JPS59113587A - Block replicator of ion implantation bubble device - Google Patents

Block replicator of ion implantation bubble device

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Publication number
JPS59113587A
JPS59113587A JP57223043A JP22304382A JPS59113587A JP S59113587 A JPS59113587 A JP S59113587A JP 57223043 A JP57223043 A JP 57223043A JP 22304382 A JP22304382 A JP 22304382A JP S59113587 A JPS59113587 A JP S59113587A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cusp
bubble
minor
major
ion implantation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP57223043A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuo Matsuda
松田 和雄
Makoto Ohashi
誠 大橋
Yoshio Sato
良夫 佐藤
Tsutomu Miyashita
勉 宮下
Keiichi Betsui
圭一 別井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP57223043A priority Critical patent/JPS59113587A/en
Publication of JPS59113587A publication Critical patent/JPS59113587A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C19/00Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers
    • G11C19/02Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using magnetic elements
    • G11C19/08Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using magnetic elements using thin films in plane structure
    • G11C19/0875Organisation of a plurality of magnetic shift registers
    • G11C19/0883Means for switching magnetic domains from one path into another path, i.e. transfer switches, swap gates or decoders
    • G11C19/0891Means for switching magnetic domains from one path into another path, i.e. transfer switches, swap gates or decoders using hybrid structure, e.g. ion doped layers

Abstract

PURPOSE:To attain a stably operating block replicator, by providing a hairpin- shaped conductor pattern over a cusp of a major line from a cusp of a minor loop on the line connecting the cusp of the major line and the cusp of the minor loop. CONSTITUTION:A conductor pattern 12 is formed into a hairpin shape over a a cusp 10a of the major line from a cusp 11a of the minor loop. When a bubble 14 is transferred to the cusp 10a of a minor loop 11 as shown in Fig. (a), a pulse I1 is impressed to the conductor pattern 12 in the direction where the bubble is striped. Thus, the bubble 14 is expanded on the inside of the hairpin- shaped conductor pattern 12 over the cusp 10a of the major line as shown in Fig. (b). Next, when a pulse I2 having an opposite polarity is impressed, the bubble is cut into bubbles 14' and 14'' in a non-implantation area between cusps 10a and 10b of major lines as shown in Fig. (c). Consequently, the bubble is not trapped halfway.

Description

【発明の詳細な説明】 (1)発明の技術分野 本発明はイオン注入磁気バブルデバイスのブロックレプ
リケータに関するものである。′(2)技術の背景 磁気バブルを利用して情報の蓄積、論理演n等を行なう
磁気バブル利用装置は、不揮発性、高記憶密度、低消費
電力等の特徴をもち、さらには機械的要素を全く含まな
い固体素子であることから非常に信頼性が高い管種々の
特徴をもっているため大容量メモリとして将来が期待さ
れている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (1) Technical Field of the Invention The present invention relates to a block replicator for an ion implantation magnetic bubble device. '(2) Background of the technology Magnetic bubble utilization devices that use magnetic bubbles to store information, perform logical operations, etc. have features such as non-volatility, high storage density, and low power consumption, as well as mechanical elements. Since it is a solid-state device that does not contain any solid matter, it is extremely reliable and has various characteristics, so it is expected to have a promising future as a large-capacity memory.

このような磁気バブルメモリ装置において、記憶密度の
向上を計るためバブル転送路をイオン注入法によシ形成
する方法が開発されている。この方法は第1図8の平面
図及び第1図すの断面図に示す如くガドリニウム・ガリ
ウム・ガーネット基板1の上にバルブ用結晶となる磁性
ガーネットの薄膜2を液相エピタキシャル成長法によシ
形成し、この磁性薄膜2に対し、駆動・ぐターン3とな
る領域以外の領域4に水素、ネオン、ヘリウム等のイオ
ンを注入するのである。このようにして駆動ノそターン
を形成した素子はイオンを注入された領域4の磁化容易
軸方向が矢印aの如く面内方向と一致し、駆動パターン
領域3の磁化容易軸方向は矢印すの如くもとのままの面
内方向と垂直である。
In order to improve the storage density of such magnetic bubble memory devices, a method has been developed in which bubble transfer paths are formed by ion implantation. In this method, as shown in the plan view of FIG. 18 and the cross-sectional view of FIG. Then, ions such as hydrogen, neon, helium, etc. are implanted into the magnetic thin film 2 into a region 4 other than the region which will become the driving magnet 3. In the element in which the drive pattern region 3 is formed in this way, the direction of the easy magnetization axis of the ion-implanted region 4 coincides with the in-plane direction as shown by the arrow a, and the direction of the easy magnetization axis of the drive pattern region 3 is as shown by the arrow a. It is perpendicular to the original in-plane direction.

従ってバイアス磁界及び回転駆動磁界を印加することに
よりバブル5は駆動パターン3の周縁に沿って矢印Cの
如く転送される。そしてこのパターン3は円形や四角形
をその一部が重なるようにして列状に並べた形状であり
、従来の・に−マロイパターンの如くギャップを必要と
しないため寸法精度が緩くとも良く、従ってノeターン
が小さくでき高密度化が実現される。
Therefore, by applying a bias magnetic field and a rotational driving magnetic field, the bubble 5 is transferred along the periphery of the driving pattern 3 as shown by arrow C. This pattern 3 has a shape in which circles and squares are arranged in a row so that some of them overlap, and does not require gaps like the conventional Ni-Malloy pattern, so it does not require loose dimensional accuracy, and therefore The e-turn can be made smaller and higher density can be achieved.

(3)従来技術と問題点 このようなイオン注入磁気バブルメモリ素子がメゾャー
マイナ構成の場合、そのブロックレプリケータには従来
第2図に示す如き構造のものが用いられている。同図に
おいて、6はメジャーライン、7はマイナールーズ、8
はヘアピン状コンダクタパターン、9はバブル切断用に
設けたイオン非注入領域である。このレゾリケータの動
作は、バブルがマイナーループ7の先端d部に来たとき
コンダクタ/fターン8に電流を流してそのヘアピンル
ープ内にバブルを伸長させ、その後領域9のe部及びf
部((反撥のチャージドウオールが発生切断され一方は
マイナールーズのa MVへ、他方はメ・ツヤ−ライン
のカスプgへ吸引されレゾリケード動作が完了する。こ
のような従来のレゾリケータにおいては、イオン非注入
領域9にバブルがトラップされるなど誤動作の原因とな
る欠点があった。
(3) Prior Art and Problems When such an ion-implanted magnetic bubble memory element has a meso-minor configuration, a block replicator having a structure as shown in FIG. 2 has conventionally been used. In the same figure, 6 is the major line, 7 is the minor loose, and 8 is the major line.
9 is a hairpin-shaped conductor pattern, and 9 is an ion non-implanted region provided for bubble cutting. The operation of this resolicator is such that when the bubble reaches the tip d of the minor loop 7, a current is applied to the conductor/f turn 8 to extend the bubble within the hairpin loop, and then the bubble reaches the tip d of the area 9 and f.
((A charged wall of repulsion is generated and cut, and one side is attracted to the minor loose a MV, and the other side is attracted to the cusp g of the main gloss line, completing the resolicade operation. There was a drawback that bubbles were trapped in the injection region 9, which caused malfunctions.

(4)発明の目的 本発明の目的は上記従来の欠点に鑑み、安定した動作を
行なうイオン注入バブルデバイスのブロックレプリケー
タを提供することを目的とするものである。
(4) Object of the Invention An object of the present invention is to provide a block replicator for an ion implantation bubble device that operates stably in view of the above-mentioned conventional drawbacks.

(5)発明の構成 そしてこの目的は本発明によれば、磁気パズル用結晶に
対し、バブルの駆動パターンとなる領域を除く該結晶の
全面にイオン注入層を形成して、該駆動パターンをバブ
ル転送路とするメジャーマイナー構成のイオン注入バブ
ルデバイスにおけるブロックレプリケータであって、メ
ジャーラインのカスプとマイナーループのカスプを結ぶ
線上に、マイナールーズのカスプよりメジャーラインの
カスプを越えてヘアピン状のコンダクタノやターンを設
けてなることを特徴とするイオン注入/(プルデバイス
のブロックレプリケータを提供することによって達成さ
れる。
(5) Structure and object of the invention According to the present invention, an ion-implanted layer is formed on the entire surface of a magnetic puzzle crystal except for a region that will become a bubble driving pattern, and the driving pattern is formed into a bubble. A block replicator in an ion implantation bubble device with a major-minor configuration used as a transfer path, in which a hairpin-shaped conductor node is formed beyond the cusp of the major line from the cusp of the minor loose on the line connecting the cusp of the major line and the cusp of the minor loop. This is achieved by providing a block replicator of the ion implantation/pull device, which is characterized by the presence of turns.

(6)発明の実施例 以下本発明実施例を図面によって詳述する。(6) Examples of the invention Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

第3図は本発明によるイオン注入ノ々ブルデノ々イスの
ブロックレプリケータの構造を説明するための図である
。同図において、10はメジャーラインであり、そのパ
ターンは2個毎に接続され、その接続部にカスプ10B
と10bが形成されている。11は折返しマイナールー
プ、12はコンダクタノセターンをそれぞれ示す。コン
ダクタノやターン12はメジャーライン10のカスプ1
0Bとマイナールーフ°11のカスプllaとを結んだ
線上に、マイナールーズのカスプllBからメジャーラ
インのカス7’lO&を越えてヘアピン状に形成されて
いる。
FIG. 3 is a diagram for explaining the structure of a block replicator of an ion-implanted node according to the present invention. In the same figure, 10 is a major line, the pattern is connected every two pieces, and the cusp 10B is attached to the connecting part.
and 10b are formed. Reference numeral 11 indicates a folded minor loop, and 12 indicates a conductor noceturn. Conductano or turn 12 is cusp 1 of major line 10
On the line connecting 0B and the cusp lla of the minor roof °11, it is formed in a hairpin shape from the minor loose cusp llB to beyond the major line cusp 7'lO&.

このように形成された本実施例の動作を第4図を用いて
説明する。同図においてa −dは動作説明図、eは駆
動磁界、fは駆動電流波形を示す。
The operation of this embodiment formed in this manner will be explained using FIG. 4. In the figure, a to d are explanatory diagrams of operation, e is a driving magnetic field, and f is a driving current waveform.

図により説明すると先ずa図の如くマイナールーズ11
のカスプ10aにバブル14が転送されて来たとき、コ
ンダクタAターン12にノ々プルがストライプする方向
にI、のノクルスを印加する。
To explain with a diagram, first, as shown in diagram a, minor loose 11
When the bubble 14 is transferred to the cusp 10a of the conductor A, a nockle of I is applied to the conductor A turn 12 in the direction in which the no pull is striped.

しかるときはb図の如くバブル14はヘアピン状コンダ
クタノ臂ターン12の内側をメジャーラインのカスープ
lOaを越えて伸長する。次いで逆極性のノRルスI2
が印加されると0図の如くメジャーラインのカスflo
aと10bの間の非インプラ領域でバブルは切断され1
4′及び14“となる。
In this case, the bubble 14 extends inside the hairpin-shaped conductor arm turn 12 beyond the major line cusps lOa, as shown in Figure b. Then reverse polarity Norrus I2
When is applied, the major line waste flo as shown in figure 0
The bubble is cut in the non-implanted region between a and 10b and 1
4' and 14".

さらに保持電流I3によって保持された後、d図の如く
バブル14′はマイナーループ11のカスプ11aに吸
着され、バブル14″はメジャーライン10のカスプ1
0bに吸着される。そして駆動磁界の回転に伴ってそれ
ぞれマイナールーズ及びメジャーラインを矢印の如く転
送される。
After being further held by the holding current I3, the bubble 14' is attracted to the cusp 11a of the minor loop 11 as shown in Figure d, and the bubble 14'' is attached to the cusp 1 of the major line 10.
It is adsorbed to 0b. As the driving magnetic field rotates, minor loose lines and major lines are transferred as shown by the arrows.

以上の如く動作する本実施例は従来の如く非インプラ領
域がマイナーループとメジャーラインとの中間にはない
のでバブルが途中でトラップされることはなく安定した
レグリケード動作をなすことができる。
In this embodiment, which operates as described above, the non-implanted region is not located between the minor loop and the major line as in the conventional case, so that bubbles are not trapped midway and stable reglicade operation can be performed.

第5図乃至第7図は駆動周波数100 kHz 、三角
波駆動における動作特性を従来品と比較して示した図で
ある。
FIGS. 5 to 7 are diagrams showing operating characteristics in triangular wave drive at a drive frequency of 100 kHz in comparison with conventional products.

第5図はHD−HB特性を示しだ図であバ横軸には駆動
磁界HDを、縦軸にはバイアス磁界HBをとって、曲線
A、A’により本発明品の、曲線B 、 B’によシ従
来品の特性をそれぞれ示した。なお印加する/fルスの
条件として、第3図fの波形図により、本発明品の場合
は、τl−0,5μS1τ2−5QnS、 τ3=0.
4μs1 Il−13l1−13=80 = 110 
mA、 θ=−61.2°とし、従来品の場合はI1 
= (13μs % I2 =+ 5 Q nS S 
I3−0.3μ8.  II =I3 =120 mA
、  I2 =50 mA。
FIG. 5 shows the HD-HB characteristics. The horizontal axis represents the drive magnetic field HD, and the vertical axis represents the bias magnetic field HB. Curves A and A' represent the curves B and B of the product of the present invention. 'The characteristics of the conventional products are shown. As for the conditions of the /f pulse to be applied, according to the waveform diagram in FIG.
4μs1 Il-13l1-13=80=110
mA, θ=-61.2°, and I1 for the conventional product.
= (13μs % I2 = + 5 Q nS S
I3-0.3μ8. II = I3 = 120 mA
, I2 =50 mA.

θ=0°とした。θ=0°.

図よシ本発明品は従来品に比して・々イアスマージン幅
が大きく安定した動作をすることがわかる。
As shown in the figure, it can be seen that the product of the present invention has a larger ear margin width than the conventional product and operates more stably.

第6図はθ−HB特性を示した図であり、横軸には印加
A?ルスの立上り時のθを、縦軸にはバイアス磁界をと
9、曲線Aで本発明品の特性を、曲線Bで従来品の特性
を示した。なおパルス条件は本発明品が11=I3=8
0mA)]2 =110mAであり、従来品が11=I
3=120mA、、I2 =50 mAである。
Figure 6 is a diagram showing the θ-HB characteristics, where the horizontal axis shows the applied A? The curve A shows the characteristics of the product of the present invention, and the curve B shows the characteristics of the conventional product. The pulse conditions for the product of the present invention are 11=I3=8.
0mA)]2 = 110mA, and the conventional product is 11 = I
3 = 120 mA, , I2 = 50 mA.

第7図はll−H,特性を示した図であり、横軸にはパ
ルス11を、縦軸にはバイアス磁界をとり、曲線Aによ
り本発明品の特性を、曲線Bによシ従来品の特性を示し
た。なおノ4ルスの条件として本発明品の場合はI2=
110mA、θ=−61.2°、従来品の場合はI 2
−50 mA %  θ=θ°とした。
FIG. 7 is a diagram showing the characteristics of ll-H, where the horizontal axis represents the pulse 11 and the vertical axis represents the bias magnetic field. Curve A represents the characteristics of the inventive product, and curve B represents the conventional product. showed the characteristics of In addition, in the case of the product of the present invention, I2=
110mA, θ=-61.2°, I2 for conventional product
−50 mA% θ=θ°.

第6図及び第7図よシθ−HB特性は従来品と大差はな
く、It−Hn特性では11の電流マージンが15mA
と良好である。
As shown in Figures 6 and 7, the θ-HB characteristics are not much different from the conventional product, and the It-Hn characteristics have a current margin of 15 mA.
and is in good condition.

(7)発明の効果 以上、詳細に説明したように、本発明のイオン注入バブ
ルデバイスのブロックレプリケータは、簡単な構造によ
り非インシラ部でバブルがドラッグされる不具合を除き
、安定したブロックレプリケート動作を可能としたとい
つだ効果大なるものである。
(7) Effects of the Invention As explained in detail above, the block replicator of the ion implantation bubble device of the present invention has a simple structure and can eliminate the problem of bubble dragging at the non-inside part and achieve stable block replication operation. It would be very effective if it were made possible.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はイオン注入バブルデ・ぐイスを説明するための
図、第2図は従来のイオン注入・々プルデ/<イスのブ
ロックレプリケータを説明するだめの図、第3図は本発
明によるイオン注入ノクブルデ/悩ス図はその動作特性
図であり、第5図はHD −I(B Pf−”i性図、
第6図はθ−HB特性図、第7図は1l−HB特性図で
ある。 図面において、10はメジャーライン、11はマイナー
ループ、12はコンタクタノぐターン、10a、10b
はメジャーラインのカスプ、llaはマイナーループの
カスプをそれぞれ示す。 ・1.”、1 曹1 (a)            (b)ξ゛’、、2・
− ュC,傷、。 ソ・111.4 し! 第5°)シ) 駆動磁界Ho(Oe) 1シ、)6 )ン( 位相θ(deg) 一ζノ  7  図 1+  (mA) 567一
Figure 1 is a diagram for explaining an ion implantation bubble device, Figure 2 is a diagram for explaining a conventional ion implantation bubble device block replicator, and Figure 3 is an ion implantation device according to the present invention. The Nokburde/Bousu diagram is its operating characteristic diagram, and Fig. 5 is the HD-I (B Pf-”i characteristic diagram,
FIG. 6 is a θ-HB characteristic diagram, and FIG. 7 is a 1l-HB characteristic diagram. In the drawing, 10 is a major line, 11 is a minor loop, 12 is a contactor turn, 10a, 10b
indicates the cusp of the major line, and lla indicates the cusp of the minor loop.・1. ”, 1 Cao 1 (a) (b) ξ゛', 2・
- C, scratches. So.111.4 Shi! 5th degree) shi) Driving magnetic field Ho (Oe) 1 shi, ) 6) (phase θ (deg) 1 ζ 7 Fig. 1+ (mA) 567-

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1、磁気バブル用結晶に対し、バブルの駆動パターンと
なる領域を除く該結晶の全面にイオン注入層を形成して
、該駆動パターンをバブル転送路とするメジャーマイナ
ー構成のイオン注入バブルデバイスにおけるブロックレ
プリケータであって、メジャーラインのカスプとマイナ
ールーグのカスプを結ぶ線上に、マイナールーゾのカス
プよシメジャーラインのカスプを越えてヘアピン状のコ
ンダクタ・ぐターンを設けてなることを特徴とするイオ
ン注入バブルデバイスのブロックレプリケータ。
1. A block in an ion-implanted bubble device with a major-minor configuration in which an ion-implanted layer is formed on the entire surface of a magnetic bubble crystal except for a region that becomes a bubble driving pattern, and the driving pattern is used as a bubble transfer path. An ion implantation bubble characterized in that the replicator is formed by providing a hairpin-shaped conductor turn on a line connecting the cusp of the major line and the cusp of the minor lugs, from the cusp of the minor luzo to the cusp of the minor lugs. Device block replicator.
JP57223043A 1982-12-21 1982-12-21 Block replicator of ion implantation bubble device Pending JPS59113587A (en)

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