JPS59107033A - バツチ焼鈍装置 - Google Patents
バツチ焼鈍装置Info
- Publication number
- JPS59107033A JPS59107033A JP21469282A JP21469282A JPS59107033A JP S59107033 A JPS59107033 A JP S59107033A JP 21469282 A JP21469282 A JP 21469282A JP 21469282 A JP21469282 A JP 21469282A JP S59107033 A JPS59107033 A JP S59107033A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coil
- bottom chamber
- cooling gas
- base plate
- cover
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
- C21D9/52—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for wires; for strips ; for rods of unlimited length
- C21D9/54—Furnaces for treating strips or wire
- C21D9/663—Bell-type furnaces
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D2281/00—Making use of special physico-chemical means
- C21D2281/02—Making use of special physico-chemical means temperature gradient
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing Of Steel Electrode Plates (AREA)
- Heat Treatment Of Strip Materials And Filament Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は金属コイルのバッチ焼鈍装置、特に金属コイ
ルの幅または長さ方向にわたる各部位が特定の温度勾配
で特定温度域を通過するようにして金属コイルを加熱す
るバッチ焼鈍装置に関する。
ルの幅または長さ方向にわたる各部位が特定の温度勾配
で特定温度域を通過するようにして金属コイルを加熱す
るバッチ焼鈍装置に関する。
従来、一般に用いられる金属コイルの焼鈍炉は金属コイ
ルをベースプレート上に載せ、金属コイルを静止させた
状態で所定のヒートパターンを与えて焼鈍していた。た
とえば、一方向性電磁鋼板の製造工程”において、最終
仕上焼鈍(二次再結晶焼鈍)は第1図に示すようなハツ
チ焼鈍炉により広く行われていた。
ルをベースプレート上に載せ、金属コイルを静止させた
状態で所定のヒートパターンを与えて焼鈍していた。た
とえば、一方向性電磁鋼板の製造工程”において、最終
仕上焼鈍(二次再結晶焼鈍)は第1図に示すようなハツ
チ焼鈍炉により広く行われていた。
すなわち、第1図に示すように電磁鋼板コイルCをコイ
ル軸を垂直にしてベースプレート3上に載置し、インチ
カバ−2をこれに被ぶせる。そして、更にインチカバー
2をベル形炉体1により覆い、インチカバー2内に給気
管4によりN2.AX。
ル軸を垂直にしてベースプレート3上に載置し、インチ
カバ−2をこれに被ぶせる。そして、更にインチカバー
2をベル形炉体1により覆い、インチカバー2内に給気
管4によりN2.AX。
H2ガスなどの雰囲気ガスを供給する。そして、炉体1
内側に取り付けられた電熱ヒーター5およびベースグレ
ート3下方に配置された電熱ヒーター6に」:リコイル
C全体を同時に、比較的均一に加熱、昇温する。コイル
Cを所定温度(1150〜I 200 r )まで昇温
し、均熱保持したのち、炉体J内にこれの頂部に接続さ
れた冷却ガス吹込管7から冷却ガスを吹き込み、所定温
度まで冷却し、焼鈍を完了する。昇温した冷却ガスは冷
却装置縦8で冷却されたのち再び炉体1内に吹き込まれ
る。
内側に取り付けられた電熱ヒーター5およびベースグレ
ート3下方に配置された電熱ヒーター6に」:リコイル
C全体を同時に、比較的均一に加熱、昇温する。コイル
Cを所定温度(1150〜I 200 r )まで昇温
し、均熱保持したのち、炉体J内にこれの頂部に接続さ
れた冷却ガス吹込管7から冷却ガスを吹き込み、所定温
度まで冷却し、焼鈍を完了する。昇温した冷却ガスは冷
却装置縦8で冷却されたのち再び炉体1内に吹き込まれ
る。
ところで、最近、一方向性電磁鋼板を使用した変圧器等
の電気機器の小型化が重要な問題となりつつある。これ
らの電気機器の鉄心重量の軽減化のためには励磁特性(
B8特性)および鉄損特性が更に改良された一方向性電
磁鋼板が必要となって来た。
の電気機器の小型化が重要な問題となりつつある。これ
らの電気機器の鉄心重量の軽減化のためには励磁特性(
B8特性)および鉄損特性が更に改良された一方向性電
磁鋼板が必要となって来た。
本出願人が先に出願した熱処理方法(特願昭55−75
033.56−20154.56 198443゜56
−96740)は、−次男結晶領域と二次結晶領域との
境界領域において電磁鋼板コイルに所定の温度勾配を与
えながら二次再結晶を進行させる。
033.56−20154.56 198443゜56
−96740)は、−次男結晶領域と二次結晶領域との
境界領域において電磁鋼板コイルに所定の温度勾配を与
えながら二次再結晶を進行させる。
すなわち、−次男結晶焼鈍の終った電磁鋼板コイルの一
端から他端に向って加−熱を進めて行き、コイル全幅に
わたり二次再結晶させる。このとき、930〜1050
Cの温度範囲内において一次再結晶領域と二次再結晶領
域との境界領域に0.5C/cm以上の温度勾配を与え
るように加熱する。この方法によれば、従来得られなか
った、画期的に優れfcBB特性および鉄損特性をもっ
た電磁鋼板を製造できるようになった。
端から他端に向って加−熱を進めて行き、コイル全幅に
わたり二次再結晶させる。このとき、930〜1050
Cの温度範囲内において一次再結晶領域と二次再結晶領
域との境界領域に0.5C/cm以上の温度勾配を与え
るように加熱する。この方法によれば、従来得られなか
った、画期的に優れfcBB特性および鉄損特性をもっ
た電磁鋼板を製造できるようになった。
しかし、従来のバッチ焼鈍炉では前述のようにコイル全
体?はぼ均一に加熱しながら昇温して行く。したがって
、上記境界領域において金属コイルに所要の温度勾配2
与えることはできない。
体?はぼ均一に加熱しながら昇温して行く。したがって
、上記境界領域において金属コイルに所要の温度勾配2
与えることはできない。
そこで、この発明は金属コイルの焼鈍において、特定の
領域に所定の温度勾配を力えながら金属コイルを加熱、
昇温することができるバッチ焼鈍装置を提供しようとす
るものである。
領域に所定の温度勾配を力えながら金属コイルを加熱、
昇温することができるバッチ焼鈍装置を提供しようとす
るものである。
この発明のバッチ焼鈍装置ではベル形炉体、ベースグレ
ートおよびインナカバーを備えた装置において、上方に
向って開口し、内径が金属コイルの外径よりやや大きく
、金属コイルの収納可能なボトムチャンバーが炉体の下
方に設けられている。
ートおよびインナカバーを備えた装置において、上方に
向って開口し、内径が金属コイルの外径よりやや大きく
、金属コイルの収納可能なボトムチャンバーが炉体の下
方に設けられている。
ボトムチャンバー内にはこれと同軸に、ボトムチャンバ
ー底部から上方に延びる柱状の固定ベースが設けられて
いる。固定ベースは外径が金属コイルの内径よりやや小
さく、ボトムチャンバーの開口部に位置する仕切部をも
っている。また、前記ベースプレートは環状をしており
、冷却手段を備えている。そして、ベースプレートはボ
トムチャンバーの底部を貫通し昇降自在な支持部材に支
持され又いる。支持部材の下端部は昇降1駆動装置に連
結されている。
ー底部から上方に延びる柱状の固定ベースが設けられて
いる。固定ベースは外径が金属コイルの内径よりやや小
さく、ボトムチャンバーの開口部に位置する仕切部をも
っている。また、前記ベースプレートは環状をしており
、冷却手段を備えている。そして、ベースプレートはボ
トムチャンバーの底部を貫通し昇降自在な支持部材に支
持され又いる。支持部材の下端部は昇降1駆動装置に連
結されている。
上記冷却手段はベースプレート内に設けられた環状の冷
却ガス流路およびこれに連結する冷却ガス循環装置より
なっている。冷却ガス循環装置は冷却ガス流量調節弁お
よび冷却装置を備えている。
却ガス流路およびこれに連結する冷却ガス循環装置より
なっている。冷却ガス循環装置は冷却ガス流量調節弁お
よび冷却装置を備えている。
上記のように構成されたバッチ焼鈍装置において、特定
の領域で所定の温度勾配を与えながら金属コイルを加熱
するには、まず金属コイルを載置したベースプレートを
下降させて、金属コイルをボトムチャンバー内に収納す
る。ついで、ベースグレートを徐々に上昇させる。この
とき、金属コイルのボトムチャンバーから上方に突出し
た部分、すなわちインナカバー内に入った部分は上記加
熱手段により加熱され二次再結晶が進む。金属コイルの
ボトムチャンバー内の部分は一次再結晶のままの状態で
ある。この二次再結晶領域と一次再結晶領域との境界領
域、すなわち金属コイルのボトムチャンバー開口部付近
に位置する部分が所定の温度勾配となるように上記加熱
手段、金属コイルの上昇速度、さらにこれらに加えてベ
ースプレートの冷却手段をそれぞれ調整する。Q細手段
の調整は冷却ガスの流量を調整することによって行われ
る。
の領域で所定の温度勾配を与えながら金属コイルを加熱
するには、まず金属コイルを載置したベースプレートを
下降させて、金属コイルをボトムチャンバー内に収納す
る。ついで、ベースグレートを徐々に上昇させる。この
とき、金属コイルのボトムチャンバーから上方に突出し
た部分、すなわちインナカバー内に入った部分は上記加
熱手段により加熱され二次再結晶が進む。金属コイルの
ボトムチャンバー内の部分は一次再結晶のままの状態で
ある。この二次再結晶領域と一次再結晶領域との境界領
域、すなわち金属コイルのボトムチャンバー開口部付近
に位置する部分が所定の温度勾配となるように上記加熱
手段、金属コイルの上昇速度、さらにこれらに加えてベ
ースプレートの冷却手段をそれぞれ調整する。Q細手段
の調整は冷却ガスの流量を調整することによって行われ
る。
この発明の装置ではベースプレート内に冷却ガスを流し
、ベースプレート上面を冷却するようにしているので上
記境界領域に大きな温度勾配を与えることができる。ま
たベースプレート内を流れる冷却ガスは冷却ガス循環装
置において流量が調節されるので、所要の温度勾配を得
ることができる。
、ベースプレート上面を冷却するようにしているので上
記境界領域に大きな温度勾配を与えることができる。ま
たベースプレート内を流れる冷却ガスは冷却ガス循環装
置において流量が調節されるので、所要の温度勾配を得
ることができる。
以下、この発明の実施例について説明する。
第2図はこの発明のバッチ焼鈍装置の一例ケ示す縦断面
図である。なお、第2図において第1図に示す従来装置
の部材と同一の部材には同一の参照符号を付け、以下こ
れら部材の説明は省略する。
図である。なお、第2図において第1図に示す従来装置
の部材と同一の部材には同一の参照符号を付け、以下こ
れら部材の説明は省略する。
ボトムチャンバー11は上端にフランジ13を有する円
筒状胴体12と底部材】4よりなっており、耐火レンガ
により構築されている。胴体12と底部材I4とは分解
、組立が容易なように分割されており、両者の間にサン
ドシール15を設けてボトムチャンバー11内への大気
の侵入Z防いでいる。また、胴体12内周面には柔軟C
弾力性をもった断熱材16(たとえばセラミックファイ
バーブロック)で内張すされている。断熱材16で内張
すされた胴体J2の内径は金属コイルCの外径より僅か
に小さく、コイルC外周面が断熱材16に摺動するよう
にしている。このように構成されたボトムチャンノ<−
11はフランジ13において支柱21により床る上に支
持されている。
筒状胴体12と底部材】4よりなっており、耐火レンガ
により構築されている。胴体12と底部材I4とは分解
、組立が容易なように分割されており、両者の間にサン
ドシール15を設けてボトムチャンバー11内への大気
の侵入Z防いでいる。また、胴体12内周面には柔軟C
弾力性をもった断熱材16(たとえばセラミックファイ
バーブロック)で内張すされている。断熱材16で内張
すされた胴体J2の内径は金属コイルCの外径より僅か
に小さく、コイルC外周面が断熱材16に摺動するよう
にしている。このように構成されたボトムチャンノ<−
11はフランジ13において支柱21により床る上に支
持されている。
なお、炉体lはフランジ13上に載置され、炉体1とボ
トムチャンバー月との間(まサンドシール25および液
体ンール26により気密が保たれる。また、イノナカバ
−2もフランジ13」二に載置され、サントシール28
によりンールされる。
トムチャンバー月との間(まサンドシール25および液
体ンール26により気密が保たれる。また、イノナカバ
−2もフランジ13」二に載置され、サントシール28
によりンールされる。
ボトムチャンバー11内には胴体12と同軸にして底部
相14より上方に突出するようにして円柱状の固定ベー
ス31が設けられている。固定ベース;3]は耐火レン
ガ製であって、中心に雰囲気ガス供給孔32が貫通して
いる。固定ベース31の、ボトムチャンバーHの開口部
17に位置する部分は仕切部;33となっている。仕切
部:33の外周面には胴体12内周面に内張すされた断
熱材16と同じ断熱制34が張り付けられている。仕切
部;う3の外径はコイルCの内径より僅かに大きく、コ
イルC内周面が仕切部、3:つ外周面を摺動するように
なっている。また、仕切部;33の上端はボトムチャン
バー11の上面と同じ高さに位置している。仕切部:3
3の上、下はそれぞれ若干直径が小さく、それぞれ第]
加熱部;35および第2加熱部:37となっている。各
加熱部’35 、37には電熱ヒーター36.38が取
り付けられている。第2加熱部:37の下端か−ら底部
相14の間は基部:(9てあり、上記仕切部:33と同
径であり、仕切部33と同じ断熱拐/1(Jが張り付け
られている。
相14より上方に突出するようにして円柱状の固定ベー
ス31が設けられている。固定ベース;3]は耐火レン
ガ製であって、中心に雰囲気ガス供給孔32が貫通して
いる。固定ベース31の、ボトムチャンバーHの開口部
17に位置する部分は仕切部;33となっている。仕切
部:33の外周面には胴体12内周面に内張すされた断
熱材16と同じ断熱制34が張り付けられている。仕切
部;う3の外径はコイルCの内径より僅かに大きく、コ
イルC内周面が仕切部、3:つ外周面を摺動するように
なっている。また、仕切部;33の上端はボトムチャン
バー11の上面と同じ高さに位置している。仕切部:3
3の上、下はそれぞれ若干直径が小さく、それぞれ第]
加熱部;35および第2加熱部:37となっている。各
加熱部’35 、37には電熱ヒーター36.38が取
り付けられている。第2加熱部:37の下端か−ら底部
相14の間は基部:(9てあり、上記仕切部:33と同
径であり、仕切部33と同じ断熱拐/1(Jが張り付け
られている。
ベースプレート4]は環状をしており、内径はコイルC
内径と等しいか、これよりやや小さく、外径はコイルC
外径と等しいか、これよりやや太きい。ペースプレート
旧内部には第3図および第4図に示“すように円周に沿
って:うつの冷却ガス流路42が半径方向に間隔をおい
て設けられている。冷却ガス流路42には冷却ガス供給
管45およびこれより円周方向に180’離れた位置に
ある冷却ガス排出管46が連通している。両管45,4
6はボトムチャンバー11の底部材14を貫通し、たわ
み管47を介して次に述べる冷却ガス循環装置51に接
続されている。なお、両管45,46がボトムチャンバ
ー11(7)底部材14を貫通する部分にはダイナミッ
クベローズ48が取り付けられており、ホトムチャンバ
ー11内の気密を図っている。また、両管45,46の
途中にベローズ49を設け、装置運転中に生ずる熱膨張
を吸収するようにしている。
内径と等しいか、これよりやや小さく、外径はコイルC
外径と等しいか、これよりやや太きい。ペースプレート
旧内部には第3図および第4図に示“すように円周に沿
って:うつの冷却ガス流路42が半径方向に間隔をおい
て設けられている。冷却ガス流路42には冷却ガス供給
管45およびこれより円周方向に180’離れた位置に
ある冷却ガス排出管46が連通している。両管45,4
6はボトムチャンバー11の底部材14を貫通し、たわ
み管47を介して次に述べる冷却ガス循環装置51に接
続されている。なお、両管45,46がボトムチャンバ
ー11(7)底部材14を貫通する部分にはダイナミッ
クベローズ48が取り付けられており、ホトムチャンバ
ー11内の気密を図っている。また、両管45,46の
途中にベローズ49を設け、装置運転中に生ずる熱膨張
を吸収するようにしている。
第5図は北記冷却ガス循環装置5]の系統図である。
冷却ガス循環装置51は冷却ガス溜52に供給元弁53
および遮断弁54を介してブロアー55が接続されてい
る。ブロアー55は流歇調節弁すなわち温度調節弁56
を介して上記冷却ガス供給管45に接続されている。一
方、冷却ガス排出管46は冷却器57を介してブロアー
55人側に接続されている。
および遮断弁54を介してブロアー55が接続されてい
る。ブロアー55は流歇調節弁すなわち温度調節弁56
を介して上記冷却ガス供給管45に接続されている。一
方、冷却ガス排出管46は冷却器57を介してブロアー
55人側に接続されている。
前記ベースプレート41は環状の断熱材61および中間
部材63を介(2て支柱67により支持されている。熱
膨張を吸収するために、中間部材63に設けられ几ピン
孔64および支柱67頂部に設けられたビン孔(図示し
ない)に挿入されたピン65を介して中間部材63と支
柱67とが連結されている。支柱67の下部はボトムチ
ャンバーHの底部材14を貫通している。この貫通部分
にはダイナミックベローズ69が取り付けられており、
ボトムチャンバー11内の気密を保っている。
部材63を介(2て支柱67により支持されている。熱
膨張を吸収するために、中間部材63に設けられ几ピン
孔64および支柱67頂部に設けられたビン孔(図示し
ない)に挿入されたピン65を介して中間部材63と支
柱67とが連結されている。支柱67の下部はボトムチ
ャンバーHの底部材14を貫通している。この貫通部分
にはダイナミックベローズ69が取り付けられており、
ボトムチャンバー11内の気密を保っている。
上記支柱670基部は昇降駆動装置71に連結されてい
る。昇降駆動装置71は減速機付きモーター72および
これに駆動されるスクリュージヤツキ73を備えている
。スクリュージヤツキ73は垂直に延びる連結棒74を
介してガイドプレート76に連結されている。ガイドプ
レート76の両端は床2:つに固定されたガイドポスト
77に案内されている。そして、ガイドプレート76は
前記支柱670基部を支持している。
る。昇降駆動装置71は減速機付きモーター72および
これに駆動されるスクリュージヤツキ73を備えている
。スクリュージヤツキ73は垂直に延びる連結棒74を
介してガイドプレート76に連結されている。ガイドプ
レート76の両端は床2:つに固定されたガイドポスト
77に案内されている。そして、ガイドプレート76は
前記支柱670基部を支持している。
なお、前記ボトムチャンバー]1の底部材14にはパー
ジガス給気管8Jおよびパージガス排気管82が取り付
けられている。
ジガス給気管8Jおよびパージガス排気管82が取り付
けられている。
つぎに、以上のように構成されたバッチ焼鈍装置により
電磁鋼板コイルを二次再結晶焼鈍する方法について説明
する。
電磁鋼板コイルを二次再結晶焼鈍する方法について説明
する。
まず、炉体lおよびインナカバー2を取り除いた状態で
ベースプレート41を第2図に示す上限位置にセットす
る。そして、ベースプレート羽上に一次再結晶焼鈍を終
えた電磁鋼板コイルCを載置する。続いて、コイルCを
インナカッく−2で覆pz。
ベースプレート41を第2図に示す上限位置にセットす
る。そして、ベースプレート羽上に一次再結晶焼鈍を終
えた電磁鋼板コイルCを載置する。続いて、コイルCを
インナカッく−2で覆pz。
更にインチカバー2を炉体1で覆う。炉体■内は冷却ガ
ス吹込み管7から、またインナ力・く−2内は雰囲気ガ
ス供給孔32からそれぞれN2ガスを供給し、これらの
内部暑パージする。ボトムチャンバー11内はパージガ
ス給気管81および排気管82によりN2ガス乞給、排
気してノぐ一ジされる。
ス吹込み管7から、またインナ力・く−2内は雰囲気ガ
ス供給孔32からそれぞれN2ガスを供給し、これらの
内部暑パージする。ボトムチャンバー11内はパージガ
ス給気管81および排気管82によりN2ガス乞給、排
気してノぐ一ジされる。
上記パージが終ったならば、炉体l内側に取り付けた電
熱ヒーター5により、たとえば10〜70C/Hの加熱
速度でインナカッく一2内の雰囲気ガスN2ヲ加熱すみ
。このとき固定ベース31の第1電熱ヒーター3Gを併
用してもよい。インナカッく−2内の雰囲気ガスの温度
が第6図に示すように室諦T。から所定温度T、 (6
00〜650tT)まで上昇したならば、期間A(10
〜20時間)の間、炉内を均熱保持する。炉内均熱開始
時に雰囲気ガスN2をAXガスに切換える。この炉内均
熱により雰囲気ガスは所定の露点(−5〜−10C以下
)に保持され、コイルCK、塗布された焼鈍分離剤から
放出される水分がコイルCの冷却時に結露することはな
い。
熱ヒーター5により、たとえば10〜70C/Hの加熱
速度でインナカッく一2内の雰囲気ガスN2ヲ加熱すみ
。このとき固定ベース31の第1電熱ヒーター3Gを併
用してもよい。インナカッく−2内の雰囲気ガスの温度
が第6図に示すように室諦T。から所定温度T、 (6
00〜650tT)まで上昇したならば、期間A(10
〜20時間)の間、炉内を均熱保持する。炉内均熱開始
時に雰囲気ガスN2をAXガスに切換える。この炉内均
熱により雰囲気ガスは所定の露点(−5〜−10C以下
)に保持され、コイルCK、塗布された焼鈍分離剤から
放出される水分がコイルCの冷却時に結露することはな
い。
炉内均熱が終ったならば、昇降駆動装置71によりコイ
ルCを下限まで下げ、ボトムチャンバー11内に収納す
る。このとき、コイルCの上端はボトムチャンバー11
の上端す6よび固定ベース31の仕切部:33の」二端
と同じ高さに並んでいる。そして、コイルCはこれの上
端部の温度が930C以上になるまで期間B1ボトムチ
ャンバー11内で待機される。この間、炉内温度および
コイルC上端部の温度は上昇するが、コイルCと仕切部
;33とによりインナカバー2と仕切られたボトムチャ
ンバー川内は温度が低いためコイルCの下部は若干温度
が下る。
ルCを下限まで下げ、ボトムチャンバー11内に収納す
る。このとき、コイルCの上端はボトムチャンバー11
の上端す6よび固定ベース31の仕切部:33の」二端
と同じ高さに並んでいる。そして、コイルCはこれの上
端部の温度が930C以上になるまで期間B1ボトムチ
ャンバー11内で待機される。この間、炉内温度および
コイルC上端部の温度は上昇するが、コイルCと仕切部
;33とによりインナカバー2と仕切られたボトムチャ
ンバー川内は温度が低いためコイルCの下部は若干温度
が下る。
待機期間Bが経過してコイルC上端の温度が930C以
上になると、再び昇降駆動装置71を駆動して20〜6
00111m/Hの速度でコイルCを上昇する。コイル
Cは徐々にボトムチャンバー11からインチカバー2内
に送り出され、コイルCのインチカバー2内に露出する
部分とボトムチャンバー11内にある部分との境界領域
に温度勾配が生じる。炉内加熱速度およびコイル上昇速
度は上記温度勾配が2C/cm以上となるように調整さ
れる。
上になると、再び昇降駆動装置71を駆動して20〜6
00111m/Hの速度でコイルCを上昇する。コイル
Cは徐々にボトムチャンバー11からインチカバー2内
に送り出され、コイルCのインチカバー2内に露出する
部分とボトムチャンバー11内にある部分との境界領域
に温度勾配が生じる。炉内加熱速度およびコイル上昇速
度は上記温度勾配が2C/cm以上となるように調整さ
れる。
コイルCがある程度インチカバー2内に入り込むと、コ
イルCのボトムチャンバー11内にある部分もかなり昇
温し、所定の温度勾配がとれなくなる。
イルCのボトムチャンバー11内にある部分もかなり昇
温し、所定の温度勾配がとれなくなる。
この時点より若干前の時点aよりペースプレー1・41
の冷却を開始する。
の冷却を開始する。
ペースグレート41の冷却は冷却ガス供給管、15を介
して冷却ガス循環装置51よりインナカバー2内の雰囲
気ガスと同じガス乞ベースプレー1・41内の冷却ガス
流路42に供給する。(N2ガスでもよい。)冷却ガス
流路42に送られたガスはベースプレート41を冷却し
て昇温し、冷却ガス排出管・46を経て、冷却器57に
至る。冷却器57で冷却された冷却ガスはブロアー55
により再びベースプレート41に圧送される。冷却ガス
流計は前記温度勾配に応じて温度調節弁56により調節
される。
して冷却ガス循環装置51よりインナカバー2内の雰囲
気ガスと同じガス乞ベースプレー1・41内の冷却ガス
流路42に供給する。(N2ガスでもよい。)冷却ガス
流路42に送られたガスはベースプレート41を冷却し
て昇温し、冷却ガス排出管・46を経て、冷却器57に
至る。冷却器57で冷却された冷却ガスはブロアー55
により再びベースプレート41に圧送される。冷却ガス
流計は前記温度勾配に応じて温度調節弁56により調節
される。
このようにして、コイルCを上端から徐々に下端に向っ
て加熱して行き、コイルCの下端がボトムチャンバーH
を出た時点すでベースプレート41の上昇を一時停止す
る。このとき、コイルCの上端部はほぼ所定温度T2(
115(1〜12007?)に達している。また、ベー
スプレート41の冷却はコイルC下端部の温度が930
C以上になるまで(期間C)続けられる。なお、炉内温
度が所定温度T2に達したとき、インチカバ〜2内の雰
囲気ガスはAXガスからH2ガスに切り換えられる。
て加熱して行き、コイルCの下端がボトムチャンバーH
を出た時点すでベースプレート41の上昇を一時停止す
る。このとき、コイルCの上端部はほぼ所定温度T2(
115(1〜12007?)に達している。また、ベー
スプレート41の冷却はコイルC下端部の温度が930
C以上になるまで(期間C)続けられる。なお、炉内温
度が所定温度T2に達したとき、インチカバ〜2内の雰
囲気ガスはAXガスからH2ガスに切り換えられる。
コイルCは下端部が11.50 C以−Fになるまで均
熱保持される。この均熱が終了(時点C)すると炉体]
内に冷却ガス吹込管7から冷却ガスを吹き込み、インチ
カバー2と共にコイルCを冷却する。コイルCが所定1
度まで下ると、炉体1を取り去り、更にインチカバー2
とコイルCとを大気中で冷却する。そして、冷却完了後
、インチカバー2を取り去って一連の焼鈍作業が完了す
る。
熱保持される。この均熱が終了(時点C)すると炉体]
内に冷却ガス吹込管7から冷却ガスを吹き込み、インチ
カバー2と共にコイルCを冷却する。コイルCが所定1
度まで下ると、炉体1を取り去り、更にインチカバー2
とコイルCとを大気中で冷却する。そして、冷却完了後
、インチカバー2を取り去って一連の焼鈍作業が完了す
る。
なお、コイルCの寸法が大きい場合、炉体1の内側に設
けた電熱ヒーター5のみでは、コイルCのインナカバー
2内に入り込んだ部分を十分に加熱できず、所要の温度
勾配が得られないことがある。この場合、固定ベース3
1の第1電熱ヒーター36で補助加熱する。また、コイ
ルC全体を1150C以上の温度で均熱保持する際、コ
イルC下端部からベースプレート41を経て熱が放散さ
れる。このとき、ベースプレート41は冷却されておら
ず、また断熱材61によって熱の放散が防止されている
。しかし、コイルCのサイズによっては熱の放散により
コイルC下端部の温度保持が内錐なことがある。この場
合、固定ベース31の第2電熱ヒーター38により補助
加熱を行う。
けた電熱ヒーター5のみでは、コイルCのインナカバー
2内に入り込んだ部分を十分に加熱できず、所要の温度
勾配が得られないことがある。この場合、固定ベース3
1の第1電熱ヒーター36で補助加熱する。また、コイ
ルC全体を1150C以上の温度で均熱保持する際、コ
イルC下端部からベースプレート41を経て熱が放散さ
れる。このとき、ベースプレート41は冷却されておら
ず、また断熱材61によって熱の放散が防止されている
。しかし、コイルCのサイズによっては熱の放散により
コイルC下端部の温度保持が内錐なことがある。この場
合、固定ベース31の第2電熱ヒーター38により補助
加熱を行う。
この発明は北記実施例に限られるものではない。
たとえば、加熱手段として電熱ヒーター5に代えて直火
式バーナーを用いてもよく、炉体1の周壁のみならず天
井にもカミ熱手段を配設してもよい。
式バーナーを用いてもよく、炉体1の周壁のみならず天
井にもカミ熱手段を配設してもよい。
ベースプレート41の冷却ガス流路42の数も3つに限
られるものではない。流路数は流路の断面、冷却ガス流
朧、コイル下端からの抜熱条件、ベースプレートに生じ
る熱応力などを考慮して決められる。半径方向に間隔を
おいて複数の冷却ガス流路42を設けることにより、ペ
ースグレート41上面を一様に冷却することができる。
られるものではない。流路数は流路の断面、冷却ガス流
朧、コイル下端からの抜熱条件、ベースプレートに生じ
る熱応力などを考慮して決められる。半径方向に間隔を
おいて複数の冷却ガス流路42を設けることにより、ペ
ースグレート41上面を一様に冷却することができる。
また、冷却ガス流路12は複数Cあっても1つの冷却ガ
ス供給管45および冷却ガス排出管部に連通させること
が構造を簡単にする点71)ら望まじい。冷却ガス供給
管45および冷却ガス排出管46は円周方向に180度
の間隔をおかずに隣接するようにして配置′筺してもよ
い。
ス供給管45および冷却ガス排出管部に連通させること
が構造を簡単にする点71)ら望まじい。冷却ガス供給
管45および冷却ガス排出管46は円周方向に180度
の間隔をおかずに隣接するようにして配置′筺してもよ
い。
マタ、ボトムチャンバー11および固定ベース31にそ
11ぞれ張りイ」けられた断熱材16 、34 、4o
あるいは固定ベース31に取り付けられた電熱ヒーター
36.38は必須のものではない。断熱材16.34Q
設けない場合は、ボトムチャンバー月内周面とコイルC
外周面との間の間隙および仕切部;33外周面とコイル
C内周面との間の間隙は、インナカバー2内の高温雰囲
気ガスがボトムチャンバー]]内に流入してボトムチャ
77〜月内を許容温度以上としない程度(たとえば1〜
511114 )にとられる。さらに、昇降駆動装置7
1の減速機付モーター72およびスクリュージヤツキ7
3に代えて油圧ジヤツキを用いてもよい。
11ぞれ張りイ」けられた断熱材16 、34 、4o
あるいは固定ベース31に取り付けられた電熱ヒーター
36.38は必須のものではない。断熱材16.34Q
設けない場合は、ボトムチャンバー月内周面とコイルC
外周面との間の間隙および仕切部;33外周面とコイル
C内周面との間の間隙は、インナカバー2内の高温雰囲
気ガスがボトムチャンバー]]内に流入してボトムチャ
77〜月内を許容温度以上としない程度(たとえば1〜
511114 )にとられる。さらに、昇降駆動装置7
1の減速機付モーター72およびスクリュージヤツキ7
3に代えて油圧ジヤツキを用いてもよい。
第1図は従来のバッチ焼鈍装置の一例を示す縦断面図、
第2図はこの発明のバッチ焼鈍装置の一例を示す縦断面
図、第3図は第2図の装置のベースグレートの一部断面
平面図、第4図は第3図のX−X線に沿う断面図、第5
図は第2図に示す装置に用いられる冷却ガス循環装置の
系統図および第6図は炉内温度、コイル温度、コイル位
置の時間による変化6示す線図である。 ■・炉体、 2・・・インナカバー、 3・・−ベース
プレート、11・・ボトムチャンバー、12・ チャン
バー胴体、 14・・チャンバー底部材、31・・−固
定ベース、33・・仕切部、41・・・ベースプレート
、42・・冷却ガス流路、 51・・−冷却ガス循環
装置、56・・一温度調節弁、 57・・−冷却器、
71・・・昇降駆動装置。 特許出願人代理人 弁理士 矢 葺 知 之 (ほか1名) 第 2図 第3図
第2図はこの発明のバッチ焼鈍装置の一例を示す縦断面
図、第3図は第2図の装置のベースグレートの一部断面
平面図、第4図は第3図のX−X線に沿う断面図、第5
図は第2図に示す装置に用いられる冷却ガス循環装置の
系統図および第6図は炉内温度、コイル温度、コイル位
置の時間による変化6示す線図である。 ■・炉体、 2・・・インナカバー、 3・・−ベース
プレート、11・・ボトムチャンバー、12・ チャン
バー胴体、 14・・チャンバー底部材、31・・−固
定ベース、33・・仕切部、41・・・ベースプレート
、42・・冷却ガス流路、 51・・−冷却ガス循環
装置、56・・一温度調節弁、 57・・−冷却器、
71・・・昇降駆動装置。 特許出願人代理人 弁理士 矢 葺 知 之 (ほか1名) 第 2図 第3図
Claims (1)
- 内側に加熱手段を備えた着脱自在なベル形炉体、炉体内
に設けられたベースプレート、およびペースプレート」
二にコイル軸を垂直にして載置された金属コイルを覆う
着脱自在なインナカバーを備えた装置において、上方に
向って開口し、内径が金属コイルの外径よりやや大きく
、金属コイルの収納可能なボトムチャンバーが前記炉体
の下方に設けられており、ボトムチャンバー内にはこれ
と同軸に、ボトムチャンバー底部から上方に延びる柱状
の固定ベースが設けられており、固定ベースは外径が金
属コイルの内径よりやや小さく、ボトムチャンバーの開
口部に位置する仕切部を有し、前記ペースプレートは環
状をなし、内部(C環状の冷却ガス流路が設けられてお
り、冷却ガス流路は冷却ガス流歌調節弁およびガス冷却
器を含む冷却ガス循環装置に連絡しており、さらに前記
ベースグレートは前記ボトムチャンバーの底部を貫通し
昇降自在な支持部材に支持されており、支持部材の下端
部は昇降駆動装置に連結されていることを特徴とするバ
ッチ焼鈍装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21469282A JPS59107033A (ja) | 1982-12-09 | 1982-12-09 | バツチ焼鈍装置 |
US06/542,193 US4502671A (en) | 1982-10-30 | 1983-10-14 | Batch annealing apparatus |
EP83110817A EP0108357B1 (en) | 1982-10-30 | 1983-10-28 | Batch annealing apparatus |
DE8383110817T DE3369703D1 (en) | 1982-10-30 | 1983-10-28 | Batch annealing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21469282A JPS59107033A (ja) | 1982-12-09 | 1982-12-09 | バツチ焼鈍装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59107033A true JPS59107033A (ja) | 1984-06-21 |
JPS6235470B2 JPS6235470B2 (ja) | 1987-08-01 |
Family
ID=16660013
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21469282A Granted JPS59107033A (ja) | 1982-10-30 | 1982-12-09 | バツチ焼鈍装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59107033A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100960374B1 (ko) | 2003-06-13 | 2010-05-28 | 주식회사 포스코 | 배치 소둔로의 코일 폭 편차 조정장치 |
KR101365522B1 (ko) * | 2011-12-12 | 2014-02-20 | (주)포스코 | 방향성 전기강판의 열처리장치 |
-
1982
- 1982-12-09 JP JP21469282A patent/JPS59107033A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100960374B1 (ko) | 2003-06-13 | 2010-05-28 | 주식회사 포스코 | 배치 소둔로의 코일 폭 편차 조정장치 |
KR101365522B1 (ko) * | 2011-12-12 | 2014-02-20 | (주)포스코 | 방향성 전기강판의 열처리장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6235470B2 (ja) | 1987-08-01 |
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