JPS59206434A - Production of polyamic acid - Google Patents

Production of polyamic acid

Info

Publication number
JPS59206434A
JPS59206434A JP8195783A JP8195783A JPS59206434A JP S59206434 A JPS59206434 A JP S59206434A JP 8195783 A JP8195783 A JP 8195783A JP 8195783 A JP8195783 A JP 8195783A JP S59206434 A JPS59206434 A JP S59206434A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
dianhydride
bis
polyamic acid
acetic anhydride
dehydrated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP8195783A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS645057B2 (en
Inventor
Shuichi Matsuura
秀一 松浦
Yasuo Miyadera
康夫 宮寺
Masatoshi Yoshida
正俊 吉田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP8195783A priority Critical patent/JPS59206434A/en
Publication of JPS59206434A publication Critical patent/JPS59206434A/en
Publication of JPS645057B2 publication Critical patent/JPS645057B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

PURPOSE:To produce a polyamic acid excellent in heat resistance, mechanical strength, abrasion resistance, chemical resistance, and flexibility, by reacting a tetracarboxylic acid dianhydride purified with acetic anhydride with a diamine in a dehydrated organic solvent. CONSTITUTION:A crude tetracarboxylic acid dianhydride of an impurity content of 0.5-30wt% is immersed in 1-1.5 times, by weight, as much acetic anhydride for about a night. After removing most of the acetic anhydride, the mixture is dried at 100-150 deg.C for several hours to obtain a purified tetracarboxylic acid dianhydride. This dianhydride is reacted with a diamine, e.g., 2,2-bis(4-aminophenyl)propane, in an organic solvent (e.g., N-methyl-2-pyrrolidone) dehydrated over zeolite to a moisture content <=500ppm.

Description

【発明の詳細な説明】 不発明にテトラカルボン酸二無水物とジアミンに原料と
するポリアミド酸の製造法に係わるもので、その目的と
するところニ女価で、しかも閉環処理することeこよシ
耐熱性、機械強度、耐岸耗性、耐系品性2よび可焼性に
4&扛て変り、電気絶縁材料、破彼剤、接宥剤、成形品
あるいにフィルム材料として有用なホリアミド敞勿徒供
することにめる。
[Detailed Description of the Invention] This invention relates to a method for producing polyamic acid using tetracarboxylic dianhydride and diamine as raw materials, and its purpose is to perform a ring-closing treatment at a double price. Pholamide foam has a variety of heat resistance, mechanical strength, abrasion resistance, system resistance, and burnability, and is useful as electrical insulation materials, detonators, soothing agents, molded products, and film materials. I decided to make an offering.

従来ポリアミド酸に得る方法としてに、テトラカルボン
酸二無水物とジアミンと葡非プロトン性、惟住浴媒中5
0℃以下の低温で反応さぜゐことか知らl”して3シ、
高分子角ポリマーに得るためにはM組品、昇華等の高度
に柁製して侍た純粋なモノマー及び脱水蒸留した無水の
浴媒妃用いテトラカルボン酸二無水物とジアミンのモル
叡にほぼ等しく用いる0とか必をでめった。
Conventionally, the method for obtaining polyamic acid is to use tetracarboxylic dianhydride, diamine, aprotic acid, and 5 in a bath medium.
I did not know that the reaction takes place at low temperatures below 0°C.
In order to obtain a high molecular angle polymer, the molar ratio of tetracarboxylic dianhydride and diamine is approximately equal to that of pure monomers prepared by highly advanced methods such as sublimation, and anhydrous bath medium dehydrated and distilled. I decided to use 0 and other words equally.

テトラカルボン酸二無水物1J1にyx r:Jた氷に
畝I翳l物買であシ、長期間保管して2ぐと空気中の水
分と反Jim、 して開環してし筐う0−都開環したテ
トラカルボン敵二無水物葡ポリアミド酸の原料として用
いると亘@度の低い高分子俗液しか得らrしず、このも
のより作製したポリイミド成形物に耐藺性槻械強度、耐
摩耗住耐楽品性および可併性の劣ったものとな!ン、実
用に供しがたいのである。
Tetracarboxylic dianhydride 1J1, yx r:J, ridges on ice, I bought it, and if it is stored for a long time, it will react with moisture in the air and open the ring. When ring-opened tetracarboxylic dianhydride is used as a raw material for polyamic acid, only a low-grade polymer solution is obtained, and polyimide molded products made from this product have no resistance to oxidation. It has poor strength, wear resistance, wear resistance, and compatibility! However, it is difficult to put it into practical use.

かかる平部8に回避するために従来テトンカルホ7取二
無水v!Jに無水酢酸で丹ぬ晶することにより開環し′
fc部分葡はとんど営まない状態にしたものが1史用式
nでいた。し、かしこの書記晶の操作に非冨に煩雑′1
:あり、lだテトラカルボンば二無水物の回収率も恋い
ため結果として尚1曲l操1乍Vこなっていたのである
In order to avoid such a flat part 8, the conventional Teton Calho 7 trianhydride v! The ring is opened by crystallizing J with acetic anhydride.
There was one case in which the fc part grapes were almost never in operation. However, the operation of this writing crystal is extremely complicated'1
However, since the recovery rate of tetracarboxylic dianhydride was also low, as a result, it was still possible to complete one cycle.

一方反応に用いる11)水分駕げ少l<なけγしばlら
ず従来、五酸化リンや水素化カルシウム青の脱水たり加
力0えて脱水した後減圧蒸留によって脱水浴H’<得て
いた。しかしこの操rμも同様VC煩雑、高1曲なもの
であった。
On the other hand, 11) Moisture used in the reaction is small (l<γ). Conventionally, a dehydration bath H'< is obtained by dehydrating phosphorus pentoxide or calcium hydride blue, or by dehydrating it with zero force and then distilling it under reduced pressure. . However, this operation rμ was similarly complicated with VC and was a first-year high school song.

不弁明省らに土配欠点忙改善するために鋭意検討したと
ころ粗テトラカルボン酸二無X吻葡無水酢歳に反面した
殻、大部分の無水酢酸に除き加熱乾燥し1次いで得ら7
した精製テトラカルボン酸二無水物とジアミンとにゼオ
ライトによって脱水した有機溶媒中で反応はぜることに
よって高分子量ポリアミド酸が侍らnること葡見い出し
た。
In order to improve the problem of delivery to Fuminyoshi and others, we conducted a thorough investigation and obtained crude tetracarboxylic acid dianhydride anhydride vinegar.
It was discovered that a high molecular weight polyamic acid can be obtained by reacting purified tetracarboxylic dianhydride with a diamine in an organic solvent dehydrated with zeolite.

不発明の%歌とするところaモノマーの再桁晶、俗媒の
脱水#、留という煩雑高1曲l操作に除くとc6ic、
iる。丁lゎち租テトラカルボン取二無水物孕無水酢岐
に浸漬した俊、大部分の焦水酢殴荀除さ加熱乾燥して侍
し!しる輔製アトンカルボン酸二無水物とゼオライ)’
kms刀p佼数日1町密閉放置しfc溶溶媒加用bJ 
cとVこよって、再栢晶したモノマーと脱水蒸留した溶
媒加用いた場合と凹等の高分子量ポリアミド#に侍るこ
とができるのでめる。
The uninvented % song is C6ic except for one complicated song called A monomer's redigit crystal, common medium's dehydration #, and tame.
iru. Shun soaked in anhydrous vinegar, most of the scorched water vinegar removed, heated and dried! Shirusuke's atonecarboxylic dianhydride and zeolite)'
kms katana p left sealed for 1 day and added fc solvent bj
According to c and V, it is possible to use a high molecular weight polyamide # such as a case where a re-crystallized monomer and a dehydrated distilled solvent are added.

本発明に用いらノしる粗テトンヵルボン鼓二無水物とに
不純物20.5〜6o彦駕%含む純良の悪いもの2指し
、瘤色吻質や開環したポリカルボン酸葡言むものである
。再細晶して倚たテトラカルボン酸二無水物でも長期−
」法官してあ゛(と壁気中の湿気によって一部開環した
ものに含ひ様になるがこの様なテトラカルボン酸二無水
物も不発明の対象となる。
The crude tetone carbon dianhydride used in the present invention contains impurities of 20.5 to 6 % and is of poor quality, including those with a lump-colored rostrum and ring-opened polycarboxylic acid. Even tetracarboxylic dianhydride that has been recrystallized can last for a long time.
``Tetracarboxylic dianhydride, which is partially ring-opened due to moisture in the wall air, is also subject to non-invention.''

不発明で用いらrするテトラカルボン酸二無水物の種類
としては酸無水物澁、分子内で醒無水’f’//)k生
成する様なジカルボンル詰以外eこ無水σ「酸と反応す
る基にfまlI/′1ものlら例でもよい。
Examples of the types of tetracarboxylic dianhydrides used in the invention include acid anhydrides, and dicarboxylic dianhydrides such as those that produce anhydride 'f'//) in the molecule; Examples of the groups f and lI/'1 may also be used.

不発明で便用するのに3囚当な二無水1勿のVすとして
は次のものがある。
The following are examples of two-anhydride-one-name Vs that are uninvented and convenient for use.

ピロメリットl鋏二焦水物、  3.3’、 4.4’
−ジンエニルテトラカルボン酸二無水物、  1.2.
5.6.−す2タレンテト2力ルボン敵二無水′wJ%
 2.3.6゜Z−ナフタレンテトラカルボン酸二無水
’ms  2゜2’、 3.5’−ジフェニルテトラカ
ルボン葭二胛;水物、2.2−ビス(3,4,−ジカル
ボキシ2エニノリプロパンニ無水物、ビス(3,4−ジ
カルボキシフェニル)スルホ/二無水物、5.4.9.
10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、ビス(3,
4−ジカルポキシン−ニル)エーテルニ無水物、ナフタ
レン−1,2,4,5−テトラカルボン酸二無水物、ナ
フタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水物
、2.6−ジタロルナアタレンー1,4゜5.8−テト
ラカルボン酸二無水物、2.7−シクロルナ2クレン−
1,4,5,8,−テトラカルボン酸二無水物、2,5
,6.7−チトラタロルナフタレ/−1,4,5,8−
テトラカルボン敵二無本物、フェナンスレン−1,8,
9,10−テトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(
2,3−ジカルボキシンエニル)クロバンニ無7F−’
l1l)、  2.2−ビス(2,3−ジカルボキシン
エニル)へキサ2ルオロフロバンニ無水q=、1.1−
ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタンニ無水物
、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシ2エニル)エタ
ンニ無水9勿、ビス(2,3−ジカルボキシンエニル)
メタンニ無水9勿、ビス(3,4−ジカルボへシンヱニ
ル)メタン二無水物、ビス(5,4−ジカルボキシフェ
ニル)スルホンニーa水物、ベンゼン−1,2,3,4
−チトラカルボン酸二無水物、 −ffi、 4.5’
 4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2
,3.2’3′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物、2、3.5’ 4’−ベンゾンエノンテトラカル
ボン酸二父爬水勺勿、ビンジン−2,3,5,6−テト
ラカルボン酸二無水物、チオンエン−2,3,4,5−
テトラカルボン岐二無水物、エナVンテトラ刀ルボン敵
二無水vり、デカヒドロナフタレン−1,4,5,8−
テトラカルボン酸二無水物、4,8−ジメチル−i、 
2.3.5.6.7−ヘキサヒドロす2タレン−1,2
゜5.6−テトラカルボン咳二無水物、シクロペンタン
−1,2,3,4−テトラカルボン版二無水物、シクロ
ブタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸二無水物、
ピロリジン−2,3,4,5−テトラカルボン酸二無水
物、1,2,3.4−ブタンテトラカルボン酸二無水物
、ジシクロ−(2,2,2)−オタト(7)−エン−2
,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物2,6,6り
4′−ビフェニルナトラカルボン赦二無水物、  6,
4.5’4’−ビンエニルテトラカルボン酸二無水物、
2,3,2ζ6′−ビフェニルナトラカルボン岐二無水
物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ジメテルシ
ランニ無水物、ビス(6゜4−ジカルボキシフェニル)
メチル2エニルシシンニ無水物、ビス(3,4−ジカル
ボキシフェニル)ジ2エニルシランニ無水物、ビス(2
,3−ジカルホキシンエニル)ジノテルシランニ無水9
勿、1.4−ビス(3,4−ジ力ルホ゛キンンエニ/L
= ンメーy−ルシリル)ベンゼンニjtl&71m1
. 1.3−ビス(3+4−ジカルボキシフェニル) 
−1,1,5゜6、−テトシメチルジシロサン二基(刀
<物、p−ンエニレンービス(トリメリット酸モ/ エ
ステJb敗魚水物)、エチレングリコールビス(トリメ
リット赦無水vA) +  2.2−ビス(6,4−ジ
カルボキシフェニル)ヘキサフーロログロバンニ無水物
、2.2−ビス(4−(3,4,−ジカルボキシフェノ
キシ)フェニル〕へキサンロロフロバンニ無7XvtJ
、  4.4’ −ヒス(3,4−ジカルボキシ:7 
エノキシ)ジフェニルスル2イドニ無水物、ヒス(4−
(6,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕スルホ
ンニ無水物、4.4’−(1,4−フェニレン)ビス(
5,5,6−ト’)フェニル2タル絃無水物)、4.4
’−(オキシジー1.4− 、フェニン/)ビス(s、
s、6−トリ2エニルンタル酸焦水テ 物)0無水酢暇中には若干の酢飯、グラン、らるいにギ
岐プロピオン酸台の他の酸、敞無水物寺の不脚物忙含ん
でいてもよいOまた、本発明の処理に一度用いた無水匪
叡でも、眼無水物の独矩が同一でめ1しは繰り返して紅
花用いてもよい0 本発明に用いし肚るテトラカルボン取二焦水物は無水計
数とよ(なじむ株にでさゐたけllj’:刀・〈粉砕式
nるのが望ましい。無水酔眼の便用型にa物に制味にな
いが酸無水物の全量が無水目[酸中に浸倒さnるように
、酸剣(水物の1〜15倍(及重比)もH→7Lに十分
でりる。あ葦り多く用いると俗解によって失lわnる井
1が多(lるため望ましく72い。
Pyromellitic acid, 3.3', 4.4'
-Zinenyltetracarboxylic dianhydride, 1.2.
5.6. -su2 talenttet2rikirubonenemynianhydro'wJ%
2.3.6゜Z-naphthalenetetracarboxylic dianhydride'ms 2゜2', 3.5'-diphenyltetracarboxylic dianhydride; water, 2.2-bis(3,4,-dicarboxylic dianhydride Eninolipropanihydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)sulfo/dianhydride, 5.4.9.
10-perylenetetracarboxylic dianhydride, bis(3,
4-dicarpoxin-yl)ether dianhydride, naphthalene-1,2,4,5-tetracarboxylic dianhydride, naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, 2,6-ditaloluna Atalene-1,4゜5.8-tetracarboxylic dianhydride, 2.7-cycloluna-2crene-
1,4,5,8,-tetracarboxylic dianhydride, 2,5
,6.7-chitratalolnaphthalene/-1,4,5,8-
The unrivaled genuine tetracarbone, phenanthrene-1,8,
9,10-tetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(
2,3-dicarboxinenyl) crovanni-free 7F-'
l1l), 2,2-bis(2,3-dicarboxienyl)hexa2-fluoroflobanni anhydride q=, 1.1-
Bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethanihydride, 1,1-bis(3,4-dicarboxy-2enyl)ethanihydride, bis(2,3-dicarboxyenyl)
Methane dianhydride, bis(3,4-dicarboxycinenyl)methane dianhydride, bis(5,4-dicarboxyphenyl)sulfone dianhydride, benzene-1,2,3,4
-titracarboxylic dianhydride, -ffi, 4.5'
4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2
, 3.2'3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,3.5'4'-benzonetetracarboxylic acid dianhydride, vinjin-2,3,5,6-tetracarboxylic acid Acid dianhydride, thionene-2,3,4,5-
Tetracarboxylic dianhydride, Tetracarbon dianhydride, Decahydronaphthalene-1,4,5,8-
Tetracarboxylic dianhydride, 4,8-dimethyl-i,
2.3.5.6.7-hexahydros2talene-1,2
゜5.6-Tetracarboxylic dianhydride, cyclopentane-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride, cyclobutane-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride,
Pyrrolidine-2,3,4,5-tetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, dicyclo-(2,2,2)-otato(7)-ene- 2
, 3,5,6-tetracarboxylic dianhydride 2,6,6-4'-biphenylnatracarboxylic dianhydride, 6,
4.5'4'-vinenyltetracarboxylic dianhydride,
2,3,2ζ6'-biphenylnatracarboxylic dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)dimetersilanihydride, bis(6°4-dicarboxyphenyl)
Methyl 2-enylsilanhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)di-2enylsilanhydride, bis(2
,3-dicarphoxinenyl) dinotersilani anhydrous 9
Of course, 1,4-bis(3,4-dihydrofoxyfluoride/L
= Benzene jtl & 71m1
.. 1.3-bis(3+4-dicarboxyphenyl)
-1,1,5゜6, -tetosimethyldisilosane two groups (sword < thing, p-enylene bis (trimellitic acid mo/Esthe Jb Fengyo Suimono), ethylene glycol bis (trimellitic acid anhydride vA) + 2 .2-bis(6,4-dicarboxyphenyl)hexafluoroglolobanni anhydride, 2.2-bis(4-(3,4,-dicarboxyphenoxy)phenyl)hexaneroloroglobanni 7XvtJ
, 4,4'-His(3,4-dicarboxy:7
enoxy) diphenyl sulfide dianhydride, His(4-
(6,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]sulfone dianhydride, 4,4'-(1,4-phenylene)bis(
5,5,6-t') phenyl ditalic anhydride), 4.4
'-(oxydi1.4-, phenine/)bis(s,
s, 6-tri-2-enylntalic acid scorched water) 0 anhydrous vinegar During the free time, there is some vinegared rice, gran, and other acids of the basic propionic acid base, and the missing items of the anhydrous temple. In addition, even if the anhydrous safflower used once in the treatment of the present invention has the same monogonal anhydride size, it may be used repeatedly. Tori-ni-sho-suimono is called anhydrous counting. If the total amount of water is immersed in an acid, an acid sword (1 to 15 times the water content (weight ratio) is also sufficient for H → 7L. Since there are a lot of cases, preferably 72.

授偵時+41]にに時に制眠汀ないが、−晩放直して2
けは十分でるる〇 凝直孫度に+1tilI眠al(呈硯で十分目的は違せ
らnる。
At the time of reconnaissance + 41], I did not fall asleep at times, but -2 at night
It is enough to get +1 to the degree of concentration (the presentation of the inkstone is enough to change the purpose).

無水u1ばVc授度した故、枦ス白めるいaデ刀ンテー
ション咎によって入地分の無水計i′9c除いfc佼、
 刀ロ熱乾保オ行;ダ う○ 加炉乾保げ100〜150°Gで畝時間行なうのが奸′
よしく朽に160℃で6時+Wj以上付なうの〃ぶWぽ
しい0 100℃より低い硯度でtコ無水匪敵の除去が十分でな
(,150℃より篩い節度でに昇華による逸散や熱分〕
邦号の副反応のめ−C!しかあり好−ましくない。
Anhydrous U1 was given Vc, so due to the mistake of a detonation, Fc except for Anhydrous meter I'9c,
It is best to keep the kiln dry and dry at 100-150°G for a long time.
Well, it seems like it's W if it sticks to 6 o'clock + Wj or more at 160℃ 0 It's not enough to remove the anhydrous enemy with a hardness lower than 100℃ (by sublimation with a sieve moderation than 150℃) dissipation and heat]
Side reaction of Japanese name-C! However, I don't like it.

不発明で便用するジアミンにに特に制限はlい0 不発明で使用するのに適当なジアミンの例とじてげ次の
ものがある0 2、2− ヒス(4−アミノ−フェニル)プロパン、2
,6−ジアミツーヒリジン、ビス−(4−アミノーンエ
ニル)ジエチル7ラン、ビス−(4−アミツーフ、ニル
)ジンェニルシラン、ベンジジン、6,6′−ジクロル
−ペンデシン、3.3’−ジメトキシベンジジン、とノ
ー(4−アミノ−フェニル)エテルホスフィンオキサイ
ト、ヒス−(4−アミノ−2ヱニル)−N−フテルアミ
ン、ビス−(4−アミノ−2エニル)−N−メチルアミ
ン、3.3’−ヅメナル−4,4′−ジアミノプ2工=
ル、N−(3−アミノンエニル)−4−アミノベンズア
ミド、4−アミノフェニルー6−アミノ安息香取、3.
6’−ジメチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン
、3.3’−ジメトキシ−4,4’−ジアミノジフェニ
ルメタン、6.5’−ジェトキシ−4,4′−ジアミノ
ジフェニルメタン。
There are no particular limitations on the diamines that are suitable for use in the invention. Examples of suitable diamines for use in the invention include the following: 2,2-his(4-amino-phenyl)propane; 2
, 6-diamitohyridine, bis-(4-aminoneenyl)diethyl 7rane, bis-(4-amitouf,yl)jinjenylsilane, benzidine, 6,6'-dichloro-pendecine, 3,3'-dimethoxybenzidine, and No(4-amino-phenyl)etherphosphine oxide, His-(4-amino-2enyl)-N-phtelamine, Bis-(4-amino-2enyl)-N-methylamine, 3.3'-dumenal -4,4'-diaminop2=
3.
6'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dimethoxy-4,4'-diaminodiphenylmethane, 6,5'-jethoxy-4,4'-diaminodiphenylmethane.

6.6′−ジカルボキシ−4,4′−ジアミノジフェニ
ルメタン、3.3’−シクロロー4,4′−ジアミノジ
ンエニルメタン、3.5’−ジクロロ−4,4′−ジア
ミノジフェニルメタン、3,6′−ジブロム−4,4’
−ジアミノジフェニルメタン、6.6’−ジヒドロキシ
−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、6.5’−ジ
スルホ−4,4′−ジアミノジフェニルメタン。
6.6'-dicarboxy-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3.3'-cyclo4,4'-diaminodienylmethane, 3.5'-dichloro-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,6 '-dibrome-4,4'
-diaminodiphenylmethane, 6,6'-dihydroxy-4,4'-diaminodiphenylmethane, 6,5'-disulfo-4,4'-diaminodiphenylmethane.

3.5′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルエ
ーテル、3,5′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジ
フェニルエーテル、3,6′−ジェトキシ−4,4’−
ジアミノジフェニルエーテル、5.5’−ジカルボキシ
−4,4′−ジアミノジフェニルニーアル、3゜5’−
シクロロー4.4’−シ7ミノジンエニルエーテル、3
.3’−ジヒドロキシ−4,4′−ジアミノジフェニル
エーテル、3.3’−ジスルホ−4,4′−ジアミノジ
フェニルエーテル、3j’−ジメチル−4,4′−ジア
ミノジフェニルスルホン、3..5’−ジメトキシ−4
,4′−ジアミノジフェニルスルホン。
3.5'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,5'-dimethoxy-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,6'-jethoxy-4,4'-
Diaminodiphenyl ether, 5,5'-dicarboxy-4,4'-diaminodiphenyl nial, 3゜5'-
Cycloro 4.4'-cy7minodine enyl ether, 3
.. 3'-dihydroxy-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3.3'-disulfo-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3j'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3. .. 5'-dimethoxy-4
, 4'-diaminodiphenylsulfone.

6.6′−ジェトキシ−4,4′−ジアミノジフェニル
スルホン、3.3’−ジカルボキシ−4,4′−ジアミ
ノジフェニルスルホン、3.3’−ジクロロ−4,4′
−ジアミノジ2エニルスルホン、6.5’−ジヒドロキ
シ−4,4′−ジアミノジフェニルスルホン。
6.6'-jethoxy-4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3.3'-dicarboxy-4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3.3'-dichloro-4,4'
-diaminodi2enyl sulfone, 6,5'-dihydroxy-4,4'-diaminodiphenylsulfone.

5.5’−ジスルホ−4,4′−ジアミノジフェニルス
ルホン、5.5’−ジメチル−4,4′−ジアミノジン
工ニルグロバン、6.5’−ジメトキシ−4,4′−ジ
アミノジ2エニルグロバン、3.3’−ジェトキシ−4
,4’−シアミノジンエニルグロバン、6.3’−ジカ
ルボキシ−4,4′−ジアミノジンエニルグロバン% 
6.37−ジクロロ−4,4′−シアミノジフェニルグ
ロバン、3.5’−ジヒドロキシ−4,4’ −シアミ
ノジ2エニルグロバン、5.5’−ジスルホ−4,4′
−ジアミノジフェニルメタンy、5.6’−ジメチル−
4,4′−ジアミノジフェニルスル2アイド、3.3’
−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルメタンア
イド% 6.6′−ジェトキシ−4,4’−ジアミノジ
フェニルスル2アイド、5.6’−ジカルボキシ−4,
4′−ジアミノジフェニルスル2アイト、3.3’−ジ
クロロ−4,4′−シアεノジンエニル、X /l、 
:7アイト、  3.6’−ジヒドロキン−4,4′−
ジアミノシンエニルスルフアイド、3.3’−ジスル*
 −4,4’ −ジアミノジフェニルスル211ド、3
.3’−ジアミノジフェニルメタン、3.3’−ジアミ
ノジフェニルエーテル、3.3’−ジアミノジフェニル
スルホン、3.3’−ジアミノジンエニルクロバン、6
.5’−シアミノジフェニルスルンアイド、6.5’−
ジアミノベンゾ2エノン、2.4−ジアミノトルエン、
2,6−ジアミノトルエン、バフ −7zニレンジアミ
ン、メタ−2エニレンジアミン、4.4’−ジアミノー
ジ2エニルグロバン、4.4’−ジアミノージンエニル
メタン、4.4’−ジアミノージンェニルスルンイトs
  4.4’ −シアミノージンエニルスルホン、4.
4’−ジアミノ−ジフェニルエーテル、6,4′−シア
ミノ−ジアル二ルエーテル、1.5−シアミ/−1−ン
IL/ン、6.6′−ジメトキシベジジン、2.4−ビ
ス(ベーターアミノ−t −7テル)トルエン、ビス−
(バフ−ベーターアミノ−t−フナルー2エニル)エー
テル、ビス−(ハンーベーターメテルーテルターアミノ
ーベンナル)ベンゼン、ヒス−パーラ−(1,1−シフ
ナル−5−アξノーベンナル)ベンセン、1−インノロ
ヒル−2,4−メタフエニレンジアミン、m−キンレン
ジアミン、へ牛ザメナレンジアミン、ヘグタメテレンジ
アミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミ
ン、デカメチレンジアミン、ジアミノーグロビルテトン
メテレンジアミン、6−メナルヘブタメテレンジアミン
、4.4’−ジノナルへブタメチレンジアミン、2.1
1−ジアミノ−ドデカン、1,2−ビス−(6−アミツ
ーグロホキン)エタン、2,2−ジメテルーグロビレン
ジアばン。
5.5'-disulfo-4,4'-diaminodiphenylsulfone, 5.5'-dimethyl-4,4'-diaminodienylgloban, 6.5'-dimethoxy-4,4'-diaminodieneylgloban, 3. 3'-Jetoxy-4
, 4'-cyaminodineenylgloban, 6.3'-dicarboxy-4,4'-diaminodienylgloban%
6.37-dichloro-4,4'-cyaminodiphenylgloban, 3.5'-dihydroxy-4,4'-cyamodi2enylgloban, 5.5'-disulfo-4,4'
-diaminodiphenylmethaney, 5,6'-dimethyl-
4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3.3'
-dimethoxy-4,4'-diaminodiphenylmethaneide% 6.6'-jethoxy-4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 5.6'-dicarboxy-4,
4'-diaminodiphenylsul 2ite, 3,3'-dichloro-4,4'-cya e-nodineenyl, X/l,
:7ite, 3,6'-dihydroquine-4,4'-
Diaminocinenyl sulfide, 3,3'-disul*
-4,4'-diaminodiphenylsul211d,3
.. 3'-diaminodiphenylmethane, 3.3'-diaminodiphenyl ether, 3.3'-diaminodiphenylsulfone, 3.3'-diaminodienylcroban, 6
.. 5'-cyaminodiphenylsrunide, 6.5'-
Diaminobenzo 2-enone, 2,4-diaminotoluene,
2,6-diaminotoluene, buff-7znylenediamine, meta-2enylenediamine, 4,4'-diaminodi2enylgloban, 4,4'-diaminodienylmethane, 4,4'-diaminodienyl srunite s
4.4'-cyaminodine enyl sulfone, 4.
4'-Diamino-diphenyl ether, 6,4'-cyamino-dialnylether, 1,5-cyamino/-1-IL/, 6,6'-dimethoxybezidine, 2,4-bis(beta-amino- t-7tel) toluene, bis-
(buff-beta-amino-t-funal-2enyl)ether, bis-(ham-beta-amino-t-funal-2enyl)benzene, his-par-(1,1-cyfnal-5-anobennal)benzene, 1- Innorohiru-2,4-metaphenylenediamine, m-quinene diamine, hexamenalediamine, hegtamethylenediamine, octamethylenediamine, nonamethylenediamine, decamethylenediamine, diaminoglobiltetonemethylenediamine, 6-Menalhebutamethylenediamine, 4.4'-Dinonalhebutamethylenediamine, 2.1
1-diamino-dodecane, 1,2-bis-(6-amituglophoquine)ethane, 2,2-dimeteroglobylene diabane.

6−メドキシーへチサメテレンジアミン、6.5’−ジ
メチルベンジジン、2,5−ジメチルへキサメチレンジ
アミン、2I5−ジメチルへ7゛タメテレンシアミン、
5−メチル−ノナメチレンジアミン、2.17−ジアミ
ツーアイコサテカン、1゜4−ジアミノーシクロヘキタ
ン、1.10−ジアミノ−1,10−ジメチルデカン、
1.12−ジアミノ−オフタテカン。不発明で用いらn
るゼオライトとじてに天然産でも合成重でもよい。また
粕台剤孕含んでいなくてもよい。ゼオライトの細孔径と
してに水分子とほぼ同等77jぞn以上で溶媒分子よシ
も小豆り7シ(+ゴよいが、6〜5人か好ましい。ゼオ
ライトの形状としてaとくに制限(グないか、ベレット
状球状が好址しい。
6-medoxyhexamethylenediamine, 6,5'-dimethylbenzidine, 2,5-dimethylhexamethylenediamine, 2I5-dimethylhexamethylenecyamine,
5-methyl-nonamethylenediamine, 2.17-diamino-icosatecan, 1゜4-diaminocyclohexane, 1.10-diamino-1,10-dimethyldecane,
1.12-Diamino-oftatecan. Used in non-invention
The zeolite used may be naturally produced or synthetically produced. Moreover, it does not have to contain a kasudai agent. The pore size of the zeolite is about the same as that of water molecules, and the solvent molecules are also smaller than 77 times. A pellet-like spherical shape is preferred.

−ビオライトの徐刀口周と放置日数と1J反比?すの関
係にあり1便用桁線の宮ボ元にLtvじてりらかじめ叉
験して決めて2〈のか望lしい。
- Biolite's Xutoguchi and the number of days left unused and 1J inverse comparison? It would be better to try out the LTV station first and decide on the number 2, since it is in a relationship with the 1st flight digit line.

脱厚さnた溶媒中の水分承a500廃以下が好盈しく、
望葦しくr[200隅以−トでめり、さらに望!しく1
’[100卿以下である。本分欺か500p戸より多く
てaポリアミド酸の分子蛋か十分に人さくならない。
The moisture absorption in the solvent with the thickness removed is preferably less than 500,
Descendantly r Work 1
'[Not more than 100 sirs. If the duty is more than 500p, the molecular protein of polyamic acid is not enough.

有嶺桁線としてa生成したホリアミド赦忙浴か丁ものな
らなんでもよいかN−メチル−2−ビロリドンs iN
、N−ジメチルアセトアミド、N。
Is it okay to use a holamide bath or anything else that is suitable for use as a line? N-methyl-2-pyrrolidone s iN
, N-dimethylacetamide, N.

N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルホルムア
ミド、シメテルスルホキンド、スルホラン、メチルスル
ホラン、テトラメチル銀系、ヘキサメチルホスホルアミ
ド、ブチロシタトン寺の尚那点非プロトン性惟性俗媒が
好デしく、こtらの桁線忙年独あるいに2棟以上忙仇合
して用いてもよいし、さらにcjLらにキシレン、トル
エン、ベンゼン、フェノール、アセトン、メチルスルホ
ラン、ジアセトンアルコール、セロソルブ、メナルイン
ブテルグトン、クレゾール、ジオキウーン、シクロヘキ
サモノ咎の溶媒ンボリアミドばか析出しない範囲で砥力
口して便用してもよい。
N-dimethylformamide, N,N-dimethylformamide, cymetersulfoquinde, sulfolane, methylsulfolane, tetramethylsilver, hexamethylphosphoramide, butyrocytaton's aprotic aprotic solvents are preferred. , These digit lines may be used in combination, or two or more buildings may be used in combination. Menalimbutergone, cresol, dioxin, and cyclohexamonochloride may be used for toilet use by applying abrasive force to the extent that the solvent does not precipitate.

本発明で得らnるポリアミド酸にこjL忙100℃以上
に力り藺する〃・、もしくvコ脱水卸j1例えば無水酢
酸−ビリジンで処理することによジ閉環して態勢性機械
頻度、耐摩耗性、耐薬品性及び可働性の優t′したポリ
イミドに汲挨することができる。
The polyamic acid obtained according to the present invention is subjected to stress at a temperature of 100°C or higher, or dehydration is performed, for example, by treatment with acetic anhydride-pyridine, resulting in di-ring closure and mechanical strength. It can be applied to polyimide which has excellent abrasion resistance, chemical resistance and workability.

以下不発明葡実施例に用いてさらに詳細に脱明するが不
発明の範囲に以下の実施例に限疋さn、6ものでrr、
zい。
The following will be explained in more detail using examples of non-inventions, but the scope of non-inventions will be limited to the following examples.
Yes.

実施例1 粗ピロメリット酸二無水物(純度92%)100 gK
無水師咳150g葡加えて一晩放直した佐、減圧濾過し
、160℃のオーブン中で8時間乾燥してピロメリット
酸二無水物の簡易精製に行なった。ピロメリット酸二無
水物の収率94.9%無水酢酸の回収率894%でめっ
た。
Example 1 Crude pyromellitic dianhydride (purity 92%) 100 gK
150 g of grapes were added and left to stand overnight, filtered under reduced pressure, and dried in an oven at 160° C. for 8 hours for simple purification of pyromellitic dianhydride. The yield of pyromellitic dianhydride was 94.9%, and the recovery of acetic anhydride was 894%.

−万N、N−ジメチルアセトアミド11にモレキュラー
シーフ゛ス5A100g?l1%刀ロ俊5日向密閉放直
することによって水分M2S廃の脱水N、N−ジメチル
アセトアミドに侍た。
-100g of Molecular Thief 5A in 11,000N, N-dimethylacetamide? 11% Toro Shun 5 Hyuga The moisture M2S waste was left to dehydrate N,N-dimethylacetamide by re-sealing.

渦度計、撹拌慎2よび塩化カルシウム・a忙つけた30
0ff114つロフラスコに4,4′−ジアミノジンエ
ニルエーテル200gと土で侍た脱水N。
Vorticity meter, stirrer 2 and calcium chloride a busy 30
200 g of 4,4'-diaminodine enyl ether and dehydrated N with soil were placed in 114 round flasks.

N−ジメチルアセトアミド256.9gk刀0えて均一
な溶液とした。フラスコに氷浴につけて10℃以下にし
た候、上で得た精製ピロメリット酸二無水wJ21.8
g葡徐々に添カロした。門≦刀口終了佐、反応液の渦朋
紮15℃にし7時間反応させた。7時間反応波のワニス
の還元枯贋孕測だしたとCろ4.58dl/g(溶媒N
、N−ジメチルアセトアミド、濃度0.1g/di、 
温度25.0℃、以下に述べる央乃例、比較?+1もこ
1しと同じ条汁)であシ、十分高分子量化していた。l
だ色相tコガードナー色相6であった。この反応浴牧葡
ガラス板よに流延した候、桁線葡除去するとポリアミド
酸よシなる丈夫なフィルムが侍ら2′シた。
256.9 g of N-dimethylacetamide was added to make a homogeneous solution. The purified pyromellitic dianhydride obtained above was heated to 10°C or lower by placing the flask in an ice bath.
Gradually add the grapes. When the reaction mixture was finished, the reaction solution was vortexed at 15°C and allowed to react for 7 hours. The reduction and deterioration of the varnish in the 7-hour reaction wave was measured at 4.58 dl/g (solvent N
, N-dimethylacetamide, concentration 0.1 g/di,
Temperature 25.0℃, comparison of Aono example described below? +1 Moko 1 (same soup stock) and had a sufficiently high molecular weight. l
The hue was 6. When this reaction bath was cast onto a glass plate and the wires were removed, a strong film made of polyamic acid was formed.

亡の2イルムを更[200℃2よび400℃で熱処理す
ることによって優n−tc耐熱注、恒械狩性、耐摩耗性
および可9台性葡Mするポリイミドフィルム葡侍た。
The second film was further heat treated at 200°C and 400°C to create a polyimide film with excellent heat resistance, mechanical strength, abrasion resistance and 90% durability.

比較物1 何ら精製操作葡行なわない粗ピロメリットば二無水@(
純度92%)と脱水操作オ行lわない水分量980pp
IIのN、N−ジメチルアセトアミドを用いる以外に実
施例1と同様にして反応孕行なったが、溶液の粘度に上
昇しなかった0まだ色相にガードナー色相11でめった
0実施例2 粗3. s; 4.4′−ベンゾ2ニノンテトラカルボ
ン酸二無水物(純度95%)に用いる以外に夷へ例1と
同様にして簡易柑製葡行なった0無水物の収率95,8
%、無水酢酸の回収率91.5%であった。
Comparative substance 1 Crude pyromellit without any refining operation @(
(purity 92%) and water content 980pp without dehydration
The reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that N,N-dimethylacetamide of II was used, but the viscosity of the solution did not increase.0 Still the hue was slightly Gardner Hue 11.0 Example 2 Coarse 3. s; 4. Yield of 0 anhydride made in the same manner as in Example 1 except for use in 4'-benzo2ninonetetracarboxylic dianhydride (purity 95%): 95.8
%, and the recovery rate of acetic anhydride was 91.5%.

一方、N−メチル−2−ピロリド71形にパイリットT
−144(バイエル社製)100g葡添刀ρ故5日間密
閉放直することによってボ分奮’16pH11の脱水N
−メチル−2−ピロリドンに傅た。温度H↑、攪拌磯P
よび塩化カルシウム管ンつ?jだ500m14つロフラ
スコに4.4’−シフばノジンエニルエーテル17.6
0gとP−21二レンジアミン950gと上で得た脱水
N−メチル−2−ピロリドン225.9gに加えた。ン
ラスコ忙氷浴につけて10℃以下にしfc俊、実施例1
と同僚にして侍た精製ピロメリット取二無水?1171
9.1 a gと土で侍たrq製6,3.′4,4′−
ベンゾフェノンテトラカルボン威二無水物28.114
g忙徐々に献刀口した0添刀DP″j′候1反上乙)液
の偏度′/X::20℃にし、8時間反応式せた。8時
Ii」反応体のワニスの還元粘度葡測だしたところ6゜
07dl/gであり、十分筒分子童化してい’fC。
On the other hand, N-methyl-2-pyrrolid type 71 has PyritT.
-144 (manufactured by Bayer) 100g Dehydrated N
-Methyl-2-pyrrolidone. Temperature H↑, stirring rock P
Calcium chloride tube? 4.4'-Schifbanodine enyl ether in 14 flasks of 500 m 17.6
0g of P-21 dilenediamine and 225.9g of dehydrated N-methyl-2-pyrrolidone obtained above. FC Shun, Example 1
And my colleague and samurai purified pyromeri torinanhydro? 1171
9.1 ag and clay samurai rq made 6,3. '4,4'-
Benzophenone tetracarboxylic anhydride 28.114
Gradually, the 0-piece DP "j' 1 anti-upper Otsu) Liquid polarity '/X:: The temperature was set to 20°C and the reaction was carried out for 8 hours. At 8 o'clock, the reaction was carried out for 8 hours. Reduction of the varnish of the reactant When I measured the viscosity, it was 6°07 dl/g, indicating that it had become a cylinder molecule.

この反応浴数τ笑廁vIJ1と同様に処理することによ
って後fした耐熱性、壁械籍牲、耐岸札注お゛よひ司と
う性に徊するホリイミドフィルム【侍たO 比軟例2 何ら精製操作忙行なわない粗ピロメリット敞二無ホ物と
祖5,6.′4,4′−ベンゾンエノンテトラカルボン
酸二無水物と葡便う以外σ実施例2と同様にして反応塗
付なった。8時IMj反応域のワニスの還元粘度葡廁足
したとこ60−28 dl / gであった。この反応
浴液葡笑雄例1と同様に処理して得たホリイミドフイル
ムの俄械狩性に不十分なものであった。
This polyimide film has improved heat resistance, wall stability, and stability when treated in the same manner as in the reaction bath number τ(IJ1). 2. Crude pyromellits without any refining operations. 5, 6. Reaction coating was carried out in the same manner as in σ Example 2, except that '4,4'-benzoneenonetetracarboxylic dianhydride and grapevine rind were used. At 8:00 IMj, the reduced viscosity of the varnish in the reaction zone was 60-28 dl/g. This reaction bath solution was insufficient in mechanical processing properties of a polyimide film obtained by processing in the same manner as in Example 1.

比軟例6 ピロメリット取無水吻100g1/(:無ボ匪敵500
g忙カロえ刀口饅して溶解した候、活性炭20gχ加え
て60分間還流しfCoこの俗漱忙黙濾過し、−晩放1
した俊生成した組品に減圧濾過によって染めた。純IZ
99.96%、収率51.8%でありfc。
Rifle Example 6 Pyromelli Tori Muzui 100g1/(: Mubo Boi Enemy 500
Add 20 g of activated charcoal and reflux for 60 minutes.
The resulting assembly was dyed by vacuum filtration. Pure IZ
99.96%, yield 51.8% fc.

一万、 N、N−ジメチルアセトアミド11に五酸化リ
ン6gτ加え、−役脱7J(汝減圧煕宙r何なうことに
よって水分115pl順のJ況水N、IQ−ジメチルア
セトアミド荀得/ζ。
10,000, add 6g of phosphorus pentoxide to N,N-dimethylacetamide 11, add 7J of phosphorus to 115 pl of water by reducing the pressure, add 115 pl of water, IQ-dimethylacetamide/ζ.

丹相晶によって得た棺表ピロメリット酸二無水物と蒸留
VCよって得た脱7KN、N−ジノチルアセトアミド業
用いる以外に夾′h也・りl11と同僚にして反応忙行
なった。7時1i+41y、、応佼のワニスの鐘元粘度
D4.26d17gでめり1色相にガードナー色相6て
あった0 実施例に示した様に不発明の操作によl’Lは藺早々梢
製によって侍たモノマーと量率な脱水によって傅7′c
浴媒から、沓幀晶して侍た七ツマ−と蒸愉によって得た
俗媒とから合成したポリアミドを波とIl:T1等以上
の茜分子盾ポリアミド酸が侍らl’Lることが明らかで
ある。
In addition to using pyromellitic dianhydride obtained by tanphase crystallization and de-7KN,N-dinotylacetamide obtained by distillation VC, I also carried out a reaction with a co-worker of K'Hya Ri111. 7 o'clock 1i + 41y,, the original viscosity of Ogo's varnish was D4.26d17g, and the Gardner hue was 6 to 1 hue. By dehydrating the monomers and the amount of the monomers, the
It is clear that the polyamide synthesized from the bathing medium, the nanatsuma obtained by crystallization, and the common medium obtained by steaming, and the madder molecular shield polyamic acid of Il: T1 or higher, are produced by the samurai. It is.

また不発明の方法によ、!ll棺製ざ几たモ′ツマ−の
収率、無水酢敏の回収率も役1して一91比較ガ3に示
し1ζようVc再粕晶、蒸留に安する煩雑/iニー′I
=同費用等′9C考慮に入nると不発明の方法が継街性
があり総合・H9に後l′していること(ζ明らか′C
ある。
Also by an inventive method! The yield of coffin-made grains and the recovery rate of anhydrous vinegar are also shown in Figure 3 for comparison.
= Considering the same costs, etc., the uninvented method has continuity and is behind H9 (ζ Obviously 'C
be.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、 粗テトラカルボン酸二無ボwJt無水酢敵に浸漬
した俊、大部分の無水酢酸欠除さ、加熱乾燥し、次いで
侍らnた精製テトラカルボン酸ン無水物とジアミンとに
ゼオライトによって脱水しfc有磯浴媒中で反工6さぜ
ることχ待衣とするポリアミド酸の製造法0 2、有a8溶媒が非プロトン性住性浴媒であること忙籍
鑓とする狩dT錆求の昶囲第1項記戦のポリアミド酸の
製造法0 3、脱水した肩積浴媒甲の水分11が500pμ以下で
あること葡待1′liとする吋計請求の範囲第1項又は
第2項記載のポリアミド酸の埃范法04、 ゼオライト
が台ノ戊ゼオライトであること葡待畝とする%。=1′
請求の範囲第1項記載のポリアミド酸の製造法。
[Claims] 1. Crude tetracarboxylic dianhydride was soaked in anhydrous vinegar, most of the acetic anhydride removed, heated and dried, and then purified with purified tetracarboxylic anhydride and diamine. A process for producing polyamic acid, which is dehydrated with zeolite and then stirred in an FC bath medium to give a χ 2. The A8 solvent is an aprotic bath medium. 3. The method for manufacturing polyamic acid described in Paragraph 1 of Kari dT Sabimu's Article 3. The water content 11 of the dehydrated shoulder bathing medium shall be 500 pμ or less. Scope 04 of polyamic acid according to item 1 or 2, % of the zeolite being Tainobo zeolite. =1'
A method for producing polyamic acid according to claim 1.
JP8195783A 1983-05-11 1983-05-11 Production of polyamic acid Granted JPS59206434A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8195783A JPS59206434A (en) 1983-05-11 1983-05-11 Production of polyamic acid

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8195783A JPS59206434A (en) 1983-05-11 1983-05-11 Production of polyamic acid

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59206434A true JPS59206434A (en) 1984-11-22
JPS645057B2 JPS645057B2 (en) 1989-01-27

Family

ID=13760978

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8195783A Granted JPS59206434A (en) 1983-05-11 1983-05-11 Production of polyamic acid

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59206434A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04299885A (en) * 1990-12-17 1992-10-23 E I Du Pont De Nemours & Co Tetrapolyimide film that incorporates benzophenone tetracarboxylic acid two anhydride
JPH06334204A (en) * 1993-05-21 1994-12-02 Ind Technol Res Inst Preparation of flexible amorphous silicon solar cell
WO2016010003A1 (en) * 2014-07-17 2016-01-21 旭化成イーマテリアルズ株式会社 Resin precursor, resin composition containing same, polyimide resin membrane, resin film, and method for producing same

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04299885A (en) * 1990-12-17 1992-10-23 E I Du Pont De Nemours & Co Tetrapolyimide film that incorporates benzophenone tetracarboxylic acid two anhydride
JPH06334204A (en) * 1993-05-21 1994-12-02 Ind Technol Res Inst Preparation of flexible amorphous silicon solar cell
WO2016010003A1 (en) * 2014-07-17 2016-01-21 旭化成イーマテリアルズ株式会社 Resin precursor, resin composition containing same, polyimide resin membrane, resin film, and method for producing same
US20170165879A1 (en) * 2014-07-17 2017-06-15 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Resin precursor, resin composition containing same, polyimide resin membrane, resin film, and method for producing same

Also Published As

Publication number Publication date
JPS645057B2 (en) 1989-01-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4075171A (en) Process for preparing aromatic polyimides and some polyimides prepared thereby
CN103827740B (en) Manufacture method, liquid crystal orientation film and the liquid crystal display cells of liquid crystal orientation film
CA1084512A (en) Crosslinkable bis-imidyl derivatives
DE2426885A1 (en) SILICON MODIFIED PREPOLYMERS
CN104395282A (en) Diamine, polymer, liquid crystal aligning agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element
JPS5839845B2 (en) Polyamide Carbon Sanno Seihou
US4952669A (en) Copolyimides prepared from 2-(3-aminophenyl)-2-(4-aminophenyl) Hexafluoro propane
JPS59206434A (en) Production of polyamic acid
JP2002348374A (en) Polyamic acid or polyimide and liquid crystalline orientating agent
JPH0648338B2 (en) Alignment treatment agent for liquid crystal display devices
JPH0248571B2 (en)
JPS6323928A (en) Production of modified polyimide
US4124651A (en) Process for the production of polyamide-polyamide-acid copolymers
JPS6015426A (en) Chemical ring closure of polyamic acid
DE2366399C2 (en) Polyamide-polyimide copolymers and their use for the manufacture of industrial products
CH617447A5 (en)
JPH01180519A (en) Orientation treating agent for liquid crystal display cell
JPS59196319A (en) Production of polyamic acid
JPH02177373A (en) Film solar cell
JP2002275185A (en) Spiro diacid anhydride having optical activity, method for producing the same, polyimide having optical activity and method for producing the same
JPH03197927A (en) Liquid crystal display element
JP4035365B2 (en) Alternating polymer type polyimide and method for producing alternating polymer type polyimide
JPH05281553A (en) Liquid crystal orientation film composition, liquid crystal orientation film and manufacture thereof, liquid crystal holding base, and liquid crystal display element
JPH02306935A (en) Production of alicyclic tetracarboxylic acid
JPS5939893A (en) Novel imide compound