JPS59176634U - 板状触媒配列構造 - Google Patents

板状触媒配列構造

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JPS59176634U
JPS59176634U JP6857783U JP6857783U JPS59176634U JP S59176634 U JPS59176634 U JP S59176634U JP 6857783 U JP6857783 U JP 6857783U JP 6857783 U JP6857783 U JP 6857783U JP S59176634 U JPS59176634 U JP S59176634U
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JP
Japan
Prior art keywords
projection
array structure
horizontal plane
catalyst layer
plate
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Pending
Application number
JP6857783U
Other languages
English (en)
Inventor
喜通 森
Original Assignee
バブコツク日立株式会社
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Publication date
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Priority to JP6857783U priority Critical patent/JPS59176634U/ja
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  • Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は従来の平行平板触媒を使用した脱硝反応器の構
造を示す正面図、第２図はその平面図、第３図は従来技
術による触媒配列で触媒層の上方に水平梁がある場合の
、ガス流れとダスト付着状′況を示す模式図、第４図は
同じく反応器入口ダクトコーナーの、ガス流れとダスト
付着状況を示す模式図、第５図は触媒層の上方に水平梁
がある場合の、本考案による触媒配列構造を示す平面図
、第６図は第５図の触媒配列構造の場合の、ガス流れと
ダスト付着状況を示す模式図である。 符号の説明、１・・・柱、２・・・水平梁、３・・・触
媒受梁、４・・・触媒層、５・・・平板触媒、６・・・
堆積ダスト。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 複数枚の平板触媒をほぼ垂直に互いに平行に配列してな
    る触媒層を使用した縦型ダウンフロータイブの脱硝反応
    器の板状触媒配列構造において、触媒層の四辺部および
    反応器内の水平梁の近傍部等、排ガスのガス流れの方向
    の水平面に対する投影が前記触媒層の水平面に対する投
    影と角度を有する個所について、該個所に配置する平板
    触媒の全部または一部を、該平板触媒の水平面に対する
    投影が前記ガス流れの方向の水平面に対する投影と平行
    となるがごとく配列することを特徴とする板状触媒配列
    構造。
JP6857783U 1983-05-10 1983-05-10 板状触媒配列構造 Pending JPS59176634U (ja)

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JP6857783U JPS59176634U (ja) 1983-05-10 1983-05-10 板状触媒配列構造

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JP6857783U JPS59176634U (ja) 1983-05-10 1983-05-10 板状触媒配列構造

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JPS59176634U true JPS59176634U (ja) 1984-11-26

Family

ID=30198749

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