JPS5870821A - 回転円盤の腐食および摩耗防止方法 - Google Patents

回転円盤の腐食および摩耗防止方法

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Publication number
JPS5870821A
JPS5870821A JP56167024A JP16702481A JPS5870821A JP S5870821 A JPS5870821 A JP S5870821A JP 56167024 A JP56167024 A JP 56167024A JP 16702481 A JP16702481 A JP 16702481A JP S5870821 A JPS5870821 A JP S5870821A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
exhaust gas
rotating disk
rotary disc
corrosion
hydrogen chloride
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP56167024A
Other languages
English (en)
Inventor
Taisuke Nishida
西田 岱輔
Masanori Itagaki
板垣 正紀
Kazuhisa Kinoshita
木下 和久
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Engineering Corp
Original Assignee
NKK Corp
Nippon Kokan Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by NKK Corp, Nippon Kokan Ltd filed Critical NKK Corp
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Publication of JPS5870821A publication Critical patent/JPS5870821A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Coating By Spraying Or Casting (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、都市ごみ焼却炉排ガス等の排ガスから塩化水
嵩ガス會除去する回転円盤方式の半乾式塩化水素除去装
置における回転円盤の腐食および摩耗防止方法に関する
もので、腐食および摩耗の結果生ずる回転円盤の不りシ
合い會防止し、良好なスラリの噴霧状態を長時間維持さ
せると共に回転円盤駆動装置の損傷を防止するとと葡目
的とするものである。
都市ごみt焼却すると、ごみ中の包装材料、雑貨等に含
まれるポリ塩化ビニルや食物残滓等がら塩化水木がス1
発生することは知られている。そして、この塩化氷菓ガ
スが焼却炉の二次分書として問題となシ、昭和52年6
月に大気汚染防止法の改正がなされて塩化水率の排出規
制が法律によって実織されることとなった。
従来の排ガスからの塩化水素ガス除去方法には、大別し
て湿式法、乾式法、半乾式法の3つがあった。この内湿
式法煮、苛性ソーダ溶液t−所足量噴鏝して排ガスと効
率よく接触させ、次の反応式1式% によ夕塩化水素を吸収するものである。この除去方法は
塩化水素除去率が95〜98−と高いが、H)吸収薬液
として比較的価格の高り苛性ソーダ金使用すること、(
ロ)吸収排液は各種重金属1會んでいるので排水処理設
備1設ける必要があること、(ハ)吸収装置出口ガスは
飽和湿度状態で若干の塩化水木を會むので該設備に腐食
対策が必要であること、等の諸間亀があシ、要するにこ
の湿式法はランニングコスト及び設備費が高くつき、処
理工程も複雑なものとなるという欠点がある。
又、前記乾式法は、粉状の炭酸カルシウム或いは消石灰
全燃焼室、ボイラ室、ボイラ出口ダクト、反応室に噴射
分散させてガスと固−気接触ざゼ、塩化水素を反応除去
するものである。この除去法は吸収薬剤の粉体粒度が大
きく、このため塩化水素の除去率が30〜50チ程坂で
、高い除去率が得られないという欠点がある。
次に、前記半乾式法は、排ガスに消石灰スラリに接触反
応させて塩化水1Et−除去するものである。
この除去方法によれば上述の湿式法における如き81カ
策、腐食対策、排オワ、1不i7あ9、ヵ、つ塩化水素
除去率もSO*以上と高いので上述の乾式法の欠点もな
い。
而して、従来のこの半乾式法には移動層方式のものと二
流体ノズル方式のものがあシ、前者の移動層方式はリア
クタ内部にボールが光′*されでおり、このボール層上
部よシ吸収スラリ會噴霧してボール表面に分散させ、排
ガス成分と反応させる。
ボール表面の反応生成物は排ガスの顕熱によシ乾燥され
、−足の傾斜で固足されたスクリーン上管移動しなから
衡撃て反応生成物金剥離し循環使用される。しかし、こ
の方式は排ガス量、排ガス温#、塩化水嵩濃度等の負荷
変11JJK対して応答性が悪く、一時的に排ガス規制
短音オーバーしたり、吸収薬剤全過剰に使用しなければ
ならないという欠点がある。又、後者の二流体ノズル方
式は、排ガスを反応蒸発塔に導き、空気又は蒸気と共に
吸収スラリ全高圧噴霧させ、排ガスをこれと並流して流
しながら有害ガス取分と反応させる。反応生成物は排ガ
スの熱により乾燥し、粉体となって排出される。しかし
、この方式は高圧噴霧用の補助設備全必要とし所要動力
が大きくなるため大容量のものには不向きであり、かつ
焼却炉排ガスのように負荷変動の激しい排ガスに対して
、吸収スラリ量及び排ガス@度tコントシールすること
は各の濃t%量を変えると共に、吸収スラリ噴き用の空
気圧を変える必要があるが、この圧力を変えると噴霧さ
れた吸収スラリの液滴分布、粒径が最適のものでなくな
り、塩化水素との反応率即ち除去率が低下する。従って
、吸収スラリを過剰に噴霧しなければならない等の諸問
題がある。
このようなことから、本発明者らは先に%創昭55−3
1866号をもって、吸収スラリを回転円盤の噴出孔よ
シ噴霧乾燥装置内に噴霧するとともに、塩化水素ガスを
含む排ガス會吹込んで、これら老旋回降下させながら反
応せしめ、しかる後反応生成物を噴霧乾燥装置内から排
出し、かつ反応後の排ガス中のダス)1−捕集する方法
t!!案した。この方法は、吸収スラリの微粒化及び噴
霧特性に優れ、かつ吸収スラリの供給調節範囲が大きく
、排ガスの負荷変動に対する応答性も良好である。
しかし、この方法においては、回転円盤は通常10.0
00〜2Q、000rpmという高速で使用され、カ’
l)可曲のガス中にダクトおよび塩化水素が含まれてい
るtめ短時間のうちに摩耗・腐食が発生し、その側面あ
るいは底面が侵食されてしまう結果、円盤のバランスが
くずれ、スラリの噴霧状態が悪化して塩化水素除去率が
低下したシ、円盤の駆動装#i損傷するというような問
題音生じる欠点があった。
本発明者らは、回転円盤の腐食な込しは摩耗の進行を防
ぐ材質會検討するため、第1〜3図に示した装置愛用い
て、回転円盤方式の半乾式塩化水素除去装置の通常の運
転条件である装置人口排ガx@[300℃、出口m#2
00 ’C)条fll=”t’ 100時間の連続運転
を行い回転円盤の側面ないし底面に発生する侵食溝の平
均深言(単位■)についてその実態を得た。その結果を
次表に示した。
表の結果から明らかなように、塩化水素を含む排ガス會
処理し次場合は、いずれの材質ても回転円盤の側面ない
し底面に侵食のあとがしめられた。
この侵食の現象は、円盤の底面においてより顕著であり
、回転軸を中心として外周方向に放射状の溝が虫取して
い次ものである。
その原因は、明らかに排ガス中の塩化水軍による腐食に
あるが、そのほかに排ガス中のダクト。
噴霧された消石灰及びその反応生成物による摩耗も考え
られ1表の結果は塩化水Xt−含む排ガス中に消石灰ス
ラリを噴霧した場合のように両者が同時に作用するとき
には、それらの各単独が作用した時に比較してはるかに
強烈に作用することt物納っている。筐たその場合は、
通常使用される耐食性材料中最上級の5US316材會
もってしてもこれを防止することができないことが表の
結果から明らかにされている。
このようにして一旦侵食St−生じた円盤は、回転体と
してのバランスがくずれるため、それが極くイーかであ
ってもIQ、000〜2αooorpmの高速回転を行
つと円滑な回転r維持できなくなシ、従ってその当然の
結果として良好なスラリ液の噴霧状態は望めなくなるも
のである。
本発明は、以上のような知見に基づき、かつこれに対処
するためKなされたもので、その目的は回転円盤の腐食
および摩耗による不つ9合いの発生を防止し、長時間良
好なスラリ液の噴霧状態を維持すると共に回転円盤駆動
装置の損傷を防止しようとするものである。
即ち本発明は、回転円盤方式による半乾式塩化水素除去
装置において、少なくとも回転円盤の底面、側面等必要
とする部分にアルミナをコーティングする回転円盤の腐
食および摩耗防止方法である。
回転円盤のうち最も腐食ないし摩耗の激しい部分は、外
部底面であり従って例えば第4図の左半分で示されるよ
うにこの部分に対してアルミナコーティング全行うだけ
で相当の結果が期待できるが、その終端部の二ツ一部分
aυで侵食が発生し次場合にはその部分からコーティン
グの剥離が進行する不都合を有するため第4図布中分で
示し次ように底面及び側面を合せてコーティングするこ
とが長期間運転の際には極めて有効である。
尚、この回転円盤の上面は、その直上部にアトマイデ一
本体があり、側面及び底面のように排ガス中にむき出し
になっておらず、殆ど侵食されるようなことはない。従
って特に必要とする場合以外には上面へのコーティング
は不要である。筐た円盤内部も消石灰スラリか流れてい
てガスと殆ど接触しないので、上面と同様にコーティン
グは行なわなくて充分である。
この発明では、回転円盤の外部側面と外部底面とが突き
合されて構成される角はある曲率03を与えなけれけな
らない。これは、この回転円盤の運転中にFi、加熱や
冷却の@度変化がしげしげあシ、そのためコーティング
層a3と円盤母体とでは熱膨率が異なることから、応力
集中がコーナ一部分に対して行われる。従ってこのコー
ナーが直角であればコーティングに破損が起りやすく%
WL損會避けるためには少なくとも2■Rにすることが
望ましい。
尚、コーテイング材としては、アル電す全使用した時が
最も安定した効果上発現するが、そのほかジルコニア、
シリカ或はチタニア等を使用ないし共用することKよシ
、同様な効果が得られることが多い。
以下寮織例によって本発明の詳細な説明する。
笑織例 回転円盤方式による半乾式塩化水素除去装置として第1
図に示すものを用いた。この装置は装置本体(1)内の
上部に塩化水素1含む排ガス流入口(2)と同転円盤(
3)とが設けてあり、下部に排ガスの流出口(5)と反
応生成物の排出口(4)とが設けである。
第2図及び第3図に回転円盤の詳細管示す。消石灰スラ
リは保膜管(7)と回転軸(6)との間t−通って回転
盤(3)内に入9、この円盤(3)の回転で生じた遠心
力によりスラリ會噴出孔(II fi−ら微粉化して噴
出す。
なお(8)は回転円盤(3)の底盤であり、(9)は円
盤本体である。実織の諸条件は次の如くであった。
中耕カ2 m 、11500NvllH(11)装置入
口排ガス温度      300℃0ii)装置出ロ排
ガス@度      200℃UV)装置入ロ排ガス塩
化水紫濃度  700pM消石灰スラリ供給量    
45糠/H(VD消石灰スラリ濃度     10チ(
vID回転円盤    直 径  10a1材質 5U
S304 噴出口  51w16×8ケ 回転数  15.00Orpm υ+111コーティング  アルミナをプラズマ溶射法
によシ@面および底面に対 し、a1箇Nにコーチイン グ。尚側面と底面とが接す る部分の曲率は2 wm Rとし た・ 上記諸条件下で連続運転管行ったが500時間経過して
も回転円盤には何らの腐食ないし単軌は発生していなか
った。
【図面の簡単な説明】
第1〜4図は、本発明方法を適用する回転円盤方式の半
乾式塩化水素除去装置の一例を示すもので、第1図は装
置全体の説明図、第2図は回転円盤の縦断面図、第3図
は同平面図、第4図は回転円盤の拡大縦断面図である。 1・・・装置本体、2・・・排ガス流入口、3・・・回
転円盤、4・・・反応生成物排出口、5・・・排ガス流
出口、6・・・回転軸、8−・・底面、10・・・噴出
口、11・・・エラ一部分、12−・・曲面、13・・
・コーティング層。 代理人 弁理士   佐 藤 正 年 第1図 第2図 第4図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 回転円盤方式による半乾式塩化水素除去装置において、
    回転円盤の外部側面と外部底面の角iRケもたせ少なく
    ともその外部@面と外部底rkJVCアルミナでコーテ
    ィングすることを特徴とする回転円盤の腐食および摩耗
    防止方法。
JP56167024A 1981-10-21 1981-10-21 回転円盤の腐食および摩耗防止方法 Pending JPS5870821A (ja)

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JP56167024A JPS5870821A (ja) 1981-10-21 1981-10-21 回転円盤の腐食および摩耗防止方法

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ID=15841970

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JP56167024A Pending JPS5870821A (ja) 1981-10-21 1981-10-21 回転円盤の腐食および摩耗防止方法

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6142386A (en) * 1995-12-12 2000-11-07 Dan Mamtirim Rotary sprinkler without dynamic seals
CN105709580A (zh) * 2016-04-13 2016-06-29 中冶焦耐工程技术有限公司 一种用于旋转雾化脱硫的烟气分配器及烟气分配方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6142386A (en) * 1995-12-12 2000-11-07 Dan Mamtirim Rotary sprinkler without dynamic seals
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