JPS5919913A - Focus controller - Google Patents

Focus controller

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JPS5919913A
JPS5919913A JP12994082A JP12994082A JPS5919913A JP S5919913 A JPS5919913 A JP S5919913A JP 12994082 A JP12994082 A JP 12994082A JP 12994082 A JP12994082 A JP 12994082A JP S5919913 A JPS5919913 A JP S5919913A
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JP
Japan
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objective lens
focus
lens
luminous flux
light
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JP12994082A
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Japanese (ja)
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JPH0157885B2 (en
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Muneki Hamashima
宗樹 浜島
Shigeo Murakami
成郎 村上
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Nippon Kogaku KK
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Publication date
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Publication of JPS5919913A publication Critical patent/JPS5919913A/en
Publication of JPH0157885B2 publication Critical patent/JPH0157885B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/28Systems for automatic generation of focusing signals
    • G02B7/36Systems for automatic generation of focusing signals using image sharpness techniques, e.g. image processing techniques for generating autofocus signals

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Focusing (AREA)
  • Automatic Focus Adjustment (AREA)

Abstract

PURPOSE:To widen the control range of a focus position and to improve precision by splitting reflected light into two pieces of luminous flux, guiding one to a photoelectric detector for front and rear out-of-focus detection and the other to a photoelectric detector for focusing detection, and increasing the image formation magnifiction of the focusing detection. CONSTITUTION:Luminous flux from a half-mirror 3 is aplit into two pieces of luminous flux; one piece of luminous flux is incident to a short-focus lens 9 through a mirror 8, and the other piece of luminous flux is incident to a long- focus lens 10. The luminous flux passed through the lens 9 reaches the center part of a charge coupled device CCD15 through a split surface 13a. Luminous flux reflected by a split surface 13a reaches the leftside part of the CCD15 and luminous flux passed through a lens 10 reaches the right-side part of the CCD15. The photodetection surface of a focusing detection area 15a is arranged at an expected focal plane when the focal point of an objective 5 coincides with a sample surface. Then, the image formation magnification of a photoelectric detector for a focusing surface is increased. Consequently, the control range of the focus position is widened and the precision is improved.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光学的な観察装置や計測装置等において、対物
レンズの焦点位置を自動制御して、常に鮮明な結像状態
を得るだめの焦点制御装置に関し、特にコヒーレント光
を対象レンズで集光し、微小スポット光として対象物に
照射して、その反射光に基づいて焦点位置を制御する装
置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a focus control device for automatically controlling the focal position of an objective lens in an optical observation device, measurement device, etc. to always obtain a clear imaging state, and in particular to The present invention relates to a device that condenses light with a target lens, irradiates the target object as a minute spot light, and controls the focal position based on the reflected light.

従来よりカメラ等においては、最適な合焦面(予定焦点
面)の前後の前側ピント面、後側ピント面との2ケ所に
光電素子を配置して、その光電出力に基づいて、撮影レ
ンズ(対物レンズ)を透過した被写体光の像面(又はそ
の共役面)が、最適な合焦面と一致するように焦点位置
を制御する装置が知られている。ところが、このような
自動焦点制御装置を、ウェハやマスク上のパターン線幅
等を精密測定する装置、ICパターンの欠陥を検査する
装置、あるいは縮小投影露光装置等に適用する場合は、
さらに高い精度とより広い作動領域が必要とされる。
Conventionally, in cameras, photoelectric elements are placed in two places, the front focusing plane and the rear focusing plane, before and after the optimal focusing plane (planned focal plane), and based on the photoelectric output, the photographing lens ( A device is known that controls the focal position so that the image plane (or its conjugate plane) of object light transmitted through an objective lens coincides with the optimal focusing plane. However, when such an automatic focus control device is applied to a device that precisely measures pattern line widths on wafers or masks, a device that inspects defects in IC patterns, a reduction projection exposure device, etc.
Even higher precision and a wider working area are required.

一般にこの種の各装置は極めて解像力の高い対物レンズ
や投影レンズを備えている。そして高解像レンズでは、
固有のレンズ収差のために前側ピント面と後側ピント面
とでのボケ像は非対称になってしまう。このだめ単に前
側ピント面と後側ピント面からの光電情報に基づいて焦
点位置を制御しても、必要とされる精度、例えば対物レ
ンズの焦点深度内に精密に制御することかで″きない、
といった欠点があった。
Generally, each type of device is equipped with an objective lens or a projection lens with extremely high resolution. And with high resolution lenses,
Due to inherent lens aberrations, the blurred images between the front and rear focal planes become asymmetrical. For this reason, simply controlling the focal position based on photoelectric information from the front and rear focal planes cannot achieve the required accuracy, for example, precisely controlling the focal position to within the focal depth of the objective lens. ,
There were some drawbacks.

そこで本発明id、これらの欠点を解決1〜、高精度で
広い作動領域を備えた焦点制御装置を得ることを目的と
する。
Therefore, the object of the present invention is to solve these drawbacks and provide a focus control device with high precision and a wide operating range.

次に本発明の実施例を図面を参照して説明する。Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は半導体ウェハやマスク上をレーザ光のスポット
で走査して、パターンの線幅やエツジ間隔を測定する線
幅測定装置dの斜視図である。この装置ハパターンエッ
ジにスポット光を照射したとき、エツジから生じる回折
光や散乱光を光電検出して線幅を測定すイ)ものである
。この装置について詳しくは荷公昭51+ −2596
4号、「パターン線幅測定装置」K開示されているので
、本発明と直接関係のない線幅測定の説明は省略する。
FIG. 1 is a perspective view of a line width measuring device d that scans a semiconductor wafer or mask with a spot of laser light to measure the line width and edge spacing of a pattern. This device measures the line width by photoelectrically detecting the diffracted light and scattered light generated from the edge when a spot light is irradiated onto the edge of the pattern. For more information about this device, please refer to the following.
No. 4, "Pattern Line Width Measuring Apparatus" K is disclosed, so a description of line width measurement that is not directly related to the present invention will be omitted.

第1図にひいて、レーザ光源1からのレーザ光は、ビー
ムコリメータ2によって拡大されて平行光束になり、ハ
ーフミラ−3を介して反射ミラー4で対物レンズ5に反
射される。対物レンズ5に入射した平行なl/−ザ光は
、微小なスポット光(直径1μm程度)に収束されて、
観察や測定の対象物としての試料6を照射する。試料6
の試料面からの反射光は対物レンズ5を逆入射して再び
平行光束になり、反射ミラー4で反射された後、ノ・−
フ゛ミラー3で反射されて、対物レンズ5の焦点ずれを
検出する検出光学系に入射する。この検出光学系につい
て、さらに第2図と共に説明する。ノ・−フミラー3か
らの光束はビームコリメタフによって2つの光束に分け
られ、一方の光束はミラー8を介して短焦点距離のレン
ズ9 (第1結像手段)に入射し、他方の光束は長焦点
距離のレンズ10 (第2、第3結像手段)に入射する
。レンズ9を通った光束はビームスプリッタ13に入射
し、さらに2つの光束に分割される。そしてビームスプ
リッタ13のスプリット面13k)を透過した光束は、
光路長補正ガラス14を通って、1次元のフォトアレイ
、例えば電荷結合デバイス(以下、CCDとト面13b
で反射した光束は、反射面13cで反射されて、CCD
15の左側部分(第2図では下方)に達する。さらにレ
ンズ10を通った光束は光路長補正ガラス11を通りミ
ラー12で反射された後、ビームスプリッタ13の反射
面13aで反射されて、CCI) 15の右側部分(第
2図では上方)に達する。尚、ここでCCD15の受光
面上において、レンズlOを通った光束を受光する領域
を合焦検出領域15aとし、ビームスプリッタ13を通
・だ2光束を受光する領域を、各々稜ビン検出領域15
b、前ピン検出領域15cと呼ぶととにする。
Referring to FIG. 1, a laser beam from a laser light source 1 is expanded by a beam collimator 2 to become a parallel beam of light, which is reflected by a reflecting mirror 4 to an objective lens 5 via a half mirror 3. The parallel l/-the light incident on the objective lens 5 is converged into a minute spot light (about 1 μm in diameter),
A sample 6 as an object to be observed or measured is irradiated. Sample 6
The reflected light from the sample surface enters the objective lens 5 in the opposite direction, becomes a parallel beam of light again, is reflected by the reflection mirror 4, and then becomes a parallel beam of light.
The light is reflected by the film mirror 3 and enters a detection optical system that detects the focal shift of the objective lens 5. This detection optical system will be further explained with reference to FIG. The beam from the no-f mirror 3 is divided into two beams by a beam collimator, one beam enters a short focal length lens 9 (first imaging means) via a mirror 8, and the other beam enters a short focal length lens 9 (first imaging means). The light enters a long focal length lens 10 (second and third imaging means). The light beam that has passed through the lens 9 is incident on the beam splitter 13, where it is further split into two light beams. The light flux transmitted through the split surface 13k) of the beam splitter 13 is
Through the optical path length correction glass 14, a one-dimensional photo array, such as a charge-coupled device (hereinafter referred to as a CCD)
The luminous flux reflected by the CCD is reflected by the reflecting surface 13c.
15 (lower side in FIG. 2). Furthermore, the light flux that has passed through the lens 10 passes through the optical path length correction glass 11 and is reflected by the mirror 12, and then is reflected by the reflective surface 13a of the beam splitter 13 and reaches the right side (upper part in FIG. 2) of the CCI 15. . Here, on the light-receiving surface of the CCD 15, the area that receives the light beam that has passed through the lens lO is defined as a focus detection area 15a, and the area that receives the two light beams that have passed through the beam splitter 13 is defined as a ridge-bin detection area 15.
b. This will be referred to as the front focus detection area 15c.

また合焦検出領域15aの受光面は、対物レンズ5の焦
点位置が試料面と合致したとき、対物レンズ5を逆入射
したスポット光が結像される位置、すなわち最適な合焦
面(予定焦点面)上に配置されている。こD際、後ピン
検出領域15bは対物レンズ5の光軸方向に沿って最適
な合焦面の後側に位置するように定められ、前ビン検出
領域150は最適な合焦面の前側に位置するように定め
られ、領域15bと15cは、領域15aからの光路長
が共に等しく定められている。
The light-receiving surface of the focus detection area 15a is the position where the spot light entering the objective lens 5 in the opposite direction is imaged when the focal position of the objective lens 5 matches the sample surface, that is, the optimal focusing plane (planned focal point). surface). At this time, the rear focus detection area 15b is determined to be located behind the optimal focus plane along the optical axis direction of the objective lens 5, and the front focus detection area 150 is determined to be located in front of the optimal focus plane. The regions 15b and 15c are defined to have the same optical path length from the region 15a.

また、レンズ9.10は、−例として焦点距離が約30
0mと900 tmに定められている。
Lens 9.10 also has a focal length of approximately 30
0m and 900tm.

次に、CCD15の光電出力に基づいて焦点制御する制
御回路を第3図により説明する。CCD15の各受光エ
レメントの光強度に対応した測光情報としての蓄積電荷
量は、CCD駆動回路16からのタイミングノくルスに
応答して順次時系列に取り出される。掃き出された各受
光エレメントの電荷量はアンプ17によって増幅された
後、サンプルホールド回路18に入力する。サンプルホ
ールド回路18はCCD駆動回路16のタイミングパル
ス毎に、アンプ17の出力電圧のピーク値をサンプルし
て保持する。割算器19は、サンプルホールド回路18
の出力電圧を次のA / D変換器20の入力レベル範
囲に対して最適化するものである。割算器19で最適化
された出力電圧はA/D変換器20により、CCD駆動
回路16のタイミングパルスに応答してデジタル値に変
換され、そのデジタル値は高速I10転送(例えばダイ
レフ・トーメモリ・アクセス(DMA)方式)により、
ランダム・アクセス形式のメモI721に順次記憶され
る。このとき、メモリ21には、CCD15の各受光エ
レメントに対応して番地付けされた蓄積電荷量のデジタ
ル値が順次記憶される。
Next, a control circuit for controlling focus based on the photoelectric output of the CCD 15 will be explained with reference to FIG. The amount of accumulated charge as photometric information corresponding to the light intensity of each light-receiving element of the CCD 15 is sequentially extracted in time series in response to a timing pulse from the CCD drive circuit 16. The amount of electric charge swept out from each light-receiving element is amplified by an amplifier 17 and then input to a sample-and-hold circuit 18 . The sample and hold circuit 18 samples and holds the peak value of the output voltage of the amplifier 17 at every timing pulse of the CCD drive circuit 16. The divider 19 is a sample hold circuit 18
The output voltage of the A/D converter 20 is optimized for the next input level range of the A/D converter 20. The output voltage optimized by the divider 19 is converted into a digital value by the A/D converter 20 in response to the timing pulse of the CCD drive circuit 16, and the digital value is transferred to a high-speed I10 transfer (for example, die reflex, tomemory, etc.). access (DMA) method),
The data is sequentially stored in a random access format memo I721. At this time, the memory 21 sequentially stores digital values of accumulated charge amounts assigned addresses corresponding to each light receiving element of the CCD 15.

さて、メモ+721に記憶されたデジタル値はマイクロ
・プロセッサ22、及び乗除算専用の高速プロツセツザ
23によって、特定のアルゴリズムに従9て演算処理さ
れる。このとき、マイクロ・プロセッサ221ri、C
CD15の電荷量を掃き出した時点の対物l/ンズ5の
焦点位置と試料面とのずれ量を求め、そのずれ廿に対応
した対物レンズ5の駆*B量を1) / A f換器2
4FC出力する。そしてモータ等による駆動装rt 2
5はD/A変換器24の出力信号に応答して、対物レン
ズ5を光軸方向に所定音だけ移動させる。
Now, the digital values stored in the memo+721 are processed by the microprocessor 22 and the high-speed processor 23 dedicated to multiplication and division according to a specific algorithm. At this time, the microprocessor 221ri, C
Find the amount of deviation between the focal position of the objective lens 5 and the sample surface at the time when the amount of charge on the CD 15 is swept out, and calculate the amount of drive *B of the objective lens 5 corresponding to the deviation by 1) / A f converter 2
4FC output. And a driving device rt 2 using a motor etc.
5 moves the objective lens 5 by a predetermined amount in the optical axis direction in response to the output signal of the D/A converter 24.

尚、割算器19はマイクロ・プロセッサ22の出力デー
タを■)/A変換器26でアナログ化したものを分母と
して、サンプル・ホールド回路18の出力電圧をアナロ
グ的に除算する。このJII算器19はマイクロ・プロ
セッサ22を介して、いわゆ名オート・ゲイン・コント
ロール(AGC)として作用する。甘だ、マイクロ・プ
ロセッサ22にけ所定の動作を行なわせるためのプログ
ラムを常駐するメモリ部と、各種演算や比較等を行なう
演算レジスタ部と、外部の各回路とのやり取りを行なう
[10ポート部等が含まれている。
Incidentally, the divider 19 divides the output voltage of the sample-and-hold circuit 18 in an analog manner using the output data of the microprocessor 22 converted into analog data by the /A converter 26 as a denominator. This JII calculator 19 functions via a microprocessor 22 as a so-called automatic gain control (AGC). That's naive.The microprocessor 22 has a memory section that stores programs to perform predetermined operations, an arithmetic register section that performs various calculations and comparisons, and a port section that communicates with external circuits. etc. are included.

次に、この装置つ動作を第4図のフローチャート図に基
づいて説明−する。このフローチャート図はマイクロ−
プロセッサ22の動作シーケンスを示すものである。線
幅を測定しようとする試料6を対物レンズ5の下に載置
する。この際、対物レンズ5と試料6とlま、試料6の
厚さを考慮して予め定められた間隔に設定される。焦点
制御動作が開始されると、ステップ100のrccDR
DI Jで、CCD15の測光情報が各受光エレメント
毎に全て読み出され、A/D変換器20を介してメモ1
J21に順次記憶される。そしてマイクロ・プロセッサ
22はメモリ21に記憶された測光情報のうち、CCD
15の前ビン検出領域15cと後ピン検出領域15bと
に相当する測光情報を読み出して、ステップ101の「
エリア検出」の処理を実行する。この「エリア検出」は
対物レンズ5の焦点位置と試料面とのずれ量が、読み出
した測光情報に基づいて、ただちに求められるか否かを
検出するものである。ずれ量が極めて大きいとCCD1
5の受光面上の光強度分布は第5図(8)のように、各
検出領域15a−15bに渡ってほぼフラットになって
しまう。尚、第5図でDsはA/D変換器20がデジタ
ル変換し得る最大の値に相当する。この「エリア検出」
は前ピン、後ピン検出領域15c。
Next, the operation of this apparatus will be explained based on the flowchart shown in FIG. This flowchart diagram is
It shows the operation sequence of the processor 22. A sample 6 whose line width is to be measured is placed under the objective lens 5. At this time, the distance between the objective lens 5 and the sample 6 is set at a predetermined interval in consideration of the thickness of the sample 6. When the focus control operation is started, rccDR in step 100
In the DI J, all photometric information from the CCD 15 is read out for each light receiving element, and sent to the memo 1 via the A/D converter 20.
The data are sequentially stored in J21. Then, the microprocessor 22 selects the CCD from among the photometric information stored in the memory 21.
The photometric information corresponding to the front bin detection area 15c and the rear bin detection area 15b of No. 15 is read out, and step 101 is performed.
Execute the "Area Detection" process. This "area detection" is to detect whether the amount of deviation between the focal position of the objective lens 5 and the sample surface can be immediately determined based on the read photometric information. If the amount of deviation is extremely large, CCD1
As shown in FIG. 5(8), the light intensity distribution on the light-receiving surface of No. 5 becomes substantially flat across each detection area 15a-15b. Note that in FIG. 5, Ds corresponds to the maximum value that can be digitally converted by the A/D converter 20. This "area detection"
is the front focus/back focus detection area 15c.

15bの光強度分布に所定の大きさのピーク(又はディ
ップ)があるか否かを検出する。もし、第5図(a)の
ように光強度分布がフラットであれば、マイクロ−プロ
セッサ22は次のステップ102でエリア外と判断して
、ステップ103の「レンズ駆動A」に実行を移す。「
レンズ駆動A」の処理は、対物レンズ5を光軸方向に一
定量だけ駆動させるものである。具体的には、マイクロ
・プロセッサ22がD / A変換器24に、予め定め
られた一定値、例えば対物レンズ5の移動量として20
触に相当する値を出力する。この値に応じて駆動装置2
5は対物レンズ5を移動する。この移動が終了すると、
マイクロ・プロセッサ22は再びステップ100から上
述の動作を繰り返す。
It is detected whether there is a peak (or dip) of a predetermined size in the light intensity distribution of 15b. If the light intensity distribution is flat as shown in FIG. 5(a), the microprocessor 22 determines that it is outside the area in the next step 102, and moves on to "lens drive A" in step 103. "
The process of ``lens drive A'' is to drive the objective lens 5 by a certain amount in the optical axis direction. Specifically, the microprocessor 22 supplies the D/A converter 24 with a predetermined constant value, for example, 20 as the amount of movement of the objective lens 5.
Outputs the value corresponding to the touch. Drive device 2 depending on this value
5 moves the objective lens 5. Once this movement is complete,
Microprocessor 22 again repeats the above operations starting at step 100.

さて、ステップ102でエリア内と判断されると、マイ
クロ・プロセッサ22は再びステップ100と同様にス
テップ104のrccDRD2Jを実行する。ただし、
ステップ104(7)rccDRD2Jは、割算器19
の分母となる定数を決定して、A/D変換器20の入力
電圧を最適化する処理も行なう。
Now, if it is determined in step 102 that the area is within the area, the microprocessor 22 again executes rccDRD2J in step 104 in the same manner as in step 100. however,
Step 104 (7) rccDRD2J is the divider 19
A process of optimizing the input voltage of the A/D converter 20 by determining a constant that becomes the denominator of is also performed.

そこで、この最適化について第5図(b)を用いて説明
する。今、初めに読み込んだCCD15の光強度分布が
割算器支9の出力電圧として分布1のように、最大値り
日 に対して全体的に低い場合は、メモ1721に記憶
された各受光エレメント毎の測光値(電荷量)をサーチ
して、分布i中のピーク値を見つける。そしてこのピー
ク値と最大値Dsとの比を求めて、その比に応じた定数
をD / A変換器26に出力する。これKより割算器
19の分母は小さな値に更新され、次に同一焦点位置で
CCD 15の測光情報を読み込んだとき、割算器19
の出力電圧は分布jのようにピーク値が最大値D8 に
近いものとなる。このように、測光情報のピーク成分を
検出して最適化することによって、A/D変換の際のデ
ジタル誤差が減少し、十分なS/N比で処理できるりで
、再現性が極めて向上する。
Therefore, this optimization will be explained using FIG. 5(b). If the light intensity distribution of the CCD 15 read first is lower than the maximum value as shown in distribution 1 as the output voltage of the divider support 9, each light receiving element stored in the memo 1721 The peak value in the distribution i is found by searching for each photometric value (charge amount). Then, the ratio between this peak value and the maximum value Ds is determined, and a constant corresponding to the ratio is output to the D/A converter 26. From this K, the denominator of the divider 19 is updated to a smaller value, and when the next time the photometric information of the CCD 15 is read at the same focal position, the divider 19
The output voltage has a peak value close to the maximum value D8 as shown in distribution j. In this way, by detecting and optimizing the peak component of photometric information, digital errors during A/D conversion are reduced, processing can be performed with a sufficient S/N ratio, and reproducibility is greatly improved. .

さて、ステソゲ105の「焦点演算A」では、最適化さ
れてメモIJ21に記憶された測光情報のうち、CCD
 I 5の前ピン、後ピン検出領域15c 。
Now, in the "focus calculation A" of the Stesoge 105, the CCD
Front pin and rear pin detection area 15c of I5.

15bの両側光情報(以後、前ピン情報、後ビン情報と
する。)にのみ基づいて、対物レンズ5の焦点位置のず
れ鼠を演算する。この演算は基本的には前ピン情報と後
ビン情報とのちがいを求めて、ずれ量に換算するもので
ある。「焦点演算A」で、マイクロ・プロセッサ22は
メモリ21中の前ピン情報を読み取りて、前ビン検出領
域15cの各受光エレメントの測光強度の総和を求める
。これは、第5図(c) K斜線で示すように前ピン情
報の分布j上の面積S、を求めることに相当する。次に
、前ビン情報中のピーク値P、  を求め、総和(sl
とする)で除算する。この時、演算専用プロセッサ23
を用いて、P、/s、を実数演算し、その結果を保存し
ておく。次にマイクロ・プロセッサ22は後ビン情報を
メモリ21から読み取り、上記と同様に、第5図(C)
に斜線で示した総和$とピーク値P2とを求め、プロセ
ッサ23 でP2/82を実数演算する。
The deviation of the focal position of the objective lens 5 is calculated based only on the both-side optical information (hereinafter referred to as front focus information and rear bin information) of 15b. This calculation basically involves determining the difference between the front pin information and the rear bin information and converting it into a deviation amount. In "focus calculation A", the microprocessor 22 reads the front focus information in the memory 21 and calculates the sum of the photometric intensities of each light receiving element in the front bin detection area 15c. This corresponds to finding the area S on the distribution j of the front focus information as shown by the diagonal line K in FIG. 5(c). Next, the peak value P in the previous bin information is calculated, and the sum (sl
). At this time, the calculation-dedicated processor 23
Using P,/s, perform a real number operation and save the result. Next, the microprocessor 22 reads the rear bin information from the memory 21, and similarly as above, the microprocessor 22 reads the rear bin information from the memory 21, and as shown in FIG.
The total sum $ and the peak value P2 indicated by diagonal lines are obtained, and the processor 23 calculates P2/82 with a real number.

そして、先に求めた演算結果PI /82と、このP2
/S2  との減算を行なう。この減算値は前ピン、後
ピンを含めた焦点位置のずれ量に対応しており、理想的
には減算値が零になればずれ量も零となり、はぼ合焦し
たことになる。また減算値の正負は、対物レンズ5で形
成された像(又は共役像)が所定の合焦面に対して、前
側に位置しているか、後側に位置しているかを表わす。
Then, the previously calculated calculation result PI /82 and this P2
/S2. This subtraction value corresponds to the amount of deviation of the focus position including the front focus and the back focus, and ideally, if the subtraction value becomes zero, the deviation amount also becomes zero, which means that the object is in focus. The sign of the subtraction value indicates whether the image (or conjugate image) formed by the objective lens 5 is located in front or behind a predetermined focal plane.

このように、前ピン、後ビン情報を演算処理するとき、
測光強度の総和で規格化(除算PI /82 、Pt 
/82 )することによって、試料毎の反射率のちがい
に対して、精度が低下しないという利点がある。
In this way, when processing the front pin and rear bin information,
Normalized by the total photometric intensity (divided PI /82, Pt
/82) has the advantage that the accuracy does not deteriorate with respect to differences in reflectance from sample to sample.

さて、こうして演算された減算値は、そのまま焦点位置
のずれ量を表わすものではない。そこでマイクロ・プロ
セッサ22は、減算値をずれ量へ換算するために、予め
記憶回路(ROM等)に用意された変換テーブルをサー
チして、対応するずれ量を求める。この変換テーブルは
対物レンズ5の光学特性を含めて、装置毎に作成してお
くとよい。マイクロ・プロセッサ22は以上の処理をス
テラ7105の「焦点演算A」で行ない、次のステップ
106を実行する。ステップ106は、求めたずれ量が
所定値以下か否かを判断する。その所定値とは、例えば
対物レンズ5の光軸方向の上下動で、最適な焦点位置に
対して±1μ漢のずれ量に相当する。ステップ106で
所定値以上と判断されると、ステップ107の「レンズ
駆動B」が実行される。
Now, the subtraction value calculated in this way does not directly represent the amount of deviation of the focal position. Therefore, in order to convert the subtraction value into a deviation amount, the microprocessor 22 searches a conversion table prepared in advance in a storage circuit (ROM, etc.) to obtain the corresponding deviation amount. This conversion table is preferably created for each apparatus, including the optical characteristics of the objective lens 5. The microprocessor 22 performs the above processing using the "focus calculation A" of the Stella 7105, and executes the next step 106. In step 106, it is determined whether the calculated deviation amount is less than or equal to a predetermined value. The predetermined value corresponds to, for example, a vertical movement of the objective lens 5 in the optical axis direction, and a deviation amount of ±1 μm from the optimum focal position. If it is determined in step 106 that the value is equal to or greater than the predetermined value, "lens drive B" in step 107 is executed.

ここでマイクロ・プロセッサ22は、ステップ105で
求めたずれ量に対応した対物レンズ5の移動量を求める
。このずれ量と移動量との対応はROM等の記憶回路に
予め参照テーブルとして作成されている。従ってマイク
ロ・プロセッサ22は、この参照テーブルをサーチする
だけで、対応した移動量をただちに引き出すことができ
る。この移動量はD/A変換器24に出力され、駆動装
置25を介して対物レンズ5を光軸方向に移動量分だけ
駆動する。「レンズ駆動B」が終了すると、マイクロ拳
プロセッサ22は再びステップ104のrCCDRD2
Jから同様の操作を繰り返す。
Here, the microprocessor 22 determines the amount of movement of the objective lens 5 corresponding to the amount of shift determined in step 105. The correspondence between the amount of shift and the amount of movement is created in advance as a reference table in a storage circuit such as a ROM. Therefore, the microprocessor 22 can immediately retrieve the corresponding displacement amount simply by searching this lookup table. This amount of movement is output to the D/A converter 24, which drives the objective lens 5 in the optical axis direction by the amount of movement via the drive device 25. When "lens drive B" is completed, the microfist processor 22 again performs the rCCDRD2 in step 104.
Repeat the same operation from J.

以上、ステップ404.10へ106 、107 で、
対物レンズ5の焦点位置が粗調整される。粗調整の完了
はステップ106で判断されるが、その判断基準は、前
ピン、後ピン情報から得られる減算値(差動情報)のみ
で、対物レンズ5を駆動できる最小の限界か否かで定め
られている。これは、焦点位置が正確に合致したとして
も対物レンズ5固有のボケ像が前側と後側とのピント面
で非対称になるだめである。
Above, proceed to step 404.10 with steps 106 and 107.
The focal position of the objective lens 5 is roughly adjusted. Completion of the rough adjustment is determined in step 106, but the criterion for this determination is only the subtraction value (differential information) obtained from the front focus and rear focus information, and whether it is the minimum limit that can drive the objective lens 5. It is determined. This is because even if the focal positions match accurately, the blurred image inherent to the objective lens 5 will be asymmetrical between the front and rear focus planes.

さて、ステップ106で粗調整(合焦位置に対して、例
えば±1μm以内)の完了が判断されると、次にステッ
プ108のrccDRD3Jが実行される。rccDR
D3JはrCCDRD2 Jと同様に、CCD15の測
光情報をメモ+721に読み込む。尚、r CCI)I
ID 3 Jでは割算器19による最適化を行な−でも
よいが、処理時間がその分長くなるため、あえて行なわ
なくてもよい。このときメモIJ 21にML憶された
測光情報の光強度分布は、第5図(d)に示すようにな
る。すなわち、粗調整によ−て、CCD15の前ピン、
後ビン検出領域150 、 tsb上のレーザスポット
光のボケ像はほぼ等しいガウス分布形状になる。また、
合焦検出領域15a上のスポット光の光強度は極めて鋭
いビークPmを持ったガウス分布になる。尚、領域15
a上のスポット光の像の大きさは、CCD15の1つの
受光エレメントよりも十分大きい。そして領域15aに
対する結像倍率は他の2つの領域15b 、 15cK
対する結像倍率よりも大きく定められているから、焦点
位置のわずかな変動に対して、ビークPmの大きさは極
めて敏感に変化する。
Now, when it is determined in step 106 that the coarse adjustment (for example, within ±1 μm with respect to the in-focus position) has been completed, rccDRD3J in step 108 is executed. rccDR
The D3J reads the photometric information of the CCD 15 into the memo+721 in the same way as the rCCDRD2J. In addition, r CCI) I
For ID3J, optimization may be performed by the divider 19, but since the processing time increases accordingly, it is not necessary to perform optimization. At this time, the light intensity distribution of the photometric information stored in the ML in the memo IJ 21 is as shown in FIG. 5(d). That is, by rough adjustment, the front pin of CCD 15,
The blurred images of the laser spot light on the rear bin detection area 150 and tsb have approximately the same Gaussian distribution shape. Also,
The light intensity of the spot light on the focus detection area 15a has a Gaussian distribution with an extremely sharp peak Pm. Furthermore, area 15
The size of the spot light image on a is sufficiently larger than one light receiving element of the CCD 15. The imaging magnification for the area 15a is the other two areas 15b and 15cK.
Since the imaging magnification is set to be larger than the corresponding imaging magnification, the size of the beak Pm changes extremely sensitively to slight fluctuations in the focal position.

そこで、次のステップ109「焦点演XBJで、マイク
ロ・プロセッサ22は、メモリ21中の合焦検出領域1
5aの測光情報(以後、合焦情報とする)を読み込み、
合焦情報(第5図の斜線部)中のビークPmの値を求め
る。このビークPmの値はマイクロ・プロセッサ22に
記憶される。ステップ110は、求められたビークPy
ycが対物レンズ5のわずかな上下動範囲内において最
大となったか否かを判断する。ステップ110で最大で
ないと判断されると、マイクロ・プロセッサ22はステ
ップ111の「レンズ駆動C」を実行する。「レンズ駆
@C」は対物レンズ5を微小量、例えば0.1踊だけ光
軸方向に移動させる。そしてマイクロ書プロセッサ22
・は再びrCCDRD3Jからの実行を繰り返す。ステ
ップ110でピークPユが最も大きくなったと判断され
ると、次のステップ112の「位置記憶」に進む。この
「位置記憶」で、マイクロ・プロセッサ22は試料6を
載置した基台に対する対物レンズ5の位置を、不図示の
ポテンショ・メータ等で読み取って記憶する。
Therefore, in the next step 109 "focus detection XBJ, the microprocessor 22 selects the focus detection area 1 in the memory 21.
Load the photometry information (hereinafter referred to as focus information) of 5a,
The value of the peak Pm in the focus information (shaded area in FIG. 5) is determined. This value of peak Pm is stored in microprocessor 22. In step 110, the determined peak Py
It is determined whether yc has reached a maximum within a slight vertical movement range of the objective lens 5. If it is determined in step 110 that it is not the maximum, the microprocessor 22 executes "lens drive C" in step 111. "Lens drive@C" moves the objective lens 5 by a minute amount, for example, 0.1 movement, in the optical axis direction. and microbook processor 22
- repeats the execution from rCCDRD3J again. If it is determined in step 110 that the peak Pyu has become the largest, the process proceeds to the next step 112, ``position storage''. In this "position storage", the microprocessor 22 reads and stores the position of the objective lens 5 with respect to the base on which the sample 6 is placed using a potentiometer (not shown) or the like.

尚、上記ステップ108 、109 、110 、11
1によって焦点位IHの微調整が行なわれる。この微調
整は、上記実施例では合焦情報のビークPmが最大とな
るように、対物レンズ5を微小量ずつ移動させる、いわ
ゆるサーボ制御的な動作であった。
In addition, the above steps 108, 109, 110, 11
1, the focal position IH is finely adjusted. In the above embodiment, this fine adjustment was a so-called servo control-like operation in which the objective lens 5 was moved minute by minute so that the peak Pm of the focusing information was maximized.

しかし、その他の方法として、対物レンズ5を微小量だ
け移動させては、ビークPmの値をサンプリングし、対
物レンズ5の微調整範囲内(例えば±1μm以内)でビ
ークPmの変化を順次記憶する。
However, as another method, the value of the peak Pm is sampled by moving the objective lens 5 by a minute amount, and the changes in the peak Pm are sequentially stored within the fine adjustment range of the objective lens 5 (for example, within ±1 μm). .

そして、ソフトウェア的な処理により、ビークP□の最
大値に対応した対物レンズ5の位置を求め、その位置に
ただちに対物レンズ5を移動させることもできる。
Then, by software processing, the position of the objective lens 5 corresponding to the maximum value of the peak P□ can be determined, and the objective lens 5 can be immediately moved to that position.

さて、ステップ112の「位置記憶」で記憶された位置
情報は、次の試料が載置されたときに、対物レンズ5を
ただちに焦点制御するために使われる。一般に、同一処
理、同一ロット内のウェハ間においては、厚みの差がほ
とんどない。従って、そのようなウェハを多数検査する
場合、記憶された位置情報に基づいて対物レンズ5を、
移動すれば極めて高速な焦点制御が可能となる。この際
、位置情報に基づく対物レンズ5の移動を粗調整とし、
次いて前述の如く微調整を行なえば、ウェハのわずかな
湾曲やそりに対しても正確な焦点位置制御ができる。ま
だ、その位置情報を使えば、何らかの事態で焦点が大幅
にずれた場合でもすぐに元にもどせる機能、すなわち自
動復帰機能も組み込める。
Now, the position information stored in "position storage" in step 112 is used to immediately control the focus of the objective lens 5 when the next sample is placed. Generally, there is almost no difference in thickness between wafers in the same process and in the same lot. Therefore, when inspecting a large number of such wafers, the objective lens 5 is adjusted based on the stored position information.
If the lens is moved, extremely high-speed focus control becomes possible. At this time, the movement of the objective lens 5 based on the position information is coarsely adjusted,
Next, by making fine adjustments as described above, accurate focal position control can be achieved even for slight curvature or warping of the wafer. However, by using this location information, it is also possible to incorporate a function that allows the camera to quickly return to its original state even if the focus shifts significantly due to some situation, in other words, an automatic return function.

また、対物レンズ5のかわりに試料6を上下動させても
よいことは言うまでもない。さらに、対物レンズ5に焦
点調整機構(フォーカス環等)が組み込まれている場合
でも、この機構を上記実施例と同様に駆動装置25で駆
動すれば、同様の効果が得られる。
Furthermore, it goes without saying that the sample 6 may be moved up and down instead of the objective lens 5. Further, even if the objective lens 5 has a focus adjustment mechanism (such as a focus ring) incorporated therein, the same effect can be obtained if this mechanism is driven by the drive device 25 in the same manner as in the above embodiment.

また、実施例では、対物レンズ5からの光束は2つに分
割されて、それぞれレンズ9とIOに入射していた。し
かしながら、レンズ1oの後にビームスプリッタ等を設
けて光束を2つに分け、その一方の光路を通った光束は
CCD15の領域15aに達するようにし、他方の光路
を通った光束は新たに設けたレンズを介して領域15b
、15cに達するように構成してもよい。もちろん、こ
の場合も、レンズIO単独の結像倍率は、レンズ10と
新だに設けたレンズとの合成によって決まる結像倍率よ
り大きく定められる。
Further, in the embodiment, the light beam from the objective lens 5 is divided into two parts, and each part enters the lens 9 and the IO. However, a beam splitter or the like is installed after the lens 1o to split the light beam into two, and the light beam that has passed through one optical path reaches the area 15a of the CCD 15, and the light beam that has passed through the other optical path is sent to a newly installed lens. through area 15b
, 15c. Of course, also in this case, the imaging magnification of the lens IO alone is set to be larger than the imaging magnification determined by the combination of the lens 10 and the newly provided lens.

もちろん、CCD15の2の領域15b、 15cの夫
々に対して独立釦焦点距離の短いレンズを設けてもよい
ことは甘うまでもない。
Of course, it goes without saying that a lens with a short independent button focal length may be provided for each of the two areas 15b and 15c of the CCD 15.

以上、本発明の実施例では、CCD15上に結像される
像をレーザ光のスポットとしたが、必らずしもレーザ光
、いわゆるコヒーレント光である必要はない。唸だ試料
6として製造工程中のウェハを検査する場合、アルミ蒸
着処理された表面は極めて反射率が高く、CCD15の
蓄積電荷量が飽和してしまうこともある。そこでウェハ
の表面状態(フォトレジスト、酸化シリコン、ポリシリ
コン又はアルミニウム)に応じて、ccD駆動回路16
を制御して、CCD 15の続出しサイクルを可変にし
たり、蓄積時間を変えたりすればよい。
As described above, in the embodiment of the present invention, the image formed on the CCD 15 is a spot of laser light, but it does not necessarily have to be laser light, so-called coherent light. When inspecting a wafer in the manufacturing process as the sample 6, the aluminum vapor-deposited surface has extremely high reflectance, and the amount of accumulated charge in the CCD 15 may become saturated. Therefore, depending on the surface condition of the wafer (photoresist, silicon oxide, polysilicon, or aluminum), the ccD drive circuit 16
The continuous output cycle of the CCD 15 may be made variable or the accumulation time may be changed by controlling.

まだ、割算器19による最適化において、k勺変換器2
0の入力電圧が最大値D8 を越えると、変換されるデ
ジタル値はビット数により定まる最も大きなデジタル値
に制限されてしまう。そこでマイクロ・プロセッサ22
がメモリ21中の測光情報に基づいて、割算器19の分
母を決定する際、メモリ21中に1つで最大のデジタル
値があったときは、分母を大きな値に更新して、A /
 D変換器20のデジタル的な飽和を防止すればよい。
Still, in the optimization using the divider 19, the k-transformer 2
If the zero input voltage exceeds the maximum value D8, the digital value to be converted will be limited to the largest digital value determined by the number of bits. So the microprocessor 22
When determining the denominator of the divider 19 based on the photometric information in the memory 21, if there is one maximum digital value in the memory 21, the denominator is updated to a larger value and A/
It is sufficient to prevent digital saturation of the D converter 20.

このようにすれば、メモリ21に読み込まれる測光情報
は飽和のない、S/N比の良いものとなり、焦点制御の
精度や再現性が向上する。
In this way, the photometric information read into the memory 21 is free from saturation and has a good S/N ratio, improving the precision and reproducibility of focus control.

以上説明したように本発明では、焦点整合すべき対象物
からの反射光を2光束に分離し、一方は前ピン、後ピン
検出用の光電検出器に導き、他方は合焦検出用の光電検
出器に導くと共に、合焦検出用の光電検出器に対する結
像倍率を他の光電検出器に対する結像倍率よりも大きく
した。このため、焦点位置の制御範囲が広くなると共に
、極めて高精度の自動焦点制御が実現できるという効果
を有する。
As explained above, in the present invention, the reflected light from the object to be focused is separated into two beams, one of which is guided to the photoelectric detector for detecting the front focus and the rear focus, and the other is guided to the photoelectric detector for detecting the focus. At the same time, the imaging magnification for the photoelectric detector for focus detection was made larger than the imaging magnification for other photoelectric detectors. This has the effect of widening the control range of the focus position and realizing extremely high-precision automatic focus control.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の実施例による焦点制御装置を組み込ん
だ線幅測定装置の斜視図、第2図は焦点検出光学系を示
を配置図、第3図は焦点制御を行なうだめの制御回路の
ブロック図、第4図は、焦点制御の動作を説明するフロ
ーチャート図、第5図は焦点制御の動作に伴って変化す
るCCD15の光強度分布を説明するだめの図である。 〔主要部分の符号の説明〕 ■・・・レーザ光源、5・・・対物レンズ、9・・・短
焦点距紡のレンズ、IO・−長焦点距離のレンズ、15
・・・−次元電荷結合デバイス(7オトアレ(イ)出願
人  日本光学工業株式会社 代理人  渡  辺  隆  男 :A71 閃 /172閃 矛3囚 −A74図 、+−5図 15(115615C
Fig. 1 is a perspective view of a line width measuring device incorporating a focus control device according to an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a layout diagram showing a focus detection optical system, and Fig. 3 is a control circuit for performing focus control. FIG. 4 is a flowchart for explaining the focus control operation, and FIG. 5 is a diagram for explaining the light intensity distribution of the CCD 15 that changes with the focus control operation. [Explanation of symbols of main parts] ■...Laser light source, 5...Objective lens, 9...Short focal length lens, IO--long focal length lens, 15
...-dimensional charge-coupled device (7 Otoare (a) Applicant: Takashi Watanabe, agent of Nippon Kogaku Kogyo Co., Ltd.: A71 Sen/172 Senko 3 prisoners - A74 figure, +-5 figure 15 (115615C)

Claims (1)

【特許請求の範囲】 +11  対象物からの光を入射する対物レンズと;該
対物レンズの予定焦点面における結像状態を検出する第
1光電検出器と:該予定焦点面を挾んだ前後2つの位置
における結像状態を各々検出する第2及び第3光電検出
器と:前記対物レンズからの光を前記第1、第2、第3
光電検出器の夫々に導く第1、第2、第3結像手段と:
前記3つの光電検出器の各出力信号に基づいて、前記対
物レンズによる像が予定焦点面上に結像される如く制御
する制御回路とを備え、前記第1結像手段の結像倍率を
他の結像手段の結像倍率よりも大きく定めたことを特徴
とする焦点制御装置。 (2)前記第2と第3結像手段は、前記対物レンズから
の光を前記第2、第3光電検出器の両方に導びくように
、1つのレンズ手段(9)で兼用したことを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の焦点制御装置。 (3)特許請求の範囲第1項記載の装置において、前記
3つの光電検出器は、複数の受光素子を一次元に配列し
たJつの7オトアレイ05で構成され、該フォトアレイ
上の受光面を素子配列方向に3つの領域に分け、各領域
を夫々、前記第11第2、第3光電検出器として使うこ
とを特徴とする焦点制御装置。 (4)特許請求の範囲第1項記載の装置において、前記
制御回路は前記第2と第3光電検出器の両市力信号がほ
ぼ等しくなるように前記対物レンズと対象物との間隔を
粗調整した後に、前記第1光電検出器の出力信号が最大
になるように前記間隔を微調整するマイクロ・プロセッ
サ(支)を有することを特徴とする焦点制御装置。
[Scope of Claims] +11 An objective lens into which light from an object is incident; a first photoelectric detector that detects an image formation state at a predetermined focal plane of the objective lens; second and third photoelectric detectors each detecting an imaging state at two positions;
first, second and third imaging means for guiding each of the photoelectric detectors;
a control circuit that controls the image formed by the objective lens to be formed on a predetermined focal plane based on each output signal of the three photoelectric detectors, and controls the imaging magnification of the first imaging means to another value. A focus control device characterized in that the imaging magnification is set to be larger than the imaging magnification of the imaging means. (2) The second and third imaging means are combined by one lens means (9) so as to guide the light from the objective lens to both the second and third photoelectric detectors. A focus control device according to claim 1. (3) In the device according to claim 1, the three photoelectric detectors are composed of J 7-photo arrays 05 in which a plurality of light receiving elements are arranged in one dimension, and the light receiving surface on the photo array is A focus control device characterized in that it is divided into three regions in the element arrangement direction, and each region is used as the eleventh, second and third photoelectric detectors, respectively. (4) In the apparatus according to claim 1, the control circuit roughly adjusts the distance between the objective lens and the object so that the power signals of the second and third photoelectric detectors are approximately equal. A focus control device comprising: a microprocessor (support) for finely adjusting the interval so that the output signal of the first photoelectric detector is maximized.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60238805A (en) * 1984-04-16 1985-11-27 シャンドン・サイエンティフィック・リミテッド Automatic focusing apparatus
JPS61235808A (en) * 1985-04-12 1986-10-21 Hitachi Ltd Method and device for automatic focusing

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60238805A (en) * 1984-04-16 1985-11-27 シャンドン・サイエンティフィック・リミテッド Automatic focusing apparatus
JPS61235808A (en) * 1985-04-12 1986-10-21 Hitachi Ltd Method and device for automatic focusing

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