JPS59174744A - 二相流体の密度分布測定装置 - Google Patents
二相流体の密度分布測定装置Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は液体と気体との混合流体等の二相流体の密度分
布を測定する装置に関する。
布を測定する装置に関する。
たとえば沸騰水形原子炉内には冷却材である水と蒸気と
の二相流が流通される。このだめ。
の二相流が流通される。このだめ。
このような沸騰水形原子炉の原子炉機器の熱水力設計を
行なうためには管群内その他の流路を流通する二相流の
蒸気泡の量および分布、つまり、ビイド率、ピイド率分
布状態等を正確に測定する必要がある。なお、ディト率
は所定の流路断面積内に存在する気泡全体の断面積の割
合で示される。
行なうためには管群内その他の流路を流通する二相流の
蒸気泡の量および分布、つまり、ビイド率、ピイド率分
布状態等を正確に測定する必要がある。なお、ディト率
は所定の流路断面積内に存在する気泡全体の断面積の割
合で示される。
従来、このようなボイド率の測定法として探針法と称さ
れるものがある。この方法の装置は第１図に示す如くた
とえば二相流が流れる配管１内に探針２を挿入したもの
であって、この探針２の先端には互に離間した一対の電
極３，３が設けられている。この電極、？、３間には所
定の電圧が印加され、またこれら電極３．３間を流れる
電流は検出回路４で検出される。したがって、上記の電
極３，３間に水あるいは蒸気の気泡５・・・が存在する
とこの水あるいは蒸気の導電率に対応した電流が電極３
．３に流れ、この電極３．３間を流れる電流から電極３
，３間に水が存在しているかあるいは蒸気が存在してい
るかが判明する。そして、この電極３，３間に水が存在
している時間と気泡５・・・が存在している時間の割合
からディト率が求められ、表示器６に表示される。この
ものは構造が簡学である反面、精度が低く、また探針２
を挿入するために流れの状態が変化してしまう不具合が
あった。
れるものがある。この方法の装置は第１図に示す如くた
とえば二相流が流れる配管１内に探針２を挿入したもの
であって、この探針２の先端には互に離間した一対の電
極３，３が設けられている。この電極、？、３間には所
定の電圧が印加され、またこれら電極３．３間を流れる
電流は検出回路４で検出される。したがって、上記の電
極３，３間に水あるいは蒸気の気泡５・・・が存在する
とこの水あるいは蒸気の導電率に対応した電流が電極３
．３に流れ、この電極３．３間を流れる電流から電極３
，３間に水が存在しているかあるいは蒸気が存在してい
るかが判明する。そして、この電極３，３間に水が存在
している時間と気泡５・・・が存在している時間の割合
からディト率が求められ、表示器６に表示される。この
ものは構造が簡学である反面、精度が低く、また探針２
を挿入するために流れの状態が変化してしまう不具合が
あった。
また、二相流中を放射線たとえばＸｍを透過させてゲイ
ト率を測定するものもある。このものは第２図に示す如
くたとえば配管１内を流通する二相流に向けてＸ線管７
からＸｉのビーム８を照射し、この二相流を透過したＸ
線をＸ線検出器９で検出し、計数器１０によりその強度
を求めるものである。したがって、Ｘ線のビーム８の強
度をＩＸとし、また配管１内を水だけが流れた場合にＸ
線検出器９で検出されるＸ線の強度をＩｔ、配管１内を
蒸気だけが流れた場合のＸ線検出器９で検出されるＸ線
の強度を楡とすると、？イド率αは で求めることができる。また、この二相流の平均密度７
は水の密度をρｔ、蒸気の密度をρ２とすれば ρ＝α・ρ、＋（１＋α）ρｔ ・・・（２
）で求めることができる。このものは精度が高く、また
探針法の如く二相流の流れを乱すこともないが、Ｘ線の
ビーム８に沿った部分のディト率等しか求められない不
具合があった。
ト率を測定するものもある。このものは第２図に示す如
くたとえば配管１内を流通する二相流に向けてＸ線管７
からＸｉのビーム８を照射し、この二相流を透過したＸ
線をＸ線検出器９で検出し、計数器１０によりその強度
を求めるものである。したがって、Ｘ線のビーム８の強
度をＩＸとし、また配管１内を水だけが流れた場合にＸ
線検出器９で検出されるＸ線の強度をＩｔ、配管１内を
蒸気だけが流れた場合のＸ線検出器９で検出されるＸ線
の強度を楡とすると、？イド率αは で求めることができる。また、この二相流の平均密度７
は水の密度をρｔ、蒸気の密度をρ２とすれば ρ＝α・ρ、＋（１＋α）ρｔ ・・・（２
）で求めることができる。このものは精度が高く、また
探針法の如く二相流の流れを乱すこともないが、Ｘ線の
ビーム８に沿った部分のディト率等しか求められない不
具合があった。
このような不具合を解消するため、第３図および第４図
に示す如きものが考えられた。このものはＸ線管１ノお
よびＸ線検出器１２を走査機構１３によって移動させる
ものである。すなわち、まず第３図に示す如くＸ線管１
１およびＸ線検出器１２を配管１と直交する方向に移動
させ、各走査位置においてＸ線を照射して測定を行なう
。次に第４図に示す如くＸ線管１１およびＸ線検出器１
２を配管１を中心として１８００回動させ、各走査位置
においてＸ線を照射し、測定を行なう。次にこれら測定
データを所定の画像再構成アルゴリズムに従って処理す
ると配管１内における二相流の線吸収係数分布が求めら
れ、これによって密度分布だとえば♂イド率分布が求め
られる。７このものは配管１内等の？イド率分布等を正
確に求めることが可能であり、たとえば原子炉機器の熱
水力設計の際に二相流の挙動を正確に解析することがで
きる。しかし。
に示す如きものが考えられた。このものはＸ線管１ノお
よびＸ線検出器１２を走査機構１３によって移動させる
ものである。すなわち、まず第３図に示す如くＸ線管１
１およびＸ線検出器１２を配管１と直交する方向に移動
させ、各走査位置においてＸ線を照射して測定を行なう
。次に第４図に示す如くＸ線管１１およびＸ線検出器１
２を配管１を中心として１８００回動させ、各走査位置
においてＸ線を照射し、測定を行なう。次にこれら測定
データを所定の画像再構成アルゴリズムに従って処理す
ると配管１内における二相流の線吸収係数分布が求めら
れ、これによって密度分布だとえば♂イド率分布が求め
られる。７このものは配管１内等の？イド率分布等を正
確に求めることが可能であり、たとえば原子炉機器の熱
水力設計の際に二相流の挙動を正確に解析することがで
きる。しかし。
このようなものを実用化するには次のような問題がある
。すなわち、このようなものは１回の測定が終了するま
でに比較的長時間を要する。
。すなわち、このようなものは１回の測定が終了するま
でに比較的長時間を要する。
一方、流通される二相流はボイド率分布等が時間的に変
化する。このため、測定中における？イド率分布等の変
動がすべてノイズとして入力されてしまい、精度が低下
する不具合を生じる。
化する。このため、測定中における？イド率分布等の変
動がすべてノイズとして入力されてしまい、精度が低下
する不具合を生じる。
特に、比較的大きな気泡が比較的長い周期で流通するよ
うな流れいわゆるスラグ流の場合には精度が相当低下す
る等の不具合を生じる。
うな流れいわゆるスラグ流の場合には精度が相当低下す
る等の不具合を生じる。
本発明は以上の事情にもとづいてなされたもので、その
目的は二相流体のディト率分布等の密度分布を測定する
ことができ、またこの密度分布の短時間内での変動によ
る誤差を排除し、長時間の平均値に対応した正確な密度
分布を求めることができる二相流体の密度分布測定装置
を提供することにある。
目的は二相流体のディト率分布等の密度分布を測定する
ことができ、またこの密度分布の短時間内での変動によ
る誤差を排除し、長時間の平均値に対応した正確な密度
分布を求めることができる二相流体の密度分布測定装置
を提供することにある。
本発明は二相流体に向けて放射線を照射する放射線照射
器と、上記二相流体を透過した放射線を検出する放射線
検出器と、上記放射線照射器および放射線検出器を移動
させる走査機構と、上記放射線検出器および走査機構か
らの信号を受けこれらの信号から上記二相流体の密度分
布を算出するとともに複数回の測定データを平均しこの
平均値が所定の範囲内に達するまで測定を繰返させる信
号処理回路とを具備したものである。したがって、放射
線照射器と放射線検出器の走査により二相流体の密度分
布が求められる。また、流通される二相流体の密度分布
は温度、圧力、流速等の条件が一定であれば短時間内で
の密度分布には変動を生じても長時間にわたる密度分布
は一定となる。よって測定を複数回繰返してその平均を
求めればその平均値は長時間にわたる密度分布の平均値
に収束する。したがって、信号処理回路で密度分布の平
均値釜求めながらこの密度分布が所定の範囲内に収束す
るまで測定を繰返すので所望の精度の密度分布を自動的
に求めることができる。
器と、上記二相流体を透過した放射線を検出する放射線
検出器と、上記放射線照射器および放射線検出器を移動
させる走査機構と、上記放射線検出器および走査機構か
らの信号を受けこれらの信号から上記二相流体の密度分
布を算出するとともに複数回の測定データを平均しこの
平均値が所定の範囲内に達するまで測定を繰返させる信
号処理回路とを具備したものである。したがって、放射
線照射器と放射線検出器の走査により二相流体の密度分
布が求められる。また、流通される二相流体の密度分布
は温度、圧力、流速等の条件が一定であれば短時間内で
の密度分布には変動を生じても長時間にわたる密度分布
は一定となる。よって測定を複数回繰返してその平均を
求めればその平均値は長時間にわたる密度分布の平均値
に収束する。したがって、信号処理回路で密度分布の平
均値釜求めながらこの密度分布が所定の範囲内に収束す
るまで測定を繰返すので所望の精度の密度分布を自動的
に求めることができる。
以下図面を参照して本発明の詳細な説明する。第５図お
よびｗＳ６図は本発明の第１実施例を示す。図中の符号
１０１は配管であって、この配管１０ノ内には液体たと
えば水１０２と気体たとえば蒸気の気泡１θ３・・・と
からなる測定すべき二相流体が流通される。上記配管１
０１の周囲には静止基準体Ｉθ４が設けられている。
よびｗＳ６図は本発明の第１実施例を示す。図中の符号
１０１は配管であって、この配管１０ノ内には液体たと
えば水１０２と気体たとえば蒸気の気泡１θ３・・・と
からなる測定すべき二相流体が流通される。上記配管１
０１の周囲には静止基準体Ｉθ４が設けられている。
この静止基準体１０４は密度、密度分布等が時間的に変
動しない物体たとえば固体あるいは容器内に密封された
均質な液体等から構成されている。なお、この第１実施
例では上記静止基準体１０４はアクリル樹脂で形成され
、環状をなしている。図中符号１θ５は放射線照射器た
とえばＸｍ管を示し、配管１０ノ内を流通する二相流体
に向けてＸ線のビームｌθ６を照射する。
動しない物体たとえば固体あるいは容器内に密封された
均質な液体等から構成されている。なお、この第１実施
例では上記静止基準体１０４はアクリル樹脂で形成され
、環状をなしている。図中符号１θ５は放射線照射器た
とえばＸｍ管を示し、配管１０ノ内を流通する二相流体
に向けてＸ線のビームｌθ６を照射する。
上記Ｘｍ管ｌθ５に対向する位置には放射線検出器たと
えばＸ線検出器１０７が設けられている。このＸ、＠検
出器１０７はＮａＩ 、 ＢＧＯなどのシンチレータと
このシンチレータから放射される光を検出する光電子増
倍管とから構成されており、上記Ｘ線管ｉｏｓから放射
され、静止基準体１０４．配管１０１および二相流体を
透過したＸ線の強度を検出するように構成されている。
えばＸ線検出器１０７が設けられている。このＸ、＠検
出器１０７はＮａＩ 、 ＢＧＯなどのシンチレータと
このシンチレータから放射される光を検出する光電子増
倍管とから構成されており、上記Ｘ線管ｉｏｓから放射
され、静止基準体１０４．配管１０１および二相流体を
透過したＸ線の強度を検出するように構成されている。
なお、符号１０Ｂは走査機構である。この走査機構１０
８は直走走査機構１０９と回動走査機構１１０とから構
成されている。上記直走走査機構１０９は上記Ｘ線管１
０５およびＸ線検出器１０７を配管１０１と直交する方
向に直線的に移動させるように構成されている。上記回
動走査機構１１０はＸ＠管１０５およびＸ線検出器１０
７を配管１０ノを中心として回動させるように構成され
ている７、上記Ｘ線検出器１０７からの信号は信号処理
回路１１ノに送られ、この信号処理回路１１１には上記
直走走査機構１０９および回動走査機構１１０から走査
位置信号が送られるように構成されている。この信号処
理回路１１１はこれらの信号にもとづいて第６図の流れ
図に示す如き操作を行なう。
８は直走走査機構１０９と回動走査機構１１０とから構
成されている。上記直走走査機構１０９は上記Ｘ線管１
０５およびＸ線検出器１０７を配管１０１と直交する方
向に直線的に移動させるように構成されている。上記回
動走査機構１１０はＸ＠管１０５およびＸ線検出器１０
７を配管１０ノを中心として回動させるように構成され
ている７、上記Ｘ線検出器１０７からの信号は信号処理
回路１１ノに送られ、この信号処理回路１１１には上記
直走走査機構１０９および回動走査機構１１０から走査
位置信号が送られるように構成されている。この信号処
理回路１１１はこれらの信号にもとづいて第６図の流れ
図に示す如き操作を行なう。
すなわち、まず配管１０１内に二相流体を流通させない
状態でＸ線管１０ｇおよびＸ線検出器１０７を走査させ
て測定をおこない、所定の画像再構成アルゴリズムに従
って静止基準体１０４および配管１０ノの密度分布の画
像を作成し、静止基準体１０４の画像中の複数の画素に
ついてそれらの測定値の分散σ。を算出し、記憶する。
状態でＸ線管１０ｇおよびＸ線検出器１０７を走査させ
て測定をおこない、所定の画像再構成アルゴリズムに従
って静止基準体１０４および配管１０ノの密度分布の画
像を作成し、静止基準体１０４の画像中の複数の画素に
ついてそれらの測定値の分散σ。を算出し、記憶する。
この場合、配管１０１内には何も流通されていないので
、ノイズの影響はなく、静止基準体１０４内の正確な分
散σ０が求められる。次に配管１０１内に二相流体を流
通させ、Ｘ線管ｌθ５およびＸ線検出器１０７を走査さ
せ、測定し。
、ノイズの影響はなく、静止基準体１０４内の正確な分
散σ０が求められる。次に配管１０１内に二相流体を流
通させ、Ｘ線管ｌθ５およびＸ線検出器１０７を走査さ
せ、測定し。
ついで投影データｇｉを収集する。そして、この測定を
繰返し、投影データｇｉの平均操作を行なう３、次に、
この平均した投影データｇにもとづいて静止基準体１０
４の測定値の分散σを求め、この分散σを初めに求めた
分散σ０と比較する。
繰返し、投影データｇｉの平均操作を行なう３、次に、
この平均した投影データｇにもとづいて静止基準体１０
４の測定値の分散σを求め、この分散σを初めに求めた
分散σ０と比較する。
そして、この分散σが分散σ。より大きな場合にはさら
に測定を行ない、新たに収集された投影データｇ１を加
えた平均操作を行々い、平均した投影データｇにもとづ
いて静止基準体１０４の分散σを求め、これを分散σ。
に測定を行ない、新たに収集された投影データｇ１を加
えた平均操作を行々い、平均した投影データｇにもとづ
いて静止基準体１０４の分散σを求め、これを分散σ。
と比較する。以下分散σが分散σ０以下となる壕で測定
を繰返す。
を繰返す。
そして、分散σが分散σ。以下となったら測定を終了し
、それまでの測定の投影データの平均にもとづいて二相
流体のディト率分布等の密度分布を求め、ＣＲＴ等の表
示器１１２に表示する。
、それまでの測定の投影データの平均にもとづいて二相
流体のディト率分布等の密度分布を求め、ＣＲＴ等の表
示器１１２に表示する。
以上の如く構成された第１実施例は複数回の測定を繰返
し、これらの平均の投影データにもとづいて算出した静
止基準体１０４の分散σが初めに測定した分散σ。以下
となるまで測定および平均操作を繰返すので、二相流体
のディト率分布を正確に求めることができる。すなわち
、二相流体が流通されていない状態で測定された静止基
準体１０４の分散σ。は二相流体のボイド率分布の変動
によるノイズが含まれていない。
し、これらの平均の投影データにもとづいて算出した静
止基準体１０４の分散σが初めに測定した分散σ。以下
となるまで測定および平均操作を繰返すので、二相流体
のディト率分布を正確に求めることができる。すなわち
、二相流体が流通されていない状態で測定された静止基
準体１０４の分散σ。は二相流体のボイド率分布の変動
によるノイズが含まれていない。
また、二相流体が流通された状態で測定された投影デー
タは測定時間内におけるボイド率分布の時間的変動がノ
イズとして入力されるため、このノイズによって静止基
準体１０４の分散σは大きくなる。しかし、測定を繰返
して投影データを平均してゆくとボイド゛重分布等の時
間的変動によるノイズが相殺されてゆき、この平均の投
影データは長時間にわたる平均的なボイド率分布の投影
データに収束してゆく。よって。
タは測定時間内におけるボイド率分布の時間的変動がノ
イズとして入力されるため、このノイズによって静止基
準体１０４の分散σは大きくなる。しかし、測定を繰返
して投影データを平均してゆくとボイド゛重分布等の時
間的変動によるノイズが相殺されてゆき、この平均の投
影データは長時間にわたる平均的なボイド率分布の投影
データに収束してゆく。よって。
平均の投影データが充分に収束されればノイズが相殺さ
れるので静止基準体１０４の分散σは最初に測定した分
散σ。より小さくなる。よって、この信号処理回路１１
１は静止基準体１０４の分散σが分散σ。以下となる首
で測定を繰返して平均操作を行なうので得られた二相流
体のパーイド率分布等のデータは測定中におけるボイド
率分布の変動によるノイズが除去された正確なもまた、
第７図および第８図には本発明の第２実施例を示す。こ
の第２実施例は配管１０ノの周囲に静止規準体は設けら
れていない。そして、この第２実施例は信号処理回路１
１１で第８図の流れ線図に示す如き処理操作を行なう。
れるので静止基準体１０４の分散σは最初に測定した分
散σ。より小さくなる。よって、この信号処理回路１１
１は静止基準体１０４の分散σが分散σ。以下となる首
で測定を繰返して平均操作を行なうので得られた二相流
体のパーイド率分布等のデータは測定中におけるボイド
率分布の変動によるノイズが除去された正確なもまた、
第７図および第８図には本発明の第２実施例を示す。こ
の第２実施例は配管１０ノの周囲に静止規準体は設けら
れていない。そして、この第２実施例は信号処理回路１
１１で第８図の流れ線図に示す如き処理操作を行なう。
すなわち、まず配管１０ノ内に二相流体を流通させてい
る状態においてＸ線管１０５およびＸ線検出器１０７を
一定の基準方向に向けて長時間静止させ、Ｘ線を照射し
てこの基準方向における投影データの基準平均値ｇ（ｒ
ｏ＋００）を求める。
る状態においてＸ線管１０５およびＸ線検出器１０７を
一定の基準方向に向けて長時間静止させ、Ｘ線を照射し
てこの基準方向における投影データの基準平均値ｇ（ｒ
ｏ＋００）を求める。
この基準平均値ｇ（ｒｏ＋θ。）は長時間の測定で得ら
れたものであるから、この基準平均値ｇ （ｒＱ ｌθ
。）は二相流体のボイド率分布の変動等のノイズが相殺
されたものとなる。次に、Ｘ線管１０５およびＸ線検出
器１０７を走査させて測定を行ない、投影データｇ１の
収集するとともにこの測定を繰返して投影データｇｉの
平均操作を行なう。
れたものであるから、この基準平均値ｇ （ｒＱ ｌθ
。）は二相流体のボイド率分布の変動等のノイズが相殺
されたものとなる。次に、Ｘ線管１０５およびＸ線検出
器１０７を走査させて測定を行ない、投影データｇ１の
収集するとともにこの測定を繰返して投影データｇｉの
平均操作を行なう。
そして、平均された投影データｇのうち前記基準方向の
投影データの平均値ｇ（’ｏｒθ。）と前記の基準平均
値ｇ（ｒｏ＋００）との差の絶対値が基準平均値ｇ（ｒ
ｏｒθ。）の絶対値に対応した値ε刈ｇ（ｒｏｔθ。）
１以下となるまで測定を繰返す。よってこの結果得られ
た投影データの平均値ｇは所定の範囲まで収束された所
定の精度を有することになる。
投影データの平均値ｇ（’ｏｒθ。）と前記の基準平均
値ｇ（ｒｏ＋００）との差の絶対値が基準平均値ｇ（ｒ
ｏｒθ。）の絶対値に対応した値ε刈ｇ（ｒｏｔθ。）
１以下となるまで測定を繰返す。よってこの結果得られ
た投影データの平均値ｇは所定の範囲まで収束された所
定の精度を有することになる。
なお、上記εを変えることにより精度を任意に設定する
ことができる。
ことができる。
また、第９図には本発明の第３実施例の信号処理操作の
流れ線図を示す。との第３実施例は信号処理回路での処
理操作が異なる他は前記第２実施例と同様の構成である
。この第３実施例では信号処理操作を第９図の流れ線図
に示す如く行なう。すなわち、まずＸ線管、Ｘ線検出器
を走査させて測定を行ない、投影データ町の収集を行な
うとともに測定を繰返し、各回の測定毎にそれまでの測
定の投影データの平均値１．ををそれぞれ算出してゆく
。そして、最新の平均値りとその前の回の平均値ｉ、−
５とを比較し、この平均値島とｉ、−４との差の絶対値
が最新の平均値の絶対値に対応した所定の値εＸ１ｇ、
１以下となるまで測定を繰返す。上記平均値ＩＪは測定
を重ねる毎にノイズが相殺された一定の平均値に収束し
てゆくが一定の平均値に近ずくにつれてその収束率が小
さくなってゆく。よって最新の平均値！、と前回の平均
値！、−１との差を求めてゆくことにより平均値ｉ、か
どの程度まで収束したかが判別できるので、この平均値
の差が所定の値εｘ＋’ｉ、を以下となるまで測定を繰
返せば所定の精度が得られる。なお、上記εの値を変え
ることにより精度を任意に設定することができるもので
ある。
流れ線図を示す。との第３実施例は信号処理回路での処
理操作が異なる他は前記第２実施例と同様の構成である
。この第３実施例では信号処理操作を第９図の流れ線図
に示す如く行なう。すなわち、まずＸ線管、Ｘ線検出器
を走査させて測定を行ない、投影データ町の収集を行な
うとともに測定を繰返し、各回の測定毎にそれまでの測
定の投影データの平均値１．ををそれぞれ算出してゆく
。そして、最新の平均値りとその前の回の平均値ｉ、−
５とを比較し、この平均値島とｉ、−４との差の絶対値
が最新の平均値の絶対値に対応した所定の値εＸ１ｇ、
１以下となるまで測定を繰返す。上記平均値ＩＪは測定
を重ねる毎にノイズが相殺された一定の平均値に収束し
てゆくが一定の平均値に近ずくにつれてその収束率が小
さくなってゆく。よって最新の平均値！、と前回の平均
値！、−１との差を求めてゆくことにより平均値ｉ、か
どの程度まで収束したかが判別できるので、この平均値
の差が所定の値εｘ＋’ｉ、を以下となるまで測定を繰
返せば所定の精度が得られる。なお、上記εの値を変え
ることにより精度を任意に設定することができるもので
ある。
上述の如く本発明は二相流体に向けて放射線を照射する
放射線照射器と、上記二相流体を透過した放射線を検出
する放射線検出器と、上記放射線照射器および放射線検
出器を移動させる走査機構と、上記放射線検出器および
走査機構からの信号を受けこれらの信号から上記二相流
体の密度分布を算出するとともに複数回の測定データを
平均しこの平均値が所定の範囲内に達するまで測定を繰
返させる信号処理回路とを具備したものである。したが
って、放射線照射器と放射線検出器の走査により二相流
体の密度分布が求められる。また、流通される二相流体
の密度分布は温度、圧力、流速等の条件が一定であれば
短時間内での密度分布には変動を生じても長時間にわた
る密度分布は一定と々る。よって測定を複数回繰返して
その平均を求めてゆけばその平均値は長時間にわた゛る
密度分布の平均値に収束してゆく。したがって信号処理
回路で密度分布の平均値を求めながらこの密度分布が所
定の範囲内に収束する壕で測定を繰返してゆくので所望
の精度の密度分布を自動的に求めることができ、高精度
な測定が可能となる等その効果は大である。
放射線照射器と、上記二相流体を透過した放射線を検出
する放射線検出器と、上記放射線照射器および放射線検
出器を移動させる走査機構と、上記放射線検出器および
走査機構からの信号を受けこれらの信号から上記二相流
体の密度分布を算出するとともに複数回の測定データを
平均しこの平均値が所定の範囲内に達するまで測定を繰
返させる信号処理回路とを具備したものである。したが
って、放射線照射器と放射線検出器の走査により二相流
体の密度分布が求められる。また、流通される二相流体
の密度分布は温度、圧力、流速等の条件が一定であれば
短時間内での密度分布には変動を生じても長時間にわた
る密度分布は一定と々る。よって測定を複数回繰返して
その平均を求めてゆけばその平均値は長時間にわた゛る
密度分布の平均値に収束してゆく。したがって信号処理
回路で密度分布の平均値を求めながらこの密度分布が所
定の範囲内に収束する壕で測定を繰返してゆくので所望
の精度の密度分布を自動的に求めることができ、高精度
な測定が可能となる等その効果は大である。
第１図から第４図はそれぞれ従来例を示す概略構成図、
第５図および第６図は本発明の第１実施例を示し、第５
図は概略構成図、第６図は信号処理の流れ線図、第７図
および第８図は本発明の第２実施例を示し、第７図は概
略構成図、第８図は信号処理の流れ線図、第９図は本発
明の第３実施例における信号処理の流れ線図である。 １０１・・・配管、１０２・・・水、１０３・・・気泡
。 １０４・・・静止基準体、１０Ｂ・・・走査機構、１１
１・・・信号処理回路、１１２・・・表示器。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第 １ 図 第２図 第３図 第５Ｐ！Ｊ 第６図 部子 第７図 第８図 チ不了
第５図および第６図は本発明の第１実施例を示し、第５
図は概略構成図、第６図は信号処理の流れ線図、第７図
および第８図は本発明の第２実施例を示し、第７図は概
略構成図、第８図は信号処理の流れ線図、第９図は本発
明の第３実施例における信号処理の流れ線図である。 １０１・・・配管、１０２・・・水、１０３・・・気泡
。 １０４・・・静止基準体、１０Ｂ・・・走査機構、１１
１・・・信号処理回路、１１２・・・表示器。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第 １ 図 第２図 第３図 第５Ｐ！Ｊ 第６図 部子 第７図 第８図 チ不了
Claims (1)
- 二相流体に向けて放射線番照射する放射線照射器と、上
記二相流体を透過した放射線を検出する放射線検出器と
、上記放射線照射器および放射線検出器を移動させる走
査機構と、上記放射線検出器および走査機構からの信号
を受けこれらの信号から上記二相流体の密度分布を算出
するとともに複数回の測定データを平均しこの平均値が
所定の範囲内に達するまで測定を繰返させる信号処理回
路とを具備したことを特徴とする二相流体の密度分布測
定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58049891A JPS59174744A (ja) | 1983-03-25 | 1983-03-25 | 二相流体の密度分布測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58049891A JPS59174744A (ja) | 1983-03-25 | 1983-03-25 | 二相流体の密度分布測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59174744A true JPS59174744A (ja) | 1984-10-03 |
Family
ID=12843650
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58049891A Pending JPS59174744A (ja) | 1983-03-25 | 1983-03-25 | 二相流体の密度分布測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59174744A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006524810A (ja) * | 2003-04-25 | 2006-11-02 | シーエックスアール リミテッド | Ｘ線モニタリング |
| US9020095B2 (en) | 2003-04-25 | 2015-04-28 | Rapiscan Systems, Inc. | X-ray scanners |
| US9048061B2 (en) | 2005-12-16 | 2015-06-02 | Rapiscan Systems, Inc. | X-ray scanners and X-ray sources therefor |
| US9675306B2 (en) | 2003-04-25 | 2017-06-13 | Rapiscan Systems, Inc. | X-ray scanning system |
| WO2017109295A1 (en) * | 2015-12-23 | 2017-06-29 | Outotec (Finland) Oy | A method and an arrangement for monitoring of a hydrometallurgical process |
| US10295483B2 (en) | 2005-12-16 | 2019-05-21 | Rapiscan Systems, Inc. | Data collection, processing and storage systems for X-ray tomographic images |
| US10591424B2 (en) | 2003-04-25 | 2020-03-17 | Rapiscan Systems, Inc. | X-ray tomographic inspection systems for the identification of specific target items |
-
1983
- 1983-03-25 JP JP58049891A patent/JPS59174744A/ja active Pending
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10591424B2 (en) | 2003-04-25 | 2020-03-17 | Rapiscan Systems, Inc. | X-ray tomographic inspection systems for the identification of specific target items |
| US9020095B2 (en) | 2003-04-25 | 2015-04-28 | Rapiscan Systems, Inc. | X-ray scanners |
| US9618648B2 (en) | 2003-04-25 | 2017-04-11 | Rapiscan Systems, Inc. | X-ray scanners |
| US9675306B2 (en) | 2003-04-25 | 2017-06-13 | Rapiscan Systems, Inc. | X-ray scanning system |
| US10175381B2 (en) | 2003-04-25 | 2019-01-08 | Rapiscan Systems, Inc. | X-ray scanners having source points with less than a predefined variation in brightness |
| JP2006524810A (ja) * | 2003-04-25 | 2006-11-02 | シーエックスアール リミテッド | Ｘ線モニタリング |
| US10901112B2 (en) | 2003-04-25 | 2021-01-26 | Rapiscan Systems, Inc. | X-ray scanning system with stationary x-ray sources |
| US11796711B2 (en) | 2003-04-25 | 2023-10-24 | Rapiscan Systems, Inc. | Modular CT scanning system |
| US9048061B2 (en) | 2005-12-16 | 2015-06-02 | Rapiscan Systems, Inc. | X-ray scanners and X-ray sources therefor |
| US9638646B2 (en) | 2005-12-16 | 2017-05-02 | Rapiscan Systems, Inc. | X-ray scanners and X-ray sources therefor |
| US10295483B2 (en) | 2005-12-16 | 2019-05-21 | Rapiscan Systems, Inc. | Data collection, processing and storage systems for X-ray tomographic images |
| US10976271B2 (en) | 2005-12-16 | 2021-04-13 | Rapiscan Systems, Inc. | Stationary tomographic X-ray imaging systems for automatically sorting objects based on generated tomographic images |
| WO2017109295A1 (en) * | 2015-12-23 | 2017-06-29 | Outotec (Finland) Oy | A method and an arrangement for monitoring of a hydrometallurgical process |
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