JPS59217383A - レ−ザ−装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （技術分野） この発明は、純粋もしくは混合の原子もしくは分子から
なる気体のいずれかを使用づる密封式のプラズマ室を有
する気体レーザーにｖＡする。さらに詳しくは、振動を
得るｌこめに装置を光学的に芯合せする必要がなく、比
較的未熟練者であっても、密封式のプラズマ室、高電圧
部材および回路を新しいものど交換り−ることのできる
気体レー畳アーに関づ“る。

（従来技術） 一般的に、気体レーｌアーは選択された気体もしくは一
気体の況合物を封入したプラズマ室と、原子−ｂしくは
分子を高コーネルギー状態に達づるまで励起する高圧電
流を発生さＶる１組の電極とから構成されている。プラ
ズマ室封入体の外もしくは内部に１対の光学的反射鏡が
設置ノられていＣ１再生を行なうので、レーザー振動が
発生される。この反射鏡は再生を起こさけるＩこめに正
確に芯合わけしな【ノればならない。芯合わヒされた反
ａ］鏡は気体レーザー用の共振器を形成する。

この種の気体レーザーは、各種の原子らしくは分子から
成る気体を使用しているいろな形態で使用されＣいる。

利用できる出力スベク１−ルは、遠赤外線から可視の近
紫外線に及ぶ広範囲の電磁スペクトルで、パワー容量も
数ミリワラ１−からメガ９７１〜台に達する。

この種のレーザーを実際に使用１゛る段に４【ると、多
くの要因によって限界がでてくる。レーＩＦ−は多くの
場合、実験室での使用に滞っている。その理由は、レー
ザーを密封状態で操作覆る場合、必ず補助ポンプ装置が
必要で、間欠的もしく　ＬＬ　ｌ続的に気体媒質を補給
しなければならないからである。分子からなる気体レー
ＩＦ−の場合、気体媒質の組成は通常の使用状態の下で
分子解離によって徐々に変化づるので、使用された気体
が取り除かれるにつれて新しい気体を封入体の中に送り
込む必要が生じてくる。密封式の封入体を右するレーザ
ーの寿命も、プラズマ室にあって通し窓の光学内質を悪
くするレーザー増幅媒体の気体反応や分解によつＣ制限
される。大抵の場合、密封装買どして長期間にわたって
使用するためには、ｌ＼ツリウム−オン等の不活性気体
レーＩＦ−や、アルゴン、クリプトンその他の不活性気
体イオンレー１ｒ−が実用的である。

レーザーの使用に伴う費用の問題も商業ベースで使用づ
゛る場合、重要な要因である。例えば、ヘリウム・−ネ
オンのレーザーを取り上げると、これは比較的安く製造
でき、密Ｊ」状態で比較的未熟練にわたって使用できる
。この種のレーＩｆ−のプラズマ室が最終「白に触かな
く’Ｊるど、ゾラズ′ン室を取り替えて振動を得るＩこ
めの光学式共振器を再び芯合わせづ゛るよりは」ニラ１
〜全体を捨ててしまった方が実用的であるし、また経済
的Ｃもある。

大きなパワーの出せる比較的、：も価な蜜月式不活性気
体レーザーの場合、プラズマ室と補助装置のコストが高
い。この種の高価なレーザー装置に故障が生じると、通
常プラズマ室は取り苔えられるが、装置（、二高電圧が
用いられていることと正確な光学的芯合わせを必要とす
ることを理由として、取り替え作業には熟練を要覆る。

しかし、この秤の不活性気体レーザーは、プラズマ室の
交換費用に」−分見合うほど長く持つので商４６ベース
で使用されている。

分子その他多くの気体レーザ゛−の場合は、Ｊ−記事情
はあてｔままらない。例えば、二酸化炭素を使ｌｌＴｌ
い、−、アー（７）、Ｐ、、。、アウッ、□１□−１、
気体分子が解離されて一酸化炭素と酸素を生じる。

この種のレー署アーにはポンプ装置Ｖ）その他必要とす
る補助装置が設（Ｊてあって、連続的（こ気体を供給す
る操作ができるようになつＣいる。二酸化炭素を再生り
”るため触媒を使用する最近の技術によれば、この種の
密封レーザーの寿命は長く、なるが、市場に出−Ｃいる
ほどんどの装置では、所望の期間だり使用するどなると
、まだ、補給気体を流り必要がある。

ハロゲン化物を使用した気体レーＩアーの場合にも同様
なしかし６つと影響の大きい問題が生じる。

りなわら、この種の気体は腐蝕１１１があり、表面反応
によっＣ光学式の通し窓の有効性が少４ｊ・りなるから
である。結果として寿命がみじかくなるから、この主の
レーザーには連続的に気体を補給り−る装置が必要であ
り、同時（こ、使用され１こ腐蝕性気体を回収する装置
も必要である。

°プラズマ室に使用ずみの気体の補給を必要とづる従来
型式のレーザーを商業ベースで使用りる場合、多くのレ
ー蕃アーが通常かさ張った気体取り扱い装置を必要とす
る。

発明の概要 この発明によれば、気体レーザーのプラズマ室および高
圧回路は比較的未熟練−にでし迅速かつ簡単に交換でき
る。このため、密１４式プラズマ室の貯蔵寿命は長いが
、レーザー光を彎るｌこヴ）に使用Ｊるに従つ゛Ｃ徐々
に劣化づるにうなプラズマ室の使用が可能になる。大抵
の場合、この種のレーザーは間欠的にしか使用されてい
ない。この発明の装置は気体取り扱い装置を設【ノてい
ないのＣ１小Ｑ１１の、しかしこれが「、冒こ手習でル
）るが、持ち運びのできる軽重のレーザーを製作りるこ
とが可能になる。この発明は低いパワーないし中間程磨
のパワー出力で作動りるレー１Ｆ−を対象とりるｂので
・、非常に高１ネルギーのレーザ゛−には広く適用でき
ない。

密封式プラズマ室は通常の高電圧電極と光学的通し窓と
を有する。このプラズマ室を而１ｉ’ｌＪな■１かい光
学的芯合わＵを必要どＵずに交換づ−ることを可能に１
°るために、機械的合わば連結部の一部が取り外し自在
のプラズマ室の封入体に取り付けられるか、一方の高電
圧電極に直結され、かつ、電極、光学的通し窓およびプ
ラズマ室の光軸に対して所定の空間的かつ角度的位置を
占めるよう位置決めされる。機械的連結部の電極、通し
窓Ａ３　Ｊ：び光軸に対する位置決めについては、Ｔｘ
Ｌｊ＆性のある各プラズマ室について同じである３、共
振鏡が取りイ」（）られるど共に、電極、電源その他補
助装置に対づ゛る電気的接続部材を設りた別体のベース
には、このベースに取りイ」りられた１対の反射鏡に対
して正（１１［に所定の空間的かつ角度的位置を６ｋｌ
！（−取り（＝Ｊりられた合わ′ｌ！連１１４部の他の
一部が設りられている。この（浅域的連結部の一部の各
反１＝１鏡に対づる位置は互換性のある各ベースに対し
て同じである。したがって、各ベースＪ３Ｊ、び各ノ゛
ラズマ室は他の同様なユニッ１〜とＴｊ換性ｉｆある。

プラズマ室が１動かなくなると、古くなった７゛ラズ７
室をベースから外して、代りのプラズマ室を装着する１
ピリで簡単に交換できる。連結部の前記２′つの各部の
所定の位置、つまり、電極どプラズマ室の光軸に対する
位置、おにび前記２つの反射鏡に対づ゛る位置は、プラ
ズマ室の交換の際、細かい調整を必要とせずにレーザー
撮動を発生さＵるに＋５）４１精１身Ｃプラズマ室を位
置決めひきるようにしである。小型４「ことは、この最
適なシー１ｆ−気体況含物を含む密月式ブラズ？室は低
」ス１〜（・製作Ｃきることである。このため、使いｖ
１シのプラズマ室は捨ててしｊ：い別の゛しのと容易に
交換ひきる１、すお、希薄な等ブノ性分子を使用りる分
子レーザ゛−１あるいは精巧な電極形状を必要どりる分
子レーザ゛−に使われるような烏価なプラズマ？ｉ（′
なら■揚１こ戻し−Ｃ別の〕′ラスマ室を使用しでいる
間に１■」調整をすることもできる。

このＪ、うに、反ｑ４鏡、゛市〕ｊ；（部その曲の補助
装置をつりたままＣ１かつ高電Ｈ一部材どＪ（に、もし
く（５Ｌ別々にプラズマ室を交換できると、−１ス１〜
問題１５使用状況の１＝めに使用でさ４ｒか・）だ多く
レー１Ｆ−を使用りることがＣ゛さる。この発明は、実
際の使用状況の下では比較的に寿命が短かいプラズマｊ
　　　　　室も、使用しないで貯蔵状態のまま（こ置く
時は十分艮い可曲を右Ｊるという事実をたくみに利用し
−Ｃいる。従って、この種のいわゆる短命のプラズマ室
す多くの非実験室ベースでの使用が８易どなる。

まＩこ、この弁明により、１ｊ入覆る気体は違うが同じ
種類のレー１Ｆ−に属りる各種のプラズマ室を共通のベ
ースで使用できるので、最小の］ス１〜で多様な用途が
聞【ノる。

この発明の主な目的は、比較的高いピーク強度を右し、
かつ持続時間の短かいレーザーパルスを発生さけるだめ
の小型シー１１−装置を提供Ｊること（゛ある。レーリ
゛−プラズマは、玉ネルギー貯蔵二１ンデンリおよび高
速電気スイッチにＪ、って電気的に高速励起される。コ
ンデンリに貯蔵される電気」−ネルギ一番、上、スイッ
チの作用にＪ、って、急速（タミ速な電流１胃にＪ、る
）にシー１Ｆ−ノ°ラズマに転換される。なＪ３、この
スイッチはトリガーもしくは非１−リガー型のガス充填
部拐Ｃある。アッパーレベルにおいて分子のズを命が短
かい気体を使用したし〜ザーにＪ：って、ピーク強度が
高く、かつ持続時間の短かい出力パルスを効率的に発生
さけるだめには、上ネルギーを急）申にプラズマ室に転
換する必要がある。寿命が約数ナノ秒の場合にはは、プ
ラズマ内にａ３Ｌノる電流励起の上置時間は数ナノ秒を
下回っていなく乙はならない。

この実施例においＣは、小をのプラズマ室は高速電磁励
起のＩこめの小型モジコール内に設【Ｊられたスイッチ
おＪ：びエネルギー貯蔵コンデン１ノーと一体化されて
いる。モジュール内においては、コンデンリおよびスイ
ッチ−はプラズマ室に隣接されているので、プラズマ室
の電極に対しで低いインダクタンスで連結される。この
ように配列しＩこことによって、強度、／）で高く、か
つ持続時間の短いパルスを発生さけるために必要４１高
速励起が１１なわれる。

このモジュールはレーザー」（振器内で交換可能である
ので、モジコール内の部Ｉが故障した場合に、迅速か゛
つ容易にレーザー装置を修理することができる。その操
作はモジュール全体を新しいモジュールと交換ｊるだＩ
」であるので、熟練者Ｃなくても修理可能である。もし
も、このようなモジュールを使用しない場合には、プラ
ズマ′字およびそれに伴う回路は、別々の部ｌとして着
脱できない状態で取りイ」けられる。そうした場合、−
プラズマ室Ｊ３よび８雷「部材の交換は困ガであるため
熟練を要する。

このようなモジュールによるプラズマ室とじＣは、適当
な利得を右し、寿命の短い励起状態の分子で構成された
気体レーザーがある。この気体レー瞥アーに要求される
必要条件はインダクタンスが小さいことと、電磁励起が
高速で行なわれることである。このレーザーは、高速で
励起された場合、過渡飽和ｉ７　（ｔｒａｎｓｉｅｎｔ
　ｇａｉｎ）の交ａｔ−ドで動作する。長さの短い共振
器によつ（、過渡的利得の短い１）続藺間内において、
エネルギーが効果的に取り出される。また、プラズマ室
が小型Ｃあるため、全体にわたってインダクタンスの低
０回路が得られる。モジュールによるプラズマ室にＪこ
つて可能になった持続時間の短い励起パルスは、小型レ
ーザープラズマから非常に低いエネルギーで得られる高
いピークパワーを効率よく発生する。

このような構成に゛りると、分子の寿命上限の非１；＆
に短い気体を用いたレーリ゛−において、効果的な利得
交換が行なわれる。

この発明の実施例にＪ３い（、Ｌネルギー貯蔵コンデン
リ、エネルーー′−−敢出スイップ等のスミ命の短い電
気部材を値１えたプラスン室は、６脱可能な単一の２を
込み式しジコーール内に−・体化されている。

このモジュールは、プラス′マ室の軸に対して予め設定
した位置にカップラーによって取りイ」（〕られる。こ
の七ジｊ−ルを共振器内に挿着し！こら、カップラーに
対する係合部材によって、このプラズマ室を共振器の軸
に対し”Ｃ予め設定した位置に固定り−る。このモジ１
−ルは、インダクタンスを１−分低下さＵうるように配
置されているので、１４続０．１１間が２ナノ秒未満の
プラズマパルスを発生りる。

パルス化されたレーザーに関り−るこの発明の別の実施
例において、高電圧］−ネル１ニー貯蔵：１ンラ゛ンリ
′、畠速電気エネル１ニー放出スイッチおにび従ｊ　　
　　属回路を右−、Ｊａ第１□ッ］、　−Ａｙ　、；ｉ
；、第２１ジ、−ルに含まれるプラズマ室とは別々に交
換される。

プラズマ室を右づるモジュールは、高電圧部材を右する
モジコールを交換しなくＴも交換可能であるとともに、
いずれのモジ」、−ルをダ挨りる場合にし、光軸設定を
りる必要がない。

また、別の実施例ｒｔよ、１枚１］の鏡（よ交換可能な
プラズマ室に取すイ・」りられていて、２枚［］の鏡【
５１ベース上に位置している。

実施例 次に、この発明の一実施例を図面に従っ−Ｃ説明リ−る
。第１図に示すよう（ご、ブラズー／掌２は交換可能な
モジュール４（第２図参照）の第２セクシヨン４ｂと第
２セクシヨン４ｂの１？１１に設買される。

プラズマ室２はセラミック製の管状部月６の両端を石英
窓８ａ、８ｂ−ｅ密３Ｎ　ｕた」］人体より成る。

プラズマ室２内の長手り向には、１対の高電圧の電極１
２ａ、１２ｂが対向状に設買される。、各電ｔｉ１２ａ
、１２ｂには１対のコネクタープレー］〜１４ａ、１４
ｂが一体状に形成されＣいる。そして、このコネクター
プレーｔ−１７１ａ、１／ｌｂはプラズマ室２の封入体
の対向側から突出している。

プラズマ室２（よ完全密Ｊ」され、その内部には窒素ガ
スが封入されている。このプラズマ室２としては、ジ■
イムス・シー・シアにＪ、）（同口出糸ｌされた「レー
ザープラズマ室」という名称の同ｎｊｒ係属中の米国ｔ
！ｒ　ｒｉ’ｌ出願に開示されたしのがある。

コネクタープレーｈ　１　／Ｉａ、　１４　ｂＬＬ、プ
ラズマ室２を支持するとと６に、電極にり＝ｌ　シー’
Ｃ接続り−るという両方の目的を右Ｊる。この［１的を
達成づるた、およびインダクタンスを低トさけるために
、このコネクタープレーｌ−１４ａ、１／Ｉｂｌま充分
な強度を確保しうる寸法に設定さ４′シる１、−・能に
、こ（７）　＝＋　ネクタープレー１−１　／Ｉ　ａ、
　　１　／Ｉ　ｂｌＬ使用される電極の良さに対して、
少なくとｂ１／３の長さに設定りることか望ましい。こ
れらの］］ネクターブＬ／−１−１４ａ、　１４．ｂは
、それぞれ、２′−）のプラズマ室１ノボ−１−プレー
ト１６ａ、１６ｂに対して面で接触される。Ｊ：た、こ
れらの４ノボ−１〜プレーｌ〜１６ａ、１６ｂは、」ネ
クタープレー１−１　／ｌ　ａ　。

１４　ｂど同一の長さに設定され、プラズマ室２と電気
１１′９に接続されるとともに、プラズマ室２を定位置
に正確に支持りる。

コネクタープレー１１４ａ、１４ｂの下面をリボ−１〜
プレーｈ　１　（３ａ、１６ｂの上面にし゛）かり係合
ざＵて保持り−るＩこめに、２枚のノ゛ラズマ゛全１」
ツクプレーｈ１８ａ、１８ｂが使用される。−１ネクタ
ーブレー；〜１４．ａ、１４ｂは、これらのロックプレ
ーｌ−１８８，１８ｂによってト向さの力を受（Ｊるｌ
こめ、リポ−１〜プレー１−’＋６８，１６ｂに対し−
Ｃ押圧支持される、′ｃした、各］」ツクーＩレートｉ
３ａ、１８ｂの上面に（、Ｌ１仮バネ２０が取り（＝Ｊ
ｔＪｅれ−でいる。そして、第５踵目こ承りように、こ
の板バネ２０の下面（，１リポ〜１〜シレー１〜１６　
；１　。

１６Ｆ）の上面に対して直接押圧される。

ロックプレート１８ａ、１８ｋ）の上端【よ、カバープ
レー１−２２に固定され−ＣいるのＣ′、螺子２４にＪ
：って、カバープレート２２をモジ−１−ル４の第１お
よび第２Ｌ−クション４ａ、４ｂに固定りるど、各］ネ
クタープレート１４　ａ、　１４　ｂｃ、Ｌ、１ナボー
トプレー］〜１６ａ、ｉ６ｂに対しでクランプされる。

カバープレー１〜２２はエポギシ樹脂等の絶縁相で形成
され、その内部には低抗器おにび＝１ンデン４ノ（図示
せず）が埋設されているので、電極１２ａと電）転１２
ｂとの間は、ロックプレー１へ１８ａおよび１８ｂを介
して連結される。なお、ロックプレー１〜１８ａ、１８
ｂは黄銅秀（′形成されている。

第１図に承りように、プラズマ室２の両端には２つの共
振ミラー２６ａ、２６ｂｈ＜設置される。

なお、この共振ミラー２６ａ、２６ｂの１幾能は、当業
者であれば周知のところである。

モジュール４は、アルミニウム等で形成されたベースプ
レー１〜２８に適宜固定され℃いる。このモジュール４
は、４個の位置決めピン３２によって、ベースプレー１
−２８に対し一℃水平に設定される。なお、この位置決
めピン３２はモジュール４の底面にモールドされた孔内
に挿通されている。

モジュール４は、第４図に示すように、３個のｊ　　　
　　高圧コンデンサ３４．３（３，３８と気体スイッチ
４２を有する。これらの］ンデン４ノーおよび気体スイ
ッチは、通常の方法でブルームライン回路（Ｂｌｕｍｌ
ｅｉｎ　　ｃｉｒｃｕｉｔ）に接続され、リボ−１−プ
レート１６ａ、１６ｂによって接続が行なわれるど、電
極１２ａ、１２ｂ間に高圧パルス放電を起す。

これらの高圧部材は熱伝導性のエル４シ樹脂内に埋設さ
れ、剛性の高い七ジ］−ル４を形成している。孔はモー
ルドに形成されるので、モジュールを交換した場合、モ
ジ］−−ルはリポ−１−プレーｌ−１６ａ、１６ｂの水
平位置に対して正確に設定される。

モジュール４には、適当なリード線（図示Ｌｌ’）を介
して、従来の高圧電源４６およびタイマ／１〜リガ回路
４８が接続される。このＪ、うに構成されたユニットは
ケース５２内に収納される３、なお、このケース５２は
制御パネル５４おＪ、び後部パネル５６を右りる９、そ
して、後部パネル５６にはレーザー光放射用の開口５８
が形成されている。

２つの共振ミラー２６ａ、２６ｂは、連結棒６，２ａ、
６２ｂ等によって、位置決めピン３２に対して正しい位
置に取りイ」りられているので、結果的に、サポートプ
レート１６ａ、１６ｔ）の水平位置に対しても正しい位
「１をどる。しＩＣがって、モジュール４を取りはずし
て、別のモジコーールと交換する場合においても、リボ
−１〜プレー１〜１６８゜１６ｂに対重る２つの共振ミ
ラー２６ａ、２６ｂの横方向の位置は、正しい位置に保
持される。

ザル−１〜プレー１〜１６ａ、１（３ｂの上面によつ（
、プラズマ雀２内の電極１２ａ、１２ｂの位置が決定さ
れるが、このサポートプレート ｂの上面のベースプレー１〜２８からの＾さは、七ジュ
ールをし一ルドする工程ｅ設定される。ところで、−し
−ルド］１稈には変動があるため、各−しジュールの高
さに多少差異を生じるが、七−ジュールを成形した後に
、各リポートプレーｈ１６ａ，ＩＧｂの上面を加工する
ことにＪ、つ（この差異４取り除りば、各プラス゛マ室
のベースプレート２８にり４づる高さを正しく設定する
ことができる。

前記のような配列にすれば、熟練者でなくてもモジュー
ル４およびプラズマ室２を迅速かつ容易に交換できる。

高圧部月のうち１つが故障した場合、螺イ２４を緩めて
カバープレー１−２２をはずし、４）−ボーｌ−プレー
１・１６ａ，１６ｂからプラズマ室２を取りはずしてか
らモジュール４を取り除く。その際、高圧電源；４Ｇへ
のリード線（図示せｆ）をモジュール４からはずし、ぞ
の後部ジュール４を位置決めピン３２からはずす゛。次
に、新しいモジ：Ｉ−ルを位置決めピン３２上に設置し
、高圧電源４Ｇに接続りる。そし゛（、プラズマ室２を
サポートプレート１６ａ，１６ｂ上に設冒し、カバープ
レー１〜２２によってクラン１りる。その後は、複雑な
光軸設定をしなくても、電力を供１８するだ（Ｊでレー
１Ｆ−を発生させうる。

また、欠陥のあるプラズマ室の交換も簡便である。その
場合、カバープレー１〜２２を取りはずしで、新しいプ
ラズマ室をυボー１〜プレー１〜１６ａ。

１６ｂ十−に設置し、再びカバープレー１〜２２を取り
イ・」けるだレノでよい。この実施例においては、プラ
ズマ室は取りはずし可能な第２のモジュールとして構成
されているが、必要に応じて、プラズマ室は別の構成体
の中に合体させてもよいし，中実マトリックス内に埋設
してもよい。

プラズマ室とそれに接続される高電圧回路の両方を取り
変えるｊ場合には、カバープレー１〜をは１丁さなくて
も、モジュール４を新しいプラズマ室を備えたモジュー
ルと交換覆ればＪ：い。

実際の使用にＪ３い−（は、プラズマ室をモジコール４
内に常時取り［」りておいて、一体のユニツｌ−とじて
取り付りるようにすることが望ましい。

２つの石英ｇ８ａ、８ｂには従来とおり］−フインクが
施しであるので、発ｉｌするシー１アーの周波数帯域で
の反！Ｊ］が低く押えられる。２枚のコネクタープレー
ト１４ａ、１／ｌｂはモジュールの第１セクシヨン４ａ
および第２レクシヨ１ン４ｂの壁の間にぎち／υどフィ
ツトさせる必要はない。ぞ−の理由は、プラズマ室２の
水平位置（微振動が生じるが、二Ｉ−フイングを施した
無反用の石英窓Ｑａ。

８ｂによって、レーザーが連続的に振動りるからである
。

？　　　　　　この実施例にｄ３いては、プラズマ室は
、電極１２ａ、１２ｂに隣接する封入体に固定されＩζ
コネクターブレーＩ〜１／ｌａ、１４ｂによって、所定
の位置に保持されている。このような構成にすると、１
４人体の別の部分に取り伺Ｇ−Ｊたマウン１〜によ・〕
’Ｃ、プラズマ室の位置を決定した揚台に比へて適応性
が向上づる。振動を保つための重要４１要素Ｌ；′Ｌ、
共振ミラー２６ａ、２６ｂど協傍Ｉ　Ｌ　Ｔプラズマ室
の光軸を形成づる電極の位置であつ（、封入体の管状部
の位置ではない。したがって、１ネクタープレー１−に
電極を−・体化させるか、適当なｈ法によって取りイ」
けることによって、その（１７置を止しく保持さけねば
ならないが、プラズマ室を形成する１１人体のその他の
寸法は正確に調節でる必要はない。

一般的には、共振ミラー【、１ブラズン室の外側に取り
付りて、プラズマ室の交換の際に、Ｊ（振ミラーを交換
しなくてもよいようにし−（おくことが望ましい。しか
し、場合によっＣは、一方の共１辰ミラーを封入体内に
取り付け、他方の共振ミラーをその外側に取り付１ノる
ことか望ましい。

この実施例におけるプラスン室内には窒素ガスが封入さ
れている。このようなブラズ：／室【３１、ジ丁イムズ
・シー・ジノ′によって同日出願された「レーリ゛−プ
ラズマ會」という名称の同時係属中の米田特へ′１出願
に開示されている。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明のシー１１−装置の略平面図、第２図
は第１図の２−２線断面図、第３図は第１図の３−３線
断面図、第４図は高電圧部材の位置を示づためのモジコ
ールの略平面図、第５図は第２図の５−５線断面図であ
る。 ２・・・プラズマ室　　　　４・・・モジコール４ａ・
・・第ルクション　　４ｂ・・・第２Ｌ！−クション６
・・・管状部月　　　　　８ａ、８ｂ・・・石英窓１２
ａ、１２ｔ＋　　・・・電極 １４ａ、　１旧）・・・二］ネクタープレート１６ａ、
１６ｂ・・・リボ−１〜プレート１８ａ、１８１・・・
［１ツクプレー１・２０・・・板バネ　　　　　　２６
ａ、２６ｂ・・・共振ミラー２８・・・ベースプレート
　　３２・・・位置決めピン３４．３（１，３８・・・
コンデンリ　４２・・・気体スイッヂ出願人　　アリ　
・　ジャーパン 代理人　　弁則士　　岡　１）英　彦 Ｆ；′Ｉｉｇ　ｉ。 Ｆ＝マ棒２゜ Ｆニアｉｑ、３゜

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. （１）密封式プラズマ室と、交換可能なモジュールと、
   前記モジ１−ル用のベースとから成り、前記プラズマ室
   は１１人体と、前記封入体内部に配設された第１および
   第２の高圧電極ど、前記封入体に設番プられた少くども
   １つの光学的通し窓どを有し、前記モジュールは前記プ
   ラズマ室と、前記プラズマ室用の高電圧パルス回路ど、
   前記７［２極ど前記通し窓に対して所定の位置関係と方
   位を右する固定装置と、機械的固定装置とをイｉし、前
   記ベースはこのベースに取りつＧｅｌられると共に反則
   面を有する少なくとも１つの反射鏡と、前記機械的固定
   装置をａ脱自在に受容しで固定しろるように配設された
   前記ベースに支持されるとともに、前記反射鏡面に対し
   て所定の位置関係と方位を有−４る機械的′取り何り装
   置とを有し、前記機械的数りイ」け装置および前記機械
   的固定装置が係合して固定されると、前記反射鏡面と前
   記プラズマ室とがレ−１，１’−振動を発生しうる位置
   に設定されるため、前記モジコールは前記ベースに対し
   −（光学的に芯合わせをすることなく取外し交換が可能
   であることを特徴とり”るレーザー装置。
2. （２）前記封入体に前記光学的通し窓を２つ設りると共
   に前記ベースに前記反射鏡を２つ取り１］りることを特
   徴とする特許請求の範囲第１項記載のレーザー装置。
3. （３）前記封入体が、前記電極および前記通し窓に対し
   て所定の位置関係と方位を右りる第１Ｊ′３よび第２の
   コネクター装置を備え、がっ、前記モジュールが、前記
   コネクター装置に着脱可能に配設されるとともに、前記
   機械的固定装置に対して所定の位置関係と方位を右りる
   」ンタクｉ−装置を備えていることを特徴とする特許請
   求の範囲第１項記載のレーザー装置。
4. （４）密封式プラズマ室と、前記プラズマ室に対して高
   電圧パルスを供給づ°るための高電圧回路を有づる交換
   可能なモジュールと、前記高電圧回路に対して電気的に
   接続された第１および第２の支持装置と、スプリング装
   置とから成り、前記プラズマ室は封入体と、第１おにび
   第２の電極と、前記第１および第２の電極に接続される
   とともに前記封入体から外側に延出づる第１および第２
   の電極コネクター装置とを右し、かつ前記スプリング装
   置によって、前記第１および第２の電極コネクター装置
   と前記第１および第２の支持装置とが、それぞれ加圧接
   触された状態で着脱可能に保持されることを特徴と一’
   Ｊ−るレーザー装置。
5. （５）密１り式のプラズマ室と、第１および第２のプラ
   ズマ室支持装置と、スプリング装置とから成り、前記プ
   ラズマ室は封入体と、前記封入体内に取り付けられた第
   １おにび第２の高電圧電極と、前記第１おにび第２の電
   極にそれぞれ接続されるとともに前記封入１本の対向側
   から外側に延出リ−る第１および第２のコネクター装置
   とを有し、前記ｊ　　　　　第１おにび第２のプラズマ
   室支持装置は、それぞれ前記第１および第２のコネクタ
   ー装置と電気的に接触するとともにこれを着１１（２可
   能に支持し、かつ、前記スプリング装置によって、前記
   」ネクター装置と前記支持装置とが加圧係合された状態
   で保持されることを特徴とするシー１１−装置。
6. （６）離間して対向Ｊる壁面を有する第１　Ｊ３　Ｊ：
   び第２のセクションを備えるとともに二Ｆネルギー貯蔵
   コンデン１ノおよび高電圧スイッチを備え／ｊ着脱可能
   なモジュールと、前記両しクシ］ン間に設置されるとと
   もに前記対向覆る壁面に隣接覆る密封式のプラズマ室と
   、前記第１および第２の壁面がら延出するとどもに前記
   プラズマ室に対して低いインダクタンスで接触するコネ
   クター装置とから成ることを特徴とするレーザー装置。