JPS5913136B2 - イオン源装置 - Google Patents
イオン源装置Info
- Publication number
- JPS5913136B2 JPS5913136B2 JP8164282A JP8164282A JPS5913136B2 JP S5913136 B2 JPS5913136 B2 JP S5913136B2 JP 8164282 A JP8164282 A JP 8164282A JP 8164282 A JP8164282 A JP 8164282A JP S5913136 B2 JPS5913136 B2 JP S5913136B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cathode
- sub
- ion source
- discharge chamber
- source device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J27/00—Ion beam tubes
- H01J27/02—Ion sources; Ion guns
- H01J27/08—Ion sources; Ion guns using arc discharge
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の属する技術分野〕
この発明はガス放電によってプラズマを生成し生成した
プラズマからイオンを引出し加速するイオン源装置に関
する。
プラズマからイオンを引出し加速するイオン源装置に関
する。
従来のイオン源装置は、そのイオン源の熱陰極として線
条に電流を流して加熱するものが用いられていた。
条に電流を流して加熱するものが用いられていた。
この線条には線条自身を加熱するための加熱電流と、こ
の陰極との間でガス放電させる放電電流との両者が流れ
かつ線条の負電子端子脚に放電電流が集中するため、線
条の局所的過熱が発生し、線条材料の局所的蒸発を招き
、イオン源の動作時間が短い場合は問題ないが、そのイ
オン源動作時間の伸びに伴い線条寿命が短縮化する欠点
がめった。
の陰極との間でガス放電させる放電電流との両者が流れ
かつ線条の負電子端子脚に放電電流が集中するため、線
条の局所的過熱が発生し、線条材料の局所的蒸発を招き
、イオン源の動作時間が短い場合は問題ないが、そのイ
オン源動作時間の伸びに伴い線条寿命が短縮化する欠点
がめった。
この発明は従来装置の欠点を改良したもので、長時間の
動作にも使用可能なイオン源装置を提供することを目的
とする。
動作にも使用可能なイオン源装置を提供することを目的
とする。
この発明はイオンビームが引出されるプラズマをガス放
電で生成する主放電室と、この主放電室とは隔壁で仕切
られかつこの隔壁の少なくとも一部に塊状の熱陰極部を
設けこの熱套極部を放電加熱する副放電室とを具備した
もので、主放電室と副放電室との仕切り用隔壁の全部ま
たは一部が主放電室の熱陰極の役割を果し、この熱套極
を副放電室のガス放電によって加熱することによって陰
極寿命の延長を図ったイオン源装置である。
電で生成する主放電室と、この主放電室とは隔壁で仕切
られかつこの隔壁の少なくとも一部に塊状の熱陰極部を
設けこの熱套極部を放電加熱する副放電室とを具備した
もので、主放電室と副放電室との仕切り用隔壁の全部ま
たは一部が主放電室の熱陰極の役割を果し、この熱套極
を副放電室のガス放電によって加熱することによって陰
極寿命の延長を図ったイオン源装置である。
この発明によれば、常時は使用しない副陰極で加熱する
ため、イオン源の寿命は塊状の熱陰極の体積によって主
に規制され、実用上充分に長い作動時間を確保でき、大
面積を有する陰極を簡単な構造で均等加熱することがで
きる。
ため、イオン源の寿命は塊状の熱陰極の体積によって主
に規制され、実用上充分に長い作動時間を確保でき、大
面積を有する陰極を簡単な構造で均等加熱することがで
きる。
以下この発明の一実施例について詳細に説明する。
この発明のイオン源装置は、第１図に示すように、主放
電室Ａと副放電室Ｂとで主に構成している。
電室Ａと副放電室Ｂとで主に構成している。
主放電室Ａはイオンビーム■を引出すグリッド電極１と
、金属導体の放電陽極壁２と、Ｍｏ製の隔壁３と、この
隔壁３の一部を構成するり、Ｍ。
、金属導体の放電陽極壁２と、Ｍｏ製の隔壁３と、この
隔壁３の一部を構成するり、Ｍ。
製の熱陰極４とから構成されている。
副放電室Ｂは主放電室Ａとの隔壁３とこの隔壁３の一部
を構成する電極４と、この熱陰極４に近接して隔壁３内
に設けられた熱板５とこの熱板５を加熱する副陰極６と
から主に構成されている。
を構成する電極４と、この熱陰極４に近接して隔壁３内
に設けられた熱板５とこの熱板５を加熱する副陰極６と
から主に構成されている。
なおグリッド電極１と放電陽極壁２との間および放電陽
極壁２と隔壁３との間は電気絶縁物７．８で絶縁されて
いる。
極壁２と隔壁３との間は電気絶縁物７．８で絶縁されて
いる。
隔壁３は金属導体の基台９に気密に固設されている。
この基台９と熱板５の電流導入端子１０とは絶縁体１１
で、また副陰極６の電流導入端子１２．１３とは絶縁体
１４．１５で各々絶縁されている。
で、また副陰極６の電流導入端子１２．１３とは絶縁体
１４．１５で各々絶縁されている。
基台６を貫通して設げられた導入管１６から副放電室Ｂ
内のガス放電に使用する作動ガスが導入される。
内のガス放電に使用する作動ガスが導入される。
このように構成されたイオン源装置は、まずタングステ
ンあるいはその酸化物から成る副陰極６を電流導入端子
１４．１５から直接通電して加熱しながら、熱板５と加
熱されている。
ンあるいはその酸化物から成る副陰極６を電流導入端子
１４．１５から直接通電して加熱しながら、熱板５と加
熱されている。
副陰極６との間に交流または直流電圧を印加する。
つぎに副放電室内を真空または低気圧ガスで満たす。
副放電室内を真空とする場合には、副陰極から放出され
た熱電子が熱板５と副陰極６との間で加速し、その電圧
差に応じた加速を受は熱板５に衝突しこの熱板５を加熱
する。
た熱電子が熱板５と副陰極６との間で加速し、その電圧
差に応じた加速を受は熱板５に衝突しこの熱板５を加熱
する。
また副放電室を低気圧ガスで満す場合には、ガス放電が
生じ、熱板５の陽極電圧降下部で加速された電子が、熱
板５に衝突しこの熱板５を加熱する。
生じ、熱板５の陽極電圧降下部で加速された電子が、熱
板５に衝突しこの熱板５を加熱する。
次に加熱された熱板５と熱陰極４との間に交流または直
流電圧を印加してガス放電を発生せしめ、陰極電圧降下
部で加速されたイオンと陽極電圧降下部で加速された電
子の衝突によって、熱陰極４と熱板５の温度が上昇する
。
流電圧を印加してガス放電を発生せしめ、陰極電圧降下
部で加速されたイオンと陽極電圧降下部で加速された電
子の衝突によって、熱陰極４と熱板５の温度が上昇する
。
熱陰極４と熱板５の温度が充分に高まった後に副陰極６
への通電と熱板５と副陰極６への電圧印加を停止する。
への通電と熱板５と副陰極６への電圧印加を停止する。
しかし熱陰極４と熱板５との間のガス放電は、依然とし
て持続せしめ、最後に放電陽極壁２と熱套極４との間に
主ガス放電を生起せしめ、イオンビームをグリッド電極
１から引出す。
て持続せしめ、最後に放電陽極壁２と熱套極４との間に
主ガス放電を生起せしめ、イオンビームをグリッド電極
１から引出す。
この発明の他の実施例として、第１図に示したイオン源
装置のようにひとつの副放電室を有するものに限らず、
同様な副放電室を複数個用いて構成しても良い。
装置のようにひとつの副放電室を有するものに限らず、
同様な副放電室を複数個用いて構成しても良い。
また陽極壁２の内周または外周に閉じ込め磁場を適用し
プラズマ生成効率を高めるように構成しても良い。
プラズマ生成効率を高めるように構成しても良い。
第１図はこの発明の実施例を示す断面図である。
１・・・ビーム引出グリッド電極、２・・・放電陽極壁
、３・・・隔壁、４・・・熱陰極、５・・・熱板、６・
・・副陰極、１６・・・ガス導入管、Ａ・・・主放電室
、Ｂ・・・副放電室。
、３・・・隔壁、４・・・熱陰極、５・・・熱板、６・
・・副陰極、１６・・・ガス導入管、Ａ・・・主放電室
、Ｂ・・・副放電室。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ イオンビームが引出されるプラズマをガス放電で生
成する主放電室と、この主放電室とは隔壁で仕切られか
つこの隔壁の少なくとも一部に熱陰極部を設けこの熱陰
極部を放電加熱する副放電室とを具備してなることを特
徴とするイオン源装置。 ２ 副放電室を熱板とこの熱板を加熱する加熱部とで構
成してなることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
のイオン源装置。 ３ 加熱部を間接加熱で塊状の熱陰極で構成したことを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載のイオン源装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8164282A JPS5913136B2 (ja) | 1982-05-17 | 1982-05-17 | イオン源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8164282A JPS5913136B2 (ja) | 1982-05-17 | 1982-05-17 | イオン源装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58198823A JPS58198823A (ja) | 1983-11-18 |
| JPS5913136B2 true JPS5913136B2 (ja) | 1984-03-28 |
Family
ID=13751990
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8164282A Expired JPS5913136B2 (ja) | 1982-05-17 | 1982-05-17 | イオン源装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5913136B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20200082367A (ko) | 2018-12-28 | 2020-07-08 | 울산대학교 산학협력단 | Pibf 단백질을 유효성분으로 함유하는 염증성 질환 예방 또는 치료용 약학 조성물 |
-
1982
- 1982-05-17 JP JP8164282A patent/JPS5913136B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20200082367A (ko) | 2018-12-28 | 2020-07-08 | 울산대학교 산학협력단 | Pibf 단백질을 유효성분으로 함유하는 염증성 질환 예방 또는 치료용 약학 조성물 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58198823A (ja) | 1983-11-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3999072A (en) | Beam-plasma type ion source | |
| EP0095311B1 (en) | Ion source apparatus | |
| US3540812A (en) | Sputter ion pump | |
| US2508114A (en) | Tantalum electrode for electric discharge devices | |
| US3983423A (en) | Thermionic converter | |
| JPS5913136B2 (ja) | イオン源装置 | |
| EP0042746B1 (en) | Fluorescent lighting system | |
| US3022933A (en) | Multiple electron beam ion pump and source | |
| US2159255A (en) | Vapor electric tube | |
| US2034571A (en) | Electrical discharge device and method of operating same | |
| US2065997A (en) | Gaseous discharge tube cathode | |
| US2430309A (en) | Electronic discharge device | |
| US2725497A (en) | Floating grids for fluorescent lamps | |
| US3005924A (en) | Cold cathode hydrogen thyratron | |
| US1945749A (en) | Vapor electric device | |
| US1880092A (en) | Electron discharge device | |
| US2236289A (en) | Thermionic device | |
| US1971907A (en) | Gaseous discharge device | |
| US2110601A (en) | Electrode for vapor discharge lamps | |
| US2284341A (en) | Discharge device | |
| US1723869A (en) | Electrical discharge device | |
| JP2000090844A (ja) | イオン源 | |
| US2210674A (en) | Cathode for electronic tubes | |
| US2053501A (en) | Thermionic gaseous discharge rectifier | |
| US2444962A (en) | Electrode structure for electrical gaseous discharge tubes |