JPS592045A - Preparation of print plate - Google Patents

Preparation of print plate

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JPS592045A
JPS592045A JP10184783A JP10184783A JPS592045A JP S592045 A JPS592045 A JP S592045A JP 10184783 A JP10184783 A JP 10184783A JP 10184783 A JP10184783 A JP 10184783A JP S592045 A JPS592045 A JP S592045A
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solution
minutes
layer
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JP10184783A
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Inventor
マイクル・グレン・フイツケス
ボ−ダン・ラコツイ
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EIDP Inc
Original Assignee
EI Du Pont de Nemours and Co
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Publication of JPH0259978B2 publication Critical patent/JPH0259978B2/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はブタジェン/アクリロニトリル共重合体含有の
光感受性層を有するフレクングラフィー印刷プレートの
ハロゲンによる−に面処理に関する。更に特定的には本
発明はブタジェン/アクリコニ) リル共重合体を含有
する光感受性層の臭素または沃素およびそれに続く塩素
による表面処理およびそれにより生成される生成物に関
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to the halogen-based surface treatment of flexographic printing plates having a photosensitive layer containing a butadiene/acrylonitrile copolymer. More particularly, the invention relates to the surface treatment of photosensitive layers containing butadiene/acryl copolymers with bromine or iodine followed by chlorine and the products produced thereby.

光感受性フレクツグラフィー印刷プレートは印刷産業に
おいてかなりの′M要性を達成している。そのようなフ
レクツグラフィー印刷プレートの製造に特に有用な組成
物としては、付加重合性エチレン性不飽和化合物、光開
始剤および重合体結合剤としてのブロック共重合体例え
ばスチレンーブタジエンースチレンシよひスチレン−イ
ソプレン−スチレン共l@体または場合によりカルボキ
シル基を含有するブタジェン/アクリロニトリル重合体
を含有した組成物があげられる。前記のブロック共重合
体を含有する組成物を使用した印刷プレー)・は一般に
アルコールまたはアルコールーアセテートベースノイン
クとのみ相容性である。一方、場合によpカルボキシル
基を含有するブタジェン/アクリロニトリル重合体は一
般に炭化水素ベースのインクとのみ相客性である。
Photosensitive flexographic printing plates have achieved considerable demand in the printing industry. Compositions particularly useful in the production of such flexographic printing plates include addition polymerizable ethylenically unsaturated compounds, photoinitiators and block copolymers such as styrene-butadiene-styrene as polymer binders. Examples include compositions containing a histyrene-isoprene-styrene conjugate or a butadiene/acrylonitrile polymer that optionally contains a carboxyl group. Printing plates using compositions containing the block copolymers described above are generally compatible only with alcohol or alcohol-acetate based inks. On the other hand, butadiene/acrylonitrile polymers, which optionally contain p-carboxyl groups, are generally compatible only with hydrocarbon-based inks.

スチレンーブタジエンースチレンマタハスチレンーイソ
プレンースチレンブロック共重合体結合剤を含有する7
レクソグラフイー印刷プレートは例えばプロセス透明画
を通しての像様蕗光および現像後、一般に酸性次亜塩素
酸塩溶液で処理して層の粘着性を減少せしめられる。粘
着性の減少はまた臭素溶液の使用によっても達成できる
。しかしながら塩素処理または臭素処理のいずれもこれ
らブロック共重合体ベースの印刷プレートを炭化水素ベ
ースインクと相客性にはしない。
7 Containing Styrene-Butadiene-Styrene Matahastyrene-Isoprene-Styrene Block Copolymer Binder
Lexographic printing plates, for example after imagewise exposure and development through a process transparency, are generally treated with an acidic hypochlorite solution to reduce the tackiness of the layer. Reduction of tack can also be achieved by the use of bromine solutions. However, neither chlorination nor bromine treatment makes these block copolymer-based printing plates compatible with hydrocarbon-based inks.

しかしながら、場合によりカルボキシル基を含有するブ
タジェン/アクリロニトリル重合体を含有するフレクン
グラフィー印刷プレートは粘着性であるのみならず、あ
る印刷インク中に存在するある種の溶媒およびその他の
成分例えばアルコール、アセテートその他によシ攻撃さ
れやすい、従ってこれらのプレートの使用は実5Ii量
の炭化水素溶媒を含有する制限された肝のインクに限定
される。塩素含有溶液例えば次亜塩素酸溶液の使用は粘
着性を軽減しうるがしかし印刷プレートの印刷狭面がア
ルコールおよび釉りのその他の溶媒を含有するインクに
より攻撃されるのを阻止、シナい。ブタジェン/アクリ
ロニトリル重合体含有フレクングラフィー印刷プレート
は後露光(像様露光の後で行われる全体的非像様露光)
の前または後に遊離臭素濃度を有する水性溶液で処理し
た場合すべてのインクに対する溶媒耐性の増大を示し、
そして最も顕著にはアルコール含有インクおよび種々の
その他の非炭化水素溶媒に対する耐性の上昇を示す。し
かしながらこの改善はアルコール含有インクが高水準の
アセテートエステルまたはその他の攻撃的共溶媒をも含
有している場合の実際的使用には不充分のものである。
However, flexographic printing plates containing butadiene/acrylonitrile polymers, which optionally contain carboxyl groups, are not only sticky but also contain certain solvents and other components present in some printing inks, such as alcohols, acetates, etc. They are susceptible to attack by others, and therefore the use of these plates is limited to limited liver inks containing 5Ii amounts of hydrocarbon solvents. The use of chlorine-containing solutions, such as hypochlorous acid solutions, may reduce tackiness but prevent the printing narrow side of the printing plate from being attacked by inks containing alcohol and other solvents of the glaze. Butadiene/acrylonitrile polymer-containing flexographic printing plates are post-exposed (total non-imagewise exposure performed after imagewise exposure)
shows increased solvent resistance for all inks when treated with an aqueous solution having a free bromine concentration before or after
and most notably increased resistance to alcohol-containing inks and various other non-hydrocarbon solvents. However, this improvement is insufficient for practical use when the alcohol-containing ink also contains high levels of acetate esters or other aggressive co-solvents.

タック(tack)減少のために導入される塩素処理は
抵抗性を上昇せずそしてそれを低下させうる。この改善
はまたスチレン−イソプレン−スチレンまたはスチレン
−ブタジェン−スチレンブロック共重合体含有印刷プレ
ートの塩素または臭素処理によっては観察されない。
Chlorination introduced for tack reduction does not increase resistance and may decrease it. This improvement is also not observed upon chlorine or bromine treatment of printing plates containing styrene-isoprene-styrene or styrene-butadiene-styrene block copolymers.

スチレン−インプレン−スチレン、スチレン−ブタジェ
ン−スチレンブロック共重合体含有フレクツグラフィー
印刷プレートおよび場合によりカルボキシル基を含有す
るブタジェン/アクリロニトリル共重合体含有フレクツ
グラフィー印刷プレートは沃素処理により粘着性除去さ
れそして「光に由来する後硬化」に対する増大した抵抗
性を与えられる。沃素処理が溶媒耐性を改善させるかど
うかは知られていない、場合によジカルボキシル基を含
有するブタジェン/アクリコニしLμ洪重會体を含有す
る光感受性組成物から製造された印刷プレートに対して
そのプレートを現在当業者に入手可能なインク、インク
溶媒および共溶媒スペクトル(例エバアルコール、アル
コール−アセテート、炭化水素、アルコール−炭化水素
、アルコール−水その他)と相溶性ならしめるような改
善された2−ハロゲン処理法に対する要求が存在してい
る。
Flexographic printing plates containing styrene-imprene-styrene, styrene-butadiene-styrene block copolymers and flexographic printing plates containing butadiene/acrylonitrile copolymers optionally containing carboxyl groups are detackified by iodine treatment and Provided with increased resistance to "photo-induced post-curing". It is not known whether iodine treatment improves solvent resistance for printing plates made from photosensitive compositions containing a butadiene/acrylic acid Lμ Hongjong association, which optionally contains dicarboxyl groups. improved compatibility with inks, ink solvents and co-solvent spectra (e.g. Eva-alcohol, alcohol-acetate, hydrocarbon, alcohol-hydrocarbon, alcohol-water, etc.) currently available to those skilled in the art. A need exists for a 2-halogen treatment process.

また2種のハロ?ン処理すなわち臭素と塩素または沃素
と塩素とを順次に適用しそして後露光の前または後で実
施できる方法に対する要求もまた存在している。
Two more types of halos? There also exists a need for a process in which bromine and chlorine or iodine and chlorine are applied sequentially and can be carried out before or after post-exposure.

更に、水性現像された前記印刷プレートの乾燥の必要な
しに直ちに2−ハロゲン処理方法に対する要求が存在し
ている。
Furthermore, there is a need for a process for the immediate 2-halogen treatment of aqueous developed printing plates without the need for drying.

本発明によれば、20,000〜75,000の数平均
分子量を有し、そのアクリロニ) IJル含景が10〜
50重量−であシそしてカルボキシル含量が0〜15重
量%である高分子量ブタジェン/アクリロニトリル共重
合体および少くとも1個の末端エチレン基を含有する非
ガス状エチレン性不飽和化合物を包含する光感受性弾性
体状組成物層の活性線放射による像様露光およびその未
露光部分の液体現像によりレリーフ部分が生成されてい
るレリーフ光感受性フレクツグラフィー印刷プレートに
改曽された溶媒耐性表面を与えるための方法が提供され
るものであり、而してその方法は場合によりレリーフ中
の部分を乾燥させた後、゛任意の順序で(1)現像表面
を活性線放射源に後露光させること、そして(2)この
現像表面を連続的に、2鴇の水性ノ10ゲン浴液すなわ
ち0.01〜6.5重量%の遊離臭素、濃度を有する約
15秒〜20分QJ触を伴なう水性溶液または0.2〜
10重it%の遊離沃素濃度を有する釣1.0〜10分
の接触を伴なう水性溶液のいずれかである第1ハロゲ“
ン溶液およびそれに続く0.01〜1.0モル濃度のN
hOcLおよび0.012〜1.2モノ1〆漉度のHC
lの水性溶液にエリ与えられるものに相当する塩素当量
の約15秒〜5分の接触時間の第2ハロゲン溶液に接触
させることを包含する。
According to the present invention, the acrylonitrile having a number average molecular weight of 20,000 to 75,000 and having an acrylonitrile content of 10 to 75,000
50% by weight of acetic acid and a high molecular weight butadiene/acrylonitrile copolymer having a carboxyl content of 0 to 15% by weight and a non-gaseous ethylenically unsaturated compound containing at least one terminal ethylene group. For imparting a modified solvent-resistant surface to a relief photosensitive flexographic printing plate in which the relief areas are produced by imagewise exposure of the elastomeric composition layer to actinic radiation and liquid development of the unexposed areas thereof. A method is provided which, optionally after drying the portion in relief, comprises, in any order: (1) post-exposing the developed surface to a source of actinic radiation; 2) This developed surface is continuously treated with a 2-layer aqueous solution, i.e., an aqueous solution with QJ contact for about 15 seconds to 20 minutes, having a concentration of 0.01 to 6.5% by weight of free bromine. or 0.2 ~
The first halogen is either an aqueous solution with a contact time of 1.0 to 10 minutes with a free iodine concentration of 10% by weight.
solution and subsequent 0.01-1.0 molar N
hOcL and HC of 0.012 to 1.2 mono 1 strain degree
1 of the aqueous solution for a contact time of about 15 seconds to 5 minutes.

本発明の方法に使用される光感受性組成物は高分子量ブ
タジェン/アクリロニトリル共重合体、非ガス状エチレ
ン性不飽和化合物、有機放射感受性遊離ラジカル生成性
光開始剤または光開始剤系ならびに以下に論じられるそ
の他の添加剤を包含する。この組成物は層の形態で使用
されうるし、あるいは組成物の層が可撓性支持体に接着
せしめられうるしまたは一時的支持体が使用されうる。
The photosensitive composition used in the method of the invention includes a high molecular weight butadiene/acrylonitrile copolymer, a non-gaseous ethylenically unsaturated compound, an organic radiation-sensitive free radical-generating photoinitiator or photoinitiator system, and as discussed below. and other additives. The composition can be used in the form of a layer, or a layer of the composition can be adhered to a flexible support or a temporary support can be used.

有用な可撓性支持体としてはプラスチックフィルムおよ
び金属シート、開放または密閉セルフオーム、可撓性ゴ
ム層、またはフオームおよびゴム層とプラスチックフィ
ルムとの組合せ物があげられる。
Useful flexible supports include plastic films and metal sheets, open or closed cell ohms, flexible rubber layers, or combinations of foam and rubber layers with plastic films.

組合せ支持体が使用される場合には、プラスチックフィ
ルムは一般に光感受性層に隣接せしめられる。そのよう
な支持体の例としては1重合体フィルム例えばポリエチ
レンテレフタレート、炎処理ポリエチレンテレフタレー
ト、電子放電処理ポリエチレンテレフタレート、ボリイ
ミ、ド例えばここに参照として包含されている米国特許
第3,179,634号明細書に開示のフィルムその他
、−および薄い金属シート例えばアルミニウム、錫めっ
きスチール(つや消しまたは光沢性)があげられる。重
合体支持体は一般に0.001インチ〜0.00フイン
チ(0,025〜0.18陶)の範囲の厚さを有してい
る。金属支持体は一般にはアルミニウムに対しては0.
010〜0.0115インチ(0,25〜0.29m)
、そして錨めつきスチールに対しては0.008〜o、
oioインチ(0,20〜0.25■)の範囲の厚さを
有している。フオーム支持体の例としては開放および閉
鎖セルフオーム例えばポリ塩化ビニル、ポリウレタン、
エチレンポリエンジエンゴム、ネオプレンその他があげ
られる。
When a combination support is used, the plastic film is generally adjacent to the photosensitive layer. Examples of such supports include monopolymer films such as polyethylene terephthalate, flame-treated polyethylene terephthalate, electron discharge treated polyethylene terephthalate, polyethylene terephthalate, polymeric films, etc., such as U.S. Pat. No. 3,179,634, incorporated herein by reference. and thin metal sheets such as aluminum, tin-plated steel (brushed or glossy). The polymeric support generally has a thickness in the range of 0.001 inch to 0.00 inch (0.025 to 0.18 inch). The metal support is generally 0.0% for aluminum.
010~0.0115 inch (0.25~0.29m)
, and 0.008~o for anchored steel,
The thickness ranges from 0.20 to 0.25 mm. Examples of foam supports include open and closed self-containing foams such as polyvinyl chloride, polyurethane,
Examples include ethylene polyene diene rubber, neoprene, and others.

圧縮性コムの例としてはスチレン/イソプレンブロック
共重合体、ブタジェン/アクリロニトリル共重合体、天
然ゴムその他があけられる。
Examples of compressible combs include styrene/isoprene block copolymers, butadiene/acrylonitrile copolymers, natural rubber, and others.

本明細書に開示の光感受性組成物はそれらの未露光状態
においては光感受性組成物の重合体結合剤成分のカルボ
キシル含量によって水性、半水性塩基性または溶媒溶液
中で現像可能である。この光感受性層は0.005〜0
.250インチ(約0.13〜6.35m)の範囲また
はそれ以上の厚さである。
The photosensitive compositions disclosed herein are developable in their unexposed state in aqueous, semi-aqueous basic or solvent solutions depending on the carboxyl content of the polymeric binder component of the photosensitive composition. This photosensitive layer is 0.005 to 0
.. Thickness ranges from 250 inches (approximately 0.13 to 6.35 m) or greater.

光感受性弾性体状組成物の一つの本質的成分は、約20
,000〜約75,000の範囲、好ましくは約25,
000〜約50,000の範囲の数平均分子量(Mn 
)を有する高分子量ブタジェン/アクリロニトリル共重
合体(a)である。本明細書記載の重合体に対するin
はポリブタジェン標準を使用したゲル透過クロマトグラ
フィーによシ測定することができる。この重合体のアク
リロニトリル含量は約10〜約50重flt%、好1し
くは約15〜約40%に変動する。場合によりこの共重
合体はまた0〜約15重債チのカルボキシル含量を有し
ている。この共重合体がカルボキシル基を含有している
場合にはそのカルボキシル含量は好ましくは約1〜約1
5重量%、最も好ましくは約2〜約10重#チ゛の範囲
である。この共重合体は全組成物重量基準で約55〜9
0重i%、そして好ましくは約60〜約75m算:%量
で存在せしめる。特にフレクツグラフィープレート用の
光感受性エレメントに充分な可撓性と物理的一体性を与
え不ためには少くとも約55重量−〇共重合体が必要で
ある。
One essential component of the photosensitive elastomeric composition is about 20
,000 to about 75,000, preferably about 25,000,
Number average molecular weight (Mn) ranging from 000 to about 50,000
) is a high molecular weight butadiene/acrylonitrile copolymer (a). in for the polymers described herein.
can be determined by gel permeation chromatography using polybutadiene standards. The acrylonitrile content of the polymer varies from about 10 to about 50 weight percent, preferably from about 15 to about 40%. Optionally, the copolymer also has a carboxyl content of 0 to about 15%. If the copolymer contains carboxyl groups, the carboxyl content is preferably from about 1 to about 1
5% by weight, most preferably in the range of about 2 to about 10% by weight. The copolymer is about 55-9% by weight of the total composition.
It is present in an amount of 0% by weight, and preferably from about 60 to about 75%. At least about 55% by weight copolymer is required to provide sufficient flexibility and physical integrity to the photosensitive element, particularly for flexography plates.

カルボキシル基はカルボキシル含有単伊体例えばアクリ
ルまたはメタクリル酸またはカルボキシル含有群に変換
可能な単量体例えばマレイン酸無水物またはメチルメタ
クリレートを重合過程に加えることによって高分子量共
重合体中に包含させることができる。そのような重合体
はいくつかの源から例えばB、F、 GOOdrloh
Chemlca、1社から[ハイカー(Hycar■)
」の商品名で市場的に入手可能である。
Carboxyl groups can be incorporated into high molecular weight copolymers by adding carboxyl-containing monomers such as acrylic or methacrylic acid or monomers convertible to carboxyl-containing groups such as maleic anhydride or methyl methacrylate to the polymerization process. can. Such polymers come from several sources such as B, F, GOOdrloh
Chemlca, from one company [Hycar■]
It is commercially available under the trade name ``.

本発明の光感受性組成物のその他の本漬的成分は少くと
も1個の末端エチレン基を含有する非ガス状エチレン性
不飽和化合物(b)である。この化合物は遊離ラジカル
開始連鎖砥長付加重合によって高分子量重合体を生成さ
セうるものでありかつ前記高分子量重合体(a)と相客
性のものであるべきである。適当なエチレン性不飽和化
合物の一つの群としてはアルコールの不飽和エステル特
にα−メチレンカルボン酸およびtmα−メチレンカル
ボン酸とのそのようなエステル、より特別にはアルキレ
ンポリオールとポリアルキレンポリオールのそのような
エステル。
Another essential ingredient of the photosensitive compositions of the invention is a non-gaseous ethylenically unsaturated compound (b) containing at least one terminal ethylene group. The compound should be capable of forming a high molecular weight polymer by free radical initiated chain length addition polymerization and be compatible with the high molecular weight polymer (a). One group of suitable ethylenically unsaturated compounds include unsaturated esters of alcohols, especially such esters with α-methylenecarboxylic acid and tmα-methylenecarboxylic acid, and more particularly such esters of alkylene polyols and polyalkylene polyols. Esther.

そして最も特別には2〜15個の炭素原子を含有スルア
ルキレンポリオールまたは1〜10個のエーテル結合を
含有するポリアルキレンエーテルポリオールまたはグリ
コールから製造されたアルキレンポリオールジおよびト
リアクリレートおよびボ゛リアルキレンボリオールジお
よびトリアクリレートがあけられる。
and most particularly alkylene polyol di- and triacrylates and realkylene polyols made from sulalkylene polyols containing 2 to 15 carbon atoms or polyalkylene ether polyols or glycols containing 1 to 10 ether linkages. Ordi and triacrylates are drilled.

次の特定の化食物がこの群のその他の例である。第三級
ブチルアクリレートおよびメタクリレ−・)、  1.
5−ベンタンジオールジアクリレートおよびジメタクリ
レート、 N、N−ジエチルアミノエチルアクリレート
およびメタクリレート、エチレングリコールジアクリレ
ートおよびジメタクリレー)%  1,4−ブタンジオ
ールジアクリレートおよびジメタクリレート、ジエチレ
ングリコールジアクリレートおよびジメタクリレート、
ヘキサメチレングリコールジアクリレートおよびジメタ
クリレー)、  1.3−プロパンジオールジアクリレ
ートおよびジメタクリレート、デカメチレングリコール
ジアクリレートおよびジメタクリレー)、1.4−シク
ロヘキサンジオールジアクリレートおよびジメタクリ1
/−ト、2.2−ジメチロールプロパンジアクリレート
およびジメタクリレート、グリセロールジアクリレート
およびジメタクリレート、トリプロピレングリコールジ
アクリレートおよびジメタクリレート、グリセロールト
リアクリレートおよびトリメタフIJL’ −ト、トリ
メチロールプロパントリアクリレートおよびトリメタク
リレ−ト、kンタエリスリトールトリアクリレートおよ
びトリメタクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロ
ールプロパントリアクリレートおよびトリメタクリレー
ト、および米国特許第3,380,831号明細書開示
の同様の化合物、2,2−ジ(p−ヒドロキジフェニル
)゛フロパンジアクリレート、kンタエ5リスリトール
テトラアクリレートおよびテトラメタクリレート、2,
2−ジー(p−ヒドロキシフエニ\(ル)フロパンジメ
タクリレート、トリエチレング匪コールシア、クリレー
ト、ポリオキシエチル−2,2−ジー(p−ヒドロキシ
フェニル)フロパンジメタクリレート、ビスフェノール
Aのジ(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロピ
ル)エーテル、ビスフェノールAのジ(2−メタクリル
オキシエチル)エーテル。
The following specific fossil foods are other examples of this group. Tertiary butyl acrylate and methacrylate), 1.
5-bentanediol diacrylate and dimethacrylate, N,N-diethylaminoethyl acrylate and methacrylate, ethylene glycol diacrylate and dimethacrylate)% 1,4-butanediol diacrylate and dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate and dimethacrylate,
hexamethylene glycol diacrylate and dimethacrylate), 1,3-propanediol diacrylate and dimethacrylate, decamethylene glycol diacrylate and dimethacrylate), 1,4-cyclohexanediol diacrylate and dimethacrylate 1
/-t, 2,2-dimethylolpropane diacrylate and dimethacrylate, glycerol diacrylate and dimethacrylate, tripropylene glycol diacrylate and dimethacrylate, glycerol triacrylate and trimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate and trimethacrylate 2,2-di(p -Hydroxydiphenyl) fluoropane diacrylate, 5 lythritol tetraacrylate and tetramethacrylate, 2,
2-di(p-hydroxyphenyl)furopane dimethacrylate, triethylene colcia, acrylate, polyoxyethyl-2,2-di(p-hydroxyphenyl)furopane dimethacrylate, bisphenol A di(3-methacrylate) oxy-2-hydroxypropyl) ether, di(2-methacryloxyethyl) ether of bisphenol A.

eメ、フェノールAのジ(3−アクリルオキシ−2−ヒ
ドロキシプロピル)エーテル、ビスフェノールAのジ(
2−アクリルオキシェチ、ル)エーテル、テトラクロロ
ビスフェノールAのジ(5−メタクリルオキシ−2−ヒ
ドロキシプロピル)゛エーテル、テト、ラクロロービス
フェノールAのジ(2−メタクリルオキシエチル)エー
テル、テトラブロモビスフェノールAのジ(3−メタク
リルオキシ−2−ヒドロキシプロピル)エーテル、テト
ラブロモビスフェノールAのジ(2−メタクリルオキシ
エチル)エーテル、1.4−ブタンジオールのジ(3−
メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロピル)エーテ、
ル、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリオ
キシプロピルトリメチロールプロパントリアクリレート
、ブチレングリコールジアクリレートおよびジメタクリ
レート、  j、2.4−ブタントリオールトリアクリ
レートおよびトリメタクリレート。
eMe, phenol A di(3-acryloxy-2-hydroxypropyl) ether, bisphenol A di(3-acryloxy-2-hydroxypropyl) ether,
2-acryloxyethyl)ether, di(5-methacryloxy-2-hydroxypropyl)ether of tetrachlorobisphenol A, tet, di(2-methacryloxyethyl)ether of lachlorobisphenol A, tetrabromo Di(3-methacryloxy-2-hydroxypropyl) ether of bisphenol A, di(2-methacryloxyethyl) ether of tetrabromobisphenol A, di(3-methacryloxyethyl) ether of 1,4-butanediol
methacryloxy-2-hydroxypropyl)ether,
j, 2,4-butanetriol triacrylate and trimethacrylate.

2.2.4− トリメチル−1,6−インタンシオール
ジアクリレートおよびジメタクリレート% 1−7土ニ
ルエチレン−1,2−ジメタクリレート、ジアリルフマ
レート、スチレンs  1,4−ベンゼンジオールジメ
タクリレート、  1.j−ジインプロペニルベンゼン
および1)3#5− ) !Jイソプロペニルベンゼン 芳香族ポリヒトミキシ化合物例えばビスフェノール、ノ
ボラックおよび同様の化合物例えはここに参考として包
含されている米国特許第3.661,576号明細書記
載のものから導かれたジェポキシポリエーテルのジアク
リレートおよびジメタクリレートエステル例えば分子量
200〜500のポリエチレングリコールのビスアクリ
レートおよびメタクリレートその他もまた有用である。
2.2.4-Trimethyl-1,6-intanesiol diacrylate and dimethacrylate % 1-7-earthylethylene-1,2-dimethacrylate, diallyl fumarate, styrene s 1,4-benzenediol dimethacrylate, 1. j-diimpropenylbenzene and 1)3#5-)! J isopropenylbenzene aromatic polyhuman mixtures such as bisphenols, novolacs and similar compounds, such as dijepoxy polyethers derived from those described in U.S. Pat. No. 3,661,576, which is hereby incorporated by reference. Also useful are acrylate and dimethacrylate esters, such as bisacrylates and methacrylates of polyethylene glycols with molecular weights from 200 to 500, and others.

適当なエチレン性不飽和化合物のその他の群としてはこ
こに参考として包含されている米国特許第2,927,
022号明細書開示の化合物例えは特に末端結合として
存在している場合の複数個の付加重合性エチレン結合を
有するもの、そして特にそのような結合の少くとも1個
そして好ましくはそのほとんどが炭素−炭素二重結合お
よび炭素をヘテロ原子(例えば窒素、酸素および硫黄)
との二重結合を含む二重結合炭素と共役しているものが
あげられる。好ましいものはエチレン性不飽和基特にビ
ニリデン基がエステルまたはアミド構造と共役している
ものである。
Other groups of suitable ethylenically unsaturated compounds include U.S. Pat. No. 2,927, incorporated herein by reference;
The compounds disclosed in '022 are particularly those having a plurality of addition-polymerizable ethylene bonds when present as terminal bonds, and in particular those in which at least one and preferably most of such bonds are carbon-carbon- Carbon double bonds and carbon heteroatoms (e.g. nitrogen, oxygen and sulfur)
Examples include those conjugated with a double bond carbon containing a double bond with. Preferred are those in which an ethylenically unsaturated group, especially a vinylidene group, is conjugated with an ester or amide structure.

そのような化合物の特定例としては不飽和アミド特にα
−メチレンカルボン酸と特にα、ω−ジアミンおよび酸
素中断ω−ジアミンとのアミド例、tばメチレンビスア
クリルアミド、メチレンビスメタクリルアミド、エチレ
ンビスメタクリルアミド、1,6−へキサメチレンビス
−アクリルアミド、ジエチレントリアミントリスメタク
リルアミド、ビス(メタクリルアミドプロポキシ)エタ
ン、β−メタクリルアミドエチルメタクリレ−)、N−
(β−ヒドロキシエチル)−β−(メタクリルアミド)
エチルアクリレート、およびN、N−ビス(β−メタク
リルオキシェチル)アクリルアミド、ビニルエステル側
光ばジビニルサクシネート、ジビニルアジペート、ジビ
ニルフタレート、シヒニルテレフタレート、ジビニルベ
ン上イー1,3−ジスルホネート、およびジビニルブタ
ン−1,4−ジスルホネート、ジアリルフマレートその
他があげられる。
Specific examples of such compounds include unsaturated amides, especially α
- Examples of amides of methylenecarboxylic acids with α,ω-diamines and oxygen-interrupted ω-diamines, such as methylenebisacrylamide, methylenebismethacrylamide, ethylenebismethacrylamide, 1,6-hexamethylenebis-acrylamide, diethylenetriamine Tris methacrylamide, bis(methacrylamidopropoxy)ethane, β-methacrylamidoethyl methacrylate), N-
(β-hydroxyethyl)-β-(methacrylamide)
Ethyl acrylate, and N,N-bis(β-methacryloxyethyl)acrylamide, vinyl ester difluorophores divinyl succinate, divinyl adipate, divinyl phthalate, cyhinyl terephthalate, divinyl benyl 1,3-disulfonate, and divinyl Examples include butane-1,4-disulfonate, diallyl fumarate, and others.

使用しうる+の他のエチレン性不飽和化合物としては1
、スチレンおよびその誘導体%114−ジイソプロはニ
ルベンゼン、1,3.5−トリイソプロペニルベンゼン
、イタコン酸無水物のヒドロキシエチルアクリレートと
のアダクト(付加物) 、(1+ 1 ) 、イタコン
酸無水物と末端アミノ基を含有する液体ブタジェン/ア
クリロニトリル重合体のアダクト、およびイタコン酸無
水物とジェポキシポリエーテルのジアクリレートおよび
ジメタクリレートエステルとの米国特許第5.661,
576号明細誉記載のアダクト、末端お裏び懸垂ビニル
基を含有するポリブタジェンおよびブタジェン/アクリ
ロニトリル共重合体および不飽和アルデヒド例えばソル
ブアルデヒド(2,4−へキサジェナール)があげられ
る。
Other ethylenically unsaturated compounds that can be used include 1
, styrene and its derivatives% 114-diisopro is an adduct of nylbenzene, 1,3.5-triisopropenylbenzene, itaconic anhydride with hydroxyethyl acrylate, (1+1), itaconic anhydride and terminal Adducts of liquid butadiene/acrylonitrile polymers containing amino groups and diacrylate and dimethacrylate esters of itaconic anhydride and jepoxy polyethers, US Pat. No. 5,661,
576, polybutadiene and butadiene/acrylonitrile copolymers containing terminal and pendant vinyl groups, and unsaturated aldehydes such as sorbaldehyde (2,4-hexagenal).

水性塩基性現像性系が包含される場合には、水浴性すな
わちカルボキシルまたはその他のアルカリ反応性基を含
有するエチレン性不飽和化合物が特に適当である。更に
米国特許第3,043,805号および同第2,929
,710号各明細誉の重合性エチレン性不飽和11合体
および同様の物質を単独かまたはその他の物質と混合し
て使用しうる。
When aqueous basic developable systems are involved, water-bathable or ethylenically unsaturated compounds containing carboxyl or other alkali-reactive groups are particularly suitable. Further, U.S. Pat. No. 3,043,805 and U.S. Pat. No. 2,929
, 710, and similar materials may be used alone or in admixture with other materials.

エチレンオキシドおよび多価ヒドロキシ化合物のアダク
トのアクリルおよびメタクリルエステル例えば米国特許
第3,380,831号明細書記載のものもまた有用で
ある。米国特許第3.418,295号および同第3,
448,089号各明細書に開示の光交叉結合性重合体
もまた使用しうる。これら米国特許のすべてはここに参
考として包含されている。
Also useful are acrylic and methacrylic esters of ethylene oxide and adducts of polyhydric hydroxy compounds, such as those described in US Pat. No. 3,380,831. U.S. Pat. No. 3,418,295 and U.S. Pat.
The optically cross-linking polymers disclosed in No. 448,089 may also be used. All of these US patents are incorporated herein by reference.

添加される不飽和化合物の量は組成物の全重量基準で約
2〜約40重量−の範囲にあるべきである。最適結果の
ための特定の量は使用される特定の重合体によシ変動す
る。好ましくは不飽和化合物の量は約5〜約25重it
チの範囲にある。
The amount of unsaturated compound added should range from about 2 to about 40 percent by weight, based on the total weight of the composition. The specific amount for optimal results will vary depending on the particular polymer used. Preferably the amount of unsaturated compounds is from about 5 to about 25 parts by weight.
It is within the range of

エチレン性不飽和化合物は好ましくは通常の圧力で約1
00℃以上の沸点を有している。最も好iじいエチレン
性不飽和化合物はトリエチレングリコールジアクリレー
ト、トリエチレングリコールジメタクリレート、ヘキサ
メチレングリコールジメタクリレートおよびヘキサメチ
レングリコールジアクリレートである。
The ethylenically unsaturated compound is preferably about 1
It has a boiling point of 00°C or higher. The most preferred ethylenically unsaturated compounds are triethylene glycol diacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, hexamethylene glycol dimethacrylate and hexamethylene glycol diacrylate.

本発明の光感受性組成物は前記の薄層の形態の場合には
実質的に活性線放射を散乱させない。・実質的に透明な
混合物すなわち非放射散乱性混合物を確実にさせるため
には、ブタジェン共重合体および重合体成分は使用され
る比率においてエチレン性不飽和化合物と相容性であ′
るべきでありそして好ましくはこの中に可溶性であるべ
きである。
The photosensitive compositions of the present invention do not substantially scatter actinic radiation when in the form of a thin layer as described above. - The butadiene copolymer and polymer components are compatible with the ethylenically unsaturated compound in the proportions used to ensure a substantially transparent mixture, i.e. a non-radiative scattering mixture.
and preferably should be soluble therein.

「相容性」とは2種またはそれ以上の成分が相互に有意
量の活性線放射散乱を生ぜしめることなく分散状態に留
まる能力を意味している。
"Compatibility" refers to the ability of two or more components to remain dispersed without causing significant amounts of actinic radiation scattering from each other.

相客性は往々にして成分の相対比によシ限定され、そし
て非相容性は光感受性組成物中のくもり(haze)の
形成により証明される。若干のわずかなくもシは印刷レ
リーフの製造においては。
Compatibility is often limited by the relative proportions of the components, and incompatibility is evidenced by the formation of a haze in the photosensitive composition. Some slight spiders may occur in the production of printed reliefs.

露光の前または露光の間はそのような組成物から許容さ
れうる。しかしながら微細な細部が所望される場せに°
は、くもシは完全に除外されるべきである。エチレン性
不飽和化合物の量または使用されるすべてのその他゛の
成分の量は従って望ましくない光散乱またはくもりを生
成させない濃度に限定される。
Such compositions may be obtained before or during exposure. However, in situations where fine details are desired
spiders should be completely excluded. The amount of ethylenically unsaturated compound, or any other components used, is therefore limited to concentrations that do not produce undesirable light scattering or clouding.

本発明の光感受性組成物のその他の本漬的成分は有機放
射感受性遊離ラジカル生成性開始剤または開始剤糸(Q
)である。実際には不飽和化合物の重合を開始させそし
て重合を過度に停止させないすべての有機放射感受性遊
離ラジカル生成性開始剤系を本発明の光感受性組成物中
に使用することができる。「有機」なる表現は本明細書
においては、炭素、および酸素、水素、窒素、硫黄およ
びハロゲン91種またはそれ以上を含有するがしかし金
属は含有しない化合物を意味して使用されている。像様
露光に使用されるプロセス涛明画は通常の活性線放射源
から生ずる熱を伝達しそして光感受性組成物は高温結果
を生ぜしめる条件下に通常製造されるのであ3るから、
好ましい遊離ラジカル生成性開始剤化合物は85℃以下
、そしてより好ましくは185℃以下では熱的に不活性
である。それらは比較的短時間の露光で吸収される放射
量の影響下に所望の重合または交叉結合を開始させるに
必要な程度に組成物中に分散可能であるべきである。
Other essential ingredients of the photosensitive compositions of the present invention are organic radiation-sensitive free radical-generating initiators or initiator threads (Q
). Virtually any organic radiation-sensitive free radical-generating initiator system that initiates and does not unduly terminate the polymerization of unsaturated compounds can be used in the photosensitive compositions of the present invention. The term "organic" is used herein to refer to compounds containing carbon and 91 or more oxygen, hydrogen, nitrogen, sulfur and halogens, but no metals. Because the process images used for imagewise exposure transfer heat generated from conventional sources of actinic radiation and the photosensitive compositions are typically manufactured under conditions that produce high temperature results,
Preferred free radical-generating initiator compounds are thermally inert below 85°C, and more preferably below 185°C. They should be dispersible in the composition to the extent necessary to initiate the desired polymerization or cross-linking under the influence of the amount of radiation absorbed in a relatively short exposure.

これら開始剤は溶媒不含光感受性組成物の全重量基準で
釣[1,001〜約10重量斧、そして好ましくは約0
.1〜約5重量−の量で有用である。
These initiators are based on the total weight of the solvent-free photosensitive composition, and preferably range from about 1,001 to about 10% by weight, and preferably from about 0.
.. Amounts of 1 to about 5 parts by weight are useful.

この遊離ラジカル生成性開始剤系は約200p〜約80
.0OAの範囲の放射を吸収し、そして約2500〜約
8000Aそして好ましくは約2500〜約500OA
の範囲内に少くとも約50の分子吸光係数を有する活性
線放射吸収バンドを有する少くとも1種の成分を有して
いる。「活性線放射吸収バンド」とは不飽和物質の重合
または交叉結合を開始させるに必要な遊離ラジカルを生
成させるべく活性な放射バンドを意味し匹いる。
This free radical-generating initiator system has about 200p to about 80p
.. absorbs radiation in the range of 0OA and about 2500 to about 8000A and preferably about 2500 to about 500OA
at least one component having an actinic radiation absorption band having a molecular extinction coefficient of at least about 50 within the range of . By "actinic radiation absorption band" is meant a band of radiation active to generate the free radicals necessary to initiate polymerization or cross-linking of unsaturated materials.

遊離ラジカル生成性開始剤系は放射により活性化された
場合直接遊離ラジカルを与える1yaまたはそれ以上の
化合物を包含しうる。それはまた放射によシ活性化され
た増感剤によってそうされた後でその一つが遊離ラジカ
ルを生成するような複数の化合物をも包含しうる。
Free radical-generating initiator systems can include 1 ya or more compounds that directly provide free radicals when activated by radiation. It may also include multiple compounds, one of which generates free radicals after doing so with a radiation-activated sensitizer.

本゛発明の実施にあたっては、多数のそのような遊離ラ
ジカル生成性化合物を使用でき、そしスそれらとしては
芳香族ケトン例えばベンゾフェノン、ミヒラーのケトン
5(4t4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノ2
3%414’−ビス(ジエチルアミノ)ベンシフ星ノン
、4−アクリルオキシ−4′−ジメチルアミノベンゾフ
ェノン、4−アクリルオキシ−4′−ジェチ・ルアミノ
ベンゾフェノン、4−メトキシ−4′−ジメチルアミノ
ベンゾフェノン、2−フェニル−2,2−ジメトキシア
セトフェノン(2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニ
ルエタノン)、2−エチルアントラキノン、フエナント
ラキノン、2−第3級ブチルアントラキノン、1.2−
−’ンズアントラキノン、2,6−ベンズアントラキノ
ン、216−シクロロナフトキノン、ベンジルジメチル
アセタールおよびその他の芳香族ケトン、ベンゾイン、
ベンゾインエーテル例えばベンゾインメチルエーテル、
ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエー
テルおよびベンゾインフェニルエーテル、メチルベンゾ
イン、エチルベンゾインおよびその他のベンゾインおよ
び2.4.5− トIJアリールイミダゾリルニ12体
例えば2−(0−クロロフェニル) −4,5−ジフェ
ニルイミダゾリルニ量体、2−(o−クロロフェニル−
4,5−i;(m−メ)キシフェニル)イミfゾy) 
ルニ1体、2− (o−フルオロフェニル) −4,5
−ジフェニルイミダゾリルニ量体、2−(0−メトキシ
フェニル) −4,5−ジフェニルイミダゾリルニ量体
s  2−(p−メトキシフェニル) −4,5−ジフ
ェニルイミダゾリルニ貫二体、2.4− シ(p−メト
キシフェニル)−5−フェニルイミダゾリルニ量体、2
− (2,4’−ジメトキシフェニル) −4,5−ジ
フェニルイミダゾリルニ量体、2− (p−メチルメル
カプトフェニル) −4,5−ジフェニルイミダソリル
ニ量体、その他の米国特許第3,479,185号およ
び同第3,784,557号および英国特許第997.
396号および同第1,047,569号各明細書に開
示のものがあけられる。これらの特許はここに参考とし
て包含される。
A large number of such free radical-generating compounds can be used in the practice of the present invention, including aromatic ketones such as benzophenone, Michler's ketone 5 (4t4'-bis(dimethylamino)benzopheno 2
3% 414'-bis(diethylamino)bensifune, 4-acryloxy-4'-dimethylaminobenzophenone, 4-acryloxy-4'-jethylaminobenzophenone, 4-methoxy-4'-dimethylaminobenzophenone, 2-phenyl-2,2-dimethoxyacetophenone (2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethanone), 2-ethylanthraquinone, phenanthraquinone, 2-tertiary butylanthraquinone, 1.2-
-'nzanthraquinone, 2,6-benzanthraquinone, 216-cyclonaphthoquinone, benzyl dimethyl acetal and other aromatic ketones, benzoin,
benzoin ethers such as benzoin methyl ether,
Benzoin ethyl ether, benzoin isobutyl ether and benzoin phenyl ether, methylbenzoin, ethylbenzoin and other benzoins and 2.4.5-arylimidazolyl 12 compounds, such as 2-(0-chlorophenyl)-4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2-(o-chlorophenyl-
4,5-i; (m-me)xyphenyl)imizoy)
luni, 2-(o-fluorophenyl)-4,5
-diphenylimidazolyl dimer, 2-(0-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer s 2-(p-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2.4- cy(p-methoxyphenyl)-5-phenylimidazolyl dimer, 2
- (2,4'-dimethoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2- (p-methylmercaptophenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer, and other U.S. Pat. 479,185 and 3,784,557 and British Patent No. 997.
No. 396 and No. 1,047,569 are disclosed. These patents are incorporated herein by reference.

イミダゾリルニ量体は遊離ラジカル生成性電子ドナー(
供与体)例えば2−メルカプトベンズイソキサゾール、
ロイコクリスタルバイオレットまたはトリ(4−ジエチ
ルアミノ−2−メチルフェニル)メタンと共に使用する
ことができる。ミヒラーのケトンのような増感剤を加え
ることができる。種々のエネルギー伝達染料例えばロー
ズベンガルおよびエオシンYもまた使用しうる。適当な
開示剤のその他の例は、ここに参考として包含されてい
る米国特許第2,760,865号明細書に開示されて
いる。
The imidazolyl dimer is a free radical-generating electron donor (
donor) e.g. 2-mercaptobenzisoxazole,
Can be used with leuco crystal violet or tri(4-diethylamino-2-methylphenyl)methane. Sensitizers such as Michler's ketones can be added. Various energy transfer dyes such as rose bengal and eosin Y may also be used. Other examples of suitable disclosing agents are disclosed in US Pat. No. 2,760,865, which is incorporated herein by reference.

この光感受性組成物にはまた小量例えば溶媒不含光感受
性組成物の全重量基準で例えば0.001〜2.0重量
−の熱付加重合阻害剤を含有させることができる。適当
な阻害剤としてはヒドロキノンおよびアルキルおよびア
リール置換ヒドロキノン、2.6一ジ第3級ブチルー4
−メチルフェノール、p−メトキシフェノール、第3級
ブチルピロカテコール、ヒロガロール、β−ナフトール
、2.6一ジ第6級ブチルーp−クレゾール、フェノチ
アジン、ピリジン、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼン
、およびここに径間として包含さ′れている米国特許第
4,168.9 s 2号明細書に記載のニトロ゛ソニ
量体阻害剤系があげられる。その他の有用な阻害剤とし
てはp−トルキノン、クロラニルおよびチアジン染料側
1fチオニンブルーG(C工52025)、メチレンブ
ルーB・(C工52015)およびトルイジンブ、ルー
(C工52040)がiげられる。そのような光感受性
組・放物は阻害剤を除去させることなく光重合または光
交叉結合させることができる。好ましい阻害剤は2,6
一ジ第3級ブチルー4−メチルフ′エノールお工びp−
メトキシフェノールである。
The photosensitive composition may also contain a small amount of a thermal addition polymerization inhibitor, for example from 0.001 to 2.0 by weight, based on the total weight of the solvent-free photosensitive composition. Suitable inhibitors include hydroquinone and alkyl- and aryl-substituted hydroquinones, 2.6-di-tert-butyl-4
- methylphenol, p-methoxyphenol, tertiary-butylpyrocatechol, hyrogallol, β-naphthol, 2.6-di6-butyl-p-cresol, phenothiazine, pyridine, nitrobenzene, dinitrobenzene, and Mention may be made of the nitrogenous dimer inhibitor systems described in incorporated US Pat. No. 4,168.9s2. Other useful inhibitors include p-toluquinone, chloranil and thiazine dyes such as Thionin Blue G (C 52025), Methylene Blue B (C 52015) and Toluidine Blue (C 52040). Such photosensitive paraboloids can be photopolymerized or photocrosslinked without removing the inhibitor. Preferred inhibitors are 2,6
1-di-tertiary-butyl-4-methylphenol p-
It is methoxyphenol.

本発明の光感受性組成物およびそれから對遺された印刷
レリーフの酸素およびオゾン耐性は適当量の゛相容性の
周知の酸化防止剤および/またはオゾン化防止剤を混入
させることによって改善できる。本発明に有用な酸化防
止剤としてはアルキル化フェノール例えば2,6一ジ第
5級ブチルー4−メチルフェノール、アルキル化ヒスフ
ェノール側光Id2.2−メチレンビス−(4−メチル
−6−第6級ブチ・ルフェノール)、1.3.5− )
リスチル−2,4,6−)リス(3,5−ジ第6級ブチ
ル′−4−ヒドロキシベンジル)ハンゼン、2−(4−
ヒドロキシ−3,5−ジ第3級ブチルアニリノ) −4
,6−ビス(n−オクチルチオ) −1,3,5−) 
IJチアジン重合トリメチルジヒドロキノンおよびジラ
ウリルチオプロピオネートがあげられる。
The oxygen and ozone resistance of the photosensitive compositions of the invention and of the printed reliefs left therefrom can be improved by incorporating suitable amounts of compatible, well-known antioxidants and/or antiozonants. Antioxidants useful in the present invention include alkylated phenols such as 2,6-di-5-butyl-4-methylphenol, alkylated hisphenols, 2-methylenebis-(4-methyl-6-6- Butyluphenol), 1.3.5-)
Listyl-2,4,6-)Lis(3,5-di6th-butyl'-4-hydroxybenzyl)Hanzen, 2-(4-
Hydroxy-3,5-ditertiary butylanilino) -4
,6-bis(n-octylthio)-1,3,5-)
Examples include IJ thiazine polymerized trimethyldihydroquinone and dilaurylthiopropionate.

本発明に有用なオゾン化防止剤としては微品性ワックス
およびパラフィンワックス、ジブチルチオ尿素、1.1
.3,3−テトラメチル−2−チオ尿素、オゾン化防止
剤AFD (ナフトン社の製品)、ノルボルネン例えば
ジー5−ノルボルネノー2−メチルアジに一ト、ジー5
−ノルボルネン−2−メチルテレフタレート、オゾンプ
ロテクター80(ライヒホールド・ケミカル社製品)、
N−フェニル−2−ナフチルアミン、不飽和植物油例え
ばなたね油、あまに油、サフラワー油、重合体および樹
脂例えばエチレン/ビニルアセテート共重合体樹脂、塩
素化ポリエチレン、クロロスルホン化ポリエチレン、塩
素化エチレン/メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、
ポリペンタジェン、ポリブタジェン、フルフラール94
 体樹脂、エチレン/プロピレン/ジエンゴム、口′シ
ンのジエチレングリコールエステルおよびα−メチルス
チレン/ヒニルトルエン共重合体があけられる。生成さ
れた印刷レリーフのオゾン耐性はまた使用前に高温でそ
れをやきなまじさせることによって改善しうる。
Antiozonants useful in the present invention include fine waxes and paraffin waxes, dibutylthiourea, 1.1
.. 3,3-tetramethyl-2-thiourea, antiozonant AFD (product of Nafton), norbornene e.g.
- norbornene-2-methyl terephthalate, Ozone Protector 80 (product of Reichhold Chemical Co.),
N-phenyl-2-naphthylamine, unsaturated vegetable oils such as rapeseed oil, linseed oil, safflower oil, polymers and resins such as ethylene/vinyl acetate copolymer resins, chlorinated polyethylene, chlorosulfonated polyethylene, chlorinated ethylene/methacrylic acid copolymer, polyurethane,
Polypentadiene, polybutadiene, furfural 94
Polymer resins, ethylene/propylene/diene rubbers, diethylene glycol esters and α-methylstyrene/hinyltoluene copolymers are used. The ozone resistance of the printed relief produced can also be improved by anealing it at elevated temperatures before use.

所望によυ、光感受性物質の露光に使用される波長では
実質的に透明なそして活性線放射を散乱させない非混和
性の重合体状または非重合体状の有機または無機充填剤
または補強剤例えばポリスチレン、親有機性シリカ、ベ
ントナイト、シリカ、粉末ガラス、コロイドカーボンな
らびに種々のタイプの染料および顔料をこの光感受性組
成物は含有しうる。そのような物質は弾性体状組性物の
所望の性質によって種々の量で使用される。充填剤は弾
性体層の強度の改善、タックの減少および更に着色剤と
しても有用である。
Optionally, immiscible polymeric or non-polymeric organic or inorganic fillers or reinforcing agents that are substantially transparent at the wavelengths used for exposing the photosensitizer and do not scatter actinic radiation, e.g. The photosensitive compositions may contain polystyrene, organophilic silica, bentonite, silica, powdered glass, colloidal carbon, and various types of dyes and pigments. Such materials are used in varying amounts depending on the desired properties of the elastomer. Fillers are useful in improving the strength of the elastomer layer, reducing tack, and even as colorants.

この光感受性組成物は好ましくは結合剤のガラス転移温
度を低下させそして選択的現像を容易ならしめるための
相容性可塑剤を含有する。
The photosensitive composition preferably contains a compatible plasticizer to lower the glass transition temperature of the binder and to facilitate selective development.

可塑剤は重合体結合剤と相容性の一般的可塑剤のいずれ
かであシうる。一般的可塑剤の中にはジアルキルフタレ
ート、アルキルホスフェート、ポリエチレングリコール
、ポリエチレングリコールエステルおよヒポリエチレン
グリコールエ−−y−ルがある。その他の有用な可塑剤
としてはオレイン酸、ラウリン酸その他があげられる。
The plasticizer can be any common plasticizer that is compatible with the polymeric binder. Among the common plasticizers are dialkyl phthalates, alkyl phosphates, polyethylene glycols, polyethylene glycol esters and hypopolyethylene glycol ethers. Other useful plasticizers include oleic acid, lauric acid, and others.

ポリエステル例えばポリエチレンセバケートその他は好
ましい可塑剤である。可塑剤は一般には光感受性組成物
の全固体分の重量基準で1〜15重量%で存在する。
Polyesters such as polyethylene sebacate and others are preferred plasticizers. Plasticizers are generally present in an amount of 1 to 15% by weight, based on the total solids weight of the photosensitive composition.

大発明の光感受性組成物は任意の適当な方法で各成分す
外わち(a)高分子量ブタジェン/アクリロニ) IJ
ル共重合体、(b)相容性エチレン性不飽和化合物およ
び(C)遊離ラジカル生成性開始剤系を混合することに
よシ製造することができる。
The photosensitive composition of the present invention can be prepared by combining each of the ingredients (a) high molecular weight butadiene/acryloni) in any suitable manner.
(b) a compatible ethylenically unsaturated compound and (C) a free radical-forming initiator system.

例えば流動性組成物はそれらおよびその他の所望の添加
剤を任意の順序でそして所望により溶媒例えば塩素化炭
化水素例えばメチレンクロリド、クロロホルム、メチル
クロロホルム、クローロベン七ン、トリクロロエチレン
、テトラクロロエチレンおよびクロロトルエン、ケトン
側光はメチルエチルケトン、ジエチルケトンおよびメチ
ルイソブチルケトン、芳香族炭化水累例えばベンセン、
トルエンおよびキシレンおよびテトラヒドロフランの助
けをかりて混合することによシ製造しうる。前記溶媒は
希釈剤としてアセトン、低分子量アルコール例えばメチ
ル、エチルおよびプロピルアルコールおよびエステル例
えば酢酸メチル、酢酸エチルおよび酢酸プロピルを含有
することができる。この溶媒は後で混合物または押出し
層を加熱することにより除去することができる。
For example, flowable compositions may contain these and other desired additives in any order and optionally solvents such as chlorinated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, methylchloroform, chlorobentane, trichloroethylene, tetrachloroethylene and chlorotoluene, on the ketone side. The light is methyl ethyl ketone, diethyl ketone and methyl isobutyl ketone, aromatic hydrocarbons such as benzene,
It can be prepared by mixing with the aid of toluene and xylene and tetrahydrofuran. The solvent may contain as diluent acetone, low molecular weight alcohols such as methyl, ethyl and propyl alcohol and esters such as methyl acetate, ethyl acetate and propyl acetate. This solvent can later be removed by heating the mixture or extrusion layer.

これら組成物の製造においては、通常のミル処理、混合
および溶液技術を使用することができる。特定の技術は
それぞれの成分の性質の違いによシ変動する。均質な実
質的に非放射散乱性の組成物を任意の所望の方法で層ま
たはシートに成形せしめる。例えば溶媒キャスチング、
熱プレス、カレンダーがけまたは押出しは所望の厚さの
層の製造に適当な方法である。
Conventional milling, mixing and solution techniques can be used in the manufacture of these compositions. The specific technique will vary depending on the different properties of each component. The homogeneous substantially non-radiative scattering composition is formed into layers or sheets in any desired manner. For example, solvent casting,
Hot pressing, calendering or extrusion are suitable methods for producing layers of desired thickness.

本発明の光感受性エレメントは光感受性組成物を溶媒キ
ャスチングまたは押出し、カレンダー処理または高温プ
レスによって適当な成形ホイール、ばルトまたはプラテ
ン上の光感受性層または自己支持性シートの形態とする
ことができる。この層またはシートは次いで前記可撓性
支持体表面上に積層させるεとができ、そして2これは
以下に記載のig:着剤ブレンドで接着させることがで
きる。溶液が使用される場合には、コーティングを接着
剤含有支持体上に生成させることができる。
The photosensitive elements of the present invention can be in the form of a photosensitive layer or self-supporting sheet on a suitable forming wheel, bolt or platen by solvent casting or extrusion, calendering or hot pressing of the photosensitive composition. This layer or sheet can then be laminated onto the flexible support surface and adhered with the adhesive blend described below. If a solution is used, the coating can be formed on the adhesive-containing support.

形成される光感受性層の厚さはレリーフ像中に所望され
る厚さの直接の函数であり、そしてこれは複写されるべ
き主題およびレリーフの最終的用途に依存する。例えば
厚い軟ηのレリーフはフレクツグラフィー印刷に対して
有用であり、そして薄い硬質レリーフは平版印刷に対し
て有用である。−散に光感受性層の厚さは約0.250
インチ以下である。例えばそれは約0.005〜約0.
250インチ(0,13〜0.6350)に変動しそし
てこの厚さ範囲の層が大多数の印刷プレートに使用され
る。
The thickness of the photosensitive layer formed is a direct function of the thickness desired in the relief image, and this depends on the subject matter to be reproduced and the final use of the relief. For example, thick soft η relief is useful for flexographic printing, and thin hard relief is useful for lithographic printing. - The thickness of the photosensitive layer is approximately 0.250 mm
less than an inch. For example, it may range from about 0.005 to about 0.
250 inches (0.13 to 0.6350) and layers in this thickness range are used in the majority of printing plates.

前記の光感受性層と可撓性支持1体との間には好ましく
は接着剤ブレンドの層を置くが、これは次の4a!の重
合体群から選ばれた少くとも2種の重合体を包含する。
Between said photosensitive layer and one flexible support there is preferably a layer of adhesive blend, which is described in 4a! It includes at least two kinds of polymers selected from the group of polymers.

(1)、ポリエステル樹脂。約6+2:1:5のモル比
のエチレングリコール、テレフタル酸、イソフタル酸お
よびアゼライン酸の縮合重合体で19、000の&およ
び37.000のMwを有している。
(1) Polyester resin. A condensation polymer of ethylene glycol, terephthalic acid, isophthalic acid and azelaic acid in a molar ratio of approximately 6+2:1:5 with a Mw of 19,000 & and 37,000.

(2)  ポリエステルポリウレタン樹脂。15重量%
固体分のメチルエチルケトン中でそして12rpmでブ
ルックフィールドスピンドル+5を使用して100〜1
200センチポアズのブルックフィールド粘度および5
4〜53℃範囲の接着剤活性化温度を有する結晶性熱可
塑性樹脂−c6る。このポリエステルポリウレタン樹脂
は15%の降伏点伸長、615%の破断点伸長、600
 psi (42,18に/c+++2)の400%伸
長モジュラス、釣49℃の結晶性消失温度を有している
(2) Polyester polyurethane resin. 15% by weight
100-1 in solids methyl ethyl ketone and using a Brookfield spindle +5 at 12 rpm.
Brookfield viscosity of 200 centipoise and 5
Crystalline thermoplastic resin-c6 with adhesive activation temperature ranging from 4 to 53°C. This polyester polyurethane resin has an elongation at yield of 15%, an elongation at break of 615%, and an elongation at break of 600%.
It has a 400% elongation modulus of psi (42,18 in/c++2) and a crystallinity loss temperature of 49°C.

<3)  、yvアミド樹脂。半透明の明るいコ/%り
色。
<3), yv amide resin. Translucent bright yellow/brown color.

162〜145℃の環球(ボール・アンド・リング)軟
化点、210℃で40〜60ポアズの溶融粘度、299
℃以上の発火点、1日で0.7チそして7日で1.6 
%の水吸収、460psi (32,34Kf/1yn
2)の降伏点引張り強度、450 psl(3色4Kg
/cm2)の破断点引張り強度および560%の伸長を
有する(降伏点引張り強度、破断点引張9強度および伸
長はASTM法D−1708に従って24℃で測定され
る)。
Ball-and-ring softening point of 162-145°C, melt viscosity of 40-60 poise at 210°C, 299
Ignition point above ℃, 0.7 in 1 day and 1.6 in 7 days
% water absorption, 460psi (32,34Kf/1yn
2) Tensile strength at yield point, 450 psl (3 colors 4Kg
/cm2) and an elongation of 560% (tensile strength at yield, tensile strength at break 9 strength and elongation measured at 24°C according to ASTM method D-1708).

(4)  ポリアミド樹脂。半透明の明るいコノ1り色
(4) Polyamide resin. A bright, semi-transparent color.

150〜160℃の環球軟化点、210℃で28〜68
ポアズの粘度、1日で1.5チそして7日で2.8%の
水吸収、および 一18℃   24℃  60℃ (テンシル降伏、テンシル破断および伸長はASTM法
D−1708に従って、記載の温度で測定される。) 樹脂の数平均分子量(荷n)は既知の標準例えば尚業者
には既知のポリブタジェンを使用したゲル透過クロマト
グラフィー(GPC)にょシ測定することができる。樹
脂の重量平均分子量(iw)は画業者には既知のように
して既知の標準例えばポリスチレン、ポリメタクリルラ
もポリメチルメタクリレートその他を使用した光散乱技
術の使用によ、!7測定することができる。
Ring and ball softening point at 150-160℃, 28-68 at 210℃
Poise viscosity, 1.5 inches in 1 day and 2.8% water absorption in 7 days, and -18°C - 24°C - 60°C (Tensile yield, tensile breakage and elongation are determined according to ASTM method D-1708 at the stated temperatures. The number average molecular weight (n) of the resin can be determined by gel permeation chromatography (GPC) using known standards such as polybutadiene, which is known to those skilled in the art. The weight average molecular weight (IW) of the resin is determined in a manner known to the painter by the use of light scattering techniques using known standards such as polystyrene, polymethacrylate, polymethyl methacrylate, and others! 7 can be measured.

この特定の及合体は接着剤組成物中の樹脂の全重量基準
で次の範囲すなわち (1)0〜78重量%、 (2)0〜78重量%、 (3)0〜94重量%、 (4)0〜97ffii% の範囲で接着剤ブレンド中に存在させることができる。
This particular combination is within the following ranges based on the total weight of resin in the adhesive composition: (1) 0-78% by weight; (2) 0-78% by weight; (3) 0-94% by weight; 4) Can be present in the adhesive blend in the range of 0-97ffii%.

4挿、5mおよび2種の樹脂成分を含有する好ましい接
着剤ブレンドは以下に記載されているがここに%は全樹
脂成分の重量基準である。
Preferred adhesive blends containing 4P, 5M and 2 resin components are described below, where percentages are based on the weight of all resin components.

4成分接着剤ブレンドの多範囲は次の通りである。A range of four-component adhesive blends are as follows.

(1)  25〜31重量く、好ましくは25%。(1) 25-31% by weight, preferably 25%.

(2)  ′2.5〜31重量%、好ましくは25%、
(8)  25〜19重量%、好ましくは25%、そし
て(4)  25〜1°9重量%、好ましくは25%。
(2) '2.5 to 31% by weight, preferably 25%,
(8) 25-19% by weight, preferably 25%, and (4) 25-1°9% by weight, preferably 25%.

2種の5成分接着剤ブレンドAおよびBの多範囲は次の
通シである。
A range of two five-component adhesive blends A and B are as follows.

A (1)  1〜78〜78%1.好ましくは1〜6
5%。
A (1) 1-78-78%1. Preferably 1-6
5%.

(2)1〜78重量%、好ましくは1〜65%。(2) 1 to 78% by weight, preferably 1 to 65%.

(8)  1〜94mkit:%、好ましくは1〜90
%。。
(8) 1-94mkit:%, preferably 1-90
%. .

B  (1)  1〜63重量鋒、好ましくは1〜45
%。
B (1) 1-63 weight strength, preferably 1-45
%.

(8)1〜93重f%、好ましくは1〜85%。(8) 1 to 93% by weight, preferably 1 to 85%.

謬 (4)1〜9731i−斧、好ましくは1〜90%。error (4) 1-9731i-axe, preferably 1-90%.

5alの2成分接着剤ブレンドC−Gの斧範囲は次の通
りである。Cの接着剤ブレンドが特に好ましいものであ
る。
The range of the 5al two-component adhesive blend C-G is as follows: C. adhesive blends are particularly preferred.

C<1)7〜77%、好ましくは15〜30%最も好ま
しくは30%および (3195〜25%、好ましく は85〜5011も好
ましくは70%。
C<1) 7-77%, preferably 15-30% most preferably 30% and (3195-25%, preferably 85-5011 also preferably 70%).

D(1,)5〜60%、より好ましくは5〜3oチおよ
び(4)97〜40チ、より好ましくは95〜7o%。
D(1,) 5-60%, more preferably 5-3o and (4) 97-40o, more preferably 95-7o.

B  (1)  23〜77襲、よシ好ましくは35〜
45%および(2)77〜23%、よシ好ましくは65
〜55%0F (2)10〜60%、好ましくは25〜
50%および(4)90〜40転好ましくは75〜70
%。
B (1) 23~77 hits, preferably 35~
45% and (2) 77-23%, preferably 65
~55%0F (2) 10~60%, preferably 25~
50% and (4) 90-40 conversion, preferably 75-70
%.

G (2)  7〜72%、好ましくは15〜50%お
よび(8)93〜28%、好ましくは85〜5o%。
G (2) 7-72%, preferably 15-50% and (8) 93-28%, preferably 85-5o%.

本発明の接着剤ブレンドは少くとも3ボンド/インチ(
55,57Kf/m )、そして一般には例えば8ボン
ド/インチ(142,86Kg/m )またはそれ以上
の範囲のより大なる接着性の支持体/光感受性層接着値
を与える。これら接着値は本発明のエレメントが印刷プ
レート特にフレタッグラフイー印刷プレートとして使用
される場合に充分である。
Adhesive blends of the present invention have at least 3 bonds/inch (
55,57 Kf/m 2 ) and generally provide greater adhesive support/photosensitive layer adhesion values in the range of, for example, 8 bonds/inch (142,86 Kg/m 2 ) or more. These adhesion values are sufficient when the element according to the invention is used as a printing plate, especially as a frettage printing plate.

接着剤ブレンドは好ましくは添加剤例えばブロック形成
阻害剤、着色剤例えば染料その他を含有する。有用なブ
ロック形成阻害剤としては好ましくはポリオレフィン粒
子またはビーズまたその他の硬質粒子またはビーズ例え
ば二酸化珪素その他があげられる。表面活性剤のジオク
チルナトリ9ムスルホサクシネートを使用しうる。好ま
しいポリオレフィン物質は実施例中に記載されている。
The adhesive blend preferably contains additives such as blocking inhibitors, colorants such as dyes, and the like. Useful blocking inhibitors preferably include polyolefin particles or beads or other hard particles or beads such as silicon dioxide and the like. The surfactant dioctyl natri-9 musulfosuccinate may be used. Preferred polyolefin materials are described in the Examples.

ブロック形成阻害剤のビーズサイズは接着剤層の厚さよ
り大であシうる。その結果ビーズは接着剤ブレンドの層
の外に一部突出する。そのような構造は接着度にはほと
んどかまたは全く影響しないと考えられる。多くのタイ
プの着色剤または染料もまた接着剤層中で有用である。
The bead size of the blocking inhibitor can be larger than the thickness of the adhesive layer. As a result, the beads partially protrude outside the layer of adhesive blend. It is believed that such a structure has little or no effect on the degree of adhesion. Many types of colorants or dyes are also useful in the adhesive layer.

好ましい染料はデュポンミリングブルーBL(CIアシ
ッドブルー59)である。その他の有用な染料としては
メチレンバイオレット(CIベーシックバイオレットs
)、rラクソル」ファストブルーMBEIN (CIソ
ルベントブルー58)、「ポンタシル」ウールブルーB
L((Jアシッドブルー59またはC工50315)、
「ボンタシル」ウールブルーGL(CIアシッドブルー
102またはC工50320 )、ビクトリアピュアブ
ルーBO(CIベーシックプルーフまたはC工4259
5)、C工109レッドダイ、ローダミン3GO(CI
ベーシックレッド4)、ローダミン6GDN(CIベー
シックレッド1またはC工45160 )、ツクシン染
料(C工42510 ) 、カルコジッドグリーンS(
C工44090)およびアントラキノンブルー2GA(
CIアシッドブルー58)があげられる。
A preferred dye is DuPont Milling Blue BL (CI Acid Blue 59). Other useful dyes include methylene violet (CI Basic Violets)
), ``Raxol'' Fast Blue MBEIN (CI Solvent Blue 58), ``Pontasil'' Wool Blue B
L ((J acid blue 59 or C engineering 50315),
"Bontasil" Wool Blue GL (CI Acid Blue 102 or C-work 50320), Victoria Pure Blue BO (CI Basic Proof or C-work 4259)
5), C engineering 109 red die, Rhodamine 3GO (CI
Basic Red 4), Rhodamine 6GDN (CI Basic Red 1 or C-45160), Tsukushin Dye (C-42510), Chalcozide Green S (
C engineering 44090) and anthraquinone blue 2GA (
CI Acid Blue 58) is mentioned.

接着剤溶液は一般に次の順序で各成分(すなわち重合体
、ポリオレフィンブロック阻害剤、着色剤)を連続的に
攪拌しつつ溶媒に加えることにより製造される。有用な
溶媒としては混合物例えばメチレンクロリド/酢酸エチ
ル、メチレンクロリド/n−ブチルアセテート、メチレ
ンクロIJ)’/シクロヘキサノン、メチレンクロ■ リド/メタノール/セロソルブ など、そして好ましく
はメチレンクロリド/セロソルブ■(9(1/10部)
混合物があけられる。すべての重量損失を補償するため
に追加の溶媒を加えることができる。溶媒の選択はコー
ティングにブリスター形成させることなく、そして少量
の溶媒を残留させることなく最も早い実用的乾燥速度を
与えるという要求によシ支配される。溶媒はまた存在さ
せる染料に溶解効果を有しているべきである。
The adhesive solution is generally prepared by adding the components (i.e., polymer, polyolefin block inhibitor, colorant) to the solvent in the following order with continuous stirring. Useful solvents include mixtures such as methylene chloride/ethyl acetate, methylene chloride/n-butyl acetate, methylene chloride/n-butyl acetate, methylene chloride/methanol/cellosolve, etc., and preferably methylene chloride/cellosolve (9(1/ 10 copies)
The mixture is opened. Additional solvent can be added to compensate for any weight loss. Solvent selection is governed by the desire to provide the fastest practical drying rate without blistering the coating and without leaving small amounts of solvent behind. The solvent should also have a solubilizing effect on the dye present.

次いで接着剤溶液を既知の手段によって可撓性支持体に
適用し、例えばドクターブレードを使用するかまたは市
場的に入手可能な連続ウェブコータードライヤー中でコ
ーティングして約80〜500 mg/dm 2好まし
くは約260〜300Mg/dm2の範囲の乾燥コーテ
ィング重量を生成させる。接着剤層の最も好ましいコー
ティング重量は約260Q/d m 2である。一般に
接着剤は0.0008〜0.001インチ(0,020
〜0.025mm)の乾燥厚さを有している。連続コー
ティングにおいてはウェブ速度は例えば15〜150フ
イ一ト/分(4,57〜45.72m/分)に変動させ
うる。乾燥温度は60〜130℃、好ましくは80〜9
0℃の範囲である。
The adhesive solution is then applied to the flexible support by known means, e.g. using a doctor blade or coated in a commercially available continuous web coater dryer, to a concentration of about 80-500 mg/dm2, preferably produces a dry coating weight in the range of about 260-300 Mg/dm2. The most preferred coating weight of the adhesive layer is about 260 Q/d m2. Generally, the adhesive is 0.0008 to 0.001 inch (0.020 inch)
~0.025 mm) dry thickness. In continuous coating, the web speed may vary, for example, from 15 to 150 feet/minute (4.57 to 45.72 m/min). Drying temperature is 60-130℃, preferably 80-9
It is in the range of 0°C.

好ましい可撓性支持体は厚さ0.001〜0.00フイ
ンチ(0,025〜0.18sm)、好ましくは0.0
05インチ(0,13111)厚さの火炎処理ポリエチ
レンテレフタレートである1重合体フィルムの火炎処理
は既知である。ここに径間として包含されている米国重
訂第3,145,242号、同第3,360,029号
および同第3,391,912芳容明細1は重合体フィ
ルムの火焔処理に有用な方法および装置を記載している
。燃焼ガス混合物の燃料当量比φは1.4であり、これ
は5(プロパン流速)/〔(酸素流速)十(0,21空
気流速)〕に等しい。すべての流速は標準立方フィート
または47分である。ウェブ速度は175直線フイ一ト
/分(55,34m/分)である。
Preferred flexible supports have a thickness of 0.001 to 0.00 inches (0.025 to 0.18 sm), preferably 0.0
Flame treatment of monopolymer films of 0.5 inch (0.13111) thick flame treated polyethylene terephthalate is known. U.S. Rev. Nos. 3,145,242, 3,360,029, and 3,391,912, incorporated herein by reference, are useful for flame treatment of polymeric films. A method and apparatus are described. The fuel equivalence ratio φ of the combustion gas mixture is 1.4, which is equal to 5(propane flow rate)/[(oxygen flow rate) ten (0,21 air flow rate)]. All flow rates are standard cubic feet or 47 minutes. The web speed is 175 linear ft/min (55.34 m/min).

乾燥させた接着剤コーティングした支持体は直ちに光感
受性層に接着させることができるしまたは以後の接着の
ために保存することができる。光感受性エレメントを形
成させるためには接着剤コーティングした支持体を光感
受性層にプレス中で例えば140〜160℃において2
0,000〜30,000ps1 (1406〜210
9Kf/個2)の圧力で約6分まで、次いでプレス中で
60℃以下まで冷却させることによって積層させること
ができる。好ましくは光感受性エレメントはカレンダー
処理によシ製造される。好ましくはダイを通して押出し
にエフ製造された鳳しメントの光感受性層は接着剤層に
隣接する側からは遠い方に0.005インチ(0,13
m+)厚さのポリエチレンテレフタレートフィルムを存
在させているがこれは以後保護カバーシートとして作用
する。その他のフィルム例えばポリスチレン、ポリエチ
レン、ポリプロピレンまたはその他の剥離性物質を使用
しうる。好ましくは光感受性層とフィルムカバーシート
との間に薄い硬質で可撓性の溶媒可溶性層例えば可撓性
重合体フィルムまたは層例えばポリアミドまたはエチレ
ンとビニルアセテートとの共重合体を存在せしめる。可
撓性重合体フィルムは前記フィルムカバーシートの除・
去後、光感受性層上に残る。この角撓性重合体フィルム
はその上に重ねる像含有陰画または橘明画を再使用のた
めに保護しあるいは光感受性表面との接触または整合を
改善させる。す、下に記岐の光源を使用した像様れ光の
前に、光感受性エレメントを支持体を通して霧光させて
接着支持体に隣接する光感受性層の前もって定めた厚さ
を重合させる。光感受性層のこの重合部分は7oアト称
される。フロアの厚さは露光時間、露光源その他によ“
シ変動する。この露光は一般に1〜60分間である。
The dried adhesive coated support can be adhered immediately to the photosensitive layer or can be saved for subsequent adhesion. To form the photosensitive element, the adhesive-coated support is applied to the photosensitive layer in a press at e.g.
0,000~30,000ps1 (1406~210
Lamination can be carried out by applying a pressure of 9 Kf/piece 2) for up to about 6 minutes and then cooling to below 60° C. in a press. Preferably the photosensitive element is produced by calendering. The photosensitive layer of the embossment, preferably extruded through a die, extends 0.005 inches (0.13 mm) from the side adjacent the adhesive layer.
m+) thick polyethylene terephthalate film is present, which subsequently acts as a protective cover sheet. Other films such as polystyrene, polyethylene, polypropylene or other release materials may be used. Preferably, between the photosensitive layer and the film cover sheet there is present a thin, rigid, flexible, solvent-soluble layer, such as a flexible polymeric film or layer, such as polyamide or a copolymer of ethylene and vinyl acetate. The flexible polymer film is removed from the film cover sheet.
After removal, it remains on the photosensitive layer. The angle-flexible polymeric film protects the overlying image-containing negative or bright image for reuse or improves contact or registration with the light-sensitive surface. The photosensitive element is then fogged through the support to polymerize a predetermined thickness of the photosensitive layer adjacent the adhesive support, prior to imagewise illumination using the light source described below. This polymerized portion of the photosensitive layer is referred to as a 7o atom. Floor thickness depends on exposure time, exposure source, etc.
It fluctuates. This exposure is generally for 1 to 60 minutes.

本発明によって前記エレメントの光感受性層の選ばれた
部分を例えばプロセス透明画すなわち活性線放射に対し
て実情的に透明なぞして実質的に均一の光学濃度部分と
活性線放射に不愚明なそして実質的に均一の光学濃度の
部分を有する像含有透明画またはステンシル全通して実
質的付加重合または光交叉結合が生ずるまで露光させる
ことにより印刷レリーフを製造することができる。付加
重合または交叉結合形成の間に、ブタジェン/アクリロ
ニトリル共重合体/エチレン性不飽和化合物組成物は層
の放射島光部分において不溶状態に変換され層の未露光
部分または面積においては有意の重合または交叉結合は
生しない。層の未霧光部分は烏分子量ブタジェン/アク
リロニトリル共TL@体用液体現像液により除去される
In accordance with the present invention, selected portions of the photosensitive layer of the element may be made, for example, in a process transparency, i.e., virtually transparent to actinic radiation, to provide a substantially uniform optical density area and a portion that is insensitive to actinic radiation. A printed relief can then be produced by exposing the entire image-containing transparency or stencil having areas of substantially uniform optical density to light until substantial addition polymerization or optical cross-linking occurs. During addition polymerization or cross-link formation, the butadiene/acrylonitrile copolymer/ethylenically unsaturated compound composition is converted to an insoluble state in the radiation island light portion of the layer and no significant polymerization or polymerization occurs in the unexposed portions or areas of the layer. No cross-linking occurs. The unfogged light portions of the layer are removed with a TL liquid developer containing a combination of molecular weight butadiene/acrylonitrile.

光重合工程においてはいずれかのタイプの任意の光源か
らの活性線放射を使用しpる。放射は点光源から発生す
るものでありうるし又は平行光線筐たは発散するビーム
の形でありうる。像含有透明画の比較的近くで幅広い放
射源を使用することによって迅明画の透明部分を通る放
射は発散光線として入りそして透明画の透明部分の下の
光感受性層中の発散部分を連続的に照射する。
Actinic radiation from any light source of any type may be used in the photopolymerization process. The radiation may originate from a point source or may be in the form of a parallel ray cabinet or a diverging beam. By using a broad radiation source relatively close to the image-containing transparency, the radiation passing through the transparent portion of the image-containing transparency enters as a diverging ray and continuously traverses the diverging portion in the light-sensitive layer below the transparent portion of the transparency. irradiate.

これは光感受性層の底部にその最大幅を有するすなわち
台形の重合体レリーフを与える結果となる。このレリー
フの上側表面は透明部分のシメンジョンである。
This results in a ie trapezoidal polymer relief with its greatest width at the bottom of the photosensitive layer. The upper surface of this relief is a symmension of the transparent part.

活性線放射によフ活性化可能な遊離ラジカル生成性開始
剤系が紫外線範囲にその最大感度を示す限フ、その放射
源は好ましくは釣2500A〜5000λの波長範囲を
有する放射の有効量を与えるべきである。適当なそのよ
うな放射源としては太陽光線に加えてカーボンアーク、
水銀蒸気アーク、紫外線放射発光燐光体を有する螢光ラ
ンプ、アルゴングローラン、プ、電子フラッシュユニッ
トおよび写真フラッドランプがあげられる。電子加速装
置および適当なマスクを介した電子ビーム源もまた使用
しうる。これらの中で水銀蒸気ランプ、特に太陽燈また
は[ブラックライト」タイプおよび螢光太陽燈が最も適
当である。
Insofar as the free radical-generating initiator system activatable by actinic radiation exhibits its maximum sensitivity in the ultraviolet range, the radiation source preferably provides an effective amount of radiation having a wavelength range of 2500A to 5000λ. Should. Suitable such sources include solar radiation as well as carbon arcs,
Mention may be made of mercury vapor arcs, fluorescent lamps with ultraviolet emitting luminescent phosphors, argon glow lamps, electronic flash units, and photographic flood lamps. Electron accelerators and electron beam sources via suitable masks may also be used. Among these, mercury vapor lamps, especially the sunlamp or "blacklight" type and fluorescent sunlamps are the most suitable.

放射露光時間は放射の強度およびスRクトルエネルギー
分布、その組成物からの距離および利用可能な組成物の
性質および景によって数分の1秒から数分に変動させう
る。通常、光感受性組成物から約1.5〜約60インチ
(3,8α−152ffl)の距離で水銀蒸気アーク、
太陽燈または高紫外線出力螢光チューブが使用される。
The radiation exposure time can vary from a fraction of a second to several minutes depending on the intensity and spectral energy distribution of the radiation, its distance from the composition and the nature and scenery of the composition available. a mercury vapor arc, typically at a distance of about 1.5 to about 60 inches (3,8α - 152 ffl) from the photosensitive composition;
Sunlights or high UV output fluorescent tubes are used.

露光温度は特に臨界的ではないがしかし大約常温ないし
わずかによυ高温すなわち約20°〜約35℃で操作す
ることが好ましい。
The exposure temperature is not particularly critical, but it is preferred to operate at about room temperature to slightly elevated temperatures, ie, from about 20° to about 35°C.

像様露光の後、適当な現像液で洗うことにより像を現出
させることができる。現像液はブタジェン/アクリロニ
トリル共重合体/エチレン性不飽牙ロ化合物組成物に良
好な溶媒または膨潤作用を有しておりそして未重合また
は未交叉結合部分の除去に必要とされる期間中には、不
溶化画像または支持体または接着剤層にはl弔とんど作
用を有していないものであるべきである。
After imagewise exposure, the image can be developed by washing with a suitable developer. The developer has a good solvent or swelling effect on the butadiene/acrylonitrile copolymer/ethylenically unsaturated compound composition and during the period required for the removal of unpolymerized or uncrosslinked moieties. , the insolubilized image or support or adhesive layer should be free of any residual effects.

現像液は好ましくは存在させる場合の重合体フィルム層
もまた除去する。適当な現像液としては有機溶媒例えば
2−ブタノン、ベンセン、トルエン、キシレン、トリク
ロロエタン、トリクロロエチレン、メチルクロロホルム
、テトラクロロエチレンおよび溶媒混合物例えばテトラ
クロロエチレン/n−ブタノールその他があケラれる。
The developer preferably also removes the polymer film layer, if present. Suitable developers include organic solvents such as 2-butanone, benzene, toluene, xylene, trichloroethane, trichloroethylene, methylchloroform, tetrachloroethylene and solvent mixtures such as tetrachloroethylene/n-butanol and others.

高分子量ブタジェン/アクリロニトリル共重合体成分が
カルボキシル基を含有している場合には、適当な溶媒と
しては水溶性有機溶媒を加えたものでありうる水性塩基
があげられる。
When the high molecular weight butadiene/acrylonitrile copolymer component contains carboxyl groups, suitable solvents include aqueous bases, which may be supplemented with water-soluble organic solvents.

適当な特定の現像液混合物としては水酸化ナトリウム/
イソプロピルアルコール/水、炭酸ナトリウム/水、炭
酸ナトリウム/2−ブトキシェタノール/水、硼酸ナト
リウム/2−ブトキシェタノール/水、珪酸ナトリウム
/2−ブトキシェタノール/グリセロール/水、炭酸ナ
トリウム/2− (2−ブトキシエトキシ)エタノール
/水、および水中16.6容飢襲の2−(2−ブトキシ
エトキシ)エタノ−ノド中の水酸化ナトリウム(0,5
4ti%)があげられる。これがf/lLい。選ばれる
弔電の現像液組合せは光感受性組成物のカルボキシル含
量ふ・よび使用される糺合剤の性ηおよび量に依存する
。使用しうるその他の水性現像液組合せはここに参考と
して包含されている米国重訂第5,796,602号明
細書に記載されている。これらの水性塩基/水溶性有機
溶媒組合せはある場合にはそれらの低いコスト、不燃性
および低い毒性の故に好ましいものでありうる。
Suitable specific developer mixtures include sodium hydroxide/
Isopropyl alcohol/water, sodium carbonate/water, sodium carbonate/2-butoxyshetanol/water, sodium borate/2-butoxyshetanol/water, sodium silicate/2-butoxycetanol/glycerol/water, sodium carbonate/2- (2-Butoxyethoxy)ethanol/water, and sodium hydroxide (0,5
4ti%). This is f/lL. The chosen developer combination depends on the carboxyl content of the photosensitive composition and the properties and amounts of the sizing agents used. Other aqueous developer combinations that may be used are described in US Revision No. 5,796,602, which is incorporated herein by reference. These aqueous base/water-soluble organic solvent combinations may be preferred in some cases because of their low cost, nonflammability, and low toxicity.

現像は約25℃で実施しうるがしかし時には最良の結果
は溶媒の温時例えば30°〜60Cの場合に得られる。
Development may be carried out at about 25°C, but sometimes the best results are obtained when the temperature of the solvent is between 30° and 60°C.

現像時間は1〜120分、好ましくは1〜25分の範囲
でありうる。
Development times can range from 1 to 120 minutes, preferably from 1 to 25 minutes.

レリーフの形成される現像段階においては、現像液はい
ずれかの便利な方法例えば住方、含浸、スプレーまたは
ローラー適用によシ適用することができる。ブラシかけ
は組成物の未重合または未交叉結合形成部分の除去を助
ける。印刷プレートを水性現像する場合には例えば約5
〜300秒の間の水性をその後でこの現像プレートに適
用してプレート表面から痕跡量の現像液を除去させる。
In the development step where the relief is formed, the developer can be applied in any convenient manner, such as by dipping, dipping, spraying or roller application. Brushing helps remove unpolymerized or uncrosslinked portions of the composition. For aqueous development of printing plates, for example, about 5
Aqueous for ~300 seconds is then applied to the developer plate to remove traces of developer from the plate surface.

「水性現像」なる表現は水洗を包含する。The expression "aqueous development" includes washing with water.

溶媒現像の後、印刷プレートを室温〜約125℃の範囲
好ましくは60℃の温度で1時間乾燥させる。水性現像
後に印刷プレートを乾燥させてもよいがしかし洗浄した
水性現像プレートはまだ濡れている間に水性臭素含有ま
たは沃素含有溶液と接触させることができる。任意的な
熱風乾燥は強制熱風ドライヤーまたはその他の適当なド
ライヤーの使用により達成することができる。
After solvent development, the printing plate is dried for 1 hour at a temperature ranging from room temperature to about 125°C, preferably 60°C. The printing plate may be dried after aqueous development, but the washed aqueous developer plate can be contacted with an aqueous bromine- or iodine-containing solution while still wet. Optional hot air drying can be accomplished through the use of a forced hot air dryer or other suitable dryer.

プレートは最初に0.01〜3.5重量%の遊離臭素濃
度および0.7〜8.7のpHを有する水性溶液に約1
5秒〜20分間、または6.2〜10!#粂の遊離沃素
濃度を有する水性溶液に約1.0〜10分間接触せしめ
られる。これらノ)ロゲン処理のどちらかの後で例えば
0.01〜1.0モル濃度のNa0ctおよび0012
〜1.2モル濃度のHClの水性溶液によ、9供給され
るものに等しい遊離塩素濃度を有する溶液による約15
秒〜5分間の塩素処理を行う。
The plates were first soaked in an aqueous solution with a free bromine concentration of 0.01-3.5% by weight and a pH of 0.7-8.7.
5 seconds to 20 minutes, or 6.2 to 10! #The shell is placed in contact with an aqueous solution having a free iodine concentration for about 1.0 to 10 minutes. For example, 0.01 to 1.0 molar concentrations of Na0ct and 0012
~1.2 by an aqueous solution of HCl with a molar concentration of ~15 by a solution with a free chlorine concentration equal to that supplied by 9
Perform chlorine treatment for seconds to 5 minutes.

プレートに水性臭素溶液を溢れさせることができるしま
たは臭素溶液中に浸漬させることができるが後者が好ま
しい。臭素溶液を15秒〜20分、より好ましくは30
秒〜5分間印刷プレートに接触保持させておくことが好
ましい。
The plate can be flooded with an aqueous bromine solution or immersed in a bromine solution, the latter being preferred. bromine solution for 15 seconds to 20 minutes, more preferably 30 minutes.
It is preferable to keep it in contact with the printing plate for seconds to 5 minutes.

臭素溶液は好ましくは常温で使用されるがしかしこれは
約65℃まで加熱させることができる。
The bromine solution is preferably used at ambient temperature, but it can be heated to about 65°C.

この臭素含有溶液は(1)臭素、(2)臭素酸塩−臭化
物−酸系(臭素酸塩および臭化物はアルカリ金属、好ま
しくはナトリウムまたはカリウムの塩でありそして酸は
塩酸、臭化水素酸、スルファミン酸またはその他の強プ
ロトン酸でありうる)(8)例えばドイツ特許第2,8
23,300号明細書記載の臭素含有コンプレックス、
または(4)モノ過硫酸塩−臭化物系(そのモノ過硫酸
塩および臭化物はアルカリ金属好ましくは前記のナトリ
ウムまたはカリウムの塩でありそしてここに参考として
包含されている米国特許出願第375,975号明細書
に開示されている)を水に添加することにより製造しう
る。好ましくは臭素含有溶液は混合しつつ1800−の
水道水に20rd、(D濃HC1を加えることによ!l
l製造しうる。この溶液に混合しつつ、200−の水道
水、102の臭化カリウムおよび2.8Fの臭素酸カリ
ウムの混合物を加える(90.56%H20/ 8.8
1 % HCL/ 0.49 To KBrおよび0.
14%KBrO3)。遊離臭素濃度は0.4%である。
This bromine-containing solution contains (1) bromine, (2) a bromate-bromide-acid system (bromate and bromide are salts of alkali metals, preferably sodium or potassium, and acids are hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfamic acid or other strong protic acids) (8) for example German Patent No. 2,8
23,300, a bromine-containing complex;
or (4) a monopersulfate-bromide system in which the monopersulfate and bromide are salts of an alkali metal, preferably the sodium or potassium salts mentioned above, and U.S. Patent Application No. 375,975, incorporated herein by reference. (as disclosed in the specification) to water. Preferably, the bromine-containing solution is prepared by adding 20 ml of concentrated HCl to 1,800 liters of tap water while mixing.
l can be manufactured. Add to this solution, while mixing, a mixture of 200 °C of tap water, 102 °C of potassium bromide, and 2.8 °F of potassium bromate (90.56% H20/8.8 °F).
1% HCL/0.49 To KBr and 0.49 To KBr.
14% KBrO3). Free bromine concentration is 0.4%.

水性塩素溶液の代りに印刷プレートには水性沃素溶液を
溢れさせることができるしまたはこの溶液中に浸漬させ
ることができる。後者が好ましい。好ましくは沃素溶液
は1.5〜2.5分間印刷プレートと接触保持される。
Instead of an aqueous chlorine solution, the printing plate can be flooded with or immersed in an aqueous iodine solution. The latter is preferred. Preferably the iodine solution is held in contact with the printing plate for 1.5 to 2.5 minutes.

沃素溶液は好ましくは常温で使用されるがしかしこれは
約35℃まで加熱されることができる。好ましくは沃素
含有溶液は例えば6.4tの沃化カリウムおよび例えば
12.7 fの沃素を200ゴの水に加えることにより
製造できる。
The iodine solution is preferably used at ambient temperature, but it can be heated to about 35°C. Preferably, the iodine-containing solution can be prepared by adding, for example, 6.4 tons of potassium iodide and, for example, 12.7 tons of iodine to 200 tons of water.

前記ハロゲン処理の一つを実施した後、印刷プレートを
水性塩素溶液で溢れさせまたはこの中に浸漬させること
ができる。好ましくはこの塩素溶液を0.5〜1.0分
間印刷プレートと接触保持させる。塩素溶液は好ましく
は常温で使用されるがしかしこれは約65℃まで加熱す
ることができる。−塩素含有溶液は90−の[クロロツ
クス(C1orox■)」および濃厚すなわち39%の
塩酸IC1fn1.を水900m1に加えることによp
製造しうる。
After carrying out one of the aforementioned halogen treatments, the printing plate can be flooded or immersed in an aqueous chlorine solution. Preferably, the chlorine solution is held in contact with the printing plate for 0.5 to 1.0 minutes. The chlorine solution is preferably used at ambient temperature, but it can be heated to about 65°C. - The chlorine-containing solution is 90- [C1orox■] and concentrated i.e. 39% hydrochloric acid IC1fn1. By adding p to 900ml of water
Can be manufactured.

像様露光および現像の後、印刷プレートを前記ハロゲン
処理の前またはその後で活性線放射源に後露光させるこ
とができる。後露光は一般に好ましくは像様露光に使用
された活性線放射源に対して5〜15分間継続される。
After imagewise exposure and development, the printing plate can be post-exposed to a source of actinic radiation either before or after said halogen treatment. Post-exposure generally preferably lasts from 5 to 15 minutes to the actinic radiation source used for imagewise exposure.

画処理の後、印刷プレートは使用可能に準備されている
After image processing, the printing plate is ready for use.

好ましい態様は例1に説明されている。A preferred embodiment is illustrated in Example 1.

本発明の光感受性フレクツグラフィーエレメントから製
造された印刷レリーフはすべての種類の印刷に使用され
うるがしかしこれは印刷部分および非印刷部分に明白な
高さの差が要求されるような種類の印刷、そして特にI
+i性印刷部分が例えば変形可能な印刷表面上での印刷
に対して要求されるようなフレタッグラフイー印刷に対
して最も適用可能である。これらの種類のものとしては
例えばドライオフセット印刷、印刷部分および非印刷部
分の閾によp大なる高さの差を要求する通常の凸版印刷
におけるようにインクがレリーフの盛り上った部分によ
って運ばれるもの、および例えば凹版印刷例えばライン
および反転ハーフトーンにおけるようにインクがレリー
フの凹部により運、ばれるものがあげられる。このプレ
ートは多色印刷に対して特に有用である。
Printed reliefs produced from the light-sensitive flexographic elements of the invention can be used for all types of printing, but only for those types where a distinct height difference between the printed and non-printed parts is required. Printing, and especially I
It is most applicable to frettage printing where +i-characterized printed parts are required for example for printing on deformable printing surfaces. These types include, for example, dry offset printing, where the ink is carried by raised areas of the relief, as in conventional letterpress printing, which requires a large height difference between the printed and non-printed areas. and those in which the ink is carried and dispersed by recesses in the relief, as in intaglio printing, for example in line and inverted halftones. This plate is particularly useful for multicolor printing.

得られたレリーフおよび印刷画像はエレメントをシリン
ダー支持体上で像様露光させた場合でさえも微小細部お
よび全体的シメンジョンの両方において原図透明画に忠
実性を示す。このレリーフは高い衝撃強度を有し強靭か
つ磨擦抵抗性であシそして広汎なインク相容性を有しそ
して改善された溶媒耐性を有している。
The resulting relief and printed images exhibit fidelity to the original transparency in both fine detail and overall dimension even when the element is imagewise exposed on a cylindrical support. The relief has high impact strength, is tough and abrasion resistant, has broad ink compatibility and has improved solvent resistance.

次の例は本発明を説明するがここに部およびチは重量基
準である。次の試験は印刷プレートの評価に有用なもの
である。
The following examples illustrate the invention, in which parts and parts are by weight. The following tests are useful in evaluating printing plates.

タック(粘着性)試験 本発明の露光現像印刷プレートは次のようにしてそのタ
ック性を試験することができる。
Tackiness Test The exposure and development printing plate of the present invention can be tested for its tackiness as follows.

(1)表面をインプロパツールできれいにふく。(1) Wipe the surface clean with an impropa tool.

(2)ティッシュ例えばスコツト■ブランド510トイ
レットティッシュを5002の錘によってプレート表面
(1インチ×2インチ、2.54の×5.083)に3
0秒間押しつける。
(2) Tissue For example, Scotto brand 510 toilet tissue is placed on the plate surface (1 inch x 2 inches, 2.54 x 5.083) using a 5002 weight.
Press for 0 seconds.

(8)  ティッシュを除去しそして結果を次の基準に
より記録する。
(8) Remove the tissue and record the results according to the following criteria.

(4)タックなし一粘着なし くB)  わずかなタック−粘着するがしがし表面から
剥離する (C)  粘着性−はがれるがしかしプレート上に数本
の繊維を残す φ)非常に粘着性−粘着しそしてティッシュを剥離させ
る際それはちぎれる 当業者は手を触れる仁と、すなわち指触法によって非粘
着性すなわち(A)級印刷プレート表面を固定しうる。
(4) No tack - no tack B) Slight tack - sticks but peels off from the surface (C) Adhesive - peels off but leaves a few fibers on the plate φ) Very tacky - Those skilled in the art can fix non-tacky or grade (A) printing plate surfaces by the tactile method, which will stick and tear when the tissue is peeled off.

両方の方法が使用されている。Both methods have been used.

以下のすべての処理された試料はタックなしである。All processed samples below are untacked.

インク/溶媒相容性試験 次の方法を使用し1本明細會記載の光感受性弾性組成物
層を有するフレタッグラフイー印刷プレートに関する印
刷インクおよび溶媒の相容性および有用性を判定する。
Ink/Solvent Compatibility Testing The following method is used to determine the compatibility and usefulness of printing inks and solvents with respect to frettage printing plates having photosensitive elastic composition layers as described herein.

扁平露光され現像された印刷プレートをその厚さ、ショ
アOA硬度(ANsI/AEITM D 2240〜7
5)および重量を測定した後、特定の溶媒またはインク
中に24時間浸漬させる。溶媒またはインクから除去し
そして紐玉でバットして乾燥させた後、その厚さ、ショ
ーA硬度および重量を測定する。インチ−)で表わした
厚さ変化(△T)、ショア■A硬度変化(ΔH)および
重量変化(△%W)を表わす生ま(raw)データが次
の柳準のすべてを満足している場合には印刷プレートは
溶媒お工び/またはインクに関して相容性でありすなわ
ち優れている(In)と考えられる。
The flat exposed and developed printing plate was tested for its thickness and Shore OA hardness (ANsI/AEITM D 2240-7).
5) After measuring the weight, it is immersed in a specific solvent or ink for 24 hours. After removal from the solvent or ink and batting dry with a ball of string, its thickness, Shaw A hardness and weight are measured. When raw data representing thickness change (△T) expressed in inches (inches), Shore A hardness change (△H), and weight change (△%W) satisfies all of the following Yanagi criteria: In this case, the printing plate is considered to be compatible or superior (In) with respect to solvent processing/or ink.

△Traw’   く0.003インチ(0,076r
ras)△Hrag’   ≧−5ショア■A単位Δ%
Wrap’   ≦ 6,5% 次の標準のいずれかが満足されるかあるいはそれ以上で
ある場合には印刷プレートは溶媒および/またはインク
に関して非相容性または不満足なもの([J)であると
考えられる。
△Traw' 0.003 inches (0,076r
ras) △Hrag' ≧-5 Shore■ A unit Δ%
Wrap' ≦ 6,5% A printing plate is considered incompatible or unsatisfactory ([J) with respect to solvents and/or inks if any of the following standards are met or exceeded: Conceivable.

△T reLW ’  20.012インチ(0,30
5m)△HraW ’  ≦−20ショアOA単位Δ%
w raw ’  510% 前記二つの標準の中間の範凹においては、処理印刷プレ
ートは溶媒および/またはインクに関しては釉々の中間
(1)有用性のものである。
△T reLW ' 20.012 inches (0,30
5m) △HraW' ≦-20 Shore OA unit Δ%
w raw ' 510% In the middle range between the two standards, treated printing plates are of intermediate (1) utility with respect to solvents and/or inks.

単一ハロゲン処理に関して有用な前記の評価に加えて、
これら6個の物理的測定値を組合せて本明細書では以後
「F」と称されている単一のメリット数(slngle
 lll’1gure of Mer4t)とすること
も望ましい。別々の個々の処理に対するF値を次いで一
緒に加えて処理の組合せに対して期待されるFの発見的
予想を与えることができる。
In addition to the above evaluations that are useful for single halogen treatments,
These six physical measurements combine to form a single merit number (slngle), hereinafter referred to as "F".
It is also desirable to set it as ll'1 gure of Mer4t). The F values for the separate individual treatments can then be added together to give a heuristic prediction of the expected F for the combination of treatments.

Fは次式を使用して得られる。F is obtained using the following equation.

23.60 種々の生まデータに対する数字的係数は、以下に記載の
ハロゲン処理を与えずそしてインプロパツール/酢酸エ
チル(80/20容量比)中で試験された対朋プレート
の性能から導かれた標準化ファクターそして当業者によ
って印刷性能の予測におけるデータの相対的重要性を示
すべく推定されている重点化ファクター得られている。
23.60 Numerical coefficients for the various raw data were derived from the performance of the Plate without halogen treatment and tested in Improper Tool/Ethyl Acetate (80/20 volume ratio) as described below. Standardization factors and weighting factors have been estimated by those skilled in the art to indicate the relative importance of the data in predicting print performance.

重点化ファクター(wf)は次の通りである。The weighting factor (wf) is as follows.

ΔTに対して 0.35 ΔHO,25 △%W#0.40 ノルマル化ファクター(nf)は次のように対照プレー
ト生まデータから得られる。
For ΔT 0.35 ΔHO,25 Δ%W #0.40 The normalization factor (nf) is obtained from the control plate data as follows.

従って数字係数すなわち積である(wf)IX(nf)
jは次のようになる。
Therefore, the numerical coefficient or product (wf)IX(nf)
j becomes as follows.

△T raWに対して  0.152 △Hraw  ’   −0,231 Δ%Wraw10400 すべてのデータを同一スケールす々わち0〜1に標準化
させるためには」rawに対する係数は負でなくてはな
らない。その理由はtsEr&yが負だからである。
For ΔT raW 0.152 ΔHraw′ −0,231 Δ%Wraw10400 In order to standardize all data to the same scale, ie 0-1, the coefficient for raw must be negative. The reason is that tsEr&y is negative.

Fの表現における定数に対するΔ%Wr!Lmたる23
、60の選択は61wの測定がこれら3個の中で最も重
要度のかかるものであるという結論を反映している。
Δ%Wr for a constant in the expression of F! Lm 23
, 60 reflects the conclusion that the 61w measurement is the most critical of these three.

フレクツグラフィー光重合性印刷プレートに対する1、
0のF値は優れたプレートのための実質的に完全な上の
値を表わしている。すなわち溶媒含浸(ソーキング)は
6個の測定された特性のいずれに対しても変化を生ぜし
めない。Fの決定のために前記の式を使用すると、前記
の定性的標準は次のようになる。
1 for flexography photopolymerizable printing plates;
An F value of 0 represents a substantially perfect upper value for a superior plate. That is, solvent impregnation (soaking) produces no change in any of the six measured properties. Using the above formula for determining F, the above qualitative standard becomes:

優 秀(g)  ≧=0.88〜1.0中郷度(工’I
  >=’0.62〜0.88不満足(o)>=0.0
 〜0.62 すなわち(1)印刷プレートが選ばれた溶媒による攻撃
に対してよシ感受性であるかまたは(2)相容性試験に
おいてよシ強い溶媒が使用された場合には、Fは負の値
すなわちり0.0をとりうる。更に(8)ある種の個々
の処理または非発明的組合せ処理は実際に処理プレート
の溶媒耐性を未処理プレートのそれニジ低下させる。例
えば以下の表2における溶媒2,3お工び4に対する処
理1およびjを処理gに対比して径間されたい。表8に
おいて試料2および3.8および9および14および1
5に対するF値を比較されたい。
Excellent (g) ≧=0.88~1.0
>='0.62~0.88 Unsatisfied (o)>=0.0
~0.62 That is, F is negative if (1) the printing plate is more susceptible to attack by the chosen solvent or (2) a stronger solvent is used in the compatibility test. The value of 0.0 can be taken. Furthermore, (8) certain individual treatments or non-inventive combinations of treatments actually reduce the solvent tolerance of treated plates to a greater extent than that of untreated plates. For example, compare treatments 1 and j for solvents 2, 3 and 4 in Table 2 below with treatment g. In Table 8, samples 2 and 3.8 and 9 and 14 and 1
Please compare the F value for 5.

前記(1)および(2)の場合に対してはF comb
1nat1on=F1+F2を予想する。これまた前記
の(8)はFcomb1nat1on=F1+(F2 
 I’未処理:)を予想する。
For cases (1) and (2) above, F comb
Predict 1nat1on=F1+F2. Again, the above (8) is Fcomb1nat1on=F1+(F2
Expect I'untreated:).

これらの式は以下で使用されている。予想値は処理の順
序には独立である。
These formulas are used below. Expected values are independent of processing order.

種々のインク/溶媒組合せに算出されたフレタッグラフ
イー印刷プレート上での種々の処理の組合せの結果の相
互比較を単純化することに加えて、F値は特定のF値を
有する印刷プレートを使用した印刷において得られるべ
き良好な印刷の数を予想するに有用である。
In addition to simplifying the intercomparison of the results of various processing combinations on frettage printing plates calculated for various ink/solvent combinations, the F-value is a Useful for predicting the number of good prints to be obtained in the prints used.

印刷集施データおよびF値の両方が入手可能な場合には
次の相関が存在している。
The following correlation exists when both print collection data and F-number are available.

0.94    2,000,000枚0.88   
  200.000枚 0.69      <  5,000枚接着剤溶液は
次の成分から製造される。
0.94 2,000,000 sheets 0.88
200,000 sheets 0.69 < 5,000 sheets The adhesive solution is made from the following ingredients.

ボ゛リエステル樹脂(1) 227.0ポリオッツィ:
/39.8 上記のポリアミド樹脂(8)は[マクロメルト(Mac
romelt■)J 6238 [ヘンケル・アドヘシ
ープ社の製品〕であって半逃明の明るいコノλり色であ
り、152〜145℃の環球軟化点、210℃で40〜
60ポアズの溶融粘度、299℃以上の発火点、1日で
0.7%そして7日で1.6−の水分吸収、460 p
si (52,64Kg7cm2)の引張り降伏強度、
450pθi (31,64Kf/ff12)の引張り
破断強度および560%の伸長を有している(引張り降
伏強度、引張シ破断強度および伸長はASTM法D−1
708に従って24℃で測定される)。
Polyester resin (1) 227.0 Poliozzi:
/39.8 The above polyamide resin (8) is [Macromelt (Mac
romelt ■) J 6238 [Product of Henkel Adhesip] It is a bright dark red color with a semi-light color, and has a ring and ball softening point of 152-145°C and a temperature of 40-40°C at 210°C.
Melt viscosity of 60 poise, ignition point above 299°C, moisture absorption of 0.7% in 1 day and 1.6- in 7 days, 460 p
tensile yield strength of si (52,64Kg7cm2),
It has a tensile strength at break of 450 pθi (31,64 Kf/ff12) and an elongation of 560% (tensile yield strength, tensile strength at break and elongation are ASTM Method D-1).
708 at 24°C).

ボ′リエステル樹脂はエチレングリコール、テレフタル
酸、イソフタル酸およびアゼライン酸(611!30モ
ル比)の反応生成物であり。
Polyester resin is the reaction product of ethylene glycol, terephthalic acid, isophthalic acid and azelaic acid (611!30 molar ratio).

19、000のMnお工び37. O[10のi7wを
有している。
19,000 Mn work 37. It has an i7w of O[10.

ポリオレフィンは「kストファイン(Vθ5to−fi
Hs■)J 8F−616(ドウラ・コモディティース
社の製品)であって、色は雪白色であり、約1.600
の分子量%20℃で約0.96の密度、25℃で0.5
〜1.0の針入硬度、約118〜128℃の融点、約8
5%が10μまたはそれ゛以下でありそして約15%が
10〜20μであるような粒子サイズを有している、 前記成分を順にメチレンクロリド/セロソルブ■(90
/10)混合物に加えて約16%固体分の溶液を生成さ
せる。ポリオレフィンビーズは溶解しない。成分の添加
の間およびその後でこの混合物を連続的に攪拌して溶解
を生せしめる。
Polyolefin has a "k st fine (Vθ5 to fi
Hs ■) J 8F-616 (a product of Doura Commodities), the color is snow white, and the weight is about 1.600
Molecular weight of % Density about 0.96 at 20°C, 0.5 at 25°C
Penetration hardness of ~1.0, melting point of about 118-128°C, about 8
The ingredients are sequentially mixed with methylene chloride/cellosolve (90%
/10) Add to the mixture to produce a solution of about 16% solids. Polyolefin beads do not dissolve. The mixture is continuously stirred during and after addition of the ingredients to effect dissolution.

混合の間のすべての重its失をメチレンクロリドの添
加により補償する。
Any loss of weight during mixing is compensated by addition of methylene chloride.

この接着剤溶液を連続ウェブコーター/ドライヤーを使
用して0.005インチ(〜0.13喘)厚さ0dlJ
工チレンテレフタレートフイルム支持体の火炎処理表面
に適用して約260m9/dm2の乾燥コーティング重
量を生成させる。ウェブ速度は45フイ一ト/分(〜1
5.72m/分)でありそして乾燥温度は86℃(18
6,7″F)である。
Apply this adhesive solution to a 0.005 inch (~0.13 inch) thickness using a continuous web coater/dryer.
It is applied to a flame treated surface of an engineered tylene terephthalate film support to produce a dry coating weight of about 260 m9/dm2. Web speed is 45 feet/min (~1
5.72 m/min) and the drying temperature was 86°C (18
6,7″F).

接着剤コーティングしたポリエチレンフタレート支持体
を接着剤側を上にして仕上げ印刷プレートの厚さの0.
080インチ(2,03m)厚さのダムトシたスチール
プラテン中に置く。接着剤でコーティングした支持体と
プラテンをプレス上に置き、そして0.0001フイン
チ(0,004m)の乾燥厚さを有するポリアミド樹脂
層を有する。、oosインチ(0713m+11)厚さ
のポリエチレンテレフタレートカバーシート上の光重合
性組成物の0.090インチ(約2.29’w)厚さの
押出しシートをカバーシート側を上にしてその上に載せ
、そしてスチールプレートで覆う。
Place the adhesive-coated polyethylene phthalate support, adhesive side up, at 0.00 mm of the thickness of the finished printing plate.
Place in a 0.80 inch (2.03 m) thick damped steel platen. The adhesive coated support and platen are placed on the press and have a layer of polyamide resin having a dry thickness of 0.0001 inch (0.004 m). , a 0.090 inch (approximately 2.29'w) thick extruded sheet of the photopolymerizable composition on a polyethylene terephthalate cover sheet having a thickness of 0.000 mm (0713 m + 11 mm) was placed thereon with the cover sheet side up. , and cover with a steel plate.

ポリアミド層を有するカバー7−トはポリエチレンテレ
フタレートフィルムを、押出シダイコーターを使゛用し
て次の溶液をコーティングすることによシ製造される。
A cover 7 with a polyamide layer is manufactured by coating a polyethylene terephthalate film with the following solution using an extrusion coater:

メチレンクロリド      81.0メタノール  
         2.ON−メチルピロリドン   
    10.0ポリアミド樹脂          
7.0ここで使用したポリアミド樹脂は[マクロメルト
(Macromelt■月6900 (ヘンケル・アド
ヘシーブ社製品)であって266〜302’FC7)環
球軟化点、5〜159710分の647″F溶融指数、
570)の発火点、1日で0.2%そして7日で0.5
%の水吸収、1200ps1の引張υ降伏強度、 35
00ps1の引張り破断強度および540チの伸長を有
している(引張り降伏強度、引張り破断強度および伸長
は24℃でA8TM D−1708の方法によυ測定)
Methylene chloride 81.0 Methanol
2. ON-methylpyrrolidone
10.0 polyamide resin
7.0 The polyamide resin used here is Macromelt (Macromel 6900 (product of Henkel Adhesive), 266-302'FC7) ring and ball softening point, 5-647/159710''F melting index,
570) ignition point, 0.2% in 1 day and 0.5 in 7 days
% water absorption, tensile υ yield strength of 1200 ps1, 35
It has a tensile strength at break of 00 ps1 and an elongation of 540 inches (Tensile yield strength, tensile strength at break and elongation are measured by the method of A8TM D-1708 at 24°C).
.

次の成分をブレンドしそしてダイを通して170℃で押
出すことによって光重合性組成物の押出しシートを製造
する。
Extruded sheets of the photopolymerizable composition are prepared by blending the following ingredients and extruding through a die at 170°C.

ヘキサメチレンジアクリレ−)         10
.0エノン 2.6一ジ第3級ブチルー4−メチルフェノ   0.
1〇−ル 温度を上昇させそして圧力を徐々に適用する、これは光
重合性シートをプラテンのダムとした部分全体にひろげ
る。シート金均−に分散させた後温度を160℃に上昇
させそして20,000〜30.00Dps1 (14
06〜2109 Kf/cm2)の範囲の圧力を適用し
そして3分間保持させる。プレスプラテンに水を流すこ
とによってこの集成体をプレス中で60C以下まで冷却
させる。形成された積層エレメントをプレスから除去し
そして支持体側を上にして無光ユニット中に置く。この
エレメントに空気中で大気圧下で4分間支持体を通して
の全体的露光を与えて接着支持体に隣接する光重合性層
の予め所定の厚さを重合させる。このエレメントの重合
部分はフロアと称される。
Hexamethylene diacrylate) 10
.. 0enone 2.6-di-tert-butyl-4-methylpheno 0.
The temperature is increased and pressure is gradually applied, which spreads the photopolymerizable sheet across the dammed portion of the platen. After uniformly dispersing the sheet metal, the temperature was raised to 160°C and 20,000-30.00Dps1 (14
A pressure in the range 06-2109 Kf/cm2) is applied and held for 3 minutes. The assembly is cooled in the press to below 60C by flowing water through the press platen. The formed laminated element is removed from the press and placed support side up in a lightless unit. The element is given a general exposure through the support in air at atmospheric pressure for 4 minutes to polymerize the predetermined thickness of the photopolymerizable layer adjacent to the adhesive support. This overlapping portion of the element is called the floor.

カバーシートの除去後、このエレメントをシルパニアB
L−WHO−螢光ランプを付した「シレル(Cyrel
■)J 3040露光ユニツト(デュポン社製品)中に
置く。像含有透明画(陰画)およびエレメントを真空下
で15分露光させる。露光の継続時間は重合体シート厚
さ、重合フロアの厚さおよび使用される像含有ゐ開面の
タイプの函数である。
After removing the cover sheet, attach this element to Sylpania B.
L-WHO-Cyrel with fluorescent lamp
■) Place in J 3040 exposure unit (DuPont product). The image-containing transparency (negative) and the element are exposed under vacuum for 15 minutes. The duration of exposure is a function of the polymer sheet thickness, the thickness of the polymeric floor, and the type of image-containing aperture surface used.

露光後透明画を除去しそして露光エレメントをロータリ
ードラムプラッシュタイツ「シレル■」6040プロセ
ツサー中に置く。このエレメントの未重合部分および全
ポリアミド樹脂層をプロセッサー中で15分間16.6
容量チ2−(2−ブトキシエトキシ)エタノール/水中
の0.5重量多水酸化す) IJウムで洗い次いで2分
間水洗するかまたはテトラクロロエチレン/ブタノール
(80/20 )混合物で洗うことにより除去する。
After exposure, the transparency is removed and the exposed element is placed in a rotary drum plush tights "Shillel ■" 6040 processor. The unpolymerized portion of this element and the entire polyamide resin layer were processed in a processor for 15 minutes.
Remove by washing with 2-(2-butoxyethoxy) 0.5 weight polyhydroxide in ethanol/water followed by a 2 minute water wash or with a tetrachloroethylene/butanol (80/20) mixture.

0.035インチ(0,89s+m)のレリーフ画像が
得られる。現像エレメント(印刷プレート)を強制熱風
ドライヤーまたはその他の適当なドライヤー中に置きぞ
して60℃で15分乾燥させる。
A relief image of 0.035 inch (0.89 s+m) is obtained. Place the developer element (printing plate) in a forced hot air dryer or other suitable dryer and dry at 60°C for 15 minutes.

後記の実施例においては次のハロゲン処理溶液が使用さ
れる。
In the examples below, the following halogen treatment solution is used.

臭素 混合しつつ1800−の水道水に20−のllH
Clを加える。この溶液に混合しつつ200mの水道水
、10fの臭化カリウムおよび2.82の臭素酸カリウ
ムを加える(遊離臭素濃度0.4%)。
Bromine 20-11H to 1800-I tap water while mixing
Add Cl. Add to this solution with mixing 200 m of tap water, 10 f of potassium bromide and 2.82 m of potassium bromate (free bromine concentration 0.4%).

沃素 6.4tの沃化カリウムおよび12.7fの沃素
を200dの水に加える。
Iodine Add 6.4t potassium iodide and 12.7f iodine to 200d water.

!見 90−のクロロクス(C1orox■)および1
0−の濃(37%)Hctを900wItの水に加える
( Na0C1〜0.06モル濃度そしてHCl 〜0
.12モル濃度)。
! See 90- of Clorox (C1orox■) and 1
Add 0-concentrated (37%) Hct to 900 wIt of water (Na0Cl ~0.06 molar and HCl ~0
.. 12 molar concentration).

例  1 像様露光に対して使用されたものと同一の露光源を使用
して空気中で10分間前記の露光現像フレタッグラフイ
ー印刷プレートを後露光させる。プレートは56〜6o
の範囲のショアOA2硬度を有している。このプレート
を以下に記載のようにしてハロダン処匪(対照である1
個はハロゲン処理しない)しそして24時間種々の溶媒
混合物および10012−プロパツール中に浸漬させる
。溶媒の強度はJニジ多量の酢酸エチル全2−プロパツ
ールに加えることによシ上昇する。このプレートの溶媒
耐性をインク/溶媒相容性試験に記載のようにして吟味
する。得られた生まデータ値は以下の表1に記載されて
いる。計算されたF値は以下の表2に記載されている、 表中の記号は次の通りである。
EXAMPLE 1 Post-expose the above exposed and developed frettage printing plate for 10 minutes in air using the same exposure source as used for the imagewise exposure. Plate is 56-6o
It has a Shore OA2 hardness in the range of . This plate was prepared as described below.
(non-halogenated) and immersed in various solvent mixtures and 10012-propertool for 24 hours. The strength of the solvent is increased by adding a large amount of ethyl acetate to the total 2-propanol. The plate is tested for solvent resistance as described in Ink/Solvent Compatibility Testing. The raw data values obtained are listed in Table 1 below. The calculated F values are listed in Table 2 below. The symbols in the table are as follows.

溶媒1:2−プロパツール I 2:2−プロパツール(、95)/酢酸エチル(5
)# 6:2−プロパツール(90)/酢酸エチル(1
0)I 4:2−プロパツール(85)/酢酸エチル(
15)# 5:2−プロパツール(80)/酢酸エチル
(20)処理a’:Br210分、C120,5分’b
iBr22分、ct20.5分 I c: Br210分、ct20.5分(計算)黄’
d:Br22分、ct20.5分(計算)■’e:Br
2j[1分、ct2なし #f:Br+2分* C12なし ’g:Br2なし、 ct2なし #  h :  Cl2O,5分、Br210分1 1
 :  C120,5分、Br22分l  j :  
Cl2O,5分、Br2なしく注)黄記載の単一処理に
対する表2中のF値を算術的に加えてこれら処理に対す
る Fの゛予想値とする 衣    1 1    a     0     0    0.3
01    b     O00,34 1e     O,2−0,901,001f    
 0.3   −1.25   1.721    g
     7.0  −11.5   5.511  
  h     O,1−1,00,62f    i
    10.4   −10.0   4.641 
   j     7.6   −11.0   5.
542    a     O,1=0.5   0.
712    b     o、2   −1.0  
 0.962     e黄     − 2f黄     − 2g黄                  −2h 
    O,9−3,01,782129,0−16,
09,35 2ぴ    − 3a    O,1−1,01,37 3b    O,3−2,01,51 3e    O,8−2,03,05 3f    1.99   −2.25   5.76
3     g    25.2   −21.25 
  12.143    h     1.5   −
5.0    3.0?3    1   39.5 
  −17.0    14.793    j   
 35.5   −21.75   12.714  
   a    0.3   −2.0・    2.
294    b    1.0   −3.25  
 2.754    0冬黄   −−− 4−t’−N%   −− 4g矢%  −−− 4h    30.6   −18.0    10.
314    1   44.9   −22.0  
  20.754      jle    − 5a      1.4     −4.0     
 4.055      b      1.2   
  −4.0      4.915     θ  
   ろ、5     −7.0     10.05
5      f      8.0    −16.
75    12.385      g     5
4.5   −25.5    23.60s    
  h     52.2    −22.0    
 17.205     1    54.5    
−28.0     26.605      j  
   61.0    −23.0     22.9
1(注)■ 表2のF値は溶媒1の値と溶媒乙の値の間
の曲線内挿によシ得られる。
Solvent 1: 2-propatol I 2: 2-propatol (,95)/ethyl acetate (5
) # 6:2-propertool (90)/ethyl acetate (1
0) I 4:2-propanol (85)/ethyl acetate (
15) #5: 2-propertool (80)/ethyl acetate (20) treatment a': Br210 min, C120, 5 min'b
iBr 22 minutes, ct 20.5 minutes Ic: Br 210 minutes, ct 20.5 minutes (calculation) Yellow'
d: Br 22 minutes, ct 20.5 minutes (calculation) ■'e: Br
2j [1 min, no ct2 #f: Br+2 min* No C12'g: no Br2, no ct2 #h: Cl2O, 5 min, Br210 min 1 1
: C120, 5 minutes, Br22 minutes l j :
Cl2O, 5 minutes, without Br2 Note) Add the F values in Table 2 for the single treatments listed in yellow arithmetic to obtain the expected value of F for these treatments. 1 1 a 0 0 0.3
01 b O00,34 1e O,2-0,901,001f
0.3 -1.25 1.721 g
7.0 -11.5 5.511
h O,1-1,00,62f i
10.4 -10.0 4.641
j 7.6 -11.0 5.
542 a O,1=0.5 0.
712 bo, 2 -1.0
0.962 e yellow - 2f yellow - 2g yellow -2h
O,9-3,01,782129,0-16,
09,35 2pi - 3a O,1-1,01,37 3b O,3-2,01,51 3e O,8-2,03,05 3f 1.99 -2.25 5.76
3 g 25.2 -21.25
12.143 h 1.5 -
5.0 3.0?3 1 39.5
-17.0 14.793 j
35.5 -21.75 12.714
a 0.3 -2.0・2.
294 b 1.0 -3.25
2.754 0 winter yellow --- 4-t'-N% --- 4g arrow% --- 4h 30.6 -18.0 10.
314 1 44.9 -22.0
20.754 jle-5a 1.4-4.0
4.055 b 1.2
-4.0 4.915 θ
Ro, 5 -7.0 10.05
5 f 8.0 -16.
75 12.385 g 5
4.5 -25.5 23.60s
h 52.2 -22.0
17.205 1 54.5
-28.0 26.605 j
61.0 -23.0 22.9
1 (Note) ■ The F value in Table 2 is obtained by interpolating the curve between the value of solvent 1 and the value of solvent B.

鋸表2のν値は溶媒3の値と溶媒5の値の間の曲線内挿
により得られる。
The ν values in table 2 are obtained by curve interpolation between the values of solvent 3 and solvent 5.

表   2 溶媒および処理に対するF値” 処 a      O,990,9B   0.97  0
.95  0.85bO8990,980,950,9
20,800黄%    1.(IN   O,900
,820,770,75a→0.99  0.89  
0.79  0.70  0.53e      O,
980,960,910,850,74f      
O,960,950,880,780,52g    
  O,740,600,430,230,0h   
   O,990,960,880,450,1210
,760,500、!+3  0.14  0.0j 
     O,770,540,340,150,01
(注) 苦衷1の生まデータ値より計算HPc=F6+
(FjFg) → Fd=Ff十(Fj Fg) 表2の値かられかるように本発明にょシ処理された印刷
プレートaおよびbは本発明ではない処理によυ処理さ
れた同様の印刷プレートe〜jに比べて特に溶媒が1〜
5により強くなる場合に溶媒耐性において優れている。
Table 2 F values for solvents and treatments Treatment a O,990,9B 0.97 0
.. 95 0.85bO8990,980,950,9
20,800 yellow% 1. (IN O,900
,820,770,75a→0.99 0.89
0.79 0.70 0.53e O,
980, 960, 910, 850, 74f
O,960,950,880,780,52g
O, 740, 600, 430, 230, 0h
O,990,960,880,450,1210
,760,500,! +3 0.14 0.0j
O,770,540,340,150,01
(Note) Calculated from the raw data value of 1.HPc=F6+
(FjFg) → Fd = Ff + (Fj Fg) As can be seen from the values in Table 2, printing plates a and b treated according to the present invention are similar to similar printing plates e treated by a process other than the present invention. Especially when compared to ~j, the solvent is 1~
When the strength is higher than 5, the solvent resistance is excellent.

このプレ□−トはまた計算された処理Cおよびd工りも
また優れている。非常に弱い溶媒の2−プロパツール中
においては計算されたF値は基本的にはいずれかの順序
の2種のハロゲン処理に対するものと同一である。
This plate also has excellent calculated C and D machining. In the very weak solvent 2-propertool, the calculated F values are essentially the same for two halogen treatments in either order.

次の表3は表2のデータすなわち溶媒1〜5におけるa
%b、 c%d、 hおよびjの値から構成されており
これは本発明のハロゲン処理と逆の順序の処理の間のF
値の差を示すものである。
The following Table 3 shows the data in Table 2, i.e. a in solvents 1 to 5.
It consists of the values of %b, c%d, h and j, which is the F during the halogen treatment of the present invention and the reverse order of treatment.
It shows the difference in value.

表   3 溶媒および処理に対するF値” a           O,990,9B  0.9
7 0.95 0.85cf黄1.01 0.90 0
.82 0.77 0.75h           
o、99 0,96 0.88 0.45 0.12a
−Q::△発明 (測定値−計算値)  −0,20,080,15’0
.18 0.10b−c=Δ逆の順序 (測定値−引算値)  −0,020,060,06−
0,52−0,63bO8990,980,950,9
20,80d(転)僚     0.99 0.89 
0.79 0,70 0.53:I         
O,760,500,330,140t)−d=Δ発明 (測定値−計算値)   0   0.09 0.16
 0.22 0.271−d=Δ逆のハh序 (測定値−計算値)  −0,23−0,39−0,4
6−0,56−0,53(注)苦衷10生まデータから
計算 静F。=F6+(FjFg) 舟 F 6 =F f十(F jF g )a −Qお
よびb−dの差に対する表3で観察される正の値は本発
明の処理に対する相乗効果(superaddj tl
vlty)を示すものである。h −cおよび1−(]
の差に対して衣6で観察される一般に負の値は塩素処理
を臭素処理に先行させた場合に得らiする劣った結果を
示している。
Table 3 F value for solvent and treatment” a O,990,9B 0.9
7 0.95 0.85cf Yellow 1.01 0.90 0
.. 82 0.77 0.75h
o, 99 0,96 0.88 0.45 0.12a
-Q::△Invention (measured value - calculated value) -0,20,080,15'0
.. 18 0.10b-c=Δ Reverse order (measured value - subtraction value) -0,020,060,06-
0,52-0,63bO8990,980,950,9
20,80d (transfer) colleague 0.99 0.89
0.79 0.70 0.53:I
O, 760, 500, 330, 140t) - d = Δ invention (measured value - calculated value) 0 0.09 0.16
0.22 0.271-d=ΔReverse h order (measured value - calculated value) -0,23-0,39-0,4
6-0, 56-0, 53 (Note) Calculated static F from the 10 raw data. =F6+(FjFg) The positive values observed in Table 3 for the difference between a-Q and b-d are due to the synergistic effect (superaddj tl
vlty). h -c and 1-(]
The generally negative values observed for Cloth 6 for the difference in % are indicative of the inferior results obtained when chlorination precedes bromine treatment.

例  2 例1記載のようにして露光させ、現像させ。Example 2 Expose and develop as described in Example 1.

後露光させそして以下に記載のようにしてノ)ロゲン処
理したフレクングラフィー印刷プレートを例1の溶媒5
よυも強いn−ブタノール/n−ゾロビルアセテート(
80/20)溶液中に入れる。
A flexography printing plate that had been post-exposed and treated as described below was treated with Solvent 5 of Example 1.
Very strong n-butanol/n-zorobyl acetate (
80/20) into the solution.

このプレートの溶媒耐性をインク/溶媒相容性試験に記
載のようにして試験する。得ら九た△T、ΔHお↓びΔ
%Wの生まデータ値を使用してF値を計算するがこれは
表4に記載されている。この処理の記号は例1の記載の
ものと同一である。
The plate is tested for solvent resistance as described in Ink/Solvent Compatibility Testing. Obtain nine △T, ΔH and ↓ and Δ
The raw data value of %W is used to calculate the F value, which is listed in Table 4. The symbols for this process are the same as those described in Example 1.

表   4 処 理      生まデータ 〔単一処理〕     ΔT  胡  Δ%WFj  
     71.6 −26.0 24.24 −0.
13f        8.0 −14.0 13.4
2 0.58e        4.5 −7.0 8
.99 0.75〔本発明処理〕 b          ′5.1  −5.0  6.
79  0.82a          2.1  −
4.0  5.27  0.86〔対間(逆の順序)〕 1         82.4 −26.0 25.7
5 −0.22h          72.1 −2
2.0 22.23 −0.06〔期待結果〕 d FiFj      −−0,45c Fe+Fj
               −0,62差 ?a−Fo=0.24  期待結果に比べての本発明の
優秀性Fb−Fd=0.37       ’Fa−F
h= 0.92   対照韓の順序)に比べての本発明
の優秀性Fb−Fj= 1.04      ’前記の
データかられかるように、本発明の処理は、個々の処理
の和から予想される結果よすも優れており、そしてこれ
は逆の順序の処理よシははるかに優れている。
Table 4 Processing Raw data [single processing] ΔT Hu Δ%WFj
71.6 -26.0 24.24 -0.
13f 8.0 -14.0 13.4
2 0.58e 4.5 -7.0 8
.. 99 0.75 [Treatment of the present invention] b '5.1 -5.0 6.
79 0.82a 2.1 -
4.0 5.27 0.86 [between pairs (reverse order)] 1 82.4 -26.0 25.7
5 -0.22h 72.1 -2
2.0 22.23 −0.06 [Expected result] d FiFj −−0,45c Fe+Fj
-0.62 difference? a-Fo=0.24 Excellence of the present invention compared to expected results Fb-Fd=0.37 'Fa-F
h = 0.92 Superiority of the present invention compared to the control Korean order Fb - Fj = 1.04 'As can be seen from the data above, the treatment of the present invention exceeds that expected from the sum of the individual treatments. The result is also better, and it is much better than the reverse order of processing.

例  6 例1記載の後露光フレクングラフィー印刷プレートを4
.5分間臭素処理し次いで30秒間塩素処理し、水洗し
そして乾燥させる。このプレートを両面接着テープを使
用し、てガルグースタンフォート型式Al60印刷プレ
ス(フエルドルーチ・マシーネンファフリーク・フリン
タース・アンド・エンジニアス社製品)の印刷シリンダ
ー上に載置させる。
Example 6 The post-exposed flexography printing plate described in Example 1 was
.. Bromine for 5 minutes, then chlorine for 30 seconds, rinse with water and dry. The plate is mounted using double-sided adhesive tape onto the printing cylinder of a Gargus Stanfort type Al 60 printing press (manufactured by Feldruch-Maschinenfafrik-Flinters & Engineers).

ポリエチレン基材およびn−プロパツール/n−プロピ
ルアセテ−) (80/20) 溶flヘースのインク
(クラーク・グラフィクス社製品、シアンブルーナSF
X −10833、バッチ5279)を使用して毎分3
00枚で12時間の印刷操作は全体で合計約200,0
00の良好な印刷に対して良好な品質のプリントを与え
る。臭素中のみで10分間処理された対照プレートは約
10,000枚の刷シ以下の後または15〜30分の印
刷時間の後では満足できない品質の画像を与える。
Polyethylene base material and n-propertool/n-propyl acetate) (80/20) Molten fl hese ink (Clark Graphics product, Cyanbruna SF
3 per minute using X-10833, batch 5279)
00 sheets and 12 hours of printing operation totals about 200,0
Gives a good quality print for a 00 good print. Control plates treated in bromine alone for 10 minutes give images of unsatisfactory quality after less than about 10,000 impressions or after a printing time of 15 to 30 minutes.

例  4 例1記載のようにしてその他の印刷プレートを製造し、
処理しそしてインク/溶媒相容性試験に記載のようにし
て試験する。次の表5に示されているように、例1記載
の後露光段階は2種のハロゲン処理の前、その中間また
はその後で実施される。溶媒は例1の溶媒5すなわち2
−プロパノール/酢酸エチル(90/10)である。
Example 4 Other printing plates are manufactured as described in Example 1,
Process and test as described in Ink/Solvent Compatibility Test. As shown in Table 5 below, the post-exposure step described in Example 1 is carried out before, during or after the two halogen treatments. The solvent is Solvent 5 of Example 1, i.e. 2
-propanol/ethyl acetate (90/10).

処理の記号a〜jは例1記載のものと同一である。pg
は後露光である。その他の記号k −” uは以下の通
シである。
Treatment symbols a to j are the same as described in Example 1. pg
is a post-exposure. The other symbols k−”u are as follows.

処理に:  Br20.25分、CL2 0.25分’
  l:  Br20.50分、CI20.50分’ 
 m:  Br20.50分%P” % CL2.0.
50分’ n:’ Br20.5’0分、CL2なし#
  o:  Br20.25分、PK 、 C120,
25分” p: Br20.25分、C12なし’ C
L: C120,25分、B、r2 すLu  r: 
 Br210.0分、PK 、 CL20.50分’ 
 s:  Br210.0分、CL2 0.50分、p
icl  t:  Br2 2.0分、  pm %c
t2 o、s o分l u:  Br22.0分、  
C120,50分、 pg表    5 1    PJa   O,97相乗的1−8=0.1
32    PK%b   O,95相乗的: 2−1
1=0.123    pg%f    0.93 4     PFi、e    O,91s     
pg%h    O,90試料 処理 F値   摘 
要 6  PKlk  0.85 7  PFi、1 0.84 8     c        O,849m    
    0.83 101、PK  0.83 11  d   O,83 12PJn  O,81 13o   O,80 14k%PK  O,76 151苦  0.72 16PI%P  0.55 17  k苦  0.51 18   g     0.43  対照、処理なし1
9   P瓜g   0.39 20   PFIIj   0.34 21   F虱1  0.33 (注)■計算値 試料6.13および14は15秒間臭素および塩素処理
に対してpgの順序を変化させた場合のF値の変動を示
す。表6に示されているように、後露光は最初に笑施さ
れた場合に一層効果的であるがしかしこれはどちらの順
序でも有効である。
For processing: Br20.25 minutes, CL2 0.25 minutes'
l: Br20.50min, CI20.50min'
m: Br20.50min%P"% CL2.0.
50 minutes'n:'Br20.5'0 minutes, no CL2#
o: Br20.25min, PK, C120,
25 minutes” p: Br20.25 minutes, no C12’C
L: C120, 25 minutes, B, r2 Lu r:
Br210.0min, PK, CL20.50min'
s: Br210.0 min, CL2 0.50 min, p
icl t: Br2 2.0 min, pm %c
t2 o, so min l u: Br22.0 min,
C120, 50 min, pg table 5 1 PJa O, 97 synergistic 1-8 = 0.1
32 PK%b O,95 Synergistic: 2-1
1=0.123 pg%f 0.93 4 PFi,e O,91s
pg%h O, 90 samples treatment F value extraction
Required 6 PKlk 0.85 7 PFi, 1 0.84 8 c O, 849m
0.83 101, PK 0.83 11 d O,83 12PJn O,81 13o O,80 14k%PK O,76 151k 0.72 16PI%P 0.55 17kkk 0.51 18 g 0.43 Control, no treatment 1
9 Pmelon g 0.39 20 PFIIj 0.34 21 F lice 1 0.33 (Note) ■Calculated values Samples 6.13 and 14 are the results when the order of pg is changed for bromine and chlorine treatment for 15 seconds. It shows the fluctuation of F value. As shown in Table 6, post-exposure is more effective when applied first, but it is effective in either order.

表   6 (注)■引算されたF値は表5の処理k(試料17)に
対しては0.51である。
Table 6 (Note) ■ The subtracted F value is 0.51 for treatment k (sample 17) in Table 5.

試料7.9および10は30秒間臭素および塩素処理に
対してPR順序を変化させた場合のF値の変動を示す。
Samples 7.9 and 10 show the variation in F value when changing the PR order for bromine and chlorine treatments for 30 seconds.

表7に示されているように、PK順序の変動にはほとん
ど影響は存在しない。
As shown in Table 7, there is little effect on varying the PK order.

表   7 (測定値−計算値矢) m      0.8!+   Δ本発明は0.11(
測定値−計算値矢) 1、PK    0.83   Δ本発明は0.11(
測定値−計算値薫) (注)黄計算されたF値は表5の処理1(試料15)に
対しては0.72である。
Table 7 (measured value - calculated value arrow) m 0.8! + ΔThe present invention is 0.11 (
Measured value - calculated value) 1, PK 0.83 ΔThe present invention is 0.11 (
Measured value - Calculated value Kaoru) (Note) Yellow The calculated F value is 0.72 for Treatment 1 (Sample 15) in Table 5.

例  5 例1で製造された印刷プレートを以下に記載のようにし
てハロゲン処理(沃素が臭素に置換)するがただし対照
の一つはハロゲン処理なしである、2−プロパツール/
酢酸エチル(90/10)の溶媒混合物に24時間浸漬
させ、そしてたたいて乾燥させた後、この印刷プレート
の溶媒耐性を前記インク/溶媒相容性試験に記載のよう
にして試験する。各処理に対するF値は表8に示されて
いる。
Example 5 The printing plate prepared in Example 1 is halogenated (iodine replaced by bromine) as described below, but one control is without halogenation.
After soaking in a solvent mixture of ethyl acetate (90/10) for 24 hours and tapping dry, the printing plate is tested for solvent resistance as described in the Ink/Solvent Compatibility Test above. The F value for each treatment is shown in Table 8.

表  8 1  工2  (80)  0.43 3    な  し    0.43 5         0.34  1+(2−3)から
計算7  工2 (105)  0.45 8   C12(30)   0.34   前記2と
同様9   な し   0,43 前記6と同様10
  I2 (105)、 0.78 本発明C12(3
0) 11          0.36  7+(8−9)
から計算13  工2  (138)   0.611
4  C12(30)  0.34  前記2と同様1
5    な し   0.43 前記6と同様17 
   −     0.52  13+(14−15)
から計算表8の結果から1本発明により処理した場合に
は単一処理の相加的結果に比べてプレートの溶媒耐性に
改善が存在することが示される。処理4−5.10−1
1および16−17の差の結果は沃素処理およびそれに
続く塩素処理が相乗的改善を与えることを示す。
Table 8 1 Engineering 2 (80) 0.43 3 None 0.43 5 0.34 Calculated from 1+(2-3) 7 Engineering 2 (105) 0.45 8 C12 (30) 0.34 Same as 2 above 9 None 0,43 Same as 6 above 10
I2 (105), 0.78 Invention C12 (3
0) 11 0.36 7+(8-9)
Calculated from 13 engineering 2 (138) 0.611
4 C12 (30) 0.34 Same as 2 above 1
5 None 0.43 Same as 6 above17
- 0.52 13+(14-15)
The results in Table 8 show that there is an improvement in the solvent tolerance of the plates when treated according to the present invention compared to the additive results of a single treatment. Processing 4-5.10-1
The difference results for 1 and 16-17 indicate that iodine treatment followed by chlorine treatment provides a synergistic improvement.

例  6 例1記載のようにして製造しそして例1および4に記載
の処理a%b1r、 s%tおよびuKエシハ・ロゲン
処理された印刷プレートをn−プロパツール/n−プロ
ピルアセテート(80/20)に24時間含浸させそし
て前記のようにして評価する。以下の表9に記載の結果
は、2段ハロゲン処理に続く後露光が前記攻撃的溶媒に
含浸させた印刷プレートに対してその処理工程の他の時
点での後露光よシも有意に優れていることを示す。本例
の結果は、より攻撃性の少ない溶媒の2−プロパツール
/酢酸エチル(90/10)およびより穏和なハロゲン
処理を使用した例4で得られたものとは異っている。
EXAMPLE 6 Printing plates prepared as described in Example 1 and treated with a%b1r, s%t and uK ethyl acetate as described in Examples 1 and 4 were treated with n-propertool/n-propyl acetate (80/ 20) for 24 hours and evaluated as described above. The results, listed in Table 9 below, show that the post-exposure following the two-step halogen treatment was significantly superior to the post-exposure at other points in the process for printing plates impregnated with the aggressive solvent. Show that there is. The results of this example differ from those obtained in Example 4, which used a less aggressive solvent 2-propanol/ethyl acetate (90/10) and a milder halogen treatment.

表   9 a’  2.57−8.336.310.79r29.
00−j2.o 9.45 CJ、66s30.80 
 −4.00  4.60  0.88b1    1
9.20 −14.50  11.33   (3,5
4t248.60−22.0021.060.12u6
2.40  −8.50  7.50 −0.77(注
)1)先の後露光 2)中間の後熟光 3)後期後熟光 モアースeアンド・コンパ二一
Table 9 a' 2.57-8.336.310.79r29.
00-j2. o 9.45 CJ, 66s30.80
-4.00 4.60 0.88b1 1
9.20 -14.50 11.33 (3,5
4t248.60-22.0021.060.12u6
2.40 -8.50 7.50 -0.77 (Note) 1) Early after exposure 2) Middle after exposure 3) Late exposure after exposure

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)20,000〜75,000の数平均分子姻を有し
、そのアクリロニトリル含量が10〜50重量%であり
ぞしてカルボキシル常置が0〜15重1に%である高分
子量ブタジェン/アクリロニトリル共重合体および少く
とも1個の末端エチレン基を含有する非ガス状エチレン
性不飽和化合物を包含する光感受性弾性体状組成物層の
活性線放射による像様露光およびその未露光部分の液体
現像によシレリーフ部分が生成されてるレリーフ光感受
性フレクツグラフィー印刷プレートに改善された溶媒耐
性表面を与えるための方法において、場合によりレリー
フ中の部分を乾燥させた後、任意の順序で(1)現像表
面を活性線放射源に後轟光させること、そして(2)こ
の現像表面を連続的に2種の水性ハロゲン溶液すなわち
0.01〜3.5重量−の遊離臭素濃度を有する約15
秒〜20分の接触を伴なう水性浴液または0.2〜10
重量%の遊離沃素濃度を有する約1,0〜10分の接触
を伴なう水性溶液のいずれかである第1ハロゲン溶液お
よびそれに続<0.01〜1,0モル濃度のNa0C1
および0.012〜1.2モル濃度のHClの水性溶液
によシ与えられるものに等しい塩素の約15秒〜5分の
接触時間の第2ハロゲン溶液に接触させることを包含す
る方法。 2)印刷プレートを最初に水性臭素溶液、次いで水性塩
素溶液に接触させる前記和許請求の範囲第1埴記載の方
法。 3)印刷プレートを最初に水性沃素溶液に次いで水性塩
素溶液に接触させる前記特許請求の範囲第1項記載の方
法。 4)水性臭素溶液が水中で臭素およびアルカリ臭素酸塩
−臭化物−酸混合物を混合することにより製造される前
記特許請求の範囲第1項記載の方法。 5)底部から上に向って順次に (4)可撓性支持体、 (B)  組成物の全重量基準で (a)  55〜90重量−の20,000〜75,0
00の数平均分子量を有し、そのアクリロニトリル含量
が10〜50重量%でありそしてカルボキシル含量が0
〜15重量−である高分子量ブタジェン/アクリロニト
リル共重合体、 (b)2〜40重量%の遊離ラジカル開始連鎖延長付加
重合により高分子重合体を形成可能でそして前記重合体
(a)と相容性の少くとも1個の末端エチレン基含有の
非ガス状エチレン性不飽和化合物、 (c)  o、oo1〜10重量−の活性線放射にエリ
活性化可能な有機放射感受性遊離ラジカル生成、系およ
び (d)0〜1sii%の相容性可塑剤 を包含する光感受性弾性体状組成物層、(c)  可撓
性重合体フィルム、 (D)  除去可能なカバーシートおよび場合によp層
(ト)および層(B)の間に存在する接着剤組成物層 を包含する光感受性弾性体状エレメントの像様露光およ
び液体現像によりフレクツグラフィー印刷プレートが製
造される前記特許請求の範囲第1項記載の方法。 6)現像表面が水性現像によりa造され、そしてハロゲ
ン処理が現像表面の乾燥なしで実施される前記特許請求
の範囲第1項記載の方法。
[Scope of Claims] 1) It has a number average molecular bond of 20,000 to 75,000, the acrylonitrile content thereof is 10 to 50% by weight, and the carboxyl permanent content is 0 to 15% by weight. Imagewise exposure of a photosensitive elastomeric composition layer comprising a high molecular weight butadiene/acrylonitrile copolymer and a non-gaseous ethylenically unsaturated compound containing at least one terminal ethylene group with actinic radiation and its unprotected state. In a method for providing an improved solvent-resistant surface to a relief light-sensitive flexographic printing plate in which the relief areas have been produced by liquid development of the exposed areas, optionally after drying the areas in relief, in any order (1) subjecting the developed surface to a source of actinic radiation; and (2) sequentially subjecting the developed surface to two aqueous halogen solutions, i.e., free bromine concentrations ranging from 0.01 to 3.5 wt. having about 15
Aqueous bath solution or 0.2 to 10 minutes with contact for seconds to 20 minutes
A first halogen solution, either an aqueous solution with a contact time of about 1,0 to 10 minutes, with a free iodine concentration of % by weight followed by a molar concentration of <0.01 to 1,0 NaCl
and a second halogen solution for a contact time of about 15 seconds to 5 minutes of chlorine equivalent to that provided by an aqueous solution of 0.012 to 1.2 molar HCl. 2) The method according to claim 1, wherein the printing plate is first contacted with an aqueous bromine solution and then with an aqueous chlorine solution. 3) A method according to claim 1, wherein the printing plate is first contacted with an aqueous iodine solution and then with an aqueous chlorine solution. 4) A method according to claim 1, wherein the aqueous bromine solution is prepared by mixing bromine and an alkali bromate-bromide-acid mixture in water. 5) sequentially from the bottom upwards (4) the flexible support; (B) based on the total weight of the composition (a) 55 to 90 wt.
00, its acrylonitrile content is 10-50% by weight and its carboxyl content is 0.
~15% by weight of a high molecular weight butadiene/acrylonitrile copolymer, (b) capable of forming a high molecular weight polymer by free radical initiated chain extension addition polymerization of 2 to 40% by weight and compatible with said polymer (a). (c) a non-gaseous ethylenically unsaturated compound containing at least one terminal ethylenic group; (d) a photosensitive elastomeric composition layer containing 0-1sii% of a compatible plasticizer; (c) a flexible polymeric film; (D) a removable cover sheet and optionally a p-layer ( A flexographic printing plate is produced by imagewise exposure and liquid development of a photosensitive elastomeric element comprising a layer of adhesive composition present between layer (B) and layer (B). The method described in section. 6) A method according to claim 1, wherein the developed surface is aqueous developed and the halogen treatment is carried out without drying the developed surface.
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