JPS5855154B2 - 17 アルフア −(3− ヒドロキシプロピル )−17 ベ−タ− − ヒドロキシアンドロスト −4− エン −3− オンノセイゾウホウ - Google Patents
17 アルフア −(3− ヒドロキシプロピル )−17 ベ−タ− − ヒドロキシアンドロスト −4− エン −3− オンノセイゾウホウInfo
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- JPS5855154B2 JPS5855154B2 JP11852175A JP11852175A JPS5855154B2 JP S5855154 B2 JPS5855154 B2 JP S5855154B2 JP 11852175 A JP11852175 A JP 11852175A JP 11852175 A JP11852175 A JP 11852175A JP S5855154 B2 JPS5855154 B2 JP S5855154B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は17ct−(3−ヒドロキシプロピル)17β
−ヒドロキシアンドロスト−4−エン3−オンの製造法
に関する。
−ヒドロキシアンドロスト−4−エン3−オンの製造法
に関する。
さらに詳しくは抗アルドステロン性利尿剤および降圧剤
として有用な3−(3−オキソ−7αアセチルチオ−1
7β−ヒドロキシアンドロスト4−エン−17α−イル
)フロビオラクトン(以下スピロノラクトンと略す。
として有用な3−(3−オキソ−7αアセチルチオ−1
7β−ヒドロキシアンドロスト4−エン−17α−イル
)フロビオラクトン(以下スピロノラクトンと略す。
)の中間体となる17α−(3−ヒドロキシプロピル)
−17β−ヒドロキシアンドロスト−4−エン−3オン
の新規な製造法に関する。
−17β−ヒドロキシアンドロスト−4−エン−3オン
の新規な製造法に関する。
本発明方法で得られる17α−(3−ヒドロキシプロピ
ル)−17β−ヒドロキシアンドロスト−4−エン−3
−オンを原料として、以下図示する方法によりスピロノ
ラクトンを製造することができる。
ル)−17β−ヒドロキシアンドロスト−4−エン−3
−オンを原料として、以下図示する方法によりスピロノ
ラクトンを製造することができる。
スピロノラクトンの製造法としては、3β−ヒドロキシ
アンドロスト−5−エン−17−オンを出発原料とする
方法が知られている。
アンドロスト−5−エン−17−オンを出発原料とする
方法が知られている。
この方法によれば3β−ヒドロキシアンドロスト−5−
エン17−オンをエチニル化し、二酸化炭素と反応させ
てプロピオル酸誘導体とし、ついで水素添加しアクリル
酸誘導体とする。
エン17−オンをエチニル化し、二酸化炭素と反応させ
てプロピオル酸誘導体とし、ついで水素添加しアクリル
酸誘導体とする。
アクリル酸誘導体をさらに酸処理により3(3β・17
β−ジヒドロキシアンドロスト−5エン−17α−イル
)アクリロラクトンとし、これを水素添加して飽和ラク
トンとし、引続きオツペナウアー酸化して3−(17β
−ヒドロキシアンドロスト−4−エン−3−オン−17
α−イル)プロピオラクトンとする。
β−ジヒドロキシアンドロスト−5エン−17α−イル
)アクリロラクトンとし、これを水素添加して飽和ラク
トンとし、引続きオツペナウアー酸化して3−(17β
−ヒドロキシアンドロスト−4−エン−3−オン−17
α−イル)プロピオラクトンとする。
(J−A−Cella、E、A、Brown and
R,R。
R,R。
Burtner :J、Org、Chem、、24 7
43(1959))さらに得られた3−(17β−ヒド
ロキシアンドロスト−4−エン−3−オン−17α−イ
ル)−プロピオラクトンの6位、7位を脱水素し、これ
とチオ酢酸を反応させてスピロノラクトンを製造する。
43(1959))さらに得られた3−(17β−ヒド
ロキシアンドロスト−4−エン−3−オン−17α−イ
ル)−プロピオラクトンの6位、7位を脱水素し、これ
とチオ酢酸を反応させてスピロノラクトンを製造する。
(J、A、Ce1la and R,C,Tweit
:JOrg 、 Chem 、、24 1109(19
59))上記した方法の欠点は出発原料に3β−ヒドロ
キシアンドロスト−5−エン−17−オンを使用するこ
とおよび工程数がきわめて多く繁雑であることである。
:JOrg 、 Chem 、、24 1109(19
59))上記した方法の欠点は出発原料に3β−ヒドロ
キシアンドロスト−5−エン−17−オンを使用するこ
とおよび工程数がきわめて多く繁雑であることである。
トくに、3β〜ヒドロキシアンドロスト−5エン−17
−オンはメキシコ山地に自生するジオスコレア(山いも
の一種)の根から抽出したジオスケエンを原料とし、6
エ程の繁雑な工程を経由して製造されるものであり、山
いもの栽培が困難なこととあいまって、非常に高価なも
のになりつつある。
−オンはメキシコ山地に自生するジオスコレア(山いも
の一種)の根から抽出したジオスケエンを原料とし、6
エ程の繁雑な工程を経由して製造されるものであり、山
いもの栽培が困難なこととあいまって、非常に高価なも
のになりつつある。
一方、近年羊毛の洗浄廃水中より多量に回収できるウー
ルグリースや魚油から得られるコレステロール等のステ
ロイド類の微生物酸化によりアントロスタート4−ジエ
ン−3・17−ジオンを安価に製造する方法が開発され
ている。
ルグリースや魚油から得られるコレステロール等のステ
ロイド類の微生物酸化によりアントロスタート4−ジエ
ン−3・17−ジオンを安価に製造する方法が開発され
ている。
本発明の目的は、高価な3β−ヒドロキシアンドロスト
−5−エン−17−オンにかえて、安価なアントロスタ
ート4−ジエン−3・17−ジオンを原料としてスピノ
ラクトンの重要な中間体である17α−(3−ヒドロキ
シプロピル)−17β−ヒドロキシアンドロスト−4−
エン−3−オンのより簡易な製造法を提供することにあ
る。
−5−エン−17−オンにかえて、安価なアントロスタ
ート4−ジエン−3・17−ジオンを原料としてスピノ
ラクトンの重要な中間体である17α−(3−ヒドロキ
シプロピル)−17β−ヒドロキシアンドロスト−4−
エン−3−オンのより簡易な製造法を提供することにあ
る。
アントロスタート4−ジエン−3・17−ジオンから、
17ct−(3−ヒドロキシプロピル)−17β−ヒド
ロキシアンドロスト−4−エン3−オンを製造する方法
は、既に知られている。
17ct−(3−ヒドロキシプロピル)−17β−ヒド
ロキシアンドロスト−4−エン3−オンを製造する方法
は、既に知られている。
たとえば、特開昭50−30861の明細書中には、下
記に図示するごとくアンドロスタ−1・4−ジエン−3
・17−ジオン(A)を2−プロピン−1−オールと反
応させ、得られる17α−(3−ヒドロキシフロビニル
)−17β−ヒドロキシアントロスタート4−ジエン−
3−オン(B)全錯体触媒の存在下で水素添加して17
α−(3−ヒドロキシプロピル) −17β−ヒドロキ
シアンドロスト−4−エン−3−オン(qを得、これを
クロム酸で酸化して3−(17β−ヒドロキシアンドロ
スト−4−エン−3−オン−17α−イル)プロピオラ
クトン(D)を製造する方法が記載されている。
記に図示するごとくアンドロスタ−1・4−ジエン−3
・17−ジオン(A)を2−プロピン−1−オールと反
応させ、得られる17α−(3−ヒドロキシフロビニル
)−17β−ヒドロキシアントロスタート4−ジエン−
3−オン(B)全錯体触媒の存在下で水素添加して17
α−(3−ヒドロキシプロピル) −17β−ヒドロキ
シアンドロスト−4−エン−3−オン(qを得、これを
クロム酸で酸化して3−(17β−ヒドロキシアンドロ
スト−4−エン−3−オン−17α−イル)プロピオラ
クトン(D)を製造する方法が記載されている。
また、同明細書にはアンドロスト−4−エン3・17−
ジオンから3−(17β−ヒドロキシアンドロスト−4
−エン−3−オン−17α−イル)プロピオラクトンの
製法も記載されている。
ジオンから3−(17β−ヒドロキシアンドロスト−4
−エン−3−オン−17α−イル)プロピオラクトンの
製法も記載されている。
それによるとアンドロスト−4−エン−3・17ジオン
を2−プロピン−1−オールと反応させ、17α−(3
−ヒドロキシプロピニル)−17β−ヒドロキシアンド
ロスト−4−エン−3−オンヲ得、さらにトリス(トリ
フェニルホスフィノ)ロジウムクロリドを触媒として加
圧下に水素添加し、17α−(3−ヒドロキシフロビル
)−17β−ヒドロキシアンドロスト−4−エン−3オ
ンを得、これをジョーンズ試薬で酸化し、3−(17β
−ヒドロキシアンドロスト−4−エン3−オン−17α
−イル)プロピオラクトンを得ている。
を2−プロピン−1−オールと反応させ、17α−(3
−ヒドロキシプロピニル)−17β−ヒドロキシアンド
ロスト−4−エン−3−オンヲ得、さらにトリス(トリ
フェニルホスフィノ)ロジウムクロリドを触媒として加
圧下に水素添加し、17α−(3−ヒドロキシフロビル
)−17β−ヒドロキシアンドロスト−4−エン−3オ
ンを得、これをジョーンズ試薬で酸化し、3−(17β
−ヒドロキシアンドロスト−4−エン3−オン−17α
−イル)プロピオラクトンを得ている。
本発明者等は、アントロスタート4−ジエン3・17−
ジオンを出発原料とし、中間体にアンドロスト−4−エ
ン−3・17−ジオンを経由し、公知の方法と比較して
工程数の少い簡単でしかも収率のより高い17ct−(
3−ヒドロキシフロビル)−17β−ヒドロキシアンド
ロスト−4−エン−3−オンの製造法を開発すべく鋭意
研究した結果、 アントロスタート4−ジエン−3・17−ジオンを自体
公知の方法でトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウ
ムクロリドを触媒として水素添加シ、アンドロスト−4
−エン−3・17−ジオンを製造しく C,Djera
ssi and J、Gutzwiller、rJ
、Am、Chem、 Soc 6.88 4537(1
966))、得られたアンドロスト−4−エン−3・1
7−ジオンの3位のカルボニル基を自体公知の方法で保
護して(J 、Fr1ed and J 、A、Ed
wards、” Organic Reaction
s in S teroidChemistry、
”voll、p・375(1972)、Van N
o5trand Re1nhold Co、、)、下記
一般式(I) (上記式中でXはアセタール残基、ジチオアセタール残
基、モノチオアセタール残基、エナミン残基、またはエ
タノールエーテル残基を表わす。
ジオンを出発原料とし、中間体にアンドロスト−4−エ
ン−3・17−ジオンを経由し、公知の方法と比較して
工程数の少い簡単でしかも収率のより高い17ct−(
3−ヒドロキシフロビル)−17β−ヒドロキシアンド
ロスト−4−エン−3−オンの製造法を開発すべく鋭意
研究した結果、 アントロスタート4−ジエン−3・17−ジオンを自体
公知の方法でトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウ
ムクロリドを触媒として水素添加シ、アンドロスト−4
−エン−3・17−ジオンを製造しく C,Djera
ssi and J、Gutzwiller、rJ
、Am、Chem、 Soc 6.88 4537(1
966))、得られたアンドロスト−4−エン−3・1
7−ジオンの3位のカルボニル基を自体公知の方法で保
護して(J 、Fr1ed and J 、A、Ed
wards、” Organic Reaction
s in S teroidChemistry、
”voll、p・375(1972)、Van N
o5trand Re1nhold Co、、)、下記
一般式(I) (上記式中でXはアセタール残基、ジチオアセタール残
基、モノチオアセタール残基、エナミン残基、またはエ
タノールエーテル残基を表わす。
)で表わされるアンドロスト−4−エン−3・17ジオ
ンの3−アセタール、3−ジチオアセタール、3−モノ
チオアセクール、3−エナミンまたは3−エノールエー
テルを生成させ、 (a)生成シタアンドロスト−4−エン−3・17−ジ
オンの3−アセタール、3−ジチオアセタール、3−モ
ノチオアセタール、3−エナミンまたは3−エノールエ
ーテルと2−(3−IJチオプロポキシ)テトラヒドロ
ピランを反応させて下記一般式(n) (上記式中でXは一般式(I)で定義したとおりである
。
ンの3−アセタール、3−ジチオアセタール、3−モノ
チオアセクール、3−エナミンまたは3−エノールエー
テルを生成させ、 (a)生成シタアンドロスト−4−エン−3・17−ジ
オンの3−アセタール、3−ジチオアセタール、3−モ
ノチオアセタール、3−エナミンまたは3−エノールエ
ーテルと2−(3−IJチオプロポキシ)テトラヒドロ
ピランを反応させて下記一般式(n) (上記式中でXは一般式(I)で定義したとおりである
。
)で表わされる17β−ヒドロキシステロイド誘導体を
生成させ、 (b) 生成した17β−ヒドロキシステロイド誘導
体を酸性条件下に分解し、17ct−(3−ヒドロキシ
プロピル)−17β−ヒドロキシアンドロスト−4−エ
ン−3−オンを生成させ、(C) 生成した17α−
(3−ヒドロキシプロピル)17β−ヒドロキシアンド
ロスト−4−エン3−オンに芳香族炭化水素を加えて、 (d) 不溶性の17α−(3−ヒドロキシプロピル
)17β−ヒドロキシアンドロスト−4−エン3−オン
をr別することにより上記の目的を達することができた
。
生成させ、 (b) 生成した17β−ヒドロキシステロイド誘導
体を酸性条件下に分解し、17ct−(3−ヒドロキシ
プロピル)−17β−ヒドロキシアンドロスト−4−エ
ン−3−オンを生成させ、(C) 生成した17α−
(3−ヒドロキシプロピル)17β−ヒドロキシアンド
ロスト−4−エン3−オンに芳香族炭化水素を加えて、 (d) 不溶性の17α−(3−ヒドロキシプロピル
)17β−ヒドロキシアンドロスト−4−エン3−オン
をr別することにより上記の目的を達することができた
。
上記一般式(II)で表わされる17β−ヒドロキシス
テロイド誘導体において、それらの誘導体における二重
結合(1個または複数個)の位置は、たとえばアセクー
ルの場合は5位、チオアセクールの場合は4位、エナミ
ンおよびエノールエーテルの場合は3位および5位であ
る。
テロイド誘導体において、それらの誘導体における二重
結合(1個または複数個)の位置は、たとえばアセクー
ルの場合は5位、チオアセクールの場合は4位、エナミ
ンおよびエノールエーテルの場合は3位および5位であ
る。
本発明の詳細な説明するに、本発明方法においては、2
−(3−リチオプロポキシ)テトラヒドロピランはアン
ドロスト−4−エン−3・17ジオンの17位のカルボ
ニル基と選択的に反応する必要がある。
−(3−リチオプロポキシ)テトラヒドロピランはアン
ドロスト−4−エン−3・17ジオンの17位のカルボ
ニル基と選択的に反応する必要がある。
そのためには3位のカルボニル基を保護する。
カルボニル基の保護方法としては、アセタール化、チオ
アセクール化、エナミン化、エノールエーテル化等の公
知の方法が適用される。
アセクール化、エナミン化、エノールエーテル化等の公
知の方法が適用される。
アセタール化には2−メチル−2−エチル−1・3−ジ
オキソランのようなケトン類およびグリコール類から合
成されるアセタール化合物が一般に使用される。
オキソランのようなケトン類およびグリコール類から合
成されるアセタール化合物が一般に使用される。
ケトンとしてはメチルエチルケトン、ジエチルケトン、
シクロヘキサノン等が挙げられ、グリコールとしてはエ
チレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレ
ングリコール等が挙げられる。
シクロヘキサノン等が挙げられ、グリコールとしてはエ
チレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレ
ングリコール等が挙げられる。
チオアセクール化にはエタンジチオール、プロパンジチ
オール等のジチオール:またはアセトン、メチルエチル
ケトン、ジエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
およびエタンジチオール、プロパンジチオール等のジチ
オールがら合成されるチオアセタール類が使用される。
オール等のジチオール:またはアセトン、メチルエチル
ケトン、ジエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
およびエタンジチオール、プロパンジチオール等のジチ
オールがら合成されるチオアセタール類が使用される。
エナミン化にはジメチルアミン、ジエチルアミン、モル
ホリン、ピペリジン、ピロリジン等の2級アミンが使用
される。
ホリン、ピペリジン、ピロリジン等の2級アミンが使用
される。
エノールエーテル化は、オルトギ酸エステル、オルト酢
酸エステル、オルトプロピオン酸エステル等のオルトエ
ステル類ニジアルコキシプロパンジアルコキシブタン、
ジアルコキシシクロヘキサン等のアセタール類:ベンジ
ルアルコール等のアルコール類、フェニルメタンチオー
ル等のチオール類等が使用される。
酸エステル、オルトプロピオン酸エステル等のオルトエ
ステル類ニジアルコキシプロパンジアルコキシブタン、
ジアルコキシシクロヘキサン等のアセタール類:ベンジ
ルアルコール等のアルコール類、フェニルメタンチオー
ル等のチオール類等が使用される。
上記した3位のカルボニル基の保護方法のうちではエノ
ールエーテル化が簡単でかつ収率も高い。
ールエーテル化が簡単でかつ収率も高い。
3位を保護した17−ケドステロイドと反応する2−(
3−リチオプロポキシ)テトラヒし゛ロピランは、ハロ
ゲン化プロパツールとジヒドロピランから容易に合成さ
れる2−(3−ハロゲノプロポキシ)テトラヒドロピラ
ンと金属リチウムをエーテル類を溶媒として反応させる
ことにより容易に得ろことができる。
3−リチオプロポキシ)テトラヒし゛ロピランは、ハロ
ゲン化プロパツールとジヒドロピランから容易に合成さ
れる2−(3−ハロゲノプロポキシ)テトラヒドロピラ
ンと金属リチウムをエーテル類を溶媒として反応させる
ことにより容易に得ろことができる。
リチウム化反応は、通常のハロゲン化物と金属リチウム
から有機リチウム化合物を合成する方法に準じて行われ
る。
から有機リチウム化合物を合成する方法に準じて行われ
る。
溶媒としてはジエチルエーテルが好ましく、反応温度は
通常30〜−30℃、好ましくは5〜−20℃が適当で
ある。
通常30〜−30℃、好ましくは5〜−20℃が適当で
ある。
得られる2−(3−リチオプロポキシ)テトラヒドロピ
ランはステロイドの17位のカルボニル基と反応し、1
7α−ヒドロキシプロピルステロイドを与えることは米
国特許3415819にも明らかなように既に公知であ
るがアンドロスト4−エン−3・17−ジオンに当該反
応を適用するには前述した如く、3位のカルボニル基を
保護しなげればならない。
ランはステロイドの17位のカルボニル基と反応し、1
7α−ヒドロキシプロピルステロイドを与えることは米
国特許3415819にも明らかなように既に公知であ
るがアンドロスト4−エン−3・17−ジオンに当該反
応を適用するには前述した如く、3位のカルボニル基を
保護しなげればならない。
3位のカルボニル基が保護された17−ケドステロイド
と2−(3−リチオプロポキシ)テトラヒドロピランを
反応させるには、17−ケドステロイドをテトラヒドロ
フラン等の適当な溶媒に溶解し、これに2−(3−リチ
オプロポキシ)テトラヒドロピランのエーテル溶液を滴
下するか、あるいは2−(3−リチオプロポキシ)テト
ラヒドロピランのエーテル溶液に17−ケドステロイド
の溶液を滴下することによって行われる。
と2−(3−リチオプロポキシ)テトラヒドロピランを
反応させるには、17−ケドステロイドをテトラヒドロ
フラン等の適当な溶媒に溶解し、これに2−(3−リチ
オプロポキシ)テトラヒドロピランのエーテル溶液を滴
下するか、あるいは2−(3−リチオプロポキシ)テト
ラヒドロピランのエーテル溶液に17−ケドステロイド
の溶液を滴下することによって行われる。
反応温度は30℃から一30℃、好ましくは10°Cか
ら一20°Cである。
ら一20°Cである。
上記反応では17−ケトステ0111モルに対し3モル
以上、好ましくは10モルから15モルの2−(3−リ
チオプロポキシ)テトラヒドロピランが使用される。
以上、好ましくは10モルから15モルの2−(3−リ
チオプロポキシ)テトラヒドロピランが使用される。
17−ケトステ0111モルに対し、3モル以下の2−
(3−IJチオプロポキシ)テトラヒドロピランを使用
する場合には17β−ヒドロキシステロイド誘導体の収
率は低℃゛。
(3−IJチオプロポキシ)テトラヒドロピランを使用
する場合には17β−ヒドロキシステロイド誘導体の収
率は低℃゛。
以上のようにして得られる、上記一般式(II)で表わ
される17β−ヒドロキシステロイド誘導体は液状であ
るが、これを単離精製することなく、ただちに酸性条件
下に分解すると17α−(3ヒドロキシプロピル)−1
7β−ヒドロキシアンドロスト−4−エン−3−オンが
得られる。
される17β−ヒドロキシステロイド誘導体は液状であ
るが、これを単離精製することなく、ただちに酸性条件
下に分解すると17α−(3ヒドロキシプロピル)−1
7β−ヒドロキシアンドロスト−4−エン−3−オンが
得られる。
しかし、この17α−(3−ヒドロキシプロピ/l/)
−17β−ヒドロキシアンドロスト−4−エン−3−オ
ン中には必ず、未反応物の酸分解生成物であるアンドロ
スト−4−エン−3・17−ジオンが混入している。
−17β−ヒドロキシアンドロスト−4−エン−3−オ
ン中には必ず、未反応物の酸分解生成物であるアンドロ
スト−4−エン−3・17−ジオンが混入している。
原料ステロイドに対し、10倍モルの2−(3−リチオ
プロポキシ)テトラヒドロピランを使用しても10〜1
5%、4倍モルでは20〜40%のアンドロスト−4−
エン−3・17−ジオンが混入する。
プロポキシ)テトラヒドロピランを使用しても10〜1
5%、4倍モルでは20〜40%のアンドロスト−4−
エン−3・17−ジオンが混入する。
原料ステロイドが高価なこと、および生成物が医薬品の
原料となることから未反応物の回収および生成物の精製
が重要な問題となる。
原料となることから未反応物の回収および生成物の精製
が重要な問題となる。
しかし、17α−(3−ヒドロキシプロピルフ=17β
−ヒドロキシアンドロスト−4−エン3−オンとアンド
ロスト−4−エン−3・17ジオンの芳香族炭化水素に
対する溶解度差が著るしく犬で、前者の溶解度が著るし
く悪いのに対し、後者は非常に太きい。
−ヒドロキシアンドロスト−4−エン3−オンとアンド
ロスト−4−エン−3・17ジオンの芳香族炭化水素に
対する溶解度差が著るしく犬で、前者の溶解度が著るし
く悪いのに対し、後者は非常に太きい。
従って、前述の酸分解生成物に芳香族炭化水素を加え、
懸濁状態で攪拌、ないしは、多量の芳香族炭化水素を加
え、加熱して生成物を一旦溶解したのち、芳香族炭化水
素を蒸留で留去し結晶を析出させ不溶の結晶を沢過する
ことにより、純度の高い、17α−(3−ヒドロキシプ
ロピル)17β−ヒドロキシアンドロスト−4−エン−
3オンを得ることができる。
懸濁状態で攪拌、ないしは、多量の芳香族炭化水素を加
え、加熱して生成物を一旦溶解したのち、芳香族炭化水
素を蒸留で留去し結晶を析出させ不溶の結晶を沢過する
ことにより、純度の高い、17α−(3−ヒドロキシプ
ロピル)17β−ヒドロキシアンドロスト−4−エン−
3オンを得ることができる。
また、P液からは原料のアンドロスト−4−エン−3・
17−ジオンが回収される。
17−ジオンが回収される。
ここで使用される芳香族炭化水素とはベンゼントルエン
、キシレン、エチルベンゼン、クメン等でアリ、ベンゼ
ンが特に好ましい。
、キシレン、エチルベンゼン、クメン等でアリ、ベンゼ
ンが特に好ましい。
このような簡単な操作で17α−(3−ヒドロキシプロ
ピル)−17β−ヒドロキシアンドロスト−4−エン−
3−オンが精製できること、および未反応アンドロスト
−4−エン−3・17−ジオンを回収して再使用ができ
ることは工業的には極めて有利である。
ピル)−17β−ヒドロキシアンドロスト−4−エン−
3−オンが精製できること、および未反応アンドロスト
−4−エン−3・17−ジオンを回収して再使用ができ
ることは工業的には極めて有利である。
次に本発明を以下の実施例により具体的に説明するが本
発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定され
ない。
発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定され
ない。
実施例
(a) 77ドロストー4−エン−3・17−ジオン
20.05f、オルトギ酸エテ/l/ 25 ml、脱
水エタ/−ル200m1およびP−トルエンスルホン酸
0.25Pを混合し、室温で15分間攪拌する。
20.05f、オルトギ酸エテ/l/ 25 ml、脱
水エタ/−ル200m1およびP−トルエンスルホン酸
0.25Pを混合し、室温で15分間攪拌する。
ピリジン0.5 mlを加えたのち、エタノールを減圧
下に留去し、得られた結晶にピリジン数滴を加えた99
.5%エタノール5ornlを加え再結晶する。
下に留去し、得られた結晶にピリジン数滴を加えた99
.5%エタノール5ornlを加え再結晶する。
18.72fの淡黄色の3−エトキシアンドロスタ−3
・5−ジエン−17−オンが得られる。
・5−ジエン−17−オンが得られる。
(b)500mgの四ツロフラスコを窒素置換したのち
、金属リチウムの小片3.50?、および乾燥エーテル
80rrLlを加え、−15℃に冷却する。
、金属リチウムの小片3.50?、および乾燥エーテル
80rrLlを加え、−15℃に冷却する。
一方、2−(3−ブロモプロポキシ)テトラヒドロピラ
ン45?(0,20モル)および乾燥エーテル50m1
からなる溶液を調製し、これを2時間かげて攪拌しなが
らフラスコ中に滴下する。
ン45?(0,20モル)および乾燥エーテル50m1
からなる溶液を調製し、これを2時間かげて攪拌しなが
らフラスコ中に滴下する。
滴下終了後15時間攪拌を続ける。ついで先に合成した
3−エトキシアンドロスタ−3・5−ジエン−17−オ
ン5.02?(0,016モル)を乾燥テトラヒドロフ
ラン60m1に溶解しこれを攪拌しながら1時間かげて
フラスコ内に滴下する。
3−エトキシアンドロスタ−3・5−ジエン−17−オ
ン5.02?(0,016モル)を乾燥テトラヒドロフ
ラン60m1に溶解しこれを攪拌しながら1時間かげて
フラスコ内に滴下する。
滴下終了後反応温度を一15℃から0℃まで上昇させ1
.5時間攪拌を続ける。
.5時間攪拌を続ける。
反応液を氷水中に注ぎテトラヒドロフランを加えて有機
物を抽出する。
物を抽出する。
この際、食塩を加えて塩析し抽出効率を高める。
分液したテトラヒドロフラン層は乾燥後50m1まで濃
縮する。
縮する。
(c) 濃縮液に蒸留水25m1、エタノール25m
1、濃塩酸5mlを加え室温で1時間攪拌する。
1、濃塩酸5mlを加え室温で1時間攪拌する。
炭酸ソーダを加えて中和後、テトラヒドロフランを加え
て抽出する。
て抽出する。
テトラヒドロフラン溶液を濃縮すると9.89Pの液状
物が得られる。
物が得られる。
(d) 上記の液状物にベンゼン20TLlを加え攪
拌すると結晶が析出する。
拌すると結晶が析出する。
結晶を戸別し、10m1のベンゼンで洗滌すると452
1の17α−(3ヒドロキシプロピル)−17β−ヒド
ロキシアンドロスト−4−エン−3−オンが得5hる。
1の17α−(3ヒドロキシプロピル)−17β−ヒド
ロキシアンドロスト−4−エン−3−オンが得5hる。
ガスクロマトグラフィによる分析の結果、その純度は9
8%であった。
8%であった。
収率 79.6モル%。
(e) P液を濃縮すると5.11の液状物が得られ
る。
る。
これを更に減圧下に加熱し濃縮すると0.98?の粘稠
な液状物が得られる。
な液状物が得られる。
n−へキサンを加えると結晶化し0.86 fの結晶が
得られる。
得られる。
ガスクロマトグラフイによる分析の結果、これはアンド
ロスト−4−エン−3・17−ジオン0.61@および
17α−(3−ヒドロキシプロピル)−17β−ヒドロ
キシアンドロスト−4エン−3−オン0131を含む混
合物である。
ロスト−4−エン−3・17−ジオン0.61@および
17α−(3−ヒドロキシプロピル)−17β−ヒドロ
キシアンドロスト−4エン−3−オン0131を含む混
合物である。
アンドロスト−4−エン−3・17−ジオンの回収率は
12%となる。
12%となる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1(a)下記一般式(I) (上記式中でXは一般式(I)で定義したとおりである
。 )で表わされる17β−ヒドロキシステロイド誘導体を
生成させ、 (b) 生成した17β−ヒドロキシステロイド誘導
体を酸性条件下に分解し、17α−(3−ヒドロキシプ
ロピル)−17β−ヒドロキシアンドロスト−4−エン
−3−オンを生成させ、(上記式中でXはアセタール残
基、ジチオアセタール残基、モノチオアセタール残基、
エナミン残基、またはエタノールエーテル残基ヲ表わす
。 )で表わされるアンドロスト−4−エン3・17−ジオ
ンの3−アセタール、3−ジチオアセクール、3−モノ
チオアセタール、3エナミンまたは3−エノールエーテ
ルと2(3−リチオプロポキシ)テトラヒドロピランを
反応させて下記一般式(n) (e) (d) 生成した17α−(3−ヒドロキシプロピル)17β−
ヒドロキシアンドロスト−4−エン3−オンに芳香族炭
化水素を加えて、 不溶性の17α−(3−ヒドロキシプロピル)17β−
ヒドロキシアンドロスト−4’−エン3−オンを1別す
ることを特徴とする17α(3−ヒドロキシプロピル)
−17β〜ヒドワキシアンドロスト−4−エン−3−オ
ンの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11852175A JPS5855154B2 (ja) | 1975-10-01 | 1975-10-01 | 17 アルフア −(3− ヒドロキシプロピル )−17 ベ−タ− − ヒドロキシアンドロスト −4− エン −3− オンノセイゾウホウ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11852175A JPS5855154B2 (ja) | 1975-10-01 | 1975-10-01 | 17 アルフア −(3− ヒドロキシプロピル )−17 ベ−タ− − ヒドロキシアンドロスト −4− エン −3− オンノセイゾウホウ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5242867A JPS5242867A (en) | 1977-04-04 |
JPS5855154B2 true JPS5855154B2 (ja) | 1983-12-08 |
Family
ID=14738665
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11852175A Expired JPS5855154B2 (ja) | 1975-10-01 | 1975-10-01 | 17 アルフア −(3− ヒドロキシプロピル )−17 ベ−タ− − ヒドロキシアンドロスト −4− エン −3− オンノセイゾウホウ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5855154B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53104774A (en) * | 1977-02-23 | 1978-09-12 | Sadami Kawashima | Laver releasing machine |
CN104327149B (zh) * | 2014-09-11 | 2017-01-11 | 浙江神洲药业有限公司 | 一种螺内酯中间体睾丸素内酯的合成方法 |
-
1975
- 1975-10-01 JP JP11852175A patent/JPS5855154B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5242867A (en) | 1977-04-04 |
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