JPS5897546U - 高周波プラズマ分析装置 - Google Patents

高周波プラズマ分析装置

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JPS5897546U
JPS5897546U JP19354181U JP19354181U JPS5897546U JP S5897546 U JPS5897546 U JP S5897546U JP 19354181 U JP19354181 U JP 19354181U JP 19354181 U JP19354181 U JP 19354181U JP S5897546 U JPS5897546 U JP S5897546U
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JP
Japan
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frequency plasma
high frequency
plasma analyzer
forming device
flame forming
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Granted
Application number
JP19354181U
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JPS626527Y2 (ja
Inventor
水上 治男
今井 覚
Original Assignee
株式会社島津製作所
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Publication date
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  • Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例装置の全体を示す側面図、第
2図は同じく熱交換器の縦断側面図であり・・・・・・
グローブボックス、7・・曲プラズマ炎形成装置スタン
ド、9・・・・・・冷却用熱交換器、1o・・・・・・
ファン。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 高周波プラズマ炎形成装置と冷却用熱交換器とをボーツ
    クス内に設置して高周波プラズマ炎形成装置を外部から
    遮蔽した高周波プラズマ分析装置。
JP19354181U 1981-12-25 1981-12-25 高周波プラズマ分析装置 Granted JPS5897546U (ja)

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JP19354181U JPS5897546U (ja) 1981-12-25 1981-12-25 高周波プラズマ分析装置

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JP19354181U JPS5897546U (ja) 1981-12-25 1981-12-25 高周波プラズマ分析装置

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JPS5897546U true JPS5897546U (ja) 1983-07-02
JPS626527Y2 JPS626527Y2 (ja) 1987-02-14

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JP19354181U Granted JPS5897546U (ja) 1981-12-25 1981-12-25 高周波プラズマ分析装置

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JPS626527Y2 (ja) 1987-02-14

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