JPS5921379Y2 - optical shutter device - Google Patents

optical shutter device

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JPS5921379Y2
JPS5921379Y2 JP1978032619U JP3261978U JPS5921379Y2 JP S5921379 Y2 JPS5921379 Y2 JP S5921379Y2 JP 1978032619 U JP1978032619 U JP 1978032619U JP 3261978 U JP3261978 U JP 3261978U JP S5921379 Y2 JPS5921379 Y2 JP S5921379Y2
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JP
Japan
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optical shutter
plane
light
polarizers
crystal
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JP1978032619U
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JPS53134840U (en
Inventor
弘臣 小嶋
貞夫 野村
三千夫 関谷
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工業技術院長
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Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、光シヤツター素子として電気光学効果を有す
る結晶を用いた光シヤツター装置の改良に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an improvement of an optical shutter device using a crystal having an electro-optic effect as an optical shutter element.

光シヤツターの方式としては、電気光学効果を有する結
晶(本明細書ではこのような結晶を電気光学結晶と称す
る)を用いる方式がよく知られている。
As a method of optical shuttering, a method using a crystal having an electro-optic effect (in this specification, such a crystal is referred to as an electro-optic crystal) is well known.

ここでは光シヤツターの原理を変調素子としてTung
sten−Bronze型5rXBa□−XNb206
(本明細書ではSBNと略す)を例にとって説明する。
Here, we will explain the principle of optical shutter using Tung as a modulating element.
sten-Bronze type 5rXBa□-XNb206
(abbreviated as SBN in this specification) will be explained as an example.

SBN結晶はキュリー(Curie)点以下の温度で正
方晶系、点群4mmの対称性を有する結晶群に属し、C
軸を光学軸とする一軸性結晶である。
SBN crystal belongs to a crystal group that has a tetragonal system and a point group symmetry of 4 mm at a temperature below the Curie point, and has C
It is a uniaxial crystal whose axis is the optical axis.

いま結晶のa軸、b軸、C軸にそれぞれ平行な直交座標
系x、7.zを考えると屈折率だ固体は次のように書け
る。
Now, the orthogonal coordinate system x is parallel to the a-axis, b-axis, and c-axis of the crystal, respectively.7. Considering z, the refractive index of a solid can be written as follows.

ここでn。Here n.

、noはそれぞれ常光線、異常光線に対する屈折率であ
る。
, no are refractive indexes for ordinary rays and extraordinary rays, respectively.

つぎにZ軸方向に外部電界E2を印加すると、(1)式
の屈折率だ固体は次のように変化する。
Next, when an external electric field E2 is applied in the Z-axis direction, the refractive index of the solid in equation (1) changes as follows.

ここでr13.r33は一次の電気光学効果である。Here r13. r33 is a first-order electro-optic effect.

(2)式より明らかなように、E2の印加前後において
屈折率だ固体の主軸は変化しないことがわかる。
As is clear from equation (2), it can be seen that the refractive index and the principal axis of the solid do not change before and after the application of E2.

(2)式において、no′γ13EZ< <1. ne
”γ33E2く〈1なる関係を用いて展開すると、とな
る。
In equation (2), no′γ13EZ<<1. ne
When expanded using the relationship ``γ33E2 〈1,'' it becomes.

ここでSBNのZ軸方向に電界を印加して、y軸方向か
ら光を伝ばんさせる光シヤツタ一方式について説明する
Here, a one-type optical shutter will be described in which an electric field is applied in the Z-axis direction of the SBN and light is transmitted from the y-axis direction.

結晶(光シヤツター素子)の形状は第1図に示すように
、X軸、y軸、Z軸に沿って切り出し、X軸方向に細長
いものである。
As shown in FIG. 1, the shape of the crystal (optical shutter element) is cut out along the X-axis, y-axis, and Z-axis, and is elongated in the X-axis direction.

第1図において1は入射光、2は電極、3は電気光学結
晶である。
In FIG. 1, 1 is incident light, 2 is an electrode, and 3 is an electro-optic crystal.

第2図のように偏光子2と検光子5の間に上記結晶3と
1/4波長板4とを挿入する光学系を考えると、電界を
印加しないときに、π/4(rad)の方位の直線偏光
が結晶のX軸方向に伝ばんしたことによって生ずる位相
差は、 ここでλは光の波長、lは結晶のX軸方向の長さである
Considering an optical system in which the crystal 3 and the quarter-wave plate 4 are inserted between the polarizer 2 and the analyzer 5 as shown in Fig. 2, when no electric field is applied, π/4 (rad) The phase difference caused by the propagation of linearly polarized light in the X-axis direction of the crystal is: where λ is the wavelength of the light and l is the length of the crystal in the X-axis direction.

なおF(0)は結晶の自然複屈折によって生じる位相差
である。
Note that F(0) is a phase difference caused by the natural birefringence of the crystal.

Z軸方向に電界E2を印加したとき生ずる位相差は、 すなわち、Z軸方向に電界を印加したことにより、rx
(0)だけの位相差が(5)式に示した位相差F(0)
に付加されたことになる。
The phase difference that occurs when electric field E2 is applied in the Z-axis direction is:
The phase difference of (0) is the phase difference F(0) shown in equation (5).
It will be added to.

上記光学系の偏光子、1/4波長板および検光子の方位
角をそれぞれα、ε、σ(結晶のZ軸基準)とすると、
結晶へ入射する光の強度I。
If the azimuth angles of the polarizer, quarter-wave plate, and analyzer of the above optical system are respectively α, ε, and σ (based on the Z-axis of the crystal),
Intensity I of light incident on the crystal.

と検出光子から出射する光の強度■の比は次のようにな
る。
The ratio of the intensity of light emitted from the detected photon (2) is as follows.

ここでα σ=(3/4π 式は yr /4 (rad) 、 t = yr /4 (
rad)そしてF(0)/2)(rad)ニ設定すルト
(7)となる。
Here α σ = (3/4π The formula is yr /4 (rad), t = yr /4 (
rad) and F(0)/2)(rad) becomes the default (7).

すなわちF(E)がπ(rad)となる電圧(半波長電
圧)をオン・オフすることによって、光シヤツターが実
現できる。
That is, an optical shutter can be realized by turning on and off a voltage (half-wavelength voltage) at which F(E) is π (rad).

以上説明した従来の光シヤツターは1本の光ビームをオ
ン・オフすることを目的としている。
The conventional optical shutter described above is intended to turn on and off a single light beam.

異なった方向からくる複数個の光ビームをオン・オフす
る場合には複数個の光シヤツターを用いなければならな
い。
When turning on and off multiple light beams coming from different directions, multiple light shutters must be used.

これはコスト的問題があり、またレーザ応用のシステム
中に組込む場合には、設置するスペースなどの点で不利
になることは明らかである。
This poses a cost problem, and when it is incorporated into a laser application system, it is clear that it is disadvantageous in terms of installation space and the like.

本考案は、上記のような問題点を克服するためになされ
たもので、光シヤツター素子として点群4mmに属する
SBNなど(7) Tungsten−Bronze型
電気光学結晶を用いて複数個の光ビームを同時にしかも
おのおの独立にオン・オフできる光シヤツターを提供す
ることを目的とする。
The present invention was made to overcome the above-mentioned problems, and uses a Tungsten-Bronze type electro-optic crystal such as SBN (7) belonging to a point group of 4 mm as an optical shutter element to emit multiple light beams. The purpose of the present invention is to provide an optical shutter that can be turned on and off simultaneously and independently.

以下光シヤツター素子としてSBN結晶を用いた場合を
例にとって説明する。
Hereinafter, a case where an SBN crystal is used as an optical shutter element will be explained as an example.

(1)式、(4)式から明らかなように電界を印加しな
いときのX軸方向、y軸方向の屈折率nx、nyはそれ
ぞれ であり Z@力方向電界を印加するとX@力方向 y@力方向屈折率nx、nyはそれぞれ となる。
As is clear from equations (1) and (4), the refractive indices nx and ny in the X-axis direction and y-axis direction when no electric field is applied are respectively, and when an electric field is applied in the Z@force direction, X@force direction y @The refractive indexes nx and ny in the force direction are respectively.

すなわち、電界印加前後において屈折率の大きさは変わ
るが、X軸方向の屈折率とy軸方向の屈折率とが等しい
(nx−n7.uXl−nyl)コとに変りない。
That is, although the magnitude of the refractive index changes before and after applying the electric field, the refractive index in the X-axis direction and the refractive index in the y-axis direction remain equal (nx-n7.uXl-nyl).

Z軸方向に電界を印加しても一軸性が保存なされる。Uniaxiality is maintained even when an electric field is applied in the Z-axis direction.

したがってZ軸に対して垂直なあらゆる方向に光を入射
させても、結晶の先広ばん方向の長さが等しければ同じ
位相差を与えることになる。
Therefore, even if light is incident in any direction perpendicular to the Z-axis, the same phase difference will be given if the lengths of the crystal in the direction of spreading are equal.

つぎに光シヤツタ素子の形状について第3図a、l)を
用いて説明する第3図aは平面図、bは正面図である。
Next, the shape of the optical shutter element will be explained using FIGS. 3a and 3l). FIG. 3a is a plan view, and FIG. 3b is a front view.

1は光シヤツター素子としてのSBHのような魚群4m
mに属する電気光学結晶2−1゜2−2は入射光ビーム
、3は電極、4は外部電界印加のためのリード線である
1 is a 4m school of fish like SBH as an optical shutter element.
Electro-optic crystals 2-1 and 2-2 belonging to m are incident light beams, 3 is an electrode, and 4 is a lead wire for applying an external electric field.

光シヤツター素子1は2面を紙面に対して平行にとり、
その側面を2面が正方形となるように切断する。
The optical shutter element 1 has two sides parallel to the plane of the paper,
Cut the sides so that both sides are square.

なお第3図において結晶の軸方向を示しであるが([株
]印は紙面に対して上向きに正、・印は紙面に対して下
向きに負をとる)、X軸およびy軸のとり方はZ面上任
意の方向でよい。
Although the axial direction of the crystal is shown in Figure 3 (the [stock] mark is positive upwards with respect to the paper surface, and the * mark is negative downwards with respect to the paper surface), the X-axis and y-axis are taken as follows. Any direction on the Z plane may be used.

また印加する電界の済性は、以下の説明では第3図すに
示したとり方を■極性とする。
In the following explanation, the polarity of the applied electric field is assumed to be the polarity shown in FIG. 3.

いま、2−1および2−2を45°方位の直線偏光とす
ると、Z軸方向に電界を印加することにより位相差は、
ともに となり、2本の光ビーム2−1.2−2に対して同じよ
うに変調することができる。
Now, assuming that 2-1 and 2-2 are linearly polarized lights with a 45° azimuth, the phase difference can be changed by applying an electric field in the Z-axis direction.
Together, the two light beams 2-1 and 2-2 can be modulated in the same way.

つぎに本考案の光シヤツターの動作原理を第4図を用い
て説明する。
Next, the operating principle of the optical shutter of the present invention will be explained with reference to FIG.

第4図は第3図に示した光シヤツター素子を二個カスケ
ードしたもので、その平面図である。
FIG. 4 is a plan view of two cascaded optical shutter elements shown in FIG. 3.

1−1.1−2は第3図に示した光シヤツター素子、2
は入射光ビーム、3は偏光子(方位角45°)、4は1
/2波長板(方位角45°)、5は検光子(方位角−4
5°)である。
1-1.1-2 is the optical shutter element shown in FIG.
is the incident light beam, 3 is the polarizer (azimuth angle 45°), 4 is 1
/2 wavelength plate (azimuth angle 45°), 5 is analyzer (azimuth angle -4
5°).

以上の方位角は結晶(光シヤツター素子)のZ軸を基準
とする。
The above azimuth angles are based on the Z axis of the crystal (optical shutter element).

このように構成すると11式で示した自然複屈折のため
に生じた位相差F(0)は補償されて零になる。
With this configuration, the phase difference F(0) caused by the natural birefringence shown in Equation 11 is compensated and becomes zero.

いま1−1に極性■で、(11)式に示したF(E)π
/2(rad)となるような電圧(1/4半波長電圧)
Vλ/4を常時印加しておく。
Now, with polarity ■ in 1-1, F(E)π shown in equation (11)
/2 (rad) (1/4 half wavelength voltage)
Vλ/4 is constantly applied.

1−2に極性○て゛電圧Vλ/4印加すると、二つの光
シヤツター素子でp(E)は相殺されて零になる。
When a voltage Vλ/4 with polarity ○ is applied to 1-2, p(E) is canceled out by the two optical shutter elements and becomes zero.

すなわち検光子から出射する光の強度は最小(理想的に
は零)となりオフの状態となる。
That is, the intensity of the light emitted from the analyzer becomes minimum (ideally zero), and the analyzer is in an off state.

1−2に極性■で電圧Vλ/4を印加するとμ)はπ(
rad)となり検光子から出射する光の強度は最大とな
る。
When voltage Vλ/4 is applied to 1-2 with polarity ■, μ) becomes π(
rad), and the intensity of the light emitted from the analyzer becomes maximum.

1−2に印加する電圧の極性を変更することにより、光
シヤツター動作が実現できる。
Optical shutter operation can be realized by changing the polarity of the voltage applied to 1-2.

以下実施例により本考案の内容を説明する。The content of the present invention will be explained below with reference to Examples.

本考案は、第5図に示すように、第3図で示した光シヤ
ツター素子を縦、横2個づつ配置する。
In the present invention, as shown in FIG. 5, the optical shutter elements shown in FIG. 3 are arranged vertically and horizontally, two each.

第3図に示した光シヤツター素子1 1,1 2.1
3.’+ 4゜レーザなどの単色入射光ビーム2−1
.2−2.2−3゜2−4.方位角45°の偏光子3−
1.3−2.方位角45°の1/2波長板4−1.4−
2.4−3.4−4.偏光面回転器5、方位角−45°
の検光子6−1.6−2より構成される。
Optical shutter element 1 1, 1 2.1 shown in Figure 3
3. '+4゜ Monochromatic incident light beam 2-1 such as laser
.. 2-2.2-3゜2-4. Polarizer 3- with an azimuth angle of 45°
1.3-2. 1/2 wavelength plate with azimuth angle of 45° 4-1.4-
2.4-3.4-4. Polarization plane rotator 5, azimuth -45°
It consists of analyzers 6-1 and 6-2.

上記方位角は、第4図と同じように、光シヤツター素子
のZ軸を基準にとったものである。
The above azimuth angle is taken with the Z axis of the optical shutter element as a reference, as in FIG. 4.

なお、5は外力を印加したとき偏光面が90°回転し、
印加しないときは偏光面が回転しないような素子で電気
光学素子、ファラデー素子、電圧を印加することによっ
て旋光能が変化する旋光電素子、機械的に方位を変更で
きる1/2波長板などが使用できる。
In addition, in 5, the plane of polarization rotates 90° when an external force is applied,
Elements that do not rotate the plane of polarization when no voltage is applied include electro-optical elements, Faraday elements, photorotation electric elements whose optical rotation power changes when voltage is applied, and half-wave plates whose orientation can be changed mechanically. can.

まず、光ビーム2−1.2−2.2−3.2−4が通過
する場合、すなわち、すべての光ビームに対して光シヤ
ツターがオンの状態にする場合を考える。
First, let us consider the case where the light beams 2-1.2-2.2-3.2-4 pass through, that is, the case where the optical shutter is turned on for all the light beams.

この場合には、1−1.1−2.1−3.1−4にそれ
ぞれ■極性で■λハ電圧を印加し、そして5に外力を印
加しないようにすればよい。
In this case, voltages 1-1.1-2.1-3.1-4 with 1 polarity and 2 λ C voltages may be applied, and no external force may be applied to 5.

光ビーム2−1に着目すると、偏光子から出射した45
°方位の直線偏光は1−1.1−4によってπ(rad
)の位相差が与えられ、偏光面は90°回転する。
Focusing on the light beam 2-1, 45
The linearly polarized light in the azimuth is π (rad
) is given, and the plane of polarization is rotated by 90°.

検光子は一45°方位に設定されているから、最大の強
度で検光子より出射される。
Since the analyzer is set at an azimuth of -45°, the light is emitted from the analyzer with maximum intensity.

光ビーム2−3.2−4についても、2−1と同様に、
最大の強度で検光子より出射される。
Regarding light beam 2-3.2-4, similarly to 2-1,
It is emitted from the analyzer at maximum intensity.

光ビーム2−2について考えると、偏光子から出射した
45°方位の直線偏光は1−2.1−3によって、π(
rad)の位相差が与えられ、偏光面は90°回転する
Considering the light beam 2-2, the linearly polarized light at 45° azimuth emitted from the polarizer becomes π(
rad), and the plane of polarization is rotated by 90°.

5には外力が印加されていないから、そのまま検光子に
入射する。
Since no external force is applied to 5, it enters the analyzer as it is.

検光子は一45°方位に設定されているから最大の強度
で検光子より出射される。
Since the analyzer is set at an azimuth of -45°, the light is emitted from the analyzer with maximum intensity.

つぎに2−1,2−2,2−3の光ビームに対して、光
シヤツターオンの状態そして2−4の光ビームに対して
オフの状態にする場合を考える。
Next, consider the case where the optical shutter is turned on for the light beams 2-1, 2-2, and 2-3, and turned off for the light beam 2-4.

この場合には1−1 、1−2.1−4に対してそれぞ
れ■極性で■λ/4の電圧を印加し、1−3に■極性で
■λ/4の電圧を印加し、そして5に外力を印加すれば
よい。
In this case, apply a voltage of ■λ/4 with ■polarity to 1-1, 1-2, and 1-4, apply a voltage of ■λ/4 with ■polarity to 1-3, and 5 by applying an external force.

光ビーム2−1に着目すると偏光子から出射した45°
方位の直線偏光は1−1.1−4によってπ(rad)
の位相差が与えられ、偏光面は90°回転する。
Focusing on the light beam 2-1, the 45° beam emitted from the polarizer
Directional linear polarization is π (rad) by 1-1.1-4
The plane of polarization is rotated by 90°.

検光子は一45°方位に設定されているから、最大の強
度で検光子から出射される。
Since the analyzer is set at an azimuth of -45°, the light is emitted from the analyzer with maximum intensity.

光ビーム2−3についても同様に検光子より最大の強度
で出射される。
Similarly, the light beam 2-3 is emitted from the analyzer at maximum intensity.

光ビーム2−4について考えると、偏光子から出射した
45°方位の直線偏光は1−3において−π/2 (r
ad)の位相差が与えられ、1−4によってπ/2(r
ad)(7)位相差が与えられるから、1−3.1−4
を通過すると位相差は相殺されて零になる。
Considering light beam 2-4, the linearly polarized light at 45° azimuth emitted from the polarizer becomes -π/2 (r
ad), and 1-4 gives π/2(r
ad) (7) Since the phase difference is given, 1-3.1-4
When passing through, the phase difference is canceled out and becomes zero.

したがって偏光面は回転しない。Therefore, the plane of polarization does not rotate.

検光子は一45°方位に設定されているから、検光子よ
り出射される光ビームの強度は最小(零)となる。
Since the analyzer is set at an azimuth of -45°, the intensity of the light beam emitted from the analyzer is minimum (zero).

光ビーム2−2に対しては、2−4と同様に、12.1
−3によって位相差は相殺されて零となる。
For light beam 2-2, similarly to 2-4, 12.1
-3, the phase difference is canceled out and becomes zero.

しかし、5に外出を印加するから偏光面は90°回転し
、検光子から最大の強度で出射される。
However, since the external light is applied to 5, the plane of polarization is rotated by 90 degrees, and the light is emitted from the analyzer with maximum intensity.

このように4本の光ビームに対して、おのおの独立に光
シヤツター動作をさせることができる。
In this way, the optical shutter operation can be performed independently for each of the four light beams.

第1表に各光ビームのオン・オフの状態とそれに対応し
た光シヤツター素子への電圧の印加状態を示す。
Table 1 shows the on/off state of each light beam and the corresponding state of voltage application to the optical shutter element.

第■表において、光ビームの項の○印は光が通過する、
すなわち光シヤツターオンの状態、X印はオフの状態を
表わす。
In Table ■, the ○ mark in the light beam section indicates that light passes through it.
That is, the optical shutter is on, and the X mark is off.

そして光シヤツター素子の項における■は十極性で■λ
/4の電圧を印加すること○は一極性で同じくVλ/4
の電圧を印加することを意味する。
And ■ in the term of optical shutter element is depolar and ■λ
/4 voltage is applied. ○ is unipolar and also Vλ/4
This means applying a voltage of .

また5におけるOnは外力を印加して偏光面を90°回
転させること、Offは外力を印加しないことをそれぞ
れ示す。
Further, On in 5 indicates that an external force is applied to rotate the polarization plane by 90 degrees, and Off indicates that no external force is applied.

なお、第1表においては、光シャッター素子1−1に常
時■電圧を印加した場合を表したが、常時e電圧を印加
した場合についても同様な動作を行なうことができる。
Although Table 1 shows the case where the voltage (2) is always applied to the optical shutter element 1-1, the same operation can be performed when the voltage (e) is always applied.

この場合には第1表で示した1−2,1−3,1−4の
極性を反対にすればよい。
In this case, the polarities of 1-2, 1-3, and 1-4 shown in Table 1 may be reversed.

以上光シヤツター素子を縦横2個づつ配列した場合につ
いて説明したが、一般に縦横複数個づつ配列した場合に
ついて拡張することができる。
Although the case where optical shutter elements are arranged in two rows and columns has been described above, the invention can generally be extended to a case in which a plurality of optical shutter elements are arranged in rows and columns.

上記のごとく本考案は、 (1)1個の光シヤツター装置で互に直交した複数個の
光ビームを同時に、しかもおのおの独立にオン・オフで
゛きるので、レーザ応用のシステム装置に必要な光回路
素子として広い用途が考えられる。
As mentioned above, the present invention has the following advantages: (1) A single optical shutter device can simultaneously turn on and off multiple light beams that are perpendicular to each other, and each beam can be turned on and off independently. A wide range of uses can be considered as circuit elements.

(2)(1)の理由によって、コストが低減できる。(2) Due to the reason in (1), costs can be reduced.

(3)電気光学効果を利用しているから高速度の光シヤ
ツター動作が可能である。
(3) High-speed optical shutter operation is possible because the electro-optic effect is used.

(4)各光ビームに対して結晶の自然複屈折度が補償で
きるような構造になっているので、動作点の移動が補償
でき、安定動作が可能である。
(4) Since the structure is such that the natural birefringence of the crystal can be compensated for each light beam, movement of the operating point can be compensated for and stable operation is possible.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、SBNなとのタングステン−ブロンズ(Tu
ngsten−Bronze)型電気光学結晶を用いた
光シヤツター素子の形状、軸方位などを説明するための
図、第2図は、第1図に示した光シヤツター素子を用い
た動作原理を説明するための図、第3図は、本考案の光
シヤツター素子の形状軸方位などを説明する図、第4図
は、本考案の光シヤツター動作を説明する図、第5図は
、本考案の一実施例図である。 2−1〜2−4:光ビーム、1−1〜1−4:光シヤツ
ター素子、3−1.3−2:偏光子、4−1〜4−4:
1/2波長板、5:偏光面回転器、6−1.6−2:検
光子。
Figure 1 shows tungsten-bronze (Tu) with SBN.
Figure 2 is a diagram for explaining the shape, axial direction, etc. of an optical shutter element using an electro-optic crystal (Ngsten-Bronze) type electro-optic crystal. FIG. 3 is a diagram explaining the shape axis direction of the optical shutter element of the present invention, FIG. 4 is a diagram explaining the operation of the optical shutter of the present invention, and FIG. This is an example diagram. 2-1 to 2-4: Light beam, 1-1 to 1-4: Optical shutter element, 3-1.3-2: Polarizer, 4-1 to 4-4:
1/2 wavelength plate, 5: polarization plane rotator, 6-1.6-2: analyzer.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 0面に垂直で、かつ互に直交する二つの面にそれぞれ垂
直に入射した光ビームに対して、同じ電気光学効果を与
えるような対称性を有する電気光学結晶の0面が正方形
になるように側面を加工した光シヤツター素子を複数個
、0面に平行な面上に縦横それぞれ偶数個になるように
装置し、隣り合う光シヤツター素子の間にそれぞれ一個
の1/2波長板を挿入し、該光シヤツター素子が縦横そ
れぞれ偶数個配列された外側側面に平行にそれぞれ偏光
器を設置し、しかも対向する二つの偏光器の方位角を互
いに直交するように配置して、さらに、該光シヤツター
素子の1つと、該偏光器の1つの間に、外力印加によっ
て偏光面が回転し得る偏光素子を挿入し、該0面に直交
する2つの面の各々に入射される複数の光ビームのうち
、射出されるべき光ビームの組合せに応じて、該光シヤ
ツター素子の各々のC軸方向に、異なった極性の1/4
波長電圧を印加するとともに、該偏光素子への外力の印
加を制御する手段を設けたことを特徴とする光シヤツタ
ー装置。
The 0-face of an electro-optic crystal has a symmetry that gives the same electro-optic effect to light beams that are perpendicular to the 0-face and perpendicularly incident on two mutually orthogonal faces. A plurality of optical shutter elements with processed side surfaces are arranged on a plane parallel to the 0 plane so that they are an even number in both the vertical and horizontal directions, and one half-wave plate is inserted between each adjacent optical shutter element, Polarizers are installed parallel to the outer side surfaces of which the optical shutter elements are arranged in even numbers both vertically and horizontally, and furthermore, the azimuths of the two opposing polarizers are arranged to be orthogonal to each other, and further, the optical shutter elements A polarizing element whose polarization plane can be rotated by applying an external force is inserted between one of the polarizers and one of the polarizers, and among the plurality of light beams that are incident on each of the two planes orthogonal to the zero plane, Depending on the combination of light beams to be emitted, a quarter of a different polarity is placed in the C-axis direction of each of the light shutter elements.
An optical shutter device characterized in that it is provided with means for applying a wavelength voltage and controlling the application of an external force to the polarizing element.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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