JPS58986A - 7-acylamino-3-vinylcephalosporanic acid derivative and its preparation - Google Patents

7-acylamino-3-vinylcephalosporanic acid derivative and its preparation

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JPS58986A
JPS58986A JP7739682A JP7739682A JPS58986A JP S58986 A JPS58986 A JP S58986A JP 7739682 A JP7739682 A JP 7739682A JP 7739682 A JP7739682 A JP 7739682A JP S58986 A JPS58986 A JP S58986A
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vinyl
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高谷 隆男
Hisashi Takasugi
高杉 寿
Takashi Masugi
馬杉 峻
Hideaki Yamanaka
秀昭 山中
Koji Kawabata
浩二 川端
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Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Abstract

NEW MATERIAL:A compound of formulaI(R<1> is halogen, aminothiazolyl, which may be substituted; R<2> is carboxyl, protected carboxy-lower-alkyl; R<3> is carboxyl or protected carboxyl) or its salt. EXAMPLE:7-[2-( 2-Aminothiazol-4-yl )-2-benzhydriloxycarbonylmethoxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-car boxylic benzhydril ester. USE:Antibacterial, especially for oral administration. PREPARATION:The reaction between a compound of formula II, its derivative with an activated amino group or their salt, and a compound of formula III, its derivative with an activated carboxylic group or their salt, is carried out in the presence of an organic or inorganic base in a solvent such as acetone, preferably using a condensation reaction reagent such as Vilsmeier reagent to give the compound of formulaIor its salt.

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、新規な7−アシルアミノ−3−ビニルヤフ
ァロスボラン酸誘専体のシン異性体およびその医薬上許
容される塩W4に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a novel syn isomer of 7-acylamino-3-vinylyafalosborane acid derivative and its pharmaceutically acceptable salt W4.

さらに詳細KFi、こO発明は抗菌活性を有する新m1
ky−アシルアミノー3−ビニルセフ10スポツン酸誘
導体のシン異性体、その医薬上許容される塩類、および
それらの製造方法、それらを主成分とする医薬組成物に
関するものである。
More details KFi, this invention is a new m1 with antibacterial activity
The present invention relates to syn isomers of ky-acylamino-3-vinylceph 10 spotnic acid derivatives, pharmaceutically acceptable salts thereof, methods for producing them, and pharmaceutical compositions containing them as main ingredients.

したがって、仁の発明の目的は、多数の病原性微生物に
対して優れ九抗菌活性を示し一抗菌性薬剤、種に経口投
与用薬剤として有用な新規7−アシルアミノ−3−ビニ
ルセフアースボラン酸誘導体のシン異性体およびその医
薬上許容されるJlI類を提供するにある。
Therefore, the object of Jin's invention is to develop a novel 7-acylamino-3-vinylcephasboranic acid derivative that exhibits excellent antibacterial activity against a large number of pathogenic microorganisms and is useful as an antibacterial drug, a drug for oral administration to species. The purpose of the present invention is to provide a syn isomer of and pharmaceutically acceptable JlI classes thereof.

この発明の他の目的は、7−アシルアミノ−3−ビニル
セフ10スボラン酸S尋体のシン異性体またはそのm類
の!I!造方決方法供するKあ石。
Another object of the present invention is to obtain the syn isomer of 7-acylamino-3-vinylceph 10-sboranic acid or its m-series! I! K-stone provided with a method of making.

この発明の別の目的は、上記7−アシルアミノ−3−ビ
ニルセファロスポランeas体のシン異性体およびその
医薬上許容される塩類を有効成分として含む抗菌剤を#
l供するKある。
Another object of the present invention is to provide an antibacterial agent containing the syn isomer of the 7-acylamino-3-vinylcephalosporan eas form and its pharmaceutically acceptable salts as active ingredients.
I have K to offer.

この発明の目的とする7−アシルアミノ−3−ビニルセ
7アロスボクン酸#I辱体のシン異性体ハ新規化合物で
あり、下記一般式により表わすことができる。
The syn isomer of 7-acylamino-3-vinylse-7-allosboxonic acid #I is a novel compound which is the object of this invention and can be represented by the following general formula.

(式中 R1はハロゲンで置換されていてもよいアミノ
チアゾリル基またはハロゲンで置換されていてもよい保
護されたアミノチアゾリル基、R1はカルボキシもしく
は保護され九カルボキシ(低級)アルキル基 R8はカ
ルボキシ基または保護されたカルボキシ基をそれぞれ意
味する) 下記に示す方法によって得られる目的化合l1kJfI
)およびそれに対応する原料化合物(■)、(至)およ
び叫において、これら化合物中の不斉脚素原子に基づき
iat九#i2個以上の立体真性体の対が存在し得るが
、これらの異性体は何れもこの発明に包含されるものと
する。
(In the formula, R1 is an aminothiazolyl group that may be substituted with a halogen or a protected aminothiazolyl group that may be substituted with a halogen, R1 is a carboxy or protected nine-carboxy(lower) alkyl group, and R8 is a carboxy group or a protected aminothiazolyl group. (respectively means a carboxy group) The target compound l1kJfI obtained by the method shown below.
) and the corresponding raw material compounds (■), (to) and Both bodies are intended to be encompassed by this invention.

目的化合物(I)の適当な塩類としては、医薬上許容さ
れる塩類特に慣用の非毒性塩が含まれ、そのような塩類
としては塩基との塩類および酸付加塩、すなわち無機塩
基との塩類、例えばナトリウム塩、カリクム塩幡のアル
カリ金属塩、カルシクム塩、マグネシクム1141のア
ルカリ土類金属塩、アンモニクム塩、有機塩基との塩類
、例えばトリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩
、エタノールアミン塩、トリエタノールアミン塩、ジシ
クロヘキシルアミン塩、M、H’−ジベンジルエチレン
ジアミン塩等の有機アミン塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、
硫酸塩、燐酸塩等の無機酸付加塩、ぎ酸塩、酢酸塩、ト
リフルオロ酢駿塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メクンス
ルホン駿塩、ベンゼンスルホン酸塩、p−)ルエンスル
ホン酸塩等の有機カルボン酸マ九はスルホン酸付加塩、
アル奪二ン、アスパラギン駿、グルタミン酸等の塩基性
または酸性アミノ酸との塩類噂が壽まれる。
Suitable salts of the object compound (I) include pharmaceutically acceptable salts, especially the customary non-toxic salts, such salts with bases and acid addition salts, i.e. with inorganic bases; For example, sodium salts, alkali metal salts of Calicum Shiohata, calcicum salts, alkaline earth metal salts of Magnesicum 1141, ammonicum salts, salts with organic bases such as triethylamine salts, pyridine salts, picoline salts, ethanolamine salts, triethanolamine salts. organic amine salts such as salts, dicyclohexylamine salts, M,H'-dibenzylethylenediamine salts, hydrochlorides, hydrobromides,
Inorganic acid addition salts such as sulfates and phosphates, formates, acetates, trifluoroacetic acid salts, maleates, tartrates, mecnesulfone salts, benzenesulfonates, p-)luenesulfonates, etc. Organic carboxylic acid ma9 is a sulfonic acid addition salt,
There are rumors of salts with basic or acidic amino acids such as alkaline, asparagine, and glutamic acid.

この発明の目的化合物(I)およびその塩類は下記反応
式の方法により製造される。
The object compound (I) of this invention and its salts are produced by the method shown in the following reaction formula.

(1)方法1 (I)  またはその塩類 (2)方法2 (1−b)  まえはその塩類 im+  方法3 (4)方法4 (1−c)またはその塩類 (6)方法5 (I−e)またはその塩類 (−)方決6 (1−g)tたはその塩類 (1)方57 (I−1)ま九はその塩類 1式中、R1,BSおよびR51i前と同じ意味、RA
 はハロゲンで置換されていてもよい保護されたアミノ
チアゾリル基、呪は710ゲンで置換されていてもよい
アミノチアゾリル基、糧は保護されたカルボキシ(低級
)アルキル基、RAはカルボキシ(低級)アルキル基、
R:Fi保護され九カルボキシ基、R911i保護され
たカルボキシ(低級)アルコキシカルボニル基、畔はカ
ルボキシ(低級)アルコキシカルボニル基 R4はアミ
7基または保護されたアミノ基、X”Fi/’ロゲンを
それぞれ意味する]方決lおよび5で用いられるFIl
粁化金化合物])、(8)および[)#−1新規化合物
を含み、下記一般式で示される。
(1) Method 1 (I) or its salts (2) Method 2 (1-b) First its salts im+ Method 3 (4) Method 4 (1-c) or its salts (6) Method 5 (I-e ) or its salts (-) Method 6 (1-g)t or its salts (1) Method 57 (I-1) Maku is its salts In formula 1, R1, BS and R51i Same meaning as before, RA
is a protected aminothiazolyl group that may be substituted with halogen, cursor is a protected aminothiazolyl group that may be substituted with 710 gen, food is a protected carboxy (lower) alkyl group, RA is a carboxy (lower) alkyl group,
R: Fi protected 9 carboxy group, R911i protected carboxy (lower) alkoxy carbonyl group, ridge is carboxy (lower) alkoxy carbonyl group, R4 is amine 7 group or protected amino group, X"Fi/'logen, respectively meaning] FIl used in solutions 1 and 5
It contains the novel compounds No. 1), (8) and [) #-1, and is represented by the following general formula.

〔式中、RA は式 R’ −しH(CH,)@CCMH−1b RL−C−■匪−1または 蒜 \ (IR” BLCH=M− (式中、BSは置換もしくは非置換アリール基 BSは
保護されたアミノ基、Rbは保護され九カルボキシ基を
意味し R1およびR2は前と同じ意味)で示される基
、RBFi式 %式% ( (式中 XIおよびX5Viそれぞれハロゲン、R’d
アリール基を意味する) で示される基を意味し、R’tli前と同じ意味てあり
、RAが式 %式% (式中、Hqd非置換アリール基を意味する)で示され
る基の場合KFi、RBFi式%式% ) で示される基であるものとする] またはその塩類 (2) R墨 〔式中、Ro#′iアミ7基、ま九は式ゝ0R2 RLCHユN− (式中、RcおよびRdは結合されてオキソ基ま九は保
護されたオキソ基を形成し、”t ”r R”+  R
bおよびxlは前と同じ意味) で示される基を意味し、HaF!前と同じ意味であり、
Roがアミ7基の場合には、RsFiカルボキシ基であ
るものとする〕 ま九はその塩類 OR: [式中 X4は水素tたはハロゲン、R8はカルボキシ
基もしくは保護されたカルボキシ基をそれぞれ意味し 
B: 、 HQおよびRd Bそれぞれ前と同じ意味ま
たはその塩類 〔式中 R:、R4およびR@はそれぞれ前と同じ意味
1 またはその塩類 上記武で示される1IAP+化合物■ないし■の適当な
塩類としては、化合物<11について例示したのと同種
のものが一&壇れる。
[In the formula, RA is the formula R' -H(CH,)@CCMH-1b RL-C-■匪-1 or garlic\(IR" BLCH=M- (wherein, BS is a substituted or unsubstituted aryl group) BS means a protected amino group, Rb means a protected nine-carboxy group, R1 and R2 have the same meanings as before), RBFi formula % formula % ((in the formula, XI and X5Vi each halogen, R'd
(means an aryl group), and has the same meaning as before R'tli, and when RA is a group represented by the formula % (in the formula, Hqd means an unsubstituted aryl group), KFi , RBFi formula % formula %) ] or its salts (2) , Rc and Rd are combined to form a protected oxo group, and “t ”r R”+ R
b and xl have the same meanings as before) means a group represented by HaF! It has the same meaning as before,
When Ro is an amine 7 group, RsFi is a carboxyl group] Maku is its salt OR: [In the formula, X4 is hydrogen or halogen, and R8 means a carboxyl group or a protected carboxy group, respectively. death
B: , HQ and Rd B each has the same meaning as above or a salt thereof [wherein R:, R4 and R@ each have the same meaning as above 1 or a salt thereof As an appropriate salt of 1IAP+ compound ■ to ■ shown in the above The same kind of compounds as those exemplified for compound <11 are given below.

原料化合物のないし■は、例えば、公知化合物力・ら出
発して下肥プロセスのないし■、−また#iこれ走間様
の方法、または常法によりIll!遇される。
The raw material compounds can be prepared, for example, by starting from a known compound and performing the fertilizing process by using a method similar to that of #i or a conventional method. be treated well.

k] (■−C) ま九はその塩類 1式中、n”、 ′Rg、 R”オヨU:X’Fiツレ
ーPh前記ト陶じ意味] プロヤスの−(り (■−d) ま九はその塩類 (■−e) またはそのjJ!頽 1式中、Ra1RbおよびB! #iそれぞれ前記と同
じ意味) (■−f)            (■−g)または
その塩1IiI            またはその塩
類(Φ−1)        (■−h)〔式中% ”
& e R’およびzR#′iそれぞれ前記と同じ意味
] [式中 H!、 H3およびxlFiそれぞれ前記と同
じ意味] (■−1)             (■−a)0O
H (■−b) またはその塩類 1式中、 R: 、 R’およびR−はそれぞれ前記と
同じ意味) プロセス■−(3) R” (■−e) ま九はその塩類 J (■) またはその塩炉 [式中、RJL、 Rb、 R”オヨOR”#iソhソ
h前記ト同じ意味] プロセス■ (■−d)             (■−C)また
はその塩類 [式中’ ” + Rd、 H:およびxlはそれぞれ
前記と同じ意味% Rfa保農されえカルボキシ基を意
味する] プロセス■ XJ( 式中、R: 、 R’、 Ro、 RdオヨヒR” t
i七h!tL前Jじ意味J 下記および下記の説明において、種々の定義に含まれる
適当な例を詳細に説明すると次の通シである。
k] (■-C) Maku is its salts in formula 1, n", 'Rg, R" OyoU: (■-f) (■-g) or its salts 1IiI or its salts (Φ-1 ) (■-h) [% in the formula ”
& e R' and zR#'i each have the same meaning as above] [In the formula H! , H3 and xlFi each have the same meaning as above] (■-1) (■-a)0O
H (■-b) or its salts In formula 1, R: , R' and R- each have the same meaning as above) Process ■-(3) R" (■-e) Maku is its salt J (■) or its salt furnace [in the formula, RJL, Rb, R"OyoOR"#i soh soh same meaning as above] process ■ (■-d) (■-C) or its salts [in the formula ''' + Rd , H: and xl have the same meanings as above, respectively.
i7h! tL Previous J Same Meaning J Below and in the following explanation, appropriate examples included in the various definitions will be explained in detail as follows.

低級なる語は、特にことわらなh限り、lないし7個の
酸素原子を有する基を含むものとして用いる。
The term lower is used to include groups having from 1 to 7 oxygen atoms, unless h specifies otherwise.

上記定義中の低級アルキル部分としては、直1ま九は分
枝状の基、例えばメチル、エチル、プロピル、インプロ
ピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、インペンチル、
ネオペンチル、ヘキシル等が含まれ、そのうち炭素#1
ないし4のアルキルが好ましい。
The lower alkyl moiety in the above definition is a branched group, such as methyl, ethyl, propyl, inpropyl, butyl, isobutyl, pentyl, impentyl,
Contains neopentyl, hexyl, etc., of which carbon #1
to 4 alkyl is preferred.

適当な保護されたカルボキシとしては、ペニシリンま九
はセフ10スポリン化合物の3位ま九け4位で慣用され
るエステル化されたカルボキシが會まれる。
Suitable protected carboxylic acids include the commonly used esterified carboxylic acids at the 3rd and 4th positions of penicillin and cef10 compounds.

エステル化されたカルボキシにおける適当なエステル部
分としては、メチルエステル、エチルエステル、プロピ
ルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエステル、
イソブチルエステル、11g3級ブチルエステル、ペン
チルエステル、第3級ペンチルエステル、ヘキシルエス
テル等の低級アルキルエステル、ビニルエステル、アリ
ルエステル幡の低級アリールエステル、エチニルエステ
ル、プロピニルエステル等の低級アルキニルエステル、
メトキシメチルエステル、エトキシメチルエステル、イ
ンプロポキシメチルエステル、1−メトキシエチルエス
テル、1−エトキシエチルエステル等の低級アルコキシ
(低級)ナルキルエステル、メチルチオメチルエステル
、エチルチオメチルエステル、エチルチオエチルエステ
ル、イソプロピルチオメチルエステル等の低級アルキル
チオ(低級)アルキルエステル、2−ヨードエチルエス
テル、λ2,2−)!7クロロエチルエステル等のモノ
(もしくはジもしくはトリ)ハロ(低級)アルキルエス
テル、アセトキシメチルエステル、プロピオニルオキシ
メチルエステル、ブチリルオキシメチルエステル、イン
ブチリルオキシメチルエステル、バレリルオキシメチル
、エステル、ピバロイルオキシメチルエステル、ヘキサ
ノイルオキシメチルエステル、2−アセトキシエチルエ
ステル、2−プロピオニルオキシメチルエステル、l−
アセトキシエチルエステル等の低級アルカノイルオキシ
(低級)アルキルエステル、メシルメチルエステル、2
−メシルエチルエステル悸の低級アルカン−スルホニル
(ail )アルキルエステル、ベンジルエステル、4
−メトキシベンジルエステル、4−ニトロベンジルエス
テル、フェネチルエステル、トリチルエステル、ベンズ
ヒドリルエステル、ビス(メトキシフェニル)メチルエ
ステル、3,4−ジメトキシベンジルエステル、4−ヒ
ドロキシ−3,s−ジ1131ブチルベンジルエステル
等の1個また#′i2個以上の適当な置換基を有してい
てもよいモノ(もしくはジーもしくはトリ)フェニル(
低II)アルキルエステルのよりなlaまた#′i2個
以上の置換基を有していてもよいアル(低級)アルキル
エステル、フェニルエステル、トリルエステル、第3級
ブチルフェニルエステル、キシリルエステル、メシチル
エステル、クメニルエステル、ブリチルエステル等の1
個または2個以上の適当な置換基を有していてもよいア
リールエステル、フタリジルエステル等の複素環式エス
テル、カルボキシメチルエステル、lもしくFi2−カ
ルボキシエチルエステル、lもしくは2もしくti3−
カルボキシブチルエステル等のカルボキシ(低級)アル
キルエステル、メトキシカルボニルメチルエステル、エ
トキシカルボニルメチルエステル、第3級プトキシカル
ボニルンチルエステル、lもL<1lt2−ブトキシカ
ルボニルエチルエステル、1もしくFi2もしく1li
3−113級ブトキシカルボニルプロビルエステル等の
低級アルコキシカルボニル(低級)アルキルエステルの
ような保護されたカルボキシ(低級)アルキルエステル
等が含まれる。
Suitable ester moieties in esterified carboxy include methyl ester, ethyl ester, propyl ester, isopropyl ester, butyl ester,
Lower alkyl esters such as isobutyl ester, 11g tertiary butyl ester, pentyl ester, tertiary pentyl ester, hexyl ester, lower alkynyl esters such as vinyl ester, lower aryl ester of allyl ester, ethynyl ester, propynyl ester,
Lower alkoxy (lower) nalkyl esters such as methoxymethyl ester, ethoxymethyl ester, impropoxymethyl ester, 1-methoxyethyl ester, 1-ethoxyethyl ester, methylthiomethyl ester, ethylthiomethyl ester, ethylthioethyl ester, isopropylthio Lower alkylthio (lower) alkyl esters such as methyl esters, 2-iodoethyl esters, λ2,2-)! Mono (or di or tri) halo (lower) alkyl esters such as 7-chloroethyl ester, acetoxymethyl ester, propionyloxymethyl ester, butyryloxymethyl ester, imbutyryloxymethyl ester, valeryloxymethyl, ester, pi Baloyloxymethyl ester, hexanoyloxymethyl ester, 2-acetoxyethyl ester, 2-propionyloxymethyl ester, l-
Lower alkanoyloxy (lower) alkyl ester such as acetoxyethyl ester, mesyl methyl ester, 2
-Lower alkane-sulfonyl (ail) alkyl ester of mesylethyl ester, benzyl ester, 4
-Methoxybenzyl ester, 4-nitrobenzyl ester, phenethyl ester, trityl ester, benzhydryl ester, bis(methoxyphenyl)methyl ester, 3,4-dimethoxybenzyl ester, 4-hydroxy-3,s-di1131butylbenzyl ester mono(or di- or trip)phenyl(
Lower II) Al (lower) alkyl esters optionally having two or more substituents, phenyl esters, tolyl esters, tertiary butyl phenyl esters, xylyl esters, mesityls of alkyl esters 1 such as ester, cumenyl ester, butyl ester, etc.
Aryl esters, heterocyclic esters such as phthalidyl esters, carboxymethyl esters, l or Fi2-carboxyethyl esters, l or 2 or ti3-carboxyethyl esters, which may have one or more suitable substituents.
Carboxy (lower) alkyl ester such as carboxybutyl ester, methoxycarbonyl methyl ester, ethoxy carbonyl methyl ester, tertiary ptoxycarbonyl methyl ester, l also L<1lt 2-butoxycarbonyl ethyl ester, 1 or Fi2 or 1li
Included are protected carboxy (lower) alkyl esters such as lower alkoxycarbonyl (lower) alkyl esters such as 3-113-butoxycarbonyl probyl ester.

適当な保護・されたアミノとしては、ペニシリンおよび
セファロスポリン化合物で用いられる慣用アミノ保護基
、例えば後述のアシル、例えばベンジル、ベンズヒドリ
ル、トリチル等のモノ(もしくはジもしくけトリ)フェ
ニル(低級)アルキルのようなアル(低級)アルキル、
1−メトキシカルボニル−1−7’ロペンー2−イル等
の低級アルコキシカルボニル(低級)アルキリデンもし
くけそのエナミン互変異性体、ジメチルアミノメチレン
等のジ(低級)アルキルアミノメチレン等で置換され九
アミノ基が含まれる。
Suitable protected aminos include the customary amino protecting groups used in penicillin and cephalosporin compounds, such as the acyls described below, such as mono(or di-tri)phenyl(lower) alkyls such as benzyl, benzhydryl, trityl, etc. Al (lower) alkyl, such as
Lower alkoxycarbonyl (lower) alkylidene such as 1-methoxycarbonyl-1-7'lopen-2-yl, its enamine tautomer, di(lower) alkylamino methylene such as dimethylamino methylene, etc. substituted with 9 amino groups is included.

適当なアシルとしては、脂肪族アシル、芳香族アシル、
複素環式アシル、および芳香族基または複素環式基で置
換された脂肪族アシルが含まれる。
Suitable acyls include aliphatic acyl, aromatic acyl,
Included are heterocyclic acyls and aliphatic acyls substituted with aromatic or heterocyclic groups.

脂肪族アシルとしては、飽和もしくは不飽和、非環式も
しくは環式のものが含まれ、例えばホルミル、アセチル
、プロピオニル、ブチリル、インブチリル、バレリル、
インバレリル、ピノ(ロイル、ヘキサノイル等の低級ア
ルカノイル、メシル、エタンスルホニル、プロパンスル
ホニル等の低級アルカンスルホニル、メトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブト
キシカルボニル、第4級ブトキシカルボニル等の低級ア
ルコキシカルボニル、アクリロイル、メタクリロイル、
クロトノイル等の低級アルケノイル、シクロヘキサンカ
ルボニル等のC5−C,シクロアルカンカルボニル、ア
ミジノ等が含まれる。
Aliphatic acyl includes saturated or unsaturated, acyclic or cyclic, such as formyl, acetyl, propionyl, butyryl, imbutyryl, valeryl,
Lower alkanoyl such as invaleryl, pino(loyl, hexanoyl, etc.), lower alkanesulfonyl such as mesyl, ethanesulfonyl, propanesulfonyl, lower alkoxycarbonyl such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, butoxycarbonyl, quaternary butoxycarbonyl, acryloyl, methacryloyl,
These include lower alkenoyl such as crotonoyl, C5-C such as cyclohexanecarbonyl, cycloalkanecarbonyl, amidino, and the like.

芳香族アシルとしては、例えばベンゾイル、トルオイル
、キシロイル7タロイル等のアロイル、ベンゼンスルホ
ニル、トシル等のアレーンスルホニル、フェニルカルバ
モイル、トリルカルノ(モイル、ナフチルカルバモイル
等のア゛リールカルノ(モイ′ル等が一&まれる。
Examples of the aromatic acyl include aroyl such as benzoyl, toluoyl, and xyloyl-7taroyl, arenesulfonyl such as benzenesulfonyl and tosyl, phenylcarbamoyl, tolylcarno(moyl), and arylcarno(moyl) such as naphthylcarbamoyl. It will be done.

複素環式アシルとしては、例えばフロイル、テノイル、
ニコチノイル、イソニコチノイル、チアゾリルカルボニ
ル、チアジアゾリルカルボニル、テトラゾリル力をボニ
ル等の複素環カルボニル等が含まれる。
Examples of the heterocyclic acyl include furoyl, thenoyl,
Included are heterocyclic carbonyls such as nicotinoyl, isonicotinoyl, thiazolylcarbonyl, thiadiazolylcarbonyl, and tetrazolylcarbonyl.

芳香族基で置換された脂肪族アシルとしては、フェニル
アセチル、フェニルプロピオニル、7エ二ルヘキサノイ
ル等のフェニル(低級)アルカノイルのようなアル(低
級)アルカノイル、ベンジルオキシカルボニル、7エネ
チルオキシカルポニル等のフェニル(低級)アルコキシ
カルボニルのようなアル(低級)アルコキシカルボニル
、フェノキシアセチル、フェノキシプロピオニル等のフ
ェノキシ(低級)アルカノイル吟が含まれる。
The aliphatic acyl substituted with an aromatic group includes alkanoyl (lower) alkanoyl such as phenyl (lower) alkanoyl such as phenylacetyl, phenylpropionyl, 7-enylhexanoyl, benzyloxycarbonyl, 7-enethyloxycarbonyl, etc. Included are alkoxycarbonyls such as phenyl(lower)alkoxycarbonyl, and phenoxy(lower)alkanoyls such as phenoxyacetyl and phenoxypropionyl.

複素環式基で置換された脂肪族アシルとしては、チェニ
ルアセチル、イミダゾリルアセチル、7リルアセチル、
テトラゾリルアセチル、チアゾリルアセチル、チアジア
ゾリルアセチル、チェニルプロピオニル、チアジアゾリ
ルプロピオニル等が含まれる。
Aliphatic acyl substituted with a heterocyclic group includes chenyl acetyl, imidazolylacetyl, 7lylacetyl,
Includes tetrazolylacetyl, thiazolyl acetyl, thiadiazolyl acetyl, thenylpropionyl, thiadiazolylpropionyl, and the like.

これらのアシル基は、さらに1個または2個以上の適当
な基で置換されていてもよい。適当な置換基としては、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペ
ンチル、ヘキシル等の低級アルキル、塩素、臭素、よう
素、ふつ素等のノ・ロゲン、メトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ、インプロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、
ヘキシルオキシ等の低級アルコキシ、メチルチオ、エチ
ルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、グチルチオ
、ペンチルチす、ヘキシルチオ等の低級アルキルチオ、
ニトロ等が含まれ、このような置換基を有する過当なア
シルとしては、クロロアセチル、ブロモアセチル、ジク
ロロアセチル、トリフルオロアセチル◆のモノ(もしく
はジ本しくはトリ)ハロ(低級)アルカノイル、クロロ
メトキシカルボニル、ジクロロメトキシカルボニル、2
,2.2−トリクロロエトキシカルボニル等のモノ(も
しくはジもしくはトリ)ハロ(低級)アルコキシカルボ
ニル、ニトロベンジルオキシカルボニル、クロロベンジ
ルオキシカルボニル、メトキシベンジルオキシカルレボ
ニル勢のニトロ(もしくはハロモジくは低級アルコキシ
)フェニル(低級)アルコキシカルボニル等が含まれる
These acyl groups may be further substituted with one or more suitable groups. Suitable substituents include:
Lower alkyl such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, pentyl, hexyl, chlorine, bromine, iodine, fluorine, etc., methoxy, ethoxy, propoxy, impropoxy, butoxy, pentyloxy,
Lower alkoxy such as hexyloxy, lower alkylthio such as methylthio, ethylthio, propylthio, isopropylthio, gutylthio, pentylthio, hexylthio,
Nitro, etc. are included, and examples of permissible acyl having such substituents include chloroacetyl, bromoacetyl, dichloroacetyl, trifluoroacetyl◆, mono (or di or tri) halo (lower) alkanoyl, chloromethoxy carbonyl, dichloromethoxycarbonyl, 2
, 2.2-Trichloroethoxycarbonyl, mono(or di- or tri)halo(lower)alkoxycarbonyl, nitrobenzyloxycarbonyl, chlorobenzyloxycarbonyl, nitro(or halomodyl or lower alkoxy) such as methoxybenzyloxycarbonyl Includes phenyl (lower) alkoxycarbonyl, etc.

適当なハロゲンとしては、クロロ、ブロモ、ヨード等が
含まれる。
Suitable halogens include chloro, bromo, iodo, and the like.

適当な置換もしくは非置換アリールとしては、フェニル
、トリル、キシリル、ナフチルヒドロキシフェニル、ジ
ヒドロキシフェニル等が含まれる。
Suitable substituted or unsubstituted aryls include phenyl, tolyl, xylyl, naphthylhydroxyphenyl, dihydroxyphenyl, and the like.

適当な保護されたオキソとしては、ジメトキシ、ジェト
キシ、ジプロポキシ等のジ(低級)アルコキシ、エチレ
ンジオキシ、トリメチレンジオキシ、プロピレンジオキ
シ、テトラメチレンジオキシ、ヘキナメチレンジオキシ
吟の低級アルキレンジオキシのようなビス(置換オキシ
)が含まれる。
Suitable protected oxos include di(lower)alkoxy such as dimethoxy, jetoxy, dipropoxy, lower alkylenedioxy such as ethylenedioxy, trimethylenedioxy, propylenedioxy, tetramethylenedioxy, hequinamethylenedioxy, etc. Includes bis(substituted oxy) such as.

適当なアリールとしては、フェニル勢があけられる。Suitable aryls include phenyl groups.

適当な低級アルコキシカルボニル部分としては、メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボ
ニル、ブチルオキシカルボニル、ペンチルオキシカルボ
ニル等が含まれる。
Suitable lower alkoxycarbonyl moieties include methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, butyloxycarbonyl, pentyloxycarbonyl, and the like.

さらに、上記の定義におけるよシ好ましい例をあげると
次のとおりである。
Furthermore, some preferred examples of the above definition are as follows.

BlおよびRヨにおける[)・ログンで置換されていて
もよいアミノチアゾリル」としては、例えば2−1ミノ
チアゾール−4−イル、2−アミノ−5−クロロチアゾ
ール−4−イル吟があげられる。
Examples of "aminothiazolyl optionally substituted with [).logn" in Bl and R' include 2-1 minothiazol-4-yl and 2-amino-5-chlorothiazol-4-yl.

R1および呪における「ノ・ロゲンで置換されていて゛
もよい保護されたアミノチアゾリル」としては、例えば
2−アシルアミノチアゾール−4−イル(さらに好まし
くは、2−低級アルカンアミドチアゾール−4−イル、
もつとも好ましいのは2−ホルムアミVチアゾールー4
−イル)、2−アシルアミノ−5−710チアゾール−
4−イル(さらに1117ましくFi2−低級アルカン
アミド−5−)10チアゾール−4−イル、もつとも好
ましいのは2−ホルムアミド−5−クロロチアゾール−
4−イル)があげられる。
Examples of the "protected aminothiazolyl optionally substituted with nitrogen" in R1 and Curse include 2-acylaminothiazol-4-yl (more preferably 2-lower alkanamidothiazol-4-yl,
Most preferred is 2-formamide Vthiazole-4
-yl), 2-acylamino-5-710thiazole-
4-yl (more preferably Fi2-lower alkanamido-5-)10thiazol-4-yl, most preferably 2-formamido-5-chlorothiazol-
4-il).

R3およびR”Kおける「カルボキシ(低級)アルキシ
」としては、例えばカルボキシメチル、カルボキシエチ
ル、カルボキシプロピル、1−メチル−1−カルボキシ
エチル、カルボキシヘキシル等があげられ、もっとも好
iしいのはカルボキシメチルおよびt=≠≠友三l−カ
ルボキシエチルである。
Examples of "carboxy (lower) alkoxy" in R3 and R"K include carboxymethyl, carboxyethyl, carboxypropyl, 1-methyl-1-carboxyethyl, carboxyhexyl, etc., and carboxymethyl is most preferred. and t=≠≠Yuzou l-carboxyethyl.

′R1およびR:における「保護されたカルボキシ(低
級)アルキル」としては、例えばエステル化され九カル
ボキシ(低級)アルキル、さらに好まL<Fil−18
3級ブトキシカルボニルエチル勢の低級アルコキシカル
ボニル(低級)アルキル、ベンジルオキシカルボニルメ
チル、ベンズヒドリルオキシカルボニルメチル等のモノ
もしくはジもしくa)’Jフェニル<低e>アルコキシ
カルボニル(低級)アルキル、クロロメトキシカルボニ
ルメチル、2−ヨードエトキシカルボニルメチル、2゜
λ2−トリクロロエトキシカルボニルメチル等のモノも
しくはジもしくはトリクロロ(低級)アルコキシカルボ
ニル(低級)アルキルがあげられる。
'Protected carboxy(lower)alkyl' in R1 and R: is, for example, esterified 9-carboxy(lower)alkyl, more preferably L<Fil-18
Lower alkoxycarbonyl (lower) alkyl of the tertiary butoxycarbonylethyl group, benzyloxycarbonylmethyl, benzhydryloxycarbonylmethyl, etc., mono- or di- or a)'J phenyl <low e> alkoxycarbonyl (lower) alkyl, chloro Examples include mono-, di-, or trichloro(lower)alkoxycarbonyl(lower)alkyl such as methoxycarbonylmethyl, 2-iodoethoxycarbonylmethyl, and 2°λ2-trichloroethoxycarbonylmethyl.

RaおよびR1における[保護され九カルボキシ」とし
ては、例えばエステル化され九カルボキシがあげられ、
さらに好ましくはベンジルオキシカルボニル、ベンズヒ
ドリルオキシカルボニル、トリチルオキシカルボニル、
P−ニトロベンジルオキシカルボニル等のモノもしくは
ジ本しくはトリフェニル(低級)アルコキシカルボニル
、カルボキシメトキシカルボニル、カルボキシメトキシ
カルボニル、カルボキシプロ盃キシカルボニル等のカル
ボキシ(低級)アルコキシカルボニル、93級ブトキシ
カルボニルメトキシカルボニル、メトキシカルボニルエ
トキシカルボニル、エトキシカルボニルメトキシカルボ
ニル、メトキシカルボニルエトキシカルボニル、l−も
しく#′12−第3級ブトキシカルボニルエトキシカル
ボニル等の低級アルコキシカルボニル(低級)アルコキ
シカルボニルのようなエステル化されたカルボキシ(低
級)アルコキシカルボニルがあけられ石。
[Protected 9-carboxy] in Ra and R1 includes, for example, esterified 9-carboxy,
More preferably benzyloxycarbonyl, benzhydryloxycarbonyl, trityloxycarbonyl,
Mono- or di- or triphenyl (lower) alkoxycarbonyl such as P-nitrobenzyloxycarbonyl, carboxy (lower) alkoxycarbonyl such as carboxymethoxycarbonyl, carboxymethoxycarbonyl, carboxypropykoxycarbonyl, 93-butoxycarbonylmethoxycarbonyl , methoxycarbonylethoxycarbonyl, ethoxycarbonylmethoxycarbonyl, methoxycarbonylethoxycarbonyl, lower alkoxycarbonyl (lower) alkoxycarbonyl such as l- or #'12-tertiary butoxycarbonylethoxycarbonyl, etc. (lower) alkoxycarbonyl stone.

R8におりる [保護されたカルボキシ(低級)アルコ
キシカルボニル」としてハ、例えばR3およびR:の説
明で具体的にあげたエステル化されたカルボキシ(低級
)〜アルコキシカルボニルの例示がそのままあげられる
Examples of the [protected carboxy (lower) alkoxy carbonyl] in R8 include, for example, the esterified carboxy (lower) to alkoxy carbonyl specifically mentioned in the explanation of R3 and R:.

p3y>y石「カルボキシ(低級)アルコキシカルボニ
ル」として社、例えばR1$PよびR3の説明で具体的
に列挙したものがそのままあげられる。
As the p3y>y stone "carboxy (lower) alkoxycarbonyl", for example, those specifically listed in the explanation of R1$P and R3 can be mentioned as they are.

’14における「保護されたアミノ」としては、例えば
アシルアミノが挙げられ、さらに好ましくけ低級アルカ
ンアミドがあげられる。
Examples of the "protected amino" in '14 include acylamino, and more preferably lower alkanamides.

R1における「保護されたアミノ」としては、例えばア
シルアミノがあげられ、さらに好ましくはメトキシカル
ボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ等の低級アル
コキシカルボニルアミノ、7エ ニルクシレイド フレイド、ツタルイミド等があげられる。
Examples of the "protected amino" in R1 include acylamino, and more preferably lower alkoxycarbonylamino such as methoxycarbonylamino and ethoxycarbonylamino, 7enyl uccireidofuryed, and tutarimide.

RbKおける[保護されたカルボキシ−1としては、例
えばエステル化されたカルボキシがあげられ、さらに好
ましくけベンジルオキシカルボニル、ベンズヒドリルオ
キシカルボニル等のモノもしくはジもしくはトリフェニ
ル(低級)アルコキシカルボニルがあげられる。
[Protected carboxy-1 in RbK includes, for example, esterified carboxy, and more preferably mono-, di-, or triphenyl (lower) alkoxycarbonyl such as benzyloxycarbonyl and benzhydryloxycarbonyl. .

HeおよびRfKお叶る[保護され九カルボキシ」とし
ては、例えばエステル化されたカルボキシがあげられ、
さらに好ましくはメトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、第3級ブトキシカルボニル等の低級アルコキシカ
ルボニルがあけられる。
Examples of He and RfK "protected carboxy" include esterified carboxy,
More preferred are lower alkoxycarbonyls such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, and tertiary butoxycarbonyl.

目的化合物中の製造における方法1ないし7を詳しく説
明すると次の過少である。
Methods 1 to 7 for producing the target compound will be explained in detail as follows.

(1)  方法1 化合物のまたはその塩類は、化合物(1)もしくはその
アミノ基における反応性誘導体またはその塩類に、化合
物1)もしくはそのカルボキシ基における反応性誘導体
またはその壜wiを反応させることによシ製造される。
(1) Method 1 A compound or a salt thereof is prepared by reacting compound (1) or a reactive derivative thereof at an amino group or a salt thereof with compound 1) or a reactive derivative thereof at a carboxy group or a bottle thereof. is manufactured.

原料化合物1)および1)の適当な塩類としては、化合
物中について述べたのと同種のものが含まれる。
Suitable salts of starting compounds 1) and 1) include those of the same type as mentioned in the compounds.

化合物(菖)のアミノ基における適当な反応性誘導体と
しては、慣用されるもの弓tまれ、例えばビス(トリメ
チVシリV)アセトアミド、トリメチルシリルアセトア
ミド等のVリル化合物との反応で得られるVリル誘導体
、イソVアネー)、インチオシアネート、アミノ基とア
竜、トアルデヒド、イソベントアルデヒド、ベンズア〃
デヒド、?リチルアVデヒド、フエニVアセトアルデヒ
ド、p−ニトロベンズアルデヒド、m−クロロベンズア
ルデヒド、p−クロロベンメアにデヒド、とドロmVナ
フトアνデヒド、フルフフーV、チオフェンカルボアル
デヒド等のアルデヒド化合物、アセトン、メチルエチに
ケトン、メチルイソブチにケトン、アセチルア七トン、
アセト酢酸エチJI/岬のケトン化合物等のカルボニル
化合物との反応で得られるシップ塩基またはその互変異
性体が含まれる。
Suitable reactive derivatives of the amino group of the compound (iris) include commonly used derivatives, such as V-lyl derivatives obtained by reaction with V-lyl compounds such as bis(trimethysilyl-V)acetamide and trimethylsilylacetamide; , isoVane), inthiocyanate, amino group and aryon, toaldehyde, isobentaldehyde, benzua
Dehyde? Aldehyde compounds such as lityla V dehyde, pheny V acetaldehyde, p-nitrobenzaldehyde, m-chlorobenzaldehyde, p-chlorobenmer dehyde, todromV naphthoa ν dehyde, furfufu V, thiophene carbaldehyde, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutylene Ketone, acetyl heptane,
Included are ship bases obtained by reaction with carbonyl compounds such as ethyl acetoacetate JI/Misaki ketone compounds or tautomers thereof.

化合物1)の力Vポキシ基における適当な反応性誘導体
として灯、酸ハライド、l!無水物、活性アミド、活性
エステル等が含まれ、そのうち好ましいものとしては、
酸クロライド、酸ブロマイド、f%燐酸C例えば971
Wキl”1411!、 y工=sy燐酸、ジフエニV燐
酸、ジベンジル燐酸、ハロゲン北隣i11り混合無水物
、シアA/キル亜燐酸混合無水物。
Suitable reactive derivatives in the force V poxy group of compound 1) include lamps, acid halides, l! Includes anhydrides, activated amides, active esters, etc., among which preferred are:
Acid chloride, acid bromide, f% phosphoric acid C e.g. 971
W Kir"1411!, y engineering=sy phosphoric acid, diphenylene V phosphoric acid, dibenzyl phosphoric acid, halogen north neighbor i11 mixed anhydride, shea A/kyl phosphorous acid mixed anhydride.

亜硫酸混合無水物、チオ@!酸混合無水物、RWII混
合無水物、アルキル吹酸(例えばメチル#I!酸、エチ
pvp酸、プロピル次階等)混合無水物、脂肪族カルボ
ン酸C例えばピバル酸、ペンタン酸、イソペンタン酸、
2−エチルブタン酸、トリクロス酢酸等)混合無水物、
芳香族カルボン酸(例えば安息香酸等)混合無水物等の
混合#無水物、対称型#無水物、イミダゾ−A/%4−
置換イミダゾール、ジメチにビフゾーA/、  )リア
シーV、テトラゾール等のイミノ基含有複素環化合物と
の活性アミド、p−ニトロフェニルエステA/、 2.
4−ジニトロフェニルエステル、トリクロロフェニVエ
ステル、ペンタクロロフェニVエステIv、メジVフェ
ニVエステル、フエ二VアゾフェニMエステル、フェニ
ルチオエステル、p−ニトロフェニルチオエステル、p
−クレVルチオエステル、カルボキシメチルチオエステ
ル、ピリジルエステル、ピペリジルエステル、8−キノ
リルチオエステν、腕−ヒドロキシ化合物C例えばMl
M−ジメチルヒドロキシルアミン、1−ヒドロキシ−2
(lH)−ピリドン、H−eドロキVサクシンイミド、
N−ヒドロキシフタシイミド、1−とドPキシベンゾシ
リアゾール、1−ヒドロキ¥−6−クロロペンゾトリア
ゾーV等)とのエステル等の活性エステル等が含まれる
。適当な反応性誘導体は、夾際に用いる化合物中、(■
)の種類に応じて適宜選択される。
Sulfite mixed anhydride, Thio@! Acid mixed anhydrides, RWII mixed anhydrides, alkylblown acids (e.g. methyl #I! acid, ethyl pvp acid, propyl sub-acid, etc.) mixed anhydrides, aliphatic carboxylic acids such as pivalic acid, pentanoic acid, isopentanoic acid,
2-ethylbutanoic acid, triclosacetic acid, etc.) mixed anhydrides,
Mixed #anhydrides such as aromatic carboxylic acids (e.g. benzoic acid) mixed anhydrides, symmetric #anhydrides, imidazo-A/%4-
Substituted imidazole, dimethyl bifuzo A/,) activated amide with an imino group-containing heterocyclic compound such as Reashi V, tetrazole, p-nitrophenyl ester A/, 2.
4-dinitrophenyl ester, trichloropheny V ester, pentachloropheny V ester Iv, medi V phenyl V ester, phenyl V azophenyl M ester, phenyl thio ester, p-nitrophenyl thio ester, p
-Cr-V ruthioester, carboxymethylthioester, pyridyl ester, piperidyl ester, 8-quinolylthioester ν, arm-hydroxy compound C e.g. Ml
M-dimethylhydroxylamine, 1-hydroxy-2
(lH)-pyridone, H-e doloki V succinimide,
Active esters such as N-hydroxyphtashiimide, esters of 1- and do-P-xybenzocyriazole, 1-hydroxy-6-chloropenzotriazo V, etc.) are included. Suitable reactive derivatives include (■
) is selected as appropriate depending on the type.

この反応は、好1しくにリチウム、ナトリウム、カリウ
ム等のアルカリ金属、力S/νつ五等のアルカリ土類金
属、水素化ナトリウム等の水素化アルカリ金属、水素化
カルシウム等の水素化アルカリ土類金属、水酸化す) 
IJウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸アkt111金属
、羨酸水素ナトリウム、次階水素カリウム等の炭酸水素
アルカリ金属、ナトリウムメトキサイド、ナ)リウムエ
トキサイド、カリウム第3級ブトキサイド等のアV力啼
金属アルコキサイド、酢酸ナトリウム等のアシカン酸ア
〃カリ金属、トリエチルアミン等のトリアルキルアミン
、ピリジン、ルチジン、ピコリン等のピリジン化合物、
キノリン等のような有機種たけ無機塩基の存在下に行な
われる。
This reaction is preferably carried out using alkali metals such as lithium, sodium, and potassium, alkaline earth metals such as S/v, alkali metal hydrides such as sodium hydride, and alkaline earth metals such as calcium hydride. metals, hydroxide)
Alkali metal hydroxides such as IJium and potassium hydroxide, alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, alkali metal bicarbonates such as sodium hydrogen envyate and potassium hydrogen hydrogen, sodium methoxide, sodium ethoxide , potassium tertiary butoxide and other alkali metal alkoxides, sodium acetate and other alkali metals, triethylamine and other trialkylamines, pyridine, lutidine, picoline and other pyridine compounds;
It is carried out in the presence of an organic species such as quinoline and an inorganic base.

この反応において、化合物1)を遊離酸またはその塩の
状態で使用する際は1例えばN、N−ジシクロヘキシV
カルボジイミド、菖−シクロヘキシル−1i−(4−ジ
エ千Vアミノシクロヘキシル)カルボジイミド、、m、
i−ジエチルカルボジイミド、N、II−ジイソプロピ
ルカルボジイミド、N−エチル−N−(3−ジメチルア
ミノプロピル)カルボジイミド等のカルボジイミド化合
物、腫。
In this reaction, when compound 1) is used in the form of a free acid or a salt thereof, 1, for example, N,N-dicyclohexyl V
Carbodiimide, irises-cyclohexyl-1i-(4-diethylV-aminocyclohexyl)carbodiimide, m,
Carbodiimide compounds such as i-diethylcarbodiimide, N,II-diisopropylcarbodiimide, N-ethyl-N-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide, etc.

N−カルボニルビス(2−メチルイミダゾ−v)。N-carbonylbis(2-methylimidazo-v).

ペンタメチレンケテン−N−シクロヘキシルイミン鴫ジ
フエニVケデンーN−シクロヘキシVイミン等のケテン
イミン化合物、エト*s’アセチレン。
Ketenimine compounds such as pentamethylene ketene-N-cyclohexylimine, diphenylene V-kedene-N-cyclohexy imine, etho*s' acetylene.

β−クロロビニルエチルエーテル等のオレフィンもしく
ケアセチレンエーテル化合物、1−(4−クロロベンゼ
ンスルホ二Vオキシ1−6−クロロ−111−ベンゾト
リアシーV等のN−ヒドロ1It−ジベンゾトリアシ−
1’化合物スルホン酸エステル、トリアルキルホスファ
イトもしくはトリフェニルホスフィンと4塩化度素、ジ
スl@/フィトもしくはジアゼンジヵVポキシレート(
例えばジアゼンジカVボン酸ジエチルエステル)との組
合せ、ポリ燐酸エチv1ポリ燐酸イソプロピV、塩化ホ
スホIJw、5樵化燐等の燐化合物、塩化チオニル、塩
化オキサリV%践−エチルベンズイソキサゾリウム壜、
N−エチル−5−フエ二Mイソオキサゾリワムー5−ス
にホンー−ジメチVホルムアミド等の夏、H−ジ(低I
&)アルキルホルムアミド、H−メチリホルムアミド等
のアミド化合物と塩化チオニル、塩化ホスホリル、ホス
ゲン等のハロゲン化合物との反応で得られるいわゆるビ
ルスマイヤー試薬等の縮合剤の存在下に行なうのが好ま
しい。
Olefin or care acetylene ether compounds such as β-chlorovinylethyl ether;
1' Compound sulfonic acid ester, trialkyl phosphite or triphenylphosphine and tetrachloride, disl@/phyto or diazendica V poxylate (
For example, combinations with diazendica V (bonic acid diethyl ester), polyphosphoric acid ethyl V1 polyphosphoric acid isopropylene V, phosphorus compounds such as phosphorus chloride IJw, phosphorus pentachloride, thionyl chloride, oxali chloride V%-ethylbenzisoxazolium bottle. ,
Summer, H-di(low I
&) It is preferable to carry out the reaction in the presence of a condensing agent such as the so-called Vilsmeier reagent obtained by the reaction of an amide compound such as alkylformamide or H-methylformamide with a halogen compound such as thionyl chloride, phosphoryl chloride or phosgene.

この反応は、通常水、アセトン、yt*サン、アセトニ
トリル、クロロホVム、ベンゼン、塩化メチレン、エチ
レンクロフィト、デトフヒドロフ?/、#酸−f4ル、
N、Il−ジメチにホルムアミド、ピリジン、ヘキサメ
チVホスホルアミド等のこの反F;rcg影響を及ぼさ
ない慣用f#縄またはこれらの混合物中で行なわれる。
This reaction usually involves water, acetone, yt*sane, acetonitrile, chloroform, benzene, methylene chloride, ethylene chlorophyte, detofhydrof? /, #acid-f4,
This is carried out in conventional F# ropes that do not affect N,Il-dimethylene such as formamide, pyridine, hexamethylene V phosphoramide, etc. or mixtures thereof.

これらの屏暉中、親水性溶媒は水と混合して用いること
ができる。
During these washings, the hydrophilic solvent can be used in combination with water.

反応温度は特に限定されないが、通常冷却下ないし加温
下に反応が行なわれる。
Although the reaction temperature is not particularly limited, the reaction is usually carried out under cooling or heating.

この反応において、前述のビルスマイヤー試薬の存在下
に行なう場合、原料化合物のR1におけるアミノ基が反
応中にN、H−ジ(低級)アルキにアミノメチレン)ア
ミノbhVc、wっだ化合物が得られることがめるが、
この場合吃この児#4に含まれるものとする。
In this reaction, when carried out in the presence of the above-mentioned Vilsmeier reagent, a compound in which the amino group in R1 of the starting compound is converted to N,H-di(lower)alkyl to aminomethylene)aminobhVc,w is obtained during the reaction. Kotomeru, but
In this case, this child is included in child #4 who stutters.

(27方法2 化合物(J−b)またはその塩類は、化合物(1−a)
またはその塩IIIAを−におけるアミノ保護基の脱離
反応に付すことにより製造される。
(27 Method 2 Compound (J-b) or its salt is compound (1-a)
Alternatively, it can be produced by subjecting its salt IIIA to an elimination reaction of the amino protecting group at -.

この脱#1f応Kに、加水分解、還元、lたはイミノハ
ロゲン化とイミノエーテV化および必要に応じて加水分
解とを結合してなる結合方証等の慣用される方法で行な
われる。
This removal of #1f is carried out by conventional methods such as hydrolysis, reduction, or combination of iminohalogenation and iminoate V-formation and, if necessary, hydrolysis.

(1)  加水分解 加水分解は、酸もしくは塩基の存在下に行なわれる。(1) Hydrolysis Hydrolysis is carried out in the presence of an acid or a base.

適当な酸としては、へ峻、臭化水素酸、硫酸等の無機鹸
、ぎ綾、#臥トリフシオロ酔峻、プロビオンー−メタン
スシホン…−ベンゼンスVホンw、P−)ルエンスVホ
ン酸等の有aii*。
Suitable acids include inorganic soaps such as hydrobromic acid, sulfuric acid, etc.; *.

綾性イオン交換樹脂等が用いられる。この反応において
、トリフVオロ酢酸%p−)Bエンスルホン酸等の有機
w全相いめ場合、アニソ−に等のカチオン捕捉剤の存在
下に反応を行なうことが望ましい。
A cylindrical ion exchange resin or the like is used. In this reaction, when an organic phase such as trifluoroacetic acid (%p-)Benesulfonic acid is used, it is desirable to carry out the reaction in the presence of a cation scavenger such as aniso-.

適当な塩基としては、方法1で述べた塩基の具体例をそ
の11あげることができる。
As suitable bases, 11 specific examples of the bases mentioned in Method 1 can be cited.

この加水分解に適当な酸および4mは、除去される保護
基の槁類に応じて選択され、例えば置換または非置換ア
シフキ5y−bj&/ボール、置換または非置換低級ア
Vカッイル等の−におけるアミノ保護基に対して加水分
解を適用するのが好ましい。
The acid and 4m suitable for this hydrolysis are selected depending on the type of protecting group to be removed, e.g. Preference is given to applying hydrolysis to the protecting groups.

加水分解は、通常水、メタノール、エタノール、プロパ
ノ−J/、第3級ブチにアVコーjs/、テトラヒドロ
フフン、w、m−NメチシホVムアミド、ジオキサン等
のこの反応に悪影響會及ぼさない慣用溶媒またはこれら
の混合物中で行なわれ、上紀峻が液体の場合に浴V&會
兼ねることができる。
Hydrolysis is usually carried out using conventional solvents that do not adversely affect this reaction, such as water, methanol, ethanol, propano-J/, tertiary butyl alcohol, tetrahydrofuran, w, m-N methoxyformamide, dioxane, etc. It is carried out in a solvent or a mixture thereof, and can also serve as a bath when the upper limit is liquid.

加水分解の反応温度は特に限定されないが、通常冷却下
ないし若干加温して反応が行なわれ(鍼)  還元 還元は化学還元またに接触還元等の慣用方法により行な
われる。
The reaction temperature for hydrolysis is not particularly limited, but the reaction is usually carried out under cooling or with slight heating (acupuncture).ReductionReduction is carried out by conventional methods such as chemical reduction or catalytic reduction.

化学還元で用いる適当な還元剤としては、錫、画船、鉄
等の命属もしくに塩化クロム、#酸りロ五等の金属化合
物とぎ酸、酢酸、プロピオン酸、トリフVオロ#酸、p
−トルエンスV本ン峡、−蒙、臭化水嵩鹸等の**もし
くは黒機酸との組合せか用いられる。
Suitable reducing agents used in the chemical reduction include metal compounds such as tin, iron, iron, chromium chloride, #acid, formic acid, acetic acid, propionic acid, trifluoroacid, etc. p
- Toluene Vhonkyo, - Meng, bromide solution ** or a combination with black acid is used.

接触還元で用いる適当な触媒としては、白金板、スポン
ジ白金、白金黒、コロイド白金、鹸化白金、白金線等の
白金触媒、スポンジパフジウムーバラVウム黒、鹸化パ
ッジラム、パラジウム脚素、コロイドパフVウム、バッ
ジラム硫酸バリウム、パラジウム鍛錬バリウム等のバラ
99ム触縄、還元ニフケシ、m化ニフケV、ラネーニッ
ケに等の=フケV触謀、I!1元コバルト、ラネーコバ
にト等のコバvト触媒、還元鉄、フネー鉄等の鉄触媒、
111元鋼、ラネー銅、つ縮マン銅等の銅触媒等の慣用
触媒が含まれる。
Suitable catalysts used in the catalytic reduction include platinum catalysts such as platinum plate, sponge platinum, platinum black, colloidal platinum, saponified platinum, platinum wire, sponge puffium black, saponified padjilum, palladium footmine, colloidal puff V um, badge rum barium sulfate, palladium wrought barium, etc. Bara 99m touch rope, reduced nifkeshi, mized nifke V, lane nicke, etc.=fuke V touch, I! Cobalt catalysts such as primary cobalt and Raneycoba, iron catalysts such as reduced iron and Fune iron,
Conventional catalysts include copper catalysts such as 111 steel, Raney copper, crimped Mann copper, and the like.

越尤方澄は保tIIJliの植舶に応じて適宜選択さし
、例えばハロ(低@)アVコキV力にポニV等のRヨに
藝杖るアミノ保護基に対しては化学還元1に通用するの
が好ましく、置換またに非置換アIW(低級)アVコキ
シカルボニv等に対し。
The selection of the method is appropriate depending on the type of plant to be used. For example, chemical reduction 1 is used for the amino protecting group used in Ryo such as halo (low @) It is preferable that it is applicable to substituted or unsubstituted A, IW (lower), V, koxycarbon, and the like.

ては接触還元1ki@用するのが好鷹しい。It is best to use catalytic reduction 1ki@.

還元社、水、メタノール、エタノ−V、プロパノ−V%
11.M−ジメチルホVムアミト等のこの反応に息影w
t及ぼさない慣用#縄、またはこれらの混合物中で行な
われる。また、上記化学還元に用いる酸が液体の場合は
溶媒を兼ねることかで龜る。さらに、接触還元に用いる
溶媒としては、上記のもの以外にジエチVエーテV、ジ
オキサン、テトラヒドロフフン等またはこれらの混合物
のような慣用f#謀が用いられる。
Kangensha, water, methanol, ethanol-V, propano-V%
11. This reaction of M-dimethylformamide etc.
It is carried out in conventional # ropes, or mixtures thereof. Furthermore, if the acid used in the chemical reduction is a liquid, it may also serve as a solvent. Further, as the solvent used for the catalytic reduction, in addition to the above-mentioned solvents, conventional solvents such as diethyl V-ether, dioxane, tetrahydrofuran, etc., or mixtures thereof may be used.

還元の反応温度は特に限定されないが、il!I常冷却
ないし加温下に反応が行なわれる。
The reaction temperature for reduction is not particularly limited, but il! I The reaction is carried out under normal cooling or heating.

[相] イミノハロゲン化(第1工程)、イミノエーテ
V化C第2工@1および必要に応じて行なう加水分解(
漱終工程)の結合方法 この方法のWJlおよび第2工程は、無水屡縄中で行な
う仁とがmlL、い。第1工程(イミノハロゲン化)に
おける適当な溶媒としては、メチレンクロライド、クロ
ロホにム、ジェチVエーテjL/%テトフヒドロフフン
、ジオキサン等の非プロトン81[が含まれ、@2工程
(イミノエーテル化)は通常第1工程と向じ爵縄中で行
なわれる。これら2つの工程は通常冷却下または室温で
行なわれる。これら2つの工程と最終工程(加水分解)
は、1バフチで行なうことが望ましい。
[Phases] Iminohalogenation (first step), iminoate V conversion second step @1, and hydrolysis as necessary (
The binding method of the final step) The WJl and second steps of this method are carried out in anhydrous water. Suitable solvents in the first step (iminohalogenation) include methylene chloride, chloroform, aprotons such as dioxane, dioxane, etc.; ) is usually carried out during the first step. These two steps are usually carried out under cooling or at room temperature. These two steps and the final step (hydrolysis)
It is desirable to perform this in one batch.

適当なイミノハロゲン化剤としては、3塩化隣、5樵化
燐、6臭化燐、5臭化燐、オキシ壜化鱒等の燐ハロゲン
化合物、塩化チオニル、ホスゲン等が含まれる。
Suitable iminohalogenating agents include phosphorus halogen compounds such as phosphorus trichloride, phosphorus pentachloride, phosphorus hexabromide, phosphorus pentabromide, phosphorus oxychloride, thionyl chloride, phosgene, and the like.

適当なイミノエーテル化剤としては、メタノール、エタ
ノーシ、プロパノーV、イソプロパノ−V、ブタノ−V
等のアルカノ−Vまたti2−メトキノエタノ−pv、
 2−エトキVエタノール等のアVコキシ′に1′する
対応するアVカッ−に、およびナトリウムメトキサイド
、カリウムニドキサイド、マグネシウムエトキサイド−
リチウムメトキサイド等のアルカリ土類もしくはアルカ
リ土類金属のような金属のアνコキサイドが含まれる。
Suitable iminoetherification agents include methanol, ethanol, propano-V, isopropano-V, butano-V.
alkano-V or ti2-methokinoethano-pv, such as
2-EthoxyV ethanol, etc. to the corresponding AV koxy'1', and sodium methoxide, potassium nidoxide, magnesium ethoxide.
Included are alkoxides of metals such as alkaline earth or alkaline earth metals such as lithium methoxide.

得られた化合物社、必要に応じて常法により加水分解す
る。加水分解は、好ましくは室温または冷却下に行なわ
れ、反応混合物を単に水または吸湿させたメタノ−V、
エタノ−V等の親水!に中に注入し、必要に応じて酸ま
友に塩基を添加するだけで進行する。
The obtained compound is hydrolyzed by a conventional method if necessary. The hydrolysis is preferably carried out at room temperature or under cooling, the reaction mixture being simply water or hydrated methano-V,
Hydrophilicity such as Etano-V! Simply inject into the solution and add a base to the acid mixture as necessary.

適当な酸としては、中頃の加水分解で述べたものが含ま
れ、適当な塩基として框、方法1で述べたものが含まれ
る。
Suitable acids include those mentioned in the middle hydrolysis, and suitable bases include those mentioned in Method 1.

上に説明した方法は、脱離する保S基の線類に応じて適
宜選択される。
The method described above is appropriately selected depending on the class of the S-binding group to be eliminated.

この反応において、n12およびR3中の保護された力
Vホキyが反応中に遊離力VホキVに変る場合があるが
、仁の場合もこの発明に含まれるものとする。
In this reaction, the protected force V in n12 and R3 may change into the free force V during the reaction, but this case is also included in this invention.

(3)方法6 化合物(1−<1)またはその塩類は、化合物(l −
o )またはその塩類tR:における力にホキV基の脱
離反応に付すことによシ製造される。
(3) Method 6 The compound (1-<1) or its salts is the compound (l-
o) or its salts tR: is produced by subjecting the Hoki V group to an elimination reaction.

この反応に、加水分解、還元等の慣用方法により行なわ
れる。
This reaction is carried out by conventional methods such as hydrolysis and reduction.

加水分解および還元の方法および反応条件C反応温度、
溶媒等)は、方法2で記載した化合物(1−a)におけ
るアミノ保護基の脱離反応と寮質的Kltli1様なの
で、上記の記載を援用する。
Hydrolysis and reduction methods and reaction conditions C reaction temperature;
Since the reaction (solvent, etc.) is similar to the elimination reaction of the amino protecting group in compound (1-a) described in Method 2 and Kltli1, the above description is incorporated.

この反もにおいて、B1中の保護されたアミノおよび/
またti−中の保護された力にポキシか反応中に遊離ア
ミノおよび/また扛遊離力に*キVに変る場合があるが
、この場合奄この発明に含1れるものとする。
In this reaction, the protected amino in B1 and/or
In addition, the protected force in ti- may change to free amino and/or the free force to *kiV during the reaction, but this case is considered to be included in the present invention.

(4)  方法4 化合物(1−o)またはその塩類は、化合物(1−a)
またはその塩類をカにホキV保護基の導入反応に付すこ
とにより製造される。
(4) Method 4 Compound (1-o) or a salt thereof is compound (1-a)
Alternatively, it can be produced by subjecting its salts to a reaction for introducing a Hoki V protecting group.

この方法で出いる力にホ!IrV保護基の導入剤として
は、アルコールまたはそのハフイド、スルホキイト、ス
Vフエイト、ジアゾ化合物等の反応性均等物のようなエ
ステル化剤が含まれる。
The power that comes out with this method is amazing! Agents for introducing IrV protecting groups include esterifying agents such as alcohols or reactive equivalents thereof such as hafides, sulfokiites, sulfonates, diazo compounds and the like.

この反応は塩基の存在下に行なうことができ、塩基の適
当な例としては、方法1で述べ友ものが含まれ%またこ
の反応は、よう化ナトリウム等のよう化金属の存在下に
行なうのが好ましい。
This reaction can be carried out in the presence of a base; suitable examples of bases include those mentioned in Method 1; and this reaction can be carried out in the presence of a metal iodide, such as sodium iodide. is preferred.

この反応は通常N、H−ジメチVホルムアミド、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、エタノ−V等
のこの反応Kg影響を及ぼさない慣用#縄またはそれら
の混合溶媒中で行なわれる。
This reaction is usually carried out in a conventional solvent such as N,H-dimethyV-formamide, tetrahydrofuran, dioxane, methanol, ethanol-V, etc., which does not affect the reaction temperature, or a mixture thereof.

反応温度は特に限定されないが、通常冷却下ないし若干
加温する程度で反応が行なわれる。
Although the reaction temperature is not particularly limited, the reaction is usually carried out under cooling or with slight warming.

力VホキV保護基の導入剤としてアVコー#ie用いる
場合、方法1で述べた縮合剤の存在下に反応を行なうこ
とが望ましい。
When using a V-co #ie as an agent for introducing a protective group, it is desirable to carry out the reaction in the presence of the condensing agent described in Method 1.

この反応において、化合物(1−<1 )4Cおける1
12中の力VホキVが反応中に保護された力VホキVに
変る場合があるが、この場合もこの発明に含まれるもの
とする。
In this reaction, compound (1-<1) 1 in 4C
The force V in 12 may change to the protected force V during the reaction, but this case is also included in this invention.

(b) 方lシロ;5 化合物(1−e)またにその指順に、化合物(IV)ま
たはそ8mK化合物(vI′に反応させることにょシI
I!される。
(b) Direction: 5. Add compound (1-e) and, in the same order, compound (IV) or 8mK compound (vI').
I! be done.

化合物G)の過当な塩類としては、化合物中について例
示したのと同じ塩基との塩類が含まれる。
Appropriate salts of compound G) include salts with the same bases as exemplified in the compound.

この反応は、1常酢酸エチル、塩化メチレン、クロロホ
シム、4塩化IM素、テトラヒドロフフン、ジオキサン
、水等のこの反応に悪影41Illを及ぼさない慣用溶
媒、またはこれらの混合物中で行なわれる。
This reaction is carried out in a conventional solvent that does not adversely affect the reaction, such as monoethyl acetate, methylene chloride, chlorofoshim, IM tetrachloride, tetrahydrofuran, dioxane, water, or a mixture thereof.

反応温度は特に限定されないが、通常冷却下ないし加温
下に反応が行なわれる。
Although the reaction temperature is not particularly limited, the reaction is usually carried out under cooling or heating.

(6)−万屋jユ 化合物(1−g )tたはその樵−は、化合物(1−f
 )鵞たはその*@kR”中のカルホキVα 保護基の脱離反応に付すことにより行なわれる。
(6) - The compound (1-g) or the woodcutter - is the compound (1-f
) It is carried out by subjecting it to an elimination reaction of the calhoki Vα protecting group in the *@kR”.

この反&cAは、加水分解、#L元等の慣用方法により
行なわれる。
This anti-&cA is carried out by conventional methods such as hydrolysis and #L oxidation.

加水分解および還元の方法?よび反応条件(反応温度、
溶媒等)rL、方法2で記載した化合物(1−a)VC
おけるアミノ保護基の脱離反応と実質的に同様なめで、
上記の記載を援用する。
How to hydrolyze and reduce? and reaction conditions (reaction temperature,
solvent, etc.) rL, compound (1-a) VC described in method 2
Substantially the same procedure as the elimination reaction of the amino protecting group in
The above description is incorporated.

この反応において、E 中の保護されたアミノおよび/
またはR中の保護された力Vボキシが遊離アミノおよび
/lたは遊離力ルボキS/に変る場合があるが、この場
合もこの発明に含まれるものとする。
In this reaction, the protected amino in E and/
Alternatively, the protected force Vboxy in R may be changed to free amino and/l or free force S/, but these cases are also included in the present invention.

(7)  方法7 化合物(J−1)またはその樵II4は、化合物(1−
h)またはその塩類1kR3にお轄る力VホキV保護基
の脱離反応に付すことにより製造される。
(7) Method 7 Compound (J-1) or its woodcutter II4 is compound (1-
h) or its salts 1kR3 is produced by subjecting it to an elimination reaction of the protective group.

この反応に、加水分解1、還元等の慣用方fkにより行
なわれる。
This reaction is carried out by conventional methods fk such as hydrolysis 1 and reduction.

加水分解および還元の方法および反応条件(反応温度、
溶媒等)Fi、方法2で記載した化合物(1−a)[お
けるアミノ保護基の脱離反応と東質的に同様なので、上
記の記載を援用する。
Hydrolysis and reduction methods and reaction conditions (reaction temperature,
Solvent, etc.) Fi, the reaction is qualitatively similar to the elimination reaction of the amino protecting group in compound (1-a) described in Method 2, so the above description is incorporated.

このIi応において、R中の味躾されたアミノおよび/
またはR2中の保護場扛たカルホキンか反応中に遊離ア
ミノおよび/または遊離力にホキVに変る場合がめるが
、この場合もこの発明に含まれるものとする。
In this Ii reaction, the tasted amino in R and/
Alternatively, the calhoquine removed from the protective field in R2 may be converted to free amino and/or free force during the reaction, but this case is also included in the present invention.

? 上記方法1ないし躯もで得られる目的化合物中に、例え
ば抽出、沈殿1分別結晶、再結晶、クロマトグラフィー
等の慣用方法により単#11柄要される。
? A single #11 sample is added to the target compound obtained by the above-mentioned methods 1 to 1 by conventional methods such as extraction, precipitation, fractional crystallization, recrystallization, and chromatography.

原料化合物の製造(おける方証■ないし■を詳しく説明
すると、次の連やである。
A detailed explanation of the procedures for producing raw material compounds (methods ■ to ■) is as follows.

(1)  fcす1Sン1す 〔工程ム〕 化合物(■−b)またにその朧如は、化合物(■−&)
もしくはそのアミノ基における反応性誘導体tたはその
壜鎮に、化合物1)もしくはその力VホキFj&におけ
る反応性誘導体lたαそのへ#lk反応させることによ
り製造される。
(1) fcsu1Sn1su [process] Compound (■-b) and its vagueness are compound (■-&)
Alternatively, it can be produced by reacting a reactive derivative at its amino group or a bottle thereof with compound 1) or a reactive derivative at its amino group.

化合物C■−a)およびC■−b)の過当な塩類として
ri、化合物中について例示したのと同種のものが含1
れる。
Examples of suitable salts of compounds C■-a) and C■-b) include those of the same kind as those exemplified in the compounds ri.
It will be done.

化合物(■−a)のアミノ基における適当な反応性誘導
体とじては、方法1における化合物1)について例示し
たのと同じものが含まれる。
Suitable reactive derivatives at the amino group of compound (■-a) include the same ones as exemplified for compound 1) in method 1.

この反応に方gj1について説明したのと実質的Kfj
j4様に行なわれるので、反応方法、反応条件C反応温
度、溶媒、塩基等)については上記の記載會援用する。
In this reaction, we explained about gj1 and the actual Kfj
The reaction method, reaction conditions (reaction temperature, solvent, base, etc.) are carried out in the same manner as described above.

〔工程B〕[Process B]

化合物(■−0)またはその塩類は、化合物(■−b)
tたはその塙w4にハロゲン化剤?反応させることによ
り製造される。
Compound (■-0) or its salt is compound (■-b)
Or is there a halogenating agent in the w4? Manufactured by reaction.

化合物C■−0)の適当な塩類として框、化合物中につ
いて例示したのと同じ旭賄が含まれる。
Suitable salts for compound C-0) include the same salts as those exemplified for the compound.

この反応に用いられる過当なハロゲン化剤としては、!
1福化燐、5樵化燐、オキV旭北隣、3臭化燐、5臭化
燐等の燐ハロゲン化物、権化チオニA/専のハロゲン化
チオニジ、ホスゲン等のとドロキシ基tハロゲンに変え
るために慣用されるものが用いられる。
An unreasonable halogenating agent used in this reaction is!
Phosphorus halides such as 1 Fukuka phosphorus, 5 Moka phosphorus, Oki V Asahi Kitadori, 3 bromide phosphorus, 5 bromide phosphorus, Gonka thioni A/special halogenated thionidium, phosgene, etc. and droxy group t halogen. Those commonly used for this purpose are used.

この反応L1方広1について述べた有機塩基ノヨうな塩
基の存在下に行なうのが好ましい。
This reaction L1 is preferably carried out in the presence of a base such as the organic base mentioned in connection with Section 1.

この反応は、通常メチレンクロライド、クロロホVム、
エチレンクロライド、テトラヒドロフラン、ジオキサン
%N、N−ジメチルホルムアミド等のこの反応に急影響
を及はさない慣用f#媒、またはこれらの混合物中で行
なわれる。
This reaction usually involves methylene chloride, chloroform,
It is carried out in conventional f# media which do not acutely affect the reaction, such as ethylene chloride, tetrahydrofuran, dioxane%N, N-dimethylformamide, or mixtures thereof.

反応温度は特に限定されないが、通常冷却下ないし加温
下に反応が行なわれる。
Although the reaction temperature is not particularly limited, the reaction is usually carried out under cooling or heating.

(2)プロセス■−(2) 化合物(■−e)またはその塩類は、化合物C■−d)
またにその璽mをアミノ保護基および力にホキV保護基
の導入反応に付すことにより製造される。
(2) Process ■-(2) Compound (■-e) or its salt is compound C■-d)
It can also be produced by subjecting the seal to a reaction of introducing an amino protecting group and a Hoki V protecting group.

この反応は、方法1および4におけるアs/に/化反応
および力Vボキシ保護基の導入反応について記載したの
と寮質的に同様に行なわれるので、反応条件C反応温度
、溶媒等)に、上記の記載を援用する。
This reaction is carried out qualitatively in the same manner as described for the as/conversion reaction and the reaction for introducing a V-boxy protecting group in Methods 1 and 4, so depending on the reaction conditions (reaction temperature, solvent, etc.) , the above description is incorporated.

(3)プロセス■−(3) 〔工程A〕 化合物C■−g)またはその一類は、化合物(■−f)
t7’jflその撫11に式R”−CEO(式中、Rは
前と同じ意味)で示される化合物的を反応させることに
よ)製造される。
(3) Process ■-(3) [Step A] Compound C■-g) or a class thereof is compound (■-f)
t7'jfl is produced by reacting the compound with a compound represented by the formula R''-CEO (wherein R has the same meaning as before).

化合物(■−f)およびC■−g)の適当な塩類として
は、化合物中について例示したのと同じ塩類が含まれる
Suitable salts for compounds (■-f) and C■-g) include the same salts as exemplified for the compounds.

コノ反応け、モレキ:Lフーシ++ フヤ741−t’
列挙した塩基の存在下に行なうのが好ましい。
Kono reaction, moleki: L Fushi ++ Fuya 741-t'
Preferably, it is carried out in the presence of the listed bases.

この反応は、通常、水、肩6厘−ジメチルホルムアミド
等のこの反応に悪影響を及ぼさない慣用辱謀中で行なわ
れる。
This reaction is usually carried out in conventional solvents that do not adversely affect the reaction, such as water, dimethylformamide, and the like.

反応温度ヰ特に限定されないが、通常、冷却下ないし加
温下に反応が行なわれる。
Although the reaction temperature is not particularly limited, the reaction is usually carried out under cooling or heating.

〔工IIB)     ・ 化合物(■−h)は化合物(■−glt&けそのj11
類にカルボキシ保護基を導入することによシ製造される
[Engineering IIB) ・The compound (■-h) is the compound (■-glt&kesoj11
It is produced by introducing a carboxy protecting group into

この反応は、方′fk4について説明したのと実質的に
同様に行なわnるので、反応条件(反応温度、溶媒、塩
基等)Kついては上記の説明を援用する。
Since this reaction is carried out in substantially the same manner as explained for method fk4, the above explanation regarding the reaction conditions (reaction temperature, solvent, base, etc.) is referred to.

〔工程0〕 化合物(■−1)は、化合物(■−h)にハロゲン化剤
【反りさせることにより製造される。
[Step 0] Compound (■-1) is produced by subjecting compound (■-h) to a halogenating agent.

この反応は、プロセス■−(1)の〔工程B〕について
説明したのと実質的に同様に行なわれるので1反応条件
(反応温度、M謀、ハロゲン化剤等)Kついては上記の
説明1に援用する。
This reaction is carried out in substantially the same manner as described for [Step B] of Process ①-(1), so the reaction conditions (reaction temperature, M strategy, halogenating agent, etc.) K are as explained in Explanation 1 above. I will use it.

(4)lヱ34東云史 化合物@)またはそのjj1傾は、化合物(置)もしく
はそのアミノ基における反応性誘導体またはその塩類に
、化合物りもしくはその力にポキシ基における反応性誘
導体またはそのms’i反応させることによりl111
mされる。
(4) lヱ34東云士 Compound @) or its jj1 inclination is a compound (position) or a reactive derivative at its amino group, or a salt thereof, or a reactive derivative at its poxy group or its ms. 'i by reacting l111
m is done.

化合物・の適当な壜舶としては、化合物中について例示
し九樵基との福と向確のものが含すれる。
Suitable bottles for the compound include those exemplified for the compound.

化合物・の適当な反応性誘導体としては、方法1におい
て化合物1)について例示したのと同じものが含まれる
Suitable reactive derivatives of compound .include the same as exemplified for compound 1) in method 1.

この反応は方法1について説明したのと実質的に同様に
行なわれるので、反応方法、反応条件C反応温度、#l
謀、塩基等)については上記の記載を援用する。
Since this reaction is carried out in substantially the same manner as described for Method 1, the reaction method, reaction conditions, C reaction temperature, #l
(bases, etc.), the above description is cited.

(6)  プロセス■−(2) 〔工1!A) 化合物(■−a)は、化合物【■−1)K式PLR)3
f式中、R6は前と同じ意味)で示されるトリ置換本ス
フィンを反応させ、次いで生成したホスホニウム化合物
に塩基′を反応させ、さらに生成したホスホニウム化合
物にホシムアVデしドを反応させることにより製造され
る。
(6) Process■-(2) [Work 1! A) Compound (■-a) is compound [■-1) K formula PLR) 3
f (wherein R6 has the same meaning as before) is reacted with a tri-substituted main sphine, then the generated phosphonium compound is reacted with a base ', and the generated phosphonium compound is further reacted with foshimade Vde. Manufactured.

この反応において、トリ置換ホスフィンを作用させる場
合、よう化ナトリウム、よう化カリウム、臭化ナトリウ
五等のアVカリ金属ハフイドのような金属へフィトの存
在下に行なうのが好ましい。
In this reaction, when a trisubstituted phosphine is allowed to act, it is preferably carried out in the presence of a metal halide such as alkali metal halide such as sodium iodide, potassium iodide, and sodium bromide.

この反応で用いる適当な塩基として框、方法1について
例示したものが含まれる。
Suitable bases for use in this reaction include those exemplified for Method 1.

この反応は、通常M0M−ジメチVホVムアミド、ジメ
チルスVホキサイド、メチレンクロフィト、テトフヒド
ロフフン、酢酸エチル、ジオキサン、ア−にシン、テト
フ歓ドロフラン、水等のこの反応に悪影響を及ぼさない
慣用溶媒中で行なわれる。
This reaction is usually carried out using conventional materials that do not have an adverse effect on this reaction, such as M0M-dimethyl V-formamide, dimethyl V oxide, methylene chlorophyte, tetofhydrofuran, ethyl acetate, dioxane, acetic acid, tetofhydrofuran, water, etc. It is done in a solvent.

反応温度は特に限定されないが、d常冷却下ないし若干
加温する程度の温度で反応が行なわれる。
The reaction temperature is not particularly limited, but the reaction is carried out at normal cooling to slightly warm temperature.

〔工!1B〕 化合物(■−b)筐たはその一類に、化合物C■−a)
′t−7ミノ保tII基およびカルボキシ保M基の脱離
反応に付すことにより製造される。
[Work! 1B] Compound (■-b) or one of its classes, compound C■-a)
't-7 is produced by subjecting it to an elimination reaction of a amino-holding tII group and a carboxy-holding M group.

化合物(■−b)の適当な一類として汀、化合物中につ
いて例示したのと同榛のものが含筐nる。
A suitable class of compounds (■-b) includes the same compounds as those exemplified in the compound.

この反応に、加水分解のような慣用さnる方法で行なわ
れる。
This reaction is carried out by conventional methods such as hydrolysis.

加水分解は、万m2について説明したのと実質的VCX
様に行なわれるので、加水分解方法および反応条件(反
応温度、溶媒尋)については上記の記載管援帛する。
Hydrolysis is explained for 10,000 m2 and substantial VCX
The hydrolysis method and reaction conditions (reaction temperature, solvent content) are as described above.

(6)プロセス■−(3) 〔工程ム〕 化合物(■−0)′fたはその塩類は、化合物(■−6
)またはその塩類にハロゲン化剤を反応させ、次いで生
成したハロゲン体に式P(B  )。
(6) Process ■-(3) [Step M] The compound (■-0)'f or its salts is the compound (■-6
) or its salts are reacted with a halogenating agent, and then the generated halogen compound has the formula P(B ).

c式中R6は前と同じ意味)を反応させ、生成したホス
ホニウム化合物に塩基を反応させ、さらに生成したホヌ
ホリデン化合物にホVムアルデヒドを反応させることK
よシ製造される。
(R6 in the formula c has the same meaning as before), reacting the generated phosphonium compound with a base, and further reacting the generated honupholidene compound with formaldehyde.
It is manufactured well.

この反応は、プロセス■−(1)〔工程B〕およびプロ
セス■−(2)〔工程A〕と実質的に同様に行なわれる
ので、反応条件C反応温度、溶媒。
This reaction is carried out in substantially the same manner as Process 1-(1) [Step B] and Process 2-(2) [Step A], so the reaction conditions are C: reaction temperature, solvent.

塩基、ハロゲン化剤等)については上記の記載を援用す
る。
Regarding the base, halogenating agent, etc.), the above description is cited.

〔工程B〕 化合物(1)またにその塩類は、化合物C■−0)また
はその檻如會アS/J%/基の脱離反応に付すことによ
り製造される。
[Step B] Compound (1) or its salts are produced by subjecting it to an elimination reaction of compound C-0) or its group S/J%/.

この反応は、通常イミノハロゲン化とイミノエーテV化
および必要に応じて加水分解からなる結合方法により行
なわれる。
This reaction is usually carried out by a bonding method consisting of iminohalogenation, iminoate V-formation and, if necessary, hydrolysis.

この結合万Bおよび反応条件C反応温度、溶縄尋)は、
方gt2について説明したのと実質的に同様なので、上
記の説明を援用する。
This bond (B) and reaction conditions (C, reaction temperature, melting point) are:
Since this is substantially the same as the explanation regarding the direction gt2, the above explanation will be cited.

(7ン プロセス■ 〔工程ム〕 化合物(■−b)に、化合物(■−a)に化合物情)ま
たはその反応性誘導体を反応させることによシ製造され
る。
(7) Process ■ [Step M] It is produced by reacting the compound (■-b) with the compound (■-a) or a reactive derivative thereof.

化合物(Vl)の適当なN応性誘導体としては、クロリ
ド、プロミド、B−ダイト等のパライトがめげられる。
Suitable N-responsive derivatives of compound (Vl) include pallite such as chloride, bromide and B-dite.

この反応は通常塩基の存在下に行なわれ、そのような塩
基としては方法1において例示したものが七〇筐まあけ
られる。
This reaction is usually carried out in the presence of a base, and 70 cases of the bases exemplified in Method 1 are used as such bases.

反応温度は特に限定されないが、通常室温ないし加熱下
に反応が行なわれる。
Although the reaction temperature is not particularly limited, the reaction is usually carried out at room temperature or under heating.

〔工程B〕[Process B]

化合物(■−C)は化合物C■−b)[ハロゲン化剤を
反応させることKより製造される。
Compound (■-C) is prepared from compound C■-b) [K by reacting with a halogenating agent.

ハロゲン化剤の適当な例としては、塩素、臭素等のハロ
ゲン、次亜塩素酸、次m福素酸第6級ブチV等の次亜ハ
ロゲン酸もしくはそのアルキ〜エステV%蓋−グロモア
セトアミド、I−ヨードアセトアミド、厘−プロ毫すク
シンイミド、舗−クロロナクVンイミド、N−クロロフ
タVイミド等ON−ハロアミド化合物、JII化納−銅
、臭化第1銅等のハロゲン化第−銅、ビリVニウムハイ
ドロプロミドパープロミド%ジオキサンプロミド等があ
げられる。
Suitable examples of the halogenating agent include halogens such as chlorine and bromine, hypohalous acids such as hypochlorous acid, hypochlorous acid, 6th-butylbutylene, or its alkyl-ester V%-gromoacetamide. ON-haloamide compounds such as , I-iodoacetamide, chlorinated succinimide, chloronac imide, N-chlorophthalamide, cuprous halides such as JII copper, cuprous bromide, and Examples include Vnium hydropromide perpromide% dioxane promide.

この反応に、通常X、メタノー1v、エタノ−w、 り
acl*uA、/チレンクロリド、iiF#等のアVカ
ン龍、テトフヒドロフラン、ジオキサン、アセトニトリ
に1ジメチJ/本Vムアミド等のこの反応に悪影響1及
ぼさない慣用119!縄、またはこれらの混合物中で行
なわれる。
For this reaction, the following substances are usually used: Common practice 119 that does not have a negative effect on the reaction! carried out in ropes, or mixtures thereof.

反応温度は特に限定されないが、通常室温ないし加熱下
に反応が行なわれる。
Although the reaction temperature is not particularly limited, the reaction is usually carried out at room temperature or under heating.

この反応において、敞を溶媒として使用した場合、Rf
における力VホキV保m基が反応中に脱離することがあ
るが、このような場合もこの反応に含まれる。
In this reaction, when palm is used as a solvent, Rf
In some cases, the V-retaining group is removed during the reaction, and such cases are also included in this reaction.

〔工程C〕[Process C]

化合物t■−d)またはそのxmh、化合物(■−o)
kR’中の力VホキV保#II&の脱離反応に付すこと
によシ製造される。
Compound t■-d) or its xmh, compound (■-o)
It is produced by subjecting the force V in kR' to an elimination reaction.

化合物C■−6)の適当な塩類として框、化合物中につ
いて例示したのと同じ塩基との壜が含まれる。
Suitable salts of compound C-6) include bottles with the same bases as exemplified in the compound.

この反応は、加水分解、還元等のような慣用される方法
で行なわれる。
This reaction is carried out by conventional methods such as hydrolysis, reduction, etc.

加水分解および還元の方法および反応条件(反応a1度
%屡縄等)は、方法2について説明したのと実質的に向
様なので、上記の説明を援用する。
The hydrolysis and reduction methods and reaction conditions (reaction a1%, etc.) are substantially the same as those described for Method 2, so the above description is incorporated.

(8)二乙−mと 〔工程ム〕 化合物(■)またはその壜l1lilは、化合物(■−
&)筐た1工その塩類に化合物ff)k反応させること
によって&1造される。
(8) Two otsu-m and [process m] The compound (■) or its bottle l1lil is the compound (■-
&) It is produced by reacting the salt with the compound ff)k.

化合物(■−a)の適当な塩類として框、化合物中につ
いて例示したのと同じ塩基との塩類が含まれる。
Suitable salts of the compound (■-a) include salts with the same bases as exemplified for the compound.

この反応は、方法5について説明したのと突質的に同様
に行なわれるので、反応条件C反応温度、#I謀等)に
ついては上記の記載を援用する。
Since this reaction is carried out essentially in the same manner as described for Method 5, the above description is incorporated into the reaction conditions (C, reaction temperature, #I strategy, etc.).

〔工程B〕[Process B]

化合物C■)またはその堆@は、化合物■またはその塩
類にζ式R:0NH2(式中R:に前と同じ意味]で示
されるヒドロキシVアミン化合物α)またはその塩類會
反応させることによシ製造される。
Compound C■) or its deposit @ can be obtained by reacting compound ■ or a salt thereof with a hydroxy V amine compound α represented by the formula R:0NH2 (wherein R: has the same meaning as before) or a salt thereof. is manufactured.

ヒドロキVルアミン化合物の適当な塩類としては、化合
物中和ついて例示したのと同じ酸付加塩が含まれる。
Suitable salts of the hydroxylamine compounds include the same acid addition salts exemplified for neutralizing the compound.

化合物■の適当な塩類としては、化合物中について例示
したのと同じ曳鎮が含tルる。
Suitable salts for compound (1) include the same salts as exemplified for compound (2).

ヒドロキVIMアミン化合物を塩の状態で石いる場合、
反応に適音方法1で述べ交壜基の存在下に行なわれる。
When the hydroxy VIM amine compound is in the form of a salt,
The reaction described in Method 1 is suitably carried out in the presence of a crosslinking group.

この反応に、通常メタノ−ν、エタノ−V等のこの反応
K111影譬を及ぼさない慣用#縄、またにこれらの混
合物中で行なわれる。
This reaction is usually carried out in conventional materials which do not affect this reaction, such as methano-v, ethanol-V, or mixtures thereof.

反応温度に特に限定されないが、通常冷却下ないし加温
下に反応が行なわれる。
Although the reaction temperature is not particularly limited, the reaction is usually carried out under cooling or heating.

上記の方法によシ製造される原料化合物は。The raw material compounds produced by the above method are:

目的化合物について述べたのと同様な常澄により単離さ
れる。
It is isolated by routine refining as described for the target compound.

上記方法1ないし7および■ないし■並びにそ光学異性
体に賛る場合があるが、この場合もこの発明(含まれる
ものとする。
The above-mentioned methods 1 to 7, 1 to 2, and their optical isomers may be supported, but this invention is also included in these cases.

目的化合物(Iφ11力VボキシMitたは遊離アミノ
基′に4位または7位に有する場合、これらの基d常法
によ1複揃に変えることができる。
When the target compound (Iφ11, VboxyMit or free amino group) has at the 4th or 7th position, these groups can be converted into multiple groups by conventional methods.

この発明の目的化合物中筒た扛その塩類は、新規化合物
であシ、ダラム陽性および陰性1It−含む広範囲の病
原性徴生物の発育を阻止する高い抗菌活性を示し、下記
データに示されるように、抗生物質として、特に経口投
与用のものとして有用であり、原料化合物■〜■はそれ
らを製造する合成中間体として有用である。
The object compound of this invention, the salts of Nakazutsuta Tadaso, exhibits high antibacterial activity inhibiting the growth of a wide range of pathogenic symptoms including Ashi, Durham positive and Negative 1It-, as shown in the data below. It is useful as an antibiotic, especially for oral administration, and raw material compounds 1 to 2 are useful as synthetic intermediates for producing them.

目的化合物中の有用性を示すために、この発明の化合物
Φの中の代表的なものについて抗菌活性を測定した結果
を示すと1次の通りである。
In order to demonstrate the usefulness in target compounds, the antibacterial activity of representative compounds Φ of the present invention was measured and the results are shown below.

(1)  試験1:試験管内抗菌活性 試験化合物 7−(2−(2−アミノ−5−クロロチアゾ−pv−4
−イA/)−2−(1−力VポキyxトキVイミノ)ア
セトアミドツー6−ビニA/−6−セフェム−4−力V
ポン@1シン異性体) 試験方法 下記の寒天平板倍数希釈法により、試験管内抗菌活性を
鉤定した。
(1) Test 1: In vitro antibacterial activity test compound 7-(2-(2-amino-5-chlorothiazo-pv-4)
-A/)-2-(1-force VpokiyxtokiVimino)acetamido2-6-vinyA/-6-cephem-4-forceV
Test method: The in vitro antibacterial activity was determined by the agar plate multiple dilution method described below.

トリプチケース・ソーイ・プロス(1611k108/
−)中で一夜培費した試−一株の1白金耳t、各m度の
試験化合物を含むハート・インフユージWン・アガー(
H工寒天)に接種し、67°Cで20時間培養した後、
最低発11組止濃度(MIO)′にμfΔd単位で測定
した。
Trypticase Soi Pross (1611k108/
- 1 platinum loop of one plant, each containing m degrees of the test compound, grown overnight in heart infusion agar (
After inoculating onto H-technical agar) and culturing at 67°C for 20 hours,
The minimum initial concentration (MIO)' was measured in μfΔd.

この発明の目的化合物中またはその医薬上許容される樵
sr治療の目的で投与するKあたって汀。
In the compound of interest of this invention or its pharmaceutically acceptable composition, K is administered for the purpose of treating sr.

上記化合物を主成分として含み、これに医薬上許容され
る担体、例えば経口、非経口、または外用JCilL、
た有機もしくは無機、固体もしくに液体の賦形薬を加え
た慣用製剤の形で投与できる。このような製剤としては
、錠剤、軸粒剤、散剤、カプセル等の固体、および液剤
、けんだ〈剤、シロップ、乳剤、レモネード等の液体が
含まれる。
Containing the above compound as a main component and a pharmaceutically acceptable carrier, such as oral, parenteral, or topical JCilL,
It can be administered in the form of conventional preparations with organic or inorganic, solid or liquid excipients. Such preparations include solids such as tablets, granules, powders, and capsules, and liquids such as solutions, suspensions, syrups, emulsions, and lemonades.

さらに、必要に応じて、上記製剤中に補助剤、安定剤、
湿#M、そのはか乳糖、ステアリン酸マグネシウム、白
土、しょ詔、コーンスターチ、タルク、ステアリン酸、
ゼラチン、寒天、ペクチン、ピーナツ油、オリーブ油、
カカオ脂、エチレングリコール等の繁用される添加物を
含有させることができる。
Furthermore, if necessary, adjuvants, stabilizers,
Moist #M, sono lactose, magnesium stearate, white clay, soy sauce, cornstarch, talc, stearic acid,
gelatin, agar, pectin, peanut oil, olive oil,
Commonly used additives such as cocoa butter and ethylene glycol can be included.

化合物中の投与量は、患者の年令、状態、疾病の種類、
および投与化合物中のagmにより異なるが、一般に1
日当91岬ないし約400口qまたはそれ以上の量を患
者に投与できる。1回の平均投与量としては、この発明
の目的化合物巾約50q、100■、250ダ、500
〜.1000■。
The dosage of the compound depends on the patient's age, condition, type of disease,
and agm in the administered compound, but generally 1
Amounts ranging from 91 q per day to about 400 q or more can be administered to the patient. The average dose for one time is approximately 50q, 100cm, 250dah, 500dah of the target compound of this invention.
~. 1000■.

20001f’t、病原性微生物による疾病の治療に用
いることができる。
20001f't, which can be used to treat diseases caused by pathogenic microorganisms.

2−ヒドロ番・ジイミノ−3−オキソ酪酸第三級ブチル
エステル(5亀4F)11!酸カリクム(lL45F)
の酢酸エチル(300m) およびN、N−ジメチルホ
ルムアミド(60sf)中懸濁液に1クロロ酢酸ベンジ
ルエステル(61’)00え、40℃て7時間撹拌した
。反応混合物を氷水(lGoose)中に注ぎ、分離し
た有機層を塩化ナトリクム麹和水溶液て2同洗滲した後
、硫酸マグネシウムて乾燥した。溶媒を留去して、油状
の2−ペンジルオキシカルポニルメトキシイミ/−3−
オキソ酪#第三級ブチルエステル(9t3F)を得た。
2-hydro diimino-3-oxobutyric acid tertiary butyl ester (5 turtle 4F) 11! Acid potassium (lL45F)
A suspension of 1 chloroacetic acid benzyl ester (61') in ethyl acetate (300 m) and N,N-dimethylformamide (60 sf) was added with 1 chloroacetic acid benzyl ester (61') and stirred at 40°C for 7 hours. The reaction mixture was poured into ice water (1 Goose), and the separated organic layer was washed twice with an aqueous solution of sodium chloride koji and dried over magnesium sulfate. The solvent was distilled off to give an oily 2-penzyloxycarponylmethoxyimide/-3-
Oxobutyric #tertiary butyl ester (9t3F) was obtained.

IR(74ルA):  29g0. 1740. 18
95. 1610(11+−1HMRlppm (CD
C/J): 1.50(911,s)、  2.28(
31,a)、  4.78(2H,m)、  5.18
(2H,!l)。
IR (74lA): 29g0. 1740. 18
95. 1610 (11+-1HMRlppm (CD
C/J): 1.50 (911,s), 2.28 (
31, a), 4.78 (2H, m), 5.18
(2H,!l).

7.28(5H,s) 製造例2 製造#111の方法に*じて、2−ヒドロキシ45フ糎
−3−オキソ酪酸エチルエステル(45,29)ヲクロ
ロ酢112.2.2−トリクロロエチルエステル(31
,4f )と、員酸カリクム(41,5? >の存在下
に反応させることによシ2−(λλ2−トリクロロエト
キシカルボニルメトキシイミノ)−3−オキソ酪酸エチ
ルエステル(6龜7F)を製造し友。
7.28 (5H, s) Production Example 2 According to the method of Production #111*, 2-hydroxy 45-phenyl-3-oxobutyric acid ethyl ester (45,29)-chloroacetic acid 112.2.2-trichloroethyl ester (31
, 4f) in the presence of member acid potassium (41,5?) to produce 2-(λλ2-trichloroethoxycarbonylmethoxyimino)-3-oxobutyric acid ethyl ester (6-7F). friend.

IR(74ルA):  1750(プ0−F)、  1
610s+−1HMRJppm (CDC/s): 1
.33(31,t、  J−7Hz)。
IR (74 A): 1750 (P0-F), 1
610s+-1HMRJppm (CDC/s): 1
.. 33 (31,t, J-7Hz).

2−37 (3HIe )t  4.37 (2He 
q −X7Hz )。
2-37 (3HIe)t 4.37 (2He
q −X7Hz).

4.83(2H,s)、 4.93(21,s)製造例
3 i−ベンジルオキシカルボニルメトキシイミノ−3−オ
キソ酪酸第三級ブチルエステル(3L3y)の酢酸(3
Ls/)溶液に臭素(16F)を45〜48℃で撹拌下
に徐々に加え、同温度で30分間撹拌し友。反応混合物
を減圧下に濃縮し、残渣を酢酸エチルに溶解し、次いで
塩化ナトリクム飽和水溶液で6回洗浄し良。この溶液を
減圧下に濃縮して、2−ベンジルオキシカルボニルメト
キシイミノ−4−プロモー3−オキソ11酸(35jF
)を得友。
4.83(2H,s), 4.93(21,s) Production Example 3 i-benzyloxycarbonylmethoxyimino-3-oxobutyric acid tertiary butyl ester (3L3y) in acetic acid (3
Bromine (16F) was gradually added to the Ls/) solution while stirring at 45-48°C, and the mixture was stirred at the same temperature for 30 minutes. The reaction mixture was concentrated under reduced pressure and the residue was dissolved in ethyl acetate and then washed six times with saturated aqueous sodium chloride solution. The solution was concentrated under reduced pressure to obtain 2-benzyloxycarbonylmethoxyimino-4-promo-3-oxo-11 acid (35jF
) and make friends.

工R(ヌジ璽−ル): 2950. 1740(ブロー
ド)。
Engineering R: 2950. 1740 (Broad).

1602eMA−1 MMRappm (CDC/、): 4.02(2H,
s)、  4.82(211,s)、  5.16(2
H,!り、  7.32(5H,e)製造例4 sI造#13の方法に準じて、2−ベンジルオキシカル
ボニルメトキシイミノ−3−オキソ酪酸第三級ブチルエ
ステル(5,Oy ) ト塩化スルフリル(1,25i
sff)を酢酸(5m)中で反応させることにより、2
−ベンジルオキシカルボニルメトキシイミノ−4−クロ
ロ−3−オキソ酪酸(3,8F)を製造した。
1602eMA-1 MMRappm (CDC/,): 4.02 (2H,
s), 4.82 (211, s), 5.16 (2
H,! 7.32(5H,e) Production Example 4 According to the method of sI Preparation #13, 2-benzyloxycarbonylmethoxyimino-3-oxobutyric acid tertiary butyl ester (5,Oy) and sulfuryl chloride (1 ,25i
sff) in acetic acid (5m), 2
-Benzyloxycarbonylmethoxyimino-4-chloro-3-oxobutyric acid (3,8F) was produced.

IR(フィルム):  3200. 1730(ブロー
ド)。
IR (film): 3200. 1730 (Broad).

1610am−” NMRJppm  (CDC/s):  4.03(2
H,s)、  4.83(2H,s)、  5.23(
2H,a)、  7.33(5H,s)製造例5 2−ベンジルオキシカルボニルメトキシイミノ−3−オ
キソ酪酸第三級ブチルエステル(2,0y)の乾燥テト
ラヒドロ7ツン(20m/)溶液に、三7ツ化ホク素−
ジエチルエーテル(3,0m/)およびビVジニクムヒ
ドロプロミド・パープロミド(3、Of)を常湿で加え
、引続いて6時周撹拌した。
1610am-” NMRJppm (CDC/s): 4.03(2
H, s), 4.83 (2H, s), 5.23 (
2H,a), 7.33(5H,s) Production Example 5 To a solution of 2-benzyloxycarbonylmethoxyimino-3-oxobutyric acid tertiary butyl ester (2,0y) in dry tetrahydro-7 (20m/), Hokusan trisulfide-
Diethyl ether (3.0 m/) and bivdinicum hydropromide perpromide (3, Of) were added at normal humidity, followed by stirring for 6 hours.

反N5混合物を*(501Il)中に注ぎ、次いで酢酸
エチル(70m/)で2回抽出した。抽出液を合わせて
10−塩酸および塩化ナトリクム飽和水溶液で洗浄した
後、硫酸マグネシウムて乾燥した。溶媒を留去して、2
−ベンジルオキシカルボニルメトキシイミノ−4−プロ
モー3−オキソ酪#(1oy>を得九。
The anti-N5 mixture was poured into *(501Il) and then extracted twice with ethyl acetate (70m/). The combined extracts were washed with 10-hydrochloric acid and a saturated aqueous solution of sodium chloride, and then dried over magnesium sulfate. Distill the solvent, 2
-benzyloxycarbonylmethoxyimino-4-promo 3-oxobutyric #(1oy>9).

工R(ヌジゴール):295G、  1740(ブロー
ド)。
Engineering R (Nujigor): 295G, 1740 (Broad).

602cs 製造例6 2−(λλ2−トリクロロエトキシカルボニルメトキシ
イミノ)−3−オキソ酪酸エチルエステル(20F)と
塩化スル7リル(7,7F)との酢酸(20yd)混合
物を40℃で7詩間撹拌した。
602cs Production Example 6 A mixture of 2-(λλ2-trichloroethoxycarbonylmethoxyimino)-3-oxobutyric acid ethyl ester (20F) and sul7lyl chloride (7,7F) in acetic acid (20yd) was stirred at 40°C for 7 cycles. did.

反にり混合物を水(100sf)と塩化メチレン(10
0wt)との混合物中に撹拌下に加え良後、分離した有
機層を厳酸水素ナトリクム5チ水溶液および水で洗浄し
、硫酸マグネシウムで*、燥した。
The garlic mixture was mixed with water (100sf) and methylene chloride (10sf).
After stirring, the separated organic layer was washed with an aqueous solution of 50% sodium hydrogen oxide and water, and dried over magnesium sulfate*.

#綴を留去して、2−(2,λ2−トリクロロエトキシ
カルボニルメトキシイミノ) −4−Iロワー3−オキ
ソ酪酸エチルエステル(22? )を得た。
The residue was distilled off to obtain 2-(2,λ2-trichloroethoxycarbonylmethoxyimino)-4-I lower 3-oxobutyric acid ethyl ester (22?).

IR(74ルム):  1750(ブロード)、  1
610cm〜1NMRJppm (CC14) : 1
.36(3H,t、 J−7Hz)。
IR (74 lums): 1750 (broad), 1
610cm~1NMRJppm (CC14): 1
.. 36 (3H, t, J-7Hz).

4.32(211,q、J=7Hz)、  4.46(
2H,e)。
4.32 (211,q, J=7Hz), 4.46 (
2H, e).

4.79(2H,e)、  4.90(2H,a)製造
例7 N、葺−ジメチルホルムアミド(0,67m)およびオ
キシ塩化リン(0,79wIりから―製したビルスマイ
ヤー試薬を乾燥テトラヒドロ7ラン(25d)中に懸濁
した。これに2−ベンジルオキシカルボニルメトキシイ
ミノ−4−プロモー3−オキン酪鹸(LIJf)を0℃
で撹拌下に加え、0〜5℃で1時周撹拌して活性酸溶液
を製造した。この1’&4’I#溶液を7−アミノ−3
−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリ
ルエステル塩駿塩(2,2f’)とトリメチルシリルア
セトアミド(7,0y)との塩化1 f L/ ン(3
G ml )溶液に一35’Cで一挙に加え、−10〜
−5℃?30分間撹拌した。反応混合物を酢酸エチル(
200d)および水の混合溶液に注ぎ、分離した有機溶
媒層をIIe#水素ナトリクム飽和水溶液および塩化ナ
トリクム飽和水溶液で洗浄・した後、硫酸マグネシウム
で乾燥し喪。溶媒を留去して、7〜(2−ベンジルオキ
シカルボニルメトキシイミノ−4−プロモー3−オキソ
グチルアミド)−3−ビニル−3−セフェム−4−カル
ボン酸ベンズヒドリルエステル<tsy>*得+。
4.79 (2H, e), 4.90 (2H, a) Production Example 7 Vilsmeier reagent prepared from N, Fuki-dimethylformamide (0.67m) and phosphorus oxychloride (0.79wI) was dissolved in dry tetrahydrochloride. 7 runs (25d).To this, 2-benzyloxycarbonylmethoxyimino-4-promo-3-okynebutyric acid (LIJf) was added at 0°C.
and stirred at 0 to 5° C. for 1 hour to prepare an active acid solution. Add this 1'&4'I# solution to 7-amino-3
-Vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester salt chloride (2,2f') and trimethylsilylacetamide (7,0y) chloride 1f L/
G ml ) solution at -135'C, -10~
-5℃? Stir for 30 minutes. The reaction mixture was diluted with ethyl acetate (
200d) and water, and the separated organic solvent layer was washed with a saturated aqueous solution of IIe# sodium hydroxide and a saturated aqueous solution of sodium chloride, and then dried with magnesium sulfate. The solvent was distilled off to obtain 7-(2-benzyloxycarbonylmethoxyimino-4-promo-3-oxobutylamide)-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester <tsy>*.

IR(Xジ*−ル): 3270..1773. 17
15゜1ssocs+−1 NMRJppm (DMSO−d@): 3.56. 
196(2H。
IR (X Di*-R): 3270. .. 1773. 17
15°1ssocs+-1 NMRJppm (DMSO-d@): 3.56.
196 (2H.

ABq、 J=18Hz)、  4.57(21,a)
、  5.03(2H,s)、  6.23(2Ls)
、  5.30(IH,d。
ABq, J=18Hz), 4.57(21,a)
, 5.03 (2H,s), 6.23 (2Ls)
, 5.30 (IH, d.

J−5Hs)+  5.55(1111,d、 J=1
8Hm)、  5.61(IH,d、Js−11Hm)
、  5.90(III、ld、J−5゜8Hz)+ 
 &83()]]Ldd、J−IL11BHz+  7
.0製造例8 2−(L2.2−トリクロロエトキシカルボニルメトキ
シイミノ)−4−クロロ−3−オキソ酪酸エチルエステ
ル(20P )、チオ尿素(3,9F)および#駿ナト
リクム(4,2F)の、エタノール(SoWIl)およ
び水(50m/)中温合物を40℃でき時開撹拌した。
J-5Hs)+5.55(1111,d, J=1
8Hm), 5.61 (IH, d, Js-11Hm)
, 5.90 (III, ld, J-5°8Hz)+
&83()]] Ldd, J-IL11BHz+ 7
.. 0 Production Example 8 2-(L2.2-trichloroethoxycarbonylmethoxyimino)-4-chloro-3-oxobutyric acid ethyl ester (20P), thiourea (3,9F) and #Shun natrichum (4,2F), A warm mixture of ethanol (SoWIl) and water (50 m/s) was brought to 40° C. and stirred occasionally.

反応混合物から溶媒を留去した後、挾渣をジイソプロピ
ルエーテル中で粉末化した。沈澱をPRXし、ジイソプ
ロピルエーテルで洗浄して、2〜(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)−2−(LL2−トリクロロエトキシカ
ルボニルメトキシイミノ)酢酸エチルエステル(シン異
性体) (1@、@f )を得た。融点138〜141
℃。
After distilling off the solvent from the reaction mixture, the residue was triturated in diisopropyl ether. The precipitate was PRXed and washed with diisopropyl ether to give 2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(LL2-trichloroethoxycarbonylmethoxyimino)acetic acid ethyl ester (syn isomer) (1@, @f ) was obtained. Melting point 138-141
℃.

IR(スジ1−ル): 3400. 1750. 17
10゜1620、 1540611−1 1MRJppm  (DMSO−d、):  1.27
(3H,t、J−7Hz)。
IR (Streak 1-L): 3400. 1750. 17
10°1620, 1540611-1 1MRJppm (DMSO-d,): 1.27
(3H, t, J-7Hz).

4.32(FH,q、J=7Hz)、  4.93(2
B、s)。
4.32 (FH, q, J=7Hz), 4.93 (2
B, s).

4.97(21,s)、 6.93(IH,s)、  
7.27(2H。
4.97 (21, s), 6.93 (IH, s),
7.27 (2H.

製造例9 ヒドラジン水化物(&l’−)のメタノール(16d)
溶液を2−7タルイミドオキシ酢酸ベンジルエステル(
46,OF)のテトラヒドロフラン(150ゴ)中懸濁
液に加え、混合物を常温て30分間撹拌し友。反t5混
合物に20−塩酸を水冷下に加え、次いで同湿度で10
分間撹拌した。不溶物をF去して2−アミノオキシ酢酸
ベンジルエステルを含む溶液を得た。この溶液に(2−
ホルムアミドチアゾールー4−イル)グリオキシル#(
24、7F )およびピリジン(24,ilm)を加え
、混合物を常温で3時間撹拌した。反応混合物を水酸化
ナトリクム10%水溶液でpay、5Kll整し、次い
で酢酸エチルで洗浄した。この水溶液をl〇−塩酸で酸
性化してpH2,OK:調整した後、酢酸エチルて抽出
し喪。抽出液を塩化ナトリクム水溶液で洗浄し、次いで
硫酸マグネシウムで乾燥した。
Production Example 9 Methanol (16d) of hydrazine hydrate (&l'-)
The solution was diluted with 2-7 talimidooxyacetic acid benzyl ester (
The mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. Add 20-hydrochloric acid to the anti-t5 mixture under water cooling, and then add 10-hydrochloric acid to the anti-t5 mixture under water cooling, and then
Stir for a minute. Insoluble matter was removed by F to obtain a solution containing benzyl 2-aminooxyacetic acid ester. Add (2-
Formamidothiazol-4-yl) glyoxyl #(
24,7F) and pyridine (24,ilm) were added and the mixture was stirred at ambient temperature for 3 hours. The reaction mixture was triturated with 10% aqueous sodium hydroxide solution for 5 kg, and then washed with ethyl acetate. This aqueous solution was acidified with 10-hydrochloric acid to adjust the pH to 2, and then extracted with ethyl acetate. The extract was washed with an aqueous sodium chloride solution and then dried over magnesium sulfate.

溶媒を留去し、残渣をジイソプロピルエーテル中で粉末
化して、2−ベンジルオキシカルボニルメトキシイミノ
−2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)#酸
(シン異性体) (37f )を得た。融点152℃(
分解)。
The solvent was evaporated and the residue was triturated in diisopropyl ether to give 2-benzyloxycarbonylmethoxyimino-2-(2-formamidothiazol-4-yl)# acid (syn isomer) (37f). Melting point: 152℃ (
Disassembly).

IR(スジ1−ル): 3350. 1?30. 17
00e11−11MRlppm  (DM80−a、)
:  4.87(2H,り、  5.20(2H,g:
L  7.30(5H,s)、  7.52(1111
,s)。
IR (Streak 1-L): 3350. 1?30. 17
00e11-11MRlppm (DM80-a,)
: 4.87 (2H, ri, 5.20 (2H, g:
L 7.30 (5H, s), 7.52 (1111
,s).

8.53(IH,s)、  12.57(IH,ブロー
ド 8)製造例10 オキシ塩化リン(lL4y)およびN、N−ジメチルホ
ルムアミド(4,0y)から常法によりビルスマイヤー
試薬を製造し友。2−第3級ブトキシカルボニルメトキ
シイミノ−2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イ
ル)酢酸(シン異性体)(]&5p)を前記ビルスマイ
ヤー試薬のテトラヒドロフラン(100s/)中懸濁液
に水冷下に撹拌しながら加え、同温度て30分間撹拌し
て活性酸溶液を製造した。
8.53 (IH, s), 12.57 (IH, Broad 8) Production Example 10 Vilsmeier reagent was produced from phosphorus oxychloride (lL4y) and N,N-dimethylformamide (4,0y) by a conventional method. . 2-tert-butoxycarbonylmethoxyimino-2-(2-formamidothiazol-4-yl)acetic acid (syn isomer) (] & 5p) was added to a suspension of the Vilsmeier reagent in tetrahydrofuran (100 s/) under water cooling. and stirred at the same temperature for 30 minutes to prepare an active acid solution.

一方、7−アミノ−3−ヒドロキシメチル−3−セフェ
ム−4−カルボンall!(11,5P)を炭酸水素ナ
トリウム(&4F)の水(50sf)およびアセトン(
sod)溶液に溶解した。この溶液に前記活性酸溶液を
3〜8℃で滴下し九。この開脚酸ナトリクム2〇−水溶
液に上り混合物のpH値を7〜8に維持し、さらに混合
物を同温度で1時周撹拌し友。その後反応混合物を10
%塩駿てpH6,0KII整し、酢酸エチルで洗浄して
、7−(2−第3級ブトキシカルボニルメトキシイミノ
−2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)アセ
トアミド]−3−ヒドロキシメチル−3−セフェA−4
−カルボン11F(シン異性体)を含む水溶液を得た。
On the other hand, 7-amino-3-hydroxymethyl-3-cephem-4-carbon all! (11,5P) in sodium bicarbonate (&4F) in water (50sf) and acetone (
sod) solution. 9. Add the active acid solution dropwise to this solution at 3-8°C. Add this sodium chloride acid 20-aqueous solution, maintain the pH value of the mixture at 7 to 8, and stir the mixture for 1 hour at the same temperature. The reaction mixture was then diluted with 10
Adjust the pH to 6.0KII by adding % salt, wash with ethyl acetate, and prepare 7-(2-tert-butoxycarbonylmethoxyimino-2-(2-formamidothiazol-4-yl)acetamide]-3-hydroxymethyl- 3-Sefe A-4
- An aqueous solution containing carvone 11F (syn isomer) was obtained.

この水溶液にジフェニルジアゾメタンの酢酸エチル溶液
(1ミリ七に/d ”)(100MIl)を加え、10
−塩酸でpm、t5Kml整し六。11潟で2時間撹拌
した後、溶液を酢酸エチルとテトラヒドロ7クンとの混
合溶媒(1:1)て抽出した。
To this aqueous solution was added an ethyl acetate solution of diphenyldiazomethane (1 ml/d") (100 MIl),
- Adjust pm and t5Kml with hydrochloric acid. After stirring for 2 hours at No. 11, the solution was extracted with a mixed solvent of ethyl acetate and tetrahydrochloride (1:1).

抽出液を脚酸水素ナトリクム飽和水溶液および塩化ナト
リクム水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで1を燥
した。溶媒を留去し、残渣をジエチルエーテルて粉末化
して、7−(2−第3級ブトキシカルボニルメトキシイ
ミノ−2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)
アセトアミド〕−3−ヒドロキシメチル−3−セフェム
−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル(シン真性体
)(1g、5F)を得た。
After washing the extract with a saturated aqueous solution of sodium legate and an aqueous solution of sodium chloride, 1 was dried over magnesium sulfate. The solvent was distilled off, and the residue was powdered with diethyl ether to give 7-(2-tert-butoxycarbonylmethoxyimino-2-(2-formamidothiazol-4-yl)).
Acetamide]-3-hydroxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (synthetic form) (1 g, 5F) was obtained.

IR(ヌジ*”ル): 32GG、  1785. 1
720゜16g01111+−” MMRappw+  (DM80−d4):  1.4
7(9H,a)、  3.68(2H= s)−435
(2H−4J5Hz)、4−7 (2Hpa)y  [
27(IH,d、J=5Hz)、  5.97(11,
4d。
IR: 32GG, 1785.1
720°16g01111+-” MMRappw+ (DM80-d4): 1.4
7(9H,a), 3.68(2H=s)-435
(2H-4J5Hz), 4-7 (2Hpa)y [
27 (IH, d, J=5Hz), 5.97 (11,
4d.

J=5.8Hz)、  6.97(IH,s)、  7
.2−7.77(IIH。
J=5.8Hz), 6.97(IH,s), 7
.. 2-7.77 (IIH.

m)−&5g(IH,a)、  8.67(IH,d、
 J=8Hz)。
m)-&5g(IH,a), 8.67(IH,d,
J=8Hz).

12.70(IH,a) 製造例11 7−[2−@3級グトキシヵルポニルメトキシイミノ−
2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)アセト
アミド)−3−t=ドロキシメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸ベンズヒドリルエステル(シン異性体)(
2,IP)と五塩化リン(1,1jF)との塩化メチレ
ン(20m/)溶液にピリジ>(a、45f)を−20
’CでmL、−20〜−5℃で2時間撹拌した。5c応
混合物を10チ塩酸および塩化ナトリクム氷溶渡で洗浄
し、次いで硫駿マグネシクムで乾燥した。溶媒を留去し
て7−(2−II3Mブトキシカルボニルメトキシイミ
ノ−2−(2−ホルムアミドチアゾ・−ルー4−イル)
アセトアミド]−3−クロロメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸ベンズヒドリルエステル(シン異性体)(
λxy>を得た。
12.70 (IH, a) Production Example 11 7-[2-@tertiary gutoxycarponylmethoxyimino-
2-(2-formamidothiazol-4-yl)acetamido)-3-t=Droxymethyl-3-cephem-4
-Carboxylic acid benzhydryl ester (syn isomer) (
2, IP) and phosphorus pentachloride (1,1jF) in methylene chloride (20 m/), add pyridine (a, 45f) to -20
mL at 'C, and stirred at -20 to -5°C for 2 hours. The 5c reaction mixture was washed with 10-dihydrochloric acid and sodium chloride ice solution, and then dried over magnesium sulfate. The solvent was distilled off to give 7-(2-II3M butoxycarbonylmethoxyimino-2-(2-formamidothiazo-4-yl).
Acetamide]-3-chloromethyl-3-cephem-4
-Carboxylic acid benzhydryl ester (syn isomer) (
λxy> was obtained.

工R(ヌジl−ル): 3200. 1780. 17
20゜1680、 1540ロー1 NMRJppm (DMSO−d6):1.42(9H
,s)、  3.66(2H,q、J=18Hz)+ 
 4.43(2H,a)、  4.64(2H9a)、
5.27(IHtdsJ5Hz)15.9B(IH,d
d、 J=5. 8Hz)、 IL96(IH,5)t
7.00−7.60(IIH,m)、  &5G(IH
,s)、 8.64(IH,d、J−8Hz)、  1
158(IH,ブロード S)製造例12 7−アミノ−3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸(121f )を水(200sk)Kll
濁し、ジシクロヘキシルアミン(7f)により中和して
pH7,5とした。この溶液にサリチルアルデヒド(!
6.42f)を滴下した。常温で2時間撹拌した徒、析
出した沈澱をP取、II!L脅して、7−サリチリデン
アミノ−3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸ジシクロヘキシルアミン塩(17,4y)を得
九。
Engineering R: 3200. 1780. 17
20°1680, 1540 low 1 NMRJppm (DMSO-d6): 1.42 (9H
,s), 3.66 (2H, q, J=18Hz)+
4.43 (2H, a), 4.64 (2H9a),
5.27 (IHtdsJ5Hz) 15.9B (IH, d
d, J=5. 8Hz), IL96(IH,5)t
7.00-7.60 (IIH, m), &5G (IH
, s), 8.64 (IH, d, J-8Hz), 1
158 (IH, Broad S) Production Example 12 7-amino-3-hydroxymethyl-3-cephem-4
-carboxylic acid (121f) in water (200sk)
The mixture became cloudy and neutralized with dicyclohexylamine (7f) to pH 7.5. Add salicylaldehyde (!
6.42f) was added dropwise. After stirring at room temperature for 2 hours, collect the precipitate, II! 7-salicylideneamino-3-hydroxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid dicyclohexylamine salt (17,4y) was obtained.

IR(Xジa−ル)= 3300. 1780.164
0゜1560m−1 NMRJppm (DMSO−d、) : 0.9−2
.2(22H,m)。
IR(Xa-R)=3300. 1780.164
0゜1560m-1 NMRJppm (DMSO-d,): 0.9-2
.. 2 (22H, m).

3.5(2H,ブロード s)+  4.2(2H,!
Q)、  5.15(II(t d、 J−51!x)
*  s、s (IHI d、 J−=5Hz)。
3.5 (2H, broad s) + 4.2 (2H,!
Q), 5.15 (II(t d, J-51!x)
*s, s (IHI d, J-=5Hz).

&8 7−8 (4H−m)−8,8(I He s 
)製造例13 製造例12の方法に準じて、7−ア三ノー3−ヒトOキ
シメチルー3−セフェム−4−カルボン酸(10y)を
ベンズアルデヒド(t2p)12よひジシクロヘキシル
アミン<7.2Sf!>ト水(200/)中で反応させ
ることKより、7−ペンジリデンアミノー3−ヒドロキ
シメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ジシクロヘキ
シルアミン塩Cl5P)を得た。
&8 7-8 (4H-m)-8,8(I He s
) Production Example 13 According to the method of Production Example 12, 7-asanino-3-human Ooxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (10y) was mixed with benzaldehyde (t2p) 12 and dicyclohexylamine<7.2Sf! 7-penzylideneamino-3-hydroxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid dicyclohexylamine salt Cl5P) was obtained by reacting in water (200%).

IR(ヌジ覆−ル): 3300. 1780. 16
50゜1560511−1 Nan Jppm (nMso−a、) : &91.
2(22H,m)13.5(2H,ブロード s)、 
 4.15(2H,ムBq。
IR (Nuji Reversal): 3300. 1780. 16
50゜1560511-1 Nan Jppm (nMso-a,): &91.
2 (22H, m) 13.5 (2H, broad s),
4.15 (2H, MUBq.

J−14Hg)、5.15(IH,d、J−5Hz)、
5.5(IH,d、J−5Hz)、7.3−&1(5H
,m)。
J-14Hg), 5.15 (IH, d, J-5Hz),
5.5 (IH, d, J-5Hz), 7.3-&1 (5H
, m).

8.55(IH,s) 製造例14 7−?リチリデンアミノー3−ヒドロキシメチル−3−
セラエム−4−カルボン酸ジシクロヘキシルアミン塩(
3f)の酢酸エチル(60+/)中綴11J#K P 
−トルエンスルホン酸(1,IP)の酢酸エチル溶液を
撹拌下に滴下し、常温で1時間撹拌した。沈澱をF去し
た後、F液を過剰のジフェニルジアゾメタンの酢酸エチ
ル溶液て1時同処理した。溶媒を留去し、残渣をジイソ
プロピルエーテル中で粉末化り、F取し友後乾燥して、
7−サリチリデンアミノ−3−ヒドロキシメチル−3−
セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル(2
L61F)を得た。
8.55 (IH, s) Production Example 14 7-? lylideneamino-3-hydroxymethyl-3-
Celaem-4-carboxylic acid dicyclohexylamine salt (
3f) ethyl acetate (60+/) middle stitch 11J#K P
An ethyl acetate solution of -toluenesulfonic acid (1, IP) was added dropwise with stirring, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. After removing the precipitate from F, the F solution was simultaneously treated with an excess diphenyldiazomethane in ethyl acetate solution. The solvent was distilled off, the residue was powdered in diisopropyl ether, removed from F, and dried.
7-Salicylideneamino-3-hydroxymethyl-3-
Cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (2
L61F) was obtained.

IR(ヌジ理−ル): 3470. 1760.170
0゜1620as+−1 NMRJppm (DMSO−d6):  17(2H
,s)、4.3(2H2口)、  Li2(IH,ブロ
ード) 、3−s (IHT d。
IR: 3470. 1760.170
0゜1620as+-1 NMRJppm (DMSO-d6): 17(2H
, s), 4.3 (2H2 mouth), Li2 (IH, broad), 3-s (IHT d.

J−511z)、  5.71(IH,d、 I=5H
ys)、  &96(IH。
J-511z), 5.71 (IH, d, I=5H
ys), &96 (IH.

s+)、  7.0−7.7(14H,■)I &8(
IH,a)製造例15 7−サリチリデンアミノ−3−ヒドロキシメチル−3−
セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル(1
,01f )を塩化メチレン(10m/)K溶解して一
30℃に冷却した。この溶液に五塩化リン(0,4@ 
f )を加え、次いでピリジン(0゜1jlsf)を加
え丸。反応混合物を−30〜−20℃で1時間撹拌しえ
後、氷水中に注いだ。分離し九有機層を取り、水および
塩化ナトリクム水溶液で洗◆し、次いで硫酸マグネシク
ムで乾燥した。
s+), 7.0-7.7 (14H,■)I &8(
IH, a) Production Example 15 7-Salicylideneamino-3-hydroxymethyl-3-
Cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (1
, 01f) was dissolved in methylene chloride (10 m/)K and cooled to -30°C. Add phosphorus pentachloride (0,4@
Add f ), then add pyridine (0°1jlsf) and make a circle. The reaction mixture was stirred at -30 to -20°C for 1 hour and then poured into ice water. The organic layer was separated, washed with water and an aqueous sodium chloride solution, and then dried over magnesium sulfate.

溶媒を減圧下に留去して、7−4jリチリデンアミノー
3−クロaメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ベン
ズヒドリルエステル(0,9f)を得た。
The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 7-4j lylideneamino-3-chloroamethyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (0,9f).

IR(スジ1−ル): 1775. 1710. 16
05゜Is 60 (s)asg−1 NIIRJppm (DMSO−d、) : 3.85
(2H,ムBq。
IR (Stripe 1-L): 1775. 1710. 16
05゜Is 60 (s) asg-1 NIIRJppm (DMSO-d,): 3.85
(2H, MuBq.

J−18Hz)、  4.55(2H,s)、  &4
0(IH,a)。
J-18Hz), 4.55(2H,s), &4
0(IH, a).

5.50(IH,d、 J=5H!I)、  5.85
(IH,d、 Jm5Hz)。
5.50 (IH, d, J=5H!I), 5.85
(IH, d, Jm5Hz).

7.05(IH,a)、  7.2−7.8(14H,
m)。
7.05 (IH, a), 7.2-7.8 (14H,
m).

&95(IH,s) 製造例16 ツーサリチリデンアミノ−3−クロロメチル−3−セフ
ェム−4−カルボン駿ベンズヒドリルエステル(4F)
のジメチルホルムアミド(10s/)冷1液K)リフェ
ニルホスフィン(22F)およびiり化ナトリクムを撹
拌下に加え九。常温で2時間撹拌した後、反応混合物を
イソプロピルアルコール(250s/)中に注ぎ、析出
した固体(&7F)をr取した。この固体の塩化メチレ
ン(10反t3混金物を巌駿水素ナトリクム飽和水溶液
でpH&0Kli’Jiした。常温で1時間撹拌した後
、分離した有機層を水および塩化ナトリクム水溶液で洗
浄し、次いで硫酸マグネシウムでt燥した。溶媒を減圧
下に留去して、7−サリチ°リデンアミノー3−ビニル
−3−セフェム−4−カルボン駿ベンズヒドリルエステ
ル(3y)を得九。
&95(IH,s) Production Example 16 Tsusalicylidene amino-3-chloromethyl-3-cephem-4-carvone benzhydryl ester (4F)
Add dimethylformamide (10 s/c) cold 1 liquid K) Riphenylphosphine (22F) and sodium chloride under stirring. After stirring at room temperature for 2 hours, the reaction mixture was poured into isopropyl alcohol (250s/), and the precipitated solid (&7F) was collected. This solid methylene chloride (10 anti-t3 mixture) was adjusted to pH & 0 Kli'Ji with a saturated aqueous solution of sodium chloride. After stirring at room temperature for 1 hour, the separated organic layer was washed with water and an aqueous solution of sodium chloride, and then with magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 7-salicylideneamino-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic benzhydryl ester (3y).

IR(ヌジッール): 1770. 1710. 16
20゜1580 (slam−1 MMRIpp醜 (DMSO−d、)  :  3.8
5(21(、AB(1゜J=18Hz)、  5.30
(IH,d、 J−11Hz)、  5.42(IH,
d、J=ii1m)、  5.65(lH,d、J=1
8Hz)。
IR (Nuzir): 1770. 1710. 16
20°1580 (slam-1 MMRIpp ugly (DMSO-d,): 3.8
5(21(,AB(1°J=18Hz), 5.30
(IH, d, J-11Hz), 5.42 (IH,
d, J=ii1m), 5.65(lH,d, J=1
8Hz).

5.75(IH,d、 J=5Hz)、  6.90(
IH,dd、 J=11゜18Hz)、  7.05(
11,a)、  7.2−7.9(14H,in)。
5.75 (IH, d, J=5Hz), 6.90 (
IH, dd, J=11°18Hz), 7.05(
11, a), 7.2-7.9 (14H, in).

−8,95(IN、 @) 製造例17 7−すりチリアンアミノ−3−ビニル−3−セフェム−
4−カルボン駿ベンズヒドリルエステル(1,6F)の
塩化メチレン?zosz)およびアニソール(5ml)
中溶液にトリフルオロ酢酸(6d)を撹拌下に滴下し、
常−で1時間撹拌した。反応混合物をジイソプロピルエ
ーテル中に注ぎ、沈澱をP取して水中にS濁し、次いで
炭酸水素ナトリクム飽和水溶液でpH3,5に調整した
。固体を枦取して、7−アミノ−3−ビニル−3−セフ
ェム−4−カルボン#(0,1’)を得た。
-8,95 (IN, @) Production Example 17 7-Surithiyanamino-3-vinyl-3-cephem-
Methylene chloride of 4-carvone benzhydryl ester (1,6F)? zosz) and anisole (5ml)
Trifluoroacetic acid (6d) was added dropwise to the medium solution while stirring,
The mixture was stirred at constant temperature for 1 hour. The reaction mixture was poured into diisopropyl ether, the precipitate was taken up and suspended in water, and then the pH was adjusted to 3.5 with a saturated aqueous solution of sodium bicarbonate. The solid was collected and 7-amino-3-vinyl-3-cephem-4-carvone #(0,1') was obtained.

工R(ヌジョール):l800. 1605国−1製造
例18 2−ヒドロキシイミノ−3−オキソ酪酸第三級ブチルエ
ステルCaL8f>および炭駿カリクム(51,8F)
の、酢酸エチル(70gg)およびN。
Engineering R (Nujol): l800. 1605 Country-1 Production Example 18 2-Hydroxyimino-3-oxobutyric acid tertiary butyl ester CaL8f> and Sumashun Kalicum (51,8F)
of ethyl acetate (70 gg) and N.

N−ジメチルホルムアミド(70aff)中綴濁液に1
クロロ@駿2,2.2−トリクロロエチルエステル(5
&5p)を加え、45〜48℃で15時間撹拌し是。不
溶の無機物をF去し、F*に水と酢酸エチルを加えた。
N-dimethylformamide (70 aff)
Chloro@Shun 2,2.2-trichloroethyl ester (5
&5p) and stir at 45-48°C for 15 hours. Insoluble inorganic substances were removed from F*, and water and ethyl acetate were added to F*.

分離し九酢酸エチル溶液を水および塩化ナトリクム飽和
水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムでt、燥し喪。溶媒
を留去して、2−(2゜2.2−)!7クロロエトキシ
カルボニルメトキシイミノ)−3−オキソ酪酸第三級ブ
チルエステル(84,9y)を得た。
The separated ethyl nine acetate solution was washed with water and saturated aqueous sodium chloride solution, dried over magnesium sulfate, and washed. The solvent was distilled off to give 2-(2°2.2-)! 7chloroethoxycarbonylmethoxyimino)-3-oxobutyric acid tertiary butyl ester (84,9y) was obtained.

工R(フィルム):  1760(ブロード)、  1
700゜1615国m−1 MMRappvn (coco=):  1.52(9
H,s)、  2.35(3E、s )、4.85 (
2H2a )s  4−95 (2H2s )製造例1
9 2−(2,2,2−トリクロロエトキシカルボニルメト
キシイミノ)−3−オキソ酪酸第三級ブチルエステル(
29,SP)の酢酸(59s/)溶液に臭@(23,2
))を52℃で加え、5゛2〜68℃で15分周間拌し
た。反t3混合物から酢酸を減圧下で留去した後、残留
する姉を酢酸エチル(400sir)K#!解した。こ
の溶液をlOチ塩酸(20d)および塩化ナトリクム飽
和水溶液で洗浄した後、硫駿マグネシクムで乾燥した。
Engineering R (film): 1760 (broad), 1
700°1615 country m-1 MMRappvn (coco=): 1.52 (9
H, s), 2.35 (3E, s), 4.85 (
2H2a)s 4-95 (2H2s) Production Example 1
9 2-(2,2,2-trichloroethoxycarbonylmethoxyimino)-3-oxobutyric acid tertiary butyl ester (
The odor @ (23,2
)) was added at 52°C and stirred at 5°C to 68°C for 15 minutes. After distilling off the acetic acid from the anti-t3 mixture under reduced pressure, the remaining sister was converted into ethyl acetate (400 sir) K#! I understand. This solution was washed with lO dihydrochloric acid (20d) and a saturated aqueous solution of sodium chloride, and then dried over magnesium sulfate.

溶媒を留去して、4−プロモー2−(2,2,2−)リ
クロロエトキシ力ルポニルメトキシイミノ)−3−オキ
ソ酪酸(30,7F)を得九。
The solvent was distilled off to obtain 4-promo-2-(2,2,2-)lichloroethoxylponylmethoxyimino)-3-oxobutyric acid (30,7F).

IR(ヌジ曹−ル):1740(ブロード)1 160
9(!IIll−1N Jppm (CO/4): 4
.27(2H,s)、  478(2H,s)、  4
9g(2H,s)製造例20 製造例19の方法に準じて、2−(2,2,2−トリク
ロロエトキシ力ルポニルメトキシイミノ)−3−オキソ
m酸第三級ブチルエステルC5,0?>を塩化スルフリ
ル(2,83wl1)と反応させることにより、4−ク
ロロ−2−(λ2.2− )リクロロエトキシカルボニ
ルメトキシイミノ)−3−オキソ酪酸(4,70jF)
を製造した。
IR (Nuji Soru): 1740 (Broad) 1 160
9(!IIll-1N Jppm (CO/4): 4
.. 27 (2H, s), 478 (2H, s), 4
9g (2H,s) Production Example 20 According to the method of Production Example 19, 2-(2,2,2-trichloroethoxylponylmethoxyimino)-3-oxoma acid tertiary butyl ester C5,0? 4-chloro-2-(λ2.2-)lichloroethoxycarbonylmethoxyimino)-3-oxobutyric acid (4,70jF) by reacting > with sulfuryl chloride (2,83wl1)
was manufactured.

工R(フィルム):1740(ブロード)t  171
0cm−”NMRJppm (CC/4 ) : 4.
5G(211!、 s)+  4.17(2H,s)、
  4.93(2H,s)製造例21 4−プロモー2−(λλ2−トリクロロエトキシカルボ
ニルメトキシイミノ)−3−オキソ酪酸nu’)のテト
ラヒトay’)ン(50d)jlFHlにチオ尿素(3
,9P)および酢酸ナトリフ^(4゜2f>の水溶液(
50Hz)を加え、40℃で2.5時間撹拌した。反応
混合物を最初の容積の半量まで減圧濃縮し、訳酸水素ナ
トリクム飽和水溶液でpH7,5に調整し、次いで酢酸
エチルで洗浄した。
Engineering R (film): 1740 (broad) t 171
0cm-”NMRJppm (CC/4): 4.
5G (211!, s) + 4.17 (2H, s),
4.93(2H,s) Production Example 21 Thiourea (3
, 9P) and an aqueous solution of sodium acetate (4゜2f>
50 Hz) and stirred at 40°C for 2.5 hours. The reaction mixture was concentrated under reduced pressure to half its original volume, adjusted to pH 7.5 with saturated aqueous sodium hydroxide solution, and then washed with ethyl acetate.

この水溶液をさらに10%塩駿でpalOKl1m隻し
た後、水を傾潟して除いた。残留物をテトラヒドロ7′
yン(200wIl)に溶解し、硫酸マグネシウムで乾
燥しえ。溶媒を情夫して得た油状物をジイソプロピルエ
ーテル中で粉末化して、2−(2−アミツチアゾールー
4−イル)−2−(乳2.2−トリクロロエトキシカル
ボニルメトキシイミ/)酢#(シン異性体)(3,51
)を得た。
This aqueous solution was further diluted with 10% salt and water was removed by decantation. The residue is diluted with tetrahydro7'
Dissolve in yin (200 wIl) and dry over magnesium sulfate. The oil obtained by removing the solvent was powdered in diisopropyl ether to give 2-(2-amitthiazol-4-yl)-2-(milk 2,2-trichloroethoxycarbonylmethoxyimide/) vinegar #( syn isomer) (3,51
) was obtained.

工R(スジ1−ル):3200(ブロード)、  17
62゜1610(ブロード)cs+ ” NIIRJppm (DM80−d、) : 4.88
(2H,8)、  4.96(2n、s)、  184
(IHle)+  7.2(2H,ブロード8)製造例
22 1造例8の方法に早じて、4−ブロモ−2−ベンジルオ
キシカルボニルメトキシイミノ−3−オキソ賂11(I
OP)を酢酸ナトリウム(2,759)の存在下にチオ
尿素(2,6y)と反応させることによ抄、2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−ベンジルオキシカ
ルボニルメトキシイミノ酢#(シン異性体)(1,7y
)を製造した。
Engineering R (line 1-rule): 3200 (broad), 17
62°1610 (broad) cs+” NIIRJppm (DM80-d,): 4.88
(2H, 8), 4.96 (2n, s), 184
(IHle) + 7.2 (2H, Broad 8) Production Example 22 1 Prior to the method of Preparation Example 8, 4-bromo-2-benzyloxycarbonylmethoxyimino-3-oxo
2-(2-
aminothiazol-4-yl)-2-benzyloxycarbonylmethoxyimino vinegar # (syn isomer) (1,7y
) was manufactured.

IR(Xジw−ル):  1730. 1610(ブロ
ード)1−1HMB ippm、 (DM80−d6 
): 478(2H,e)。
IR (X-wheel): 1730. 1610 (broad) 1-1HMB ippm, (DM80-d6
): 478 (2H, e).

5.18(2H,e)、  &86(IH,a)、  
7.48(2H。
5.18 (2H, e), &86 (IH, a),
7.48 (2H.

ブロード a ) 、7.56 (5H; 8 )製造
例23 オキシ塩化リン(7,1m/)およびH,M−ジメチル
ホルムアミド(6,0sd)から調製し友ビルスマイヤ
ー試薬をテトラヒドロフラン(25d)KWA濁した。
Broad a), 7.56 (5H; 8) Preparation Example 23 Vilsmeyer reagent prepared from phosphorus oxychloride (7.1 m/) and H,M-dimethylformamide (6.0 sd) was dissolved in tetrahydrofuran (25 d) with KWA turbidity. did.

この懸濁液に4−プロモー2−(Z、2.2−トリクロ
ロエトキシカルボニルメトキシイミノ)−3−オキソ酪
酸(25F)を加え、5℃で1時間撹拌して活性酸溶締
を製造した。この溶液を7−アミノ−3−ビニル−3−
セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル塩酸
塩(1&2jF)とトリメチルシリルアセトアミド(4
0f! )の酢酸エチル(140sd)溶液にニー30
℃て一挙に加え、−15〜−5℃で1時間撹拌した。反
応混合物を酢酸エチルで抽出し、抽出液を嶽酸水素ナト
リクム飽和水溶液および塩化ナトリクム飽和水溶液で洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して、
7−〔4−プロモー2−(2,龜2−トリクロロエトキ
シカルボニルメトキシイミノ)−3−オキソブチルアミ
ド]−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベン
ズヒドリルエステル(2&Op)を得た。
4-promo 2-(Z, 2,2-trichloroethoxycarbonylmethoxyimino)-3-oxobutyric acid (25F) was added to this suspension, and the mixture was stirred at 5°C for 1 hour to produce active acid fixation. This solution was added to 7-amino-3-vinyl-3-
Cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester hydrochloride (1&2jF) and trimethylsilylacetamide (4
0f! ) in ethyl acetate (140 sd) solution.
The mixture was added all at once at -15 to -5°C and stirred for 1 hour. The reaction mixture was extracted with ethyl acetate, and the extract was washed with a saturated aqueous solution of sodium hydrogen sulfate and a saturated aqueous solution of sodium chloride, and dried over magnesium sulfate. By distilling off the solvent,
7-[4-promo 2-(2, 2-trichloroethoxycarbonylmethoxyimino)-3-oxobutyramide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (2&Op) was obtained.

rR(CHCI、):  3400(ブロード)、  
1775゜1713、 1690as+ ” NMRJppm (DM80−a、): 3.4g、 
 3.88(2H。
rR (CHCI,): 3400 (broad),
1775°1713, 1690as+” NMRJppm (DM80-a,): 3.4g,
3.88 (2H.

ABq、 J−18Hz)、  4.8−5.5 (8
H,m)、  5.5(I L d−J−=18 Hz
 )、5.80 (I HT d d 、J =5 。
ABq, J-18Hz), 4.8-5.5 (8
H, m), 5.5 (IL d-J-=18 Hz
), 5.80 (I HT d d , J =5.

8Ifz)、  6.83(LH+ d4  J−11
,18Hz)。
8Ifz), 6.83(LH+ d4 J-11
, 18Hz).

6.85(IH,a)、  7.3(IOH,m)、 
 9.4(IH,d。
6.85 (IH, a), 7.3 (IOH, m),
9.4 (IH, d.

J=8Hz) 製造例24 7−(5−7ミノー5−カルボキシペンタンアミF)−
3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸
ナトリクム(10y)の水(50d)およびアセトン(
30m)中溶液にクロロぎ酸エチル(7,142)を加
え、7〜8℃で45分間撹拌した。この開嶽酸カリクム
4o−水溶液によりpH値を7.8〜Bに維持した。こ
の溶液にジフェニルジアゾメタン(14,7f)の酢酸
エチル(122sZ)溶練を加え、常温で1時間撹拌し
た。
J=8Hz) Production Example 24 7-(5-7 minnow 5-carboxypentanami F)-
Sodium 3-hydroxymethyl-3-cephem-4-carboxylate (10y) in water (50d) and acetone (
Ethyl chloroformate (7,142) was added to the solution in 30m) and stirred at 7-8°C for 45 minutes. The pH value was maintained at 7.8-B with this aqueous potassium chloride solution. To this solution was added diphenyldiazomethane (14.7f) dissolved in ethyl acetate (122sZ), and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour.

この間pH値を6N塩峻で2.5に維持し喪。有機層を
分離して塩化ナトリクム水溶液で洗滲した。
During this time, the pH value was maintained at 2.5 with 6N salt. The organic layer was separated and washed with an aqueous sodium chloride solution.

溶媒を留去して得た残渣を7七トン(30m)に溶解し
た。このア七トン溶液をジイソプロピルエーテル(30
011d)に加え、析出した沈澱をP取して、7−(5
−ベンズヒドリルオキシカルボニル−5−エトキシカル
ボニルアミノペンタンアミF)−3−ヒドロキシメチル
−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステ
ル(18,15y)を得九。
The residue obtained by distilling off the solvent was dissolved in 77 tons (30 m). This a7ton solution was mixed with diisopropyl ether (30
011d), the precipitate was collected, and 7-(5
-benzhydryloxycarbonyl-5-ethoxycarbonylaminopentanami F)-3-hydroxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (18,15y) was obtained.

IR(スジ1−ル): 3300. 1780. 17
2G。
IR (Streak 1-L): 3300. 1780. 17
2G.

1670α−1 NMRJppm (DM80−ds/DzO) : 1
.15(3H,t。
1670α-1 NMRJppm (DM80-ds/DzO): 1
.. 15 (3H, t.

J=7Hz)、  1.43−137(6H,m)、 
 3.4−3.73(3Hem)14.03(2H,q
、J=7Hz)、  4−27(3H,m)、  5.
13(IHed、J−5Hz)* 5.71(IH,d
d、 J−8,5Hz)、  &83.(IH,5)−
6,97(IH,e)、 7.17−7.7(21H,
m)t a、5s(IH,d、 J=8Lz) 製造例25 製造例24の方法に準じて、7−(5−アミノ−5−カ
ルボキシペンタンアミド)−3−ヒドロキシメチル−3
−セフェム−4−カルボン駿ナトリクム(1(1)をイ
ソシアン酸フェニル(111y)およびジフェニルジア
ゾメタン(14,7y)と反応させることKより、7−
(5−ベンズヒドリルオキシカルボニル−5−(3−フ
ェニルフレイド)ペンタンアミド〕−3−ヒドロキシメ
チル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(
l象o@y)を製造した。
J=7Hz), 1.43-137(6H,m),
3.4-3.73 (3Hem) 14.03 (2H, q
, J=7Hz), 4-27 (3H, m), 5.
13 (IHed, J-5Hz) * 5.71 (IH, d
d, J-8,5Hz), &83. (IH,5)-
6,97 (IH, e), 7.17-7.7 (21H,
m) ta, 5s (IH, d, J=8Lz) Production Example 25 According to the method of Production Example 24, 7-(5-amino-5-carboxypentanamide)-3-hydroxymethyl-3
-Cephem-4-carboxylic sodium trichum (1(1)) is reacted with phenyl isocyanate (111y) and diphenyldiazomethane (14,7y), 7-
(5-benzhydryloxycarbonyl-5-(3-phenylfreido)pentanamide)-3-hydroxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl (
1 elephant o@y) was manufactured.

NMRJppm (DM80−ds) : 1.28−
140(6H,+m)。
NMRJppm (DM80-ds): 1.28-
140 (6H, +m).

3.59(2H,s)、  4.21(2H,q、 J
−14Hz)。
3.59 (2H, s), 4.21 (2H, q, J
-14Hz).

42G−4,55(IH,m)、  5.1 (IH,
d、 J=5Hz)。
42G-4,55 (IH, m), 5.1 (IH,
d, J=5Hz).

5.6J1(IH,ld、J=5.8H2)、  6.
61(IH,d。
5.6J1 (IH, ld, J=5.8H2), 6.
61 (IH, d.

J=7Hm)、  6.81(IH,a)、  8.9
0(IH,s)。
J=7Hm), 6.81 (IH, a), 8.9
0(IH,s).

7.01−7.77(25H,m)、  8.59(I
H,5)t8、82 (IHe a−J=8Hz )製
造例26 製造例24の方法に準じて、7−(5−アミノ−5−カ
ルボキシペンタンアミド)−3−ヒドロキシメチル−3
−セフェム−4−カルボン駿ナトリクム(1(1’)を
N−プロピオニルオキシ7タルイミド(&65F)およ
びジフェニルジアゾメタン(14,7y)と反応させる
ととにより、7−(5−ベンズヒドリルオキシカルボニ
ル−5−7タルイミドベンタンアミド)−3−ヒドロキ
シメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリ
ルエステル(21,04P)を製造した。
7.01-7.77 (25H, m), 8.59 (I
H,5)t8,82 (IHe a-J=8Hz) Production Example 26 According to the method of Production Example 24, 7-(5-amino-5-carboxypentanamide)-3-hydroxymethyl-3
-Cephem-4-carbonyloxycarbonyl-7-(5-benzhydryloxycarbonyl- 5-7thalimidobentanamide)-3-hydroxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (21,04P) was prepared.

工R(ヌジrル): 3350. 1780. 171
5611−1HMRlppm (DM80−d6): 
1.4−2h53(6H,m)。
Engineering R: 3350. 1780. 171
5611-1HMRlppm (DM80-d6):
1.4-2h53 (6H, m).

3.35(IH,ba)、  3..60(2H,be
)、  425(2H9m )、4.83−5−13 
(I H* m )t S−08(IH,d、J=5H
m)、 5.68(IH,d d、  X−5Hz。
3.35 (IH, ba), 3. .. 60 (2H, be
), 425 (2H9m), 4.83-5-13
(IH*m)t S-08(IH, d, J=5H
m), 5.68 (IH, dd, X-5Hz.

8Hz)、6i、83(IHls)、  6.90(I
B−8)e7.07−7.67(20H,m)、  7
.9(4H,s)、  &82(I H= d、 J−
8Hz ) 製造例27 製造例24の方法に準じて、7−(5−アミノ−5−カ
ルボキシペンクンアミド)−3−ヒドロキシメチル−3
−セフェム−4−カルボン酸ナトリクム(IOP)をア
ヤチルクロリド(9,93y)およびジフェニルジアゾ
メタン(147y)と反応させる仁とにより、7−(5
−ベンズヒドリルオキシカルボニル−5−アセトアミド
ペンタンアミ1−3−ヒドロキシメチル−3−セフェム
−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル(3,94〕
)を製造し良。
8Hz), 6i, 83 (IHLs), 6.90 (I
B-8) e7.07-7.67 (20H, m), 7
.. 9 (4H, s), &82 (I H= d, J-
8Hz) Production Example 27 According to the method of Production Example 24, 7-(5-amino-5-carboxypencunamido)-3-hydroxymethyl-3
7-(5
-Benzhydryloxycarbonyl-5-acetamidopentanami 1-3-hydroxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (3,94)
) is manufactured.

IR(ヌジ璽−ル): 3280. 1780. 17
20゜1655(至)−1 NMRappm (DM80−di): 1.4−13
6(6H−!11)。
IR: 3280. 1780. 17
20°1655 (to)-1 NM Rappm (DM80-di): 1.4-13
6 (6H-!11).

1.90(3H,s)、  3.62(2H,s)、 
 425(2H,s)。
1.90 (3H, s), 3.62 (2H, s),
425 (2H, s).

4.28−45!(IH,m)、  5.1 (IH,
d、J=5Hz)。
4.28-45! (IH, m), 5.1 (IH,
d, J=5Hz).

5.71(11,dd、 J=5.8Hz)、  6.
79(IH,a)。
5.71 (11, dd, J=5.8Hz), 6.
79 (IH, a).

6.92(IH,s)、  7.0−7.74(21H
,m)、  &83(IH,d、 J−8H2) 製造例28 製造例24の方法に早じて、7−(5−アミノ−5−カ
ルボキシペンタンアミド)−3−とドロキシメチル−3
−セフェム−4−カルボン酸ナトリクム(IOP)をク
ロロぎ峻イソブチル(&98y)およびジフェニルジア
ゾメタン(14,7F)と反応させることKより、7−
(5−ベンズヒドリルオキシカルボニル−5−イソブト
キシカルボニルアミノペンタンアミド)−3−ヒドロキ
シメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリ
ルエステル17.45F)を製造し九。
6.92 (IH, s), 7.0-7.74 (21H
, m), &83 (IH, d, J-8H2) Production Example 28 Prior to the method of Production Example 24, 7-(5-amino-5-carboxypentanamide)-3- and droxymethyl-3
- From K, 7-
(5-Benzhydryloxycarbonyl-5-isobutoxycarbonylaminopentanamide)-3-hydroxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester 17.45F) was prepared.

工R(ヌジ厨−ル): 3300,1780t  17
20゜1670c11−1 NMRappvx (DMSO−d、/D、O): 0
.87(6H,d。
Engineering R (nuji kitchen): 3300,1780t 17
20゜1670c11-1 NMRappvx (DMSO-d, /D, O): 0
.. 87 (6H, d.

J−6Hz)+  l−33−15(6H,ma)−3
43(1■。
J-6Hz) + l-33-15(6H, ma)-3
43 (1■.

m)l  3.62(3■1m)1 3.77(2B、
d、J−MHz)。
m)l 3.62 (3■1m)1 3.77 (2B,
d, J-MHz).

4、23 (3H* va )、5−12 (I H2
4J−5Hz )I5.72(IH,d d、  J=
8Hz、  5Hz)、  6.82(lB、 s)、
  &93(IH,e)、  7.12−7.83(2
1H9* )−& 83 (I H2d+ J−8Hl
 )製造例29 7−(5−ベンズヒドリルオキシカルボニル−5−エト
キシカルボニルアミノペンタンアミド)−3−ヒドロキ
シメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリ
ルエステル(181! )の塩化エチレン(180m/
)溶液に五塩化リン(4,82y)およびピリジン(1
,83y)を−30〜−35℃で加えた。30分間撹拌
した後、水(180m/)を加え、有機層を分離し、塩
化ナトリクム水婢液で洗浄した。溶媒を留去し、残渣を
N、N−ジメチルホルAy= F(39j)K溶解した
。この溶液にトリフェニルホスフィン(&66P)とヨ
ク化ナトリクム(3,81P)を常温で加えた。1時間
撹拌した後、混合物をジイソプロピルアルコニル(lo
ses/)KG 〜5℃で加え、1時間放置した。沈澱
をP取し、ジイソプロピルアルコールで洗浄し、次いで
塩化エチレン(160m/)K溶解した。仁の溶液に水
(3!3m)とホルムアルデヒド36−水溶液を加え、
常温で70分間撹拌した。この間40−炭酸カリクム水
溶液でpH値を9.0Km持した。有機層を分離し1塩
化ナトリクム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
した。
4, 23 (3H* va), 5-12 (I H2
4J-5Hz) I5.72 (IH, d d, J=
8Hz, 5Hz), 6.82 (lB, s),
&93(IH,e), 7.12-7.83(2
1H9* )-& 83 (I H2d+ J-8Hl
) Production Example 29 7-(5-Benzhydryloxycarbonyl-5-ethoxycarbonylaminopentanamide)-3-hydroxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (181!) of ethylene chloride (180m/
) solution contains phosphorus pentachloride (4,82y) and pyridine (1
, 83y) was added at -30 to -35°C. After stirring for 30 minutes, water (180 m/) was added and the organic layer was separated and washed with aqueous sodium chloride solution. The solvent was distilled off, and the residue was dissolved in N,N-dimethylform Ay=F(39j)K. Triphenylphosphine (&66P) and sodium iodide (3,81P) were added to this solution at room temperature. After stirring for 1 hour, the mixture was diisopropylalkonyl (lo
ses/)KG was added at ~5°C and left for 1 hour. The precipitate was collected, washed with diisopropyl alcohol, and then dissolved in ethylene chloride (160 m/k). Add water (3!3m) and formaldehyde 36-aqueous solution to the kernel solution,
The mixture was stirred at room temperature for 70 minutes. During this time, the pH value was maintained at 9.0 Km with a 40-potassium carbonate aqueous solution. The organic layer was separated, washed with aqueous sodium monochloride solution, and dried over magnesium sulfate.

溶媒を留去し、残液をアセトン(30Hz)K溶解した
。このアセトシ溶液をジイソプロピルエーテル(300
m/)K加えた。析出した沈澱をF取し、ジインプロピ
ルエーテルで洗浄して、?−(5−ベンズしドリルオキ
シカルボニル−5−エトキシカルボニルアミノペンタン
アミド)−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン瞬
ベンズヒドリルエステル(1,82F)を得た。
The solvent was distilled off, and the remaining solution was dissolved in acetone (30 Hz). This acetoxy solution was mixed with diisopropyl ether (300
m/)K added. The deposited precipitate was collected by F, washed with diimpropyl ether, and washed with ? -(5-benzyloxycarbonyl-5-ethoxycarbonylaminopentanamide)-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic nicbenzhydryl ester (1,82F) was obtained.

工R(ヌジッール): 1780. 1715. 16
80(!II  ”NMRippm (DMSO−ds
/D20) : 1.17(3H2t。
Engineering R (Nuzir): 1780. 1715. 16
80(!II ”NMRippm (DMSO-ds
/D20): 1.17 (3H2t.

J=7IIZ)1 1.43−2.47 (611,m
)、  3.4−3.1(3■1m)、4.03(21
!、q、J−7Hz)、  5−22(I He d、
Jに511 z )−5,39(111,4Jl l 
III v )15−65 (I He dv J−1
8Hz )−5−78(l lll−d d。
J=7IIZ)1 1.43-2.47 (611, m
), 3.4-3.1 (3■1m), 4.03 (21
! , q, J-7Hz), 5-22 (I He d,
511 z )-5,39(111,4Jl l
III v ) 15-65 (I He dv J-1
8Hz)-5-78(lllll-d d.

J=8.5Hz)、  6.82(III、d d、J
−18,11Hz)。
J=8.5Hz), 6.82(III, d d, J
-18,11Hz).

8.83(IH,s)、  7.00(III、 s)
、7.17−7.9(21Ti、 m)、  &90(
IH,d、 J−8H2)製造例30 製造例29の方法に準じて、7−〔5−ベンズヒドリル
オキシカルボニル−5(37zニルクレイド)ペンタン
アミドノー3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル(18F)を五塩化
リン(4,54f)、ピリジン(1,72y)、)リフ
ェニルホスフィン(&29P)、ヨク化ナトリクム(3
,6F)およびホルムアルデヒド30%水溶液(33,
4m/)と反応させることによ!7.7−[5−ベンズ
ヒドリルオキシカルボニル−5−(3−7エニルクレイ
ト)ヘンタンアミl’]−3−ビニル−3−セフェム−
4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル(9゜34y)
を製造した。
8.83 (IH, s), 7.00 (III, s)
, 7.17-7.9(21Ti, m), &90(
IH, d, J-8H2) Production Example 30 According to the method of Production Example 29, 7-[5-benzhydryloxycarbonyl-5(37z nylclide) pentanamide no 3-hydroxymethyl-3-cephem-4-
Carboxylic acid benzhydryl ester (18F), phosphorus pentachloride (4,54f), pyridine (1,72y), )riphenylphosphine (&29P), sodium iodine (3)
, 6F) and 30% formaldehyde aqueous solution (33,
By reacting with 4m/)! 7.7-[5-benzhydryloxycarbonyl-5-(3-7enylcleito)hentanamyl']-3-vinyl-3-cephem-
4-Carboxylic acid benzhydryl ester (9°34y)
was manufactured.

工R(ヌジ璽−ル)=3330. 3250. 178
0゜1725、 1700. 1650国−1NIIR
lppm (DMSO−d、 ): 1.36−2.5
 (6H,m)。
Engineering R (Nuji Seal) = 3330. 3250. 178
0°1725, 1700. 1650 countries - 1NIIR
lppm (DMSO-d, ): 1.36-2.5
(6H, m).

176(2H,ABq、J=18Hs)、  4.28
−4.62(1111゜m)、  5.24(1■、 
d、 J=5Hz)、  5.38(IH,d。
176 (2H, ABq, J=18Hs), 4.28
-4.62 (1111゜m), 5.24 (1■,
d, J=5Hz), 5.38 (IH, d.

J=lIHz)+  5.55(IH,d、Jl7)1
z)、  &78(IH9d d、J−5Hz、8Hz
)+  6.65(IH,(1゜J−8Hz)、 fL
90(IH,d d、 J−11Hz、 17Hs)。
J=lIHz)+5.55(IH,d,Jl7)1
z), &78(IH9d d, J-5Hz, 8Hz
) + 6.65 (IH, (1°J-8Hz), fL
90 (IH, dd, J-11Hz, 17Hs).

6.86(IH,a)、  7.00(IH,s)、 
 7.18−7.69(2511,!Iり、  &63
(IH,8)、  &94(III、d、J=8Hz)
製造例31 製造例29の方法に準じて、7−(S−ベンズヒドリル
オキシカルボニル−5−7タルイミドペンタンアミド)
−3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4−カルボン
酸ベンズヒドリルエステル(zoy)を1熾化リン(4
,91’)、ピリジン(2,08F)、トリフェニルホ
スフィン(6,9F)、ヨク化ナトリクム(3,94F
>およびホルムアルデヒド30−水培液(36,6m)
と反応させることにより、7−(5−ベンズヒドリルオ
キシカルボニル−5−7タルイミドペンタンアミド)−
3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル(13,35F)を製造した。
6.86 (IH, a), 7.00 (IH, s),
7.18-7.69 (2511,!Iri, &63
(IH, 8), &94 (III, d, J=8Hz)
Production Example 31 According to the method of Production Example 29, 7-(S-benzhydryloxycarbonyl-5-7talimidopentanamide)
-3-Hydroxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (zoy)
,91'), pyridine (2,08F), triphenylphosphine (6,9F), sodium iodine (3,94F)
> and formaldehyde 30-water culture solution (36.6m)
By reacting with 7-(5-benzhydryloxycarbonyl-5-7talimidopentanamide)-
3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (13,35F) was produced.

IR(ヌジ璽−ル):3300. 1780. 172
0611−1FMRIppr!1 (DM80−d@)
: 1.34−15 (6H,m)。
IR (Nuji Seal): 3300. 1780. 172
0611-1FMRIppr! 1 (DM80-d@)
: 1.34-15 (6H, m).

3.62(1)1.ブロード s)t  3.72(2
a、粛)。
3.62(1)1. Broad s)t 3.72(2
a, Su).

s、 0−5−24 (I L va )、L 2 (
I Hld、J−5HS )+5.37(III、d、
J=11Hz)、  L53(1fI、d。
s, 0-5-24 (I L va ), L 2 (
I Hld, J-5HS) + 5.37 (III, d,
J=11Hz), L53 (1fI, d.

J=17Hz)、  5.75(IH,(l d、J−
5,8Hz)。
J=17Hz), 5.75(IH, (ld, J-
5,8Hz).

6.78(IH,d d、J=11.17Hz)、  
6.87(IH,e)、  7.0 (IH,e)、 
 7.17−7.83(20H,m)、7−94(4H
,e)、&92(IH,d、J=8Hs) 製造例32 五塩化リン(7,87F)の塩化エチレン(47゜75
1)溶液にピリジン(2,992)を5〜6℃で加えた
。30分間撹拌した後、7−(5−ベンズヒドリルオキ
シカルボニル−5−エトキシカルボニルアミノペンタン
アミド)−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸
ベンズヒドリルエステル(9,75P)を加えた。5〜
6℃で2時間撹拌した後、−30〜−20℃に冷却し、
混合物を2−メトキシエタノール(7,67/)で1.
5時間処理し、次いで水(10m/)で1時間処理した
6.78 (IH, d d, J=11.17Hz),
6.87 (IH, e), 7.0 (IH, e),
7.17-7.83 (20H, m), 7-94 (4H
, e), &92 (IH, d, J=8Hs) Production example 32 Ethylene chloride (47°75) of phosphorus pentachloride (7,87F)
1) Pyridine (2,992) was added to the solution at 5-6°C. After stirring for 30 minutes, 7-(5-benzhydryloxycarbonyl-5-ethoxycarbonylaminopentanamido)-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (9,75P) was added. 5~
After stirring at 6°C for 2 hours, cooled to -30 to -20°C,
The mixture was diluted with 2-methoxyethanol (7,67/) 1.
Treated for 5 hours, then treated with water (10 m/) for 1 hour.

沈澱をF取し、酢酸エチルおよびジイソプロピルアルコ
ールで洗浄して、7−アミノ−3−ビニル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル塩酸塩(1
,99F)を得た。
The precipitate was collected in F, washed with ethyl acetate and diisopropyl alcohol, and 7-amino-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester hydrochloride (1
, 99F) was obtained.

工R(ヌジ璽−ル): 1760. 1705. 15
80(!ll−1製造例33 製造例32の方法に早じて、7−[5−ベンズヒドリル
オキシカルボニル−5(37zニルクレイド)ペンクン
アミド〕−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸
ベンズヒドリルエステル(9,25りを五塩化リン(7
,04F)、ピリジン(2,77F)および2−メトキ
シエタノール(6,88F)と反応させることKより、
7−ア三ノー3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン
酸ベンズヒドリルエステル塩酸塩(3,45p)を製造
した。
Engineering R: 1760. 1705. 15
80(!ll-1 Production Example 33 Prior to the method of Production Example 32, 7-[5-benzhydryloxycarbonyl-5(37znylclide)pencunamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid Benzhydryl ester (9,25) Phosphorus pentachloride (7
,04F), by reacting with pyridine (2,77F) and 2-methoxyethanol (6,88F),
7-Asanno-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester hydrochloride (3,45p) was prepared.

IR(ヌジ冒−ル):  1760. 1705. 1
580画一1製造例34 製造例32の方法に準じて、?−(5−ベンズヒドリル
オキシカルボニル−5−ツタルイミドペンタンアミF)
−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒ
ドリルエステル(113F)を五塩化リン(5F)、ピ
リジン(1,96p)および2−メトキシエタノール(
9,74F)と反応させることKより、7−アミノ−3
−ビニル−3=セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリ
ルエステル塩酸塩(1,2F)を製造した。
IR: 1760. 1705. 1
580 Uniform 1 Manufacturing Example 34 According to the method of Manufacturing Example 32, ? -(5-benzhydryloxycarbonyl-5-tutarimidopentanami F)
-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (113F) was combined with phosphorus pentachloride (5F), pyridine (1,96p) and 2-methoxyethanol (
9,74F), 7-amino-3
-Vinyl-3=cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester hydrochloride (1,2F) was produced.

IR(5Lジw−ル): 1760. 1705. 1
580611−1実施例1 オキシ塩化リン(1,28/)およびN、!−ジメチル
ホルムアミド(1,06m)からテトラヒドロ7う>(
35WIl)中で常法によりビルスマイヤー試薬を調製
した。この懸濁液に2−ベンズヒドリルオキシカルボニ
ルメトキシイミノ−2−(2−ホルムアミドチアゾール
−4−イル)酢酸(シン異性体)(5y)を水冷下に加
え、同温度で30分間撹拌して、活性酸溶液を製造した
。この溶儂を7−アミノ−3−ビニル−3−セフェム−
4−カルボン駿ベンズヒドリ膵ステル塩酸塩(489F
)およびトリメチルシリルアセトアミド(9,22)の
酢酸エチル(40/)溶液に−20”Cで加工、次イで
−20〜−10℃で1時間撹拌した。
IR (5L diw-le): 1760. 1705. 1
580611-1 Example 1 Phosphorus oxychloride (1,28/) and N,! -Dimethylformamide (1,06m) to tetrahydro7>(
Vilsmeier reagent was prepared by a conventional method in 35WIl). 2-Benzhydryloxycarbonylmethoxyimino-2-(2-formamidothiazol-4-yl)acetic acid (synisomer) (5y) was added to this suspension under water cooling, and the mixture was stirred at the same temperature for 30 minutes. , an active acid solution was prepared. This melt is 7-amino-3-vinyl-3-cephem-
4-carvone benzhydri pancreatic stellate hydrochloride (489F
) and trimethylsilylacetamide (9,22) in ethyl acetate (40/) at -20"C, and then stirred at -20 to -10C for 1 hour in (a).

反It5混合物に水と酢酸エチルを加えた後、分離した
有機層を取り、炭酸ナトリウム5−水溶液および塩化ナ
トリクム水溶液で洗浄し、次いでaW!マグネシクムで
乾燥した。溶媒を留去して、7−〔2−ペンズヒドリル
オキシカルポニルメトキシイミノ−2−(2−ホルムア
ミドチアゾール−4−イル)アセトアミFl−3−ビニ
ルー3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエス
テル(シン異性体)(8,7F)を得た。
After adding water and ethyl acetate to the anti-It5 mixture, the separated organic layer was taken, washed with 5-aqueous sodium carbonate solution and aqueous sodium chloride solution, and then aW! Dried with magnesium. The solvent was distilled off to give 7-[2-penzhydryloxycarponylmethoxyimino-2-(2-formamidothiazol-4-yl)acetamifl-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester ( syn isomer) (8,7F) was obtained.

工R(ヌジョール): 3250. 1780. 17
20゜1680、 1620. 1540小−1HMR
Ipprn (nMso−a、 )= 3.70(2H
,l1l)。
Engineering R (Nujol): 3250. 1780. 17
20°1680, 1620. 1540 small-1HMR
Ipprn (nMso-a, ) = 3.70 (2H
, l1l).

4.95(2H,ブロード ” )−5−25(I H
9dm J=5 Hz)。
4.95(2H, Broad”)-5-25(IH
9dm J=5Hz).

5.26(IH,d、J=11Hs)、  5.50(
IH,d。
5.26 (IH, d, J = 11Hs), 5.50 (
IH, d.

J−18Hz)、  5.95(IH,dd、 J=5
.8Hz)。
J-18Hz), 5.95 (IH, dd, J=5
.. 8Hz).

6.78(IH,dd、J=11.18Hz)、  6
.90(11!、@)+6.95(IH,s)、  7
.2−7.7(11Lm)。
6.78 (IH, dd, J=11.18Hz), 6
.. 90 (11!, @) + 6.95 (IH, s), 7
.. 2-7.7 (11Lm).

8.50(IH,s)、  9.72(IH’、d、J
−8Hz)実施例2 実施例1の方法に準じて、7−アミノ−3−ビニル−3
−セフェム−4−カルボン酔ベンズヒドリルエステル塩
酸塩(4,3F)を、2−ベンジルオキシカルボニルメ
トキシイミノ−2−(2−ホルムアミドチアゾール−4
−イル)酢II(シン異性体)(4,Of)、オキシ塩
化リン(1,9F)およびN、N−ジメチルホルムアミ
ド(0,’l’)から製造した活性酸溶液と反応させる
ことにより、7−〔2−ベンジルオキシカルボニルメト
キシイミノ−2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−
イル)アセトアミF ]−]s−ビニルー3−セフェム
ー4−カルボン酸ベンズヒドリルエステルシン異性体)
(&95F)を得た。
8.50 (IH, s), 9.72 (IH', d, J
-8Hz) Example 2 According to the method of Example 1, 7-amino-3-vinyl-3
-Cephem-4-carboxylic benzhydryl ester hydrochloride (4,3F) was converted into 2-benzyloxycarbonylmethoxyimino-2-(2-formamidothiazole-4
-yl) acetic acid II (syn isomer) (4,Of), by reaction with an activated acid solution prepared from phosphorus oxychloride (1,9F) and N,N-dimethylformamide (0,'l'). 7-[2-benzyloxycarbonylmethoxyimino-2-(2-formamidothiazole-4-
yl) acetamide F]-]s-vinyl-3-cephemu-4-carboxylic acid benzhydryl ester syn isomer)
(&95F) was obtained.

IR(ヌジ璽−ル):3250 1775. 1710
゜1680、 1610国−1 NMRJppm (Dl[FtO−dg) : 3.8
0(2B、 q、 J=18Hz)。
IR (Nuji Seal): 3250 1775. 1710
゜1680, 1610 country-1 NMRJppm (Dl[FtO-dg): 3.8
0 (2B, q, J=18Hz).

4.36(2H,s)、  5.27(2H,s)、 
 5.35(IH,d。
4.36 (2H, s), 5.27 (2H, s),
5.35 (IH, d.

J−111!i)、  5.35(IH,d、J=5H
z)、  5.67(lH,d、J−17H1)、  
6.00(IH,dd、J=5.8Hz)。
J-111! i), 5.35 (IH, d, J=5H
z), 5.67 (lH, d, J-17H1),
6.00 (IH, dd, J=5.8Hz).

6.83(I’ll、’dd、 J=11.17Hz)
、  7.00(IH,827,21−7,70(16
H,m)、  &60(1)1.e)。
6.83 (I'll,'dd, J=11.17Hz)
, 7.00 (IH, 827, 21-7, 70 (16
H, m), &60(1)1. e).

9.80(IH,d、J−8Hz)、  12.73(
IH9F3)実施例3 実施例1の方法に準じて、7−アミノ−3−ビニル−3
−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル塩
酸塩(1−1y)を、2−(1−第3級ブトキシカルボ
ニルエトキシイミノ)−2−(2−ホルムアミド−5−
クロロチアゾール−4−イル)酢酸(シン異性体)(1
,IP)、オキシ1M化リン(0,53p)および叢、
N−ジメチルホルムアミド(0,259)から製造した
活性WIIfsff!ト反応させるこ七により、7−(
2−(1−第3級ブトキシカルボニルエトキシイミノ’
)−2−(2−ホルムアミド−5−クロロチアゾール−
4−イル)アセトアミ)’]−3−ビニルー3−セフェ
ムー4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル(シン異性
体)(1,IP)を得た。
9.80 (IH, d, J-8Hz), 12.73 (
IH9F3) Example 3 According to the method of Example 1, 7-amino-3-vinyl-3
-Cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester hydrochloride (1-1y) was converted into 2-(1-tert-butoxycarbonylethoxyimino)-2-(2-formamide-5-
Chlorothiazol-4-yl)acetic acid (syn isomer) (1
, IP), oxy1M phosphorus (0,53p) and plexus,
Active WIIfsff! prepared from N-dimethylformamide (0,259)! By reacting 7-(
2-(1-tertiary butoxycarbonylethoxyimino'
)-2-(2-formamide-5-chlorothiazole-
4-yl)acetami)']-3-vinyl-3-cephemu 4-carboxylic acid benzhydryl ester (syn isomer) (1,IP) was obtained.

IR(ヌジm−ル): 17g0. 1710. 16
80611  ”NMRJppm (DMSO−d、 
) : 133−1.70(12H。
IR (nujim-ru): 17g0. 1710. 16
80611 “NMRJppm (DMSO-d,
): 133-1.70 (12H.

m)、  3.80(21111m)−468(IM、
す、  5.18−5.19(4H,m)、  6.7
8(IH9dd、J=11.0゜17.011z)、 
 7.00(1111,s)、  7.41(10M、
 s)。
m), 3.80(21111m)-468(IM,
5.18-5.19 (4H, m), 6.7
8 (IH9dd, J=11.0°17.011z),
7.00 (1111,s), 7.41 (10M,
s).

8.58(IH,s)、  9.60.173(IH,
d、 J=8.0Hz)。
8.58 (IH, s), 9.60.173 (IH,
d, J=8.0Hz).

12.87(IH,ブロード 自) 実施例4 7−[2−ベンズヒドリルオキシカルボニルメトキシイ
ミノ−2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)
アセトアミド]−3−ビニルー3−セフェム−4−カル
ボン酸ベンズヒドリルエステル(シンJIL性体)(&
14F)のメタノール(50−)およびテトラヒドロフ
ラン(10/)fs液に1撹拌しながら35−塩酸(2
,3d)を加えた。30℃で1時間撹拌した後、反応混
合物を氷水中に注ぎ、炭酸水素ナトリクム飽和水溶液で
pH3,5KlN整した。析出した沈澱をP取、乾燥し
て、7−[2−ベンズヒドリルオキシカルボニルメトキ
シイミノ−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)ア
セトアミド]−3−ビニルー3−セフェム−4−カルボ
ン酸ベンズヒドリルエステル(シン異性体)(7,08
P)を得た。
12.87 (IH, Broad) Example 4 7-[2-benzhydryloxycarbonylmethoxyimino-2-(2-formamidothiazol-4-yl)
Acetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (syn JIL) (&
Add 35-hydrochloric acid (2-
, 3d) was added. After stirring at 30° C. for 1 hour, the reaction mixture was poured into ice water, and the pH was adjusted to 3.5 KIN with a saturated aqueous solution of sodium bicarbonate. The precipitate was collected and dried to give 7-[2-benzhydryloxycarbonylmethoxyimino-2-(2-aminothiazol-4-yl)acetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid. Benzhydryl ester (syn isomer) (7,08
P) was obtained.

11’l(ヌジ層−ル): 33G0. 1780. 
1720゜1680、1620511−1゛ NMRlppm  (DMSO−d、)  : 、17
2(2H,ブロード 8)。
11'l (Nuji layer): 33G0. 1780.
1720゜1680, 1620511-1゛NMRlppm (DMSO-d,): , 17
2 (2H, Broad 8).

4J5(2H,s)、  5.30(IH,d、 、r
−11H2)。
4J5 (2H, s), 5.30 (IH, d, , r
-11H2).

5.32(IH,d、J=5Hz)、  5.56(I
H,d、J−18Hz)。
5.32 (IH, d, J = 5Hz), 5.56 (I
H, d, J-18Hz).

5.85(IH,a、 、T=8. 5E+2)、  
6.82(IH,dd。
5.85 (IH, a, , T=8.5E+2),
6.82 (IH, dd.

J=111. 18Hz)、  &87(11,s)、
  &90(IH,s)、  6.95(IL e)t
  7.2−7.7(1011[、Iff)、  9.
8 (lull、 d、 J−8Hz)実施例5 実施例4の方法に準じて、7−[2−ベンジルオキシカ
ルボニルメトキシイミノ−2−(2−ホルムアミドチア
ゾール−4−イル)アセトアミド]−3−ビニルー3−
セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル(シ
ン異性体)(4,9F)を濃1i陵(11/)と反応さ
せることにより、7−〔2−ベンジルオキシカルボニル
メトキシイミノ−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)アセトアミド〕−3−ビニルー3−セフェム−4−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル(シン異性体)(4
,2F)を得た。
J=111. 18Hz), &87(11,s),
&90(IH,s), 6.95(IL e)t
7.2-7.7 (1011[, Iff), 9.
8 (lull, d, J-8Hz) Example 5 According to the method of Example 4, 7-[2-benzyloxycarbonylmethoxyimino-2-(2-formamidothiazol-4-yl)acetamide]-3- vinyl roux 3-
By reacting cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (syn isomer) (4,9F) with No. thiazol-4-yl)acetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-
Carboxylic acid benzhydryl ester (syn isomer) (4
, 2F) were obtained.

IR(ヌジ冒−ル): 3300. 1780. 17
20゜1680、 16205+ −1 NIIIRJppm (D1180−(1,) : 3
.72(2H,m)。
IR: 3300. 1780. 17
20°1680, 16205+ -1 NIIIRJppm (D1180-(1,): 3
.. 72 (2H, m).

4.83(21(、s)、  5.23(!III、s
)、  5.30(ILd、 J”5Hz)、  5.
32(IL d、 J−1211g)。
4.83(21(,s), 5.23(!III,s
), 5.30 (ILd, J”5Hz), 5.
32 (IL d, J-1211g).

5J7(111,d、 J−18H,z)、  &87
(1)1. dd、 J=12゜18Hs’)、6.8
7(IH,s)+  7.00(IH,e)。
5J7 (111, d, J-18H, z), &87
(1)1. dd, J=12°18Hs'), 6.8
7 (IH, s) + 7.00 (IH, e).

7.13−’1.77(15H,!II)、  9.7
 (IH,d、 J−8H!り実施例6 実施例40方法に準じて、7’−[2−(1−第3級ブ
トキシカルボニルエトキシイミノ)−2−(2−ホルム
アミド−5−クロロチアゾール−4−イル)アセトアミ
F ]−]3−ビニルー3−セフェムー4−カルボン酸
ベンズヒドリルエステルシン異性体)(1,9F)を製
塩*<o−5y)(!!反応させることにより、7−(
2−(1−第3級ブトキシカルボニルエトキシイミノ)
−2−(2−アミノ−5−クロロチアゾール−4−イル
)アセトアミド〕−3−ビニルー3−セフェム−4−カ
ルボン酸ベンズヒドリルエステル(シン異性体)(x、
5lP)を製造した。
7.13-'1.77 (15H,!II), 9.7
(IH, d, J-8H!) Example 6 According to the method of Example 40, 7'-[2-(1-tertiary butoxycarbonylethoxyimino)-2-(2-formamide-5-chlorothiazole 7- (
2-(1-tertiary butoxycarbonylethoxyimino)
-2-(2-amino-5-chlorothiazol-4-yl)acetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (syn isomer) (x,
5lP) was produced.

IR(ヌジ冒−ル): 3420.325G、3150
゜1770、 1715. 1670. 1620c*
 −1HMRJppm (DI[8O−ds): 1.
43(12111,s)。
IR (infrared): 3420.325G, 3150
゜1770, 1715. 1670. 1620c*
-1HMRJppm (DI[8O-ds): 1.
43 (12111, s).

3.68(2L m)、  4.57(IH,m)、 
 5.17−5.77(21,+m)、5.25(14
4J−5,0Hz)、5−87(IH,d4. J−5
,0,8,OHg)、  &69(IH,ad。
3.68 (2L m), 4.57 (IH, m),
5.17-5.77 (21,+m), 5.25 (14
4J-5,0Hz), 5-87(IH, d4. J-5
,0,8,OHg), &69(IH, ad.

、y−11,Ot  16.0Hz)、  &513(
IHle)*  7.35(IOH,e)、  fj、
34.9.47(IIII、 d、 J−MHz>実施
例7 7− [2−ベンズヒドリルオキシカルボニルメトキシ
イミノ−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセ
トアミ)’ ]−]3−ビニルー3−セフェムー4−カ
ルボン酸ベンズヒドリルエステルシン異性体)(3f)
f)ぎ駿(12m/)@液[35−塩酸(1wl1)を
0℃で加え九。常温で1時間撹拌した後、反15混合物
をジイソプロピルエーテル中に注いだ。析出した沈澱を
F取し、ジイソプロピルエーテルで洗浄した後、水(1
5d)に溶解した。この水溶液を炭酸水素ナトリウム5
哄水病液でpH3,5fCW4整した。沈澱をr取、乾
燥して、7−[2−カルボキシメトキシイミノ−2−(
2−アミノチアゾール−4−イル)アヤトアミド〕−3
−ビニルー3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体
)(1,5P)を得た。
, y-11, Ot 16.0Hz), &513(
IHle) * 7.35 (IOH, e), fj,
34.9.47(III, d, J-MHz>Example 7 7-[2-benzhydryloxycarbonylmethoxyimino-2-(2-aminothiazol-4-yl)acetami)']-]3- Vinyl-3-cephemu-4-carboxylic acid benzhydryl ester syn isomer) (3f)
f) Gishun (12m/)@liquid [35- Add hydrochloric acid (1wl1) at 0°C9. After stirring for 1 hour at room temperature, the mixture was poured into diisopropyl ether. The deposited precipitate was collected by F, washed with diisopropyl ether, and then washed with water (1
5d). Add this aqueous solution to 5 ml of sodium hydrogen carbonate.
The pH was adjusted to 3.5fCW4 with Kansuibyou fluid. The precipitate was collected and dried to give 7-[2-carboxymethoxyimino-2-(
2-aminothiazol-4-yl)ayatamide]-3
-Vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) (1,5P) was obtained.

工R(スジ冒−ル):  3200. 1770. 1
670m−1実施例8 トリフルオロ酢!!(&4tIりを7−[2−(1−第
3Mブトキシカルボニルエトキシイミノ)−2−(2−
アミノ−5−クロロチアゾール−4−イル)アセトアミ
ド]−3−ビニルー3−セフェム−4−カルボン酸ベン
ズヒドリルエステル(シン異性体)(1,6F)の塩化
メチレン(3,0m/)およびアニソール(1,6メ)
溶液に水冷下に加え、常温で1.5時間撹拌した。反応
混合物にジイソプロピルエーテル(50m/)を加え、
沈澱をP取した捩水と酢酸エチルの混液に加え九。水酸
化ナト99410%水溶液でpH7,5に調整した後、
分離した水層を1〇−塩酸でpPI2.2ffcl[L
、、塩化ナトリウムを飽和させた。この水溶液を酢陵エ
チル七テトラヒドロ7フンとの混合溶媒(1:1)で抽
出し九。抽出液を塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した
後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して、7
−(2−(1−カルボキシエトキシイミノ)−2二(2
−アミノ−5−クロローチアゾール−4−イル)アセト
アミド]−3−ビニルー3−セフェム−4−カルボン酸
(シン異性体)(0,52p)を得た。
Engineering R: 3200. 1770. 1
670m-1 Example 8 Trifluoro vinegar! ! (&4tI 7-[2-(1-tert-butoxycarbonylethoxyimino)-2-(2-
Amino-5-chlorothiazol-4-yl)acetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (syn isomer) (1,6F) in methylene chloride (3,0 m/) and anisole ( 1,6me)
It was added to the solution under water cooling and stirred at room temperature for 1.5 hours. Add diisopropyl ether (50m/) to the reaction mixture,
Add the precipitate to a mixture of purified water and ethyl acetate. After adjusting the pH to 7.5 with a 10% aqueous solution of sodium hydroxide,
The separated aqueous layer was diluted with 10-hydrochloric acid to a pPI of 2.2 ffcl [L
, saturated with sodium chloride. This aqueous solution was extracted with a mixed solvent (1:1) of ethyl chloride, tetrahydro, and phthalate (1:1). The extract was washed with a saturated aqueous solution of sodium chloride and then dried over magnesium sulfate. Distill the solvent, 7
-(2-(1-carboxyethoxyimino)-22(2
-Amino-5-chlorothiazol-4-yl)acetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) (0.52p) was obtained.

IR(ヌジ四−ル): 330G、3200. 177
0゜16705+1−” 5.20(1!I、d、J−5,0Hz)、  5.1
1−5.92(3)1.mu)。
IR: 330G, 3200. 177
0゜16705+1-” 5.20 (1!I, d, J-5,0Hz), 5.1
1-5.92 (3) 1. mu).

6.92(IH,m)、  9.47(IH,簡)実施
例9 7−(2−ベンジルオキシカルボニルメトキシイミノ−
4−プロモー3−オキツブチルアミド)=3−ビニル−
3−セフェム−4−カルボン酔ベンズヒドリルエステル
CLS?)のテトラヒドロフラン(25m/)溶液にチ
オ尿素(1)、78P)および酢酸ナトリウム(0,3
4F)の水(10m/)溶液を加え、35℃で4時間撹
拌した。反応混合物を酢酸エチルで抽出し、□抽出液を
塩化ナトリクム飽和水溶液で洗浄し、硫駿マグネシクム
で乾燥した。溶媒を留去して、7−[2−ベンジルオキ
シカルボニルメトキシイミノ−2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)アセトアミド〕−3−ビニルー3−セ
フェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル(シン
異性体)(LOP)を得た。
6.92 (IH, m), 9.47 (IH, simplified) Example 9 7-(2-benzyloxycarbonylmethoxyimino-
4-promo 3-oxbutyramide) = 3-vinyl-
3-cephem-4-carboxylic benzhydryl ester CLS? ) in tetrahydrofuran (25 m/), thiourea (1), 78P) and sodium acetate (0,3
A solution of 4F) in water (10 m/) was added, and the mixture was stirred at 35°C for 4 hours. The reaction mixture was extracted with ethyl acetate, and the □ extract was washed with a saturated aqueous solution of sodium chloride and dried over magnesium sulfate. The solvent was distilled off to give 7-[2-benzyloxycarbonylmethoxyimino-2-(2-aminothiazol-4-yl)acetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (synisomer (LOP) was obtained.

IR(ヌジョール): 3300. 1780. 17
20゜1680、 1620国−1 実施例10 7−〔4−プロモー2−(2,2,2−トリクロロエト
キシカルボニルメトキシイミノ)−3−オキソブチルア
ミド〕−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル(26,0y)のテトラヒドロフ
ラン(loswり溶液にチオ尿素(3,IP)および酢
酸ナトリウム(3,3F)の水(100s/)溶液を加
え、35℃で3時間撹拌した。反応混合物を酢酸エチル
で抽出し、抽出液を水洗し、次いで硫酸マグネシウムで
乾燥した。
IR (Nujol): 3300. 1780. 17
20°1680, 1620 Country-1 Example 10 7-[4-promo2-(2,2,2-trichloroethoxycarbonylmethoxyimino)-3-oxobutyramide]-3-vinyl-3-cephem-4- A solution of thiourea (3, IP) and sodium acetate (3,3F) in water (100 s/) was added to a solution of carboxylic acid benzhydryl ester (26,0y) in tetrahydrofuran (losw), and the mixture was stirred at 35°C for 3 hours. The reaction mixture was extracted with ethyl acetate, the extract was washed with water, and then dried over magnesium sulfate.

溶媒を留去して、7−[2−(,2−アミノチアゾール
−4−イル)−2−(2,λ2−トリクロロエトキシカ
ルボニルメトキシイミノ)アセトアミド1−3−ビニル
−3ニセフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステ
ル(シン異性体)(12,5P)を得た。
The solvent was distilled off to give 7-[2-(,2-aminothiazol-4-yl)-2-(2,λ2-trichloroethoxycarbonylmethoxyimino)acetamide 1-3-vinyl-3nicephem-4-carbon. Acid benzhydryl ester (syn isomer) (12,5P) was obtained.

工R(ヌジ讐−ル): 3200. 1773. 17
16゜1640a+x−1 NMRappm (DM80−d@):3.51.3.
88(2H。
Engineering R: 3200. 1773. 17
16°1640a+x-1 NMRappm (DM80-d@):3.51.3.
88 (2H.

AB(1,J=18Hz)、  4.83(2L e)
、  4.95(2H,s)、  5.22(IH,d
、J−5Hz)、  5.23(I Hy d、、y=
i 0 Hz )、5.55 (ITJ−d−J−18
Hz)。
AB (1, J = 18Hz), 4.83 (2L e)
, 4.95 (2H, s), 5.22 (IH, d
, J-5Hz), 5.23(I Hy d,, y=
i 0 Hz), 5.55 (ITJ-d-J-18
Hz).

5.82(IL dd、 J=5.8H2)、 6.6
8(IH,dd。
5.82 (IL dd, J=5.8H2), 6.6
8 (IH, dd.

J=10.18Hz)、  6.75(IH,s)、 
 6.87(IH。
J=10.18Hz), 6.75(IH,s),
6.87 (IH.

s)、  7.3(IOH,m)、  9.50(IH
,d、J−8Hz)実施例11 2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(2,
2,2−)リクロロエトキシ力ルポニルメトキシイミノ
)酢#(シン異性体)(1,13F)およびオキシ塩化
リン(0,5’6 f )の酢酸エチル(20m/)溶
液にトリメチルシリルアセトアミド(0,30F)を4
℃で加え、4〜6℃で15分間撹拌した。この混合物に
さらにオキシ塩化リン(0゜56y)を加え、同m度で
15分間撹拌した。この溶液KM、H−ジメチルホルム
アミド(0,269)を加え、4〜6℃で50分間撹拌
して活性駿溶液を製造した。この溶液を7−アミノ−3
−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリ
ルエステル塩11Thl!(1,1y)およびトリメチ
ルシリルアセトアミド(2,lF)の酢酸エチル(20
vll)溶液に一20℃で加え、−20°〜0℃で1時
間撹拌した。酢酸エチルと水を加えた後、有機層を分麟
し、炭酸水素ナトリクム飽和水溶液および塩化ナトリク
ム水溶液で洗浄し、硫喰マグネシクムで乾燥し九。溶媒
を留去し、残渣をジエチルエーテル中で粉末化して、7
−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル’)−2−
(2,2,2−)リクロロエトキシカルボニルメトキシ
イミノ)アセトアミ)’]−3−ビニルー3−セフェム
ー4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル(シンJ1体
) (1,6y)を得た。
s), 7.3 (IOH, m), 9.50 (IH
, d, J-8Hz) Example 11 2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(2,
To a solution of 2,2-)lichloroethoxylponylmethoxyimino) vinegar # (syn isomer) (1,13F) and phosphorous oxychloride (0,5'6 f ) in ethyl acetate (20 m/) was added trimethylsilylacetamide ( 0,30F) 4
C. and stirred at 4-6.degree. C. for 15 minutes. Phosphorus oxychloride (0°56y) was further added to the mixture, and the mixture was stirred at the same temperature for 15 minutes. This solution KM was added with H-dimethylformamide (0,269) and stirred at 4 to 6°C for 50 minutes to prepare an activated silane solution. Add this solution to 7-amino-3
-Vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester salt 11Thl! (1,1y) and trimethylsilylacetamide (2,1F) in ethyl acetate (20
vll) solution at -20°C, and stirred at -20° to 0°C for 1 hour. After adding ethyl acetate and water, the organic layer was separated, washed with a saturated aqueous sodium bicarbonate solution and an aqueous sodium chloride solution, and dried over magnesium sulfate. The solvent was evaporated and the residue was triturated in diethyl ether to give 7
-(2-(2-aminothiazol-4-yl')-2-
(2,2,2-)lichloroethoxycarbonylmethoxyimino)acetami)']-3-vinyl-3-cephemu 4-carboxylic acid benzhydryl ester (syn J1 body) (1,6y) was obtained.

IR(ヌジ讐−ル): 32G0. 1773. 17
16゜1640σ−1 実施例12 7−(2−<2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
(2,2,2−)リクロロエトキシ力ルポニルメトキシ
イミノ)アセトアミド)−3−ビニル−3−セフェム−
4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル(シン異性体’
)(2,,5f>のトリプルオロ酢酸(7,5s/)お
よびアニソール(2,5s/)溶液を常温で30分間撹
拌した。反It)混合物をジイソプロピルエーテルに注
ぎ、沈澱をP取しえ稜、炭駿水素ナトリクム飽和水溶液
(50swf)K溶解した。この水溶液を酢酸エチルで
洗浄し、10%増陵でpH2,OK調整し、次いで酢酸
エチルで洗浄した。抽出液を塩化ナトリクム飽和水溶液
で洗浄した後、硫酸マグネシクムで乾燥した。溶媒を留
去して、7−r2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(2,λ2−トリクロロエトキシカルボニルメ
トキシイミノ)アセトアミド]−3−ビニルー3−セフ
ェム−4−カルボン酸(シン異性体)(1,551F)
を得た。
IR: 32G0. 1773. 17
16°1640σ-1 Example 12 7-(2-<2-aminothiazol-4-yl)-2-
(2,2,2-)lichloroethoxylponylmethoxyimino)acetamide)-3-vinyl-3-cephem-
4-Carboxylic acid benzhydryl ester (syn isomer'
) (2,,5f>) solution of triple oroacetic acid (7,5s/) and anisole (2,5s/) was stirred at room temperature for 30 minutes.The mixture was poured into diisopropyl ether and the precipitate was collected. K was dissolved in a saturated aqueous sodium hydrocarbon solution (50 swf). This aqueous solution was washed with ethyl acetate, adjusted to pH 2 and OK with 10% chloride, and then washed with ethyl acetate. The extract was washed with a saturated aqueous solution of sodium chloride and then dried over magnesium sulfate. The solvent was distilled off to give 7-r2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(2,λ2-trichloroethoxycarbonylmethoxyimino)acetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid ( syn isomer) (1,551F)
I got it.

工R(ヌジ冒−ル): 3270. 1760(ブロー
ド)。
Engineering R: 3270. 1760 (Broad).

1663(ブロード) cm−’ N蓋Rappwr (D璽80−d@)=3.68(2
11,m)、  4.87(2T1.8)、  4.9
3(2H,!+)、  5.17(1ml、d。
1663 (broad) cm-' N lid Rappwr (D seal 80-d@) = 3.68 (2
11, m), 4.87 (2T1.8), 4.9
3 (2H,!+), 5.17 (1 ml, d.

J=5H*)、  5.28(IL d、J=12Hz
)、  5.53(IH。
J=5H*), 5.28(IL d, J=12Hz
), 5.53 (IH.

d、J=18Hz)、5.73(IH,ad、J−5,
8H21)。
d, J=18Hz), 5.73 (IH, ad, J-5,
8H21).

&83(1B、s)、6.87(lH,dd、、T=1
2.1811!g)9.53(111,d、 J−8)
1m)実施例13 7−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
1!、2−)リクロロエトキシカルボニルメトキシイミ
ノ)アセトアミド〕−3−ビニル=3−セフェム−4−
カルボン酸(シン異性体)(0,5P)r)fト9ヒF
o7jン(15j)jlH[K亜鉛末(0,5P)およ
び塩化アンモニウム(0,3F)を含む水(4d)溶液
を常温で撹拌下に加え、30分間撹拌した。亜鉛末をP
別した後、P液を10−塩陵でpH13に調整し九後、
酢酸エチルで抽出した。抽出液を塩化ナト、リクム―和
水溶液で抽出した後、硫駿マグネシクムで乾燥しえ。溶
媒を減圧下に留去し、残液をジイソプロピルエーテルで
粉末化して、7−[2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)−2−カルボキシメトキシイミノアセトアミl’
 ]−]3−ビニルー3−セフェムー4−カルボン駿シ
ン異性体) (0,11f )を得た。
&83(1B,s),6.87(lH,dd,,T=1
2.1811! g) 9.53 (111, d, J-8)
1m) Example 13 7-(2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-
1! , 2-)lichloroethoxycarbonylmethoxyimino)acetamide]-3-vinyl=3-cephem-4-
Carboxylic acid (syn isomer) (0,5P)r)fto9hiF
A solution of water (4d) containing zinc dust (0,5P) and ammonium chloride (0,3F) was added at room temperature with stirring, and the mixture was stirred for 30 minutes. P zinc powder
After separating, the P solution was adjusted to pH 13 with 10-chloride solution, and after 9 hours,
Extracted with ethyl acetate. After extracting the extract with sodium chloride and Licum-hydrous solution, dry it with magnesium sulfur. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the remaining liquid was powdered with diisopropyl ether to give 7-[2-(2-aminothiazole-4-
yl)-2-carboxymethoxyiminoacetamyl'
]-]3-vinyl-3-cephemu-4-carvone isomer) (0,11f) was obtained.

工R(ヌジ胃−ル): 3200. 1’170. 1
670ts−’実施例14 実施例13の方法に準じて、7−(2−(2−アミノチ
アゾール−4−イル)−2−(’1,2.2−トリクロ
ロエトキシカルボニルメト年ジイミノ)アセトアミ)’
 ]−]3−ビニルー3−セフェムー4−カルボン酔シ
ン異性体)(1,e、)を亜鉛末(1,Oy)およびリ
ン酸水素カリクムlIr5液(10−)と反応させるこ
とにより、7−(2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−カルボキシメトキシイミノアセトアミド〕−
3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸(シン真性
体)(0,19F)を得た。
Engineering R: 3200. 1'170. 1
670ts-'Example 14 According to the method of Example 13, 7-(2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-('1,2.2-trichloroethoxycarbonylmethanediimino)acetami) '
]-] 3-vinyl-3-cephemu 4-carboxylic acid isomer) (1,e,) was reacted with zinc dust (1,Oy) and potassium hydrogen phosphate lIr5 solution (10-) to form 7- (2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-carboxymethoxyiminoacetamide]-
3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid (synthetic form) (0,19F) was obtained.

工R(ヌジ璽−ル): 3200. 1770. 16
70511+−”実施例15 夷簾例1の方法に準じて、7−アミノ−3−ビニル−3
−セフェム−4−カルボン酸(4,53F)を、2−<
2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)−2−ベンズ
ヒドリルオキシカルボニルメトキシイミノ酢酸(シン異
性体)(lo、5sr)、オキシ塩化リン<4.4f)
およびNJ−ジメチルホルムアミド(11? )から酢
酸エチル中で製造した活性陵溶液と反応させることKよ
シ、7−〔2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イ
ル)−2−ベンズヒドリルオキシカルボニルメトキシイ
ミノアセトアミド〕−3−ビニル−3−セフェム−4−
カルボンII(シン異性体)(10,5P)を得た。
Engineering R: 3200. 1770. 16
70511+-”Example 15 7-Amino-3-vinyl-3
-cephem-4-carboxylic acid (4,53F), 2-<
2-formamidothiazol-4-yl)-2-benzhydryloxycarbonylmethoxyiminoacetic acid (syn isomer) (lo, 5sr), phosphorus oxychloride <4.4f)
7-[2-(2-formamidothiazol-4-yl)-2-benzhydryloxycarbonyl Methoxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-
Carbon II (syn isomer) (10,5P) was obtained.

工R(ヌジ冒−ル): 35GG、3200. 177
0゜1730、 1680(II−1 1’fMR#ppm (DIISO−d、 ) : 3
.71(2!I、 m)。
Engineering R: 35GG, 3200. 177
0°1730, 1680 (II-1 1'fMR#ppm (DIISO-d, ): 3
.. 71 (2!I, m).

4.96(2!lI、8)、  5.15(III、d
、J=11Hg)。
4.96 (2!lI, 8), 5.15 (III, d
, J=11Hg).

s、 25 (I He d、!−5Hz )、& 5
7 (I H−d、Jl 7 Hv )。
s, 25 (I He d,!-5Hz), & 5
7 (I H-d, Jl 7 Hv).

& 89 (1ft−dd、J−a5− BTUs )
*  6.92 (I H−s )+7−00 (I 
Hldd、J=11.17![z )e  7−12−
7−68(10He m )=−& 54 (I H2
s )−9−75(11!−d。
& 89 (1ft-dd, J-a5-BTUs)
*6.92 (I H-s)+7-00 (I
Hldd, J=11.17! [z)e 7-12-
7-68(10He m)=-&54(I H2
s)-9-75(11!-d.

J=8Hz)、  11.78(IM、ブロード $)
実施例16 トリフルオロ酢酸(5,75f )を7−(2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−ベンズヒドリルオ
キシカルボニルメトキシイミノアセトアミド〕−3−ビ
ニル−3−セフェム−4−カルボン酸ピパロイルオキシ
メチルエステル(シン真性体)(3,7F)の塩化メチ
レン(14,8m/)およびアニソール(1,09P)
fs液に氷冷下に加え、常温で1時間撹拌した。次いで
反応混合物をジイソプロピルエーテル(160s/)K
 IH下した。沈澱をP取し、ジイソプロピルエーテル
で洗St、た後、水(60m)と酢酸エチル(60m)
のa腋に加えた。得られた混合物を員験水素ナトリクム
飽和水婢液でpH7、OK調整した。分離した水溶液を
さら[10チ塩炒でpHLSKf14’lltシた。沈
澱をV取、水洗し、減圧下で五酸化リンで乾燥して、7
−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−カ
ルボキシメトキシイミノアセトアミド]−3−ビニル−
3−セフェム−4−カルボン酸ピパロイルオキシメチル
エステル(シン異性体)(2,13y)を得た。
J=8Hz), 11.78 (IM, broad $)
Example 16 Trifluoroacetic acid (5,75f) was converted into 7-(2-(2-
Methylene chloride of aminothiazol-4-yl)-2-benzhydryloxycarbonylmethoxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid piparoyloxymethyl ester (synnetic form) (3,7F) (14,8m/) and anisole (1,09P)
The mixture was added to the fs solution under ice cooling and stirred at room temperature for 1 hour. The reaction mixture was then dissolved in diisopropyl ether (160s/)K
IH was lowered. The precipitate was collected, washed with diisopropyl ether, and then mixed with water (60m) and ethyl acetate (60m).
I added it to my axilla. The resulting mixture was adjusted to pH 7 with a sodium hydroxide saturated aqueous solution. The separated aqueous solution was further sautéed with 10 g of salt. The precipitate was collected in V, washed with water, and dried over phosphorus pentoxide under reduced pressure.
-(2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-carboxymethoxyiminoacetamide]-3-vinyl-
3-cephem-4-carboxylic acid piparoyloxymethyl ester (syn isomer) (2,13y) was obtained.

工R(ヌジ璽−ル): 3300. 3200. 17
80゜1750、 1670(!11−1 MMRJppm (DM80−ds) : 1.2(9
H,a)、  18(2H,q、J−18Hz)、  
4.63(2H,s)、  5.26(IH,d、J=
5Hz)、  5.56(IH,d、J=11Hz)。
Engineering R: 3300. 3200. 17
80°1750, 1670(!11-1 MMRJppm (DM80-ds): 1.2(9
H, a), 18 (2H, q, J-18Hz),
4.63 (2H, s), 5.26 (IH, d, J=
5Hz), 5.56 (IH, d, J=11Hz).

5.63(IH,d、J=17Hz)、  5.73−
6.14(3H,m)。
5.63 (IH, d, J=17Hz), 5.73-
6.14 (3H, m).

6、83(lH−s )16.87 (IHldd、J
=11+ 17Hz )。
6,83(lH-s)16.87(IHldd,J
=11+17Hz).

7.27(2H,プi−ド −) 、9.55 (I 
L d、J 冨8 Hz )実施例17 7−(2−(’2−ホルムアミドチアゾールー4−イル
)−2−ベンズヒドリルオキシカルボニルメトキシイミ
ノアセトアミド]−3−ビニル−3=セフェム−4−カ
ルボン酸(シン異性体)(11゜72)のメタノール(
120s/)溶液に濃塩酸(3,97m/)を30℃で
加え、同温度て3時間撹拌した。反応混合物を減圧下に
濃縮し、水(150d)と酢酸エチル(100s/)を
残留油状物に加オ九後、嶽駿水素ナトリクム飽和水溶液
でpH7,0に調整した。沈澱をF取し、酢酸エチルで
洗浄した後、五酸化リンで乾燥して、7−(2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−ベンズヒドリルオ
キシカルボニルメトキシイミノアセトアミ)’ )−3
−ビニル−3−セフェム−4−カルボン峻ナトリクム(
シン異性体)(4,14p)を得た。
7.27 (2H, P-i-do-), 9.55 (I
L d, J 8 Hz) Example 17 7-(2-('2-formamidothiazol-4-yl)-2-benzhydryloxycarbonylmethoxyiminoacetamide]-3-vinyl-3=cephem-4- Carboxylic acid (syn isomer) (11°72) in methanol (
Concentrated hydrochloric acid (3.97 m/) was added to the 120 s/) solution at 30°C, and the mixture was stirred at the same temperature for 3 hours. The reaction mixture was concentrated under reduced pressure, water (150 d) and ethyl acetate (100 s/d) were added to the residual oil, and then the pH was adjusted to 7.0 with a saturated aqueous solution of sodium hydroxide. The precipitate was collected in F, washed with ethyl acetate, and dried over phosphorus pentoxide to give 7-(2-(2-
aminothiazol-4-yl)-2-benzhydryloxycarbonylmethoxyiminoacetami)')-3
-vinyl-3-cephem-4-carboxylic natrichum (
syn isomer) (4,14p) was obtained.

XR(9ジ*−#): 3450,3270. 175
0−1670all−” NMRJppm  (DM80−da )=  3.4
2(2M、ブロード a)+4.82(2H,e)、 
 4.95(IH,d、J=11Hz)。
XR(9di*-#): 3450,3270. 175
0-1670all-” NMRJppm (DM80-da) = 3.4
2 (2M, broad a) + 4.82 (2H, e),
4.95 (IH, d, J=11Hz).

5.02(IH,d、 J”5Hz)、 5.08(I
H,d、 J−17Hz)、 5.57(IH,d d
、 J=5. 8Hz)。
5.02 (IH, d, J”5Hz), 5.08 (I
H, d, J-17Hz), 5.57 (IH, d d
, J=5. 8Hz).

6.73(IH*s)、6−83(LH−s)−6,9
0(IH2dd、X=11 e 17Hz )、7.0
5−7.52 (] OH1m )。
6.73 (IH*s), 6-83 (LH-s) -6,9
0 (IH2dd, X=11e 17Hz), 7.0
5-7.52 (]OH1m).

9、40 (I H,d、 J=8Hz )実施例18 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
ベンズヒドリルオキシカルボニルメトキシイミノアセト
アミF ]−]3−ビニルー3−セフェムー4−カルボ
ン酸ナトリクムシン真性体)(tip)のII、II−
ジメチルホルムアミド(41yLl)溶液にピバリン駿
ヨク化メチル(1,55y)t−0℃で加え、同温度で
15分間撹拌し良。反応混合物を水(15011d)に
注ぎ、酢酸エチル(2001)で抽出した。抽出液を脚
酸水素ナトリクム飽和水溶液および水で洗浄し、硫酸マ
グネシクムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去して、7−
[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−ベン
ズヒドリルオキシカルボニルメトキシイミノアセトアミ
ド〕−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ピパ
ロイルオキシメチルエステル(シン真性体)(3,15
f)を得た。
9,40 (IH,d, J=8Hz) Example 18 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-
Benzhydryloxycarbonylmethoxyiminoacetamide F ]-]3-vinyl-3-cephemu 4-carboxylic acid natrichumcin (tip) II, II-
Pivaline iodine methyl (1,55y) was added to the dimethylformamide (41yLl) solution at t-0°C, and the mixture was stirred at the same temperature for 15 minutes. The reaction mixture was poured into water (15011d) and extracted with ethyl acetate (2001). The extract was washed with a saturated aqueous sodium legate solution and water, and dried over magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 7-
[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-benzhydryloxycarbonylmethoxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid piparoyloxymethyl ester (synnetic form) (3 ,15
f) was obtained.

IR(ヌジ*−ル): 3425,3300,1780
゜1740、 1680(1ml−1 111RJppm (DM80−d、、): 1.17
(9H,s)、  3.74(21,q、 J=18H
z)、  4.82(2H,s)、  5.17(lH
+d、J=11Hz)、  5.21(IH,d、J=
5Hz)。
IR (nuji*-ru): 3425, 3300, 1780
゜1740, 1680 (1ml-1 111RJppm (DM80-d, ): 1.17
(9H,s), 3.74(21,q, J=18H
z), 4.82 (2H, s), 5.17 (lH
+d, J=11Hz), 5.21(IH,d,J=
5Hz).

5.60(IH,d、 J=17Hz)、  5.84
(IH,dd。
5.60 (IH, d, J=17Hz), 5.84
(IH, dd.

J=5.8Hz)、  5.85(2H,s)+  6
.76(IH,e)。
J=5.8Hz), 5.85(2H,s)+6
.. 76 (IH, e).

6.76(IH,dd、 J=11.17Hz)、 6
.84(IH,s)。
6.76 (IH, dd, J=11.17Hz), 6
.. 84 (IH, s).

7.1−7.63(IOH,m)、9.56(IH,d
、J=8Hz)実施例19 実施例18の方法に準じて、7−(2−(2−アミノチ
アゾ−AI−4−イル)−2−ペンズヒドリルオキシカ
ルボニ7レメトキシイミノアセトアミF ]−]3−ビ
ニルー3−セフェムー4−カルボン酸ナトリクムシン異
性体)(3,5F)をブロモ酢s1第三級ブチル(2,
19)と反応させることにより、7−[2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)−2−ベンズヒドリルオキシ
カルボニルメトキシイミノアセトアミド]−3−ビニル
−3=セフェム−4−カルボン酸第3級ブトキシカルボ
ニルメチルエステル(シン異性体)(3,4F)を得え
7.1-7.63 (IOH, m), 9.56 (IH, d
, J=8Hz) Example 19 According to the method of Example 18, 7-(2-(2-aminothiazo-AI-4-yl)-2-penzhydryloxycarbony7remethoxyiminoacetamide F] - ] 3-vinyl-3-cephemu 4-carboxylic acid natricumcin isomer) (3,5F) to bromoacetic acid s1 tert-butyl (2,
7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-benzhydryloxycarbonylmethoxyiminoacetamide]-3-vinyl-3=cephem-4-carboxylic acid tertiary Obtain class butoxycarbonyl methyl ester (syn isomer) (3,4F).

IR(ヌジ麿−ル): 3450. 3330. 17
82゜1740、 1661. 1602国−1HMR
Jppm (DM80−d@ ): 1.44(9H,
a)、  3.56゜3.88(2H,ABq、 J−
14Hz)、  4.71(2H,a)−4,114(
2H,a)、  5.24(IH,d、 J−5Hz)
IR: 3450. 3330. 17
82°1740, 1661. 1602 country-1HMR
Jppm (DM80-d@): 1.44 (9H,
a), 3.56°3.88 (2H, ABq, J-
14Hz), 4.71(2H,a)-4,114(
2H, a), 5.24 (IH, d, J-5Hz)
.

5.36(IH,d、 JllHz)、  5.65(
IH,d、 J−18Hz)。
5.36 (IH, d, JllHz), 5.65 (
IH, d, J-18Hz).

5.83(’IH,dd、 J=5. 8H2)、  
8.78(IL s)。
5.83 ('IH, dd, J=5.8H2),
8.78 (IL s).

6.87(IH,s)、  7.0 (LH,III)
、  7.42(IOH。
6.87 (IH, s), 7.0 (LH, III)
, 7.42 (IOH.

預)、  9.59(IH,d、 J=8Hz)実施例
20 7−12−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
ベンズヒドリルオキシカルボニルメトキシイミノアセト
アミ1″]−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン
酸第3級ブトキシカルボニルメチルエステル(シン真性
体)(3,(1)のトリプルオロ酢l11(IM)およ
びアニソール(5−)溶液を25〜30℃で1時間撹拌
した。反応混合物をジイソプロピルエーテル(150m
/)に注ぎ、沈澱をF取して脚酸水素ナトリクム5哄水
溶液(Sod)K溶解した。仁の水溶液を酢酸エチルで
流降し、次いで10−塩酸によりpH13に調整した。
9.59 (IH, d, J=8Hz) Example 20 7-12-(2-aminothiazol-4-yl)-2-
Benzhydryloxycarbonylmethoxyiminoacetamide 1″]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid tertiary butoxycarbonyl methyl ester (synthetic form) (3, (1) triple oroacetate l11 (IM ) and anisole (5-) solution were stirred for 1 hour at 25-30°C.The reaction mixture was diluted with diisopropyl ether (150 m
/), and the precipitate was collected and dissolved in 5 liters of sodium leg hydroxide solution (Sod) K. The aqueous solution of the kernels was poured down with ethyl acetate and then adjusted to pH 13 with 10-hydrochloric acid.

析出した物質をP取、水洗して、7−[2−(2−アミ
ノチアゾール−4,−イル)−2−カルボキシメトキシ
イミノアセトアミド]−3−ビニル−3−セフェム−4
−カルボン酸カルボキシメチルエステル(シン異性体)
(1,7F)を得た。
The precipitated substance was collected with P and washed with water to give 7-[2-(2-aminothiazol-4,-yl)-2-carboxymethoxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4.
-Carboxylic acid carboxymethyl ester (syn isomer)
(1,7F) was obtained.

工R(ヌジッール)7330G、  1775. 17
23゜167351−’ NMRJppm (DM80 d@) : 310,3
.97(21’!。
Engineering R (Nuzir) 7330G, 1775. 17
23゜167351-' NMRJppm (DM80 d@): 310,3
.. 97 (21'!

ABq、 J=18七ル 4.57(211,s)、4
.75(2HtB)*  5.27(IHtd、J−5
1!s)+  5.38(III、d。
ABq, J=187ru 4.57 (211,s), 4
.. 75 (2HtB) * 5.27 (IHtd, J-5
1! s) + 5.38 (III, d.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (1)一般式 (式中% RIHハロゲンで置換されてhて屯よいアミ
ノチアゾリル基またはハロゲンで置換されていてもよい
保壊されえアミノチアゾリル基% R”Fiカルボキシ
もしくは保護されたカルボキシ(低級)アルキル基 H
aはカルボキシ基または保護されたカルボキシ基をそれ
ぞれ意味する) で示される7−アシルアミノ−3−ビニル七710スボ
ラン陵誘等体のシン異性体またはその基調。 (劃 R1がアミノチアゾリル基または低級アルカンア
ミドチアゾリル基 HRがモノもしくはジもしくR)!
jフェニル(低級)アルコキシカルボニル(低級)アル
キル基またはモノもしくはジもしくケトリハロ(低tS
>アルコキシカルボニル<低級>アルキル基 18がカ
ルボキシ基、モノもしくはシト9 4L<tJ♂エニル(低級)アルコキシカルボニル基ま
たは低級アルカノイルオキシ(低#)アルコキシカルボ
ニル基または低級アルコキシカルボニル(低級)アルコ
キシカルボニル基である特許請求の範囲第(1)項記載
の化合物。 (117−[2−(2−1ミノチアゾール−4−イル)
−2−ベンズヒドリルオキシカルボニルメトキシイミノ
アセトアミド]−3−ビニル−3−セフェム−4−カル
ボン陵ベンズヒドリルエステルである特許請求の範囲第
(幻項記戦の化金物。 (4)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−ベンジルオキシカルボニルメトキシイミノアセト
アミド]−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸
ベンズヒドリ座エステルである特許請求の範囲第(り項
記載の化合物。 (Il  7− [2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)l−(λλ2−トリクロロエトキシカルボニルメ
トキシイミノ)アセトアミドノー3−ビニル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステルである特
許請求の範S第(t)項記載の化合物。 (・17−[2−(2−アミノチアゾール−4−イA/
)−2−(Lλ2−トリクロロエトキシカルボニルメト
キシイミノ)アセトアミド)−3−ビニル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸でああ特許請求の範囲第(!)項記
載の化合物。 (テ37−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−鵞一ペンズヒドリルオキシカルポニルメトキシイミノ
アセトアミド]−3−ビニル−3−セフェム−4−カル
ボン酸ナトリウムである特許請求の範囲第(り項記載の
化合物。 (1)  7− [2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)−2−ベンズζドリルオキシカルボニルメトキシ
イミノアセトアミド]−3−ビニル−3−セフェム−4
−カルボン酸ピパロイルオキシメチルエステルである特
許請求の範囲第(り項記載の化合物。 +11. 7−C2−(2−ホルムアミドチアゾール−
4−イル)−2−ベンズヒドリルオキシカルボニルメト
キシイミノアセトアミド]i−ビニル−3−セフェム−
4−カルボン酸ベンズヒドリルエステルである特許請求
の範囲第(!)項記載の化合物。 (117−[2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−
イル)−2−ベンジルオキシカルボニルメト□キシイミ
ノアセトアミド]−3−ビニル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸ベンズヒドリルエステルである特許請求の範囲
第(り項記載の化合物。 (ml)  7− [2−(2−ホルムアミドチアゾー
ル−4〜4#)−2−ベンズヒドリルオキシカルボニル
メトキシイミノアセトアミド]−3−ビニル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸である特許請求の範囲第(り項記
載の化合物。 −7−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−ベンズヒドリルオキシカルボニルメトキシイミノアセ
トアミド)−3−ビニル−3−セ7エムー4−カルボン
酸第3級ブトキシカルボニルメチルエステルである特許
請求の範囲第(!)項記載の化合物。 重環 R1がアミノチアゾリル基、R1がカルボキシ(
低級)アルキル基 Rmが低級アルカノイルオキシ(低
級)アルコキシカルボニル基である特許請求の範囲第(
11項記載の化合物。 64 7−C2−<2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−カルボキシメトキシイミノアセトアミF)−3−
ビニル−13−セフェム−4〜カルボン陵ピパロイルオ
キシメチルエステルである特許請求のaSS・樽項記戦
の化合物。 型鋳 7−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−カルボキシメトキシイミノアセトアミF )−3
−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸カルボキシメ
チルエステルであ゛る特許請求の範111111項記職
の化合物。 拳呻 R1がハロゲンて置換され喪アミノチアシリアル
コキシカルボニル(低級)アルキルL R”がジtu<
IJ カルボキシ基を九はモノ4 L < 鴨)リフェニル(
低級)アルコキシカルボニル基である特許請求の範囲第
(1)項記載の化合物。 初 7−(2−(2−アミノ−5−クロロチアゾール−
4−イル)−2−(1−カルボキシエトキシイミ/)ア
セトアミドノー3−ビニル−3−セフェム−4−カルボ
ン酸である特許請求の範囲第O呻項記載の化合物。 −(イ)一般式 (式中 HaFiカルボキシ基teFi保談されたカル
ボキシ基を意味する) で示される化合物もしくはそのアミノ基におりる反応性
I!零体またはその塩類に、−軟式%式% (式中、R’ttハロゲンで置換されていて4よいアミ
ノチアゾリル基またはハロゲンで置換されていてもよい
保護されたアミノチアゾリル基、R1はカルボキシもし
くは保護されたカルボキシ(低級)アルキル基をそれぞ
れ意味する) で示される化合物もしくはそのカルボキシ基における反
応性誘導体を九はその塩類を反応させ、−(式中 R1
,H雪およびBaFiそれぞれ前と同じ意味)で示され
る化合物ま九はその塩類を得るか、を九は (ロ)一般式 (式中、Rヨはハロゲンで置換されていてもよい保護さ
れたアミノチアゾリル基を意味し、R1およびR3けそ
れぞれ前と同じ意味) で示される化合物またはその塩類をアミノ保護基の脱離
反115に付して、一般式 (式中、呪#i)・ログンで置換されていてもよいアミ
ノチアゾリル基を意味し、1mおよびRaはそれぞれ前
と同じ意味) で示される化合物またはその塩類を得るか、または (式中、RSは保護されたカルボキシ基を意味し、R1
およびR2はそれぞれ前と同じ意味)で示される化合物
またはその塩類をカルボキシ保護基の脱離反応に付して
、一般式 (式中、R1およびBRはそれぞれ前と同じ意味)で示
される化合物またはその塩類を得るか、または に)一般式 (式中、R1およびR1はそれぞれ前と同じ意味)で示
される化合物またはその塩類をカルボキシ保護基の導入
反応に付して、一般式 (式中、R”、 R”およびR:けそれぞれ前と同じ意
味) で示される化合物ま九はその塩類を得るか、を九は (ホ)一般式 (式中 XIはハロゲンを意味し R1およびRaけそ
れぞれ前と同じ意味) で示される化合物またはその塩類に1一般式%式% (式中、R’Fiアミノ基本しくは保護されたアミノ基
を意味する) で示される化合物を反応させ、一般式 (式中、R宜、 R1およびR4けそれぞれ前と同じ意
味)で示される化合物ま九はその塩類を得るか、または (へ)一般式 (式中、R1は保護されたカルボキシ(低級)アルキル
基を意味し R1およびR”#′iそれぞれ前と同じ意
味) で示される化合物ま九はその塩類をカルボキシ保護基の
脱離反応に付して、一般式 (式中、へはカルボキシ(低級)アルキル基責意味し、
R1およびBa1lそれぞれ前と同じ意味)で示される
化合物またはその塩類を得るか、または (ト)一般式 (式中、R%、ti保護されたカルボキシ(低級)アル
コキシカルボニル基を意味し R1およびR1けそれぞ
れ前と同じ意味) で示される化合物またはそのIN類をカルボキシ保護基
の脱離反応に付して、一般式 (式中、Rチはカルボキシ(低級)アルコキシカルボニ
ル基を意味し R1およびINはそれぞれ前と同じ意味
) で示される化合物を得ることを、特徴とすゐ一般式 (式中 R1,R1シよひR3はそれぞれ前と同じ意味
)で示される7−アシルアミノ−3−ビニルセファロス
ポラン酸WII導体のシン異性体またはその塩類の製造
方法。 −一般式 (式中、R1#iハロゲンで置換されていてもよいアミ
ノチアゾリル基またはハロゲンで置換されていてもよい
保護されたアミノチアゾリル基、R”uカルボキシ本し
くけ保護されたカルボキシ(低級)アルキル基 Haけ
カルボキシ基または保護されたカルボキシ基をそれぞれ
意味する) で示される7−アシルアミノ−3−ビニル七ファロスポ
ツン酸誘導体のシン異性体またはその塩類を有効成分と
する抗菌剤。 −一般式 %式% (式中、R1は保護されたカルボキシ(低級)アルキル
基 R6およびR4#i結合されてオキソ基またけ保護
されたオキソ基を形成し、R@hカルボキシ基または保
護されたカルボキシ基 14は水素またけハロゲンをそ
れぞれ意味する) で示される化合物またはその塩類。 (21(イ)一般式 (式中%R’ii保護されたカルボキシ基を意味し、R
oおよびR6けそれぞれ前と同じ意味)で示される化合
物に、一般式 %式%) (式中、R: Fi前と同じ意味) で示される化合物またはその反応性誘導体を反応させ、
一般式 : (式中、R: # R6I R”およびRtはそれぞれ
前と同じ意味) で示される化合物を得るか、tたは −)一般式 (式中、・R:、Rc、R”およびHfけそれぞれ前と
同じ意味) で示される化合物にハロゲン化剤を反応させ、一般式 (式中 XIはハロゲンを意味し3 ”:’ R’l 
R”およびRfけ前記と同じ意味) で示される化合物を得るか、また社 e) 一般式 %式% : (式中、R:l Rol 1’?’l B’>1びx’
hそれぞれ前と同じ意味) で示される化合物をカルボキシ保護基の脱離反応に付し
て、一般式 : (式中、R:、 R’l R’および11はそれぞれ前
と同じ意味) で示される化合物またけその塩類を得る仁とを特徴とす
る一般式 : (式中 14は水素または)・ロゲン、Roけカルボキ
シ基もしくは保護され九カルボキシ基をそれぞれ意味し
、Ra、R”およびR”tjそれぞれ前と同じ意味) で示される化合物を九はその塩類の製造方法。
[Scope of Claims] (1) General formula (wherein % RIH halogen-substituted aminothiazolyl group or halogen-substituted unprotected aminothiazolyl group % R”Ficarboxy or protected Carboxy (lower) alkyl group H
(a means a carboxy group or a protected carboxy group, respectively) A syn isomer of a 7-acylamino-3-vinyl 7710 suborane derivative or its basenote. (R1 is an aminothiazolyl group or a lower alkanamidothiazolyl group, and HR is mono- or di- or R)!
j phenyl (lower) alkoxycarbonyl (lower) alkyl group or mono-, di- or ketotrihalo (low tS
>Alkoxycarbonyl<lower>alkyl group 18 is a carboxy group, mono or cyto9 4L<tJ♂enyl (lower) alkoxycarbonyl group, lower alkanoyloxy (low #) alkoxycarbonyl group, or lower alkoxycarbonyl (lower) alkoxycarbonyl group A compound according to claim (1). (117-[2-(2-1minothiazol-4-yl)
-2-benzhydryloxycarbonylmethoxyiminoacetamide] -3-vinyl-3-cephem-4-carbonylbenzhydryl ester 2-(2-aminothiazol-4-yl)
-2-Benzyloxycarbonylmethoxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydrocate ester. Aminothiazole-4-
The compound according to claim S (t), which is benzhydryl ester of l-(λλ2-trichloroethoxycarbonylmethoxyimino)acetamidonot-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid. (・17-[2-(2-aminothiazol-4-iA/
)-2-(Lλ2-trichloroethoxycarbonylmethoxyimino)acetamide)-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid. (te37-[2-(2-aminothiazol-4-yl)
-Penzhydryloxycarponylmethoxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid sodium compound. (1) 7-[2-(2) -Aminothiazole-4-
yl)-2-benzζdolyloxycarbonylmethoxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4
-carboxylic acid piparoyloxymethyl ester.
4-yl)-2-benzhydryloxycarbonylmethoxyiminoacetamide]i-vinyl-3-cephem-
The compound according to claim (!), which is a 4-carboxylic acid benzhydryl ester. (117-[2-(2-formamidothiazole-4-
(ml) 7-[ 2-(2-formamidothiazole-4~4#)-2-benzhydryloxycarbonylmethoxyiminoacetamide]-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid Compound. -7-(2-(2-aminothiazol-4-yl)-2
-benzhydryloxycarbonylmethoxyiminoacetamide)-3-vinyl-3-se7emu-4-carboxylic acid tertiary-butoxycarbonylmethyl ester. Heavy ring R1 is aminothiazolyl group, R1 is carboxy (
(lower) alkyl group Claim No. 1, wherein Rm is a lower alkanoyloxy (lower) alkoxycarbonyl group
A compound according to item 11. 64 7-C2-<2-aminothiazol-4-yl)
-2-Carboxymethoxyiminoacetamide F)-3-
The claimed aSS compound is vinyl-13-cephem-4-carvone-piparoyloxymethyl ester. Casting 7-(2-(2-aminothiazol-4-yl)
-2-carboxymethoxyiminoacetamide F)-3
-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid carboxymethyl ester. Fist groaning R1 is substituted with halogen and mourning aminothiaserialkoxycarbonyl (lower) alkyl L R'' is ditu<
IJ Carboxy group 9 is mono 4 L < duck) Riphenyl (
The compound according to claim (1), which is a lower) alkoxycarbonyl group. First 7-(2-(2-amino-5-chlorothiazole-
4-yl)-2-(1-carboxyethoxyimi/)acetamido-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid. - (a) Reactivity I of the compound represented by the general formula (in the formula, HaFi carboxy group teFi means an interlocked carboxy group) or its amino group! zero body or its salts, -soft formula % (wherein R'tt halogen-substituted aminothiazolyl group or optionally halogen-substituted protected aminothiazolyl group, R1 is carboxy or protected aminothiazolyl group) (respectively meaning a carboxy (lower) alkyl group) or a reactive derivative thereof at the carboxy group is reacted with a salt thereof, and -(in the formula R1
, H snow and BaFi, respectively) to obtain its salts; refers to an aminothiazolyl group (R1 and R3 each have the same meaning as before) or a salt thereof is subjected to amino-protecting group removal reaction 115 and substituted with the general formula (in the formula, #i) ・logon 1m and Ra each have the same meanings as before) or salts thereof, or (wherein RS means a protected carboxy group, R1
and R2 are the same meanings as above) or their salts are subjected to a carboxy-protecting group elimination reaction to form a compound represented by the general formula (wherein R1 and BR are the same meanings as above) or A compound represented by the general formula (wherein R1 and R1 each have the same meanings as before) or a salt thereof is subjected to a carboxy-protecting group introduction reaction to obtain a salt thereof; R", R" and R: (each has the same meaning as before) Compounds represented by the formula (e) can be obtained from its salts, where XI means halogen, and R1 and Ra each have the same meaning as before. (same meaning as before) or its salts is reacted with a compound represented by the general formula % (in the formula, R'Fi means an amino group or a protected amino group) to form a compound represented by the general formula ( Compounds represented by the formula (R, R1 and R4 each have the same meanings as before) can be used to obtain salts thereof, or (to) a compound represented by the general formula (wherein R1 is a protected carboxy(lower) alkyl group) A compound represented by R1 and R''#'i, each with the same meaning as above) is obtained by subjecting its salts to an elimination reaction of the carboxy-protecting group to obtain the compound represented by the general formula (wherein, is carboxy (lower) means an alkyl group,
(R1 and Ba1l, each having the same meaning as above) or (g) general formula (wherein R%, ti means a protected carboxy(lower) alkoxycarbonyl group) (each has the same meaning as before) A compound represented by the formula (wherein R means a carboxy (lower) alkoxycarbonyl group) or its INs is subjected to a carboxy-protecting group elimination reaction to form a compound represented by the general formula are the same meanings as above). A method for producing a syn isomer of sporanic acid WII conductor or a salt thereof. - General formula (wherein R1 #i an aminothiazolyl group optionally substituted with halogen or a protected aminothiazolyl group optionally substituted with halogen, R"u carboxy-protected carboxy(lower) alkyl An antibacterial agent containing as an active ingredient a syn isomer of a 7-acylamino-3-vinyl heptaphalospotunic acid derivative or its salts represented by the following formula (respectively meaning a carboxyl group or a protected carboxy group). - General formula % Formula % (In the formula, R1 is a protected carboxy (lower) alkyl group, R6 and R4 #i are bonded to form a protected oxo group across the oxo group, and R@h carboxy group or protected carboxy group 14 (21(a) General formula (in the formula, %R'ii means a protected carboxy group, R'ii means a protected carboxy group, R'
Reacting a compound represented by the general formula % (where R: the same meaning as before) or a reactive derivative thereof with a compound represented by the general formula % (where R: the same meaning as before),
To obtain a compound represented by the general formula: (wherein R: #R6I R" and Rt each have the same meaning as before, or t or -) with the general formula (wherein, .R:, Rc, R" and A halogenating agent is reacted with a compound represented by the formula (wherein XI means halogen and 3 '':'R'l
(R" and Rf have the same meanings as above).
h, each having the same meaning as before) is subjected to an elimination reaction of the carboxy protecting group to form a compound represented by the general formula: (wherein R:, R'l R' and 11 each have the same meaning as before) The general formula is characterized by the following formula: (wherein 14 is hydrogen or), 14 represents a carboxy group or a protected 9-carboxy group, respectively, and Ra, R'' and R'' tj each has the same meaning as before) 9 is a method for producing its salts.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2533926A1 (en) * 1982-09-30 1984-04-06 Fujisawa Pharmaceutical Co PROCESS FOR PRODUCING 7-SUBSTITUTED 3-VINYL-3-CEPHEM COMPOUNDS AND NOVEL PRODUCTS THUS OBTAINED
JPS59184186A (en) * 1983-04-01 1984-10-19 Meiji Seika Kaisha Ltd Novel cephem compound
JP2002510694A (en) * 1998-04-02 2002-04-09 バイオケミ・ゲゼルシヤフト・エム・ベー・ハー Purification method of cephalosporin derivative

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5621441A (en) * 1992-09-21 1997-04-15 Hewlett-Packard Company Service station for inkjet printer having reduced noise, increased ease of assembly and variable wiping capability

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1442993A (en) * 1972-07-18 1976-07-21 Gist Brocades Nv Penicillin and cephalosporin r-sulphoxides
JPS5127679A (en) * 1974-08-31 1976-03-08 Mitsubishi Heavy Ind Ltd HENKARITSUOSEIGENSHITAPUROGURAMUSEIGYOHOSHIKI
BE878433A (en) * 1978-08-31 1980-02-25 Fujisawa Pharmaceutical Co PROCESS FOR THE PREPARATION OF 3-CEPHEM-4-CARBOXYLIC ACID DERIVATIVES 3,7-DISUBSTITUTED, NOVEL PRODUCTS THUS OBTAINED AND THEIR USE FOR THEIR ANTIBACTERIAL ACTIVITY
PH17188A (en) * 1977-03-14 1984-06-14 Fujisawa Pharmaceutical Co New cephem and cepham compounds and their pharmaceutical compositions and method of use
JPS6027677B2 (en) * 1978-07-06 1985-06-29 富山化学工業株式会社 New method for producing 7-substituted or unsubstituted amino-3-substituted thiomethylcefem carboxylic acids
JPH0369353A (en) * 1989-08-09 1991-03-25 Sumitomo Bakelite Co Ltd Manufacture of copper-clad laminated board

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2533926A1 (en) * 1982-09-30 1984-04-06 Fujisawa Pharmaceutical Co PROCESS FOR PRODUCING 7-SUBSTITUTED 3-VINYL-3-CEPHEM COMPOUNDS AND NOVEL PRODUCTS THUS OBTAINED
JPS59184186A (en) * 1983-04-01 1984-10-19 Meiji Seika Kaisha Ltd Novel cephem compound
JP2002510694A (en) * 1998-04-02 2002-04-09 バイオケミ・ゲゼルシヤフト・エム・ベー・ハー Purification method of cephalosporin derivative

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