JPS5858615B2 - Infrared gas analyzer - Google Patents

Infrared gas analyzer

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JPS5858615B2
JPS5858615B2 JP731176A JP731176A JPS5858615B2 JP S5858615 B2 JPS5858615 B2 JP S5858615B2 JP 731176 A JP731176 A JP 731176A JP 731176 A JP731176 A JP 731176A JP S5858615 B2 JPS5858615 B2 JP S5858615B2
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JP
Japan
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tank
light beam
detection tank
measurement
light
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Application number
JP731176A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS5290985A (en
Inventor
敏義 浜田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fuji Electric Co Ltd
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Electric Co Ltd filed Critical Fuji Electric Co Ltd
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Priority to DE19772702744 priority patent/DE2702744A1/en
Publication of JPS5290985A publication Critical patent/JPS5290985A/en
Publication of JPS5858615B2 publication Critical patent/JPS5858615B2/en
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/31Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
    • G01N21/35Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
    • G01N21/37Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light using pneumatic detection

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、測定光線路および比較光線路にガス封入式第
1検出槽およびガス封入式第2検出槽を順次直列に配置
し、その第1検出槽にて吸収された光エネルギーとその
第2検出槽にて吸収された光エネルギーとの差に基づい
て測定光線路に配置された測定槽に導かれる試料ガスの
分析を行なうガス分析装置において、試料ガス中の干渉
成分たとえば水蒸気成分による影響を補償するようにし
た赤外線ガス分析装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION According to the present invention, a gas-filled first detection tank and a gas-filled second detection tank are sequentially arranged in series in the measurement optical path and the comparison optical path, and the absorption in the first detection tank is arranged in series. In a gas analyzer that analyzes a sample gas guided to a measurement tank arranged in a measurement optical path based on the difference between the optical energy absorbed by the second detection tank and the optical energy absorbed by the second detection tank, interference in the sample gas is detected. The present invention relates to an infrared gas analyzer that compensates for the influence of components such as water vapor components.

第1図は、米国特許第3,162,761号明細書に開
示されたこの種の従来の赤外線ガス分析装置である。
FIG. 1 shows a conventional infrared gas analyzer of this type disclosed in U.S. Pat. No. 3,162,761.

この第1図において、Lは赤外線光源で、この赤外線光
源りから発せられた赤外線光束はチョッパーCHにより
基準光線■■と測定光線Isとに分割される。
In this FIG. 1, L is an infrared light source, and the infrared light flux emitted from this infrared light source is divided by a chopper CH into a reference light beam (■■) and a measurement light beam Is.

MはこのチョッパーCHを回転するモータである。M is a motor that rotates this chopper CH.

チョッパーCHは、第2図に示すように、開口部01.
02を有し、開口部01によって測定光線Isが形成さ
れ、また開口部02によって測定光線IVが形成される
As shown in FIG. 2, the chopper CH has an opening 01.
02, the opening 01 forms the measuring beam Is, and the opening 02 forms the measuring beam IV.

測定光線Isおよび基準光線IvはこのチョッパーCH
により交互に周期的に断続して形成され、測定光線Is
は測定槽Sに、また基準光線IVは基準槽■にそれぞれ
交互に周期的に案内される。
The measurement beam Is and the reference beam Iv are connected to this chopper CH.
The measurement light beam Is is formed alternately and periodically intermittently by
is alternately and periodically guided to the measurement tank S, and the reference beam IV to the reference tank (2).

測定槽Sおよび基準槽■はそれぞれ一体的に形成され、
光透過窓R1,R2が設けられている。
The measurement tank S and the reference tank ■ are each formed integrally,
Light transmission windows R1 and R2 are provided.

測定槽Sには導入管Z 1 、Z 2を介して被分析成
分ガスを含む試料ガスが矢印方向に導かれ、また基準槽
Vには赤外線に対して吸収作用を持たないガスたとえば
窒素ガスが封入されている。
A sample gas containing the gas to be analyzed is introduced into the measuring tank S through introduction pipes Z 1 and Z 2 in the direction of the arrow, and a gas that does not absorb infrared rays, such as nitrogen gas, is introduced into the reference tank V. It is enclosed.

従って、測定光線ISは測定槽Sにおいて被分析成分ガ
スの濃度に応じて赤外線吸収を受け、一方基準光線■V
は基準槽Vにおいて赤外線吸収を受けない。
Therefore, the measurement light beam IS receives infrared absorption in the measurement tank S depending on the concentration of the gas to be analyzed, while the reference light beam ■V
does not undergo infrared absorption in the reference tank V.

測定光線ISおよび基準光線■ヤは測定槽Sおよび基準
槽Vを透過した後、検出器りに交互に案内される。
After passing through the measuring tank S and the reference tank V, the measuring beam IS and the reference beam IS are alternately guided to the detector.

検出器りは第1検出槽D1と第2検出槽D2とが赤外線
光路に順次直列に配置され、各検出槽DI、D2には被
分析成分ガスと同種類のガスが充填されている。
In the detector, a first detection tank D1 and a second detection tank D2 are arranged in series in the infrared light path, and each detection tank DI, D2 is filled with the same type of gas as the component gas to be analyzed.

なお、Ra、R4は光透過窓であり、Kは各検出槽DI
、D2に接続されたコンデンサマイクロホン式検出室で
ある。
Note that Ra and R4 are light transmission windows, and K is each detection tank DI.
, D2 is a condenser microphone type detection chamber.

測定光線Isに対する赤外線吸収の差に基づくこの雨検
出槽DI、D2内の圧力変動の差がコンデンサマイクロ
ホン検出室Kによって容量変化すなわち電圧変動としで
取出され、被分析成分ガスに対する分析値として指示さ
れる。
The difference in pressure fluctuations in the rain detection tanks DI and D2 based on the difference in infrared absorption with respect to the measurement light beam Is is extracted by the condenser microphone detection chamber K as a capacitance change, that is, a voltage fluctuation, and is indicated as an analysis value for the component gas to be analyzed. Ru.

第3図には、測定光線Isが検出槽DI、D2において
吸収される光エネルギー吸収特性図が示されている。
FIG. 3 shows a light energy absorption characteristic diagram in which the measurement light beam Is is absorbed in the detection tanks DI and D2.

特性線イによって囲まれた面積AIは検出槽D1によっ
て測定光線Isが吸収される光エネルギーの大きさを示
し、また特性線イど特性線口とによって囲まれた面積A
2は検出槽D2によって測定光線ISが吸収される光エ
ネルギーの大きさを示す。
The area AI surrounded by the characteristic line A indicates the amount of optical energy absorbed by the measurement light beam Is by the detection tank D1, and the area A surrounded by the characteristic line I and the characteristic line I
2 indicates the magnitude of optical energy absorbed by the measurement light beam IS by the detection tank D2.

面積A1と面積A2との差△Aは試料ガス中に含まれる
被分析成分ガスの濃度に応じて異なり、この差△Aに応
じてコンデンサマイクロホン検出室Kから電気信号が発
信される。
The difference ΔA between the area A1 and the area A2 varies depending on the concentration of the analyte component gas contained in the sample gas, and an electric signal is transmitted from the condenser microphone detection chamber K in accordance with this difference ΔA.

その差△Aは被分析成分ガスの濃度が一定の場合には常
に一定となる。
The difference ΔA is always constant when the concentration of the gas to be analyzed is constant.

ところで、試料ガス中には被分析成分ガスと同一の赤外
線吸収領域あるいは一部が重なった赤外線吸収領域をも
つガスが共存する場合(一般にこのガスを干渉成分と称
する。
By the way, when a gas having an infrared absorption region that is the same as or partially overlaps with the component gas to be analyzed coexists in the sample gas (this gas is generally referred to as an interference component).

)が多く、この干渉成分のために、被分析成分ガスの分
析値が誤差を生じていた。
), and this interference component caused an error in the analysis value of the component gas to be analyzed.

第3図において、特性線ハはこの干渉成分による赤外線
の吸収状態を示したものである。
In FIG. 3, characteristic line C shows the state of absorption of infrared rays by this interference component.

ところが、第1図に示した如き検出器りの構成によれば
、この干渉成分による赤外線(測定光線Is)の吸収は
検出槽D1において吸収される光エネルギーの大きさく
面積A1)および検出槽D2において吸収される光エネ
ルギーの大きさく面積A2 )に共に影響を与えるため
、面@abcと面積bcbeとが等しくなるように、面
積Alと面積A2との比すなわち検出槽Dlの赤外線吸
収特性と検出槽D2の赤外線吸収特性とを適当に設定し
た場合には、干渉成分の吸収の有無に拘らず、面積A1
と面積A2との差△Aは常に一定となる。
However, according to the configuration of the detector as shown in FIG. 1, the absorption of infrared rays (measurement light beam Is) by this interference component is due to the large area of the light energy absorbed in the detection tank D1 (A1) and the detection tank D2. The ratio of the area Al to the area A2, that is, the infrared absorption characteristic of the detection tank Dl and the detection If the infrared absorption characteristics of tank D2 are set appropriately, the area A1
The difference ΔA between the area A2 and the area A2 is always constant.

従って、その干渉成分の影響を除去することができる。Therefore, the influence of the interference component can be removed.

検出槽Drの赤外線吸収特性と検出槽D2の赤外線吸収
特性との比を適当に選定する方法としては、これらの検
出槽D 1. D 2に充填するガスの種類に応じて、
その濃度と検出槽D1の形状と体積■1および検出槽D
2の形状と体積v2とを実験的に決める方法かある。
As a method for appropriately selecting the ratio between the infrared absorption characteristics of the detection tank Dr and the infrared absorption characteristics of the detection tank D2, these detection tanks D1. Depending on the type of gas filled in D2,
Its concentration and the shape and volume of detection tank D1 ■1 and detection tank D
There is a method of experimentally determining the shape of 2 and the volume v2.

しかしながら、この方法によれば、これらの関係を厳密
に決めることは非常に難かしく、しかも実際の全製品に
ついてこの条件を維持させることは可成り困難である。
However, according to this method, it is very difficult to strictly determine these relationships, and it is also quite difficult to maintain these conditions for all actual products.

本発明は、上述の点に鑑みてなされ、極めて簡単な構成
により干渉成分の影響を除去するようにしたこの種の赤
外線ガス分析装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above-mentioned points, and an object of the present invention is to provide an infrared gas analyzer of this type that eliminates the influence of interference components with an extremely simple configuration.

この目的は、本発明によれば、測定槽を透過した測定光
線および比較槽を透過した比較光線が照射され、これら
測定光線および比較光線を貫通させ得るように構成され
たガス封入式第1検出槽と、この第1検出槽を透過した
前記測定光線および比較光線が照射され、これら測定光
線および比較光線を貫通させ得るように構成されたガス
封入式第2検出槽と、この第2検出槽を透過した前記測
定光線および比較光線をこの第2検出槽に部分的に反射
し得るように配置された反射機構とを備え、この反射機
構により前記各光線を所望の量だけ反射させ、前記第1
検出槽にて吸収された光エネルギーと前記第2検出槽に
て吸収された光エネルギーとに基づいて前記測定槽に導
かれる試料カスの分析を行なうように構成することによ
り達成される。
This purpose, according to the invention, is to provide a gas-filled first detector which is configured to be irradiated with a measuring beam that has passed through a measuring tank and a comparison beam that has passed through a comparison tank and to allow these measuring beams and comparison beams to pass through. a gas-filled second detection tank configured to be irradiated with the measurement light beam and the comparison light beam that have passed through the first detection tank, and to allow the measurement light beam and the comparison light beam to penetrate therethrough; and the second detection tank. a reflection mechanism arranged to partially reflect the measurement light beam and comparison light beam transmitted through the second detection tank, the reflection mechanism reflects each of the light beams by a desired amount; 1
This is achieved by configuring the sample debris guided to the measurement tank to be analyzed based on the light energy absorbed in the detection tank and the light energy absorbed in the second detection tank.

なお、本発明によれば、第2検出槽は、設計段階におい
ては、その赤外線吸収エネルギーの大きさが第1検出槽
における赤外線吸収エネルギーの大きさに等しいかもし
くは小さくなるように設計され、調整段階において反射
機構の作用によって干渉成分による影響が現われないよ
うに赤外線の吸収が増加せしめられる。
According to the present invention, at the design stage, the second detection tank is designed and adjusted so that the magnitude of its infrared absorption energy is equal to or smaller than the magnitude of infrared absorption energy in the first detection tank. In this step, the absorption of infrared rays is increased by the action of the reflection mechanism so that the influence of interference components does not appear.

次に本発明の一実施例を図面に基づいて詳細に説明する
Next, one embodiment of the present invention will be described in detail based on the drawings.

第4図は本発明の実施例の概略断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of an embodiment of the present invention.

第4図において、第1図に示した装置の各部分と同一機
能を有する部分については同一符号が付されている。
In FIG. 4, parts having the same functions as each part of the apparatus shown in FIG. 1 are given the same reference numerals.

この実施例においては、第1検出槽D1の後部には、第
2検出槽が直列に配置されている。
In this embodiment, a second detection tank is arranged in series behind the first detection tank D1.

この第2検出槽D3は入射する赤外線を透過させ得るよ
うに光透過窓R5が設けられている。
This second detection tank D3 is provided with a light transmission window R5 so as to allow incoming infrared rays to pass therethrough.

さらに、この第2検出槽D3の後部には、この第2検出
槽D3を透過した赤外線を再びこの第2検出槽D3側に
部分的に反射し得るように反射板Tが配置され、可動的
に構成されている。
Further, at the rear of the second detection tank D3, a movable reflector T is arranged so as to partially reflect the infrared rays that have passed through the second detection tank D3 back to the second detection tank D3. It is composed of

第5図に基準槽Vおよび測定槽Sと反射板Tとの関係を
示し、また第6図に検出器りと反射板Tとの関係を示す
FIG. 5 shows the relationship between the reference tank V, the measurement tank S, and the reflector T, and FIG. 6 shows the relationship between the detector and the reflector T.

なお、第2検出槽D3における赤外線吸収エネルギーの
大きさは第1検出槽D1における赤外線吸収エネルギー
の太きさよりも小さくなるように設計されている。
Note that the magnitude of the infrared absorption energy in the second detection tank D3 is designed to be smaller than the thickness of the infrared absorption energy in the first detection tank D1.

なおまた、反射板Tにより測定光線Isが再び検出槽D
3側に部分的に反射される光線を以下反射光線と称する
Furthermore, the measuring light beam Is is again directed to the detection tank D by the reflection plate T.
The light ray that is partially reflected to the third side is hereinafter referred to as a reflected light ray.

次に上記構成の機能を第1図に基づいて説明する。Next, the functions of the above configuration will be explained based on FIG.

第7図には測定光線■sが検出槽DI、D3において吸
収される光エネルギー吸収特性図が示されている。
FIG. 7 shows a light energy absorption characteristic diagram in which the measurement light beam s is absorbed in the detection tanks DI and D3.

特性線イによって囲まれた面積A1は上述と同様に検出
槽D1によって測定線Isが吸収される光エネルギーの
大きさを示し、また特性線イと特性線二とによって囲ま
れた面積A3は検出槽D3によって測定光線Isが吸収
される光エネルギーの大きさを示す。
The area A1 surrounded by the characteristic line A indicates the amount of light energy absorbed by the measurement line Is by the detection tank D1 as described above, and the area A3 surrounded by the characteristic line A and the characteristic line I is the detection area The magnitude of the light energy absorbed by the measurement light beam Is by the tank D3 is shown.

このとき、面積A1〉面積A3である。At this time, area A1>area A3.

この状態においては、干渉成分の吸収によって影響を受
ける面積abcと面積bcfgとは等しくなく、従って
被分析成分ガスの濃度が一定の場合でも、干渉成分の量
に応じて、面積AIと面積A3との差は変化する。
In this state, the area abc and the area bcfg affected by the absorption of the interference component are not equal, and therefore, even if the concentration of the gas to be analyzed is constant, the area AI and the area A3 will vary depending on the amount of the interference component. The difference between changes.

そこで、本発明においては、反射板Tを挿入して、測定
光線Isの一部分を再び検出槽D3側に帰してやる。
Therefore, in the present invention, a reflection plate T is inserted to return a portion of the measurement light beam Is to the detection tank D3 side again.

特性線ホはこの反射光に対する検出槽D3の吸収特性線
であり、この特性線ホと特性線二とによって囲まれた面
積A4は反射光が検出槽D3において吸収される光エネ
ルギーの大きさである。
The characteristic line E is the absorption characteristic line of the detection tank D3 for this reflected light, and the area A4 surrounded by the characteristic line E and the characteristic line 2 is the amount of light energy that the reflected light is absorbed in the detection tank D3. be.

よって検出槽D3はこの面積A4に相当する分だけ赤外
線の吸収上力ケーが増加せしめられ全体的には面積A3
と面積A4との和(A3+A、 =A。
Therefore, the infrared absorption capacity of the detection tank D3 is increased by an amount corresponding to this area A4, and the overall area is A3.
and the area A4 (A3+A, =A.

とする。shall be.

)に相当するエネルギーを吸収することになる。) will absorb energy equivalent to .

しかして、反射板Tの挿入量を調節することにより、面
積abcと面積bcihとが等しくなるように設定する
By adjusting the insertion amount of the reflection plate T, the area abc and the area bcih are set to be equal.

このようにすることにより、被分析成分ガスの濃度が一
定の場合には、干渉成分の量に拘らず、面積A1と面積
A5との差は常に一定となり、その干渉成分の影響を除
去することができる。
By doing this, when the concentration of the component gas to be analyzed is constant, the difference between the area A1 and the area A5 is always constant regardless of the amount of the interfering component, and the influence of the interfering component can be removed. I can do it.

第8図は反射板Tの他の実施例を示したものであり、こ
の反射板Tと検出器りとの関係が示されている。
FIG. 8 shows another embodiment of the reflector T, and shows the relationship between the reflector T and the detector.

なお、上述の説明では、反射光については、検出槽D3
において吸収される光エネルギーについてのみ注目した
が、実際にはこの反射光は検出槽D1においても光エネ
ルギーの吸収を受けている。
In addition, in the above description, regarding the reflected light, the detection tank D3
Although attention has been focused only on the optical energy absorbed in the detection tank D1, in reality, this reflected light also receives absorption of optical energy in the detection tank D1.

しかしながら、その光エネルギーの吸収量は実際には微
小であるので本発明の説明を理解し易くするために、そ
の説明を省略した。
However, since the amount of light energy absorbed is actually very small, the explanation is omitted to make the explanation of the present invention easier to understand.

第9図は本発明の他の実施例の概略構成図である。FIG. 9 is a schematic diagram of another embodiment of the present invention.

第9図においては、第4図の実施例の各部分と同一機能
を有する部分については同一符号が付されている。
In FIG. 9, parts having the same functions as those in the embodiment shown in FIG. 4 are given the same reference numerals.

この実施例においては、反射板Xは第2検出槽D3を透
過した光線を全部間びこの第2検出槽D3側に反射し得
るように固定して配置され、この反射板Xと第2検出槽
D3との間の光路に挿入可能に遮光板Qが設けられてい
る。
In this embodiment, the reflection plate A light shielding plate Q is provided so as to be insertable in the optical path between the tank D3 and the tank D3.

遮光板Qの光線が突き当たる面はその光線を吸収するよ
うにたとえば黒色に着色され、第2検出槽D3を透過し
た光線が反射板Xに到着するのを遮る。
The surface of the light shielding plate Q that the light beam strikes is colored, for example, black so as to absorb the light beam, and blocks the light beam that has passed through the second detection tank D3 from reaching the reflection plate X.

第10図に測定槽S、基準槽V、遮光板Qおよび反射板
Xの関係が示され、また第11図に検出器D、遮光板Q
および反射板Xの関係が示されている。
Figure 10 shows the relationship between the measurement tank S, reference tank V, light shielding plate Q, and reflection plate X, and Figure 11 shows the relationship between the detector D, the light shielding plate Q
and the relationship between the reflector X and the reflector X are shown.

第10図および第11図に示すように、遮光板Qは矢印
方向に移動可能であり、例えば点線で示した面積Wの部
分の光線が反射光として反射板Xにより反射させられる
As shown in FIGS. 10 and 11, the light shielding plate Q is movable in the direction of the arrow, and for example, light rays in an area W indicated by the dotted line are reflected by the reflecting plate X as reflected light.

以上の実施例の説明においては、反射板Tおよび遮光板
Qを可動的に構成し、この反射板Tおよび遮光板Qの光
路への挿入量を変えることにより、反射光線の光量を調
節し、面積abcと面積bcihとが等しくなるような
特性線ホをもつ反射光線を選定している。
In the above embodiments, the reflection plate T and the light shielding plate Q are configured to be movable, and the amount of reflected light is adjusted by changing the insertion amount of the reflection plate T and the light shielding plate Q into the optical path. A reflected light beam having a characteristic line E such that the area abc and the area bcih are equal is selected.

しかしながら、本発明は、このような実施例に限定され
ず、たとえば特性線ホにて示すような光エネルギーの吸
収を第2検出槽D3が起こし得るような反射光線を反射
しうる反射板を予め用意しておき、この反射板を第2検
出槽D3.の背後の光路に配置することもできる。
However, the present invention is not limited to such embodiments; for example, the second detection tank D3 may be provided with a reflection plate in advance that can reflect a reflected light beam that may cause the second detection tank D3 to absorb light energy as shown by the characteristic line E. Prepare this reflector plate in the second detection tank D3. It can also be placed in the optical path behind the

というのは、本発明は、反射機構による反射光線により
第2検出槽D3においてたとえば特性線ホにて示す光エ
ネルギーの吸収が起こっていればよいという技術的思想
に基づいているからである。
This is because the present invention is based on the technical idea that it is only necessary that the light energy shown by the characteristic line E be absorbed in the second detection tank D3 by the light beam reflected by the reflection mechanism.

従って、反射機構が可動的であるか否かであるというこ
とは大きな問題ではない。
Therefore, it does not matter whether the reflection mechanism is movable or not.

第12図はこのような技術的思想に基づく本発明のさら
に他の実施例の概略断面図である。
FIG. 12 is a schematic sectional view of still another embodiment of the present invention based on this technical idea.

この実施例においては、第2検出槽D3の背後の光路に
は、開口部Gが設けられた反射板Fが固定して配置され
ている。
In this embodiment, a reflection plate F provided with an opening G is fixedly disposed on the optical path behind the second detection tank D3.

第13図はこのような反射板F+ 、F2.F3.F
4と検出器りとの位置関係を示した図面であり、各反射
板F+ 、F2 、FatF4には異なった面積をもつ
たとえば円形の開口部G+ 、G2 、Ga 、G4か
それぞれ設けられている。
FIG. 13 shows such reflectors F+, F2. F3. F
4 and a detector, each of the reflecting plates F+, F2, and FatF4 is provided with, for example, circular openings G+, G2, Ga, and G4 having different areas, respectively.

すなわち、この実施例においては、異なった面積をもつ
開口部がそれぞれ設けられた多数の反射板を予め用意し
ておき、調整段階において、特性線ホにて示される光エ
ネル、ギーの吸収を第2検出槽D3に起こさせるような
反射光線を提供し得る反射板たとえば反射板F/3を選
定し、この反射板F3をねじ孔部N1.N2 、Ns
、N4を介して図に示していない部材に固定配置する。
That is, in this embodiment, a large number of reflecting plates each having openings with different areas are prepared in advance, and in the adjustment stage, the absorption of light energy shown by the characteristic line E is determined first. 2. Select a reflector plate, for example, reflector F/3, which can provide a reflected light beam that causes the detection tank D3 to rise, and insert this reflector F3 into the screw hole N1. N2, Ns
, N4 to a member not shown in the figure.

しかして、反射光線の光量は所望の量に選定され、干渉
の影響を補償することができる。
Thus, the amount of reflected light can be selected to a desired amount and the effects of interference can be compensated for.

第14図は本発明のさらに他の実施例の要部の概略図で
ある。
FIG. 14 is a schematic diagram of a main part of still another embodiment of the present invention.

この実施例は第9図に示した実施例の反射板Xと遮光板
Qとの関係に対応し、第9図では遮光板Qは可動的に構
成されているが、この実施例においては遮光板Q1.Q
2.Q3゜G4は固定的に配置される。
This embodiment corresponds to the relationship between the reflector X and the light-shielding plate Q in the embodiment shown in FIG. Board Q1. Q
2. Q3°G4 is fixedly arranged.

ただし、この遮光板Ql、Q2.Q3.Q4にはそれぞ
れ異なった面積をもつ、たとえば円形の開口部E+、E
2゜F3.F4がそれぞれ設けられている。
However, the light shielding plates Ql, Q2. Q3. For example, circular openings E+ and E each have a different area in Q4.
2°F3. F4 is provided respectively.

従って、この実施例においても、異なった面積をもつ開
口部をもつ多数の遮光板が予め用意され、調整段階にお
いて所望の量だけ反射光線として提供し得る遮光板たと
えば遮光板Q4が選定される。
Therefore, in this embodiment as well, a large number of light shielding plates having openings with different areas are prepared in advance, and in the adjustment stage, a light shielding plate, such as light shielding plate Q4, that can provide a desired amount of reflected light is selected.

以上に説明するように、本発明においては、測定光線路
および比較光線路に第1検出槽D1および第2検出槽D
3を順次直列に配置し、雨検出槽Ih、Dsを共に赤外
線を透過させ得るように構成し、しかも第2検出槽の後
部にはこの第2検出槽を透過した赤外線の一部分をこの
第2検出槽側に再び反射し得る反射機構を設け、この反
射機構により反射光線の光量を所望の量に選定し、雨検
出槽において生じる赤外線の吸収エネルギーの大きさを
適当に選定し、干渉成分の影響を除去するように構成し
たので、極めて簡単な構成により干渉成分の影響を高精
度で補償することができる。
As explained above, in the present invention, the first detection tank D1 and the second detection tank D are provided in the measurement optical path and the comparison optical path.
3 are arranged in series one after another, and both rain detection tanks Ih and Ds are configured to transmit infrared rays, and at the rear of the second detection tank, a portion of the infrared rays transmitted through the second detection tank is transmitted to the second detection tank. A reflection mechanism that can reflect the light again is provided on the detection tank side, and this reflection mechanism selects the amount of reflected light to a desired amount, appropriately selects the magnitude of the infrared absorption energy generated in the rain detection tank, and removes interference components. Since the configuration is configured to remove the influence, it is possible to compensate for the influence of interference components with high precision using an extremely simple configuration.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来の赤外線ガス分析装置の概略構成図、第2
図はそのチョッパーと基準槽および測定槽との関係を示
す概略図、第3図はその検出器の赤外線吸収特性図、第
4図は本発明の一実施例の概略構成図、第5図はその基
準槽および測定槽と反射板との関係を示す概略図、第6
図はその検出器と反射板との関係を示す概略図、第7図
はその検出器の赤外線吸収特性図、第8図は他の実施例
を用いた反射板と検出器との関係を示す概略図、第9図
は本発明の他の実施例の概略構成図、第10図はその基
準槽、測定槽、反射板および遮光板の関係を示す概略図
、第11図はその検出器、反射板および遮光板の関係を
示す概略図、第12図は本発明のさらに他の実施例の概
略図、第13図はその反射板と検出器との関係を示す概
略図、第14図は本発明のさらになお他の実施例の要部
の概略図である。 S・・・・・・測定槽、■・・・・・・基準槽、D・・
・・・・検出器、DI、D3・・・・・・検出槽、R3
、R4、R5・・・・・・光透過窓、Tt Xs Fl
t ” 2 t F 3 、 F 4・・・・・・
反射板、Q、Q+ 、G2.G3 、G4・・・・・・
遮光板。
Figure 1 is a schematic diagram of a conventional infrared gas analyzer;
The figure is a schematic diagram showing the relationship between the chopper, the reference tank, and the measurement tank, Figure 3 is an infrared absorption characteristic diagram of the detector, Figure 4 is a schematic configuration diagram of an embodiment of the present invention, and Figure 5 is a diagram showing the relationship between the chopper and the reference tank and measurement tank. Schematic diagram showing the relationship between the reference tank, measurement tank, and reflector, No. 6
The figure is a schematic diagram showing the relationship between the detector and the reflector, Figure 7 is an infrared absorption characteristic diagram of the detector, and Figure 8 is the relationship between the reflector and detector using another embodiment. Schematic diagram, FIG. 9 is a schematic diagram of another embodiment of the present invention, FIG. 10 is a schematic diagram showing the relationship among the reference tank, measurement tank, reflector plate, and light shielding plate, and FIG. 11 is the detector, FIG. 12 is a schematic diagram showing the relationship between a reflector and a light shielding plate, FIG. 12 is a schematic diagram of still another embodiment of the present invention, FIG. 13 is a schematic diagram showing the relationship between the reflector and the detector, and FIG. 14 is a schematic diagram showing the relationship between the reflector and the detector. FIG. 7 is a schematic diagram of a main part of still another embodiment of the present invention. S...Measurement tank, ■...Reference tank, D...
...Detector, DI, D3...Detection tank, R3
, R4, R5... Light transmission window, Tt Xs Fl
t ” 2 t F 3 , F 4...
Reflector, Q, Q+, G2. G3, G4...
Light blocking plate.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 測定槽を透過した測定光線および比較槽を透過した
比較光線が照射され、これら測定光線および比較光線を
貫通させ得るように構成されたガス封入式第1検出槽と
、この第1検出槽を透過した前記測定光線および比較光
線が照射され、これら測定光線および比較光線を貫通さ
せ得るように構成されたガス封入式第2検出槽と、この
第2検出槽を透過した前記測定光線および比較光線をこ
の第2検出槽側に部分的に反射し得るように配置された
反射機構とを備え、前記第1検出槽にて吸収された光エ
ネルギーと前記第2検出槽にて吸収された光エネルギー
とに基づいて前記測定槽に導かれる試料ガスの分析を行
なうことを特徴とする赤外線ガス分析装置。 2、特許請求の範囲第1項に記載の赤外線ガス分析装置
において、前記反射機構として可動的に構成された反射
板を用い、この反射板の前記各光線への挿入量を変える
ことにより前記各光線の反射量として所望の量が得られ
るように構成したことを特徴とする赤外線ガス分析装置
。 3 特許請求の範囲第1項に記載の赤外線ガス分析装置
において、前記反射機構として光学的に直列に配置され
た遮光板と反射要素とを用い、この遮光板を可動的に構
成し、各光線路への前記遮光板の挿入量を変えることに
より前記各光線の反射量として所望の量が得られるよう
に構成したことを特徴とする赤外線ガス分析装置。 4 特許請求の範囲第1項に記載の赤外線ガス分析装置
において、前記反射機構として予め各光線を所望の量だ
け反射し得るように構成された反射要素を用い、この反
射要素を各光線路に固定配置したことを特徴とする赤外
線ガス分析装置。
[Scope of Claims] 1. A gas-filled first detection tank configured to be irradiated with the measurement light beam that has passed through the measurement tank and the comparison light beam that has passed through the comparison tank, and to allow the measurement light beam and the comparison light beam to pass through; The measurement light beam and the comparison light beam transmitted through the first detection tank are irradiated with a gas-filled second detection tank configured to allow the measurement light beam and the comparison light beam to pass through the second detection tank. and a reflection mechanism arranged to partially reflect the measurement light beam and the comparison light beam toward the second detection tank, and the light energy absorbed in the first detection tank and the second detection tank can be reflected. An infrared gas analyzer characterized in that the sample gas guided to the measurement tank is analyzed based on the optical energy absorbed by the infrared gas analyzer. 2. In the infrared gas analyzer according to claim 1, a movably configured reflecting plate is used as the reflecting mechanism, and by changing the amount of insertion of this reflecting plate into each of the light beams, An infrared gas analyzer characterized in that it is configured to obtain a desired amount of reflected light. 3. In the infrared gas analyzer according to claim 1, the reflection mechanism includes a light shielding plate and a reflecting element that are optically arranged in series, and the light shielding plate is configured to be movable, and each light beam is An infrared gas analyzer characterized in that the infrared gas analyzer is configured such that a desired amount of reflection of each of the light beams can be obtained by changing the amount of insertion of the light shielding plate into the path. 4. In the infrared gas analyzer according to claim 1, a reflecting element configured in advance to be able to reflect a desired amount of each light beam is used as the reflecting mechanism, and this reflecting element is connected to each optical path. An infrared gas analyzer characterized by a fixed arrangement.
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JPS58190743A (en) * 1982-04-30 1983-11-07 Fuji Electric Co Ltd Infrared ray gas analyser
JPS5953262U (en) * 1982-09-30 1984-04-07 理研計器株式会社 Double beam infrared gas detector
DE3321360A1 (en) * 1983-06-14 1984-12-20 Hartmann & Braun Ag, 6000 Frankfurt Nondispersive infrared gas analyser
ATE112852T1 (en) * 1988-06-01 1994-10-15 Hartmann & Braun Ag CALIBRATION DEVICE FOR A NON-DISPERSIVE INFRARED PHOTOMETER.
JP2902162B2 (en) * 1991-06-14 1999-06-07 日本碍子株式会社 Air-fuel ratio sensor output correction method

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