JPS59141573A - 新規な単量体 - Google Patents
新規な単量体Info
- Publication number
- JPS59141573A JPS59141573A JP59014172A JP1417284A JPS59141573A JP S59141573 A JPS59141573 A JP S59141573A JP 59014172 A JP59014172 A JP 59014172A JP 1417284 A JP1417284 A JP 1417284A JP S59141573 A JPS59141573 A JP S59141573A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carbon atoms
- group
- polyetherimide
- aryl
- general formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 title claims description 27
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 title claims description 17
- 239000000178 monomer Substances 0.000 title description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 35
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 7
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 2
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001989 1,3-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:1])=C([H])C([*:2])=C1[H] 0.000 claims 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 22
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 7
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 7
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N phthalic anhydride Chemical class C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 5
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 description 5
- TUAMRELNJMMDMT-UHFFFAOYSA-N 3,5-xylenol Chemical compound CC1=CC(C)=CC(O)=C1 TUAMRELNJMMDMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- -1 ether anhydride Chemical class 0.000 description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000006159 dianhydride group Chemical group 0.000 description 3
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241001313099 Pieris napi Species 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 238000010533 azeotropic distillation Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229940018564 m-phenylenediamine Drugs 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- OLAPPGSPBNVTRF-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic acid Chemical compound C1=CC(C(O)=O)=C2C(C(=O)O)=CC=C(C(O)=O)C2=C1C(O)=O OLAPPGSPBNVTRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 1,8-diaminooctane Chemical compound NCCCCCCCCN PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBCHWGTZAAZJKG-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-5-nitroisoindole-1,3-dione Chemical compound C1=C([N+]([O-])=O)C=C2C(=O)N(C)C(=O)C2=C1 JBCHWGTZAAZJKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethoxybenzidine Chemical compound C1=C(N)C(OC)=CC(C=2C=C(OC)C(N)=CC=2)=C1 JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethylbenzidine Chemical compound C1=C(N)C(C)=CC(C=2C=C(C)C(N)=CC=2)=C1 NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYOQJBLGFMMRLJ-UHFFFAOYSA-N 3,5-di(propan-2-yl)phenol Chemical compound CC(C)C1=CC(O)=CC(C(C)C)=C1 YYOQJBLGFMMRLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSYMXGSXCONTDD-UHFFFAOYSA-N 3,5-diphenylphenol Chemical compound C=1C(O)=CC(C=2C=CC=CC=2)=CC=1C1=CC=CC=C1 CSYMXGSXCONTDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPIOXOJERGNNMX-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminopropylsulfanyl)propan-1-amine Chemical compound NCCCSCCCN QPIOXOJERGNNMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPXCORHXFPYJEH-UHFFFAOYSA-N 3-[[3-aminopropyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilyl]propan-1-amine Chemical compound NCCC[Si](C)(C)O[Si](C)(C)CCCN GPXCORHXFPYJEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSEHCSLFESGHMU-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-5-phenylmethoxyphenol Chemical compound OC1=CC(Cl)=CC(OCC=2C=CC=CC=2)=C1 QSEHCSLFESGHMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEEIWUUBRYZFEH-UHFFFAOYSA-N 3-methoxyhexane-1,6-diamine Chemical compound NCCC(OC)CCCN YEEIWUUBRYZFEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTZQJVGOFCCDQA-UHFFFAOYSA-N 3-methylhexane-1,6-diamine Chemical compound NCCC(C)CCCN LTZQJVGOFCCDQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICNFHJVPAJKPHW-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Thiodianiline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1SC1=CC=C(N)C=C1 ICNFHJVPAJKPHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQGUWEUKOQRRJU-UHFFFAOYSA-N 4-(4-aminobutyl-methyl-trimethylsilyloxysilyl)butan-1-amine Chemical compound NCCCC[Si](C)(O[Si](C)(C)C)CCCCN JQGUWEUKOQRRJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminocyclohexyl)methyl]cyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)CCC1CC1CCC(N)CC1 DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPDXWXPSCKSIII-UHFFFAOYSA-N 4-propan-2-ylbenzene-1,3-diamine Chemical compound CC(C)C1=CC=C(N)C=C1N IPDXWXPSCKSIII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQAHXEQUBNDFGI-UHFFFAOYSA-N 5-[4-[2-[4-[(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)oxy]phenyl]propan-2-yl]phenoxy]-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(OC2=CC=C(C=C2)C(C)(C=2C=CC(OC=3C=C4C(=O)OC(=O)C4=CC=3)=CC=2)C)=C1 MQAHXEQUBNDFGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBRGOFWKNLPACT-UHFFFAOYSA-N 5-methylnonane-1,9-diamine Chemical compound NCCCCC(C)CCCCN MBRGOFWKNLPACT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC(CN)=C1 FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005904 alkaline hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N benzidine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1 HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,4-diamine Chemical compound NC1CCC(N)CC1 VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCN YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N heptane-1,7-diamine Chemical compound NCCCCCCCN PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- KMBPCQSCMCEPMU-UHFFFAOYSA-N n'-(3-aminopropyl)-n'-methylpropane-1,3-diamine Chemical compound NCCCN(C)CCCN KMBPCQSCMCEPMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-diamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1N KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N nonane-1,9-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCN SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000020477 pH reduction Effects 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UOULCEYHQNCFFH-UHFFFAOYSA-M sodium;hydroxymethanesulfonate Chemical compound [Na+].OCS([O-])(=O)=O UOULCEYHQNCFFH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003828 vacuum filtration Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D209/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom condensed with one carbocyclic ring
- C07D209/44—Iso-indoles; Hydrogenated iso-indoles
- C07D209/48—Iso-indoles; Hydrogenated iso-indoles with oxygen atoms in positions 1 and 3, e.g. phthalimide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C317/00—Sulfones; Sulfoxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D307/77—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D307/87—Benzo [c] furans; Hydrogenated benzo [c] furans
- C07D307/89—Benzo [c] furans; Hydrogenated benzo [c] furans with two oxygen atoms directly attached in positions 1 and 3
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/1057—Polyimides containing other atoms than carbon, hydrogen, nitrogen or oxygen in the main chain
- C08G73/1064—Polyimides containing other atoms than carbon, hydrogen, nitrogen or oxygen in the main chain containing sulfur
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/1067—Wholly aromatic polyimides, i.e. having both tetracarboxylic and diamino moieties aromatically bound
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
- Furan Compounds (AREA)
- Indole Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ポリエーテルイミドは、高い耐熱性、異例な強度および
秀れた加工性を始めとする秀れた物理的および化学的性
質を示す特異なポリマーである。このポリマーは電線被
覆物として使用でき、特に射出成型用に適している。
秀れた加工性を始めとする秀れた物理的および化学的性
質を示す特異なポリマーである。このポリマーは電線被
覆物として使用でき、特に射出成型用に適している。
多種多様のポリエーテルイミドとその製造法が開示され
てきた。通常、これらポリマーは、有機ジアミンと芳香
族ビス(エーテルシカルホニル)例えば芳香族ビス(エ
ーテル無水物)あるいは芳香族ビス(エーテルジカルボ
ン酸)とを反応させることにより製造する。ポリエーテ
ルイミドの構造と製造法を調べるには、すべて本発明の
一部としてここに引用する下記特許を参照せよ。米国特
許第3847867号(ダレル・アール俳ヒースとジョ
セフ・ジー・ワース入来m特許第3847869号(フ
ランク・ジ工−・ウィリアムス■)、米国特許第385
0885号(タケカシ・トールとジョン・イー・コチャ
ノウスキー)、米国特許第3852242号(トワイン
・エム・ホワイト)および米国特許第3855178
号(トワイン・エム・ホワイトとフランク、ジエー・ウ
ィリアム■)。
てきた。通常、これらポリマーは、有機ジアミンと芳香
族ビス(エーテルシカルホニル)例えば芳香族ビス(エ
ーテル無水物)あるいは芳香族ビス(エーテルジカルボ
ン酸)とを反応させることにより製造する。ポリエーテ
ルイミドの構造と製造法を調べるには、すべて本発明の
一部としてここに引用する下記特許を参照せよ。米国特
許第3847867号(ダレル・アール俳ヒースとジョ
セフ・ジー・ワース入来m特許第3847869号(フ
ランク・ジ工−・ウィリアムス■)、米国特許第385
0885号(タケカシ・トールとジョン・イー・コチャ
ノウスキー)、米国特許第3852242号(トワイン
・エム・ホワイト)および米国特許第3855178
号(トワイン・エム・ホワイトとフランク、ジエー・ウ
ィリアム■)。
本発明に従って、下記一般式で示さルるジ(ジアルキル
フェノール)スルホンのジ(無水フタール酸)誘導体を
ここに開示する。
フェノール)スルホンのジ(無水フタール酸)誘導体を
ここに開示する。
ここで、R1、R2、R3およびR6の各々は、工ない
し約10個の炭素原子を持つ低級アルキル、6ないし約
15個の炭素原子を持つアリール、アルキル部分は工な
いし約5個の炭素原子を含みそしてアリール部分は6な
いし約10個の炭素原子を含むアラルキル、ハロゲン、
工ないシ約10個の炭素原子を持つ低級アルコキシ、お
よび6ないし約15個の炭素原子を持つアリールオキシ
からなる群から相互に無関係に選ばれる。
し約10個の炭素原子を持つ低級アルキル、6ないし約
15個の炭素原子を持つアリール、アルキル部分は工な
いし約5個の炭素原子を含みそしてアリール部分は6な
いし約10個の炭素原子を含むアラルキル、ハロゲン、
工ないシ約10個の炭素原子を持つ低級アルコキシ、お
よび6ないし約15個の炭素原子を持つアリールオキシ
からなる群から相互に無関係に選ばれる。
また、上記一般式で示される上記ジ無水物と有機ジアミ
ンとを反応させて製造される新規ポリエーテルイミドも
ここに開示する。
ンとを反応させて製造される新規ポリエーテルイミドも
ここに開示する。
本発明のジ無水物モノマーは次の一般式で表わされる。
ここで、R1、R2、R3およびR4の各々は、工ない
し約10個の炭素原子を持つ低級アルキル、6ないし約
15個の炭素原子を持つアリール、アルキル部分は工な
いし約5個の炭素原子を含みそして了り−ル部分は約6
ないし約10個の炭素原子を含むアラルキル、ハロゲン
、工ないし約10個の炭素原子を持つ低級アルコキシ、
および6ないし約15個の炭素原子を持つアリールオキ
シからなる群から相互番こ無関係に選ばれる。
し約10個の炭素原子を持つ低級アルキル、6ないし約
15個の炭素原子を持つアリール、アルキル部分は工な
いし約5個の炭素原子を含みそして了り−ル部分は約6
ないし約10個の炭素原子を含むアラルキル、ハロゲン
、工ないし約10個の炭素原子を持つ低級アルコキシ、
および6ないし約15個の炭素原子を持つアリールオキ
シからなる群から相互番こ無関係に選ばれる。
好ましいジ無水物モノマーにおいては、R1、R2、R
3およびR6の各々は、1ないし約4個の炭素原子を持
つ低級アルキル例えばメチル、エチル、プロピルおよび
ブチル、6ないし約10個の炭素原子を持つアリール例
えばフェニル、トリル、−1−シリル、4−エチルフェ
ニル等、アルキル部分は工ないし打3個の炭素原子を含
みそしてアリール部分は6ないし約10個の炭素原子を
含むアラルキル例えばベンジル、フェネチル、トリルプ
ロピル等、臭素、塩素、工ないし約4個の炭素原子を持
つ低級アルコキシ例えばメトキシ、エトキシ、プロポキ
シおよびブトキシ、および6ないし約10個の炭素原子
を持つアリールオキシ例えばフェノキシ、トリルオキシ
、キシリルオキシ等からなる群から無関係に選ばれる。
3およびR6の各々は、1ないし約4個の炭素原子を持
つ低級アルキル例えばメチル、エチル、プロピルおよび
ブチル、6ないし約10個の炭素原子を持つアリール例
えばフェニル、トリル、−1−シリル、4−エチルフェ
ニル等、アルキル部分は工ないし打3個の炭素原子を含
みそしてアリール部分は6ないし約10個の炭素原子を
含むアラルキル例えばベンジル、フェネチル、トリルプ
ロピル等、臭素、塩素、工ないし約4個の炭素原子を持
つ低級アルコキシ例えばメトキシ、エトキシ、プロポキ
シおよびブトキシ、および6ないし約10個の炭素原子
を持つアリールオキシ例えばフェノキシ、トリルオキシ
、キシリルオキシ等からなる群から無関係に選ばれる。
特に好ましいジ無水物モノマーにおいては、R1、R2
、R3およびR4は同じもので、メチルかあるいはエチ
ル、好ましくはメチルである。
、R3およびR4は同じもので、メチルかあるいはエチ
ル、好ましくはメチルである。
新規なジ無水物モノマーは、ジ(3,5−ジアルキルフ
ェノール〕スルホンとN−アルキルニトロフタルイミド
とを無水条件の下温度を高めて反応させることにより有
利に製造される。
ェノール〕スルホンとN−アルキルニトロフタルイミド
とを無水条件の下温度を高めて反応させることにより有
利に製造される。
この反応は次の一般式で示されるシフタルイミドを生ず
る。
る。
ここで、R1、R2、R3およびR4は上で定義したと
おりであり、そしてR5とR6は低級アルキル、好まし
くはメチルである。
おりであり、そしてR5とR6は低級アルキル、好まし
くはメチルである。
上記反応において出発原料として使用するジ(3,5−
ジアルキルフェノール)スルホンは公知の方法(例えば
、ダニエル・ダブリュ・フオツク−ス等の米国特許第3
383421号を参照)により製造することができる。
ジアルキルフェノール)スルホンは公知の方法(例えば
、ダニエル・ダブリュ・フオツク−ス等の米国特許第3
383421号を参照)により製造することができる。
このシフタルイミドはアルカリ加水分解により対応する
テトラカルボン酸に転換できる。この加水分解を実施す
るための便利な方法は、加水分解条件のド、濃厚な水酸
化す)IJウムの存在下でシフタルイミドを還流するこ
とである。
テトラカルボン酸に転換できる。この加水分解を実施す
るための便利な方法は、加水分解条件のド、濃厚な水酸
化す)IJウムの存在下でシフタルイミドを還流するこ
とである。
生じたテトラカルボン酸は、塩酸の如き鉱酸で酸性にし
て沈澱させることにより、反応混合物から分離できる。
て沈澱させることにより、反応混合物から分離できる。
このテトラカルボン酸は次の一般式で表わされる。
本発明のジ無水物は、テトラカルボン酸をついで脱水す
ることにより容易に得ることができる。この脱水は、テ
トラカルボン酸と無水酢酸とを、脱水条件の下温度を高
めて反応させることにより有利に達成される。生じたジ
無水物は、反応混合物から容易に結晶化でき、石油エー
テルの如き有機溶媒で洗浄することにより精製でき、ま
た乾燥できる。
ることにより容易に得ることができる。この脱水は、テ
トラカルボン酸と無水酢酸とを、脱水条件の下温度を高
めて反応させることにより有利に達成される。生じたジ
無水物は、反応混合物から容易に結晶化でき、石油エー
テルの如き有機溶媒で洗浄することにより精製でき、ま
た乾燥できる。
本発明の新規ジ無水物は、従来技術で公知の各種操作の
いずれによっても有機ジアミンと反応させることができ
て次の一般式で示さnる新規ポリエーテルイミドポリマ
ーを生ずる。
いずれによっても有機ジアミンと反応させることができ
て次の一般式で示さnる新規ポリエーテルイミドポリマ
ーを生ずる。
ここで、R,、R2、R3およびR4は上で定義したと
おりであり、nはlより大きな整数例えば10ないし約
10000以上の整数であり、そしてRは(m16ない
し約20個の炭素原子を持つ芳香族炭化水素基およびそ
のハロゲン化誘導体、(b12ないし約20個の炭素原
子を持つアルキレン基およびシクロアルキレン基、末端
がC(2−8)アルキレンであるポリジオルガノシロキ
サン、および(cl下記一般式、 ここで、Qは (ここで、Xは1ないし5の整数である)からなる群か
ら選ばれるメンバーである、 により包含される2価の基からなる群から選ばわる2価
の有機基である。
おりであり、nはlより大きな整数例えば10ないし約
10000以上の整数であり、そしてRは(m16ない
し約20個の炭素原子を持つ芳香族炭化水素基およびそ
のハロゲン化誘導体、(b12ないし約20個の炭素原
子を持つアルキレン基およびシクロアルキレン基、末端
がC(2−8)アルキレンであるポリジオルガノシロキ
サン、および(cl下記一般式、 ここで、Qは (ここで、Xは1ないし5の整数である)からなる群か
ら選ばれるメンバーである、 により包含される2価の基からなる群から選ばわる2価
の有機基である。
有機ジアミンには例えば次のものが挙げられる。
m−フェニレンジアミン、
p−フェニレンジアミン、
4.4′−ジアミノジフェニルプロパン、4.4′−ジ
アミノジフェニルメタン(通常、4.4′−メチレンジ
アニリンと称する〕、 4.4′−ジアミノジフェニルサルファイド、4.41
−ジアミノジフェニルスルホン、1.5−ジアミノナフ
タレン、 3.3′−ジメチルベンジジン、 3.3′−ジメトキシベンジジン、 2 、4− ヒス(β−アミノ−ターシャリ−ブチル)
トルエン、ビスCp−β−アミノ−ターシャリ−ブチル
フェニル)エーテル、 ビス(p−β−メチル−〇−アミノペンチル)ベンゼン
、1.3−ジアミノ−4−イソプロピルベンゼン、1.
2−ビス(3−アミノプロポキシ)エタン、ベンジジン m−キシリレンジアミン、 p−キシリレンジアミン、 2.4−ジアミノトルエン、 2.6−ジアミノトルエン、 ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタン、3−メチル
へブタメチレンジアミン、 4.4−ジメチルへブタメチレンジアミン、2.11−
ドデカンジアミン、 2.2−ジメチルプロピレンジアミン、オクタメチレン
ジアミン、 3−メトキシヘキサメチレンジアミン、2.5−ジメチ
ルへキサメチレンジアミン、2.5−ジメチルへブタメ
チレンジアミン、3−メチルへブタメチレンジアミン、 5−メチルノナメチレンジアミン、 1.4−シクロヘキサンジアミン、 1.12−オクタデカンジアミン、 ビス(3−アミノプロピル)サルファイド、N−メチル
−ビス(3−アミノプロピル)アミン、ヘキサメチレン
ジアミン、 ヘプタメチレンジアミン、 ノナメチレンジアミン、 デカメチレンジアミン、 ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン
、ビス(4−アミノブチル)テトラメチルジシロキサン
およびこわらジアミンの混合物。
アミノジフェニルメタン(通常、4.4′−メチレンジ
アニリンと称する〕、 4.4′−ジアミノジフェニルサルファイド、4.41
−ジアミノジフェニルスルホン、1.5−ジアミノナフ
タレン、 3.3′−ジメチルベンジジン、 3.3′−ジメトキシベンジジン、 2 、4− ヒス(β−アミノ−ターシャリ−ブチル)
トルエン、ビスCp−β−アミノ−ターシャリ−ブチル
フェニル)エーテル、 ビス(p−β−メチル−〇−アミノペンチル)ベンゼン
、1.3−ジアミノ−4−イソプロピルベンゼン、1.
2−ビス(3−アミノプロポキシ)エタン、ベンジジン m−キシリレンジアミン、 p−キシリレンジアミン、 2.4−ジアミノトルエン、 2.6−ジアミノトルエン、 ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタン、3−メチル
へブタメチレンジアミン、 4.4−ジメチルへブタメチレンジアミン、2.11−
ドデカンジアミン、 2.2−ジメチルプロピレンジアミン、オクタメチレン
ジアミン、 3−メトキシヘキサメチレンジアミン、2.5−ジメチ
ルへキサメチレンジアミン、2.5−ジメチルへブタメ
チレンジアミン、3−メチルへブタメチレンジアミン、 5−メチルノナメチレンジアミン、 1.4−シクロヘキサンジアミン、 1.12−オクタデカンジアミン、 ビス(3−アミノプロピル)サルファイド、N−メチル
−ビス(3−アミノプロピル)アミン、ヘキサメチレン
ジアミン、 ヘプタメチレンジアミン、 ノナメチレンジアミン、 デカメチレンジアミン、 ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン
、ビス(4−アミノブチル)テトラメチルジシロキサン
およびこわらジアミンの混合物。
ここに記載したポリエーテルイミドの多数の製造法の中
には、前述したヒース等、ウィリアムス、タケコシ等、
ホワイト、ホワイト等の米国特許に開示された方法が包
含される。これらの開示は本発明の新規化合物を教えは
しないが、そこに記載さnた合成技術および反応は本発
明のポリエーテルイミドを製造するのに使用できる。従
って、本発明のポリエーテルイミドを製造する一般的お
よび具体的方法を、説明のため、教授する目的で、これ
らの開示を全部本発明の一部として引用する。
には、前述したヒース等、ウィリアムス、タケコシ等、
ホワイト、ホワイト等の米国特許に開示された方法が包
含される。これらの開示は本発明の新規化合物を教えは
しないが、そこに記載さnた合成技術および反応は本発
明のポリエーテルイミドを製造するのに使用できる。従
って、本発明のポリエーテルイミドを製造する一般的お
よび具体的方法を、説明のため、教授する目的で、これ
らの開示を全部本発明の一部として引用する。
ここに記載した新規ジ無水物から製造さnたポリエーテ
ルイミドポリマーは、既知のポリエーテルイミドに勝る
ある有利な性質を持つことが見出されてきた。この通常
のクラスのポリエーテルイミドに特有の秀れた熱安定性
、機械的強度および加工性に加えて、本発明のポリエー
テルイミドは例外的に高いガラス転位温度を持つことも
見出されてきた。例えば、上記ポリエーテルイミドでR
1、R2、R3およびR4が各々メチルでRがp−フェ
ニレンであるものにおいては、ガラス転位温度が既知の
ポリエーテルイミドのそれより実質的に高い約300°
Cであることが見出さnてきた。この高いガラス転位温
度のため番こ、本発明のポリエーテルイミドポリマーは
、耐熱性の高いことが先行条件である構造的用途に用い
ることができる。
ルイミドポリマーは、既知のポリエーテルイミドに勝る
ある有利な性質を持つことが見出されてきた。この通常
のクラスのポリエーテルイミドに特有の秀れた熱安定性
、機械的強度および加工性に加えて、本発明のポリエー
テルイミドは例外的に高いガラス転位温度を持つことも
見出されてきた。例えば、上記ポリエーテルイミドでR
1、R2、R3およびR4が各々メチルでRがp−フェ
ニレンであるものにおいては、ガラス転位温度が既知の
ポリエーテルイミドのそれより実質的に高い約300°
Cであることが見出さnてきた。この高いガラス転位温
度のため番こ、本発明のポリエーテルイミドポリマーは
、耐熱性の高いことが先行条件である構造的用途に用い
ることができる。
本発明を次の実施例によりさらに説明するが、この実施
例は本発明を制限するものではない。
例は本発明を制限するものではない。
実施例 I
機械的攪拌器、温度計、還流冷却器/ディーンスターク
水トラップおよび加熱手段を取付けた四つ口反応容器番
こ、ジ(3,5−ジメチルフェノール)スルホン306
.37g(1,00モル上水酸化ナトリウムの5OL!
6水溶液80 g (200モル)、ジメチルスルホキ
サイド400ynlおよびクロロベンゼン675 ml
を加えた。窒素のド、混合物を135°□iこ加熱し、
水の共沸除去が完了するまで攪拌した。クロロベンゼン
の蒸溜により温度を150 ”Cに上げた。混合物を6
0’Cに冷却してN−メチル−4−二トロフタルイミド
412.32g(2,00モル)を加えた。反応混合物
を約60°Cで12時間撹拌した。冷却すると、生成物
が溶液から析出沈澱し、こnを濾過により分離した。結
晶を水、次いでメタノールで洗浄した。生成物を真空炉
中80°Cで約18時間乾燥してジ(3,5−ジメチル
フェノール)スルホンのビス(N−メチルイミド)55
5.96を得た。この物質は高圧液体クロマトグラフィ
ーにより99%の純度を示した。融点は280〜282
°Cであった。
水トラップおよび加熱手段を取付けた四つ口反応容器番
こ、ジ(3,5−ジメチルフェノール)スルホン306
.37g(1,00モル上水酸化ナトリウムの5OL!
6水溶液80 g (200モル)、ジメチルスルホキ
サイド400ynlおよびクロロベンゼン675 ml
を加えた。窒素のド、混合物を135°□iこ加熱し、
水の共沸除去が完了するまで攪拌した。クロロベンゼン
の蒸溜により温度を150 ”Cに上げた。混合物を6
0’Cに冷却してN−メチル−4−二トロフタルイミド
412.32g(2,00モル)を加えた。反応混合物
を約60°Cで12時間撹拌した。冷却すると、生成物
が溶液から析出沈澱し、こnを濾過により分離した。結
晶を水、次いでメタノールで洗浄した。生成物を真空炉
中80°Cで約18時間乾燥してジ(3,5−ジメチル
フェノール)スルホンのビス(N−メチルイミド)55
5.96を得た。この物質は高圧液体クロマトグラフィ
ーにより99%の純度を示した。融点は280〜282
°Cであった。
実施例 ■
還流冷却器を取付けた反応容器に、実施例Iの操作で製
造したビスイミド約300.g (0,480モル)を
50%水酸化ナトリウム400gおよび水800m1と
共に加えた。混合物をその還流温度で18時間加熱し、
室温に冷却し、次いで過剰の工N塩酸で酸性にした。テ
トラ酸が溶液から析出沈澱し、これを濾過により分離し
た。フィルターケーキを水で洗浄した。かくして得られ
た生成物を真空濾過中80℃で約18時間乾燥して次式
を持つ対応するテトラ酸279.2 gを得た。
造したビスイミド約300.g (0,480モル)を
50%水酸化ナトリウム400gおよび水800m1と
共に加えた。混合物をその還流温度で18時間加熱し、
室温に冷却し、次いで過剰の工N塩酸で酸性にした。テ
トラ酸が溶液から析出沈澱し、これを濾過により分離し
た。フィルターケーキを水で洗浄した。かくして得られ
た生成物を真空濾過中80℃で約18時間乾燥して次式
を持つ対応するテトラ酸279.2 gを得た。
実施例 ■
テトラ酸250 g (0,394モル〕と酢酸100
0g/および無水酢酸150gとの混合物を、そのマス
の還流温度に加熱し、約24時間撹拌し、次いで室温I
こ冷却した。ジ無水物が容易に結晶化し、これを濾過し
た。フィルターケーキを石油エーテルで6し浄し、微量
の溶媒を真空炉中80℃で除去して融点288〜290
°Cの所望の式209.9gを得た。
0g/および無水酢酸150gとの混合物を、そのマス
の還流温度に加熱し、約24時間撹拌し、次いで室温I
こ冷却した。ジ無水物が容易に結晶化し、これを濾過し
た。フィルターケーキを石油エーテルで6し浄し、微量
の溶媒を真空炉中80℃で除去して融点288〜290
°Cの所望の式209.9gを得た。
実施例 Iv
ディーンスタークトラップ/還流器、機械的攪拌器、窒
累尋入口および寒暖計を取付けた500m1の四つロフ
ラスコに、実施例■の操作で製造したジ無水物29.9
3g(0,050モル)、m−フェニレンジアミン5.
41g(0,050モル)、無水フタール酸0.14
g (0,001モル〕、m−クレゾール150 ml
およびトルエン100耐を加えた。混合物中を窒素雰囲
気下100°Cで30分加熱し、次いで温度を150℃
に上げ、この間反応から生じた水を共沸蒸溜で除去した
。約4時間後、温度を180°Cに上昇させ、1時間そ
の温度に保持し、次いで室温に冷却した。粘稠な混合物
をクロロホルム100ゴで稀釈し、ポリマーをメタノー
ル中で沈澱させて分離した。
累尋入口および寒暖計を取付けた500m1の四つロフ
ラスコに、実施例■の操作で製造したジ無水物29.9
3g(0,050モル)、m−フェニレンジアミン5.
41g(0,050モル)、無水フタール酸0.14
g (0,001モル〕、m−クレゾール150 ml
およびトルエン100耐を加えた。混合物中を窒素雰囲
気下100°Cで30分加熱し、次いで温度を150℃
に上げ、この間反応から生じた水を共沸蒸溜で除去した
。約4時間後、温度を180°Cに上昇させ、1時間そ
の温度に保持し、次いで室温に冷却した。粘稠な混合物
をクロロホルム100ゴで稀釈し、ポリマーをメタノー
ル中で沈澱させて分離した。
沈澱を125℃で乾燥して、次の構造を持つ繰返し単位
からなるポリエーテルイミドポリマーを得た。
からなるポリエーテルイミドポリマーを得た。
ポリマーの極限粘度は、フェノール/テトラクロロエタ
ン(60/40. w/w )中で測定すると0.65
dl/ gであり、またガラス転移温度は302°Cで
あった。
ン(60/40. w/w )中で測定すると0.65
dl/ gであり、またガラス転移温度は302°Cで
あった。
実施例 V
以下に述べること以外は実施例■の操作に従ってポリエ
ーテルイミドを製造した。反応物と溶媒は、実施例■に
記載したジ無水物4.50 g(0,00752モル)
、ヘキサメチレンジアミ70.88 g (0,007
49モル)、無水フタール酸0.02 g (0,00
0135% ル)、m−クレゾール30yxlおよびト
ルエン20tttlであった。
ーテルイミドを製造した。反応物と溶媒は、実施例■に
記載したジ無水物4.50 g(0,00752モル)
、ヘキサメチレンジアミ70.88 g (0,007
49モル)、無水フタール酸0.02 g (0,00
0135% ル)、m−クレゾール30yxlおよびト
ルエン20tttlであった。
混合物を16時間ゆっくり170°Cに加熱し、室温に
冷却し、クロロホルム50ゴで稀釈し、次いでメタノー
ルに加えてポリマーを沈澱させた。沈澱を125℃で乾
燥してポリマー4.6gを得た。ポリマーの極限粘度は
0.48dl/gであり、またガラス転移温度は190
℃であった。
冷却し、クロロホルム50ゴで稀釈し、次いでメタノー
ルに加えてポリマーを沈澱させた。沈澱を125℃で乾
燥してポリマー4.6gを得た。ポリマーの極限粘度は
0.48dl/gであり、またガラス転移温度は190
℃であった。
実施例 髪1
以下に述べること以外は実施例■の操作に従ってポリエ
ーテルイミドを製造した。反応物と溶媒は、実施例11
11こ記載したジ無水物6.00 g(0,010モル
)、メチレンジアニリン1.98g(0,00999モ
ル)、無水フタール酸0.03g(0,000203モ
ル)、m−フレジー/L/ 30 mlおよびトルエン
20g/であった。混合物を8時間170°Cに加熱し
、室温に冷却し、クロロホルム50M1で1布釈し、次
いでメタノールに加えてポリマーを沈澱させた。沈澱を
125℃で乾燥してポリマー7.3g−を得た。ポリマ
ーの極限粘度は0.57dl/gであり、またガラス転
移温度は289°Cであった。
ーテルイミドを製造した。反応物と溶媒は、実施例11
11こ記載したジ無水物6.00 g(0,010モル
)、メチレンジアニリン1.98g(0,00999モ
ル)、無水フタール酸0.03g(0,000203モ
ル)、m−フレジー/L/ 30 mlおよびトルエン
20g/であった。混合物を8時間170°Cに加熱し
、室温に冷却し、クロロホルム50M1で1布釈し、次
いでメタノールに加えてポリマーを沈澱させた。沈澱を
125℃で乾燥してポリマー7.3g−を得た。ポリマ
ーの極限粘度は0.57dl/gであり、またガラス転
移温度は289°Cであった。
実施例 ■
以下に述べること以外は実施例■の操作に従ってポリエ
ーテルイミドを製造した。反応物と溶媒は、実施例■番
こ記載したジ無水物3.OUg(0,00501モル)
、ビスフェノールAジ無水物2.60 g (0,00
5000モル)、無水フタール酸0.03 g (0,
000203モ/lz)、’m−フェニレンジアミン1
.31g(0,0121モル入m−クレゾール30m1
およびトルエン20g/であった。混合物を12時間1
70℃に加熱し、室温に冷却し、クロロホルム50g/
で稀釈し、次いでメタノールに加えてポリマーを沈澱さ
せた。沈澱を125°Cで乾燥してポリマー5.8gを
得た。ポリマーの極限粘度は0.56 dl/g で
あり、またガラス転移温度は258℃であった。
ーテルイミドを製造した。反応物と溶媒は、実施例■番
こ記載したジ無水物3.OUg(0,00501モル)
、ビスフェノールAジ無水物2.60 g (0,00
5000モル)、無水フタール酸0.03 g (0,
000203モ/lz)、’m−フェニレンジアミン1
.31g(0,0121モル入m−クレゾール30m1
およびトルエン20g/であった。混合物を12時間1
70℃に加熱し、室温に冷却し、クロロホルム50g/
で稀釈し、次いでメタノールに加えてポリマーを沈澱さ
せた。沈澱を125°Cで乾燥してポリマー5.8gを
得た。ポリマーの極限粘度は0.56 dl/g で
あり、またガラス転移温度は258℃であった。
実施例 ■
実施例Iで使用した出発原料スルホンがジ(3,5−ジ
イソプロピルフェノール)スルホンである以外は、総て
の本質的細部にわたって実施例■〜■の操作を繰返す。
イソプロピルフェノール)スルホンである以外は、総て
の本質的細部にわたって実施例■〜■の操作を繰返す。
得られたポリエーテルイミドポリマーは下記の構造を持
つ繰返し単位から構成される。
つ繰返し単位から構成される。
実施例 IX
実施例Iで使用した出発原料スルホンがジ(3,5−ジ
フェニルフェノール)スルホンである以外は、総ての本
質的細部にわたって実施例I〜■の操作を繰返す。得ら
ちだポリエーテルイミドポリマーは下記の構造を持つ繰
返し単位から構成される。
フェニルフェノール)スルホンである以外は、総ての本
質的細部にわたって実施例I〜■の操作を繰返す。得ら
ちだポリエーテルイミドポリマーは下記の構造を持つ繰
返し単位から構成される。
実施例 X
実施例Iで使用した出発原料スルホンがジ(3,4−ジ
ブロモフェノール)スルホンである以外は、総ての本質
的細部にわたって実施例■〜■vの操作を繰返す。得ら
れたポリエーテルイミドポリマーは下記の構造を持つ繰
返し単位から構成される。
ブロモフェノール)スルホンである以外は、総ての本質
的細部にわたって実施例■〜■vの操作を繰返す。得ら
れたポリエーテルイミドポリマーは下記の構造を持つ繰
返し単位から構成される。
実施例 月
実施例■で使用した出発原料スルホンがジ(3−クロロ
−5−ベンジルオキシフェノール)スルホンである以外
は、総ての本質的細部にわたって実施例1〜■vの操作
を繰返す。得られたポリエーテルイミドポリマーは下記
の構造を持つ繰返し単位から構成される装 特許出願人 ゼネラル・エレクトリック・カンノ寸
ニイ
−5−ベンジルオキシフェノール)スルホンである以外
は、総ての本質的細部にわたって実施例1〜■vの操作
を繰返す。得られたポリエーテルイミドポリマーは下記
の構造を持つ繰返し単位から構成される装 特許出願人 ゼネラル・エレクトリック・カンノ寸
ニイ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 下記一般式で示される化合物、 ここで、R3、R2、R3およびR4は、工ないし約1
0個の炭素原子を持つ低級アルキル、6ないし約15個
の炭素原子を持つアリール、アルキル部分は工ないし約
5個の炭素原子を含みそしてアリール部分は6ないし約
10個の炭素原子を含むアラルキル、ハロゲン、1ない
し約10個の炭素原子を持つ低級アルコキシ、および6
ないし約15個の炭素原子を持つアリールオキシからな
る群から相互に無関係に選ばれる。 2、R8、R2,R3およびR6の各々が、工ないし約
4個の炭素原子を持つ低級アルキル、6ないし約10個
の炭素原子を持つアリール、アルキル部分は工ないし約
3個の炭素原子を含みそしてアリール部分は6ないし約
10個の炭素原子を含むアラルキル、臭素、塩素、工な
いし約4個の炭素原子を持つ低級アルコキシ、および6
ないし約10個の炭素原子を持つアリールオキシからな
る群から相互に無関係に選ばれる特許請求の範囲第1項
記載の化合物。 3、R1、R2,R3およびR4が同じものでメチルあ
るいはエチルである特許請求の範囲第1項記載の化合物
。 4、R1、R2* R3およびR4が各々メチルである
特許請求の範囲第3項記載の化合物。 5、下記一般式で示されるポリエーテルイミド、ここで
、R工、R2、R3およびR4は特許請求の範囲第1.
2.3あるいは4項で定義したとおりであり、nは10
ないし約10000の整数であり、またRは(a)6な
いし約20個の炭素原子を持つ芳香族炭化水素基および
そのハロゲン化誘河体、(b)2ないし約20個の炭素
原子を持つアルキレン基およびシクロアルキレン基、末
端がC(2−8)アルキレンであるポリジオルガノシロ
キサン、および(cl下記一般式、 (ここで、Xは工ないし5の整数である)からなる群か
ら選ばれるメンバーである、 (こより包含される2価の基からなる群から選ばれる2
価の有機基である。 6、 Rがフェニレンである特許請求の範囲第5項記
載のポリエーテルイミド。 7、 Rがm−フェニレンである特許請求の範囲第6
項記載のポリエーテルイミド。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US462921 | 1983-02-01 | ||
US06/462,921 US4523006A (en) | 1983-02-01 | 1983-02-01 | Polyetherimides of di(phthalic anhydride) derivatives of di(substituted phenol) sulfones |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59141573A true JPS59141573A (ja) | 1984-08-14 |
JPS6141913B2 JPS6141913B2 (ja) | 1986-09-18 |
Family
ID=23838254
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59014172A Granted JPS59141573A (ja) | 1983-02-01 | 1984-01-27 | 新規な単量体 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4523006A (ja) |
EP (1) | EP0117416A1 (ja) |
JP (1) | JPS59141573A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6365445U (ja) * | 1986-10-16 | 1988-04-30 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4975440A (en) * | 1984-09-28 | 1990-12-04 | Byk Gulden Lomberg Chemische Fabrik Gmbh | Optically-active 1,4-dihydropyridine |
US4960903A (en) * | 1985-12-16 | 1990-10-02 | Toa Nenryo Kogyo Kabushiki Kaisha | Aromatic compounds having sulfonyl groups |
EP0413415A1 (en) * | 1989-06-13 | 1991-02-20 | The British Petroleum Company p.l.c. | Carboxylic acids and derivates thereof |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3699075A (en) * | 1970-10-28 | 1972-10-17 | Trw Inc | Soluble high molecular weight polyimide |
US3989670A (en) * | 1972-12-29 | 1976-11-02 | General Electric Company | Method for making polyetherimides |
US3850885A (en) * | 1973-11-23 | 1974-11-26 | Gen Electric | Method for making polyetherimides |
US4017511A (en) * | 1976-03-24 | 1977-04-12 | General Electric Company | Preparation of aromatic bisimides |
US4102905A (en) * | 1977-09-02 | 1978-07-25 | General Electric Company | Aromatic disulfone dianhydrides |
US4107147A (en) * | 1977-09-02 | 1978-08-15 | General Electric Company | Polysulfoneimides |
US4221897A (en) * | 1979-05-09 | 1980-09-09 | General Electric Company | Method for making polyetheramide acid |
US4429102A (en) * | 1983-01-10 | 1984-01-31 | General Electric Company | Novel sulfur-containing polyetherimides |
-
1983
- 1983-02-01 US US06/462,921 patent/US4523006A/en not_active Expired - Fee Related
-
1984
- 1984-01-20 EP EP84100619A patent/EP0117416A1/en not_active Withdrawn
- 1984-01-27 JP JP59014172A patent/JPS59141573A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6365445U (ja) * | 1986-10-16 | 1988-04-30 | ||
JPH0345731Y2 (ja) * | 1986-10-16 | 1991-09-26 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6141913B2 (ja) | 1986-09-18 |
EP0117416A1 (en) | 1984-09-05 |
US4523006A (en) | 1985-06-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4111906A (en) | Polyimides prepared from perfluoroisopropylidene diamine | |
US5132396A (en) | Phthalonitrile monomers containing imide and/or phenoxy linkages, and polymers thereof | |
EP0041551B1 (en) | Blends of polyetherimides and polyamideimides | |
US4281100A (en) | Injection moldable polyetherimide oligomers and method for making | |
GB2050401A (en) | Method for making polyamide acid | |
US4316844A (en) | Polyimide derivatives having unsaturated terminal amic acid groups | |
US5493002A (en) | Aryl ethynyl phthalic anhydrides and polymers with terminal or pendant amines prepared with aryl ethynyl phthalic anhydrides | |
US4689391A (en) | Process for making polyetherimides | |
US4650850A (en) | Bis(dialkyl aromatic ether anhydride) and polymers obtained therefrom | |
JPS61103928A (ja) | 高い熱安定性及び耐溶剤性を有するポリエーテルイミド及びその前駆体 | |
US5227461A (en) | Extended difunctional end-cap monomers | |
US5189137A (en) | Method for preparing a high molecular weight polyethermide polymer in a dual solvent system | |
JPS63215727A (ja) | ポリイミドの製造法 | |
JPS59141573A (ja) | 新規な単量体 | |
US4316845A (en) | Polyimide derivatives having terminal acetylenic groups | |
US4321198A (en) | Polyimide derivatives having acetylenic amic acid groups | |
US4769476A (en) | Bis(dialkyl aromatic ether anhydride) and polymers obtained therefrom | |
US4543416A (en) | Di(phthalic anhydride) derivatives of di(disubstituted phenol) sulfones | |
JPH04331229A (ja) | ポリエーテルイミドイミド樹脂とその製造方法 | |
US4377536A (en) | Polyamide derivatives having unsaturated terminal amic acid groups | |
US5434240A (en) | Poly (imide-ethers) | |
Hsiao et al. | Synthesis and evaluation of novel polyimides derived from spirobichroman diether anhydride | |
US4320217A (en) | Polymerization products of polyimide derivatives having acetylenic terminal amide groups | |
Liou | Synthesis and properties of soluble aromatic polyimides from 2, 2′‐bis (3, 4‐dicarboxyphenoxy)‐1, 1′‐binaphthyl dianhydride and aromatic diamines | |
US4774317A (en) | Polyetherimides and method for making |