JPS59210064A - Aniline derivative, its preparation and agricultural and horticultural fungicide containing said derivative as active component - Google Patents

Aniline derivative, its preparation and agricultural and horticultural fungicide containing said derivative as active component

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JPS59210064A
JPS59210064A JP21851283A JP21851283A JPS59210064A JP S59210064 A JPS59210064 A JP S59210064A JP 21851283 A JP21851283 A JP 21851283A JP 21851283 A JP21851283 A JP 21851283A JP S59210064 A JPS59210064 A JP S59210064A
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JP
Japan
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group
atom
general formula
alkyl group
lower alkyl
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Application number
JP21851283A
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Japanese (ja)
Inventor
Junya Takahashi
淳也 高橋
Toshiro Kato
加藤 寿郎
Yuji Noguchi
野口 裕士
Yukio Oguri
幸男 小栗
Shigeo Yamamoto
茂男 山本
Katsuzo Kamoshita
鴨下 克三
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

NEW MATERIAL:The compound of formula I [X is nitro, amino, thioisocyanato, group of formula II (A' is O or S; R<2> is lower alkyl, lower alkenyl, etc.), etc.; Y is lower alkyl, lower alkoxy, H, etc.; A is O or S; B is lower alkyl, lower alkenyl, lower cycloalkyl, etc.]. EXAMPLE:Isopropyl N-(3-chloro-4-ethoxy-5-methoxycarbonylaminophenyl)-carbamate. USE:An agricultural and horticultural fungicide effective to powdery mildew, scab, etc. of apple. It exhibits strong fungicidal effect against fungi resistant to benzimidazole thiophanate fungicides. PROCESS:The compound of formulaIVcan be prepared by reacting the compound of formula III (R1 is lower alkyl, lower alkenyl, etc.) with the compound of formula IV (Z is halogen).

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式[I] 工 〔式中、Xはニトロ基、7ミノ基、チオイソシアナト基
または一般式−NR−C−12あるい11゜ は−NEL−C−A’−R2で示される基を表わす(こ
11゜ こて、A′およびA“は同一または相異なり、酸素原子
または硫黄原子を表わし、 R2は低級アルキル基、低
級アルケニル基、低級アルキニル基、低級ハロアルキル
基または低級アルコキシアルキル基を表わす。)。Yは
低級アルキル基、低級アルコキシル基、低級アルコキシ
カルボニル基、水素原子、ハロケン原子またはアシル基
を表わす。R1は低級アルキル基、低級アルケニル基、
低級アルキニル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキ
シアルキル基、低級シクロアルキルアルキル基または低
級シアノアルキル基金表わす。Aは酸素原子または硫黄
原子を表わす。Bは低級アルキル基、低級7 JL/ 
))ニル基、低級シクロアルキル基、フェニル基または
一般式−W−Ra  で示される置換基を表わす(ここ
で、Wは酸素原子ま1こは硫黄原子を表わし、勘は低級
アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低
級ハロアルケニル基、低級ハロアルキニル基または低級
シクロアルキル基を表わすか、またはハロゲン原子で置
換されていてもよいフェニル基を表わすか、まTこはハ
ロゲン原子、シアノ基、フェニル基、低級シクロアルキ
ル基、低級アルコキシル基、低級アルケニルオキシ基、
(Illハロアルコキシ基、フェノキシ基マ1こはアラ
ルキルオキシ基のうち少なくとも1つの原子または基で
置換されたアル子ル基を表わす。)。] で示されるアニリン誘導体(以下、本発明化合物と称す
。)、その製造法およびそれを有効成分として含有する
農園芸用殺菌剤に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention is based on the general formula [I] -A'-R2 represents a group represented by (hereinafter referred to as 11゜), A' and A'' are the same or different and represent an oxygen atom or a sulfur atom, and R2 is a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group. , a lower haloalkyl group or a lower alkoxyalkyl group).Y represents a lower alkyl group, a lower alkoxyl group, a lower alkoxycarbonyl group, a hydrogen atom, a halokene atom or an acyl group.R1 represents a lower alkyl group, a lower alkenyl group,
Represents a lower alkynyl group, lower haloalkyl group, lower alkoxyalkyl group, lower cycloalkylalkyl group or lower cyanoalkyl group. A represents an oxygen atom or a sulfur atom. B is a lower alkyl group, lower 7 JL/
)) Represents a nyl group, a lower cycloalkyl group, a phenyl group, or a substituent represented by the general formula -W-Ra (where W represents a sulfur atom, and is assumed to be a lower alkyl group, a lower Represents an alkenyl group, lower alkynyl group, lower haloalkenyl group, lower haloalkynyl group, or lower cycloalkyl group, or represents a phenyl group optionally substituted with a halogen atom, or a halogen atom or a cyano group. , phenyl group, lower cycloalkyl group, lower alkoxyl group, lower alkenyloxy group,
(Ill haloalkoxy group, phenoxy group represents an aral group substituted with at least one atom or group of an aralkyloxy group). The present invention relates to an aniline derivative represented by (hereinafter referred to as the compound of the present invention), a method for producing the same, and an agricultural and horticultural fungicide containing the same as an active ingredient.

本発明者らは、ベノミル〔メチル 1−(ブチルカルバ
モイル)ベンズイミダゾール−2−イルカ−バメート〕
、フベリダゾール〔2−(2−フリル)ベンズイミダゾ
ール]、チアベンダゾール[2−(4−チアゾリル)ベ
ンズイミダソール〕、カルペンダジム〔メチル ベンズ
イミダゾール−2−イルカ−バメート〕、チオファネー
トメチル[1,2−ビス(3−メトキシカルボニル−2
−チオウレイド)ベンゼン〕、チオファイ、−)−[J
、、2−ビス(3−エトキシカルボニル−2−チオウレ
イド)ベンゼン]などのベンズイミダゾール・チオファ
ネート系殺菌剤、およびプロシミドン[N−(8’ 、
 5’−ジクロロフェニル)−1,2−ジメチルシクロ
プロパン−1,2−ジカルボキシイミド〕、イプロジオ
ン[3−(3’ 、 5’−ジクロロフェニル)−1−
イソブロピル力ルバモイルイεダシリジン−2,4−ジ
オン〕、ビンクロゾリン[8−(3’ 、 5’−ジク
ロロフェニル)−5−メチル−5−ビニル−オキサゾリ
ジン−2,4−ジオン〕、エチル(凡S ) −8−(
3’ 、 5’−ジクロロフェニール)−5−メチル−
2,4−ジオキソオキサゾリジン−5−カルボキシレー
トなどの環状イミド系殺菌剤に耐性を示す植物病原菌お
よびその他の糸状菌(以下、薬剤耐性菌と称す。)に対
し、選択的に殺菌効果を示す殺菌剤の発明に鋭意努力し
た結果、前記一般式CDで示されるアニリン誘導体がこ
のような効果を示すことを見出しtコ。すなわち、本発
明化合物は後述の試験例からも明らかなように、ベンズ
イミダゾール・チオファネート系殺菌剤または環状イミ
ド系殺菌剤に感受性な野性菌(以ド、薬剤感受性菌と称
す。)による病害に対し何ら防除効果を示さないが、薬
剤耐性菌による病害に対しては優れた防除効果を示し、
本発明化合物の薬剤耐性菌に対する殺菌力は極めて選択
性の腐いものであった。
The inventors have discovered that benomyl [methyl 1-(butylcarbamoyl)benzimidazole-2-yl-bamate]
, fubelidazole [2-(2-furyl)benzimidazole], thiabendazole [2-(4-thiazolyl)benzimidazole], carpendazim [methyl benzimidazole-2-ylbamate], thiophanate methyl [1,2-bis( 3-methoxycarbonyl-2
-thiourido)benzene], thiophyi, -)-[J
, , 2-bis(3-ethoxycarbonyl-2-thioureido)benzene], and procymidone [N-(8',
5'-dichlorophenyl)-1,2-dimethylcyclopropane-1,2-dicarboximide], iprodione [3-(3', 5'-dichlorophenyl)-1-
isopropyl rubbermoyl εdacilidine-2,4-dione], vinclozolin [8-(3', 5'-dichlorophenyl)-5-methyl-5-vinyl-oxazolidine-2,4-dione], ethyl (S) - 8-(
3', 5'-dichlorophenyl)-5-methyl-
Shows a selective bactericidal effect against plant pathogenic bacteria and other filamentous fungi (hereinafter referred to as drug-resistant bacteria) that are resistant to cyclic imide fungicides such as 2,4-dioxoxazolidine-5-carboxylate. As a result of our earnest efforts to invent a disinfectant, we discovered that the aniline derivative represented by the general formula CD exhibits such an effect. That is, as is clear from the test examples described below, the compounds of the present invention are effective against diseases caused by wild bacteria that are susceptible to benzimidazole-thiophanate fungicides or cyclic imide fungicides (hereinafter referred to as drug-susceptible bacteria). Although it does not show any control effect, it shows an excellent control effect against diseases caused by drug-resistant bacteria.
The bactericidal activity of the compounds of the present invention against drug-resistant bacteria was extremely selective.

本発明化合物は前述のようにベンズイミダゾール・チオ
ファネート系殺菌剤に耐性を示す菌に対し選択的に強い
殺菌効果を示すが故に、前記薬剤が使用されることによ
り出現が予想されるまたは出現した薬剤耐性菌の防除に
使用することができる。このような菌としては、たとえ
ばリンゴのうどんこ病菌(Podosphaera  
Ieou−cotricha ) 、黒星病菌(Ven
turia  1naequalis)、ナシの黒星病
菌(Venturia nashicola  )、モ
ニリア病菌(5clerosinia mali )、
カキの炭そ病菌(Gloeosporium  kak
i)、モモの灰星病菌(8clerotinia  c
inerea )、黒星病菌(すIad−ospori
um  carpophilum )、ブドウの灰色か
び病菌(Botrytis  ctnerea ) 、
黒とぅ病菌(El−sinoe  ampelina 
) 、晩腐病菌(GJomerellacingula
ta )、テンサイノ褐斑病菌(Cercos−por
a  beticola )、ピーナツツノ掲斑病菌(
Uercospora  arachidicola 
)、熱演病菌(Cercospora  person
ata ) 、オオムギのうどんこ病菌(Erysip
He  graniinis  f、 sp、 hor
dej)、アイ・スポット病菌(0ercospore
lla herpot −richoides ) 、
紅色雪腐病菌(FuSarium n1vale)、コ
ムギのうどんこ病菌(Erysiphe  grarn
inis。
As mentioned above, the compound of the present invention exhibits a strong bactericidal effect selectively against bacteria that are resistant to benzimidazole/thiophanate fungicides. It can be used to control resistant bacteria. Examples of such bacteria include, for example, powdery mildew of apples (Podosphaera
Ieou-cotricha), Ven
turia 1naequalis), pear scab fungus (Venturia nashicola), monilia fungus (5clerosinia mali),
Oyster anthracnose fungus (Gloeosporium kak)
i), 8clerotinia c
inerea), Iad-ospori
um carpophilum), grape gray mold fungus (Botrytis ctnerea),
El-sinoe ampelina
), late rot fungus (Gjomerella cingula
ta), Cercos-por
a beticola), peanut blight fungus (
Uercospora arachidicola
), Cercospora person
ata), barley powdery mildew fungus (Erysip
He graniinis f, sp, hor
dej), eye spot fungus (0ercospore)
lla herpot-richoides),
Fusarium n1vale, wheat powdery mildew (Erysiphe gran)
inis.

f、 sp、 tritici ) 、キュウリのうど
んこ病菌(5phaerot、hean  fulig
inea )、つる枯病菌(Mycosphaerel
la  melonis ) 、灰色かび病菌(Bot
’rytis  cinerea ) 、黒星病菌(O
lados−porium  cucumerinum
 )、トマトの葉かび病菌(C1adosporiur
n  fulvum )、灰色カビ病菌(Botryt
is  cinerea )、イチゴのうどんこ病菌(
5pbaerotlleca  bumuli )、ホ
ップの灰色カビ病菌(Botrytis  ciner
ea )、タバコのうどんこ病菌(Erysiphe 
 cichoracearum ) 、バラの黒星病菌
(Diplocarpon  rosae )、ミカン
のそウカfM菌(Elsinoe  fawcetii
 ) 、青かび病菌(Penjcilljum  jt
aljcum ) 、緑かび病菌(Penicilli
um  digitatum )などが挙げられる。
f, sp, tritici), cucumber powdery mildew fungus (5phaerot, hean fulig)
inea), Mycosphaerel
la melonis), gray mold fungus (Bot
'rytis cinerea), Aspergillus sclera (O
lados-porium cucumerinum
), tomato leaf mold fungus (C1adosporiur
n fulvum), gray mold fungus (Botryt
is cinerea), strawberry powdery mildew fungus (
5pbaerotlleca bumuli), hop gray mold fungus (Botrytis ciner)
ea ), tobacco powdery mildew (Erysiphe
cichoracearum), Diplocarpon rosae on roses, Elsinoe fawcetii on mandarin oranges
), Blue mold fungus (Penjcilljum jt
aljcum), green mold fungus (Penicilli)
um digitatum).

さらに検討を続けた結果、薬剤耐性の有無に拘らず本発
明化合物はイネいもち病菌(Pyri−cularia
  oryzae )等の防除に効果のあることが判明
した。
As a result of further studies, it was found that the compound of the present invention is effective against the rice blast fungus (Pyri-cularia), regardless of the presence or absence of drug resistance.
It was found to be effective in controlling insects such as P. oryzae).

本発明化合物はいずれも実用上充分な殺菌活性を有する
ものであるが、好ましいものとしては、上記一般式CD
において置換基Yが低級アルキル基、低級アルコキシル
&、低級アルコキシアルキル基、ハロゲン原子またはア
シル基を表わすようなアニリン誘導体が挙げられる。
Although all of the compounds of the present invention have practically sufficient bactericidal activity, compounds of the above general formula CD are preferred.
Examples include aniline derivatives in which the substituent Y represents a lower alkyl group, a lower alkoxyl group, a lower alkoxyalkyl group, a halogen atom, or an acyl group.

さらに好ましいものとしては、一般式[1]において置
換基Xが一般式−Nu−C−几′2 または11゜ −NH−C−A’−凡′2で示される基を表わしくここ
で、+1゜ AおよびAは前記と同じ意味を表わし、R′2は低級ア
ルキル基を表わす。)、Yが低級アルキル基、低級アル
コキシル基、ハロゲン原子またはアシル基を表わし、R
1が低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニ
ル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキシアルキル基
または低級シアノアルキル基を表わし、かっBが一般式
−W−R8で示されるとき几8が低級アルキル基を表わ
すようなアニリン誘導体が挙げられる。
More preferably, in the general formula [1], the substituent X represents a group represented by the general formula -Nu-C-几'2 or 11°-NH-C-A'-B'2, where: +1°A and A have the same meanings as above, and R'2 represents a lower alkyl group. ), Y represents a lower alkyl group, a lower alkoxyl group, a halogen atom or an acyl group, and R
1 represents a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a lower haloalkyl group, a lower alkoxyalkyl group, or a lower cyanoalkyl group, and when B is represented by the general formula -W-R8, 几8 represents a lower alkyl group. Examples include aniline derivatives as shown below.

次に、本発明化合物の製造法について述べる。Next, a method for producing the compound of the present invention will be described.

本発明化合物は例えば次の方法によって製造することが
できる。
The compound of the present invention can be produced, for example, by the following method.

製法(a)  一般式[11,1 〔式中、X、YおよびR1は前記と同じ意味を表わす。Manufacturing method (a) General formula [11,1 [In the formula, X, Y and R1 have the same meanings as above.

] で示される化合物と一般式[m] Z −0−B        []II]I し式中、2はハロゲン原子を表わす。Bは前記と同じ意
味を表わす。〕 で示される化合物とを反応させる製法。
] A compound represented by the general formula [m] Z -0-B []II]I In the formula, 2 represents a halogen atom. B represents the same meaning as above. ] A manufacturing method of reacting with the compound shown in

この反応は、たとえば水またはベンセン、トルエン、キ
シレン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、クロロホルム、四塩化炭素、酢酸エチル、ピリ
ジン、ジメチルボルムアミド等の有機電媒、またはそn
らの混合物中において行われ、通常ピリジン、トリエチ
ルアミン、H,N−ジエチルアニリン、水酸化カリウム
等の脱酸剤を用い、必要lζ応じで、テトラブチルアン
モニウムプロミド等の相聞移動触媒を用いて、高収率で
行うことができる。反応は必要に応じて冷却または加熱
(0〜150’C)することにより、10時間以内で完
結し、収率よく目的物を得ることができる。
This reaction can be carried out using, for example, water or an organic electrolyte such as benzene, toluene, xylene, diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, chloroform, carbon tetrachloride, ethyl acetate, pyridine, dimethylbormamide, or the like.
It is usually carried out in a mixture of pyridine, triethylamine, H,N-diethylaniline, potassium hydroxide, etc., and if necessary, a phase transfer catalyst such as tetrabutylammonium bromide. It can be carried out with high yield. By cooling or heating (0 to 150'C) as necessary, the reaction can be completed within 10 hours and the desired product can be obtained in good yield.

上記製法において、一般式[11]で示され化合物は一
般式[■] 〔式中、X、YおよびR1は前記と同じ意味を表わす。
In the above production method, the compound represented by the general formula [11] is represented by the general formula [■] [wherein, X, Y and R1 represent the same meanings as above.

コ で示されるニトロベンゼン誘導体を還元することにより
得られる。tことえば、水とメタノール、エタノール等
の低級アルコールとの混合物中、硫化ナトリウム、水硫
化す1〜リウムにより還元する方法を用いることができ
る。反応は通常50°Cから溶媒還流温度までの温度範
囲で、12時間以内で完結する。または、酢酸、塩酸、
硫酸等の無機酸と水との混合物中、鉄粉、亜鉛粉モジく
はスス粉−を用いる方法で行うことができる。反応は通
常50°Cから100°Cで行われ、12時間以内で反
応は完結する。さらに、エタノール、酢酸エチル等の有
機溶媒中、二酸化白金、パラジウム−炭素等の触媒を用
い、常圧又は加圧下、通常0°Cから60℃にて水素添
加する方法を用いることができる。なお、一般式[■]
で示されるニトロベンゼン誘導体は、例えば一般式[V
] [式中、XおよびYは前記と同じ意味を表わす。〕 で示される二1〜ロフェノール誘導体と、一般式%式%
[:] 〔式中、R1は前記と同じ意味を表わし、Dはハロゲン
原子、メシルオキシ基またはトシルオキシ基を表わす。
It can be obtained by reducing the nitrobenzene derivative shown in . For example, a method can be used in which reduction is performed using sodium sulfide or dihydrium hydrogen sulfide in a mixture of water and a lower alcohol such as methanol or ethanol. The reaction is usually completed within 12 hours at a temperature range from 50°C to the solvent reflux temperature. Or acetic acid, hydrochloric acid,
This can be carried out by a method using iron powder, zinc powder, or soot powder in a mixture of an inorganic acid such as sulfuric acid and water. The reaction is usually carried out at 50°C to 100°C and is completed within 12 hours. Furthermore, a method of hydrogenation using a catalyst such as platinum dioxide or palladium-carbon in an organic solvent such as ethanol or ethyl acetate under normal pressure or increased pressure, usually at 0°C to 60°C, can be used. In addition, the general formula [■]
The nitrobenzene derivative represented by, for example, the general formula [V
] [In the formula, X and Y represent the same meanings as above. ] 21-lophenol derivative represented by the general formula % formula %
[:] [In the formula, R1 represents the same meaning as above, and D represents a halogen atom, mesyloxy group or tosyloxy group.

〕 で示される化合物とを反応させることにより得られる。] It can be obtained by reacting with the compound shown below.

一般式[v]で示される化合物と一般式〔■コで示され
る化合物との縮合反応は、たとえHfN、N−ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフ
ラン5.ジ万キサン、トルエン、ベンゼン、エーテル等
の有smg中、又は、トルエンあるいはベンゼンと水と
の2層反応系中で必要に応じて水酸化ナトリウム、炭酸
カリウム、N、N−ジエチルアニリン、ピリジン等の脱
酸剤を用いて、無触媒あるいはテトラ−n−ブチルアン
モニウムプロミド等の相間移動触媒の存在下に行うこと
ができ、通常0 ’Cから100℃にて12時間以内で
完結する。
The condensation reaction between the compound represented by the general formula [v] and the compound represented by the general formula [■] may be performed even if HfN, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, tetrahydrofuran 5. Sodium hydroxide, potassium carbonate, N,N-diethylaniline, pyridine, etc. as necessary in a smg of dimanxane, toluene, benzene, ether, etc., or in a two-layer reaction system of toluene or benzene and water. The reaction can be carried out without a catalyst or in the presence of a phase transfer catalyst such as tetra-n-butylammonium bromide using a deoxidizing agent, and is usually completed within 12 hours at a temperature of 0'C to 100C.

また、一般式[V]で示されるニトロフェノール誘導体
は、例えば一般式〔■〕 〔式中、Yは前記と同じ意味を表わす。]で示されるア
ミンフェノール誘導体と、一般式%式% C式中、R′)は低級アルキル基、低級アルケニル基、
低級ハロアルキル基、低級アルコキシアルキル基または
一般式−A″−R2で、示される基を表わしくここで、
A″および几2は前記と同し意味を表わす。)、A′お
よび2は前記と同し意味を表わす。〕 で示される化合物とを反応させることにより得られる。
Further, the nitrophenol derivative represented by the general formula [V] is, for example, the general formula [■] [wherein Y represents the same meaning as above]. ] and the general formula % formula % C, where R') is a lower alkyl group, a lower alkenyl group,
A lower haloalkyl group, a lower alkoxyalkyl group, or a group represented by the general formula -A''-R2 is represented here,
A' and 2 have the same meanings as above.), A' and 2 have the same meanings as above.].

この反応は前述の一般式〔■〕で示される化合物と一般
式[11[]で示される化合物との反応と同様にして行
なうことができる。なお、一般式〔■〕で示されるアミ
ンフェノール誘導体は例えば、J、 Chem、 So
c、、 1945.668 (置換基Yがメチル基’r
ffわす場合)、J、 Chem、 Sue、。
This reaction can be carried out in the same manner as the reaction between the compound represented by the general formula [■] and the compound represented by the general formula [11] described above. In addition, the amine phenol derivative represented by the general formula [■] is, for example, J, Chem, So
c,, 1945.668 (substituent Y is methyl group 'r
ff), J, Chem, Sue,.

1896、1321 (置換基Yがメトキシ基を表わす
場合)、特開昭52−122827号公報(置換基Yが
水素原子または塩素原子を表わす場合)に記載された方
法で製造することができる。
1896, 1321 (when substituent Y represents a methoxy group) and JP-A-52-122827 (when substituent Y represents a hydrogen atom or a chlorine atom).

製法(bン 一般式〔K〕 〔式中、X、Y、Aおよび凡1は前記と同じ意味を表わ
す。〕 で示される化合物と、一般式〔x〕 Ra −W −H[X] 〔式中、R8およびWは前記と同じ意味を表わす。〕 で示される化合物とを反応させる製法。
Production method (b) General formula [K] [In the formula, X, Y, A and 1 represent the same meanings as above.] A compound represented by the general formula [x] Ra -W -H[X] [ In the formula, R8 and W have the same meanings as above.] A manufacturing method of reacting a compound represented by:

この反応はたとえば無溶媒またはベンゼン、トルエン、
キシレン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、N、N−ジメチルホルムアミド、クロロホル
ム、四塩化炭素などの有機溶媒中で、無触媒またはトリ
エチルアミン、N、N−ジエチルアニリン、1,4−ジ
アザビシクロ[2,2,21)、tフランを触媒として
行うことができ、必要に応じて冷却または加熱(0〜5
0℃)することにより、10時間以内で完結し、収率よ
く目的物を得ることができる。
This reaction can be carried out without solvent or with benzene, toluene,
In an organic solvent such as xylene, diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, N,N-dimethylformamide, chloroform, carbon tetrachloride, etc., without a catalyst or with triethylamine, N,N-diethylaniline, 1,4-diazabicyclo[2,2, 21), can be carried out with t-furan as a catalyst, optionally cooling or heating (0-5
0°C), the reaction can be completed within 10 hours and the desired product can be obtained in good yield.

上記製法において、一般式[11’]で示される化合物
は前記一般式[■〕で示される化合物とホスゲンまたは
チオホスゲンとを反応させることにより得ることができ
る。この反応はたとえばベンゼン、トルエン、キシレン
、酢酸エチル等の有機溶媒またはその混合物中で行われ
、必要に応じて50°Cから還流温度に加熱することに
より、10時間以内で完結し、収率よく目的物を得るこ
とができる。
In the above production method, the compound represented by the general formula [11'] can be obtained by reacting the compound represented by the general formula [■] with phosgene or thiophosgene. This reaction is carried out in an organic solvent such as benzene, toluene, xylene, ethyl acetate, or a mixture thereof, and is completed within 10 hours with good yield by heating from 50°C to reflux temperature if necessary. You can get what you want.

一般式[D lこおいて、Xが一般式−Nu−C−凡2
で示される基を表わす(ここで、R2およびA′は前記
と同じ意味を表わす)場合、本発明化合物は製法(0)
により製造することができる。
general formula [D l, where X is the general formula -Nu-C-2
(Here, R2 and A' have the same meanings as above), the compound of the present invention can be prepared by manufacturing method (0).
It can be manufactured by

製法(0)  一般式[X[] 〔式中、Y、R1,AおよびBは前記と同一の意味を表
わす。〕 で示される化合物と、一般式[X[] ]−G−1 2リ                    〔X「
〕〔式中、凡2.A′および2は前記と同じ意味を表わ
す。] で示される化合物とを反応させる製法。
Production method (0) General formula [X[] [In the formula, Y, R1, A and B represent the same meanings as above. ] A compound represented by the general formula [X [ ] ]-G-1 2 [X "
] [In the formula, approximately 2. A' and 2 have the same meanings as above. ] A manufacturing method of reacting with a compound represented by.

この反応は、製法(a)における一般式[I[]で示さ
れる化合物と一般式[111]で示される化合物との縮
合反応と同様の方法で行うことができる。
This reaction can be carried out in the same manner as the condensation reaction between the compound represented by the general formula [I[] and the compound represented by the general formula [111] in production method (a).

化合物[X[]は、一般式[XU 〔式中、Y、R1,AおよびBは前記と同じ意味を表わ
す。〕 で示される化合物を還元することにより得られ、製法(
8) fこおける一般式[11’lで示されるニトロベ
ンゼン誘導体の還元反応と同様にして得られる。
Compound [X[] has the general formula [XU [wherein Y, R1, A and B represent the same meanings as above]. ] It is obtained by reducing the compound shown by the manufacturing method (
8) It can be obtained in the same manner as the reduction reaction of the nitrobenzene derivative represented by the general formula [11'l] in f.

また、一般式〔川っ て示される化合物は、例えば一般
式〔窟〕 [式中、Y、AおよびBは前記と同じ意味を表わす。〕 で示されるフェノール誘導体と前記一般式[W]で示さ
れる化合物とを反応させることにより得られ、製法(a
)における一般式〔V]で示されるニトロフェノールと
一般式〔■〕で示される化合物との反応と同様にして得
られる。
In addition, a compound represented by the general formula [Kawa] may be, for example, a compound represented by the general formula [Kawa] [where Y, A and B represent the same meanings as above. ] It is obtained by reacting the phenol derivative represented by the above general formula [W] with the compound represented by the general formula [W], and is obtained by the manufacturing method (a
) is obtained in the same manner as the reaction between the nitrophenol represented by the general formula [V] and the compound represented by the general formula [■].

上記製法において一般式[XIV ]で示されるフェノ
ール誘導体は、tことえば一般式口双]〔式中、Y、A
およびBは前記と同じ意味を表わす。〕 で示される化合物をニトロ化すること瘉こより得られ、
反応は通常の芳香環のニトロ化に用0る方法のいずれに
よっても収率よく行うこと力5できる。例えば、酢酸、
濃硫酸等の溶媒lこ一般式口毘]で示されるフェノール
誘導体を浴力)し、冷却下に硝酸(d=1.52〜1.
88)7を徐々(こ加えることにより、0.5〜3時間
の反応時間で目的物を高収率で得ることができる。なお
、一般式〔罰〕  で示さnる化合物は、一般式[11
uI]〔式中、Yは前記と同じ意味を表わす。〕で示さ
れるアミノフェノール誘導体と前記一般式〔1〕で示さ
れる化合物とを反応させることにより得られ、製法(I
L)における一般式[■〕で示される化合物と一般式[
I[1]で示される化合物との反応と同様にして得られ
る。
In the above production method, the phenol derivative represented by the general formula [XIV
and B have the same meanings as above. ] It can be obtained by nitration of the compound shown in
The reaction can be carried out in good yield by any of the methods commonly used for the nitration of aromatic rings. For example, acetic acid,
A phenol derivative represented by the general formula [1] in a solvent such as concentrated sulfuric acid is heated with nitric acid (d = 1.52 to 1.5%) under cooling.
88) By gradually adding 7, the desired product can be obtained in high yield in a reaction time of 0.5 to 3 hours.The compound represented by the general formula [penalty] 11
uI] [wherein, Y represents the same meaning as above. It is obtained by reacting the aminophenol derivative represented by
The compound represented by the general formula [■] in L) and the general formula [
It can be obtained in the same manner as the reaction with the compound represented by I[1].

また、一般式〔蔑〕で示される化合物は、一般式〔■〕 ! 〔式中、Yは前記と同じ意味を表わす。〕で示されるニ
トロフェノール誘導体を還元することにより得られ、製
法(a)における一般式[M]テ示されるニトロベンゼ
ン誘導体の還元反応と同様にして得られる。一般式〔正
〕で示される化合物ハ、例えばJ、 Org−C−he
m、、 27.218(1962)に記載の方法で合成
することができる。
In addition, the compound represented by the general formula [discrete] is the general formula [■]! [In the formula, Y represents the same meaning as above. It is obtained by reducing the nitrophenol derivative represented by the formula [M] in the production method (a) in the same manner as the reduction reaction of the nitrobenzene derivative represented by the general formula [M]. Compounds represented by the general formula [correct], for example J, Org-C-he
It can be synthesized by the method described in J. M., 27.218 (1962).

一般式[I]において、Xが一般式一正一〇−A’−R
2II。
In the general formula [I], X is of the general formula 10-A'-R
2II.

で示される基を表わす(ここで、几2.A′およびA′
は前記と同じ意味を表わす)場合、本発明化合物は製法
(d)により製造することができる。
(where 几2.A' and A'
has the same meaning as above), the compound of the present invention can be produced by the production method (d).

製法(d)  一般式〔寛〕 〔式中、Y、R1,A、A’およびBは前記と同じ意味
を表わす。〕 で示される化合物と、一般式[XX] 且2−A −H[XX] 〔式中、凡2およびA″は前記と同じ意味を表わす。〕 で示される化合物とを、反応させる製法。
Manufacturing method (d) General formula [Hiro] [In the formula, Y, R1, A, A' and B represent the same meanings as above. ] A manufacturing method of reacting a compound represented by the following with a compound represented by the general formula [XX] and 2-A -H[XX] [wherein 2 and A'' have the same meanings as above].

この反応は、製法(b)における一般式EXEで示され
る化合物と一般式[X]で示される化合物との反応と同
様にして行うことができる。なお、一般式[X[X]で
示される化合物は、前記一般式[M]で示される化合物
と、ホスゲン又はチオホスゲンとを反応させることによ
り得られ、製法(b)における一般式[II]で示され
る化合物から一般式[R3で示される化合物を製造する
方法と同様にして得られる。
This reaction can be carried out in the same manner as the reaction between the compound represented by the general formula EXE and the compound represented by the general formula [X] in production method (b). Note that the compound represented by the general formula [X[X] is obtained by reacting the compound represented by the general formula [M] with phosgene or thiophosgene, and is It can be obtained from the compound shown in the same manner as the method for producing the compound represented by the general formula [R3].

製法(6)  一般式〔双〕 〔式中、X、Y、AおよびBは前記と同じ意味を表わす
。〕 で示される化合物と、前記一般式〔■〕で示される化合
物とを反応させる製法。
Manufacturing method (6) General formula [double] [In the formula, X, Y, A and B represent the same meanings as above. ] A production method of reacting a compound represented by the above with a compound represented by the general formula [■].

この反応は、製法(a)における一般式[V]で示すし
るニトロフェノール誘導体と一般式〔■〕で示される化
合物との反応と同様にして行うことができる。一般式〔
■〕で示される化合物は、一般式[XX[I ] 〔式中、XおよびYは前記と同一の意味を表わす。〕 で示される化合物と前記一般式[111]で示される化
合物とを反応させることにより得られ、製法(a)にお
ける、一般式[]I]で示される化合物と一般式〔■〕
で示される化合物との反応と同様にして得られる。上記
製法において一般式[XXII ’:lで示される化合
物は、例えば前記一般式[CIで示されるニトロフェノ
ール誘導体を還元することにより得られ、製法(a)に
おける一般式[■]で示される化合物を還元する反応と
同様にして得られる。
This reaction can be carried out in the same manner as the reaction between the nitrophenol derivative represented by the general formula [V] and the compound represented by the general formula [■] in production method (a). General formula [
The compound represented by the general formula [XX[I] [wherein, X and Y represent the same meanings as above]. ] Obtained by reacting the compound represented by the above general formula [111] and the compound represented by the general formula [I] and the general formula [■] in production method (a)
It can be obtained in the same manner as the reaction with the compound shown. In the above manufacturing method, the compound represented by the general formula [XXII':l is obtained, for example, by reducing the nitrophenol derivative represented by the general formula [CI], and the compound represented by the general formula [■] in the manufacturing method (a). It can be obtained in the same way as the reaction for reducing .

次に、製造例を示す。Next, a manufacturing example will be shown.

製造例1 [製法(a)による。] メチルN−(2−エトキシ−3−クロロ−5−アミノフ
ェニル)カーバメー)L89fIN、N−ジエチルアニ
リン0.851およびトルエン15−の混合溶液中に、
水冷下クロロギ酸イソプロピルo、’toyを5分間か
げて滴下した。反応液を室温で12時間放置したのち、
氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に浴媒を留
去した。得られた残渣を、トルエンおよび酢酸エチルを
用いたシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製シ、
イソプロピルN−C8−クロロ−4−エトキシ−5−メ
トキシカルボニルアミノフェニル)カーバメート〔化合
物番号(2) 11.73fを得た。(収率92.0%
) m、p、  140〜142°C 製造例2 〔製法(b)による。〕 メチルN−(2−エトキシ−3−クロロ−5−アミノフ
ェニル)カーバメート2.671を酢酸エチル20−に
溶かし、ホスゲン10yを含む酢酸エチル溶液に10〜
20℃で滴下した。徐々(こ加熱し、30分還流した後
、室温にもどし減圧下に溶媒を留去し、メチルN−(2
−エトキシ−3−クロロ−5−イソシアナトフェニル)
カーバメートを得た。精製することなく、これをトリエ
チルアミン1、Ofおよび3−ブテン−2−オール0.
79fを含む50ゴのトルエン溶液に室温で滴下した。
Production Example 1 [According to production method (a). ] In a mixed solution of methyl N-(2-ethoxy-3-chloro-5-aminophenyl)carbame) L89fIN, N-diethylaniline 0.851 and toluene 15-,
Isopropyl chloroformate was added dropwise under water cooling for 5 minutes. After leaving the reaction solution at room temperature for 12 hours,
It was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. After washing the organic layer with water, it was dried over anhydrous magnesium sulfate, and the bath medium was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography using toluene and ethyl acetate.
Isopropyl N-C8-chloro-4-ethoxy-5-methoxycarbonylaminophenyl)carbamate [Compound No. (2) 11.73f was obtained. (Yield 92.0%
) m, p, 140-142°C Production Example 2 [According to production method (b). ] Methyl N-(2-ethoxy-3-chloro-5-aminophenyl)carbamate 2.671 was dissolved in ethyl acetate 20-2, and 10-10 was added to an ethyl acetate solution containing 10 y of phosgene.
It was added dropwise at 20°C. After heating and refluxing for 30 minutes, the solvent was distilled off under reduced pressure and methyl N-(2
-ethoxy-3-chloro-5-isocyanatophenyl)
I got a carbamate. Without purification, this was converted into triethylamine 1,Of and 3-buten-2-ol 0.
The mixture was added dropwise to 50 grams of toluene solution containing 79f at room temperature.

室温下12時間放置した後、氷水にあけ、酢酸エチルで
抽出した。有機層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒を減圧下に留去し、得られた残渣をトルエンと
酢酸エチルの混合溶媒によるシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製し、1−メチル−2−プロペニル N
−(3−クロロ−4−エトキシ−5−メトキシカルボニ
ルアミノフェニル)カーバメート〔化合物番号(8) 
]8.579を得た。(収率95.6%) ny、o  1.5883 製造例3 〔製法(e)による。] イソプロピル N−(3−クロロ−4−エトキシ−5−
アミノフェニル)カーバメート1.55f、N、N−ジ
エチルアニリン0.851およびトルエン15ゴの混合
溶液中に、水冷下アセチルクロリド0.459を5分間
かけて滴下した。反応液を室温で12時間放置したのち
、氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出しtこ。
After being left at room temperature for 12 hours, it was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water and dried over magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was purified by silica gel column chromatography using a mixed solvent of toluene and ethyl acetate to obtain 1-methyl-2-propenyl N
-(3-chloro-4-ethoxy-5-methoxycarbonylaminophenyl)carbamate [Compound No. (8)
]8.579 was obtained. (Yield 95.6%) ny, o 1.5883 Production Example 3 [According to production method (e). ] Isopropyl N-(3-chloro-4-ethoxy-5-
To a mixed solution of 1.55 f of aminophenyl carbamate, 0.85 l of N,N-diethylaniline, and 15 g of toluene, 0.459 g of acetyl chloride was added dropwise over 5 minutes while cooling with water. After the reaction solution was left at room temperature for 12 hours, it was poured into ice water and extracted with ethyl acetate.

有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
減圧下に溶媒を留去した。得られた残渣を、トルエンと
酢酸エチルの混合溶媒によるシリカケルカラムクロマト
グラフィーで精製し、イソプロピル N−(8−クロロ
−4−エトキシ−5−アセチルアミノフェニル)カーバ
メート〔化合物番号(1) :] 1.55 fを得た
。(収率86.5%) m、P、   178−174°C 製造例4 〔製法(d)による。〕 イソプロピル N−(3−クロロ−4−エトキシ−5−
アミノフェニル)カーバメート2.97fを酢酸エチル
20−に溶かし、ホスゲン10yを含む酢酸エチル溶液
に10〜20°Cで滴下した。徐々に加熱し、30分還
流した後、室温にもどし減圧下に溶媒を留去し、イソプ
ロピル N−(3−クロロ−4−エトキシ−5−イソシ
ア11フエニル)カーバメートを得た。精製することな
く、これをトリエチルアミン1.0gおよびアリルアル
コール0.64fを含む50−のトルエン浴液に室温で
滴下した。室温下12時間放置した後、氷水にあけ、酢
酸エチルで抽出した。有機層を水洗し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、得られた残渣を
トルエンと酢酸エチルの混合溶媒によるシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーで精製し、イソプロピル N−(
3−クロロ−4−エトキシ−5−アリルオキシカルボニ
ルアミノフェニル)カーバメート8.65&を得た。(
収率98,8%)n”91.5320 実施例5 〔製法(e)による。] 水素化ナトリウム0.1071 (60%油性)をN、
N−ジメチルホルムアミド20m6中に懸濁し、水冷下
、これにイソプロピル N−(3−ニトロ−4−ヒドロ
キシ−5−メトキシカルボニルフェニル)カーバメート
0.80gを添加しTコ。反応液を室温で1時間攪拌し
た後、これにヨウ化エチル0.50Fを室温で加えた。
After washing the organic layer with water, drying with anhydrous magnesium sulfate,
The solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography using a mixed solvent of toluene and ethyl acetate to obtain isopropyl N-(8-chloro-4-ethoxy-5-acetylaminophenyl)carbamate [Compound No. (1):] 1.55 f was obtained. (Yield 86.5%) m, P, 178-174°C Production Example 4 [According to production method (d)] ] Isopropyl N-(3-chloro-4-ethoxy-5-
2.97f of aminophenyl) carbamate was dissolved in 20-ethyl acetate and added dropwise to an ethyl acetate solution containing 10y of phosgene at 10-20°C. After gradually heating and refluxing for 30 minutes, the mixture was returned to room temperature and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain isopropyl N-(3-chloro-4-ethoxy-5-isocya-11 phenyl)carbamate. Without purification, this was added dropwise to a 50-ml toluene bath solution containing 1.0 g of triethylamine and 0.64 f of allyl alcohol at room temperature. After being left at room temperature for 12 hours, it was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water and dried over magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was purified by silica gel column chromatography using a mixed solvent of toluene and ethyl acetate.
8.65% of 3-chloro-4-ethoxy-5-allyloxycarbonylaminophenyl)carbamate was obtained. (
Yield 98.8%) n"91.5320 Example 5 [According to manufacturing method (e)] Sodium hydride 0.1071 (60% oily) was mixed with N,
It was suspended in 20 m6 of N-dimethylformamide, and 0.80 g of isopropyl N-(3-nitro-4-hydroxy-5-methoxycarbonylphenyl) carbamate was added to the suspension under water cooling. After stirring the reaction solution at room temperature for 1 hour, 0.50 F of ethyl iodide was added thereto at room temperature.

90°Cで30分間攪拌した後、反応液を氷水にあけ、
酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。
After stirring at 90°C for 30 minutes, the reaction solution was poured into ice water.
Extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water and dried over magnesium sulfate.

溶媒を減圧ド留去し、得られた残渣を・トルエンと酢酸
エチルの混合溶媒によるシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、イソプロピル N−(3−ニトロ−4
−エトキシ−5−メトキシカルボニルフェニル)カーバ
メート〔化合物番号(5) ] 0.77 fを得た。
The solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was purified by silica gel column chromatography using a mixed solvent of toluene and ethyl acetate.
-Ethoxy-5-methoxycarbonylphenyl)carbamate [Compound No. (5)] 0.77 f was obtained.

(収率88.6%) m、p、  117〜120℃ このようにして得られた木発朋化合物を第1表に例示す
る。
(Yield: 88.6%) m, p, 117-120°C Table 1 shows examples of the Kibaho compounds thus obtained.

このようにして得られた本発明化合物を実際に施用する
際には他成分を加えずそのまま使用でき、また、殺菌剤
として使いやすくするため担体と混合して施用すること
ができ、通常使用される形態たとえば粉剤、水和剤、油
剤、乳剤、錠剤、粒剤、微粒剤、エアゾール、フロアブ
ルなどに製剤して施用する。
When actually applying the compound of the present invention obtained in this way, it can be used as it is without adding other ingredients, or it can be mixed with a carrier to make it easier to use as a fungicide. For example, it is formulated into powders, wettable powders, oils, emulsions, tablets, granules, fine granules, aerosols, flowables, and the like.

次に製剤例を示す。Examples of formulations are shown below.

製剤例1  粉 剤 本発明化合物(1)2部、クレー88部およびタルク1
θ部をよく粉砕混合して主剤含有量2%の粉剤を得る。
Formulation Example 1 Powder 2 parts of the compound of the present invention (1), 88 parts of clay, and 1 part of talc
Part θ is thoroughly ground and mixed to obtain a powder having a base ingredient content of 2%.

製剤例2  水和剤 本発明化合物(2)30部、珪藻土45部、ホワイトカ
ーボン20部、湿潤剤(ラウリル硫酸ソーダ)8部およ
び分散剤(リグニンスルホン酸カルシウム)2部をよく
粉砕混合して主剤含有量30%の水和剤を得る。
Formulation Example 2 Wettable powder 30 parts of the compound of the present invention (2), 45 parts of diatomaceous earth, 20 parts of white carbon, 8 parts of a wetting agent (sodium lauryl sulfate) and 2 parts of a dispersing agent (calcium lignin sulfonate) were thoroughly ground and mixed. A hydrating agent with a base ingredient content of 30% is obtained.

製剤例3  水和剤 本発明化合物(8) 50部、珪藻土45部、湿+11
5剤(アルキルベンゼンスルホン酸カルシウム) 2.
5 部’!’よび分散剤(リグニンスルホン酸カルシウ
ム)2.5部をまく粉砕混合して主剤含有量50%の水
和剤を得る。
Formulation Example 3 Wettable powder Compound of the present invention (8) 50 parts, diatomaceous earth 45 parts, wet +11
5 agents (calcium alkylbenzenesulfonate) 2.
Part 5'! ' and 2.5 parts of a dispersant (calcium lignin sulfonate) were sprinkled and pulverized and mixed to obtain a wettable powder having a base ingredient content of 50%.

製剤例4  乳 剤 本発明化合物(4)log、シクロへキサノン80部お
よび乳化剤(ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテ
ル)10部を混合して主剤含有量10%の乳剤を得る。
Formulation Example 4 Emulsion A log compound of the present invention (4), 80 parts of cyclohexanone, and 10 parts of an emulsifier (polyoxyethylene alkyl allyl ether) are mixed to obtain an emulsion with a base agent content of 10%.

上記製剤中には一般に活性化合物を重量にして1.0〜
95.0%、好ましくは2.0〜80.0%を含み、そ
の施用量は通常10アールあたり10〜1ooyである
。さらにその使用濃度は0.005〜0.5%の範囲が
望ましいが、これらの使用量、濃度は剤型、施用時期、
方法、場所、対象病害、対象作物等(こよっても異なる
ため前記範囲に拘わることなく増減することは何ら差し
支えない。
The above formulations generally contain from 1.0 to 1.0% by weight of active compound.
95.0%, preferably 2.0 to 80.0%, and the application rate is usually 10 to 1 ooy per 10 are. Furthermore, the concentration used is preferably in the range of 0.005 to 0.5%, but the amount and concentration used depend on the dosage form, application period,
Methods, locations, target diseases, target crops, etc. (as these also vary, there is no problem in increasing or decreasing the amount without being limited to the above range.

さらに他の殺菌剤、除草剤、植物生長調節剤および殺虫
剤と混合して使用することができる。
Furthermore, it can be used in combination with other fungicides, herbicides, plant growth regulators and insecticides.

次に試験例をあげ、本発明化合物の農園芸用殺菌剤とし
ての有用性をさらに明らかにする。
Next, test examples will be given to further clarify the usefulness of the compound of the present invention as an agricultural and horticultural fungicide.

なお、対照化合物は第2表の一般名で表示する。Note that the control compounds are indicated by the common names shown in Table 2.

第  2  表 注(1)市販除草剤   注(2)市販殺菌剤試験例1
 キュウリうどんこ病防除効果9〇−容のプラスチック
製ポットに砂壌土をつめ、キュウリ(品種:相撲半日)
を播種した。これを室温で8日間栽培し、子葉が展開し
たキュウリ幼苗を得た。この幼苗に製剤例4に準じて調
製した下記本発明化合物の乳剤および対照化合物の水和
剤の水希釈液を液滴が葉面に十分量付着するまで茎葉散
布した。
Table 2 Note (1) Commercial herbicide Note (2) Commercial fungicide test example 1
Cucumber powdery mildew control effect Fill a 90-capacity plastic pot with sandy loam and grow cucumbers (variety: Sumo Half-day)
was sown. This was cultivated at room temperature for 8 days to obtain cucumber seedlings with expanded cotyledons. A water-diluted solution of an emulsion of the compound of the present invention below and a hydrating powder of a control compound prepared according to Formulation Example 4 was sprayed on the seedlings until a sufficient amount of droplets adhered to the leaf surface.

薬液風乾後、幼苗に薬剤耐性または感受性のキュ’7 
’すうどんこ病菌(5phaerotheca ful
igineaりの分生胞子懸濁液を噴霧接種した。これ
を温室で10日間栽培し発病させた後、発病状態を観察
した。
After air-drying the chemical solution, seedlings are exposed to chemical-resistant or sensitive cues.
'5phaerotheca ful
A conidial suspension of M. iginea was inoculated by spraying. After cultivating this in a greenhouse for 10 days to develop disease, the disease state was observed.

発病度は下記の方法によって算出した。The disease severity was calculated by the following method.

すなわち、調査葉の病斑出現に応じて、0゜0.5.1
.2.4の指数に分類し、次式によって発病度を算出し
た。
That is, depending on the appearance of lesions on the investigated leaves, 0°0.5.1
.. The disease was classified into an index of 2.4, and the disease severity was calculated using the following formula.

(発病指数)     (発病状態 )0 ・・・・・
・・・ 葉面上に菌叢または病斑を認めない。
(Sickness index) (Sickness status) 0...
... No bacterial flora or lesions observed on the leaf surface.

0.5・・・・・・・・ 葉面上に葉面積の5%未満に
菌叢または病斑を認める。
0.5...Bacterial flora or lesions are observed on the leaf surface in less than 5% of the leaf area.

■ ・・・・・・・ 葉面上に葉面積の20%未満に菌
叢または病斑を認める。
■・・・・・・ Bacterial flora or lesions are observed on the leaf surface in less than 20% of the leaf area.

2 ・・・・・・・・・ 葉面上に葉面積の50%未満
にm叢または病斑を認める。
2. M plexus or lesions are observed on the leaf surface in less than 50% of the leaf area.

4 ・・・・・・・・ 葉面上に葉面積の50%以上に
菌叢または病斑を認める。
4 ・・・・・・・・・ Bacterial flora or lesions are observed on the leaf surface over 50% or more of the leaf area.

つづいて防除価を次式より求めた。Next, the control value was calculated using the following formula.

その結果、第3表のように本発明化合物は薬剤耐性菌を
接種した場合優れた防除効果を示し、薬剤感受性菌を接
種した場合防除効果を示さなかった。−万、市販殺菌剤
のベノミル、チオファネートメチル、カルペンダジムの
いずれも、薬剤耐性菌を接種した場合防除効果を示さず
、薬剤感受性菌を接種した場合優れた防除効果を示した
As a result, as shown in Table 3, the compound of the present invention showed an excellent control effect when inoculated with drug-resistant bacteria, but did not show a control effect when inoculated with drug-susceptible bacteria. - None of the commercially available fungicides benomyl, thiophanate methyl, and carpendazim showed a control effect when inoculated with drug-resistant bacteria, but showed an excellent control effect when inoculated with drug-susceptible bacteria.

化学構造類似の市販除草剤はいずれの菌を接種した場合
もほとんど防除効果を示さなかった。
Commercially available herbicides with similar chemical structures showed almost no control effect when inoculated with any of the bacteria.

第  3  表 試験例2 テンサイ褐斑病防除効果 90−容のプラスチック製ポットに砂壌土をつめ、テン
サイ(品種:テトロイトダークレッド)を播種した。温
室で20日間栽培し1このち得られた幼苗に、製剤例4
に準じて調製した下記本発明イじ合物の乳剤および対照
化合物の水和剤の水希釈液を液滴が葉面に十分付着する
まで茎葉散布した。薬液風乾後幼苗に薬剤耐性または感
受性のテンサイ褐斑病菌(C1ercospora b
eticola )(y)分生胞子懸濁液tig接種し
た。これにビニールカバーヲカぶせて多湿条件とし、温
室で10日間栽培したのち、発病状態を観察した。
Table 3 Test Example 2 Sugar beet brown spot control effect A 90-volume plastic pot was filled with sandy loam, and sugar beet (variety: Tetroit Dark Red) was sown. Formulation Example 4 was applied to seedlings obtained after 20 days of cultivation in a greenhouse.
A water-diluted solution of an emulsion of the compound of the present invention and a hydrating powder of a control compound prepared in accordance with the following was sprayed on foliage until the droplets sufficiently adhered to the leaf surface. After air-drying the chemical solution, seedlings were infected with drug-resistant or susceptible sugar beet brown spot (C1ercospora b).
eticola) (y) Conidial suspension tig inoculated. This was covered with a vinyl cover to create humid conditions, and after cultivating in a greenhouse for 10 days, the disease state was observed.

発病調査方法および防除価の算出は試験例1と同様に行
った。
The disease onset investigation method and control value calculation were performed in the same manner as in Test Example 1.

その結果第4表のように試験例1の結果と同様に、本発
明化合物は薬剤耐性菌を接種した場合に優れた防除効果
を示し、逆に市販殺菌剤のベノミルおよびチオファネー
トメチル、カルペンダジムは薬剤感受性菌を接種した場
合に優れた防除効果を示しへ。化学構造類似の市販除草
剤はいずれの菌を接種した場合もほとんど防除効果を示
さなかつ1こ。
As shown in Table 4, similar to the results of Test Example 1, the compounds of the present invention exhibited excellent control effects when inoculated with drug-resistant bacteria, whereas the commercially available fungicides benomyl, thiophanate methyl, and carpendazim showed drug-resistant bacteria. It shows excellent control effects when inoculated with bacteria. Commercially available herbicides with similar chemical structures show almost no control effect when inoculated with any of the bacteria.

第  4  表 試験例3 ナシ黒星病防除効果 9〇−容プラスチック製ポットにピートモスと砂壌土の
混合土壌をつめ、ナシの果実(品種:長子部)より採種
した種子を播いた。
Table 4 Test Example 3 Pear scab control effect A 90-capacity plastic pot was filled with a mixed soil of peat moss and sandy loam, and seeds collected from pear fruits (variety: Nagakobu) were sown.

これを温室で20日間栽培し得られた幼苗に製剤例4に
準じて調製した下記本発明化合物の乳剤および下記対照
化合物の水和剤の水希釈液を液滴が葉面に十分付着する
まで茎葉散布した。
This was cultivated in a greenhouse for 20 days, and a water diluted solution of an emulsion of the compound of the present invention prepared according to Formulation Example 4 below and a hydrating powder of the control compound below was applied to the resulting seedlings until the droplets sufficiently adhered to the leaf surface. Sprayed on foliage.

薬液風乾後幼苗に薬剤耐性または感受性のナシ黒星病菌
(Venturia nashicola)の分生胞子
懸濁液を噴霧接種しγこ。これを20″C多湿条件下に
3日間置き、つづいて20°C螢光灯照明下に20日間
栽培して発病させた。
After air-drying the chemical solution, the seedlings were inoculated by spraying with a conidial suspension of Venturia nashicola, which is resistant or susceptible to the drug. The plants were placed under humid conditions at 20°C for 3 days, and then cultivated under fluorescent lamp illumination at 20°C for 20 days to develop the disease.

発病調量方法および防除価の算出は試験例1と同様にし
た。
The method of measuring the onset of disease and the calculation of control value were the same as in Test Example 1.

その結果、第5表のように本発明化合物は薬剤耐性菌を
接種した場合優れ1こ防除効果を示し、逆に市販殺菌剤
のヘノミルおよびチオファネートメチルは薬剤感受性菌
を接種した場合優れた防除効果を示した。
As a result, as shown in Table 5, the compounds of the present invention showed excellent control effects when inoculated with drug-resistant bacteria, and conversely, the commercially available fungicides henomyl and thiophanate methyl showed excellent control effects when inoculated with drug-susceptible bacteria. Indicated.

第  5  表 試験例4 ビーナツツ褐斑病防除効果 100づ容のプラスチック製ポットに砂壌土をつめ、ビ
ーナツツ(品種二千葉半立件)を播種し1こ。温室で1
4日間栽培したのち得られた幼苗に、製剤例4に準じて
調製した下記本発明化合物の乳剤および下記対照化合物
の水和剤の水希釈液をポットあたり1〇−茎葉散布した
。薬液風乾後、幼侍に薬剤的性または感受性のビーナツ
ツ褐斑病菌(Cercosporaarachi山co
la )の胞子懸濁液全1lJii霧接種シた。
Table 5 Test Example 4 Effect on controlling bean nut brown spot disease Fill a 100-cup plastic pot with sandy loam, and sow 1 bean nut (variety: Nichiba Hantachi). In the greenhouse 1
After 4 days of cultivation, the seedlings obtained were sprayed with a water diluted solution of an emulsion of the compound of the present invention below prepared according to Formulation Example 4 and a hydrating powder of the control compound below at 10 times per pot. After air-drying the chemical solution, the young samurai was infected with a drug-resistant or susceptible peanut brown spot bacterium (Cercospora arachi).
A total of 1 liter of the spore suspension of A. la) was inoculated with mist.

これにヒニール力バーをかぶせて多湿条件とし、温室で
10日間栽培した後、発病状態を観察しtコ。発病調査
方法および防除価の算出は試験例1と同様に行った。
After cultivating it in a greenhouse for 10 days under humid conditions by covering it with a hinyl power bar, the state of disease development was observed. The disease onset investigation method and control value calculation were performed in the same manner as in Test Example 1.

その結果、第6表のように本発明化合物は薬剤耐性菌を
接種した場合優れ1こ防除効果を示し、逆に市販殺菌剤
のベノミルおよびチオファネートメチルは薬剤感受性菌
を接種した場合優れた防除効果を示した。
As a result, as shown in Table 6, the compounds of the present invention showed excellent control effects when inoculated with drug-resistant bacteria, and conversely, the commercially available fungicides benomyl and thiophanate methyl showed excellent control effects when inoculated with drug-susceptible bacteria. Indicated.

第6表 試゛験N5 キュウリ灰色カビ病防除効果90m1容の
プラスチック製ポットに砂壌土をつめ、キュウリ(品種
:相極半日)を播種した。これを温室で8日間栽培し、
子葉が展下記対照化合物の水和剤の水希釈液をポットあ
た’)IClml、茎葉散布しtコ。薬液風乾後、幼苗
に薬剤耐性または感受性のキュウリ灰色カビ病菌(、B
otrytis  cinerea )の菌叢切板(直
径5WIn)を葉面上にはり付けて接種した。
Table 6 Test N5 Control effect on botrytis gray mold on cucumber A 90 ml plastic pot was filled with sandy loam, and cucumbers (variety: Aigoku Half Day) were sown. Cultivate this in a greenhouse for 8 days,
The cotyledons were spread and a water diluted solution of a hydrating powder of the following control compound was applied to the pot. After air-drying the chemical solution, seedlings were infected with chemical-resistant or sensitive cucumber gray mold fungi (, B
otrytis cinerea) was pasted onto the leaf surface and inoculated.

これを20°C多湿条件下に3日装置いて発病させた後
、発病状態を観察した。発病調査方法および防除価の算
出は試験例1と同様に行った。
The plants were placed in a humid environment at 20° C. for 3 days to develop disease, and then the state of disease development was observed. The disease onset investigation method and control value calculation were performed in the same manner as in Test Example 1.

その結果、第7表のように本発明化合物は薬剤耐性菌を
接種した場合優れた防除効果を示し、逆に市販殺菌剤の
ベノミルおよびチオファネートメチルは薬剤感受性菌を
接種した場合優れTこ防除効果を示した。
As a result, as shown in Table 7, the compounds of the present invention showed excellent control effects when inoculated with drug-resistant bacteria, and conversely, the commercially available fungicides benomyl and thiophanate methyl showed excellent control effects when inoculated with drug-susceptible bacteria. Indicated.

第  7  表 試験例6 キュウリつる枯病防除効果 9〇−容のプラスチック製ポットに砂壌土をつめ、キュ
ウリ(品種:相極半日)を播種した。これを温室で8日
間栽培し、子葉が展開したキュウリを得た。この幼苗に
製剤例4に準じて調製した下記本発明化合物の乳剤およ
び下記対照化合物の水和剤の水希釈液をポットあたり1
0−1茎葉散布した。薬液風乾後、幼苗に薬剤耐性また
は感受性のキュウリツル枯病菌(Myc’osphae
rella  melonis )の菌叢切板(直径5
 m )を葉面上にはり付けて接種した。これを20℃
多湿条件下に3日装置いて発病させた後、発病状態を観
察した。
Table 7 Test Example 6 Effect on controlling cucumber vine blight A 90-volume plastic pot was filled with sandy loam, and cucumbers (variety: Aigoku Half Day) were sown. This was cultivated in a greenhouse for 8 days to obtain cucumbers with expanded cotyledons. To these seedlings, a water diluted solution of an emulsion of the compound of the present invention below prepared according to Formulation Example 4 and a hydrating powder of the control compound below was added to each pot.
0-1 sprayed on foliage. After air-drying the chemical solution, seedlings are infected with chemical-resistant or sensitive cucumber vine blight fungus (Myc'osphae).
Rella melonis) bacterial flora cutting plate (diameter 5
m) was pasted on the leaf surface and inoculated. This at 20℃
After leaving the device under humid conditions for 3 days to induce disease, the state of disease onset was observed.

発病調査方法および防除価の算出は試験例1と同様に行
った。
The disease onset investigation method and control value calculation were performed in the same manner as in Test Example 1.

その結果、第8表のように本発明化合物は薬剤耐性菌を
接種した場合優れた防除効果を示し、逆に市販殺菌剤の
ベノミルおよびチオファネートメチルは薬剤感受性菌を
接種した場合優れた防除効果を示した。
As a result, as shown in Table 8, the compound of the present invention showed an excellent control effect when inoculated with drug-resistant bacteria, and conversely, the commercially available fungicides benomyl and thiophanate methyl showed excellent control effects when inoculated with drug-susceptible bacteria. Ta.

第  8  表 試験例7 ミカン青かび病防除効果 εカン果実(品種:温州)をよく水洗し、風乾した後、
製剤例4に準じて調製した下記本発明化合物の乳剤およ
び下記対照市販薬剤を水で希釈し所定濃度とした薬液に
1分間浸漬した。
Table 8 Test Example 7 Citrus Blue Mold Control Effect Epsilon Kan fruit (variety: Unshu) was thoroughly washed with water and air-dried.
The following emulsion of the present compound prepared according to Formulation Example 4 and the following control commercially available drug were diluted with water and immersed in a drug solution of a predetermined concentration for 1 minute.

風乾後、薬剤耐性または感受性のミカン青カビ病菌(P
enicilljum  italicum )分生胞
子を水に懸濁し、果実表面に噴霧接種した。
After air-drying, the drug-resistant or susceptible tangerine blue fungus (P
enicilljum italicum) conidia were suspended in water and sprayed onto the fruit surface.

接覆後14日間湿室においたのち、発病程度を下記のよ
うに0.1.2.3.4.5の発病指数を用いて調査し
た。
After being placed in a moist room for 14 days after being covered, the degree of disease onset was investigated using the disease index of 0.1.2.3.4.5 as shown below.

(発病状態)           (発病指数)病斑
が認められない              0果実表
面積の20%未満に病斑が認められる   l〃  2
0〜40%未満に病斑が認められる 2〃  40〜6
0%    〃       3〃  60〜80% 
   〃       4〃   80%以上に病斑が
認められる   5発病度および防除価の算出は試験例
1と同様に行った。
(Disease condition) (Infection index) No lesions observed 0 Lesions observed on less than 20% of the fruit surface area l〃 2
Lesions are observed in less than 0-40% 2 40-6
0% 〃 3〃 60-80%
4. Lesions are observed in 80% or more. 5. The disease severity and control value were calculated in the same manner as in Test Example 1.

その結果、第9表のように本発明化合物は薬剤耐性菌を
接種した場合優れた防除効果を示し、逆に市販殺菌剤の
ベアミルおよびチオファネートメチルは薬剤感受性菌を
接種した場合優れた防除効果を示しtコ。
As a result, as shown in Table 9, the compound of the present invention showed an excellent control effect when inoculated with drug-resistant bacteria, and conversely, the commercially available fungicides baremil and thiophanate methyl showed excellent control effects when inoculated with drug-susceptible bacteria. tco.

第  9  表 試験例8 作物に対する薬害試験 150m1容のプラスチック製ポットに砂壌土をつめ、
コムギ(品種:農林61号)、リンゴ(品種:紅玉)、
ビーナツツ(品種:千葉生立性)のそれぞれを播種し、
温室で栽培した。得られた幼苗に製剤例4に準じて調製
した下記本発明化合物の乳剤および下記対照化合物の水
和剤の水希釈液を茎葉散布し1こ。
Table 9 Test Example 8 Phytotoxicity test on crops A 150 ml plastic pot was filled with sandy loam.
Wheat (variety: Norin No. 61), apple (variety: Kogyoku),
Sow each type of Beanatsu (variety: Chiba erect),
Grown in a greenhouse. A water diluted solution of an emulsion of the compound of the present invention below and a hydrating powder of the control compound below, prepared according to Formulation Example 4, was sprayed on the stems and leaves of the obtained seedlings.

散布後再び温室に置き、10日間栽培後、薬害発生の有
無を以下の基準により調査した。
After spraying, the plants were placed in the greenhouse again, and after cultivation for 10 days, the presence or absence of phytotoxicity was investigated according to the following criteria.

薬害程度の基準 (程度)      (症  状) −異常なし。Standards for degree of drug damage (Severity) (Symptoms) -No abnormality.

十   作物の一部に薬害による異常が認められる。10. Abnormalities due to chemical damage are observed in some of the crops.

朴   作物の全体に薬害による異常が認められる。Park: Abnormalities due to chemical damage are observed throughout the crop.

■   薬害によって枯死となる。■ The plant will wither and die due to chemical damage.

その結果、第10表から明らかなように、本発明化合物
には作物に一対する害作用は認められず、対照に用いた
化学構造類似の市販除草剤に薬害作用が認められた。
As a result, as is clear from Table 10, the compound of the present invention had no harmful effect on crops, while the commercially available herbicide with a chemical structure similar to that used as a control had a phytotoxic effect.

第10表 161104          7144−4 H@
発 明 者 加藤寿部 宝塚市高司4丁目2番1号住友 化学工業株式会社内 0発 明 者 野口裕士 宝塚市高司4丁目2番1号住友 化学工業株式会社内 0発 明 者 小栗幸男 宝塚市高司4丁目2番1号住友 化学工業株式会社内 0発 明 者 山本茂男 宝塚市高司4丁目2番1号住友 化学工業株式会社内 0発 明 者 鴨下克三 宝塚市高司4丁目2番1号住友 化学工業株式会社内 手 続 補 正 書 (自発) 昭和59年2月17日 特許庁長官若杉和夫 殿 1、事件の表示 昭和58年 特許願第218512号 2、 発明の名称 アニリン誘導体、その製造法およびそれを発効成分とす
る農園芸用殺菌剤 3、補正をする者 事件との関係   特許出願人 住 所  大阪市東区北浜5丁目15番地名 称  (
209)住友化学工業株式会社代表者  土 方   
 武 4、代理人 住 所  大阪市東区北浜5丁目15番地〉・ シ フ4乙)5. 5、  m正の対象 明細書の発明の詳細な説明のイ蘭 6、 補正の内容 (1)  明細書第46頁の第1表甲、化合物番号(1
7)のR1の欄にl’−CH2jとあるをrCH3jと
訂正する。
Table 10 161104 7144-4 H@
Inventor: Sube Kato, 4-2-1 Takashi, Takarazuka City, Sumitomo Chemical Co., Ltd. Inventor: Yuji Noguchi, 4-2-1 Takashi, Takarazuka City, Sumitomo Chemical Co., Ltd.: Yukio Oguri, Takarazuka City 4-2-1 Takashi Sumitomo Chemical Co., Ltd. Author Shigeo Yamamoto 4-2-1 Takashi, Takarazuka City Sumitomo Chemical Co., Ltd. 0 author Author Katsuzo Kamoshita 4-2-1 Takashi, Takarazuka City Amendment to internal proceedings of Sumitomo Chemical Co., Ltd. (spontaneous) February 17, 1980 Kazuo Wakasugi, Commissioner of the Patent Office 1. Indication of the case 1988 Patent Application No. 218512 2. Title of invention: Aniline derivatives, production thereof Law and agricultural and horticultural fungicide 3 containing the same as an effective ingredient, and its relationship to the amended case Patent applicant address 5-15 Kitahama, Higashi-ku, Osaka Name (
209) Sumitomo Chemical Co., Ltd. Representative Hijikata
Takeshi 4, agent address: 5-15 Kitahama, Higashi-ku, Osaka, Schiff 4) 5. 5. Detailed explanation of the invention in the subject specification of m-positive, Iran 6. Contents of amendment (1) Table 1 A on page 46 of the specification, compound number (1)
In the R1 column of 7), correct l'-CH2j to rCH3j.

(2)同第50頁の第1表中化合物番号(42)の物敏 理定挫の欄にJ 1.7 B (q、 2H,) J、
「6.50Jとあるを、ぞれぞれ[2,t a (t 
、 2D)J、[7,,50J と訂正する。
(2) J 1.7 B (q, 2H,) J in the physical agility fixed failure column of compound number (42) in Table 1 on page 50
``6.50J, respectively [2, t a (t
, 2D) J, [7,,50J is corrected.

以   上that's all

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)一般式[I] 〔式中、Xはニトロ基、アミノ基、チオイソシアナト基
または一般式一■−〇−R2あ1 A″ るいは−NH−0−A’−R2で示される基を辰わ1 八′ す(ここで、A″およびA″は同一または相異なり、酸
素原子または硫黄原子を表わし、R2は低級アルキル基
、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級ハロアル
キル基マたは低級アルコキシアルキル基を表わす。)。 Yは低級アルキル基、低級アルコキシル基、低級アルコ
キシカルボニル基、水素原子、ハロゲンi子またはアシ
ル基を表わす。R1は低級アルキル基、低級アルケニル
基、低級アルキニル基、低級ハロアルキル基、低級アル
コキシアルキル基、低級シクロアルキルアルキル基また
は低級シアノアルキル基を表わす。Aは酸素原子または
硫黄原子を表わす。Bは低級アルキル基、低級アルケニ
ル基、低級シクロアルキル基、フェニル基または一般式
−W−18で示される置換基を表わす (ここで、Wは
酸素原子または硫黄原子を表わし、Raは低級アルキル
基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級ハロア
ルケニル基、低級ハロアルキニル基または低級シクロア
ルキル基を表わすか、またはハロケン原子で置換されて
いてもよいフェニル基を表わすか、またはハロゲン原子
、シアノ基、フェニル基、低級シクロアルキル基、低級
アルコキシル基、低級アルケニルオキシ基、低級ハロア
ルコキシ基、フェノキシ基ま1こはアラルキルオキシ基
のうち少なくとも1つの原子まTこは基で置換されたア
ルキル基を表わす。)o 〕 で示されるアニリン誘導体。
(1) General formula [I] [wherein, X is a nitro group, an amino group, a thioisocyanato group, or a group represented by the general formula (Here, A'' and A'' are the same or different and represent an oxygen atom or a sulfur atom, and R2 is a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a lower haloalkyl group or (represents a lower alkoxyalkyl group). Y represents a lower alkyl group, a lower alkoxyl group, a lower alkoxycarbonyl group, a hydrogen atom, a halogen i atom, or an acyl group. R1 represents a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, Represents a lower haloalkyl group, lower alkoxyalkyl group, lower cycloalkylalkyl group, or lower cyanoalkyl group. A represents an oxygen atom or a sulfur atom. B represents a lower alkyl group, lower alkenyl group, lower cycloalkyl group, phenyl group, or Represents a substituent represented by the general formula -W-18 (where W represents an oxygen atom or a sulfur atom, and Ra represents a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a lower haloalkenyl group, a lower haloalkynyl group) or represents a lower cycloalkyl group, or represents a phenyl group optionally substituted with a haloken atom, or represents a halogen atom, a cyano group, a phenyl group, a lower cycloalkyl group, a lower alkoxyl group, a lower alkenyloxy group, a lower A haloalkoxy group, a phenoxy group or an aralkyloxy group represents an alkyl group substituted with at least one atom or a group.
(2)上記一般式[1]において、置換基Yが低級アル
キル基、低級アルコキシル基、低級アルコキシカルボニ
ル基、ハロゲン原子またはアシル基を表わす特許請求の
範囲第1項に記載のアニリン誘導体。
(2) The aniline derivative according to claim 1, wherein in the general formula [1], the substituent Y represents a lower alkyl group, a lower alkoxyl group, a lower alkoxycarbonyl group, a halogen atom, or an acyl group.
(3)上船一般式[I]において、置換基Xが一般れる
基を表わしくここで、A′およびA″は同一または相異
なり、酸素原子または硫黄原子を表わし、凶は低級アル
キル基を表わす。)、Yが低級アルキル基、低級アルコ
キシル基、ハロゲン原子またはアシル基を表わし、損が
低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アJl/ キ
ニル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキシアルキル
基または低級シアノアルキルれるときR8が低級アルキ
ル基を表わす特許請求の範囲第1項に記載のアニリン誘
導体。
(3) In Kamifune general formula [I], the substituent X represents a general group, where A' and A'' are the same or different and represent an oxygen atom or a sulfur atom, and the latter represents a lower alkyl group. ), Y represents a lower alkyl group, a lower alkoxyl group, a halogen atom, or an acyl group, and Y represents a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower aquinyl group, a lower haloalkyl group, a lower alkoxyalkyl group, or a lower cyano group. The aniline derivative according to claim 1, wherein R8 when alkyl represents a lower alkyl group.
(4)一般式 〔式中、Xはニトロ基、アミン基、チオイソシアナト基
または一般式−Nu−C−R2あ11゜ A′ す(ここで、A′およびA“は同一または相異なり、酸
素原子または硫黄原子を表わし、几2は低級アルキル基
、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級ハロアル
キル基または低級アルコキシアルキル基を表わす。)。 Yは低級アルキル基、低級アルコキシル基、低級アルコ
キシカルボニル基、水素原子、ハロゲン原子またはアシ
ル基を表わす。Rrは低級アルキル基、低級アルケニル
基、低級アルキニル基、低級ハロアルキル基、低級アル
コキシアルキル基、低級シクロアルキルアルキル基−t
yこは低級シアノアルキル基を表わす。〕 で示される化合物と、一般式 〔式中、2はハロゲン原子を表わす。Aは酸素原子また
は硫黄原子を表わす。Bは低級アルキル基、低級アルケ
ニル基、低級シクロアルキル基、フェニル基または一般
式−W−R8で示されろ置換基を表わす(ここで、Wは
酸素原子または硫黄原子を表わしR3は低級アルキル基
、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級ハロアル
ケニル基低級ハロアルキニル基または低級シクロアルキ
ル基を表わすか、または/’tロゲン原子で置換されて
いてもよいフェニル基を表わすか、またはハロゲン原子
、シアノ基、フェニルi、低級シクロアルキルi、g級
アルコキシル基、低級アルキニルオ卑シ基、低級ハロア
ルコキシ基、フェノキシ基またはアラルキルオキシ基の
うち少なくとも1つの原子ま1こは基で置換され1こア
ルキル基7J−表わす。〕o〕 で示される化合物とを反応させることを特徴とする一般
式 [式中、X、Y、R1,A  およびBは前記と同じ意
味を表わす。] 、  で示されるアニリン誘導体の製造法。
(4) General formula [wherein, (Y represents a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a lower haloalkyl group, or a lower alkoxyalkyl group.) Y represents a lower alkyl group, a lower alkoxyl group, a lower alkoxycarbonyl group, Represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an acyl group.Rr is a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a lower haloalkyl group, a lower alkoxyalkyl group, a lower cycloalkylalkyl group -t
y represents a lower cyanoalkyl group. ] A compound represented by the general formula [wherein 2 represents a halogen atom]. A represents an oxygen atom or a sulfur atom. B represents a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower cycloalkyl group, a phenyl group, or a substituent represented by the general formula -W-R8 (where W represents an oxygen atom or a sulfur atom, and R3 represents a lower alkyl group) , a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a lower haloalkenyl group, a lower haloalkynyl group or a lower cycloalkyl group, or a phenyl group optionally substituted with a halogen atom, a cyano a 1-alkyl group substituted with at least one atom or group of groups, phenyl i, lower cycloalkyl i, g-class alkoxyl group, lower alkynyl base group, lower haloalkoxy group, phenoxy group or aralkyloxy group 7J-Representation.]o] An aniline derivative represented by the general formula [wherein X, Y, R1, A and B have the same meanings as above], characterized by reacting with a compound represented by the following: manufacturing method.
(5)一般式 〔式中、Xはニトロ基、アミノ基、チオイソシアナト基
または一般式−NH−C−12あるA′ いは−Nil −C−A″−R2で示される基を表わす
1し (ここで、A′およびA”は同一または相異なり、酸素
原子または硫黄原子を表わし、R2は低級アルキル基、
低級アルケニル基、低級アルキニルM、低級ハロアルキ
ル基または低級アルコキシアルキル基を表わす。)。 Yは低級アルキル基、低級アルコキシル基、低級アルコ
キシカルボニル基、水素原子、ハロゲン原子またはアシ
ル基を表わす。几1は低級アルキル基、低級アルケニル
基、低級アルキニル基、低級ハロアルキル基、低級アル
コキシアルキル基、低級シクロアルキルアルキル基また
は低級シアノアルキル基を表わす。Aは酸素原子または
硫黄原子を表わす。」 で示される化合物と、一般式 %式% 〔式中、R8は低級アルキル基、低級アルヶー=ル基、
低級アルキニル基、低級ハロアルケニル基、低級シロア
ルキル基または低級シクロアルキル基を表わすが、ま1
こはハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基を
表わすか、またはハロゲン原子、シアン基、フェニル基
、低級シクロアルキル基、低級アルコキシル−i、低級
アルケニルオキシ基、低級ハロアルコキシ基、フェノキ
シ基またはアラルキルオキシ基のうち少なくとも1つの
原子または基で置換されたアルキル基を表わす。Wは酸
素原子または硫黄原子を表わす。〕 で示される化合物とを反応させることを特徴とする一般
式 E式中、X、Y、Rt、Rg、AおよびWは前記と同じ
意味を表わす。〕 で示されるアニリン誘導体の製造法。
(5) General formula [wherein, (Here, A' and A'' are the same or different and represent an oxygen atom or a sulfur atom, R2 is a lower alkyl group,
Represents a lower alkenyl group, lower alkynyl M, lower haloalkyl group or lower alkoxyalkyl group. ). Y represents a lower alkyl group, a lower alkoxyl group, a lower alkoxycarbonyl group, a hydrogen atom, a halogen atom, or an acyl group.几1 represents a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a lower haloalkyl group, a lower alkoxyalkyl group, a lower cycloalkylalkyl group or a lower cyanoalkyl group. A represents an oxygen atom or a sulfur atom. ” and the general formula % formula % [wherein R8 is a lower alkyl group, a lower alkyl group,
Represents a lower alkynyl group, lower haloalkenyl group, lower cyloalkyl group or lower cycloalkyl group, but
This represents a phenyl group which may be substituted with a halogen atom, or a halogen atom, cyan group, phenyl group, lower cycloalkyl group, lower alkoxyl-i, lower alkenyloxy group, lower haloalkoxy group, phenoxy group, or It represents an alkyl group substituted with at least one atom or group among aralkyloxy groups. W represents an oxygen atom or a sulfur atom. ] In the general formula E, X, Y, Rt, Rg, A and W have the same meanings as above. ] A method for producing an aniline derivative represented by
(6)一般式 〔式中、Yは低級アルキル基、低級アルコキシル基、低
級アルコキシカルボニル基、水素原子、ハロゲン原子ま
たはアシル基を表わす。R1は低級アルキル基、低級ア
ルケニル基、低級アルキニル基、低級ハロアルキル基、
低級アルコキシアルキル基、低級シクロアルキルアルキ
ル基または低級シアノアルキル基を表わす。Aは酸素原
子または硫黄原子を表わす。Bは低級アルキル基、低級
アルケニル基、低級シクロアルキル基、フェニル基また
は一般式−W−Rsで示される置換基を表わす(ここで
、Wは酸素原子または硫黄原子を表わし、R8は低級ア
ルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級
ハロアルケニル基、4fuEtハロアルキニル基または
低級シクロアルキル基を表わずか、またはハロゲン原子
で置換されていてもよいフェニル基を表わすか、または
ハロゲン原子、シアノ基、フェニル&、 低級シクロア
ルキル基、低級アルコキシル基、低9フルケニルオキシ
基、低級ハロアルコキシ基、フェノキシ基ifこはアラ
ルキルオキシ基のうち少なくとも1つの原子または基で
置換されたアルキル基を表わす。)。〕で示される化合
物と一般式 %式% 〔式中 、、;Hlま低級アルキル基、低級アルケニル
i、 低級ハロアルキルx、低級アルコキシアルキル基
または一般式=A″−R2で示される基を表わす(ここ
で、A″は酸素原子または硫黄原子を表わし、1lL2
は低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル
基、低級ハロアルキル基または低級アルコキシル基を表
わす。)。A′は酸素原子または硫黄原子を表わす。Z
はハロゲン原子を表わす。〕 で示される化合物とを反応させることを特徴とする一般
式 〔式中、Y 、 R1,A′2. A 、 A’および
Bは前記と同じ意味を表わす。] で示されるアニリン誘導体の製造法。
(6) General formula [wherein Y represents a lower alkyl group, a lower alkoxyl group, a lower alkoxycarbonyl group, a hydrogen atom, a halogen atom or an acyl group. R1 is a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a lower haloalkyl group,
Represents a lower alkoxyalkyl group, a lower cycloalkylalkyl group, or a lower cyanoalkyl group. A represents an oxygen atom or a sulfur atom. B represents a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower cycloalkyl group, a phenyl group, or a substituent represented by the general formula -W-Rs (where W represents an oxygen atom or a sulfur atom, and R8 represents a lower alkyl group) , a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a lower haloalkenyl group, a 4fuEt haloalkynyl group or a lower cycloalkyl group, or a phenyl group which may be substituted with a halogen atom, or a halogen atom, a cyano group, phenyl &, lower cycloalkyl group, lower alkoxyl group, lower fluorenyloxy group, lower haloalkoxy group, phenoxy group (if this represents an alkyl group substituted with at least one atom or group among aralkyloxy groups). ] and the compound represented by the general formula % formula % [wherein, , ; Hl represents a lower alkyl group, lower alkenyl i, lower haloalkyl x, lower alkoxyalkyl group, or a group represented by the general formula =A''-R2 ( Here, A″ represents an oxygen atom or a sulfur atom, and 1lL2
represents a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a lower haloalkyl group or a lower alkoxyl group. ). A' represents an oxygen atom or a sulfur atom. Z
represents a halogen atom. ] A general formula characterized by reacting with a compound represented by [wherein Y, R1, A'2. A, A' and B have the same meanings as above. ] A method for producing an aniline derivative represented by:
(7)一般式 〔式中、Yは低級アルキル基、低級アルコキシル基、低
級アルコキシカルボニル基、水素原子、ハロゲン原子ま
たはアシル基を表わす。凡1は低級アルキル基、低級ア
ルケニルx、低級アルキニル基、低級ハロアルキル基、
低級アルコキシアルキル基、低級シクロアルキルアルキ
ル基または低級シアノアルキル基を表わす。AおよびA
′は酸素原子または硫黄原子を表わす。Bは低級アルキ
ル基、低級アルケニル基、低級シクロアルキル基、フェ
ニル基マtこは一般式−W−Rs  で示される置換基
を表わす(ここで、Wは酸素原子または硫黄原子を表わ
し、R8は低級アルキル基、低級アルケニル基、低級ア
ルキニル基、低級ハロアルケニル基、低級ハロアルキニ
ル基または低級シクロアルキル基を表わすか、またはハ
ロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基を表わす
か、またはハロゲン原子、シアノ基、フェニル基、低級
シクロアルキルx、低級yルコキシル基、低級アルケニ
ルオキシ基、低級ハロアルコキシ基、フェノキシ基マタ
はアラルキルオキシ基のうち少なくとも1つの原子また
は基で置換されたアルキル基を表わす。)。〕 で示される化合物と、一般式 %式% 〔式中、損は低級アルキル基、低級アルケニル基、低級
アルキニル基、低級)\o 7 Jl/キル基または低
級アルコキシル基を表わし、A“は酸素原子または硫黄
原子を表わす。〕で示される化合物とを反応させること
を特徴とする一般式 〔式中、Y、凡1.凡2 、 A 、 A’ 、 A”
およびBは前記と同じ意味を表わす。〕 で示されるアニリン誘導体の製造法。
(7) General formula [wherein Y represents a lower alkyl group, a lower alkoxyl group, a lower alkoxycarbonyl group, a hydrogen atom, a halogen atom or an acyl group. 1 is a lower alkyl group, lower alkenyl x, lower alkynyl group, lower haloalkyl group,
Represents a lower alkoxyalkyl group, a lower cycloalkylalkyl group, or a lower cyanoalkyl group. A and A
' represents an oxygen atom or a sulfur atom. B represents a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower cycloalkyl group, a phenyl group, or a substituent represented by the general formula -W-Rs (where W represents an oxygen atom or a sulfur atom, and R8 is Represents a lower alkyl group, lower alkenyl group, lower alkynyl group, lower haloalkenyl group, lower haloalkynyl group, or lower cycloalkyl group, or represents a phenyl group optionally substituted with a halogen atom, or a halogen atom, Cyano group, phenyl group, lower cycloalkyl x, lower ylkoxyl group, lower alkenyloxy group, lower haloalkoxy group, phenoxy group represents an alkyl group substituted with at least one atom or group among aralkyloxy groups. ). ] A compound represented by the general formula % formula % [In the formula, loss represents a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a lower)\o 7 Jl/kyl group or a lower alkoxyl group, and A'' represents oxygen represents a sulfur atom or a sulfur atom.
and B have the same meanings as above. ] A method for producing an aniline derivative represented by
(8)一般式 〔式中、Xはニトロ基、アミノ基、チオイソシアナト基
または一般式−Nfl−C−H2ある1す いは−Nu−C−A“−几2で示される基を表わす1す (ここで、A′およびA’は同一または相異なり、酸素
原子または硫黄原子を表わし、R2は低級アルキル基、
低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級ハロアルキ
ル基マtこは低級アルコキシアルキル基を表わす。)。 Yは低級アルキル基、低級アルコキシル基、低級アルコ
キシカルボニル基、水素原子、ハロゲン原子またはアシ
ル基を表わす。Aは酸素原子または硫黄原子を表わす。 Bは低級アルキル基、低級アルケニル基、低級シクロア
ルキル基、フェニル基または一般式−W−Reで示され
る置換基を表わす(ここで、Wは酸素原子または硫黄原
子を表わし、R8は低級アルキル基、低級アルケニル基
、4Fh級アルキニル基、低級ハロアルケニル基、低級
ハロアルキニル基ま1こは低級シクロアルキル基を表わ
すか、またはハロケン原子で置換されていてもよいフェ
ニル基を表わすか、またはハロケン原子、シアノ基、フ
ェニル基、低級シクロアルキル基、低級アルコキシル基
、低級アルケニルオキシ基、低級ハロアルコキシ基、フ
ェノキシ基またはアラルキルオキシ基のうち少なくとも
1つの原子または基で置換されたアルキル基を表わす。 )。〕 で示されるフェノール誘導体と、一般式〔式中、損は低
級アルキル基、低級アルケニルM、低級アルキニル基、
低9ハロアルキル基、低級アルコキシアルキル基、低級
シクロアルキルアルキル基マ1こは低級シアノアルキル
基を表わす。Dはハロゲン原子、メシルオキシ基または
トシルオキシ基を表わす。〕 で示される化合物とを反応させることを特徴とする一般
式 〔式中、X、Y、Rr、AおよびBは前記と同じ意味を
表わす。〕 で示されるアニリン誘導体の製造法。
(8) General formula [wherein, (Here, A' and A' are the same or different and represent an oxygen atom or a sulfur atom, R2 is a lower alkyl group,
A lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a lower haloalkyl group represents a lower alkoxyalkyl group. ). Y represents a lower alkyl group, a lower alkoxyl group, a lower alkoxycarbonyl group, a hydrogen atom, a halogen atom, or an acyl group. A represents an oxygen atom or a sulfur atom. B represents a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower cycloalkyl group, a phenyl group, or a substituent represented by the general formula -W-Re (where W represents an oxygen atom or a sulfur atom, and R8 represents a lower alkyl group) , a lower alkenyl group, a 4Fh alkynyl group, a lower haloalkenyl group, a lower haloalkynyl group represents a lower cycloalkyl group, or represents a phenyl group optionally substituted with a haloken atom, or a halokenyl atom. , a cyano group, a phenyl group, a lower cycloalkyl group, a lower alkoxyl group, a lower alkenyloxy group, a lower haloalkoxy group, a phenoxy group, or an aralkyloxy group. . ] A phenol derivative represented by the general formula [wherein is a lower alkyl group, a lower alkenyl M, a lower alkynyl group,
A lower 9 haloalkyl group, a lower alkoxyalkyl group, a lower cycloalkylalkyl group represents a lower cyanoalkyl group. D represents a halogen atom, mesyloxy group or tosyloxy group. [In the formula, X, Y, Rr, A and B represent the same meanings as above.] ] A method for producing an aniline derivative represented by
(9)一般式 〔式中、Xはニトロ基、アミノ基、チオイソシアナト基
または一般式−JQi−C−R2ある1し いは−NH−C−1−12で示される基を表わす11゜ (ここで、A′およびA’は同一または相異なり、酸素
原子または硫黄原子を表わし、 R2は低級アルキル基
、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級ハロアル
キル基または低級アルコキシアルキル基を表わす。)。 Yは低級アルキル基、低級アルコキンル基、低級アルコ
キシカルボニル基、水累原子、ハロゲン原子またはアシ
ル基を表わす。R1は低級アルキル基、低級アルケニル
基、低級アルキニル基、低級ハロアルキル基、低級アル
コキシアルキル基、低級シクロアルキルアルキル基また
は低級シアノアルキル  3゜基を表わす。Aは酸素原
子ま1こは硫黄原子を表わす。Bは低級アルキル基、低
級アルケニルM、低9ハロアルキル基、フェニル基また
は一般式−W−凡8で示される置換基を表わす(ここで
、Wは酸素原子または硫黄原子を表わし、 Rsは低級
アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低
級ハロアルケニル基、低級ハロアルキニル基または低級
シクロアルキル基を表わすか、またはハロゲン原子で置
換されていてもよいフェニル基を表わすか、またはハロ
ゲン原子、シアノ基、フェニル基、低級シクロアルキル
基、低級アルコキシル基、低級ア445− ルケニルオキシ基、低級ハロアルコキシ基、フェノキシ
基またはアラルキルオキシ基のうち少なくとも1つの原
子または基で置換されたアルキル基を表わす。)。] で示されるアニリン誘導体を有効成分として含有するこ
とを特徴とする農園芸用殺菌剤。
(9) General formula [wherein, (wherein, A' and A' are the same or different and represent an oxygen atom or a sulfur atom, and R2 represents a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a lower haloalkyl group, or a lower alkoxyalkyl group). Y represents a lower alkyl group, a lower alkoxycarbonyl group, a lower alkoxycarbonyl group, a water atom, a halogen atom or an acyl group. R1 represents a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a lower haloalkyl group, a lower alkoxyalkyl group, a lower cycloalkylalkyl group or a lower cyanoalkyl 3° group. A represents one or more oxygen atoms and sulfur atoms. B represents a lower alkyl group, lower alkenyl M, lower 9 haloalkyl group, phenyl group, or a substituent represented by the general formula -W-8 (where W represents an oxygen atom or a sulfur atom, and Rs represents a lower alkyl group) group, lower alkenyl group, lower alkynyl group, lower haloalkenyl group, lower haloalkynyl group, or lower cycloalkyl group, or represents a phenyl group optionally substituted with a halogen atom, or a halogen atom, a cyano group , a phenyl group, a lower cycloalkyl group, a lower alkoxyl group, a lower arykenyloxy group, a lower haloalkoxy group, a phenoxy group, or an aralkyloxy group. ] An agricultural and horticultural fungicide characterized by containing an aniline derivative represented by the following as an active ingredient.
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