JPS5855984B2 - Silicone resin composition for lamination - Google Patents

Silicone resin composition for lamination

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JPS5855984B2
JPS5855984B2 JP6262275A JP6262275A JPS5855984B2 JP S5855984 B2 JPS5855984 B2 JP S5855984B2 JP 6262275 A JP6262275 A JP 6262275A JP 6262275 A JP6262275 A JP 6262275A JP S5855984 B2 JPS5855984 B2 JP S5855984B2
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JP
Japan
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component
group
formula
silicone resin
silicon atom
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JP6262275A
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Inventor
進 上野
史朗 五明
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、積層用シリコーン樹脂組成物、とくには透明
性にすぐれた積層成形品用シリコーン樹脂組成物に関す
るものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a silicone resin composition for lamination, particularly to a silicone resin composition for laminated molded products having excellent transparency.

従来、シリコーン樹脂とガラスクロスとを主体とした積
層成形品は耐熱性、電気絶縁性等の性質にすぐれている
ので、電子レンジ、電動モーターその他各種の電気機器
におけるH種の耐熱・絶縁材料として広く使用されてい
る。
Conventionally, laminated molded products mainly made of silicone resin and glass cloth have excellent properties such as heat resistance and electrical insulation, so they are used as class H heat-resistant and insulating materials for microwave ovens, electric motors, and various other electrical devices. Widely used.

しがしながら、この種の積層成形品の製造に使用される
シリコーン樹脂は、通常、脱水反応または脱アルコール
反応によって架橋硬化する縮合型のものであるため、こ
のようなシリコーン樹脂を用いて積層成形品を製造する
場合に、つぎのような難点があった。
However, the silicone resins used to manufacture this type of laminated molded product are usually condensation-type resins that are crosslinked and cured by dehydration or dealcoholization reactions. When manufacturing molded products, there were the following difficulties.

(a) 50〜200kg/cdもの高圧成形を必要と
する。
(a) High-pressure molding of 50 to 200 kg/cd is required.

(b) 長時間のポストキュアーを必要とする。(b) Requires long post-cure.

たとえば薄物積層板では約12〜24時間、10mm以
上の厚物積層板では3日〜1週間近くの日数を必要とす
る。
For example, a thin laminate requires about 12 to 24 hours, and a thick laminate of 10 mm or more requires 3 days to nearly a week.

(e) 加圧加熱状態にある金型を急に常圧にもどす
と成形品にふくれや層割れが生じるので、加圧加熱成形
後金型を加圧状態を維持したままで冷却し、この後に金
型を解体することが必要とされる。
(e) If a mold that is under pressure and heating is suddenly returned to normal pressure, the molded product will bulge or crack. It is then necessary to dismantle the mold.

(d) 上記(e)のようにして加圧加熱成形して得
た成形品は、そのままではやや熱軟化性が残る機械的強
度等に劣るものであり、これをすぐれた物性を有する製
品にするためには、上記(b)で述べたようにさらに加
熱オーブン中で段階的に昇温しで加熱する、いわゆるポ
ストキュアーの工程全必要とし、一方、このポストキュ
ア一時に成形品が白化(不透明化)するため、透明性に
すぐれた成形品を得ることができない。
(d) The molded product obtained by pressurizing and heating molding as described in (e) above has poor mechanical strength and remains slightly heat-softening, so it is necessary to convert it into a product with excellent physical properties. In order to do this, as mentioned in (b) above, it is necessary to complete the so-called post-cure process, in which the temperature is raised stepwise in a heating oven. opacity), making it impossible to obtain molded products with excellent transparency.

(e) また、縮合硬化型のシリコーン樹脂はガラス
クロスとのなじみが悪く、ガラスクロスによく含浸しな
いので、透明性にすぐれた積層板を得※※るための樹脂
原料としては不適当である。
(e) In addition, condensation-curing silicone resins have poor compatibility with glass cloth and do not impregnate glass cloth well, so they are unsuitable as resin raw materials for producing laminates with excellent transparency. .

本発明は、かかる不利を解決した、とくに透明性および
機械的強度にすぐれた積層成形品の製造に適したシリコ
ーン樹脂組放物を提供しようとするもので、これは (イ)平均組成式 (式中のR1は炭素数1〜10の置換もしくは非置換の
一価炭化水素基から選ばれる基、a、b、cおよびdは
各シロキサン単位のモル分率を表し、a = 0.5〜
0.9、b = 0.1〜0.5、C−〇〜0.05、
d=0〜0.05である)で示さ** れ、けい素原子
に直結したアルケニル基をけい素原子1個あたり0.0
5〜0.3個有するアルケニル基含有オルガノポリシロ
キサン樹脂、(ロ)平均組成式 (式中のR2は水素原子、炭素数1〜10の置換もしく
は非置換の一価炭化水素基から選ばれる基、e、fおよ
びgは各シロキサン単位のモル分率を表し、e=0.1
〜0.7、f=0.2〜0.5、g = o、 i〜0
.7である。
The present invention aims to solve such disadvantages and provide a silicone resin composition suitable for manufacturing laminate molded products with particularly excellent transparency and mechanical strength, which has the following characteristics: (a) average composition formula ( In the formula, R1 is a group selected from substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, a, b, c, and d represent the mole fraction of each siloxane unit, and a = 0.5 to
0.9, b = 0.1~0.5, C-〇~0.05,
d=0 to 0.05)**, and the alkenyl group directly bonded to a silicon atom is 0.0% per silicon atom.
Organopolysiloxane resin containing 5 to 0.3 alkenyl groups, (b) average composition formula (R2 in the formula is a hydrogen atom, a group selected from a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms) , e, f and g represent the mole fraction of each siloxane unit, e=0.1
~0.7, f=0.2~0.5, g=o, i~0
.. It is 7.

)で示され、けい素原子に直結した水素原子をけい素原
子1個あたり0.05〜0.3個有するオルガノハイド
ロジエンポリシロキサン樹脂、および ()→ 白金系触媒、 を主成分とし、(イ)成分に対する(口)成分の配合割
合を(イ)成分中の該ビニル基1個あたり(ロ)成分中
の該水素原子0.6〜1.7個となるようにした積層用
シリコーン樹脂組成物であり、これをガラスクロス等と
組合せて積層成形品を製造するのに応用すればつぎのよ
うな利点がもたらされる。
), which has 0.05 to 0.3 hydrogen atoms per silicon atom directly bonded to silicon atoms, and () → platinum-based catalyst, the main components are ( A silicone resin for lamination in which the blending ratio of component (b) to component (b) is 0.6 to 1.7 hydrogen atoms in component (b) per vinyl group in component (a). It is a composition, and if it is applied to the production of laminated molded products by combining it with glass cloth etc., the following advantages will be brought about.

■ 加圧加熱成形時の圧力は5〜50kg/c4程度の
低圧でよい。
(2) The pressure during pressure molding may be as low as 5 to 50 kg/c4.

■ 成形終了後金型を冷却せずに解体しても成形品にふ
くれや層割れを生じることはない。
■ Even if the mold is dismantled without cooling after molding, the molded product will not bulge or crack.

■ ポストキュアーは必ずしも必要としない。■ Post-cure is not necessarily required.

■ たとえば10mm以上もの厚物の成形品を製造する
ことが容易である。
(2) For example, it is easy to manufacture molded products with a thickness of 10 mm or more.

■ 機械的強度、電気特性、耐熱性、透明性にすぐれた
成形品を得ることができる。
■ Molded products with excellent mechanical strength, electrical properties, heat resistance, and transparency can be obtained.

■ 成形条件が簡略化され、したがって成形時間が短縮
される。
■ Molding conditions are simplified, thus reducing molding time.

以下本発明の詳細な説明する。The present invention will be explained in detail below.

まず、本発明の組成物を構成する(イ)成分は前記平均
組成式(I)で示されるものであり、式中のR1は炭素
数1〜10の置換もしくは非置換の一価炭化水素基であ
って、これにはメチル基、エチル基、プロピル基などの
アルキル基、ビニル基、アリル基、ヘキセニル基などの
アルケニル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基な
どのシクロアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリ
ル基ナトノアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基
などのアラルキル基、クロロフェニル基、テトラクロロ
フェニル基、クロロメチル基、ペンタフルオロブチル基
、トリフルオロプロピル基などのノ・ロゲン置換−価炭
化水素基などが例示されるが、このものはけい素原子に
直結したアルケニル基をけい素原子1個あたり0.05
〜0.3個有することが必須とされる。
First, component (A) constituting the composition of the present invention is represented by the average compositional formula (I), in which R1 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. This includes alkyl groups such as methyl, ethyl and propyl groups, alkenyl groups such as vinyl, allyl and hexenyl groups, cycloalkyl groups such as cyclohexyl and cycloheptyl groups, phenyl groups and tolyl groups. , aralkyl groups such as xylyl group, natonoaryl group, benzyl group, phenylethyl group, chlorogen-substituted-valent hydrocarbon groups such as chlorophenyl group, tetrachlorophenyl group, chloromethyl group, pentafluorobutyl group, trifluoropropyl group, etc. For example, in this case, the alkenyl group directly bonded to a silicon atom is 0.05% per silicon atom.
It is essential to have ~0.3 pieces.

また、式中のa、b、cおよびdは前記したように各シ
ロキサン単位のモル分率を表し、それらシロキサン単位
は順に当業者間では通常T単位、D単位、M単位および
Q単位と呼称されており、積層用シリコーン樹脂として
加熱硬化することにより機械的強度、耐熱性等にすぐれ
た成形品を与えるためには、T単位のモル分率を示すa
の値は0.5〜0.9であることが必要とされ、これが
0.5よりも小さくなると樹脂の硬化が不完全で熱軟化
性の残るものとなり、また0、9よりも大きくなると硬
化樹脂がもろいものとなり、いずれの場合にも好ましい
結果は得られない。
In addition, a, b, c, and d in the formula represent the mole fraction of each siloxane unit as described above, and these siloxane units are commonly referred to as T units, D units, M units, and Q units in order among those skilled in the art. In order to provide a molded product with excellent mechanical strength, heat resistance, etc. by heating and curing as a silicone resin for lamination, a, which indicates the molar fraction of T units, is required.
The value of is required to be between 0.5 and 0.9; if it is less than 0.5, the resin will be incompletely cured and will remain thermosoft, and if it is greater than 0 or 9, it will not harden. The resin becomes brittle and favorable results are not obtained in either case.

なお、M単位およびQ単位の存在は任意であるが、これ
らを含有させる場合はいずれもそれらのモル分率を示す
Cおよびdの値が0.05以下となるような少量にとど
める必要がある。
The presence of M units and Q units is optional, but if they are included, they must be kept in small amounts so that the values of C and d, which indicate their molar fractions, are 0.05 or less. .

上記T単位は、D単位およびM単位の具体例としては、
CH35jO1,5、C6H55iO1,5、CH2=
CH81OCHCHCH2Si01.5.1・5)
2− CHSiO、CH5in1.、. 37 1−5 5+1 C6H115i01.5、CIC6H4S iol、5
、CF3CH2CH2CH25iO1,5、(CH3)
25jO1(C2H5) 2 S 1O1(C6H5)
2SiO1(CH3)(CH2=CH)SiOl (C6H5)(C2H5)SiOl (CF s CH2CH2CH2) (CHs ) S
1O1(CH3) 3 S 100−5、(CH3)
(C6H5) 2 S iOo、5、(CH2=CH
)(CH3)2SiOo、5、(CF3CH2CH2C
H2)(CH3)2SiO8,5などがあげられる。
Specific examples of the above T unit, D unit and M unit are:
CH35jO1,5, C6H55iO1,5, CH2=
CH81OCHCHCH2Si01.5.1・5)
2-CHSiO, CH5in1. ,.. 37 1-5 5+1 C6H115i01.5, CIC6H4S iol, 5
, CF3CH2CH2CH25iO1,5, (CH3)
25jO1(C2H5) 2S 1O1(C6H5)
2SiO1(CH3)(CH2=CH)SiOl (C6H5)(C2H5)SiOl (CF s CH2CH2CH2) (CHs ) S
1O1(CH3) 3S 100-5, (CH3)
(C6H5) 2 S iOo, 5, (CH2=CH
)(CH3)2SiOo,5,(CF3CH2CH2C
Examples include H2)(CH3)2SiO8,5.

つぎに、(ロ)成分は前記平均組成式(n)で示される
もので、T単位、D単位およびM単位の各シロキサン単
位によって構成されており、式中のR2は水素原子、お
よび上瞼イ)成分におけるR1と同様の一価炭化水素基
を表すが、このものはけい素原子に直結した水素原子を
けい素原子1個あたり0.05〜0.3個有することが
必要とされる。
Next, component (b) is represented by the average compositional formula (n), and is composed of siloxane units of T unit, D unit, and M unit, and R2 in the formula is a hydrogen atom, and the upper eyelid b) It represents a monovalent hydrocarbon group similar to R1 in component, but this group is required to have 0.05 to 0.3 hydrogen atoms per silicon atom directly bonded to silicon atoms. .

また、式中のe、fおよびgは前記したように各シロキ
サン単位のモル分率を表し、(ロ)成分が(イ)成分と
反応して機械的強度、耐熱性等にすぐれた硬化樹脂を与
えるためには、T単位のモル分率を示すeは0.1〜0
.7、D単位のモル分率を示すfは0.2〜0.5、M
単位のモル分率を示すgは0.1〜0.7の各範囲でな
げればならない。
In addition, e, f, and g in the formula represent the mole fraction of each siloxane unit as described above, and component (B) reacts with component (A) to create a cured resin with excellent mechanical strength, heat resistance, etc. In order to give
.. 7. f, which indicates the molar fraction of D units, is 0.2 to 0.5, M
g, which indicates the molar fraction of units, must be within the range of 0.1 to 0.7.

これら各シロキサン単位の具体例としては(イ)成分で
例示したもののほかに、Si −H結合を有するシロキ
サン単位すなわち(H)(CH3)SiOl (H) (C2H5) S 1O1 (H)(C6H5)sio、 (H)(CF3CH2CH2CH2)SjOl(HX
CH3) 2 S iOo、s、(HXC6H3) 2
SiQ)−5、(H)(CH3)(C6H5)SiOo
、5などがあげられる。
Specific examples of each of these siloxane units include, in addition to those exemplified in component (a), siloxane units having a Si--H bond, i.e., (H) (CH3) SiOl (H) (C2H5) S 1O1 (H) (C6H5) sio, (H)(CF3CH2CH2CH2)SjOl(HX
CH3) 2 S iOo,s, (HXC6H3) 2
SiQ)-5, (H)(CH3)(C6H5)SiOo
, 5, etc.

この(ロ)#分にはけい素原子に直結したアルケニル基
が本発明の目的が害されない程度の少量であれば含まれ
ていてもよい。
This (b) # may contain an alkenyl group directly bonded to a silicon atom as long as it is in a small amount so as not to impair the purpose of the present invention.

上記した@)および(ロ)成分はたとえばそれぞれ構成
するシロキサン単位に対応する加水分解可能なシランを
配合した後、常法にしたがって加水分解し、ついで適当
な縮合触媒たとえばアルカリもしくは酸を加えて脱水縮
合反応あるいは脱アルコール縮合反応を完結させること
によって製造される。
For the above-mentioned components @) and (b), for example, after blending hydrolyzable silanes corresponding to the respective constituent siloxane units, they are hydrolyzed according to a conventional method, and then dehydrated by adding a suitable condensation catalyst such as an alkali or acid. It is produced by completing a condensation reaction or a dealcoholization condensation reaction.

本発明においてはこれら(イ)および(ロ)成分がけい
素原子に結合した水酸基あるいはアルコキシ基を有しな
いものであることが好ましい。
In the present invention, these components (a) and (b) preferably do not have a hydroxyl group or an alkoxy group bonded to a silicon atom.

←→酸成分白金系触媒は、((1)成分と(ロ)成分が
反応(付加反応)するために必要とされる成分であり、
これには塩化第一白金酸、塩化第二白金酸などの塩化白
金酸、塩化白金酸とアルコールあるいはアルデヒドとの
配位化合物、あるいは塩化白金酸と各種オレフィン類と
のコンプレックスなどが例示される。
←→Acid component The platinum-based catalyst is a component required for the reaction (addition reaction) of the (1) component and (2) component,
Examples of this include chloroplatinic acids such as chloroplatinic acid and chlorinated platinic acid, coordination compounds of chloroplatinic acid and alcohols or aldehydes, and complexes of chloroplatinic acid and various olefins.

この白金系触媒の添加量は上記(イ)および(ロ)成分
の合計量に対して少くとも0.1 ppm、好ましくは
1〜,100ppmの範囲とすることがよい。
The amount of the platinum-based catalyst added is preferably at least 0.1 ppm, preferably in the range of 1 to 100 ppm, based on the total amount of components (a) and (b).

本発明の積層用シリコーン樹脂組成物は、上述した(イ
)、(ロ)および←→の各成分を主要成分としてなるも
のであるが、この組成物はそれら各成分を配合すると、
常温付近においても←→酸成分触媒作用により(イ)成
分と(ロ)成分との付加反応が進行し、また加熱下にお
いてはこの付加反応がきわめて急速に進行し、ガラスク
ロス等と組合せて積層成形品を作る場合の作業が困難に
なることがある。
The silicone resin composition for lamination of the present invention has the above-mentioned components (a), (b), and ←→ as main components.
Even at room temperature, the addition reaction between component (a) and component (b) proceeds due to the catalytic action of the acid component, and this addition reaction proceeds extremely rapidly under heating. It may become difficult to work when making molded products.

このような不利を避けるためには本発明の組成物に反応
遅延剤を含有させておくことが有利であり、これには主
にアセチレンアルコール類、アミン化合物およびりん化
合物があり、このアセチレンアルコール類に層するもの
としては3−メチル−3ブチン−2−オール、2−メチ
ル−1−ペンチン3−オール、3・5−ジメチル−1−
ヘキシン3−オール、2・5−ジメチル−3−ヘキシン
2・5−ジオール、3・6−シメチルー4−オクチン−
3・6−ジオール、2・4・7・9−テトラメチル−5
−デシン−4・7−ジオールが、アミン化合物としては
2・2〜ピキノリン、2ピコリン、4−ピコリン、2・
6−ルチジン、22′−ピペリジン、ピリジン、N−N
−ジメチルボルムアミド、N−N−ジエチルホルムアミ
ド、エチレンチオ尿素、N−N’−ジエチルチオ尿素が
、りん化合物としてはトリエチルホスフィン トリブチ
ルホスフィン、トリアミルホスフィン、トリフェニルホ
スフィン トリトリルホスフィン、トリメチルホスファ
イト、トリエチルホスファイト、トリブチルホスファイ
ト、トリフェニルホスファイト、トリベンジルホスファ
イト等がそれぞれ例示される。
In order to avoid such disadvantages, it is advantageous to include a reaction retarder in the composition of the present invention, which mainly includes acetylene alcohols, amine compounds and phosphorus compounds. Examples of layers include 3-methyl-3butyn-2-ol, 2-methyl-1-pentyn-3-ol, 3,5-dimethyl-1-
Hexyne-3-ol, 2,5-dimethyl-3-hexyne-2,5-diol, 3,6-dimethyl-4-octyne-
3,6-diol, 2,4,7,9-tetramethyl-5
-decyne-4,7-diol is used as an amine compound such as 2,2-piquinoline, 2-picoline, 4-picoline, 2-
6-lutidine, 22'-piperidine, pyridine, N-N
-Dimethylbormamide, N-N-diethylformamide, ethylenethiourea, N-N'-diethylthiourea, and phosphorus compounds include triethylphosphine, tributylphosphine, triamylphosphine, triphenylphosphine, tritolylphosphine, trimethylphosphite, triethylphosphine, Examples include phytophyte, tributyl phosphite, triphenyl phosphite, tribenzyl phosphite, and the like.

またここに例示されたアセチレンアルコール類と(イ)
成分および(ロ)成分を構成するシロキサン単位との縮
合物も用いられる。
Also, the acetylene alcohols exemplified here and (a)
A condensate of the component and the siloxane unit constituting the component (b) can also be used.

これらの反応遅延剤の使用量は(イ)成分および(ロ)
成分の合計量に対しおおむね0.0001〜0.01重
量%とすればよい。
The amount of these reaction retarders used is based on (a) component and (b)
The amount may be approximately 0.0001 to 0.01% by weight based on the total amount of the components.

本発明のシリコーン樹脂組成物は、前記した(イ)、(
ロ)および())成分、さらに必要に応じ上記した反応
遅延剤のそれぞれ所定量を混合することにより得られ、
これをガラスクロス等と組合せて積層成形品を製造する
場合には組成物をあらかじめ有機溶媒溶液としておくこ
とが作業上有利であり、この有機溶媒としてはベンゼン
、トルエン、キシレン、トリクロロエチレン、アセトン
、メチルエチルケトン、リグロイン等が例示される。
The silicone resin composition of the present invention has the above-mentioned (a) and (
Obtained by mixing the components (b) and ()) and, if necessary, a predetermined amount of each of the above-mentioned reaction retarders,
When manufacturing a laminated molded product by combining this with glass cloth, etc., it is advantageous to prepare the composition in advance as a solution in an organic solvent. Examples of organic solvents include benzene, toluene, xylene, trichloroethylene, acetone, and methyl ethyl ketone. , ligroin, etc. are exemplified.

なお、これら有機溶媒の使用量は((1)および(ロ)
成分の合計量に対しおおむね10〜900重量%とすれ
ばよい。
The amount of these organic solvents used is ((1) and (b))
The amount may be approximately 10 to 900% by weight based on the total amount of the components.

このようにして得られる本発明のシリコーン樹脂組成物
は、たとえば、これをガラスクロスに含浸させ、予備乾
燥後、その多数枚を重ねて5〜100に9/crrt、
120〜250℃の条件で加圧加熱成形することに
より、透明性、機械的強度、電気特性にすぐれた積層成
形品を与える。
The silicone resin composition of the present invention obtained in this way can be obtained by, for example, impregnating a glass cloth with it, pre-drying it, stacking a large number of sheets of the same, and applying 9/crrt to 5 to 100.
By pressurizing and heating molding under conditions of 120 to 250°C, a laminate molded product with excellent transparency, mechanical strength, and electrical properties can be obtained.

つぎに、本発明の実施例をあげる。Next, examples of the present invention will be given.

実施例 1 囚 ビニル基含有オルガノポリシロキサン樹脂の製造: かくはん機つきフラスコ中に水3044P、トルエン1
522f、アセトン228グ、イソプロピルアルコール
228グを仕込み、15℃以下まで冷却し、ついで冷却
かくはんしながら、温度30℃以下の条件でメチルトリ
クロロシラン149.!l(1モル)、フェニルトリク
ロロシラン951.1’(4,5モル)、ヒニルトリク
ロロシラン161.5f?(1モル)、C1(CH5)
2SiOC8i(CH3)20〕2oC1の分子式で示
されるシリコーンオイル2591(シロキサン単位とし
て3.5モル)、およびトルエン1522fの混合物を
3時間を要して滴下した。
Example 1 Production of vinyl group-containing organopolysiloxane resin: 3044P of water and 11% of toluene in a flask with a stirrer.
522f, 228 g of acetone, and 228 g of isopropyl alcohol were charged and cooled to below 15°C. Then, while cooling and stirring, 149% of methyltrichlorosilane was added at a temperature of below 30°C. ! l (1 mol), phenyltrichlorosilane 951.1' (4.5 mol), hinyltrichlorosilane 161.5f? (1 mol), C1 (CH5)
A mixture of silicone oil 2591 (3.5 moles as siloxane units) having the molecular formula of 2SiOC8i(CH3)20]2oC1 and toluene 1522f was added dropwise over a period of 3 hours.

滴下終了後20〜30℃の温度で30分間かくはんを行
った後、有機層を分離し、中性になるまで水洗した。
After the dropwise addition was completed, the mixture was stirred at a temperature of 20 to 30°C for 30 minutes, and then the organic layer was separated and washed with water until it became neutral.

水洗終了後有機層は1時間還流脱水した後水酸化カリウ
ム0.5fを添加し、還流脱水を1時間行って、残存す
るシラノール基、アルコキシ基のような活性基を除去し
た。
After washing with water, the organic layer was dehydrated under reflux for 1 hour, then 0.5 f of potassium hydroxide was added, and dehydrated under reflux for 1 hour to remove remaining active groups such as silanol groups and alkoxy groups.

冷却後酢酸2.01を添加し、室温で2時間かくはんす
ることにより中和を行い、濃縮後ろ過を行い樹脂濃度6
0%に調整した(これを樹脂Aとする)。
After cooling, add 2.01 g of acetic acid and stir at room temperature for 2 hours to neutralize, concentrate and filtrate to a resin concentration of 6.
It was adjusted to 0% (this is referred to as resin A).

このものはけい素原子に結合したビニル基をオルガノポ
リシロキサン100P中0.057モル含有する透明液
体であった。
This was a transparent liquid containing 0.057 mol of vinyl groups bonded to silicon atoms in organopolysiloxane 100P.

■ オルガノハイドロジエンポリシロキサン樹脂の製造
: かくはん機つきのフラスコ中に水686グ、アセトン3
43.2P、)ルエン172グを仕込み、15℃以下ま
で冷却し、ついで冷却かくはんしナカラ、フェニルトリ
クロロシラン211.5?(1モル)、メチルハイドロ
ジエンジクロロシラン115P(1モル)およびトルエ
ン172rよりなる混合物を約2時間を要して温度25
℃以下の条件で滴下した。
■ Production of organohydrodiene polysiloxane resin: 686 grams of water and 3 grams of acetone in a flask equipped with a stirrer.
43.2P,) Charge 172g of toluene, cool to below 15°C, then cool and stir, then add 211.5g of phenyltrichlorosilane. (1 mole), methylhydrodiene dichlorosilane 115P (1 mole) and toluene 172R were mixed at a temperature of 25
It was added dropwise at a temperature below ℃.

滴下終了後、20〜25℃の温度で1時間かくはんした
後、有機層を分離し、ただちにテトラメチルジハイドロ
ジエンジシロキサン16.7P(0,125モル)を添
加し、15分かくはん後、濃塩酸5(lを添加し室温で
15時間かくはんを継続した。
After the dropwise addition was completed, the organic layer was stirred for 1 hour at a temperature of 20 to 25°C, and immediately 16.7P (0,125 mol) of tetramethyldihydrodiene disiloxane was added, and after stirring for 15 minutes, the concentrated 5 (l) of hydrochloric acid was added and stirring continued for 15 hours at room temperature.

かくはん終了後、有機層を中性になるまで水洗し、脱水
ろ過後溶媒を留去した(これを樹脂Bとする)。
After stirring, the organic layer was washed with water until it became neutral, dehydrated and filtered, and the solvent was distilled off (this is referred to as resin B).

このものはけい素原子に結合した水素原子をオルガノハ
イドロジエンポリシロキサン1001中0.60モル含
有する透明液体であった。
This was a transparent liquid containing 0.60 mol of hydrogen atoms bonded to silicon atoms in organohydrodiene polysiloxane 1001.

樹脂A100I’、樹脂1395f!、塩化白金酸の2
−エチルヘキサノール溶液(白金含量2重量%)0.5
Pおよび2−エチル−3−ブチン−2−オールとトリメ
チルクロロシランの縮合物0.5tiIの混合物をトル
エン20ozで希釈し、この液にガラスクロスを含浸さ
せ、風乾30分後110℃で10分子備乾燥させた。
Resin A100I', resin 1395f! , 2 of chloroplatinic acid
- Ethylhexanol solution (platinum content 2% by weight) 0.5
A mixture of 0.5tiI of a condensate of P and 2-ethyl-3-butyn-2-ol and trimethylchlorosilane was diluted with 20oz of toluene, a glass cloth was impregnated with this solution, and after air-drying for 30 minutes, 10 molecules were prepared at 110°C. Dry.

このときのピックアップは35〜40重量%の間にあっ
た。
The pickup at this time was between 35 and 40% by weight.

このものを31X31CIrLに切断し、15枚重ねて
10kg/caの成形圧において室温から180℃まで
加熱し、この温度で1時間保持することにより積層板を
製造した。
This material was cut into 31×31 CIrL, 15 sheets were stacked, heated from room temperature to 180° C. under a molding pressure of 10 kg/ca, and held at this temperature for 1 hour to produce a laminate.

このようにして得た積層板についてその特性を調べたと
ころ、下記表に・示す(表中本発明として表示)とおり
であった。
When the properties of the thus obtained laminate were investigated, the properties were as shown in the table below (indicated as the present invention in the table).

なお、同表中に示した比※※較例は従来の縮合タイプの
シリコーン樹脂を使用し、上記本発明の実施例に準じて
加圧加熱成形して得た積層板について示したデータであ
る。
Note that the comparative example shown in the same table is the data shown for a laminate obtained by pressure and heat molding using a conventional condensation type silicone resin in accordance with the above-mentioned example of the present invention. .

○ガラスクロス:本発明の場合は日東紡18G−104
BTを、比較例の場合は日東紡18G−104BNを使
用した。
○Glass cloth: In the case of the present invention, Nittobo 18G-104
In the case of the comparative example, Nittobo 18G-104BN was used as BT.

○ポストキュアーの条件:加圧加熱成形して得た積層板
を200℃まで段階的に昇温しく200℃までの合計加
熱時間40時間)、200℃でさらに2時間加熱した。
Conditions for post-cure: The temperature of the laminate obtained by pressure and heat molding was raised stepwise to 200°C (total heating time up to 200°C: 40 hours), and then heated at 200°C for an additional 2 hours.

○耐溶剤性:トルエン溶液中に1時間浸漬したときの重
量増加率(%)をもって示した。
○Solvent resistance: Shown as weight increase rate (%) when immersed in toluene solution for 1 hour.

○耐水性:50℃の水中に24時間浸漬したときの重量
増加率(%)をもって示した。
○Water resistance: Indicated by weight increase rate (%) when immersed in water at 50°C for 24 hours.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 (イ)平均組成式〔R15iO1,5〕。 (R45iO]b(RiSiOo、J 。 (5i02) d(式中のR1は炭素数1〜10の置換
もしくは非置換の一価炭化水素基から選ばれる基、a、
b、cおよびdは各シロキサン単位のモル分率を表し、
a = 0.5〜0.9、b=0.1〜0.5、C−〇
〜0.05、d=0〜0.05である)で示され、けい
素原子に直結したアルケニル基をけい素原子1個あたり
0.05〜0.3個有するアルケニル基含有オルガノポ
リシロキサン樹脂、(ロ)平均組成式〔R15jO1,
5〕。 〔R25io〕f〔R23SiOo、5〕(式中のR2
は水素原子、または炭素数1〜10の置換もしくは非置
換の一価炭化水素基から選ばれる基、e、fおよびgは
各シロキサン単位のモル分率を表し、e=0.1〜0.
7、f=0.2〜0.5、g = 0.1〜0.7であ
る)で示され、けい素原子に直結した水素原子をけい素
原子1個あたり0.05〜0.3個有するオルガノハイ
ドロジエンポリシロキサン樹脂、および ()う 白金系触媒 を主成分とし、(イ)成分に対する(口)成分の配合割
合を(イ)成分中の該アルケニル基1個あたり(ロ)成
分中の該水素原子0.6〜1.7個となるようにした積
層用シリコーン樹脂組成物。
[Claims] 1 (a) Average compositional formula [R15iO1,5]. (R45iO]b(RiSiOo, J. (5i02)d(R1 in the formula is a group selected from substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, a,
b, c and d represent the mole fraction of each siloxane unit,
a = 0.5 to 0.9, b = 0.1 to 0.5, C-〇 to 0.05, d = 0 to 0.05), and an alkenyl group directly bonded to a silicon atom Alkenyl group-containing organopolysiloxane resin having 0.05 to 0.3 per silicon atom, (b) average compositional formula [R15jO1,
5]. [R25io]f[R23SiOo, 5] (R2 in the formula
is a hydrogen atom or a group selected from a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, e, f and g represent the mole fraction of each siloxane unit, and e = 0.1 to 0.
7, f = 0.2 to 0.5, g = 0.1 to 0.7), and the hydrogen atoms directly bonded to silicon atoms are 0.05 to 0.3 per silicon atom. Organohydrodiene polysiloxane resin, and () platinum-based catalyst are the main components, and the blending ratio of component (x) to component (a) is determined per one alkenyl group in component (b). A silicone resin composition for lamination having 0.6 to 1.7 hydrogen atoms in the composition.
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