JPS59152028A - 放電加工用比抵抗制御装置 - Google Patents
放電加工用比抵抗制御装置Info
- Publication number
- JPS59152028A JPS59152028A JP2302883A JP2302883A JPS59152028A JP S59152028 A JPS59152028 A JP S59152028A JP 2302883 A JP2302883 A JP 2302883A JP 2302883 A JP2302883 A JP 2302883A JP S59152028 A JPS59152028 A JP S59152028A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- voltage
- specific resistance
- electrode
- current
- electric discharge
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H1/00—Electrical discharge machining, i.e. removing metal with a series of rapidly recurring electrical discharges between an electrode and a workpiece in the presence of a fluid dielectric
- B23H1/08—Working media
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、放電加工機で使用する水などの加工液の比
抵抗制御装置の改良に関するものである。
抵抗制御装置の改良に関するものである。
従来この種の放電加工機で使用する加工液の比抵抗制御
装置としては、第１図に示すものがあった。第１図は従
来の放電加工用比抵抗制御装置を示す概略構成図である
。図において、ｌは加工液タンクで、汚液槽２と清液槽
３とに分割され、加工槽グで使用済となったスラッジを
多く含んだ汚液は、いったん汚液槽２に集められ、ｐ過
ポンプ（Ｐ、）ｊＫよって一過器６を通過して清液槽３
に送られる。この清液槽３に蓄えられた加工液は供給ポ
ンプ（Ｐ、）７によって再び加工槽グに送られる。
装置としては、第１図に示すものがあった。第１図は従
来の放電加工用比抵抗制御装置を示す概略構成図である
。図において、ｌは加工液タンクで、汚液槽２と清液槽
３とに分割され、加工槽グで使用済となったスラッジを
多く含んだ汚液は、いったん汚液槽２に集められ、ｐ過
ポンプ（Ｐ、）ｊＫよって一過器６を通過して清液槽３
に送られる。この清液槽３に蓄えられた加工液は供給ポ
ンプ（Ｐ、）７によって再び加工槽グに送られる。
一方、清液槽３では交流電圧源ざ、メータリレー（Ａ）
９ 、比抵抗検出用の電極１０から成る電気回路が構
成され、これにより、清液槽３内の加工液の比抵抗を一
定値に制御する作用を行なう。すなわち、あらかじめ設
定された電流値以上の電流が上記電気回路に流れればメ
ータリレー（Ａ）りの接点が閉成し、清液槽３内の加工
液は、その一部がポンプ（Ｐ２）ｌｌによって純水器１
２に送られて脱イオン化され、再び清液槽３に戻される
。このため、清液槽３内の加工液の比抵抗は上昇し、上
記電気回路に流れる電流は徐々に減少する。最終的には
、設定された電流値以下となってメータリレー（Ａ）９
の接点が再び開放し、ポンプ（Ｐ２）ｌｌは停止するの
で、清液槽３内の加工液は純水器１２に送られなくなる
。以後、この動作な繰り返しながら、清液槽３内の加工
液の比抵抗が設定した値を維持するように制御される。
９ 、比抵抗検出用の電極１０から成る電気回路が構
成され、これにより、清液槽３内の加工液の比抵抗を一
定値に制御する作用を行なう。すなわち、あらかじめ設
定された電流値以上の電流が上記電気回路に流れればメ
ータリレー（Ａ）りの接点が閉成し、清液槽３内の加工
液は、その一部がポンプ（Ｐ２）ｌｌによって純水器１
２に送られて脱イオン化され、再び清液槽３に戻される
。このため、清液槽３内の加工液の比抵抗は上昇し、上
記電気回路に流れる電流は徐々に減少する。最終的には
、設定された電流値以下となってメータリレー（Ａ）９
の接点が再び開放し、ポンプ（Ｐ２）ｌｌは停止するの
で、清液槽３内の加工液は純水器１２に送られなくなる
。以後、この動作な繰り返しながら、清液槽３内の加工
液の比抵抗が設定した値を維持するように制御される。
上記した比抵抗制御装置は、加工液の比抵抗の変化を電
流値の変化として検出し、この電流値があらかじめ設定
された電流値よりも太きいか、小さいかによって、加工
液をして純水器／２を通すか否かを決定するものである
。この電流値の大小関係を判定するのがメータリレー（
〜９である。
流値の変化として検出し、この電流値があらかじめ設定
された電流値よりも太きいか、小さいかによって、加工
液をして純水器／２を通すか否かを決定するものである
。この電流値の大小関係を判定するのがメータリレー（
〜９である。
第２図は第１図の放電加工用比抵抗制御装置に適用され
るメータリレーを示す構成図である。このものは、図に
示すように、メータリレー（Ａ）りにおける電流計の指
針９ａと同一の回転軸９ｂＶＣ取り付けられた円板りＣ
の突起部デｄが、センサ９ｅに設けられたスリットタｆ
な通過したか否かを光学的又は電磁的に検出し、この検
出信号を増幅器りｇにより増幅してリレー（ＲＡ）９ｈ
を駆動するように構成されている。センサ９ｅの位置は
、回転軸９ｂな中心とする同心円上を移動することがで
きるようになし、設定すべき電流値によって七の位置を
変更すると、電流計のフルスケールの範囲内であれば任
意の電流値の設定値に対して、その大小関係の判定が可
能となる。ここで、リレー （ＲＡ） ｑｈＯ入り、切
りに伴なうチャタリングを防止して動作を確実に行なう
ため、通常センサタｅはある間隔な保持して２つ設けら
れる。
るメータリレーを示す構成図である。このものは、図に
示すように、メータリレー（Ａ）りにおける電流計の指
針９ａと同一の回転軸９ｂＶＣ取り付けられた円板りＣ
の突起部デｄが、センサ９ｅに設けられたスリットタｆ
な通過したか否かを光学的又は電磁的に検出し、この検
出信号を増幅器りｇにより増幅してリレー（ＲＡ）９ｈ
を駆動するように構成されている。センサ９ｅの位置は
、回転軸９ｂな中心とする同心円上を移動することがで
きるようになし、設定すべき電流値によって七の位置を
変更すると、電流計のフルスケールの範囲内であれば任
意の電流値の設定値に対して、その大小関係の判定が可
能となる。ここで、リレー （ＲＡ） ｑｈＯ入り、切
りに伴なうチャタリングを防止して動作を確実に行なう
ため、通常センサタｅはある間隔な保持して２つ設けら
れる。
従来の放電加工用比抵抗制御装置は以上のよう１／Ｃ構
成されているので、加工液の比抵抗の変化を電流値だけ
の変化としてしか検出しないため、電極に印加する電圧
は必ず安定化していることが前提であり、このため、例
えば電圧変動があれば、真の加工液の比抵抗が一定値で
も電流値は電圧変動に比例して変化し、誤った制御をし
てしまうという欠点があった。また、電流値の大小関係
の判定にメータリレーを使用するため、最小のヒステリ
シス幅はどうしても必要であり、比抵抗制御の精度を上
げることは非常に困難であるＬどの欠点があった。
成されているので、加工液の比抵抗の変化を電流値だけ
の変化としてしか検出しないため、電極に印加する電圧
は必ず安定化していることが前提であり、このため、例
えば電圧変動があれば、真の加工液の比抵抗が一定値で
も電流値は電圧変動に比例して変化し、誤った制御をし
てしまうという欠点があった。また、電流値の大小関係
の判定にメータリレーを使用するため、最小のヒステリ
シス幅はどうしても必要であり、比抵抗制御の精度を上
げることは非常に困難であるＬどの欠点があった。
この発明は上記のような従来のものの欠点を除去するた
めになされたもので、放電加工機の加工液中に配設され
た電極に流れる電流及びこの電極に印加される電圧を、
それぞれディジタル量に変換して検出し、前記ディジタ
ル化した各電流値及び電圧値を基にしてディジタル演算
処理することにより、前記加工液の比抵抗制御を行なう
ようにした構成な有し、電圧変動の影響を受けることな
く正確に、かつ高精度に比抵抗制御を行なうことができ
る放電加工用比抵抗制御装置を提供することを目的とし
ている。
めになされたもので、放電加工機の加工液中に配設され
た電極に流れる電流及びこの電極に印加される電圧を、
それぞれディジタル量に変換して検出し、前記ディジタ
ル化した各電流値及び電圧値を基にしてディジタル演算
処理することにより、前記加工液の比抵抗制御を行なう
ようにした構成な有し、電圧変動の影響を受けることな
く正確に、かつ高精度に比抵抗制御を行なうことができ
る放電加工用比抵抗制御装置を提供することを目的とし
ている。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第３
図はこの発明の一実施例である放電加工用比抵抗制御装
置を示す回路構成図である。図において、／３は交流電
圧源ざより電極ｌＯに流れる交流電流を抵抗器／ｑにて
電圧として取り出し、直流電圧に変換する整流器、／、
Ｓは電極ｌＯの両端に印加される交流電圧を直流電圧に
変換する整流器、／Ａ。
図はこの発明の一実施例である放電加工用比抵抗制御装
置を示す回路構成図である。図において、／３は交流電
圧源ざより電極ｌＯに流れる交流電流を抵抗器／ｑにて
電圧として取り出し、直流電圧に変換する整流器、／、
Ｓは電極ｌＯの両端に印加される交流電圧を直流電圧に
変換する整流器、／Ａ。
／７は各々インピーダンス変換器で、検出回路の高イン
ピーダンス化を計るものである。７ｇは電圧−周波数変
換器（以下、Ｖ／Ｆ変換器といつ）、／９−はホトカブ
ラなどの光結合器、２０はＡ ／ Ｄ変換器（アナログ
・ディジタル変換器）としてのグリセット付きのＮ進カ
ウンタ、２／ ）’ｉ ｊ Ｎ進カウンタ２０のプリセ
ット回路、Ｕはミラー積分器、２３は比較器、評は抵抗
器、ごはツェナダイオード、２６はＲ−８フリツグフロ
ツグ、２７はミラー積分器Ｕの積分コンデ／す、！、ざ
に並列に挿入されたトランジスタスイッチである。２り
は第１図に示す純水器１２への導通ＱＯＮ１０ＦＦ制御
するための出力リレーである。
ピーダンス化を計るものである。７ｇは電圧−周波数変
換器（以下、Ｖ／Ｆ変換器といつ）、／９−はホトカブ
ラなどの光結合器、２０はＡ ／ Ｄ変換器（アナログ
・ディジタル変換器）としてのグリセット付きのＮ進カ
ウンタ、２／ ）’ｉ ｊ Ｎ進カウンタ２０のプリセ
ット回路、Ｕはミラー積分器、２３は比較器、評は抵抗
器、ごはツェナダイオード、２６はＲ−８フリツグフロ
ツグ、２７はミラー積分器Ｕの積分コンデ／す、！、ざ
に並列に挿入されたトランジスタスイッチである。２り
は第１図に示す純水器１２への導通ＱＯＮ１０ＦＦ制御
するための出力リレーである。
第弘図（ａ）ないしくｆ）は第３図の回路構成図の動作
を説明するだめの各部のタイムチャート図である。
を説明するだめの各部のタイムチャート図である。
次に、上記したこの発明の一実施例の動作について、第
３図及び第を図（ａ）ないしくｆ）を参照して説明する
。第３図に示す電極１０の両端に印加された交流電圧は
、第弘図（ａ）に示すように、整流器１５゜インピダン
ス変換器ｉ７’！経てミラー積分器、２．２によって積
分され、比較４幻によってツェナダイオード、２．５の
電圧ｖ２でリセットされるため、ミラー積分器２２の出
力は、第ψ図（Ｃ）に示すように、周期Ｔが交流電圧に
反比例するのこぎり波となる。一方、電極１０Ｋ流れる
電流は、抵抗器／グ、整流器／３．インビーダンス変換
器／Ｇ、 Ｖ／Ｆ変換器／ｇ、光結合器／ワを経て、
第を図（ｄ）に示すように、周波数が電流値に比例する
パルス列に変換される。Ｎ進カウンタ２０はこの電流値
に比例するパルス列を計数し、ミラー積分器Ｕの出力電
圧がｖ２ に到達するごとに計数値がリセットされる
。したがって、Ｎ進カウンタユＯの毎回の計数値は′電
流に比例し、電圧に反比例することになる。すなわち、
Ｎ進カウンタＪ０の毎回の計数値は、加工液の比抵抗に
は依存するが、電源直圧の変動や、検出回路中の抵抗器
／ｌのばらつきには伺うの影響もされない。Ｎ進カウン
タＪ、０は、計数値がプリセット回路２／で設定される
計数値以上に達すると桁上げな生じ、加工液な純水器〆
２に導（出力リレー、２９にオンして駆動し、Ｔｆ、’
１図（ｆ）に示すようなタイミングで純水器７．２が作
動を始める。純水器１２によって加工液の比抵抗が徐々
に上るとＮ進カウンタ２０の計数値は再び減少し、グリ
セット回路２／で設定された計数値以下となると出力リ
レー２ｑ はオフし、加工液は純水器７．２な通過され
なくなり、以下、上記のような動作を繰り返す。
３図及び第を図（ａ）ないしくｆ）を参照して説明する
。第３図に示す電極１０の両端に印加された交流電圧は
、第弘図（ａ）に示すように、整流器１５゜インピダン
ス変換器ｉ７’！経てミラー積分器、２．２によって積
分され、比較４幻によってツェナダイオード、２．５の
電圧ｖ２でリセットされるため、ミラー積分器２２の出
力は、第ψ図（Ｃ）に示すように、周期Ｔが交流電圧に
反比例するのこぎり波となる。一方、電極１０Ｋ流れる
電流は、抵抗器／グ、整流器／３．インビーダンス変換
器／Ｇ、 Ｖ／Ｆ変換器／ｇ、光結合器／ワを経て、
第を図（ｄ）に示すように、周波数が電流値に比例する
パルス列に変換される。Ｎ進カウンタ２０はこの電流値
に比例するパルス列を計数し、ミラー積分器Ｕの出力電
圧がｖ２ に到達するごとに計数値がリセットされる
。したがって、Ｎ進カウンタユＯの毎回の計数値は′電
流に比例し、電圧に反比例することになる。すなわち、
Ｎ進カウンタＪ０の毎回の計数値は、加工液の比抵抗に
は依存するが、電源直圧の変動や、検出回路中の抵抗器
／ｌのばらつきには伺うの影響もされない。Ｎ進カウン
タＪ、０は、計数値がプリセット回路２／で設定される
計数値以上に達すると桁上げな生じ、加工液な純水器〆
２に導（出力リレー、２９にオンして駆動し、Ｔｆ、’
１図（ｆ）に示すようなタイミングで純水器７．２が作
動を始める。純水器１２によって加工液の比抵抗が徐々
に上るとＮ進カウンタ２０の計数値は再び減少し、グリ
セット回路２／で設定された計数値以下となると出力リ
レー２ｑ はオフし、加工液は純水器７．２な通過され
なくなり、以下、上記のような動作を繰り返す。
放電加工機における加工液の比抵抗の変化は、一般に極
めてゆるやかであるので、プリセット回路２．７で設定
される計数値で示す設定値の付近では、出力リレー２ｑ
がチャタリングを起してその制御が不安定になりやす
いため、従来の比抵抗制御装置では上記設定値にヒステ
リシス幅を持たせていた。ところが、この発明の比抵抗
制御装置では、Ｎ進カウンタ２０の計数値が連続して設
定値を超えた回数が所定の回数以上になれば出力リレー
２９をオンし、また、連続して上記設定値以下であった
回数が所定の回数以上であれば出力リレー２９をオフす
るというように、ディジタル演算処理によってヒステリ
シス幅を持たせろことができる。
めてゆるやかであるので、プリセット回路２．７で設定
される計数値で示す設定値の付近では、出力リレー２ｑ
がチャタリングを起してその制御が不安定になりやす
いため、従来の比抵抗制御装置では上記設定値にヒステ
リシス幅を持たせていた。ところが、この発明の比抵抗
制御装置では、Ｎ進カウンタ２０の計数値が連続して設
定値を超えた回数が所定の回数以上になれば出力リレー
２９をオンし、また、連続して上記設定値以下であった
回数が所定の回数以上であれば出力リレー２９をオフす
るというように、ディジタル演算処理によってヒステリ
シス幅を持たせろことができる。
なお、上記実施例では、各電圧値、電流値をディジタル
量に変換した後の計数、比較などのディジタル演算処理
を、専用のプリセット回路２／を備えるＮ進カウンタ２
０から成るノ・−ドウエアによって行なわせる場合につ
いて説明したが、第５図に示されるように、各電圧値、
電流値のそれぞれをディジタル量に変換するＡ ／／Ｄ
変換器、１０．３／によってマイクロコンピュータのよ
うなディジタル演算器３２に取り込み、その後の計数、
比較１平均化などのディジタル演算処理を、すべてディ
ジタル演算器３−！によるソフトウェア上で実施させて
も良く、上記実施例と同様の効果を奏する。また、上記
実施例では、加工液の純水器／Ｕへの導通を０Ｎ１０Ｆ
Ｆ 制御するだけのものについて説明したが、これ以外
に、比抵抗調整液の混入量や比抵抗の異なる２液の混入
割合をそれぞれ制御するようにしたものでも良いことは
云うまでもない。
量に変換した後の計数、比較などのディジタル演算処理
を、専用のプリセット回路２／を備えるＮ進カウンタ２
０から成るノ・−ドウエアによって行なわせる場合につ
いて説明したが、第５図に示されるように、各電圧値、
電流値のそれぞれをディジタル量に変換するＡ ／／Ｄ
変換器、１０．３／によってマイクロコンピュータのよ
うなディジタル演算器３２に取り込み、その後の計数、
比較１平均化などのディジタル演算処理を、すべてディ
ジタル演算器３−！によるソフトウェア上で実施させて
も良く、上記実施例と同様の効果を奏する。また、上記
実施例では、加工液の純水器／Ｕへの導通を０Ｎ１０Ｆ
Ｆ 制御するだけのものについて説明したが、これ以外
に、比抵抗調整液の混入量や比抵抗の異なる２液の混入
割合をそれぞれ制御するようにしたものでも良いことは
云うまでもない。
以上のように、この発明に係る放電加工用比抵抗制御装
置によれば、放電加工機の加工液中に配設された電極に
流れる電流及びこの電極に印加される電圧な、それぞれ
ディジタル量に変換、検出してディジタル演算処理する
ことにより、前記加工液の比抵抗制御を行なうように構
成したので、電圧の変動や検出回路の抵抗値のばらつき
によっても何らの影響な受けることなく、極めて正確に
、かつ高い精度をもって比抵抗制御を行なうことができ
るという優れた効果を奏するものである。
置によれば、放電加工機の加工液中に配設された電極に
流れる電流及びこの電極に印加される電圧な、それぞれ
ディジタル量に変換、検出してディジタル演算処理する
ことにより、前記加工液の比抵抗制御を行なうように構
成したので、電圧の変動や検出回路の抵抗値のばらつき
によっても何らの影響な受けることなく、極めて正確に
、かつ高い精度をもって比抵抗制御を行なうことができ
るという優れた効果を奏するものである。
第１図は従来の放電加工用比抵抗制御装置を示す概略構
成図、第２図は第１図の放電加工用比抵抗制御装置に適
用されるメータリレーな示す構成図、第３図はこの発明
の一実施例である放電加工用比抵抗制御装置を示す回路
構成図、第７図（ａ）ないしくｆ）は第３図の回路構成
図の動作を説明す濠ためのタイムチャート図、第５図は
この発明の他の実施例である放電加工用比抵抗制御装置
を示す一部の回路構成図である。 図において、／・・・加工液タンク、２・・・汚液槽、
３・・・清液槽、グ・・・加工槽、５・・・濾過ポンプ
（Ｐｌ）、乙・・・濾過器、７・・・供給ポンプ（Ｐ３
）、に・・交流電圧源、り・・・メータリレー（Ａ）、
ｌＯ・・・電極、／／・・・ポンプ（Ｐ２＞、／２・・
純水器、／３． ／３・・・整流器、ＩＱ、 ２グ・
・・抵抗器、／Ａ、 ／７・・・インピーダンス変換器
、１ｇ・・・Ｖ／Ｆ変換器、／デ・・・光結合器、２０
・・・Ｎ進カウンタ、２／・・・プリセット回路、２２
・・・ミラー積分器、Ｊ・・・比較器、Ｊ・・・ツェナ
ダイオード、易・・・Ｒ−６１フリツグフロツプ、２７
・・・トランジスタスイッチ、２と・・・積分コンデン
サ、２ｑ・・・出力リレー１．１０．３／・・・Ａ／Ｄ
変換器、３ユ・・・ディジタル演算器である。 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。 代理人 葛 野 信 − 第１図 第２図 第４図 （ｆ） 綾棒ＯＦＦ 判○Ｎ第５図
成図、第２図は第１図の放電加工用比抵抗制御装置に適
用されるメータリレーな示す構成図、第３図はこの発明
の一実施例である放電加工用比抵抗制御装置を示す回路
構成図、第７図（ａ）ないしくｆ）は第３図の回路構成
図の動作を説明す濠ためのタイムチャート図、第５図は
この発明の他の実施例である放電加工用比抵抗制御装置
を示す一部の回路構成図である。 図において、／・・・加工液タンク、２・・・汚液槽、
３・・・清液槽、グ・・・加工槽、５・・・濾過ポンプ
（Ｐｌ）、乙・・・濾過器、７・・・供給ポンプ（Ｐ３
）、に・・交流電圧源、り・・・メータリレー（Ａ）、
ｌＯ・・・電極、／／・・・ポンプ（Ｐ２＞、／２・・
純水器、／３． ／３・・・整流器、ＩＱ、 ２グ・
・・抵抗器、／Ａ、 ／７・・・インピーダンス変換器
、１ｇ・・・Ｖ／Ｆ変換器、／デ・・・光結合器、２０
・・・Ｎ進カウンタ、２／・・・プリセット回路、２２
・・・ミラー積分器、Ｊ・・・比較器、Ｊ・・・ツェナ
ダイオード、易・・・Ｒ−６１フリツグフロツプ、２７
・・・トランジスタスイッチ、２と・・・積分コンデン
サ、２ｑ・・・出力リレー１．１０．３／・・・Ａ／Ｄ
変換器、３ユ・・・ディジタル演算器である。 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。 代理人 葛 野 信 − 第１図 第２図 第４図 （ｆ） 綾棒ＯＦＦ 判○Ｎ第５図
Claims (1)
- 放電加工機で使用する導電性の加工液の比抵抗制御装置
において、前記加工液中に配設された電極と、該電極に
交流電流を通電する交流電圧源と、前記電極に流れる交
流電流をディジタル量に変換する第１のＡ／Ｄ 変換器
と、前記交流電圧源の交流電圧をディジタル量に変換す
る第λのＡ／Ｄ 変換器と、前記ディジタル化した各電
流値及び電圧値を基にして、ディジタル演算処理を行な
う制御器とを備えたことを特徴とする放電加工用比抵抗
制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2302883A JPS59152028A (ja) | 1983-02-15 | 1983-02-15 | 放電加工用比抵抗制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2302883A JPS59152028A (ja) | 1983-02-15 | 1983-02-15 | 放電加工用比抵抗制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59152028A true JPS59152028A (ja) | 1984-08-30 |
Family
ID=12099013
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2302883A Pending JPS59152028A (ja) | 1983-02-15 | 1983-02-15 | 放電加工用比抵抗制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59152028A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61178120A (ja) * | 1985-02-04 | 1986-08-09 | Mitsubishi Electric Corp | ワイヤカツト放電加工装置 |
| WO1995012471A1 (fr) * | 1993-11-04 | 1995-05-11 | Fanuc Ltd | Appareil de detection de liquide d'usinage pour machines d'etincelage a fil de coupe |
| US6384363B1 (en) * | 1998-05-15 | 2002-05-07 | Hideo Hayakawa | Process for electric discharge machining and apparatus therefor |
-
1983
- 1983-02-15 JP JP2302883A patent/JPS59152028A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61178120A (ja) * | 1985-02-04 | 1986-08-09 | Mitsubishi Electric Corp | ワイヤカツト放電加工装置 |
| WO1995012471A1 (fr) * | 1993-11-04 | 1995-05-11 | Fanuc Ltd | Appareil de detection de liquide d'usinage pour machines d'etincelage a fil de coupe |
| US6384363B1 (en) * | 1998-05-15 | 2002-05-07 | Hideo Hayakawa | Process for electric discharge machining and apparatus therefor |
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