JPS5837725B2 - Surface acoustic wave parametric device - Google Patents

Surface acoustic wave parametric device

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JPS5837725B2
JPS5837725B2 JP54168089A JP16808979A JPS5837725B2 JP S5837725 B2 JPS5837725 B2 JP S5837725B2 JP 54168089 A JP54168089 A JP 54168089A JP 16808979 A JP16808979 A JP 16808979A JP S5837725 B2 JPS5837725 B2 JP S5837725B2
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Japan
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surface acoustic
acoustic wave
pump
output
frequency
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猛 岡本
昭一 皆川
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KURARION KK
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KURARION KK
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/46Filters
    • H03H9/64Filters using surface acoustic waves

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Acoustics & Sound (AREA)
  • Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は可変周波数選択装置として作用させる弾性表面
波パラメトリック装置に関するもので、ポンプ電極を複
数個に分割させるとともに、こ乙を弾性表面波の伝播方
向に沿って配列させ、各ポンプ電極に所望の周波数特性
に対応させたそれぞれ異なる値のポンプ電圧を印加する
ことにより、前記可変周波数選択装置の周波数特性を所
望通りに設計し得るようにしたパラメトリック装置に係
るものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a surface acoustic wave parametric device that functions as a variable frequency selection device, in which a pump electrode is divided into a plurality of parts, and the parts are arranged along the propagation direction of the surface acoustic wave. , relates to a parametric device in which the frequency characteristics of the variable frequency selection device can be designed as desired by applying pump voltages of different values corresponding to desired frequency characteristics to each pump electrode. .

本出願人は先に特願昭52−107271号等で開示し
たように、第1図に示すような可変周波数選択機能を備
えた弾性表面波装置を発明した。
As previously disclosed in Japanese Patent Application No. 52-107271, the present applicant has invented a surface acoustic wave device having a variable frequency selection function as shown in FIG.

第1図において符号1は半導体基板にして、この半導体
基板1上に絶縁膜2および圧電体層3を順次積層させ、
さらにこの圧電体層3上に直流バイアス電圧ならびにポ
ンプ電圧を印加するための方形状のポンプ電極4、およ
び入・出力トランスジューサ5,6をそれぞれ配設した
ものである。
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a semiconductor substrate, and an insulating film 2 and a piezoelectric layer 3 are sequentially laminated on this semiconductor substrate 1.
Furthermore, a rectangular pump electrode 4 for applying a DC bias voltage and a pump voltage, and input/output transducers 5 and 6 are disposed on the piezoelectric layer 3, respectively.

符号7は直流バイアス印加用の直流電源、8は交流阻止
用のインダクタ、9はポンプ電圧印加用の高周波電源、
10は直流阻止用のコンデンサであって、さらに11,
12は端面において不要な弾性表面波が反射するのを防
止するための弾性表面波吸収材である。
7 is a DC power supply for applying DC bias, 8 is an inductor for blocking AC, 9 is a high frequency power supply for applying pump voltage,
10 is a DC blocking capacitor, and 11,
12 is a surface acoustic wave absorbing material for preventing unnecessary surface acoustic waves from being reflected at the end face.

そしてポンプ電極4に直流電源7から直流バイアス電圧
を印加し、このポンプ電極4直下の半導体基板1表面部
に適宜の空間電荷層容量を生じさせ、さらに高周波電源
9から選択希望中心周波数foの2倍の周波数2foの
ポンプ電圧を同じくポンプ電極4に印加し、前記の空間
電荷層容量を周波数2foで励振して、この空間電荷層
容量を周波数2foで変化させる。
Then, a DC bias voltage is applied to the pump electrode 4 from the DC power source 7 to generate an appropriate space charge layer capacitance on the surface of the semiconductor substrate 1 directly under the pump electrode 4, and then a high frequency power source 9 is applied to the pump electrode 4 to generate an appropriate space charge layer capacitance at the selected center frequency fo. A pump voltage with twice the frequency 2fo is similarly applied to the pump electrode 4, and the space charge layer capacitance is excited at the frequency 2fo, thereby changing the space charge layer capacitance at the frequency 2fo.

一方、広帯域性の入力トランスジュ―サ5に電気信号を
入力させると、この入力電気信号は弾性表面波信号に変
換されて圧電体層3の表面を第1図において入力トラン
スジューサ5の左右に向けて伝播する。
On the other hand, when an electrical signal is input to the broadband input transducer 5, this input electrical signal is converted into a surface acoustic wave signal and the surface of the piezoelectric layer 3 is directed to the left and right of the input transducer 5 in FIG. and propagate.

そして右方に伝播する弾性表面波入力信号13のうちで
周波数f。
Then, the frequency f of the surface acoustic wave input signal 13 propagating to the right.

近傍の信号戊分がポンプ電極4下方部の動作領域を伝播
していく過程で、その圧電ポテンジャルが半導体基板1
表面の空間電荷層容量非線形効果によりポンプ電圧とパ
ラメトリック相互作用を生じて増幅され、この増幅され
た弾性表面波信号14が出力トランスジューサ6により
再び電気信号に変換されて外部に出力される。
As the nearby signal component propagates through the operating region below the pump electrode 4, its piezoelectric potential is transferred to the semiconductor substrate 1.
The space charge layer capacitance nonlinear effect on the surface causes a parametric interaction with the pump voltage and is amplified, and the amplified surface acoustic wave signal 14 is converted back into an electrical signal by the output transducer 6 and output to the outside.

またこれと同時にポンプ電極4から図の左方に向けて、
弾性表面波入力信号13の大きさに対応した周波数fi
( fi = 2 f O−fs, fs:入力信号
の周波数)の弾性表面波信号15が発生する。
At the same time, from the pump electrode 4 towards the left side of the figure,
A frequency fi corresponding to the magnitude of the surface acoustic wave input signal 13
A surface acoustic wave signal 15 of (fi = 2fO-fs, fs: frequency of input signal) is generated.

この弾性表面波信号15も出力信号として適宜に外部に
出力させることができる。
This surface acoustic wave signal 15 can also be appropriately outputted to the outside as an output signal.

ここで上記の各出力弾性表面波信号14.15の周波数
特性を、入力信号13の大きさを1として示したのが第
2〜3図であって、第2図はポンプ電圧が比較的小さい
場合、第3図はポンプ電圧が比較的大きい場合をそれぞ
れ示したものである。
Here, FIGS. 2 and 3 show the frequency characteristics of the above-mentioned output surface acoustic wave signals 14 and 15, assuming that the magnitude of the input signal 13 is 1. In FIG. 2, the pump voltage is relatively small. In this case, FIG. 3 shows the case where the pump voltage is relatively large.

上記の両図に示すように、方形状のポンプ電極4を備え
た弾性表面波装置においては、選択希望中心周波数f。
As shown in both figures above, in a surface acoustic wave device equipped with a rectangular pump electrode 4, the desired center frequency f is selected.

における出力を定めたとき、信号通過帯域のレスポンス
、およびスプリアスレスポンスはほぼ決ってしまう。
When the output at is determined, the response of the signal passband and the spurious response are almost determined.

このため従来の弾性表面波装置は周波数選択装置として
使用する場合に、周波数特性の設計の自由度が極めて少
なく、またスプリアスレスポンスの太きさも実用上十分
に小さいとは云えないものであった。
For this reason, when a conventional surface acoustic wave device is used as a frequency selection device, there is extremely little freedom in designing frequency characteristics, and the width of the spurious response cannot be said to be sufficiently small for practical use.

ここにおいて本発明は周波数選択装置として使用する上
において、信号通過帯域のレスポンスを仕様に合わせ得
るとともに、スプリアスレスポンスを実用上支障のない
程度にまで減少させ得るよウニした弾性表面波パラメト
リック装置を提供しようとしたものである。
The present invention provides a surface acoustic wave parametric device that is capable of adjusting the response of a signal passband to specifications and reducing spurious responses to a level that does not cause any practical problems when used as a frequency selection device. That's what I tried to do.

即ち本発明は次のような理論のもとになされたものであ
る。
That is, the present invention was made based on the following theory.

いま一般的な電気回路理論によれは、線形回路の出力周
波数特性は、入力端にインパルスを印加したときの出力
端の時間応答(時間変化)をフーリエ変換することによ
り求められる。
According to current electric circuit theory, the output frequency characteristics of a linear circuit are determined by Fourier transforming the time response (time change) of the output end when an impulse is applied to the input end.

したがって、逆に所望の周波数特性とフーリエ変換の関
係にある時間応答を求め、この時間応答とインパルス応
答とが等しくなるように線形回路を構戊すれば当該所望
の周波数特性を有する出力信号が得られる。
Therefore, if we conversely find a time response that has a Fourier transform relationship with the desired frequency characteristic and construct a linear circuit so that this time response and impulse response are equal, an output signal with the desired frequency characteristic can be obtained. It will be done.

ここで上記の理論を、前記した従来例たる第1図の装置
に適用した場合について、第4図A〜第7図Bを参照し
てさらに具体的に説明すると次のとおりである。
Here, the case where the above theory is applied to the conventional device shown in FIG. 1 will be described in more detail with reference to FIGS. 4A to 7B.

いま第1図に示す弾性表面波パラメトリック装置におい
て、パラメトリック相互作用を余り強くない状態に設定
して、入力トランスジューサ5に第4図Aに示すような
継続時間をOとした理想的なインパルスe1を時間1=
0で入力させたとする。
In the surface acoustic wave parametric device shown in FIG. 1, the parametric interaction is set not to be very strong, and an ideal impulse e1 with a duration of O as shown in FIG. 4A is sent to the input transducer 5. Time 1=
Assume that 0 is input.

このときポンプ電極4から左右に向けて出力される2つ
の弾性表面波信号出力のうち、入力弾性表面波13と逆
方向に進行する出力信号15(周波数fi)についての
時間応答■1をとると第4図Bに示すものが得られる。
At this time, among the two surface acoustic wave signal outputs output from the pump electrode 4 in the left and right directions, if we take the time response ■1 for the output signal 15 (frequency fi) that travels in the opposite direction to the input surface acoustic wave 13. What is shown in FIG. 4B is obtained.

ここで第4図B中、時間t1とは弾性表面波信号が入力
トランスジューサ5とポンプ電極4における前端4′と
の間を往復するのに要する時間であり、また時間t2と
は弾性表面波信号が入力トランスジューサ5とポンプ電
極4における後端4“との間を往復するのに要する時間
を示している。
Here, in FIG. 4B, time t1 is the time required for the surface acoustic wave signal to travel back and forth between the input transducer 5 and the front end 4' of the pump electrode 4, and time t2 is the time required for the surface acoustic wave signal to travel back and forth between the input transducer 5 and the front end 4' of the pump electrode 4. represents the time required for the input transducer 5 to travel back and forth between the input transducer 5 and the rear end 4'' of the pump electrode 4.

上記の入力インパルスe1と、出力時間応答■1とをさ
らに詳しく説明すると、理想的なインパルスe1中には
無限の周波数或分が含まれている。
To explain the input impulse e1 and the output time response 1 in more detail, the ideal impulse e1 includes an infinite number of frequencies.

このインパルスe1が入力トランスジューサ5から入力
されると、上記の周波数成分のうち(ポンプ周波数を2
foとしたとき)周波数f。
When this impulse e1 is input from the input transducer 5, among the above frequency components (the pump frequency is
f) frequency f.

近傍の信号或分のみが主にパラメトリック相互作用を受
けて入力弾性表面波13と逆方向に進行する後退波弾性
表面波信号15として出力される。
Only a certain portion of the nearby signal undergoes mainly parametric interaction and is output as a backward surface acoustic wave signal 15 that travels in the opposite direction to the input surface acoustic wave 13.

この出力信号における周波数或分をAM検波したときの
エンベローブが第4図Bに示す出力時間応答I1である
The envelope when a certain frequency portion of this output signal is subjected to AM detection is the output time response I1 shown in FIG. 4B.

一方、インパルスe1に代えて、入力トランスジューサ
5に第5図Aに示すような周波数f。
On the other hand, instead of the impulse e1, the input transducer 5 receives a frequency f as shown in FIG. 5A.

を含む振幅一定の信号e2を印加したときの後退波弾性
表面波出力信号15の周波数スペクトル15cを示した
のが第5図Bである。
FIG. 5B shows a frequency spectrum 15c of the backward surface acoustic wave output signal 15 when a signal e2 with a constant amplitude is applied.

因みにこの第5図Bの周波数スペクトル15cは前記第
2図中符号?5aで示す出力周波数特性に対応する。
By the way, is the frequency spectrum 15c in FIG. 5B the same as the symbol in FIG. 2? This corresponds to the output frequency characteristic shown in 5a.

ここで上記の周波数スペクトル15Cは、前記の時間応
答■1をフーリエ変換したものに相当する。
Here, the above-mentioned frequency spectrum 15C corresponds to the Fourier transform of the above-mentioned time response (1).

そこで、いま仮りに第5図Bに示す周波数スペクトル1
5Cが、所望の周波数特性であるとすると、これとフー
リエ変換の関係にあるのが第4図Bに示す時間応答■1
であって、この時間応答■1を呈する線形回路、即ち弾
性表面波パラメトリック装置が第1図に示した方形状の
ポンプ電極4を備えた装置なのである。
Therefore, let us assume that the frequency spectrum 1 shown in Fig. 5B is
Assuming that 5C is the desired frequency characteristic, the relationship between this and the Fourier transform is the time response ■1 shown in Figure 4B.
The linear circuit exhibiting this time response (1), ie, the surface acoustic wave parametric device, is the device equipped with the rectangular pump electrode 4 shown in FIG.

しかし上記の理想的インパルスe1は実際には実現不可
能である。
However, the above ideal impulse e1 is not actually realizable.

そこでこれに代えて第6図Aに示すようなキャリア周波
数f。
Therefore, instead of this, a carrier frequency f as shown in FIG. 6A is used.

、継続時間t( 1<12−11)のRFパルスe1′
を用いる。
, RF pulse e1' of duration t (1<12-11)
Use.

このとき後退波出力信号15についての時間応答■1′
は第6図Bに示すものが得られ、これをAM検波したと
きのエンベローブは前記第4図Bに示したものと殆んど
同じである。
At this time, the time response ■1' for the backward wave output signal 15
The result shown in FIG. 6B is obtained, and the envelope obtained by AM detection is almost the same as that shown in FIG. 4B.

因みに第6図Bに示す時間応答出力信号■1′のキャリ
ア周波数はfi = 2 fo− fo= fである。
Incidentally, the carrier frequency of the time response output signal 1' shown in FIG. 6B is fi = 2 fo - fo = f.

また前記の第5図Aの振幅一定の信号e2についても、
実際の信号e2′には第7図Aに示すように中心周波数
f。
Also, regarding the signal e2 of constant amplitude in FIG. 5A,
The actual signal e2' has a center frequency f as shown in FIG. 7A.

から離れた周波数において振幅の減衰傾向がみられる。There is a tendency for the amplitude to attenuate at frequencies far away from .

しかし、このような信号e2′をトランスジューサ5か
ら入力させた場合にも、後退波出力信号の周波数スペク
トル150′は第7図Bに示したものが得られる。
However, even when such a signal e2' is input from the transducer 5, the frequency spectrum 150' of the backward wave output signal shown in FIG. 7B is obtained.

この周波数スペクトル15c′は、前記の第5図Bに示
したものと殆んど同じである,したがって所望周波数特
性の弾性表面波パラメトリック装置の設計(パラメトリ
ック相互作用領域部の設計)に当っては、実際にはイン
パルスおよび振幅一定の信号として第6図Aおよび第7
図Aに示した信号をそれぞれ用いる。
This frequency spectrum 15c' is almost the same as that shown in FIG. , actually as an impulse and a constant amplitude signal in Figures 6A and 7.
The signals shown in Figure A are used.

次に上記の如き技術的手法に基いてなされた本発明を図
の実施例を参照して具体的に説明する。
Next, the present invention based on the above-mentioned technical method will be specifically explained with reference to the embodiments shown in the drawings.

なお以下の図において前記第1図と共通する部材につい
ては、前記と同一の符号を附すものとする。
In the following drawings, the same reference numerals as above are given to the same members as in FIG. 1.

第8図において符号1は一例としてシリコン(Si)材
料により形威した半導体基板にして、この半導体基板1
上に絶縁膜2および圧電体層3を順次積層させて積層体
を形或する。
In FIG. 8, reference numeral 1 denotes a semiconductor substrate made of silicon (Si) material, as an example.
An insulating film 2 and a piezoelectric layer 3 are sequentially laminated thereon to form a laminate.

絶縁膜2は半導体基板1表面の安定化膜として作用させ
るもので、一例として2酸化シリコン膜( S i02
)で形或する。
The insulating film 2 acts as a stabilizing film on the surface of the semiconductor substrate 1, and an example is a silicon dioxide film (S i02
).

また圧電体層3は酸化亜鉛(ZnO’)、または窒化ア
ルミニウム(AI,N)等の圧電体材料により形成する
Further, the piezoelectric layer 3 is formed of a piezoelectric material such as zinc oxide (ZnO') or aluminum nitride (AI, N).

次いで図における上記積層体上の左右両端部近傍に入力
トランスジューサ5および出力トランスジューサ6をそ
れぞれ配設する。
Next, an input transducer 5 and an output transducer 6 are respectively disposed near both left and right ends of the laminate in the figure.

この人・出力トランスジューサ5,6は十分に広帯域特
性を有するように形成する。
The human output transducers 5, 6 are formed to have sufficiently broadband characteristics.

そして上記の入力トランスジューサ5と出力トランスジ
ューサ6との間における弾性表面波の伝播路上に、分割
させた複数個のポンプ電極M1,M2・・・を、当該弾
性表面波の伝播方向に沿って配列させる。
Then, on the propagation path of the surface acoustic wave between the input transducer 5 and the output transducer 6, a plurality of divided pump electrodes M1, M2, etc. are arranged along the propagation direction of the surface acoustic wave. .

各ポンプ電極M1,M2・・・は一例として図示のよう
に長方形状に形威させ、この長方形における各長辺部を
平行させて配列するものであるが、その分割数、形状寸
法、および各電極間の間隙長等はそれぞれに印加する各
ポンプ電圧値とも一体に相まって、所望の出力周波数特
性に対応させて選択する。
As an example, each pump electrode M1, M2, etc. has a rectangular shape as shown in the figure, and is arranged with the long sides of this rectangle parallel to each other. The gap length between the electrodes, etc. are selected in conjunction with each pump voltage value applied to each, and are made to correspond to the desired output frequency characteristics.

次いで上記の各ポンプ電極M1,M2・・・に、それぞ
れ異なる容量値からなるコンデンサC1,C2・・・を
接続し、さら(ごこの各コンデンサC1,C2・・・の
他端をポンプ電圧印加用の高周波電源(ポンプ電源)9
に共通に接続する。
Next, capacitors C1, C2, etc. having different capacitance values are connected to each of the pump electrodes M1, M2, etc., and a pump voltage is applied to the other end of each capacitor C1, C2,... High frequency power supply (pump power supply) 9
Commonly connected to.

而して各コンデンサC1,C2・・・における高周波電
圧降下を異ならせ、各ポンプ電極M1,M2・・・にそ
れぞれ異なる値のポンプ電圧を印加し得るようになす。
Thus, the high frequency voltage drop in each capacitor C1, C2, . . . is made different, so that pump voltages of different values can be applied to each pump electrode M1, M2, .

因みに各コンデンサC1,C2・・・は直流阻止用コン
デンサとしての作用も兼ねさせる。
Incidentally, each of the capacitors C1, C2, . . . also functions as a DC blocking capacitor.

第9図は上記各コンデンサC1,C2・・・の具体的配
設態様の一例を示すもので、この事例は各コンデンサC
1,C2・・・を薄膜コンデンサで形威させ、この薄膜
コンデンサを圧電体層3上、即ち各ポンプ電極の配設面
と同一平面上に集積させたものである。
FIG. 9 shows an example of a specific arrangement of the above-mentioned capacitors C1, C2, etc., and in this case, each capacitor C
1, C2, . . . are formed by thin film capacitors, and these thin film capacitors are integrated on the piezoelectric layer 3, that is, on the same plane as the surface on which each pump electrode is disposed.

同図において符号16は誘電体層薄膜、17は上部電極
であって、下部電極1 8 . 1 8’・・・の面積
をそれぞれ変えることにより、各コンデンサC1,C2
・・・の容量値を異ならせる。
In the figure, reference numeral 16 is a thin dielectric layer, 17 is an upper electrode, and lower electrodes 1 8 . By changing the area of 1 8'..., each capacitor C1, C2
...to have different capacitance values.

第8図において符号L1,L2・・・は交流阻止用のイ
ンダクタ、7は直流バイアス印加用の直流電源11.1
2は端面において不要な弾性表面波が反射するのを防止
するための弾性表面波吸収材である。
In FIG. 8, symbols L1, L2, . . . are inductors for blocking AC, and 7 is a DC power source 11.1 for applying DC bias.
2 is a surface acoustic wave absorbing material for preventing unnecessary surface acoustic waves from being reflected at the end face.

なお各ポンプ電極M1,M2・・・に印加するポンプ電
圧値調整用の素子は、コンデンサに限らず、インダクタ
L1または抵抗R等の他のインピーダンス素子であって
もよく、この場合には、第8図におけるコンデンサC1
,C2・・・は直流阻止用として作用させ、これらの各
コンデンサC1,C2・・・にそれぞれインピーダンス
値の異なるインダクタL1または抵抗Rを直列に介在さ
せる。
Note that the element for adjusting the pump voltage value applied to each pump electrode M1, M2, etc. is not limited to a capacitor, but may be another impedance element such as an inductor L1 or a resistor R. Capacitor C1 in Figure 8
, C2, . . . function as DC blocking, and an inductor L1 or a resistor R having a different impedance value is interposed in series with each of these capacitors C1, C2, .

次に前述の技術的手法に基いてパラメトリック相互作用
領域部、つまり各ポンプ電極M1,M2・・・に印加す
るポンプ電圧値を設計する手順について説明する。
Next, a procedure for designing a pump voltage value to be applied to the parametric interaction region, that is, each pump electrode M1, M2, . . . based on the above-mentioned technical method will be described.

いま所望の周波数特性を第10図に示すようなバンド幅
Bの理想的なバンドパスフィルタとする。
Now assume that the desired frequency characteristic is an ideal bandpass filter with a bandwidth B as shown in FIG.

このときこの周波数特性E2とフーリエ変換の関係にあ
る時間応答■2を求めると、第11図に示すようなsi
n x / x形の図において左右に無限に広がったも
のになる。
At this time, if we calculate the time response ■2 which has a Fourier transform relationship with this frequency characteristic E2, we get si as shown in Figure 11.
In an nx/x-shaped diagram, it extends infinitely to the left and right.

ここでインパルスe1によって発生する弾性表面波出力
信号SAW3の大きさは、パラメトリック相互作用領域
の強さと関係し、さらにこのパラメトリック相互作用の
強さを決定する主要因の一つにポンプ電圧の大きさがあ
る。
Here, the magnitude of the surface acoustic wave output signal SAW3 generated by the impulse e1 is related to the strength of the parametric interaction region, and one of the main factors determining the strength of this parametric interaction is the magnitude of the pump voltage. There is.

したがって他の条件を一定としたとき、ポンプ電圧を異
ならせればパラメトリック相互作用の強さが異なってイ
ンパルスe1によって発生する弾性表面波出力信号SA
W3の大きさも異なるのである。
Therefore, when other conditions are held constant, if the pump voltage is different, the strength of the parametric interaction will be different, and the surface acoustic wave output signal SA generated by the impulse e1 will be
The size of W3 also differs.

そして各ポンプ電極M1,M2・・・に印加するポンプ
電圧の大きさに対応させてインパルス応答の大きさを変
化させるに当り、前記第8図の事例のようにポンプ電源
9の電圧を一定としてコンデンサの容量値(インピーダ
ンス値)を変化させて、これを行なう場合には、ポンプ
電源9とポンプ電極とが電気的に疎結合で、且つパラメ
トリック相互作用が比較的弱い場合、コンデンサの容量
値の2乗とインパルス応答とはほぼ比例する。
In changing the magnitude of the impulse response in accordance with the magnitude of the pump voltage applied to each pump electrode M1, M2, etc., the voltage of the pump power source 9 is kept constant as in the example shown in FIG. When this is done by changing the capacitance value (impedance value) of the capacitor, if the pump power supply 9 and the pump electrode are electrically loosely coupled and the parametric interaction is relatively weak, the capacitance value of the capacitor will change. The square and the impulse response are almost proportional.

したがって前記の時間応答■2とインパルス応答とを等
しくするためには、各ポンプ電極M1,M2・・・に接
続させたコンデンサC1,C2・・・の容量値を、時間
応答■2の波形に対応させてそれぞれ異ならしめればよ
い。
Therefore, in order to equalize the time response (2) and the impulse response, the capacitance values of the capacitors C1, C2, etc. connected to each pump electrode M1, M2, etc. should be adjusted to the waveform of the time response (2). All you have to do is make them correspond to each other and make them different.

しかるに理想的なバンドパスフィルタ(第10図)に対
応させるためには第11図の波形■2と同様に、ポンプ
電極M1,M2・・・群を左右方向に無限に配設して、
この無限の位置にまでパラメトリック相互作用領域を生
じさせなければならない。
However, in order to correspond to the ideal bandpass filter (Fig. 10), groups of pump electrodes M1, M2, etc. are arranged infinitely in the left and right direction, similar to waveform 2 in Fig. 11.
A parametric interaction region must be generated up to this infinite position.

このため積層体の形状寸法もこれに合わせて増大させな
ければならないので実用上問題が生ずる。
Therefore, the shape and dimensions of the laminate must be increased accordingly, which poses a practical problem.

このためフィルタ特性(周波数選択特性)は、実用上支
障のない程度に多少犠性にした上でポンプ電極配設数お
よびこれに接続した各コンデンサの容量値を装置に適用
する上において最適になるように設計しなければならな
い。
For this reason, the filter characteristics (frequency selection characteristics) are optimized when applied to the device by making some sacrifices to the extent that there is no practical problem, and by adjusting the number of pump electrodes and the capacitance value of each capacitor connected to these. must be designed so that

そこで実用性を加味させたパラメトリック相互作用領域
、云い換えればポンプ電極の配設数およびこれに接続し
た各コンデンサの容量値の設計例を次に述べる。
Therefore, a design example of the parametric interaction region, in other words, the number of pump electrodes and the capacitance value of each capacitor connected thereto, will be described below, taking practicality into account.

第12図は前記第11図のsin X / X形の時間
応答のうち、一π<x<π以外の波形部分を取り去った
形に対応したインパルス応答■3を示したもので、この
インパルス応答■3に対応させて各ポンプ電極M, ,
M2・・・に接続した各コンデンサC1,C2・・・
の容量値を示したのが第13図である。
Figure 12 shows impulse response ■3 corresponding to the waveform portion of the sin ■Each pump electrode M, , corresponding to 3.
Each capacitor C1, C2... connected to M2...
FIG. 13 shows the capacitance value.

この第13図の事例ではポンプ電極数は6個としたもの
である。
In the example shown in FIG. 13, the number of pump electrodes is six.

このポンプ電極の配設数(分割数)は実用上可能な限り
において犬とした方がより一層正確にインパルス応答に
対応させることができる。
The number of pump electrodes to be arranged (the number of divisions) should be as large as possible to correspond to the impulse response more accurately if it is practically possible.

そして上記の第13図に示したようなポンプ電極数およ
びこれに接続した各コンデンサC1,C2・・・の容量
設定値を第8図の装置に適用したとき、弾性表面波出力
信号SAW3についての周波数特性は第14図に示す如
き所望のものが得られる。
When the number of pump electrodes and the capacitance settings of the capacitors C1, C2, etc. connected thereto as shown in FIG. 13 above are applied to the device shown in FIG. 8, the surface acoustic wave output signal SAW3 is A desired frequency characteristic as shown in FIG. 14 can be obtained.

この周波数特性E3を前記第10図に示した理想的なバ
ンドパスフィルタE2と比較したとき、フィルタの肩特
性において劣化がみられるが、第2図等に示した従来例
のそれと比較するとスプリアスレスポンスは実用上差支
えない程度に顕著に減少している。
When this frequency characteristic E3 is compared with the ideal bandpass filter E2 shown in FIG. 10, there is a deterioration in the shoulder characteristics of the filter, but when compared with that of the conventional example shown in FIG. 2, there is a spurious response. has decreased significantly to the extent that there is no problem in practical use.

したがって第13図に示す各ポンプ電極M1,M2・・
・に接続した各コンデンサC1,C2・・・の容量値設
定態様は、所望の周波数特性E3を生じさせる弾性表面
波パラメトリック装置の容量値設定態様として適用する
ことができる。
Therefore, each pump electrode M1, M2 shown in FIG.
The capacitance value setting manner of each of the capacitors C1, C2, . . . connected to the capacitors C1, C2, .

次に第15図、第16図は各コンデンサC1,C2・・
・の容量値設定等の他の設計事例を示すもので、この事
例においては所望の周波数特性をe−2“27r2f2
のガウス関数形のものとし、これとフーリエ変換の関係
にある時間応答■4とインパルス応答とが等しくなるよ
うな各コンデンサC1,C2・・・の容量設定値を示し
たものである。
Next, Figures 15 and 16 show each capacitor C1, C2...
This shows other design examples such as capacitance value setting, etc. In this example, the desired frequency characteristics are
The figure shows the capacitance settings of the capacitors C1, C2, etc., so that the time response (4) and the impulse response, which are in a Fourier transform relationship, are equal to each other.

この事例においても理想的なバンドパスフィルタの特性
E2と比較したとき、フィルタの肩特性においてやや劣
化がみられるが、スプリアスレスポンスが除去され、ま
たポンプ電極のM1,M2・・・の配設数等においても
実用し得る範囲に設定し得るものであり、第8図の弾性
表面波パラメトリック装置のポンプ電極として適用し得
るものである,上記した第12図〜第17図について述
べた2つの設計事例は、倒れもパラメトリック相互作用
が比較的弱い場合についてのものである。
In this case as well, when compared with the characteristic E2 of an ideal bandpass filter, there is a slight deterioration in the shoulder characteristic of the filter, but the spurious response has been eliminated, and the number of pump electrodes M1, M2, etc. The two designs described in Figs. 12 to 17 above can be set within a practical range even in the case of other devices, and can be applied as pump electrodes of the surface acoustic wave parametric device shown in Fig. 8. The example is about a case where the parametric interaction is relatively weak.

パラメトリック相互作用の大きい場合には、インパルス
応答と各コンデンサC1,C2・・・の容量値設定態様
が、パラメトリック相互作用の弱い場合と比較してやや
ずれてくる。
When the parametric interaction is large, the impulse response and the capacitance value settings of the capacitors C1, C2, . . . become slightly different from each other, compared to when the parametric interaction is weak.

しかし、このずれの効果を考慮に入れて行えば、パラメ
トリック相互作用の大きい場合にも前記の設計事例とほ
ぼ同様にして所望の周波数特性が得られる各コンデンサ
の容量値を設定し得るものである。
However, if the effect of this deviation is taken into consideration, even when parametric interactions are large, it is possible to set the capacitance value of each capacitor to obtain the desired frequency characteristics in a manner similar to the design example described above. .

また以上の各設計事例は倒れも弾性表面波出力として第
8図中符号SAW3で示す後退波出力をとり出す場合に
ついて述べたが、入力弾性表面波SAW1と同方向の出
力波である符号SAW2 の弾性表面波をとり出す場合
についても同様に設計し得るものである。
Furthermore, in each of the above design examples, the backward wave output shown by the symbol SAW3 in FIG. A similar design can be made for extracting surface acoustic waves.

ただし符号SAW2の弾性表面波については、パラメト
リックス相互作用を生じない周波数の信号戊分が変化を
受けずにそのまま出力されるためスプリアスレスポンス
についての改善効果がやや少なくなる。
However, for the surface acoustic wave with the symbol SAW2, the signal component of the frequency that does not cause parametric interaction is output as is without being changed, so the improvement effect on the spurious response is slightly reduced.

本発明の実施例たる弾性表面波パラメトリック装置は上
述のように構成され以下のよう(こ動作する。
A surface acoustic wave parametric device according to an embodiment of the present invention is constructed as described above and operates as follows.

まず各ポンプ電極M1,M2・・・に直流電源7から適
宜値の直流バイアス電圧を印加し、各ポンプ電極M1,
M2・・・直下の半導体基板1の表面部に適宜の空間電
荷層容量を生じさせ、さらに高周波電源9から所望の周
波数選択帯域における中心周波数foの2倍の周波数2
foのポンプ電圧を同じく各ポンプ電極M1,M2・・
・に印加し、前記の空間電荷層容量を周波数2foで励
振して、この空間電荷層容量を周波数2foで変化させ
る。
First, a DC bias voltage of an appropriate value is applied from the DC power supply 7 to each pump electrode M1, M2..., and each pump electrode M1, M2...
M2... Produces an appropriate space charge layer capacitance on the surface of the semiconductor substrate 1 immediately below, and further generates a frequency 2 twice the center frequency fo in a desired frequency selection band from the high frequency power source 9.
The pump voltage of fo is the same for each pump electrode M1, M2...
* is applied to excite the space charge layer capacitance at a frequency of 2fo, and this space charge layer capacitance is changed at a frequency of 2fo.

一方、広帯域性の入力トランスジューサ5に印加された
入力電気信号は、弾性表面波に変換されて圧電体層3の
表面を第8図において入力トランスジューサ5の左右に
向けて伝播する。
On the other hand, the input electrical signal applied to the broadband input transducer 5 is converted into a surface acoustic wave and propagates on the surface of the piezoelectric layer 3 toward the left and right of the input transducer 5 in FIG.

そして右方に伝播する弾性表面波入力信号SAW1のう
ちで周波数f。
Then, the frequency f of the surface acoustic wave input signal SAW1 propagating to the right.

近傍の信号威分がポンプ電極群M1,M2,M3・・・
下方部のパラメトリック相互作用領域を伝播していく過
程で、その圧電ポテンシャルが半導体基板1表面の空間
電荷層容量非線形効果によりポンプ電圧とパラメトリッ
ク相互作用を生じて増幅され、出力弾性表面波が第8図
においてポンプ電極群M1,M2・・・部から左右に向
けて発生する。
The nearby signal strength is the pump electrode group M1, M2, M3...
In the process of propagating through the lower parametric interaction region, the piezoelectric potential is amplified by parametric interaction with the pump voltage due to the nonlinear effect of the space charge layer capacitance on the surface of the semiconductor substrate 1, and the output surface acoustic wave is In the figure, it occurs from the pump electrode groups M1, M2, . . . toward the left and right.

そして入力弾性表面波SAW1と同方向に進行する出力
弾性表面波SAW2は出力トランスジューサ6により再
び電気信号に変換されて外部に出力される。
The output surface acoustic wave SAW2 traveling in the same direction as the input surface acoustic wave SAW1 is converted back into an electrical signal by the output transducer 6 and output to the outside.

一方、入力弾性表面波S AW1と逆方向に進行する出
力弾性表面波SAW3は、入力トランスジューサ5を兼
用させるか、もしくは他の適宜の手段(例えば本出願人
が特願昭54−64923号等で開示したようなマルチ
ストリップカプラを配設した出力手段)によって同じく
電気信号として外部にとり出すことができる。
On the other hand, the output surface acoustic wave SAW3 traveling in the opposite direction to the input surface acoustic wave SAW1 can be generated by using the input transducer 5 or by using other appropriate means (for example, as disclosed in Japanese Patent Application No. 54-64923 by the present applicant). Similarly, it can be outputted as an electrical signal to the outside by an output means (equipped with a multi-strip coupler as disclosed).

このように逆方向に進行する弾性表面波SAW3を出力
として取り出すのであれば、入力トランスジューサ5お
よび出力トランスジューサ6のうち少なくとも入力トラ
ンスジューサ5のみを配設して、これを入出力兼用のト
ランスジューサとさせることもできる。
If the surface acoustic wave SAW 3 traveling in the opposite direction is to be taken out as an output, at least only the input transducer 5 of the input transducer 5 and the output transducer 6 should be provided to serve as an input/output transducer. You can also do it.

そして上記のように弾性表面波SAW2およびSAW3
が出力される過程において、パラメトリック相互作用領
域形成部のポンプ電極が分割され、この分割した各ポン
プ電極M1,M2・・・に接続した各コンデンサC1,
C2・・・の容量値を、当該各ポンプ電極M1,M2・
・・に所望の周波数特性に対応したポンプ電圧がそれぞ
れ印加されるように設定してあるので、入力弾性表面波
SAW1のうち、この所望の周波数特性に対応した周波
数の信号或分のみが当該弾性表面波SAW2またはSA
W3として選択的に出力される。
And as mentioned above, surface acoustic waves SAW2 and SAW3
In the process of outputting, the pump electrode of the parametric interaction region forming section is divided, and each capacitor C1, M2, etc. connected to each of the divided pump electrodes M1, M2...
C2..., the capacitance value of each pump electrode M1, M2,...
Since it is set so that the pump voltage corresponding to the desired frequency characteristic is applied to each of the input surface acoustic waves SAW1, only a certain portion of the signal of the frequency corresponding to this desired frequency characteristic is applied to the corresponding elastic Surface wave SAW2 or SA
It is selectively output as W3.

即ち、一例として入力弾性表面波SAW1 と逆方向の
出力弾性表面波SAW3については、前記の第14図ま
たは第17図に示したような所望の周波数特性を有する
信号として出力され、当該弾性表面波パラメl− IJ
ツク装置は所望の帯域通過フィルタとして機能するので
ある。
That is, as an example, the output surface acoustic wave SAW3 in the opposite direction to the input surface acoustic wave SAW1 is output as a signal having the desired frequency characteristics as shown in FIG. 14 or FIG. Parameter l-IJ
The locking device functions as the desired bandpass filter.

また入力弾性表面波SAW1と同方向の出力弾性表面波
SAW2については、スプリアスレスポンスの点で上記
の出力弾性表面波SAW3よりも劣るが、上記と同様に
して所望の周波数特性を有する信号として出力される。
Furthermore, although the output surface acoustic wave SAW2 in the same direction as the input surface acoustic wave SAW1 is inferior to the above output surface acoustic wave SAW3 in terms of spurious response, it can be output as a signal having the desired frequency characteristics in the same manner as above. Ru.

以上詳述したように本発明によればポンプ電極を弾性表
面波の伝播方向に沿って複数個に分割させ、この各ポン
プ電極に印加するポンプ電圧の値を、出力弾性表面波の
所望の周波数特性に対応させてそれぞれ異ならしめたか
ら、弾性表面波パラメトリック装置を可変周波数選択装
置(帯域通過フィルタ)として用いる場合、その出力周
波数特性を仕様に合わせて所望通りに設計できるという
極めて優れた効果を発揮する。
As described in detail above, according to the present invention, the pump electrode is divided into a plurality of parts along the propagation direction of the surface acoustic wave, and the value of the pump voltage applied to each pump electrode is adjusted to the desired frequency of the output surface acoustic wave. Because they are made to differ according to their characteristics, when using a surface acoustic wave parametric device as a variable frequency selection device (bandpass filter), it has an extremely excellent effect in that the output frequency characteristics can be designed as desired according to specifications. do.

また上記の効果に加えて、弾性表面波パラメトリック装
置が本質的に備えている効果、即ち広い周波数範囲に亘
って可変同調特性を有する点、出力中心周波数の安定度
は外部のポンプ電源の安定度で決定される点、およびS
/Nが良好である点などの諸種の効果を併せ有せしめる
ことができ、可変周波数選択装置として使用する上にお
いて極めて優れた弾性表面波パラメトリック装置を提供
し得るものである。
In addition to the above effects, the surface acoustic wave parametric device inherently has the following effects: it has variable tuning characteristics over a wide frequency range, and the stability of the output center frequency depends on the stability of the external pump power source. and S
It is possible to combine various effects such as good /N, and to provide an extremely excellent surface acoustic wave parametric device for use as a variable frequency selection device.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は従来例を示す斜視図、第2図および第3図は同
上の出力周波数特性を示す特性図で第2図はパラメl−
IJツク相互作用が比較的弱い場合、第3図はパラメ
トリック相互作用が比較的大きい場合をそれぞれ示す、
第4図Aはパラメトリック相互作用領域部の設計に使用
する理想的インパルスを示す波形図、第4図Bは同上イ
ンパルスを第1図の装置に適用したときの時間応答の一
例を示す特性図、第5図Aは理想的入力弾性表面波の周
波数特性図、第5図Bは同上入力弾性表面波を第1図の
装置に適用したときの後退波弾性表面波出力の周波数ス
ペクトルを示す特性図、第6図Aは第4図Aに代えて実
用するRFパルスの一例を示す波形図、第6図Bは同上
RFパルスを第1図の装置に適用したときの時間応答の
一例を示す特性図、第7図Aは第5図Aに代えて実用す
る入力弾性表面波の周波数特性図、第7図Bは同上入力
弾性表面波を第1図の装置に適用したときの後退波弾性
表面波出力の周波数スペクトルを示す特性図、第8図は
本発明の実施例たる弾性表面波パラメトリック装置を示
す図で積層体部は斜視図を以って示す、第9図は同上装
置におけるコンデンサ群を積層体上に一体に集積させた
一例を示す拡大斜視図で一部を省略して示す、第10図
は理想的なバンドパスフィルタの周波数特性を示す特性
図、第11図は同上特性とフーリエ変換の関係にある時
間応答を示す特性図、第12図は第11図の特性のうち
−π<x<π以外の波形部分を取り去った形のインパル
ス応答を示す特性図、第13図は同上インパルス応答に
対応させた各コンデンサの容量値設定例を示す設定曲線
図、第14図は同上の設定例を第8図に適用したときの
出力周波数特性の一例を示す特性図、第15図は本発明
に適用するインパルス応答の他の例を示す特性図、第1
6図は同上のインパルス応答に対応させた各コンデンサ
の容量値設定例を示す設定曲線図、第17図は同上の設
定例を第8図に適用したときの出力周波数特性を示す特
性図である。 1:半導体基板、2:絶縁膜、3:圧電体層、5:人カ
トランスジューサ、6:出力トランスジューサ、9:高
周波電源、11,12:弾性表面波吸収材、16:誘電
体薄膜、17:上部電極、18.18’:下部電極、C
1,C2,C3・・・:コンデンサ、L1,L2,L3
・・・:インダクタンスM1,M2,M3・・・:ポン
プ電極。
Figure 1 is a perspective view showing the conventional example, Figures 2 and 3 are characteristic diagrams showing the output frequency characteristics of the same as above, and Figure 2 is the parameter l-
Figure 3 shows the case where the IJtsuk interaction is relatively weak and the parametric interaction is relatively large, respectively.
FIG. 4A is a waveform diagram showing an ideal impulse used for designing the parametric interaction area, FIG. 4B is a characteristic diagram showing an example of the time response when the same impulse is applied to the device shown in FIG. 1, Figure 5A is a frequency characteristic diagram of an ideal input surface acoustic wave, and Figure 5B is a characteristic diagram showing the frequency spectrum of backward wave surface acoustic wave output when the same input surface acoustic wave as above is applied to the apparatus of Figure 1. , FIG. 6A is a waveform diagram showing an example of an RF pulse used in place of FIG. 4A, and FIG. 6B is a characteristic showing an example of the time response when the same RF pulse is applied to the device shown in FIG. Figure 7A is a frequency characteristic diagram of an input surface acoustic wave used in place of Figure 5A, and Figure 7B is a backward wave elastic surface when the same input surface acoustic wave is applied to the device in Figure 1. A characteristic diagram showing the frequency spectrum of the wave output. Fig. 8 is a diagram showing a surface acoustic wave parametric device as an embodiment of the present invention, and the laminate part is shown in a perspective view. Fig. 9 is a capacitor group in the same device. Fig. 10 is an enlarged perspective view showing an example of integrally integrated on a laminate, with some parts omitted. FIG. 12 is a characteristic diagram showing the time response related to Fourier transform. FIG. 12 is a characteristic diagram showing the impulse response obtained by removing the waveform portion other than -π<x<π from the characteristics in FIG. 11. FIG. Fig. 14 is a setting curve diagram showing an example of setting the capacitance value of each capacitor corresponding to the above impulse response; Fig. 14 is a characteristic diagram showing an example of the output frequency characteristic when the setting example same as above is applied to Fig. 8; Fig. 15 is a characteristic diagram showing another example of the impulse response applied to the present invention, the first
Figure 6 is a setting curve diagram showing an example of setting the capacitance value of each capacitor corresponding to the above impulse response, and Figure 17 is a characteristic diagram showing the output frequency characteristics when the above setting example is applied to Figure 8. . 1: Semiconductor substrate, 2: Insulating film, 3: Piezoelectric layer, 5: Human power transducer, 6: Output transducer, 9: High frequency power supply, 11, 12: Surface acoustic wave absorber, 16: Dielectric thin film, 17: Upper electrode, 18.18': lower electrode, C
1, C2, C3...: Capacitor, L1, L2, L3
...: Inductance M1, M2, M3...: Pump electrode.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 半導体と圧電体とを備えた積層体における当該圧電
体上に、入力トランスジューサおよび出力トランスジュ
ーサのうちの少なくとも入力トランスジューサと、複数
個のポンプ電極とを配夕1ル、該ポンプ電極のそれぞれ
に出力弾性表面波の所望の周波数特性に対応してそれぞ
れ値を異ならせたインピーダンス素子を各別に介してポ
ンプ電圧印加用の高周波電源を接続し、さらに前記ポン
プ電極のそれぞれには直流バイアス電圧印加用の直流電
源を別途に接続したことを特徴とする弾性表面波パラメ
トリック素子。 2 各ポンプ電極は長方形状に形威し、この長方形状の
ポンプ電極における各長辺部を平行させて配列した特許
請求の範囲第1項記載の弾性表面波パラメトリック装置
。 3 インピーダンス素子をコンデンサとした特許請求の
範囲第1項または第2項記載の弾性表面波パラメトリッ
ク装置。 4 複数個のコンデンサを薄膜コンデンサで形或し、こ
の薄膜コンデンサを各ポンプ電極の配設面と同一平面上
に集積した特許請求の範囲第3項記載の弾性表面波パラ
メトリック装置。
[Claims] 1. At least an input transducer of an input transducer and an output transducer, and a plurality of pump electrodes are disposed on the piezoelectric body in a laminate including a semiconductor and a piezoelectric body; A high frequency power source for applying a pump voltage is connected to each of the pump electrodes through a separate impedance element having a different value corresponding to the desired frequency characteristics of the output surface acoustic wave, and further, a high frequency power source for applying a pump voltage is connected to each of the pump electrodes. A surface acoustic wave parametric element characterized in that a DC power supply for applying a DC bias voltage is separately connected. 2. The surface acoustic wave parametric device according to claim 1, wherein each pump electrode has a rectangular shape, and the long sides of the rectangular pump electrodes are arranged in parallel. 3. The surface acoustic wave parametric device according to claim 1 or 2, wherein the impedance element is a capacitor. 4. The surface acoustic wave parametric device according to claim 3, wherein the plurality of capacitors are formed of thin film capacitors, and the thin film capacitors are integrated on the same plane as the surface on which each pump electrode is disposed.
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