JPS59161466A - Multi-layered coating film - Google Patents
Multi-layered coating filmInfo
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- JPS59161466A JPS59161466A JP58034643A JP3464383A JPS59161466A JP S59161466 A JPS59161466 A JP S59161466A JP 58034643 A JP58034643 A JP 58034643A JP 3464383 A JP3464383 A JP 3464383A JP S59161466 A JPS59161466 A JP S59161466A
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- coating
- coating film
- coating composition
- epoxycyclohexyl
- hydrolyzate
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- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は各種基材上に形成される被膜であってとくに帯
電防止性の改良された複層被膜に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to coatings formed on various substrates, and particularly to multilayer coatings with improved antistatic properties.
従来技術
各種基材の保獲、外観品質向」二2表面機能付与に関し
、各種の被覆材を基材上にコーティングすることにより
問題を解決しようとする方法がこれまで広く行なわれて
おりその材料、コーティング方法に関し種々の提案があ
る。PRIOR TECHNOLOGY With regard to the preservation of various base materials and the improvement of their appearance quality, 22 methods have been widely used to solve the problems by coating the base materials with various coating materials. There are various proposals regarding coating methods.
一方かかる被覆材が静電気を帯電し、しばしば不都合を
生ずる。例えはほこりが付着することによる汚れ易さ、
低湿度時における人体接触時の不快な電気火花、とくに
帯電による計器類、電子機器などにおける故障原因が挙
げられる。On the other hand, such coating materials are charged with static electricity, which often causes problems. For example, the ease with which it gets dirty due to the adhesion of dust,
Disturbing electric sparks caused by contact with human bodies in low humidity conditions can cause malfunctions in instruments, electronic equipment, etc., especially due to electrostatic charge.
これらの解決法としては、これまで各種の提案がなされ
てきた。例えば界面活性剤などの制電性物質の被覆材へ
の添加、被覆材への塗布があるが。Various proposals have been made to solve these problems. For example, antistatic substances such as surfactants are added to the coating material or coated on the coating material.
これらの帯電防止性は一時的でありとくに被覆材へ添加
した場合は被覆材の耐水性を低下させるなどの悪影響が
ある。その他帯電防止性を有する塗膜で高硬度のものな
どの提案(特開昭54−109084 )もあるがこれ
らは最外層に主として帯電防止性を付与するためにその
他の性能とのバランスの選択が困難である。These antistatic properties are temporary, and especially when added to a coating material, they have adverse effects such as lowering the water resistance of the coating material. There are other proposals for coating films with antistatic properties and high hardness (Japanese Patent Laid-Open No. 109084/1984), but these require the selection of a balance with other properties in order to primarily impart antistatic properties to the outermost layer. Have difficulty.
発明の目的
゛本発明の目的は各種の表面特性を有する被膜を広範囲
に選択することができ、かつこれらの帯電防止性の向上
を可能にする複層被膜を提供し、とくに表面硬度、透明
性、耐久性、耐衝撃性などにすぐれた複層被膜を提供す
ることにある。Purpose of the Invention The purpose of the present invention is to provide a multi-layered coating that allows a wide selection of coatings with various surface properties and improves the antistatic properties of these coatings, with particular emphasis on surface hardness and transparency. Our objective is to provide a multilayer coating with excellent durability, impact resistance, etc.
発明の構成
本発明は下層被膜が下記成分A′f:含有する組成物の
硬化によって得られるものであり、上層被膜が厚さ00
1μ〜10μの被膜であることを特徴とする複層被膜を
その構成とするものである。Structure of the Invention In the present invention, the lower layer film is obtained by curing a composition containing the following component A'f, and the upper layer film has a thickness of 000.
The structure is a multilayer coating characterized by a coating thickness of 1 μm to 10 μm.
A、一般式
%式%()
で示される化合物、その加水分解物および/またはこれ
らの縮重合したオリゴマないしポリマ。A, a compound represented by the general formula % (), a hydrolyzate thereof, and/or a condensed oligomer or polymer thereof.
ここでMはTi(工V)、 5i(IV)、 Zr(I
IV)、 manは1〜4の整数、m、nは各々0,1
,2,3または4、RおよびR′は炭素数1〜10のア
ルキル基。Here, M is Ti (Technical V), 5i (IV), Zr (I
IV), man is an integer from 1 to 4, m and n are 0 and 1, respectively.
, 2, 3 or 4, R and R' are alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms.
アルコキシアルキル基、またはアシル基、XはM’C0
CH,COM’およびM”cOCH,C00M’ か
らなる群から選ばれた化合物から生ずる配位子(ここで
Ml。Alkoxyalkyl group or acyl group, X is M'C0
A ligand derived from a compound selected from the group consisting of CH, COM' and M"cOCH, C00M', where Ml.
M’、 M”およびM4は炭素数6以下のアルキル基)
である。M', M'' and M4 are alkyl groups having 6 or less carbon atoms)
It is.
ここで本発明でいう成分Aとして示されたチタニウム、
ケイ素および゛ジルコニウムの化合物はこれらのアルコ
キント、カルボン酸塩およびまたはキレート化合物であ
って、これらの化合物は下層被膜形成組成物中に被膜形
成成分中にMO,に換算して10.0重量係以上含有す
るに必要な量含まれていることを要する(ここでMは先
に定義した4価の元素を示す)。Here, titanium shown as component A in the present invention,
The silicon and zirconium compounds are alcoquine, carboxylate and/or chelate compounds of these compounds, and these compounds are present in the lower layer film forming composition in a film forming component in an amount of 10.0 or more by weight in terms of MO. It is necessary that the required amount is contained (here, M represents the tetravalent element defined above).
これらの量が少ないと所定の帯電防止性を示さない。If these amounts are small, the desired antistatic properties will not be exhibited.
前記一般式で示される化合物の具体例としては例えば、
チタンテトラエトキシド、チタンテトラ−1−プロポキ
シド、チタンテトラ−n−プロポキシド、チタンテトラ
−n−ブトキシド、チタンテトラ−5ec−ブトキシド
、チタンテトラ−tert−ブトキシド、アルミニウム
トリエトキシド、アルミニウムトリー1−10ホキシト
、アルミニウムトリプトキシド、ジルコニウムテトラエ
トキシド・、ジルコニウムテトラ−1−プロポキシド、
ジルコニウムテトラ−n−プロポキシド、ジルコニウム
テトラ−n−ブトキシド、ジルコニウムテトラ−8ec
−ブトキシド、ジルコニウムテトラ−tert−ブトキ
シド、メチルシリケート、エチルシvケート、n−プロ
ピルシリケート、i−プロピルシリケート、n−ブチル
シリケート、SθC−ブチルシリケートおよびt−ブチ
ルシリケートなどのアルコレート化合物、ジ−イソプロ
ポキシチタニウムビスアセチルアセトネート、ジ−ブト
キシチタニウムビスアセチルアセトネート、ジ−エトキ
シチタニウムビスアセチルアセトネート、トリーn−ブ
トキシジルコニウムモノエチルアセトアセト、ジルコニ
ウムモノブトキシトリスアセチルアセト不一ト、ジルコ
ニウムジブトキシビスアセ ゛チルアセトネート、ジ
ルコニウムトリブトキシアセチルアセトネート、ジルコ
ニウムモノブトキシトリスエチルアセトアセテート、ジ
ルコニウムブトキシビスエチルアセトアセテートなどの
キV −ト化合物などが挙げられる。Specific examples of the compound represented by the above general formula include:
Titanium tetraethoxide, titanium tetra-1-propoxide, titanium tetra-n-propoxide, titanium tetra-n-butoxide, titanium tetra-5ec-butoxide, titanium tetra-tert-butoxide, aluminum triethoxide, aluminum tri-1 -10 phooxide, aluminum triptoxide, zirconium tetraethoxide, zirconium tetra-1-propoxide,
Zirconium tetra-n-propoxide, zirconium tetra-n-butoxide, zirconium tetra-8ec
Alcoholate compounds such as -butoxide, zirconium tetra-tert-butoxide, methyl silicate, ethyl silicate, n-propyl silicate, i-propyl silicate, n-butyl silicate, SθC-butyl silicate and t-butyl silicate, di-iso Propoxytitanium bisacetylacetonate, di-butoxytitanium bisacetylacetonate, di-ethoxytitanium bisacetylacetonate, tri-n-butoxyzirconium monoethylacetoacetate, zirconium monobutoxytrisacetylacetoacetate, zirconium dibutoxybisacetonate Examples include quiV-to compounds such as ditylacetonate, zirconium tributoxyacetylacetonate, zirconium monobutoxytrisethylacetoacetate, and zirconium butoxybisethylacetoacetate.
これらの化合物はそれ単独でも硬化して被膜を形成する
が、各種樹脂などの塗膜改質剤を添加することもできる
。Although these compounds alone can cure to form a film, coating film modifiers such as various resins can also be added.
とくに上層との接着性、硬度あるいは耐久性の向上を目
的として一般に゛′シリカゾル″′と呼ばれる高分子量
無水ケイ酸を水またはアルコールの親水性溶媒に分散さ
せたコロイド浴液,さらには各種重合性有機ケイ素化合
物が好ましく配合できる。In particular, for the purpose of improving adhesion with the upper layer, hardness, or durability, colloidal bath liquids in which high molecular weight silicic acid anhydride, generally called ``silica sol'', is dispersed in a hydrophilic solvent of water or alcohol, as well as various polymerizable Organosilicon compounds can preferably be blended.
前者は周知の方法で製造市販されており,平均粒子径1
〜200mμとくに5〜80mμのものが好ましく用い
られる。また後者の重合性有機ケイ素化合物としては一
般式
%式%
で表わされる有機ケイ素化合物および/またはその加水
分解物が使用可能である。The former is manufactured by a well-known method and is commercially available, and has an average particle size of 1
~200 mμ, particularly 5~80 mμ is preferably used. As the latter polymerizable organosilicon compound, an organosilicon compound represented by the general formula % and/or a hydrolyzate thereof can be used.
ここでR’、 R’は各々アルキル基、アルケニル基。Here, R' and R' are an alkyl group and an alkenyl group, respectively.
アリル基、tiはハロゲン基、エポキシ基、アミノ基、
メルカプト基、メタクリルオキシ基ないし/アノ基を有
する炭化水素基、R“は炭素数が1〜8・のアルキル基
、アルコキシアルキル基、アシル基であり、aおよびb
は0または1であり、かつa十すは1または2である。Allyl group, ti is halogen group, epoxy group, amino group,
a hydrocarbon group having a mercapto group, a methacryloxy group or an ano group;
is 0 or 1, and a is 1 or 2.
かかる化合物の例としては、メチルトリメトキシシラ/
、メチルトリメトキシシラン、メチルトリリエトキシシ
ラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリ
アセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチル
トリメトキシシラン。Examples of such compounds include methyltrimethoxysila/
, methyltrimethoxysilane, methyltriliethoxysilane, methyltrimethoxyethoxysilane, methyltriacetoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane.
エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン
、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシ
ラン、ビニルトリメトキンエトキシシラン、フェニルト
リメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェ
ニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメ
トキシシラン。Ethyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriacetoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane.
γ−クロロプロピルトリエトキ/シラン、γ−クロロプ
ロピルトリアセトキシシラン、6.ろ、3−トリフロロ
プロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン
、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メ
ルカプトプロビルト リエトキシシラン、N−β(′ア
ミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキンシラン
、β−ンアノエチルトリエトキンシラン、メチルトリフ
ェノキンシラン、クロロメチルトリメトキシシラン、ク
ロロメチルトリエトキンノラン、グリシドキシメチルト
リメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシシ
ラン、α−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、α
−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β−グリシ
ドキシエチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシエ
チルトリエトキシシラン、a−グリシドキシプロピルト
リメトキシシラン
エトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン、β−グリシドキシプロピルトリエトキシシラ
ン、γーグリシドキシプロビルトリメトキシシラン、γ
ーグリシドキシプロピルトリエトキンシラン、γーグリ
シドキシプロビルトリプロポキシンラン、γーグリシド
キシプロビルトリブトキシシラン、γーグリシドキシプ
ロピルトリメトキシエトキシシラン、γーグリシドキシ
プロビルトリフエノキシシラン、α−グリシドキシブチ
ルトリメトキシシラン、α−グリシドキシブチルトリエ
トキシシラン、β−グリシドキシブチルトリメトキシシ
ラン、β−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、γ
ーグリシドキシブチルトリメトキシシラン、γーグリシ
ドキシブチルトリエトキシシラン、δ−グリシドキシブ
チルトリメトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリ
エトキシシラン、(3.4−エポキシシクロヘキシル)
メチルトリットキシシラン、(3,4−エポキシシクロ
ヘキシル)メチルトリエトキシシラン、β−(3.4−
エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、
β−(3.4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエ
トキシシラン、β−(3.4−エポキシシクロヘキシル
)エチルトリエトキシシラン,β−(3.4−エホキシ
シクロヘキン/l/ )エチルトリブトキシシラン、β
−(3.4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメト
キンエトキレシラン、β−(3.4−エポキシシクロヘ
キシル)エチルトリフエノキシシラン、γ−(3.4−
工月ζキシシクロヘキシル)プロピルトリメトキンシラ
ン、γ−(3.4−エポキシ/クロヘキシル)プロピル
トリエトキンシラン、β−(6,4−エポキシシクロヘ
キシル)プチルトリメトキ・ンシラン,δ(3.4−エ
ポキシシクロヘキシル)ブチルトリエトキシシランなど
のトリアルコキシ、トリアシルオキシマタトリフエノキ
シシラン頷および,ジメチルジメトイシシラン,フェニ
ルメチルジメトキシシラン
ルメチルジェトキシシラン、γークロロフ0ロビルメチ
ルジメトキシシラン,γークロロプロピルメチルジェト
キシシラン
ラン、γ−メタクリルオキシプ口ビルメチルシメトキシ
シラン、γ−メタクリルオキシグロピルメチルジメトキ
シシラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジェト
キシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシ
シラン、γ−メルカプトプロピルメチルジェトキシシラ
ン、′γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−アミノプロ、ビルメチルジェトキシシラン、メチルビ
ニルジメトキシシラン、メチルビニルシェドキンシラン
。γ-chloropropyltriethoxy/silane, γ-chloropropyltriacetoxysilane, 6. 3-trifluoropropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane Ethoxysilane, N-β('aminoethyl)-γ-aminopropyltrimethhinesilane, β-anoethyltriethquinsilane, methyltriphenoquinesilane, chloromethyltrimethoxysilane, chloromethyltriethoxynolan, glycidoxy Methyltrimethoxysilane, glycidoxymethyltriethoxysilane, α-glycidoxyethyltriethoxysilane, α
-glycidoxyethyltriethoxysilane, β-glycidoxyethyltrimethoxysilane, β-glycidoxyethyltriethoxysilane, a-glycidoxypropyltrimethoxysilane ethoxysilane, β-glycidoxypropyltrimethoxysilane , β-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ
-Glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltripropoxinelan, γ-glycidoxypropyltributoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxyethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrif Enoxysilane, α-glycidoxybutyltrimethoxysilane, α-glycidoxybutyltriethoxysilane, β-glycidoxybutyltrimethoxysilane, β-glycidoxybutyltriethoxysilane, γ
-glycidoxybutyltrimethoxysilane, γ-glycidoxybutyltriethoxysilane, δ-glycidoxybutyltrimethoxysilane, δ-glycidoxybutyltriethoxysilane, (3.4-epoxycyclohexyl)
Methyltritoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl)methyltriethoxysilane, β-(3.4-
epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane,
β-(3.4-epoxycyclohexyl)ethyltriethoxysilane, β-(3.4-epoxycyclohexyl)ethyltriethoxysilane, β-(3.4-epoxycyclohexyl/l/)ethyltributoxysilane, β
-(3.4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethyneethokylesilane, β-(3.4-epoxycyclohexyl)ethyltriphenoxysilane, γ-(3.4-
ζxycyclohexyl)propyltrimethoxysilane, γ-(3,4-epoxy/chlorohexyl)propyltriethquinsilane, β-(6,4-epoxycyclohexyl)butyltrimethoxysilane, δ(3,4-epoxycyclohexyl) Trialkoxy, triacyloxymatatriphenoxysilane such as butyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, γ-chloropropylmethyldimethoxysilane, γ-chloropropylmethyljetoxysilane, etc. Lanlan, γ-methacryloxypropylmethylsimethoxysilane, γ-methacryloxyglopylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyljethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyljethoxysilane , ′γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ
-Aminopro, vilmethyljethoxysilane, methylvinyldimethoxysilane, methylvinylshedkinsilane.
グリシドキシメチルメチルジメトキシシラン、グリシド
キンメチルメチルジェトキシシラン、α−グリシドキシ
エチルメチルジメトキシシラン、a−グリシドキシエチ
ルメチルジェトキシシラン。Glycidoxymethylmethyldimethoxysilane, glycidoxymethylmethyljethoxysilane, α-glycidoxyethylmethyldimethoxysilane, a-glycidoxyethylmethyljethoxysilane.
β−グリシドキシエチルメチルジェトキシシラン。β-glycidoxyethylmethyljethoxysilane.
β−グリシドキシエチルメチルジエトキ/ンラン。β-Glycidoxyethylmethyldiethoxy/Nran.
α−グリシドキシプロビルメチルジメトキシンラン、α
−グリシドキシプロビルメチルジェトキシ7ラン、β−
グリシドキシプロピルメチルジェトキシシラン、β−グ
リシドキシプロピルメチルジェトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロビルメチルジメトキシシラン、γ−グリシ
ドキシピロビルメチルジェトキシシラン、γ−クリシト
キシプロビルメチルジプロポキシシラン、γ−グリシド
キシプロビルメチルジブトキシシラン、γ−グリシドキ
シプロピルメチルジメトキシエトキシシラン。α-glycidoxypropyl methyldimethoxine run, α
-glycidoxypropyl methyljethoxy 7-lane, β-
Glycidoxypropylmethyljethoxysilane, β-glycidoxypropylmethyljethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypyrobylmethyljethoxysilane, γ-crisitoxypropylmethyl Dipropoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldibutoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxyethoxysilane.
γ−グリシドキシプロピルメチルジフェノキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルエチルシメトキシシラン、γ
−グリンドキシプロビルエチルジメトキンシラン、γ−
グリシドキシプロビルエチルジェトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロビルビニルジメトキシシラン、γ−グリ
シドキシデロビルビニルンエトギンシラン、γ−グリシ
ドキシプロビルフェニルシメトキシンラン、γ−グリシ
ドキシプロビルフェニルシエトキシシラン、などシアル
コキンシラン捷たはジアシルオキジシラン類がその例で
ある。γ-glycidoxypropylmethyldiphenoxysilane,
γ-Glycidoxypropylethylcimethoxysilane, γ
-Glyndoxypropylethyldimethquine silane, γ-
Glycidoxyprobyl ethyljethoxysilane, γ-glycidoxypropylbinyldimethoxysilane, γ-glycidoxyderobylvinylinethoxysilane, γ-glycidoxypropylphenylcimethoxysilane, γ-glycid Sialcoquine silanes or diacyloxysilanes such as xypropylphenyl ethoxysilane are examples.
かかる下層被膜形成性組成物は基材に塗布され。Such an underlayer film-forming composition is applied to a substrate.
加熱硬化される。膜厚は10mμ〜2μの間が好ましく
、それより厚いと被膜にクラックが発生するなどの問題
が生じ、ま7を薄いと制電性の発現が不十分である。ま
た下層被膜のみでは爪などにょる摩擦で容易に傷が発生
するなどの問題があり、著しく耐久性に乏しいものであ
る。Cured by heating. The film thickness is preferably between 10 mμ and 2 μm; if it is thicker than this, problems such as cracks will occur in the film, and if it is thinner, the antistatic properties will be insufficient. Furthermore, if only the lower layer coating is used, there is a problem that scratches easily occur due to friction caused by fingernails, etc., and the durability is extremely poor.
下層被膜の上に塗布される上層被膜としては001μ〜
10μの膜厚で所期の塗膜性能を発現する物質であれば
良いのであるが各種アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポ
キシ樹脂などが耐久性。The upper layer coating applied on the lower layer coating is 001 μ~
Any material that can achieve the desired coating performance with a film thickness of 10 μm will suffice, but various acrylic resins, urethane resins, epoxy resins, etc. are durable.
美°観9着色性などの観点から好ましく1表面硬度を付
与する目的には、一般式
(ただし、lは1〜5.R5は炭素数1〜6のアルキル
基、アルコキシアルキル基、またはアリール基、R′は
エポキン基を有する炭素数1′0以下の有m基、R’は
炭素数1〜乙のアルキル基、ビニール基、!たはアリー
ル基である)で示される有機ケイ素化合物の加水分解物
が好ましい。これらの有機ケイ素化合物の具体的な代表
例としては、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、
グリシドキシメチルトリエトキシシラン、a−グリシド
キシエチルトリメトキシシラン、α−グリシドキンエチ
ルトリエトキシンラン、β−グリンドキシエチルトリメ
トキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキンシ
ラン、a−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、α
−グリシドキシプロビルトリエトキシシラン、β−グリ
シドキンブロビルトリメトキンンラン、β−グリシドキ
/プロピルトリエトキンシラン、γ−グリシドキシプロ
ビルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロビルト
リエトキシシラン、γ−グリシドキ7プロビルトリブロ
ボキシシラン、γ−グリシドキシプロビルトリブトキン
シラン、γ−グリンドキンプロビルトリメトキシエトキ
シンラン、γ−グリシドキシプロビルトリフエノキシシ
ラン、a−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、α
−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β−クリシ
トキシブチルトリメトキシシラン、β−グリシドキンブ
チルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリ
メトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリエトキシ
シラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン−
δ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、(3,4
−エポキシシクロヘキシル)メチルトリメトキシシラン
、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチルトリエト
キシシラン。Aesthetics 9 Preferably from the viewpoint of coloring properties 1 For the purpose of imparting surface hardness, the general formula (where l is 1 to 5. R5 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxyalkyl group, or an aryl group) , R' is an atom group having 1'0 or less carbon atoms having an Epoquine group, and R' is an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, a vinyl group, or an aryl group). Decomposition products are preferred. Specific representative examples of these organosilicon compounds include glycidoxymethyltrimethoxysilane,
Glycidoxymethyltriethoxysilane, a-glycidoxyethyltrimethoxysilane, α-glycidoxyethyltriethoxysilane, β-glycidoxyethyltriethoxysilane, β-glycidoxyethyltriethoxysilane, a-glycidoxyethyltriethoxysilane Sidoxyethyltrimethoxysilane, alpha
-Glycidoxypropyltriethoxysilane, β-glycidoxypropyltriethoxysilane, β-glycidoxy/propyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane , γ-glycidoxypropyltribroboxysilane, γ-glycidoxypropyltributquinsilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxyethoxinelan, γ-glycidoxypropyltriphenoxysilane, a-glycid xybutyltrimethoxysilane, α
-glycidoxybutyltriethoxysilane, β-glycidoxybutyltriethoxysilane, β-glycidoxybutyltriethoxysilane, γ-glycidoxybutyltrimethoxysilane, γ-glycidoxybutyltriethoxysilane, δ-glycidoxybutyltriethoxysilane, Sidoxybutyltrimethoxysilane
δ-glycidoxybutyltriethoxysilane, (3,4
-epoxycyclohexyl)methyltrimethoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl)methyltriethoxysilane.
β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメ
トキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロベキシル
)エチルトリエトキシシラン、β−(6゜4−エポキシ
シクロヘキシル)エチルトリプロポキシシラン、β−秘
6.4−エポキシシクロヘキシル)エチルドリフトキシ
シラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチ
ルトリットキシエトキシシラン、β−(3,4−エポキ
シシクロヘキシル)エチルトリフエノキシシラン、γ−
(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピルトリメト
キシシラン、γ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)
プロピルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシ
シクロヘキシル)ブチルトリメトキンシラン。β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltriethoxysilane, β-(6°4-epoxycyclohexyl)ethyltripropoxysilane, 6.4-Epoxycyclohexyl)ethyldriftoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltritoxyethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltriphenoxysilane, γ-
(3,4-epoxycyclohexyl)propyltrimethoxysilane, γ-(3,4-epoxycyclohexyl)
Propyltriethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)butyltrimethquine silane.
β−(ろ、4−エポキシシクロヘキシル)ブチルトリエ
トキシシラン、グリシドキシメチルメチルジメトキシシ
ラン、グリシドキシメチルメチルジェトキシシラン、a
−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、α−グ
リシドキシエチルメチルジェトキシシラン、β−グリシ
ドキシエチルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキ
シエチルメチルジェトキシシラン、a−グリシドキンプ
ロビルメチルジメトキンシラン、a−グリシドキシプロ
ピルメチルジェトキシシラン、β−グリシドキシプロビ
ルメチルシメトキシシラン、β−グリシドキシプロビル
メチルジェトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメ
チルシメトキシシラン、γ−グリシドキシプロビルメチ
ルジエトキンシラン。β-(ro,4-epoxycyclohexyl)butyltriethoxysilane, glycidoxymethylmethyldimethoxysilane, glycidoxymethylmethyljethoxysilane, a
-glycidoxyethylmethyldimethoxysilane, α-glycidoxyethylmethyljethoxysilane, β-glycidoxyethylmethyldimethoxysilane, β-glycidoxyethylmethyljethoxysilane, a-glycidoxyethylmethyldimethoxysilane Silane, a-glycidoxypropylmethyljethoxysilane, β-glycidoxypropylmethylcimethoxysilane, β-glycidoxypropylmethyljethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethylcimethoxysilane, γ- Glycidoxypropylmethyldiethquine silane.
γ−グリシドキシプロビルメチルシデロボキシシラン、
γ−グリシドキシプロヒルメチルシブトキンシラン、γ
−グリシドキシプロピルメチルシメトキシエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルシフエノキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロビルエチルジメトキシ7ラン
、γ−グリシドキシプロビルエチルジエトキンシラン、
γ−クリシトキシプロビルビニルシメトキシシラン、γ
−クリシトキシプロビルビニルジェトキシシラン。γ-glycidoxypropylmethylsideroboxysilane,
γ-glycidoxyproylmethylsibutquin silane, γ
- Glycidoxypropylmethylsimethoxyethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethylsiphenoxysilane, γ-glycidoxypropylethyldimethoxy 7rane, γ-glycidoxypropylethyldiethoxysilane,
γ-crisitoxypropylvinylcimethoxysilane, γ
- Chrysitoxypropylvinyljethoxysilane.
T−グリシドキシプロピルフェニルジメトキシシラン、
γ−グリシドキンプロピルフェニルジエトキンシラン、
γ−グリシドキシプロピルジメチルモノメトキシシラン
、γ−グリシドキシプロビルジメチルモノエトキシシラ
ンなどが挙げられる。T-glycidoxypropylphenyldimethoxysilane,
γ-glycidquinpropylphenyldiethquinsilane,
Examples include γ-glycidoxypropyldimethylmonomethoxysilane and γ-glycidoxypropyldimethylmonoethoxysilane.
これらの中でγ−グリシドキシプロビルトリメトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、
γ−グリシドキシプロビルトリプロボキンシラン、γ−
グリシドキシプロピルトリ、 ブトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリメトキシエトキシシラン、
γ−グリシドキシプロビルメチルジメトキシンラン、゛
r−グリシドキシプロビルメチルジェトキシシラン、γ
−グリシドキシグロビルメチルジプロボキシシラン、γ
−グ、リシドキシプロビルメチルジブトキシシラン、γ
ジシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エ
チルトリメトキシシラン、β−(6,4−エポキシシク
ロヘキシル)エチルトリエトキシシラン。Among these, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane,
γ-glycidoxyprobyl triproboquine silane, γ-
Glycidoxypropyltri, butoxysilane, γ
- glycidoxypropyltrimethoxyethoxysilane,
γ-glycidoxypropyl methyldimethoxysilane, r-glycidoxypropyl methyljethoxysilane, γ
-Glycidoxyglobylmethyldiproboxysilane, γ
-g, lysidoxypropylmethyldibutoxysilane, γ
Disilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, β-(6,4-epoxycyclohexyl)ethyltriethoxysilane.
β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリプ
ロポキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシ
ル)エチルトリブトキシシラン、β−(3,4−エポキ
シシクロヘキシル)エチルトリットキシエトキシシンの
エポキシ基含有有機ケイ素化合物の加水分解物が本発明
にとくに有効である。Epoxy group-containing organic compounds such as β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltripropoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltributoxysilane, and β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltritoxyethoxycin. Hydrolysates of silicon compounds are particularly effective in the present invention.
これらの有機ケイ素化合物はキュア温度を下げ。These organosilicon compounds lower the curing temperature.
硬化分より進行させるために加水分解して使用する。加
水分解は純水または塩酸、酢酸あるいは硫酸などの酸性
水溶液を添加、攪拌することによって製造される。さら
に純水、あるいは酸性水溶液の添加量を調節することに
よって加水分解の度合をコントロールすることも容易に
可能である。加水分解に際しては、アルコキシ基と等モ
ル以上。It is used after being hydrolyzed to advance the hardening process. Hydrolysis is produced by adding pure water or an acidic aqueous solution such as hydrochloric acid, acetic acid, or sulfuric acid and stirring. Furthermore, the degree of hydrolysis can be easily controlled by adjusting the amount of pure water or acidic aqueous solution added. When hydrolyzed, the amount is equal to or more than the alkoxy group.
6倍モル以下の純水または酸性水溶液の添加が硬化促進
の点で特に好ましい。Addition of pure water or acidic aqueous solution in an amount of 6 times the mole or less is particularly preferred from the viewpoint of accelerating curing.
加水分解に際しては、アルコール等が生成してくるので
無溶媒で加水分解することが可能であるが、加水分解を
さらに均一に行なう目的で有機ケイ素化合物と溶媒を混
合した後、加水分解を行うことも可能である。また目的
に応じて加水分解後のアルコール等を加熱および/また
は減圧下に適当量除去して使用することも可能であるし
、その後に適当な溶媒を添加することも可能である。こ
れらの溶媒としてはアルコール、エステル、エーテル、
ケトン、ハロゲン化炭化水素あるいはトルエン、キシレ
ンなどの芳香族炭化水素などの溶媒が挙げられる。また
これらの溶媒は必要に応じて2種以上の混合溶媒として
使用することも可能である。また、目的に応じて加水分
解反応を促進し。During hydrolysis, alcohol and other substances are produced, so it is possible to hydrolyze without a solvent, but in order to make the hydrolysis more even, it is possible to mix the organosilicon compound and a solvent before hydrolysis. is also possible. Depending on the purpose, it is also possible to remove an appropriate amount of the hydrolyzed alcohol etc. under heating and/or reduced pressure before use, and it is also possible to add an appropriate solvent afterwards. These solvents include alcohols, esters, ethers,
Examples include solvents such as ketones, halogenated hydrocarbons, and aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene. Moreover, these solvents can also be used as a mixed solvent of two or more types as required. It can also promote hydrolysis reactions depending on the purpose.
さらに予備縮合等の反応を進めるために室温以上に加熱
することも可能であるし、予備縮合を抑えるために加水
分解温度を室温以下に下げて行なうことも可能であるこ
とは言うまでもない。It goes without saying that it is also possible to heat the mixture above room temperature in order to advance reactions such as precondensation, and it is also possible to lower the hydrolysis temperature to below room temperature in order to suppress precondensation.
また同様の目的で硬化触媒、硬化促進剤、架橋剤等の添
加も可能であり、これらの例としてはアルミニウムアル
コキシド、アルミニウムアセチルアセトイ・−トなどの
アルミニウム化合物、その他の金属錯化合物、イミダゾ
ール、有機酸無水物。It is also possible to add curing catalysts, curing accelerators, crosslinking agents, etc. for the same purpose. Examples of these include aluminum compounds such as aluminum alkoxides and aluminum acetylacetoites, other metal complex compounds, imidazole, Organic acid anhydride.
各種アミン化合物などのエポキシ樹脂硬化剤などが使用
可能である。Epoxy resin curing agents such as various amine compounds can be used.
さらに本発明の帯電防止性を一段と高らしめる目的に好
適な例としては各種ケイ素のテトラアルコキシドおよび
その縮重合物の加水分解物が挙げられる。具体的な例と
してはメチルンリケート。Furthermore, examples suitable for further enhancing the antistatic properties of the present invention include hydrolysates of various silicon tetraalkoxides and condensation products thereof. A specific example is methyl sulfate.
エチルシリケート、n−プロピルシリケート、l−プロ
ピルシリケート、n−ブチルシリケート。Ethyl silicate, n-propyl silicate, l-propyl silicate, n-butyl silicate.
t−ブチルシリケート、S−ブチルシリケートなどがあ
る。Examples include t-butyl silicate and S-butyl silicate.
またこれらの上層被膜を形成するコーティング組成物は
その目的に応じて二種以」二混合して使用することも可
能である。Furthermore, two or more types of coating compositions for forming these upper layer films can be used in combination depending on the purpose.
本発明は上記例にあるような上層被膜形成性組成物を適
当な溶剤に溶解せたは分散し、コーティング組成物とし
て成分Aからなる下層被膜上に塗布して用いられる。被
膜の厚みは001μ〜10μ、好ましくは0.02μ〜
5μにすることが適当である。すなわち、これより厚く
なると本発明の目的である帯電防止性の向上が認められ
なくなる。The present invention is used by dissolving or dispersing the upper layer film-forming composition as in the above example in a suitable solvent and applying it as a coating composition onto the lower layer film consisting of component A. The thickness of the coating is 0.001μ to 10μ, preferably 0.02μ to
It is appropriate to set it to 5μ. That is, if it becomes thicker than this, the improvement in antistatic properties, which is the objective of the present invention, will not be observed.
また薄いと十分な表面硬度が得られなくなるなどの問題
が生じる。上層被膜は上記の条件を満たす場合は2層以
」二から成ることもできる。Furthermore, if the thickness is too thin, problems arise such as insufficient surface hardness. The upper coating may be composed of two or more layers if the above conditions are met.
また本発明の方法に於いて、成分Aを含有する下層被膜
およびその上にコーティングする上層被膜の厚み、材質
を適当に選択することによって。Further, in the method of the present invention, by appropriately selecting the thickness and material of the lower layer containing component A and the upper layer coated thereon.
帯電防止性の向上の他に、基材の反射防止あるいは反射
増加の機能を付与することも可能である。In addition to improving antistatic properties, it is also possible to provide the base material with a function of preventing reflection or increasing reflection.
塗・布された各層のコーディング組成物は段階的に加熱
硬化および/または乾燥することもできるし。The applied coating composition for each layer can be heat-cured and/or dried in stages.
下ノーの塗膜を予備硬化および/または乾燥した後。After pre-curing and/or drying the bottom coating.
上層をコーティングし、加熱硬化および/または乾燥す
ることも可能である。加熱方法としては熱風、赤外線な
どで行なうことが可能である。捷た加熱温度は適用され
る基材および使用されるコーティング組成物によって決
定されるべきであるが。It is also possible to coat the top layer and heat cure and/or dry it. As a heating method, hot air, infrared rays, etc. can be used. The heating temperature of the kneading should be determined by the substrate to which it is applied and the coating composition used.
通常は50〜250℃、より好1しくけ60〜200℃
が使用される。下層塗膜の場合これより低臨では硬化ま
たは乾燥が不十分であり、またこれより高温になると熱
分解などが起って黄変などの問題点を生ずる。Usually 50-250℃, more preferably 60-200℃
is used. In the case of the lower layer coating, if the temperature is lower than this, curing or drying will be insufficient, and if the temperature is higher than this, thermal decomposition will occur, causing problems such as yellowing.
上層被膜にあっては硬化性官能基1例えば重合体もしく
けプレポリマ中の2−重結合などを利用して紫外線、電
子線、γ線などの放射g’を用いて硬化させることもで
きる。The upper coating can also be cured using radiation g' such as ultraviolet rays, electron beams, and gamma rays by utilizing the curable functional groups 1, such as double bonds in the polymer or prepolymer.
本発明の基材としては、それ自体が被覆材を要せず、か
つ帯電防止性の良好なもの以外は何でも良いのであるが
、液状コーティングの観点から。As the base material of the present invention, any material may be used as long as it does not itself require a coating material and has good antistatic properties, but from the viewpoint of liquid coating.
ガラス、プラスチック材料がとくに有効な結果を−与え
る。上記のプラスチック材料としてはポリメチルメタク
リレートおよびその共重合体、ポリカーボネート、シエ
チレングリコールビスアリルカーボ不一ト(CR−′5
9)、ポリエステルとくにポリエチレンテレフタレート
、および不飽和ポリ:L 、1.7 ル、 7クリロニ
トリル一スチレン共重合体。Glass and plastic materials give particularly effective results. The above plastic materials include polymethyl methacrylate and its copolymers, polycarbonate, thiethylene glycol bisallyl carbonate (CR-'5
9), polyesters, especially polyethylene terephthalate, and unsaturated poly(L), 1.7L, 7crylonitrile-styrene copolymers.
塩化ビニル、ポリウレタン、エポキシ樹脂などが好まし
い。Vinyl chloride, polyurethane, epoxy resin, etc. are preferred.
また、ガラスにも好ましく用いることができる。Moreover, it can also be preferably used for glass.
さらに被覆材料で被膜された上記のプラスチック。The above plastic further coated with a coating material.
カラスなどの基材にも好ましく適用できる。It can also be preferably applied to base materials such as crow.
とくに本発明の下層被膜のさらに下層にある被膜材料に
よって付着性、硬度、耐薬品性、耐久性。In particular, the coating material further below the lower layer coating of the present invention improves adhesion, hardness, chemical resistance, and durability.
染色性などの諸物性を向上させることができる。Physical properties such as dyeability can be improved.
さらにこれらのコーティング組成物中には塗布作業性を
向上させるための平滑剤、脱泡剤、被膜改質剤としての
紫外線吸収剤、酸化防止剤の他。Furthermore, these coating compositions contain smoothing agents, defoamers, ultraviolet absorbers as film modifiers, antioxidants, and other agents to improve coating workability.
防曇性を付与する意味で各種の界面活性剤などの添加剤
を用いることができる。また塗布作業にあたってはこれ
らの組成物は通常揮発性溶媒に希釈して塗布される。溶
媒として用いられるものは。Additives such as various surfactants can be used to impart antifogging properties. Furthermore, during coating operations, these compositions are usually diluted with a volatile solvent before being applied. What is used as a solvent?
とぐに限定されないが、使用にあたっては組成物の安定
性、基材に対する濡れ性、揮発性などを考慮して決めら
れるべきである。また溶媒は1種のみならず2種以上の
混合物として用いることも可能である。Although there is no particular limitation, the use should be determined in consideration of the stability of the composition, wettability to the substrate, volatility, etc. Moreover, it is also possible to use not only one type of solvent but also a mixture of two or more types.
これらの溶剤の中で上記とくに下層被膜形成性のコーテ
ィング組成物の安定化に有用なものもあり9例えば炭素
数8以下のアルコール類、エチレングリコールないしけ
ジエチレングリコールのモノアルキルエーテル類、アセ
チルアセトンなどのジケトン類、アセト酢酸エチルなど
のケトエステルなどがとくにチタン、ジルコニウムなど
のアルコキシド、キレート化合物に対して有効である。Among these solvents, some are useful for stabilizing the above-mentioned coating compositions, especially those that form a lower layer.9 For example, alcohols having 8 or less carbon atoms, ethylene glycol, monoalkyl ethers of diethylene glycol, and diketones such as acetylacetone. and ketoesters such as ethyl acetoacetate are particularly effective against alkoxides and chelate compounds such as titanium and zirconium.
ここでコーティング組成物とは通常の塗布作業が適用で
きる範囲の粘度を有する組成物であって適用温度で10
ボイズ以下、好ましくは1ポイズ以下のものが用いられ
る。すなわち、これより高い粘度を有するコーティング
組成物は、均一な被膜を得ることが困難である。塗布方
法としては通常のコーティング作業で用いられる方法が
可能であるが薄膜の膜厚コントロールの観点からはカー
テンフロー塗装、浸漬塗装、スピン塗装などが好ましい
。Here, the coating composition is a composition having a viscosity within a range that can be applied in normal coating operations, and which has a viscosity of 10% at the application temperature.
A poise or less, preferably 1 poise or less is used. That is, it is difficult to obtain a uniform coating with a coating composition having a viscosity higher than this. As a coating method, methods used in ordinary coating operations are possible, but from the viewpoint of controlling the thickness of the thin film, curtain flow coating, dip coating, spin coating, etc. are preferable.
これらの帯電防止性を有する材料は、眼鏡、カメラなど
の光学用レンズ、各種表示装置用力/<−とくにCRT
用前面前面板装鉄板などにその効果を発揮する。These antistatic materials are used for optical lenses such as glasses and cameras, and for various display devices, especially CRTs.
It is effective for front panel iron plates, etc.
寸た各層の塗布にあたっては各種の化学処理。Various chemical treatments are used to apply each layer.
たとえば熱水浸潤、溶媒浸漬、酸化還元剤処理。For example, hot water infiltration, solvent immersion, redox agent treatment.
酸、アルカリ処理など、物理処理9例えば低温プラズマ
処理、コロナ放電処理、紫外線照射などを各々と接する
層に適用することで伺着性、ぬれ性を向上させることも
できる。Adhesion and wettability can also be improved by applying physical treatments such as acid and alkali treatments, such as low-temperature plasma treatment, corona discharge treatment, and ultraviolet irradiation, to layers in contact with each other.
以下実施例により本発明の詳細な説明するが。The present invention will be explained in detail with reference to Examples below.
本発明はこれに限定されるものではない。The present invention is not limited to this.
実施例1.比較例1
(11下層コーティング組成物の調製
アセチルアセトン386.7 gに攪拌下でテトラ−n
−プチルチタ不−)17.9g、メタノール分散コロイ
ド状シリカ(平均粒子径12±1ミリミクロン、固形分
60%)13.9gをそれぞれ添加し、さらに5%のシ
リコーン系界面活性剤のアセチルアセト/溶液17′g
を添υ口して、コーティング組成物とした。Example 1. Comparative Example 1 (11) Preparation of Lower Coating Composition 386.7 g of acetylacetone was mixed with tetra-n under stirring.
17.9 g of methanol-dispersed colloidal silica (average particle size 12±1 millimicrons, solid content 60%) were added, and 5% of silicone surfactant acetylacetate/ 17'g of solution
was added to prepare a coating composition.
(2) 上層コーティング組成物の調製(a) シ
ラン加水分解物°の調製
γ−グリ7ドキ/プロピルトリメトキシシラン256g
に001規定塩酸水溶液54gを10゛Cで滴下混合1
−た。滴下終了後、室温にてさらに1時間攪拌を行なっ
て、シラン加水分解物を得た。(2) Preparation of upper layer coating composition (a) Preparation of silane hydrolyzate° 256 g of γ-gly7doki/propyltrimethoxysilane
Add 54g of 001N hydrochloric acid aqueous solution dropwise at 10°C and mix 1
-ta. After the dropwise addition was completed, stirring was further performed at room temperature for 1 hour to obtain a silane hydrolyzate.
(b) コーティング組成物の調製
前記シラン加水分解物243.3 gに5%のシリコー
ン系界面活性剤のメタノール溶液を56.1g。(b) Preparation of coating composition 56.1 g of a 5% methanol solution of a silicone surfactant was added to 243.3 g of the silane hydrolyzate.
アルミニウムアセチルアセト
さらに水/メタノール/エチレングリコール−1/7
4/2 5 (重量比)の混合溶媒,4693.6gを
祭り口混合して,コーティング組成物を調製した。Aluminum acetylacetate plus water/methanol/ethylene glycol - 1/7
A coating composition was prepared by mixing 4,693.6 g of a 4/25 (weight ratio) mixed solvent.
(3) 塗布およびキュア
まず前項(1)で調製したコーティング組成物を用いて
,カセイノーダ水溶液に浸漬後,洗浄したシエチレング
リコールビスアリルカーボ不ート重合体レンズ(直g7
5 mm 、厚み2. 1 mm, C R − 5
9プラルンズ)に浸漬法で塗布した。塗布条件は引上
げ速度10CmZ分であり,塗布したレンズは80°C
の熱風乾燥機で1時間加熱キュアした。(3) Coating and curing First, using the coating composition prepared in the previous section (1), a thiethylene glycol bisallyl carbonate polymer lens (straight g7
5 mm, thickness 2. 1 mm, CR-5
9 Praruns) by dipping method. The coating conditions were a pulling rate of 10 cmZ, and the coated lens was heated to 80°C.
It was heated and cured in a hot air dryer for 1 hour.
この後前項(2)で調製したコーティング組成9勿を用
いて,下層と同様にして,下層上にコーティングした。Thereafter, coating composition 9 was prepared in the previous section (2) and coated on the lower layer in the same manner as the lower layer.
塗布したレンズは80゛Cで2時間力ロ熱キュアした。The coated lenses were thermally cured at 80°C for 2 hours.
(4) 試験結果
得られたレンズの帯電防止性能は,20°C.65%R
Hに1昼夜放置後.スタチシクオ不ストメーターで10
kV、10DOrpm の条件下における帯電圧の半
減期を測定し、帯電防止性を評価した。(4) The antistatic performance of the lens obtained from the test results was measured at 20°C. 65%R
After leaving it on H for one day and night. 10 on the static quota meter
The antistatic property was evaluated by measuring the half-life of the charging voltage under the conditions of kV and 10 DO rpm.
結果を比較例と共に表1に示す。The results are shown in Table 1 along with comparative examples.
なお比較例としては、下層をコートせず、直接レンズに
上層をコーティングしたものである。As a comparative example, the upper layer was directly coated on the lens without coating the lower layer.
また膜厚はハイミクロン表面1flll 定機(Mod
e1HM’−90,日商精密光学製作新製)を使用して
測定した。In addition, the film thickness is 1flll on the high micron surface (Mod
e1HM'-90, newly manufactured by Nissho Precision Optical Manufacturing Co., Ltd.).
実施例2
以下に述べる下層コーティング組成物を使用する以外は
すべて実施例1と同様に行なった。結果を表1に示す。Example 2 The same procedure as in Example 1 was carried out except that the lower layer coating composition described below was used. The results are shown in Table 1.
[11下層コーティング組成物の調製
アセチルアセトン382.6+gvC攪拌下でテトラ−
n−ブチルチタネート35.9 g 、さらに5係のシ
リコーン系界面活性剤のアセチルアセト/溶液17gを
添加して、コーティング組成物とした。[11 Preparation of lower layer coating composition Acetylacetone 382.6+gvC tetra-
A coating composition was prepared by adding 35.9 g of n-butyl titanate and 17 g of an acetylacetate/solution of a silicone surfactant of type 5.
実施例6
以下に述べる下層コーティング組成物を使用する以外は
すべて実施例1と同様に行なった。結果(1) 下層
コーティング組成物の調製(a) シリケート加水分
解物の調製エチルアルコール40gとエチルアルコール
40gを混合し、攪拌下に10”Cでり、 01規定塩
酸13.85gを滴下混合した。滴下終了後、さらに1
時間攪拌を続けて、加水分解物を得た。、(b) コ
ーティング組成物の調製
前記(a)で調製した加水分解物33.9g、n−プロ
ピルアルコール370.8g、実施例1で使用したと同
じメタノール分散コロイド状シリカ169g、5%のノ
リコーン系界面活性剤のn−プロピルアルコール溶液1
7gfそれぞれ添加混合してコーティング組成物とした
。Example 6 Everything was the same as in Example 1 except that the underlayer coating composition described below was used. Results (1) Preparation of lower layer coating composition (a) Preparation of silicate hydrolyzate 40 g of ethyl alcohol and 40 g of ethyl alcohol were mixed, heated to 10"C with stirring, and 13.85 g of 01N hydrochloric acid was added dropwise to the mixture. After finishing dropping, add 1 more
Stirring was continued for hours to obtain a hydrolyzate. , (b) Preparation of coating composition: 33.9 g of the hydrolyzate prepared in (a) above, 370.8 g of n-propyl alcohol, 169 g of methanol-dispersed colloidal silica as used in Example 1, 5% Noricone. n-propyl alcohol solution of surfactant 1
7 gf were added and mixed to prepare a coating composition.
実施例4
以下に述べる下層コーティング組成物を使用する以外は
すべて実施例1と同時に行なった。結果を表1に示す。Example 4 All operations were carried out simultaneously with Example 1 except that the underlayer coating composition described below was used. The results are shown in Table 1.
(11下層コーティング組成物の調製
n−プロピルアルコール375.1 gに攪拌下でジル
コニウムトリブトキシアセチルアセト坏−ト29、5
、g、実施例1で使用したと同じメタノール分散コロイ
ド状シリカ13.9g、5%のシリコ−渫面活性剤のn
−プロピルアルコール溶液17gを添加混合して、コー
ティング組成物とした。(11 Preparation of Lower Coating Composition 375.1 g of n-propyl alcohol was mixed with zirconium tributoxyacetylacetate 29.5 g with stirring.
, g, 13.9 g of the same methanol-dispersed colloidal silica used in Example 1, n of 5% silico-silica surfactant.
- 17 g of propyl alcohol solution was added and mixed to form a coating composition.
実施例5.比較例2
゛以下に述べる上層コーティング組成物を使用する以外
はすべて実施例1と同様に行なった。結果を表1に示す
。なお比較例としては下層を除いたものである。Example 5. Comparative Example 2 The same procedure as in Example 1 was carried out except that the upper layer coating composition described below was used. The results are shown in Table 1. Note that the comparative example excludes the lower layer.
fl) 上層コーティング組成物の調製(a) ビ
ニルトリエトキシシラン加水分解物の調製
ビニルトリエトキシシラン260gに酢酸20gを添加
し、20℃にコントロールしなから005規定塩酸水溶
液74gを攪拌下に滴下混合して。fl) Preparation of upper layer coating composition (a) Preparation of vinyltriethoxysilane hydrolyzate 20g of acetic acid was added to 260g of vinyltriethoxysilane, and while controlling the temperature at 20°C, 74g of 005N hydrochloric acid aqueous solution was added dropwise and mixed with stirring. do.
加水分解物を得た。A hydrolyzate was obtained.
(b) メチルトリメトキシシラン加水分解物の調製
メチルトリメトキシシラン37.2gK酢酸2.8gを
隙加し、20°Cにコントロールしなから001規定塩
酸水溶液147gを攪拌下に滴下混合1−で加水分解物
を得た。(b) Preparation of methyltrimethoxysilane hydrolyzate Add 37.2 g of methyltrimethoxysilane and 2.8 g of K acetic acid, and while controlling the temperature at 20°C, add 147 g of 001N hydrochloric acid solution dropwise with stirring in 1-. A hydrolyzate was obtained.
(cl コーティング組成物の調製
前記(a) 、 (b)で調製したそれぞれのシラン加
水分解物を混合し、さらにキシレン8g、酢酸ブチル2
g、シリコーン系界面活性剤0.15g、酢酸ソーダ0
.2 gを除却1−1均一に溶解させた。この溶液42
.9gをメタノール179.7 g、エチルアルコール
129.0 g 、酢酸ブチル137g、キシレン54
7gで希釈溶精させて上層コーティング組成物とした。(cl) Preparation of coating composition The silane hydrolysates prepared in (a) and (b) above were mixed, and 8 g of xylene and 2 g of butyl acetate were added.
g, silicone surfactant 0.15g, sodium acetate 0
.. 2 g was uniformly dissolved in Disposal 1-1. This solution 42
.. 9g, methanol 179.7g, ethyl alcohol 129.0g, butyl acetate 137g, xylene 54g
It was diluted and dissolved with 7 g to prepare an upper layer coating composition.
実施例6.比較例5
以下に述べる」一層コーティング組成物を使用する以外
はすべて実施例1と同様になった。結果を表1に示す。Example 6. Comparative Example 5 Everything was the same as Example 1 except that a single layer coating composition was used as described below. The results are shown in Table 1.
なお比較例としては下層を除いたものである。Note that the comparative example excludes the lower layer.
fi+ 上層コーティング組成物の調製(a) シ
ラン加水分解物の調製
γ−グリシドキシプロビルメチルジエトキシシランIO
6,8gを10’cに冷却し、攪拌しながら0.05規
定塩酸水溶液155gを徐々に滴下し。fi+ Preparation of upper layer coating composition (a) Preparation of silane hydrolyzate γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane IO
6.8 g was cooled to 10'C, and 155 g of 0.05N hydrochloric acid aqueous solution was gradually added dropwise while stirring.
滴下路を後、室温にてさらに1時間攪拌をつづけてシラ
ン加水分解物を得た。After leaving the dropping path, stirring was continued for another 1 hour at room temperature to obtain a silane hydrolyzate.
(b) コーティング組成物の調製
前日ビシラン加水分解物96gに実施例6で使用し゛た
エチルシリケートの加水分解物48.0g、水66g、
メタノール256.9 g、エチレングリコール85.
6g、5%のシリコーン系界面活性剤のメタノール溶液
47gおよびアルミニウムアセチルアセトネート0.6
gを添加し、十分攪拌混合を行なってコーティング組
成物を得た。(b) The day before preparation of the coating composition, 96 g of bisilane hydrolyzate, 48.0 g of ethyl silicate hydrolyzate used in Example 6, 66 g of water,
256.9 g of methanol, 85.9 g of ethylene glycol.
6g, 47g of 5% silicone surfactant in methanol and 0.6g of aluminum acetylacetonate.
g was added thereto and sufficiently stirred and mixed to obtain a coating composition.
実施例7.比較例4
以下に述べる上層コーティング組成物′f:使用する以
外はすべて実施例1と同様に行なった。結果を表1に示
す。なお比較例としては下層を除いたものである。Example 7. Comparative Example 4 The same procedure as in Example 1 was carried out except that the following upper layer coating composition 'f was used. The results are shown in Table 1. Note that the comparative example excludes the lower layer.
+l) 上層コーティング組成物の調製メチルエチル
ケト7485g中にポリメチルメタクリレート(藤倉化
成■製、商品名゛アクリベース”)15gを溶解させて
、コーティング組成物を得た。+l) Preparation of upper layer coating composition 15 g of polymethyl methacrylate (manufactured by Fujikura Kasei ■, trade name: "Acrybase") was dissolved in 7485 g of methyl ethyl keto to obtain a coating composition.
比較例5
実施例7において上層コーティング組成物濃度を10重
量パーセントに変え、さらに上層コーティング組成物を
二重の重ね塗りを行なった。結果を表1に示す。Comparative Example 5 In Example 7, the concentration of the upper layer coating composition was changed to 10 weight percent, and the upper layer coating composition was coated twice. The results are shown in Table 1.
比較例6
実施例1において上層被膜を除いたもの、すなわち下層
被膜のみからなるものは、爪による摩擦によっても容易
に傷がつき、著しく耐久性のない被膜であった。Comparative Example 6 The coating of Example 1 except that the upper layer coating was removed, that is, the coating consisting only of the lower layer coating, was easily scratched even by friction with fingernails and had extremely poor durability.
Claims (1)
記成分A(y7含有する組成物の硬化によって得られる
ものであり、上層被膜が厚さ001μ〜・10μの被膜
であることを特徴とする複層被膜。 A、一般式 %式%() で示される化合物、その加水分解物および/またはこれ
らの縮重合したオリゴマないしポリマ。 ここでMはTi(工V ) + S ]−(工’V )
+ Zr (工V)、 m+nは1〜4の整数、m、
nは各々0,1,2.3または4.RおよびR′は炭素
数1〜10のアルキル基。 アルコキシアルキル基、またはアシル基、又はM’C0
CH,COM、”およびM’ C0CH,C00M’
からなる群から選ばれた化合物から生ずる配位子(こ
こでMl。 M’、 M’およびM4 は炭素数6以下のアルキル
基)である。[Scope of Claims] A multilayer coating applied to the surface of a substrate, wherein the lower layer coating is obtained by curing a composition containing the following component A (y7), and the upper layer coating has a thickness of 001μ to 10μ. A, a compound represented by the general formula % (%), a hydrolyzate thereof, and/or a condensed oligomer or polymer thereof. V) + S]-(E'V)
+ Zr (engineering V), m+n is an integer from 1 to 4, m,
n is 0, 1, 2.3 or 4, respectively. R and R' are alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms. Alkoxyalkyl group, or acyl group, or M'C0
CH, COM,” and M' C0CH, C00M'
(here, Ml; M', M' and M4 are alkyl groups having 6 or less carbon atoms).
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58034643A JPS59161466A (en) | 1983-03-04 | 1983-03-04 | Multi-layered coating film |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP58034643A JPS59161466A (en) | 1983-03-04 | 1983-03-04 | Multi-layered coating film |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29816989A Division JPH02160543A (en) | 1989-11-16 | 1989-11-16 | Double layer coating |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59161466A true JPS59161466A (en) | 1984-09-12 |
Family
ID=12420111
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58034643A Pending JPS59161466A (en) | 1983-03-04 | 1983-03-04 | Multi-layered coating film |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59161466A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114196321A (en) * | 2021-05-27 | 2022-03-18 | 吴江南玻玻璃有限公司 | Preparation method of antireflection coating liquid for double-layer coating |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55110166A (en) * | 1979-02-16 | 1980-08-25 | Ito Kogaku Kogyo Kk | Coating composition |
JPS57177052A (en) * | 1981-04-24 | 1982-10-30 | Toray Ind Inc | Curable resin composition |
-
1983
- 1983-03-04 JP JP58034643A patent/JPS59161466A/en active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS55110166A (en) * | 1979-02-16 | 1980-08-25 | Ito Kogaku Kogyo Kk | Coating composition |
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