除されると、
内部液が溝を通って比較的速やかに測定ダイアフラム1
の全面に送られるため、応答特性が良好である。In such a device, when the excessive differential pressure is released,
The internal liquid passes through the groove relatively quickly to the measuring diaphragm 1.
Since the signal is sent to the entire surface of the area, the response characteristics are good.
また、溝の幅は狭いため、測定ダイヤフラム1が塑性変
形することはない。Furthermore, since the width of the groove is narrow, the measurement diaphragm 1 will not be plastically deformed.
なお、上記の説明においては、バックアツプ面に溝を4
本形成したものを示したが、本数を増すことにより、さ
らに応答特性を向上させることができる。In addition, in the above explanation, four grooves are formed on the back up surface.
Although the one formed in this manner is shown, the response characteristics can be further improved by increasing the number.
また、電極面積に余裕があれば、金属皮膜5,6につい
ても同一形状の溝を形成しても良い
以上説明したように、本考案によれば、応答特性の良好
な差圧応動装置を実現することができる。Further, if there is enough space for the electrodes, grooves of the same shape may be formed in the metal coatings 5 and 6. As explained above, according to the present invention, a differential pressure responsive device with good response characteristics can be realized. can do.
第1図は本考案に係る差圧応動装置の一実施例を示す断
面図、第2図はバックアツプ面を示す図、第3図は第2
図のAA’断面図である。
1・・・・・・測定ダイアフラム、2・・・・・・ボデ
ィ、3゜4・・・・・・シールダイアフラム、5,6・
・・・・・金属皮膜、7・・・・・・絶縁皮膜。FIG. 1 is a cross-sectional view showing an embodiment of the differential pressure responsive device according to the present invention, FIG. 2 is a view showing the back-up surface, and FIG.
It is an AA' cross-sectional view of the figure. 1...Measuring diaphragm, 2...Body, 3゜4...Seal diaphragm, 5, 6...
...Metal film, 7...Insulating film.
Claims (1)
ダイアフラムと、一方の測定圧を受けこの圧力を内部液
を介して前記測定ダイアフラムの一方の面に伝える第一
シールダイアフラムと、他方の測定圧を受けこの圧力を
内部液を介して前記測定ダイアフラムの他方の面に伝え
る第二シールダイアフラムとを有し、前記バックアップ
部に形成された金属皮膜を固定電極とし、前記測定ダイ
アフラムを移動電極とした差動容量検出形の差圧応動装
置において、バックアツプ面に放射状の溝が形成される
ように、前記金属皮膜の表面を絶縁皮膜で覆ったことを
特徴とする差圧応動装置。A measuring diaphragm disposed between a pair of opposing backup parts, a first seal diaphragm that receives measuring pressure from one side and transmits this pressure to one side of the measuring diaphragm via an internal liquid, and a second seal diaphragm that receives the pressure and transmits this pressure to the other surface of the measuring diaphragm via an internal liquid, the metal coating formed on the backup part being a fixed electrode, and the measuring diaphragm being a moving electrode. 1. A differential pressure responsive device of dynamic capacitance detection type, characterized in that the surface of the metal film is covered with an insulating film so that radial grooves are formed on the back-up surface.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2807179U JPS5922504Y2 (en) | 1979-03-07 | 1979-03-07 | Differential pressure response device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2807179U JPS5922504Y2 (en) | 1979-03-07 | 1979-03-07 | Differential pressure response device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS55130241U JPS55130241U (en) | 1980-09-13 |
JPS5922504Y2 true JPS5922504Y2 (en) | 1984-07-05 |
Family
ID=28873363
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2807179U Expired JPS5922504Y2 (en) | 1979-03-07 | 1979-03-07 | Differential pressure response device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5922504Y2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2639159B2 (en) * | 1989-04-14 | 1997-08-06 | 富士電機株式会社 | Capacitive differential pressure detector |
-
1979
- 1979-03-07 JP JP2807179U patent/JPS5922504Y2/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS55130241U (en) | 1980-09-13 |
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