JPS5910386A - 電荷噴射装置を有する液処理装置 - Google Patents
電荷噴射装置を有する液処理装置Info
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- JPS5910386A JPS5910386A JP57109648A JP10964882A JPS5910386A JP S5910386 A JPS5910386 A JP S5910386A JP 57109648 A JP57109648 A JP 57109648A JP 10964882 A JP10964882 A JP 10964882A JP S5910386 A JPS5910386 A JP S5910386A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電気装置によって廃液を処理して液内の不純物
粒子を凝集沈澱させて除去する装置に関する。
粒子を凝集沈澱させて除去する装置に関する。
本発明は出願人の既出類の改良であり、癒液に随伴する
不純物粒子の凝集を促進させて液を清澄にし、処理済液
は無害となって河川に放流可能であり、又は都市下水処
理装置で悪影響を生ぜずに処理可能とする。この種の処
理装置の例として出願人の米国%+j′πl’ 597
2800号がある。
不純物粒子の凝集を促進させて液を清澄にし、処理済液
は無害となって河川に放流可能であり、又は都市下水処
理装置で悪影響を生ぜずに処理可能とする。この種の処
理装置の例として出願人の米国%+j′πl’ 597
2800号がある。
この型式の処理装置の正確な機構は不明な点があるが、
一般的には液に電界を作用させた場合、特に液内電流、
が牛じ雷、師(作用が伴t、r、 5場合に、不純物粒
子は互に吸引[7、仙の場合よりは容易に凝集又は凝結
する。かくして粒子塊質量が増加すれば、電気処理装置
下流の沈降タンク等の中に容易に沈澱する。
一般的には液に電界を作用させた場合、特に液内電流、
が牛じ雷、師(作用が伴t、r、 5場合に、不純物粒
子は互に吸引[7、仙の場合よりは容易に凝集又は凝結
する。かくして粒子塊質量が増加すれば、電気処理装置
下流の沈降タンク等の中に容易に沈澱する。
電荷担体を液絶縁物内に噴出すれば伝導度が著しく大き
くなることは周知であるが現在まではこの方式を癩液処
理に利用して不純物粒子の凝集を促進することは行なわ
れていない。
くなることは周知であるが現在まではこの方式を癩液処
理に利用して不純物粒子の凝集を促進することは行なわ
れていない。
それ故、本発明の主目的は廃液処理装置を提供し、電界
発生電極の一方に多数の円錐形尖端を有する突出部を設
け、電解型処理装量の場合に電荷担体を液内に噴出し、
一方の電極を液から絶縁する静電型処理装置の場合に電
界を集中させる。
発生電極の一方に多数の円錐形尖端を有する突出部を設
け、電解型処理装量の場合に電荷担体を液内に噴出し、
一方の電極を液から絶縁する静電型処理装置の場合に電
界を集中させる。
本発明の1実施例においては電極な平板とし、突出部は
電極に電気的に接触させて埋込んだスパイクとする。ス
パイクの円錐形尖端は平板電極面から外方に突出し、電
解型処理装置の場合に電荷の噴出は尖端部でのみ生じ、
静電型処理装置の場合に電界の集中が尖端部で生ずる。
電極に電気的に接触させて埋込んだスパイクとする。ス
パイクの円錐形尖端は平板電極面から外方に突出し、電
解型処理装置の場合に電荷の噴出は尖端部でのみ生じ、
静電型処理装置の場合に電界の集中が尖端部で生ずる。
仙の実施例では円筒形処理装置と1〜一方の電極は同一
軸線として内lTl11に配置する。この円筒形処理装
置の実施例として、外側電極は荷電突出部で形成され、
処理装置外壁を形成するハウジングの誘電材料壁を通っ
て内方に突出する。他の実施例として、外側電極を円筒
形ライナーとして突出部はライナーを切出し内方に曲げ
た部分によって形成する。別の実施例として突出部は同
一軸線の電極の組の内側電極に設け、はぼ平板の外周に
鋸歯状突出部を形成し、平板は絶縁板と交互に重ねて配
置する。
軸線として内lTl11に配置する。この円筒形処理装
置の実施例として、外側電極は荷電突出部で形成され、
処理装置外壁を形成するハウジングの誘電材料壁を通っ
て内方に突出する。他の実施例として、外側電極を円筒
形ライナーとして突出部はライナーを切出し内方に曲げ
た部分によって形成する。別の実施例として突出部は同
一軸線の電極の組の内側電極に設け、はぼ平板の外周に
鋸歯状突出部を形成し、平板は絶縁板と交互に重ねて配
置する。
本発明を例示とした実施例並びに図面について説明する
。
。
第1,2図に示す液処理装置10はほぼ箱型であり、内
部処理室12は2個の平な導電板14゜16を所要の誘
電材料製の端壁ス4−ザ18によって互に離れた関係位
置を保って形成する。端壁18は板14.16と共に室
12を形成し、処理すべき液の人口20を有する。室1
2から出口22を経て排出する。
部処理室12は2個の平な導電板14゜16を所要の誘
電材料製の端壁ス4−ザ18によって互に離れた関係位
置を保って形成する。端壁18は板14.16と共に室
12を形成し、処理すべき液の人口20を有する。室1
2から出口22を経て排出する。
室12の中央に導電材料製の平板24を両端壁18間に
所要の取付装置例えば止めねじ26によって取付ける。
所要の取付装置例えば止めねじ26によって取付ける。
金属のねじ26を経て導線28を板24に電気的に接続
する。導線28の他端は電圧源に接続する。第2の導線
60を金属の取付ねじ52を介して板14に電気的に接
続し導線の他端は電圧源の他の極に接続する。所要に応
じて第3の導線34を金属の取付ねじ66を介して他方
の板16に接続し、導線34の他端は導線30と同じ側
の端子で電圧源に接続する。
する。導線28の他端は電圧源に接続する。第2の導線
60を金属の取付ねじ52を介して板14に電気的に接
続し導線の他端は電圧源の他の極に接続する。所要に応
じて第3の導線34を金属の取付ねじ66を介して他方
の板16に接続し、導線34の他端は導線30と同じ側
の端子で電圧源に接続する。
この構成によって、板14,16.24に電圧が作用し
、室12内に電界を生ずる。板14.16は室12の壁
部を形成すると共に内側電極板24に共働l〜て電界を
生ずる。
、室12内に電界を生ずる。板14.16は室12の壁
部を形成すると共に内側電極板24に共働l〜て電界を
生ずる。
内側N1極板24に本発明によって全範囲に亘って多数
の突出部ろ8を取付ける。図示の例では各突出部58は
板24を貫通して板240両面から夫々の電極板14.
16に向けて突出する。各突出部ろ8は導電材料のスパ
イクの特性を有1〜、板24内に埋込んで両端外方の円
錐形尖端部40のみを露出する。
の突出部ろ8を取付ける。図示の例では各突出部58は
板24を貫通して板240両面から夫々の電極板14.
16に向けて突出する。各突出部ろ8は導電材料のスパ
イクの特性を有1〜、板24内に埋込んで両端外方の円
錐形尖端部40のみを露出する。
第5図に示す処理装置110は第1,2図の処理装置1
0とほぼ同様であるが内側電極板124の両面を板状絶
縁材142で覆い、突出部138の尖端140を覆う。
0とほぼ同様であるが内側電極板124の両面を板状絶
縁材142で覆い、突出部138の尖端140を覆う。
これによって、処理装置110は静電装置となる。
第4. 5. 6図に示す処理装置210は処理装置1
0,110の箱型平板構造と異なり、全体として円筒形
とする。円筒形ノ・ウジング244は誘電材料とし5、
両端を上部キャップ246及び下部キャップ248によ
って閉鎖する。下部端部キャップ24Bに接線方向の人
口管250を桶て処理すべき液をハウジング244内に
供給1.、−ヒ部端部キャップ246に接線方向をなす
出口管252は処理済の液をハウジング244から排出
する。
0,110の箱型平板構造と異なり、全体として円筒形
とする。円筒形ノ・ウジング244は誘電材料とし5、
両端を上部キャップ246及び下部キャップ248によ
って閉鎖する。下部端部キャップ24Bに接線方向の人
口管250を桶て処理すべき液をハウジング244内に
供給1.、−ヒ部端部キャップ246に接線方向をなす
出口管252は処理済の液をハウジング244から排出
する。
ハウジング244と同一軸線の内側電極254を誘電材
料の直立管256に所要導体258をらせん状に巻いて
形成する。かくして内側電極254とハウジング244
とは共働して端部キャップ246.248と共に内部室
260を形成する。
料の直立管256に所要導体258をらせん状に巻いて
形成する。かくして内側電極254とハウジング244
とは共働して端部キャップ246.248と共に内部室
260を形成する。
外側電極262けハウジング244の外面を囲む導電薄
板等のシース264と、多数の突出部266とから成る
。突出部266は金属スパイクであり、外方端の広い平
なヘッド26Bと内方端の円錐状尖端270とを有する
。スパイクはシース264とハウジング244とを貫通
して尖端270を室260内の液流に露出する。シース
264に一端を接続した導線272の他端は電圧源に接
続してシース264を帯電させ、ヘッド26Bを経て突
出部266を帯電させる。第2の導線を内側電極254
の巻線258に一端を接続し、他端は導線272と反対
側の端子で電圧源に接続する。好適な例で、突出部26
6は円周方向に配置した複数組とし、各組は処理室26
0の長手方向に互に離す。
板等のシース264と、多数の突出部266とから成る
。突出部266は金属スパイクであり、外方端の広い平
なヘッド26Bと内方端の円錐状尖端270とを有する
。スパイクはシース264とハウジング244とを貫通
して尖端270を室260内の液流に露出する。シース
264に一端を接続した導線272の他端は電圧源に接
続してシース264を帯電させ、ヘッド26Bを経て突
出部266を帯電させる。第2の導線を内側電極254
の巻線258に一端を接続し、他端は導線272と反対
側の端子で電圧源に接続する。好適な例で、突出部26
6は円周方向に配置した複数組とし、各組は処理室26
0の長手方向に互に離す。
所要に応じて突出部266のヘッド268は第4図では
露出しているが第5,6図に示す通り所要の誘電被覆2
76で覆う。第5,6図に示す例では、突出部266の
尖端270は室260内の液に完全に露1’l’51.
、処理装置210は電解処理装置となる。
露出しているが第5,6図に示す通り所要の誘電被覆2
76で覆う。第5,6図に示す例では、突出部266の
尖端270は室260内の液に完全に露1’l’51.
、処理装置210は電解処理装置となる。
第7図に一部を示す処理装置310は構造上処理装置2
10と同様であるが、突出部666の尖端670は誘電
ハウジング壁344によって完全に覆われる。かくして
突出部566は直接物理的に処理装置31[1の処理す
る液に接触せず、処理装置310は静電処理装置となる
。
10と同様であるが、突出部666の尖端670は誘電
ハウジング壁344によって完全に覆われる。かくして
突出部566は直接物理的に処理装置31[1の処理す
る液に接触せず、処理装置310は静電処理装置となる
。
第8,9図に示す円筒処理装置410は処理装置210
とほぼ同様であるが外側電極462が異なる。即ち、処
理装置210のシース264に代えて処理装置410は
ハウジング444の内面に接触させた円筒形ライナー4
64を使用する。突出部466はライナーの切込み折曲
げによって形成した内方曲げ部とし、円錐形尖端470
を有する。所要に応じて、処理装置410を静電処理装
置とするには、露出した尖端470を誘電材料で被覆す
る。
とほぼ同様であるが外側電極462が異なる。即ち、処
理装置210のシース264に代えて処理装置410は
ハウジング444の内面に接触させた円筒形ライナー4
64を使用する。突出部466はライナーの切込み折曲
げによって形成した内方曲げ部とし、円錐形尖端470
を有する。所要に応じて、処理装置410を静電処理装
置とするには、露出した尖端470を誘電材料で被覆す
る。
第10.11図は本発明の他の実施例を示す。
処理装置510はほぼ円筒形とし、処理装置210゜3
10.410に近似する。処理装置510においては、
内側電極578に突出部を設け、外側電極には設けない
。即ち、内側電極578には重ね合せたほぼ板状の円板
580を処理装置510の全長に延長する共通ねじ即ち
取付軸582に取付ける。
10.410に近似する。処理装置510においては、
内側電極578に突出部を設け、外側電極には設けない
。即ち、内側電極578には重ね合せたほぼ板状の円板
580を処理装置510の全長に延長する共通ねじ即ち
取付軸582に取付ける。
一連の絶縁材584を円板580と交互に取付軸582
に取付ける。各円板580の外周に一連の突出部586
を取付け、はぼ牛径方向に外側ハウジング588に向け
て突出させる。外側ハウジング588は導電材料とし、
導線590によって帯電させる。各突出部588に外方
を尖端とした円錐尖端592を上述の各実施例と同様と
する。円板580を帯電させる導線594は導線590
を接続した電圧源の反対の極性の端子に接続する。
に取付ける。各円板580の外周に一連の突出部586
を取付け、はぼ牛径方向に外側ハウジング588に向け
て突出させる。外側ハウジング588は導電材料とし、
導線590によって帯電させる。各突出部588に外方
を尖端とした円錐尖端592を上述の各実施例と同様と
する。円板580を帯電させる導線594は導線590
を接続した電圧源の反対の極性の端子に接続する。
仙の構造作動に関しては処理装置510は円筒処理装置
210,510,410と同様であり、詳述しない。図
示の処理装置は電解型である力瓢内側電極578を被覆
して突出部586の尖端592が処理装置510を通る
液に直接接触しないようにすれば静電型に変換できる。
210,510,410と同様であり、詳述しない。図
示の処理装置は電解型である力瓢内側電極578を被覆
して突出部586の尖端592が処理装置510を通る
液に直接接触しないようにすれば静電型に変換できる。
上述の各処理装置の作動は明らかである。各電解型処理
装置は電子が陰極から液に入って電流が生じ、分子又は
原子に接触して負イオンを形成する。他の電極即ち陽極
においては電子は原子又は分子から取去られて正イオン
を生ずる。液内の不純物粒子も上述の導電堝程の一部を
分担し、他の荷電粒子又はイオンと同様の挙動となる。
装置は電子が陰極から液に入って電流が生じ、分子又は
原子に接触して負イオンを形成する。他の電極即ち陽極
においては電子は原子又は分子から取去られて正イオン
を生ずる。液内の不純物粒子も上述の導電堝程の一部を
分担し、他の荷電粒子又はイオンと同様の挙動となる。
各処理装置の一方の電極の先端を尖頭円錐形とすること
によって、荷電キャリアは処理装置内を流れる液内に噴
射され、突出部がなくほぼ平面の電極の電子の液内への
出入に比較して著しく大きな値となる。それ故、不純物
粒子が凝集沈澱して液外に出る傾向は著しく大きくなる
。
によって、荷電キャリアは処理装置内を流れる液内に噴
射され、突出部がなくほぼ平面の電極の電子の液内への
出入に比較して著しく大きな値となる。それ故、不純物
粒子が凝集沈澱して液外に出る傾向は著しく大きくなる
。
処理装置が静電型、即ち突出部の尖端が反対荷電の電極
から絶縁される場合は、電極の一部に尖端を使用しノ、
’rい静電型処理装置に比較して大きな凝集作用を生ず
るが、電解型装置で得られる値には達しない。
から絶縁される場合は、電極の一部に尖端を使用しノ、
’rい静電型処理装置に比較して大きな凝集作用を生ず
るが、電解型装置で得られる値には達しない。
第1図は本発明による液外]1(1装置の一部を除去し
た側面図、第2図は第1図の2−2線に沿う断面図、第
5図は第2図と同様であるが突出部の尖端を絶縁物で被
覆14;1,2図の電解型に対(2て静電型とした断面
図、第4図は本発明の第2の実施例によるほぼ円筒形と
した処理装置の側面図、第5図は第4図の5−5線に沿
う拡大断面図、第6図は第5図の一部の拡大断面図、第
7図は第6図と同様であるが処理装置を静電型とした断
面図、第8図は他の実施例による処理装置の側面図、第
9図は第8図の9−9線に沿う断面図、第10図は別の
実施例による処理装置の一部を除去l−だ側面図、第1
1図は第10図のi 1−i 1線に沿う断面図である
。 10.110,210,310,410,510:処理
装置12.260,578:処理室 14.16,24,124:導電板 20.250:人口 22 、252 :出口 58.158,266.366.466.580:突出
部40.140,270,370,470,592:尖
端254.584:内側電極 264.464,588:外側電極
た側面図、第2図は第1図の2−2線に沿う断面図、第
5図は第2図と同様であるが突出部の尖端を絶縁物で被
覆14;1,2図の電解型に対(2て静電型とした断面
図、第4図は本発明の第2の実施例によるほぼ円筒形と
した処理装置の側面図、第5図は第4図の5−5線に沿
う拡大断面図、第6図は第5図の一部の拡大断面図、第
7図は第6図と同様であるが処理装置を静電型とした断
面図、第8図は他の実施例による処理装置の側面図、第
9図は第8図の9−9線に沿う断面図、第10図は別の
実施例による処理装置の一部を除去l−だ側面図、第1
1図は第10図のi 1−i 1線に沿う断面図である
。 10.110,210,310,410,510:処理
装置12.260,578:処理室 14.16,24,124:導電板 20.250:人口 22 、252 :出口 58.158,266.366.466.580:突出
部40.140,270,370,470,592:尖
端254.584:内側電極 264.464,588:外側電極
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 液内の不純物の凝集を生じさせるための電気的処理
装置であって、処理室を形成する装置と、処理すべき液
を処理室に導入し処理後の液を処理室から導出ずろ装置
と、上記室に組合せて上記室内の液を電界にさらすため
の1組の反対極に電気的に荷電された電極とを設け、十
記電極の少なくとも一方に夫々仲の電極に向い外方端を
ほぼ円錐形尖端と1−だ多数の突出部を備えることを特
徴とする液処理装置。 2 前記電極を互に電気的に絶縁して両電極間の電流を
防ぐ特許請求の範囲第1項記載の装置。 3、一方の電極に前記突出部の尖端を覆って尖端を室内
の液に直接接触するのを防ぐ絶縁物を設ける特許請求の
範囲第2項記載の装置。 4 前記両電極を共に前配室内の液に直接接触させ両電
橙間の電流を生じさ−Iする特許請求の範囲第1項記載
の装置。 5 前記室形成装置には2枚の平な導電性の互に離間1
.た板と、両板の間の誘電スは−サ装置とを含み、−に
記画板を電圧源両端子間に接続(7て」二記電極を形成
する特許請求の範囲第1項記載の装置。 6、前記突出部を画板の一方に埋込んだ複数のスパイク
とする特許請求の範囲第5項躬瞳の装置。 7、前記尖端を前記スパイクの外方端として室内の液に
露出させる特許請求の範囲第6項記載の装置。 8 前記尖端を前記スパイクの端部に形成し、上記スパ
イクに尖端を覆う絶縁物を設ける特許請求の範囲第6項
記載の装置。 9、前記室形成装置には円筒形ハウジングを含み、前記
一方の電極はハウジングに取付け、他方の電極はハウジ
ングから離れて同一軸線としてハウジング内に設ける特
許請求の範囲第1項記載の装置。 10、前記突出部の尖端はハウジングを超えて牛径方向
内方に突出して室内の液に露出する特許請求の範囲第9
項記載の装W。 11、前記突出部の尖端は室内の液から絶縁する特許請
求の範囲第9項記載の装置。 12、前記ハウジングな誘電材料製とし、前記突出部の
尖端は・・ウジング内に埋込み被覆する特許請求の範囲
第11項記載の装置。 13 前記一方の電極を前記ハウジング内の円筒形ライ
ナーとし、前記突出部はライナーの折曲部とする特許請
求の範囲第9項記載の装置。 】4.前記室形成装置に円筒形ハウジングを含み、前記
一方の電極は他方の電極内に同一軸線に配置する特許請
求の範囲第1項記載の装置。 15、前記一方の電極は一連のほぼ平なほぼ円形の導電
円板として前記突出部を外周縁に設け、上記円板間に交
互に一連のほぼ平なほぼ円形の絶縁物を設ける特許請求
の範囲第14項記載の装置。
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JPH029872B2 JPH029872B2 (ja) | 1990-03-05 |
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-
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