JPS5832685A - Ｃ↓４‐又はｃ↓５‐酸化水素混合物から共役ジオレフインを収得する方法 - Google Patents
Ｃ↓４‐又はｃ↓５‐酸化水素混合物から共役ジオレフインを収得する方法Info
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- JPS5832685A JPS5832685A JP57078499A JP7849982A JPS5832685A JP S5832685 A JPS5832685 A JP S5832685A JP 57078499 A JP57078499 A JP 57078499A JP 7849982 A JP7849982 A JP 7849982A JP S5832685 A JPS5832685 A JP S5832685A
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- B01D—SEPARATION
- B01D3/00—Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping
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- B01D3/40—Extractive distillation
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C7/00—Purification; Separation; Use of additives
- C07C7/04—Purification; Separation; Use of additives by distillation
- C07C7/05—Purification; Separation; Use of additives by distillation with the aid of auxiliary compounds
- C07C7/08—Purification; Separation; Use of additives by distillation with the aid of auxiliary compounds by extractive distillation
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- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
分流を再生しながら選択性溶剤を用いて抽出蒸留により
，共役ジオレフィンを含有する。４一又はも−炭化水素
混合物から該ジオレフィンを収得する方法に関する。
，共役ジオレフィンを含有する。４一又はも−炭化水素
混合物から該ジオレフィンを収得する方法に関する。
抽出蒸留は，例えば分離すべき成分が共沸混合物を形成
するか又は相対的揮発性における差異が小さい場合，通
常の分留によっては容易に分離され得ない混合物を分離
するための公知方法である。
するか又は相対的揮発性における差異が小さい場合，通
常の分留によっては容易に分離され得ない混合物を分離
するための公知方法である。
抽出蒸留の場合には，蒸留塔に比較的難揮発性溶・剤が
，分離すべき成分の相対的揮発性の差異を高め．ひーて
は蒸留分離を可能にするような量で導入される。抽出蒸
留に関する典型的適用例は，例えばロビンソン（ ０．
Ｓ．、 Ｒｏｂ’ｉ，ｎ８ｏｎ ）他著，″エレメン
ツ・オプ・７ラクシヨナル・ディスチレーシヨン−（
Ｅｌｅｍｅｎｔｓ ｏｆ Ｆｒａｃｔｉｏｎａｌ Ｄｉ
ｓｔｉｌｌａｔｉｏｎ ）”第４版，マンフグローヒル
出版社．ニューヨーク在（１９５９年）、２９１頁に記
載されている。
，分離すべき成分の相対的揮発性の差異を高め．ひーて
は蒸留分離を可能にするような量で導入される。抽出蒸
留に関する典型的適用例は，例えばロビンソン（ ０．
Ｓ．、 Ｒｏｂ’ｉ，ｎ８ｏｎ ）他著，″エレメン
ツ・オプ・７ラクシヨナル・ディスチレーシヨン−（
Ｅｌｅｍｅｎｔｓ ｏｆ Ｆｒａｃｔｉｏｎａｌ Ｄｉ
ｓｔｉｌｌａｔｉｏｎ ）”第４版，マンフグローヒル
出版社．ニューヨーク在（１９５９年）、２９１頁に記
載されている。
例えばｔイツ連邦共和国特許出願公開第２７４２１８４
号，同国特許出願公告第１５６８９０２号，同国特許第
１１６３７９５号明細書又は”ザ・ソビエト・ケミカル
・インダストリー（ Ｔｈｅ Ｓｏｖｉｅｔ 、ｉＱｂ
ｅｍｉｃａｌ工ｎｄｕｓｔｒｙ ） ”第１１巻，
１９７１年１１月，７１９〜７２３頁から，選択性溶剤
を使用して抽出蒸留によりＣ４一又はＣ，一炭化水素混
合物から共役ジオレフィンを取得する方法が公知である
。Ｃ，一文はｃＱ −炭化水素中に含有される高級アセ
チレン及びアレン例えばプテニン，ブチン，プタジェン
，プロピン，アレン，並びに共役ジオレフィンは抽出蒸
留の際に重合体を形成する．傾向を有しているために。
号，同国特許出願公告第１５６８９０２号，同国特許第
１１６３７９５号明細書又は”ザ・ソビエト・ケミカル
・インダストリー（ Ｔｈｅ Ｓｏｖｉｅｔ 、ｉＱｂ
ｅｍｉｃａｌ工ｎｄｕｓｔｒｙ ） ”第１１巻，
１９７１年１１月，７１９〜７２３頁から，選択性溶剤
を使用して抽出蒸留によりＣ４一又はＣ，一炭化水素混
合物から共役ジオレフィンを取得する方法が公知である
。Ｃ，一文はｃＱ −炭化水素中に含有される高級アセ
チレン及びアレン例えばプテニン，ブチン，プタジェン
，プロピン，アレン，並びに共役ジオレフィンは抽出蒸
留の際に重合体を形成する．傾向を有しているために。
長期に亘って選択性溶剤を戻すと，選択，性溶剤中に重
合体が集合し，、５・該重合体が抽出装置内での重合体
沈積をもたらすことがある〔°゛オイルアンド・ガス・
ジャーナル（ Ｏｉｌ ＆ Ｇａｓ Ｊｏｕｒｎａｌ
） ”。
合体が集合し，、５・該重合体が抽出装置内での重合体
沈積をもたらすことがある〔°゛オイルアンド・ガス・
ジャーナル（ Ｏｉｌ ＆ Ｇａｓ Ｊｏｕｒｎａｌ
） ”。
１９７９年１０月発行，８１〜８２頁〕。更に．抽出蒸
留で使用される選択性溶剤に重合抑制剤を添加すること
も公知である。しかしこの方法によっても。
留で使用される選択性溶剤に重合抑制剤を添加すること
も公知である。しかしこの方法によっても。
重合庄形成は完全には阻止され得ない（ ” Ｏｉｌ
＆Ｇａｓ Ｊｏｕｒｎａｌ”、 １９’７９年１０月，
８１〜’８２頁）。
＆Ｇａｓ Ｊｏｕｒｎａｌ”、 １９’７９年１０月，
８１〜’８２頁）。
米国特許第３０００７９４ Ｑ明細書，第５欄から，抽
出蒸留によってブタジェンを得る際に重合体沈積を阻止
するために，循環路内を導ひかれる選択性溶剤の分流を
連続的に蒸留しかつ蒸留した溶剤を主溶剤流に戻すこと
が公知である。分流中に含有される重合体を分離するこ
とによって，抽出装置内の選択性溶剤中の重合体濃度を
十分に低く保持し，それにより重合体沈積，ひいては抽
出装置内の閉塞を阻止することができる。しかしながら
。
出蒸留によってブタジェンを得る際に重合体沈積を阻止
するために，循環路内を導ひかれる選択性溶剤の分流を
連続的に蒸留しかつ蒸留した溶剤を主溶剤流に戻すこと
が公知である。分流中に含有される重合体を分離するこ
とによって，抽出装置内の選択性溶剤中の重合体濃度を
十分に低く保持し，それにより重合体沈積，ひいては抽
出装置内の閉塞を阻止することができる。しかしながら
。
戻された選択性溶剤を蒸留により再生することは。
その際に分電すべき不純物の沈殿又は晶出を阻止するた
めに蒸留の塔底生成物と共に取出される貴重な選択性溶
剤の著しい損失を甘受せざるを得ないという欠点を有す
る。この損失は重合抑制剤を使用する際には特に顕著で
ある，それというのも該重合抑制剤は蒸留の際に再生す
べき溶剤から重合体と一緒に除去されかつ屡々特に沈殿
又は晶出の傾向を示すからである。
めに蒸留の塔底生成物と共に取出される貴重な選択性溶
剤の著しい損失を甘受せざるを得ないという欠点を有す
る。この損失は重合抑制剤を使用する際には特に顕著で
ある，それというのも該重合抑制剤は蒸留の際に再生す
べき溶剤から重合体と一緒に除去されかつ屡々特に沈殿
又は晶出の傾向を示すからである。
従って，本発明の課題は，公知方法の作業形成及び経済
性を改善することであった。
性を改善することであった。
ところで、選択性溶剤を用いて１工程もしくは多工程式
で抽出蒸留しかつ夫々の抽出蒸留工程に後続されたスト
リッピング帯域から゛有られた選択性溶剤を抽出蒸留工
程に戻し，その際に戻された選択性溶剤の分流を溶剤再
生工程で，溶剤中に含有された高沸点もしくは非揮発性
の不純物を分離しながら再生しかつ溶剤精製工程から得
られた再生溶剤を同様に戻す形式の，共役ジオレフィン
を含有する０４一父はＣ，一炭化水素混合物から該ジオ
レフィンを収得するための有利な方法が見出され。
で抽出蒸留しかつ夫々の抽出蒸留工程に後続されたスト
リッピング帯域から゛有られた選択性溶剤を抽出蒸留工
程に戻し，その際に戻された選択性溶剤の分流を溶剤再
生工程で，溶剤中に含有された高沸点もしくは非揮発性
の不純物を分離しながら再生しかつ溶剤精製工程から得
られた再生溶剤を同様に戻す形式の，共役ジオレフィン
を含有する０４一父はＣ，一炭化水素混合物から該ジオ
レフィンを収得するための有利な方法が見出され。
該方法は再生すべき溶剤を薄膜式蒸発帯域で再生するこ
とを特徴とする。
とを特徴とする。
本発明方法の有利な実施態様では，再生すべき溶剤を鉛
直に配置された薄膜式蒸発帯域に供給し。
直に配置された薄膜式蒸発帯域に供給し。
該帯域から再生された溶剤を塔頂生成物・とじてかつ高
沸点のかつ非揮発性の不純物を含有する塔底生成物を取
出す。
沸点のかつ非揮発性の不純物を含有する塔底生成物を取
出す。
本発明方法によれは１選択性溶剤の損失を著しく減少さ
せることができる。本方法は特に重合抑制剤を含有する
選択性溶剤を再生するために適当である。それというの
もこの系は例えばニトロ基を含有する重合抑制剤を使用
する場合、濃縮された際に不安定性に基づき自発的分解
が起きないようにする特別の予防処理を必要とすること
があるからである。
せることができる。本方法は特に重合抑制剤を含有する
選択性溶剤を再生するために適当である。それというの
もこの系は例えばニトロ基を含有する重合抑制剤を使用
する場合、濃縮された際に不安定性に基づき自発的分解
が起きないようにする特別の予防処理を必要とすること
があるからである。
本発明の再生は、有利には鉛直に配置され・た薄膜式蒸
発帯域で実施する。このために、一般に鉛直に配置され
ておりかつ有利には鉛直に配置された塔として構成され
ており、その内側面が例えば電気加熱又は加熱液体１例
えば熱水もしくはジフェニル、又は有利には蒸気を用い
た間接的加熱によって加熱可能である薄膜式蒸発器を使
用する。
発帯域で実施する。このために、一般に鉛直に配置され
ておりかつ有利には鉛直に配置された塔として構成され
ており、その内側面が例えば電気加熱又は加熱液体１例
えば熱水もしくはジフェニル、又は有利には蒸気を用い
た間接的加熱によって加熱可能である薄膜式蒸発器を使
用する。
再生すべき選択性溶剤を薄膜式蒸発器の加熱される内側
表面上に良好に分配するためにかつ加熱面上に万一の沈
積物が形成されるのを阻止するために、薄膜式蒸発器の
加熱面を部分的にもしくは有利には全面を擦過する９機
械的に駆動されるワイパーを使用するのが有利なことも
ある。この°場合には、ワイパーを壁に接触させて擦過
させてもよく、或は壁から僅かな距離を置いて１例えば
０．５〜１０龍、有利には０．６〜５朋、特に０．５〜
２ ｍｌの距離を置いて案内することもできる。ワイパ
ーは例えば薄膜式蒸発器内に鉛直に配置−キれた軸に固
定しかつ有利に軸を回転させることに駆動することがで
きる。適当な薄膜式蒸発器は２例えばサムベイ（Ｓａｍ
ｂａｙ ）父はルワ（Ｌｕｗａ ）型ｋＶ ＩＭ式薫蒸
発器して公知である。
表面上に良好に分配するためにかつ加熱面上に万一の沈
積物が形成されるのを阻止するために、薄膜式蒸発器の
加熱面を部分的にもしくは有利には全面を擦過する９機
械的に駆動されるワイパーを使用するのが有利なことも
ある。この°場合には、ワイパーを壁に接触させて擦過
させてもよく、或は壁から僅かな距離を置いて１例えば
０．５〜１０龍、有利には０．６〜５朋、特に０．５〜
２ ｍｌの距離を置いて案内することもできる。ワイパ
ーは例えば薄膜式蒸発器内に鉛直に配置−キれた軸に固
定しかつ有利に軸を回転させることに駆動することがで
きる。適当な薄膜式蒸発器は２例えばサムベイ（Ｓａｍ
ｂａｙ ）父はルワ（Ｌｕｗａ ）型ｋＶ ＩＭ式薫蒸
発器して公知である。
本発明方法のための適当な選択性溶剤は９例えばブチロ
ラクトン、フルフロール、メトキシプロピオニトリル及
び有利にはＮ−アルキル置換された低級脂肪族酸アミド
例えばジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ジエチルアセトアミド父［Ｎ−
ホルミルモルホリン及びＮ−アルキル置換された。５員
環式の脂肪族酸アミド（ラクタム）例えばアルキル基中
に１〜３個の炭素原子を有するＮ ＋、アルキルビｐリ
ドン、特にメチルピロリドンである。前記選択性溶剤の
うちでも、ジメチルホルムアミド及び特にＮ−メチルピ
ロリドンを使用するのが特に有利である。
ラクトン、フルフロール、メトキシプロピオニトリル及
び有利にはＮ−アルキル置換された低級脂肪族酸アミド
例えばジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ジエチルアセトアミド父［Ｎ−
ホルミルモルホリン及びＮ−アルキル置換された。５員
環式の脂肪族酸アミド（ラクタム）例えばアルキル基中
に１〜３個の炭素原子を有するＮ ＋、アルキルビｐリ
ドン、特にメチルピロリドンである。前記選択性溶剤の
うちでも、ジメチルホルムアミド及び特にＮ−メチルピ
ロリドンを使用するのが特に有利である。
溶剤精製工程で再生される。戻される選択性溶剤の分流
は、抽出蒸留に戻される選択性溶剤の足の一般に０．０
１〜５重−％、有利には０．０１〜２重黛％、特に０．
０４〜１重鷲％である。
は、抽出蒸留に戻される選択性溶剤の足の一般に０．０
１〜５重−％、有利には０．０１〜２重黛％、特に０．
０４〜１重鷲％である。
再生工程で選択性溶剤から分離すべき高沸点もしくは非
揮発性の不純物としては、一般に抽出装置内で１例えば
抽出装置に酸素が侵入することにより形成される重合体
９選択性溶剤に添加される重合抑制剤及び／又は場合に
より選択性溶剤に添加される抑泡剤例えばシリコーン油
が該当する。
揮発性の不純物としては、一般に抽出装置内で１例えば
抽出装置に酸素が侵入することにより形成される重合体
９選択性溶剤に添加される重合抑制剤及び／又は場合に
より選択性溶剤に添加される抑泡剤例えばシリコーン油
が該当する。
高沸点の不純物は、一般に少なくとも３００℃、特に少
なくとも４００’Ｃの沸点を有する。
なくとも４００’Ｃの沸点を有する。
選択性溶剤に加えることができる適当な重合抑ｓｔ剤ｔ
ａ、 例＊ばフルフロール、ベンズアＡ／ テヒ）−。
ａ、 例＊ばフルフロール、ベンズアＡ／ テヒ）−。
β−不飽和ニトリル、芳香族メルカプタン、脂肪族ニト
ロ化合物、ケイ皮アルデヒド、アルドール。
ロ化合物、ケイ皮アルデヒド、アルドール。
α−ニトロン−β−ナフトール、イサチン、モルホリン
、脂肪族第３級メルカプタン、アルキルニドリット、メ
チレンブルー、亜硝酸ナトリウム。
、脂肪族第３級メルカプタン、アルキルニドリット、メ
チレンブルー、亜硝酸ナトリウム。
ヒドロキノン、硫黄、フェノール化合物例えば４−ｔ−
ブチルカテコール、芳香族アミン例えばβ−ナフチルア
ミン、芳香族ニトロ化合物例えばニトロベンゼン、ニト
ロナ７タン又は−その核置換された誘導体（ドイツ連邦
共和国特許第１８１６８２６ ＞３明細書）である。
ブチルカテコール、芳香族アミン例えばβ−ナフチルア
ミン、芳香族ニトロ化合物例えばニトロベンゼン、ニト
ロナ７タン又は−その核置換された誘導体（ドイツ連邦
共和国特許第１８１６８２６ ＞３明細書）である。
本発明方法の有利なｌ実施態様では１選択性溶剤の再生
を選択性溶剤をストリッピングするためのストリッピン
グ剤を使用して実施する。この場合には９選択性溶剤に
添加して１例えば選択性溶剤のＯ２−文は０．−炭化水
素選択性を高める及び／又は選択性溶剤の粘度を低下さ
せる及び／又は選択性溶剤の沸点を低下させることによ
り抽出蒸留の際の選択性溶剤の効率を高めるようなスト
リッピング剤を薄膜式蒸発帯域のために使用するのがｆ
ｒ 利である。ストリッピング剤としては、水、又は３
０〜２００℃、有利には４０〜１５０℃、特に４５〜１
２５°Ｃの範囲の沸点を有機溶剤が有利に使用される。
を選択性溶剤をストリッピングするためのストリッピン
グ剤を使用して実施する。この場合には９選択性溶剤に
添加して１例えば選択性溶剤のＯ２−文は０．−炭化水
素選択性を高める及び／又は選択性溶剤の粘度を低下さ
せる及び／又は選択性溶剤の沸点を低下させることによ
り抽出蒸留の際の選択性溶剤の効率を高めるようなスト
リッピング剤を薄膜式蒸発帯域のために使用するのがｆ
ｒ 利である。ストリッピング剤としては、水、又は３
０〜２００℃、有利には４０〜１５０℃、特に４５〜１
２５°Ｃの範囲の沸点を有機溶剤が有利に使用される。
ストリッピング剤は、薄膜式蒸発帯域に供給される。再
生すべき選択性溶剤に添加することができる。ストリッ
ピング剤は、薄膜式蒸発帯域の下方只の位置から供給す
るのが有利であり、この場合に下方％の位置から供給さ
れるストリッピング剤とは別に、薄膜式蒸発帯域に供給
される再生すべき選択性溶剤にストリッピング剤を含有
させることもできる。薄膜式蒸発帯域の下方％の位置か
ら供給されるストリッピング剤は、薄膜式蒸発・；１シ
域の塔底で供給するのが有利である。再生すべき溶剤及
び／又は薄膜式蒸発帯域の下方只の位置から供給される
ストリッピング剤の総量と、再生すべき選択性溶剤の量
との比は一般に１ ： １００〜１ｏｌｌ、有利にはｌ
：５０〜５：ｌ、特に１：２゜〜１：１である。
生すべき選択性溶剤に添加することができる。ストリッ
ピング剤は、薄膜式蒸発帯域の下方只の位置から供給す
るのが有利であり、この場合に下方％の位置から供給さ
れるストリッピング剤とは別に、薄膜式蒸発帯域に供給
される再生すべき選択性溶剤にストリッピング剤を含有
させることもできる。薄膜式蒸発帯域の下方％の位置か
ら供給されるストリッピング剤は、薄膜式蒸発・；１シ
域の塔底で供給するのが有利である。再生すべき溶剤及
び／又は薄膜式蒸発帯域の下方只の位置から供給される
ストリッピング剤の総量と、再生すべき選択性溶剤の量
との比は一般に１ ： １００〜１ｏｌｌ、有利にはｌ
：５０〜５：ｌ、特に１：２゜〜１：１である。
薄膜式蒸発帯域で選択性溶剤を再生するためには、一般
ｖｃＯ〜２２０℃の温度を使用する。薄膜式蒸発帯内で
相異った温度を有する２つの温度帯域を保持する。評言
すれば薄膜式蒸発帯域の塔底では温度を薄膜式蒸発１）
域の加熱イ１１域におけるよりも低く保持するのが特に
有利である。一般には。
ｖｃＯ〜２２０℃の温度を使用する。薄膜式蒸発帯内で
相異った温度を有する２つの温度帯域を保持する。評言
すれば薄膜式蒸発帯域の塔底では温度を薄膜式蒸発１）
域の加熱イ１１域におけるよりも低く保持するのが特に
有利である。一般には。
薄膜式蒸発）１シ域の塔底内を０〜１２０℃、有利には
０〜１００°Ｃ９特に０〜６０℃の温度に保持し、一方
薄膜式蒸発器の加熱諧域内、 ｆ！ＩＪち内側表面が加
熱される薄膜式蒸発器の帯域を３０〜２２０℃、有利に
は５０〜２００℃、特Ｋ ７’Ｏ〜１８Ｑ°Ｃの“温度
に保持するのが有利である。再生は大気圧又は僅かに高
めた圧力で実施する。しかしながら、減圧、一般に１〜
９９０ミリバール、有利には５〜５００ミリバール、特
に１０〜２００ ミＩＪバールの圧力を適用するのが有
利である。
０〜１００°Ｃ９特に０〜６０℃の温度に保持し、一方
薄膜式蒸発器の加熱諧域内、 ｆ！ＩＪち内側表面が加
熱される薄膜式蒸発器の帯域を３０〜２２０℃、有利に
は５０〜２００℃、特Ｋ ７’Ｏ〜１８Ｑ°Ｃの“温度
に保持するのが有利である。再生は大気圧又は僅かに高
めた圧力で実施する。しかしながら、減圧、一般に１〜
９９０ミリバール、有利には５〜５００ミリバール、特
に１０〜２００ ミＩＪバールの圧力を適用するのが有
利である。
薄膜式蒸発帯域から取出された再生された選択性溶剤は
、抽出蒸留に戻す。このためには、戻される選択性溶剤
の主流に供給するのが有利である。
、抽出蒸留に戻す。このためには、戻される選択性溶剤
の主流に供給するのが有利である。
ストリッピング剤を使用する際にストリッピング剤を同
時に選択性溶剤への添加物として使用する場合には、薄
膜式蒸発＃’ｌ’ｉ域から取出された再生された選択性
溶剤中のストリッピング剤のｉ＋ｔのパーセンテージが
、抽出蒸留で使用される選択性溶剤中の添加物の量とほ
ぼ同程度であるような量でストリッピング剤を使用する
のが右利である。一般に、薄膜式蒸発器から取出された
再生された選択性溶剤中のストリッピング剤の含有率は
、抽出蒸留モ使用される選択性溶剤中の添加物の含有率
の最高５倍、有利には２倍かつ少なくとも０．１倍。
時に選択性溶剤への添加物として使用する場合には、薄
膜式蒸発＃’ｌ’ｉ域から取出された再生された選択性
溶剤中のストリッピング剤のｉ＋ｔのパーセンテージが
、抽出蒸留で使用される選択性溶剤中の添加物の量とほ
ぼ同程度であるような量でストリッピング剤を使用する
のが右利である。一般に、薄膜式蒸発器から取出された
再生された選択性溶剤中のストリッピング剤の含有率は
、抽出蒸留モ使用される選択性溶剤中の添加物の含有率
の最高５倍、有利には２倍かつ少なくとも０．１倍。
イｆ利には少なくとも０．５倍である。
薄膜式蒸発計域の塔底から、有利に高沸点もしくは非揮
発性の不純物を含有する塔底生成物が取出され、該塔底
生成物は選択性溶剤を取出された塔底生成物に対して最
高１５重量％、有利には最高１０重量％、特に最高５重
＋ｆｉｔ％含有する。一般には。
発性の不純物を含有する塔底生成物が取出され、該塔底
生成物は選択性溶剤を取出された塔底生成物に対して最
高１５重量％、有利には最高１０重量％、特に最高５重
＋ｆｉｔ％含有する。一般には。
ストリッピング剤を使用する際には、該ストリッピング
剤は同時に取出された塔底生成物のための希釈剤として
使用される。この場合、取出された塔底生成物に対して
ストリッピング剤を５〜９９重量％、有利には１０〜９
８重量％、特に２０〜９８重量％を含有する塔底生成物
を取出するのが有利である。
剤は同時に取出された塔底生成物のための希釈剤として
使用される。この場合、取出された塔底生成物に対して
ストリッピング剤を５〜９９重量％、有利には１０〜９
８重量％、特に２０〜９８重量％を含有する塔底生成物
を取出するのが有利である。
場合によっては、薄膜式蒸発＋＋７域の塔底から取出さ
れた塔底生成物の一部を薄膜式蒸発１）シ域の塔底に向
かう循環路に戻すのが有利である。一般には、薄膜式蒸
発帯域から取出された塔底生成物の量の１〜９９重量％
、有利には５〜９５重量％、特に１０〜９０重量％であ
る分流を塔底に戻す。こ、の操作法により、薄膜式蒸発
帯域内の塔底内での沈殿物の堆積を阻止することができ
る７ 本発明方法において薄膜式蒸発化域内でのストリッピン
グ剤としてかつ／又は抽出蒸留における選択性溶剤への
添加物として使用することができる溶剤は、水及び／又
は３０〜２００℃、有利には５０〜６０℃の範囲の沸点
を有する有機溶剤である。
れた塔底生成物の一部を薄膜式蒸発１）シ域の塔底に向
かう循環路に戻すのが有利である。一般には、薄膜式蒸
発帯域から取出された塔底生成物の量の１〜９９重量％
、有利には５〜９５重量％、特に１０〜９０重量％であ
る分流を塔底に戻す。こ、の操作法により、薄膜式蒸発
帯域内の塔底内での沈殿物の堆積を阻止することができ
る７ 本発明方法において薄膜式蒸発化域内でのストリッピン
グ剤としてかつ／又は抽出蒸留における選択性溶剤への
添加物として使用することができる溶剤は、水及び／又
は３０〜２００℃、有利には５０〜６０℃の範囲の沸点
を有する有機溶剤である。
ストリッピング剤、及び／又は選択性溶剤への添加剤と
して使用すべき適当な有機溶剤は、３０〜２００℃の範
囲の沸点を有する例えはニトリル、脂肪族もしくは脂環
式エーテル、低級脂肪族カルシボン酸エステル又ｔｒｉ
炭Ｈエステル、アミン、アルコール、脂肪族ケトン、
エーテルアミン、脂肪族酸アミドである。ニトリルとし
ては１例えばブチロニトリル、プロピオニトリル及び有
利にはアセトニトリルカニ該当する。脂肪族エーテルと
しては。
して使用すべき適当な有機溶剤は、３０〜２００℃の範
囲の沸点を有する例えはニトリル、脂肪族もしくは脂環
式エーテル、低級脂肪族カルシボン酸エステル又ｔｒｉ
炭Ｈエステル、アミン、アルコール、脂肪族ケトン、
エーテルアミン、脂肪族酸アミドである。ニトリルとし
ては１例えばブチロニトリル、プロピオニトリル及び有
利にはアセトニトリルカニ該当する。脂肪族エーテルと
しては。
例えば一般式： Ｒ−０−Ｒ’で示される対称もしくは
非対称のエーテルが該当し、該式中一般に脂肪族基Ｒは
１〜６個、有利には１〜５個の炭素原子を有する炭化水
素基でありかつ脂肪族基Ｒ′は２〜６個、有利には２〜
５個の炭素原子を有する炭化水素基である。両者の炭化
水素基の炭素原子の総数は、４〜１２．特に５〜１０で
あるのが有利である。適当な基Ｒ及びＲ′は１例えばエ
チル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、インブチル基、ｔ−ブチル基、アミル基例えばｔ−
アミル基、ヘキシル基であり、この場合Ｒは付加的にメ
チル基を表わすことができる。適当なエーテルは１例え
ば対称的エーテル例えばジエチルエーテル、ジ−ｎ−プ
ロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ−ｎ−ブ
チルエーテル、ジイソブチルエーテル、並びに有利にば
４非対称的エーテル例えばメチル−ｎ−ブチルエーテル
、メチル−ｔ−ブチルエーテル、エチル−ｔ−ブチルエ
ーテル、ｎ−プロピル−ｔ−ブチルエーテル、イソプロ
ピル−ｔ−ブチルエーテル、インブチル−ｔ−ブチルエ
ーテル、ｎ−ブチル−ｔ−ブチルエーテル、メチル−ｔ
−アミルエーテル、エチル−ｔ−アミルエーテル、ｎ−
プロピル−ｔ−アミルエーテル、エチル−イソプロピル
エーテル、ｎ−１０ピル−イソプロピルエーテル、ｎ−
ブチル−イソプロピルエーテル、インプチルーイ、、″
Ｊ１．プロピルエーテル、エチル−ｎ−ブチルエーテル
である。非対称的エーテルの内でも、基ｉ＝ ｔ−アミ
ルＪ、Ｉ；又は特にｔ−ブチル基であるものを使用する
のが特に有利である。その他の適当な脂肪族エーテルは
。
非対称のエーテルが該当し、該式中一般に脂肪族基Ｒは
１〜６個、有利には１〜５個の炭素原子を有する炭化水
素基でありかつ脂肪族基Ｒ′は２〜６個、有利には２〜
５個の炭素原子を有する炭化水素基である。両者の炭化
水素基の炭素原子の総数は、４〜１２．特に５〜１０で
あるのが有利である。適当な基Ｒ及びＲ′は１例えばエ
チル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、インブチル基、ｔ−ブチル基、アミル基例えばｔ−
アミル基、ヘキシル基であり、この場合Ｒは付加的にメ
チル基を表わすことができる。適当なエーテルは１例え
ば対称的エーテル例えばジエチルエーテル、ジ−ｎ−プ
ロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ−ｎ−ブ
チルエーテル、ジイソブチルエーテル、並びに有利にば
４非対称的エーテル例えばメチル−ｎ−ブチルエーテル
、メチル−ｔ−ブチルエーテル、エチル−ｔ−ブチルエ
ーテル、ｎ−プロピル−ｔ−ブチルエーテル、イソプロ
ピル−ｔ−ブチルエーテル、インブチル−ｔ−ブチルエ
ーテル、ｎ−ブチル−ｔ−ブチルエーテル、メチル−ｔ
−アミルエーテル、エチル−ｔ−アミルエーテル、ｎ−
プロピル−ｔ−アミルエーテル、エチル−イソプロピル
エーテル、ｎ−１０ピル−イソプロピルエーテル、ｎ−
ブチル−イソプロピルエーテル、インプチルーイ、、″
Ｊ１．プロピルエーテル、エチル−ｎ−ブチルエーテル
である。非対称的エーテルの内でも、基ｉ＝ ｔ−アミ
ルＪ、Ｉ；又は特にｔ−ブチル基であるものを使用する
のが特に有利である。その他の適当な脂肪族エーテルは
。
例、ｔ ハエチレングリコールモノメチルエーテル並び
に有利にはエチレングリコール父はｌ、２−プロピレン
グリコールのジアルキルエーテル例えばエチレングリコ
ール−ジメチルエーテル、−ジエチルエーテル、−メチ
ルエチルエーテル、−メチルイソプロピルニー尤ル、１
．２−プロピレングリコール−ジメチルエーテルである
。脂環式エーテルとしては１例えば２−メチルテトラヒ
ドロフラン、３−、メチルテトラヒドロフラン、ｌ、４
−ジオキサン、テトラヒドロフラン及び有利にはテトラ
ヒドロフランが該当する。低級脂肪族カルボン酸エステ
ルとしては１例えば一般に１〜４個。
に有利にはエチレングリコール父はｌ、２−プロピレン
グリコールのジアルキルエーテル例えばエチレングリコ
ール−ジメチルエーテル、−ジエチルエーテル、−メチ
ルエチルエーテル、−メチルイソプロピルニー尤ル、１
．２−プロピレングリコール−ジメチルエーテルである
。脂環式エーテルとしては１例えば２−メチルテトラヒ
ドロフラン、３−、メチルテトラヒドロフラン、ｌ、４
−ジオキサン、テトラヒドロフラン及び有利にはテトラ
ヒドロフランが該当する。低級脂肪族カルボン酸エステ
ルとしては１例えば一般に１〜４個。
有利には１〜３個の炭素原子を有する低級モノカルボン
酸例えば蟻酸、酢酸、プロピオン酸又は２〜３個の炭素
原子を有するジカルボン酸例えば修酸又はマロン酸、か
ら誘導されるものが該当する。
酸例えば蟻酸、酢酸、プロピオン酸又は２〜３個の炭素
原子を有するジカルボン酸例えば修酸又はマロン酸、か
ら誘導されるものが該当する。
アルコール成分は、一般に有利には１〜６個、特に１〜
４個の炭素原子を有する一価のアルコール例えばメタノ
ール、エタノール、プロパツール。
４個の炭素原子を有する一価のアルコール例えばメタノ
ール、エタノール、プロパツール。
インプロパツール、ｎ−ブタノール、イソブタノール又
は一般に２又は３個の炭素原子を有する二価のアルコー
ル例えばエチレングリコール、１゜２−プロピレングリ
フールから誘導される。適当な低級脂肪族カルボン酸エ
ステルは１例えば蟻酸メチルエステル、蟻酸エチルエス
テル、蟻酸プロピルエステル、蟻酸イソプロピルエステ
ル、蟻酸ブチルエステル、蟻酸イソブチルエステル、蟻
酸アミルエステル、酢酸エステ、ル例えば酢酸メチルエ
ステル、酢酸エチルエステル、酢酸ブチルエステル、エ
チレングリコールジアセテート、プロピオン酸エチルエ
ステル、プロピオン酸アミルエステル、マロン酸ジメチ
ルエステル、修酸ジエチルエステルである。炭酸エステ
ルとしては０例えば炭酸メチルエチルエステル、炭酸ジ
メチルニスデル、炭酸ジプチルエステルが該当する。ア
ミンとしては９例えば４〜５個の炭素原紙？有する脂肪
族炭化水素基を有する第１級脂肪族アミン例えばｎ−ブ
チルアミン、Ｓ−ブチルアミン、イソブチルアミン、ｎ
−アミルアミン、イソアミルアミン。
は一般に２又は３個の炭素原子を有する二価のアルコー
ル例えばエチレングリコール、１゜２−プロピレングリ
フールから誘導される。適当な低級脂肪族カルボン酸エ
ステルは１例えば蟻酸メチルエステル、蟻酸エチルエス
テル、蟻酸プロピルエステル、蟻酸イソプロピルエステ
ル、蟻酸ブチルエステル、蟻酸イソブチルエステル、蟻
酸アミルエステル、酢酸エステ、ル例えば酢酸メチルエ
ステル、酢酸エチルエステル、酢酸ブチルエステル、エ
チレングリコールジアセテート、プロピオン酸エチルエ
ステル、プロピオン酸アミルエステル、マロン酸ジメチ
ルエステル、修酸ジエチルエステルである。炭酸エステ
ルとしては０例えば炭酸メチルエチルエステル、炭酸ジ
メチルニスデル、炭酸ジプチルエステルが該当する。ア
ミンとしては９例えば４〜５個の炭素原紙？有する脂肪
族炭化水素基を有する第１級脂肪族アミン例えばｎ−ブ
チルアミン、Ｓ−ブチルアミン、イソブチルアミン、ｎ
−アミルアミン、イソアミルアミン。
ｔ−アミルアミン、６−ｎ−アミルアミン、４〜６個の
炭素原子を有する脂肪族炭化水素基をイｊする第２級脂
肪族アミン例えばジエチルアミン、ジプロピルアミン、
ジイソプロピルアミン、ピリジン、計・５〜６個の炭素
原子を有する脂肪族炭化水素基を有する第３級脂肪族ア
ミン例えばＮ、Ｎ−ジメチルイソブチルアミン、トリエ
チルアミンが該当する。適当なアルコールは９例えば１
〜５個の炭素原子を有するもの例えばメタノール、エタ
ノール、プロパツール、インプロパツール、プタノール
、イソブタノ−）ル又はｔ−アミルアルコールであり、
この場合インプロパツールが有利である。ケトンとして
は１例えば計３〜５の炭素原子ヲ有スる脂肪族ケトン□
例えばアセトン、メチルエチルケトン、ジエチル゛ケト
ン、メチルプロピルケトンが該当する。適当なエーテル
アミンは１例えば計３〜４個の炭素原子を有するアルコ
キシアルキルアミン例えば２−メトキシエチルアミン、
２−エトキシエチルアミ１ン、３−メトキシエチルアミ
ンである。脂肪族１酸アミドとしては１例えば 。
炭素原子を有する脂肪族炭化水素基をイｊする第２級脂
肪族アミン例えばジエチルアミン、ジプロピルアミン、
ジイソプロピルアミン、ピリジン、計・５〜６個の炭素
原子を有する脂肪族炭化水素基を有する第３級脂肪族ア
ミン例えばＮ、Ｎ−ジメチルイソブチルアミン、トリエ
チルアミンが該当する。適当なアルコールは９例えば１
〜５個の炭素原子を有するもの例えばメタノール、エタ
ノール、プロパツール、インプロパツール、プタノール
、イソブタノ−）ル又はｔ−アミルアルコールであり、
この場合インプロパツールが有利である。ケトンとして
は１例えば計３〜５の炭素原子ヲ有スる脂肪族ケトン□
例えばアセトン、メチルエチルケトン、ジエチル゛ケト
ン、メチルプロピルケトンが該当する。適当なエーテル
アミンは１例えば計３〜４個の炭素原子を有するアルコ
キシアルキルアミン例えば２−メトキシエチルアミン、
２−エトキシエチルアミ１ン、３−メトキシエチルアミ
ンである。脂肪族１酸アミドとしては１例えば 。
ジメチルホルムアミド１．ジエチルホルムアミドが該当
する。有機溶剤の゛うちでは、エステル、ジメチルホル
ムアミド、有利にはニトリル、特に脂肪族もしくは脂環
式エーテルを使用するのが有利である。
する。有機溶剤の゛うちでは、エステル、ジメチルホル
ムアミド、有利にはニトリル、特に脂肪族もしくは脂環
式エーテルを使用するのが有利である。
有機溶剤を選択性溶剤への添加物として使用する場合に
は、添加溶剤と選択性溶剤の溶剤混合物は、添加溶剤を
一般に１〜５０重量％、有利には２〜２５重量％、特に
２〜２０重量％含有する。相応して、溶剤混合物は選択
性溶剤を一般に５０〜９９Ｍ量％、有利には７５〜９８
重量％、特許８０〜９７Ｉｒ！。
は、添加溶剤と選択性溶剤の溶剤混合物は、添加溶剤を
一般に１〜５０重量％、有利には２〜２５重量％、特に
２〜２０重量％含有する。相応して、溶剤混合物は選択
性溶剤を一般に５０〜９９Ｍ量％、有利には７５〜９８
重量％、特許８０〜９７Ｉｒ！。
量％を含有する。本発明では、添加物溶剤を５〜１５重
量％含有する溶剤混合物を使用するのが特に有利である
。溶剤混合物は、低い含水率１例えば１０重量％までを
有することができる。しかしながら、含水率は溶剤混合
物に対して最高５重量％。
量％含有する溶剤混合物を使用するのが特に有利である
。溶剤混合物は、低い含水率１例えば１０重量％までを
有することができる。しかしながら、含水率は溶剤混合
物に対して最高５重量％。
有利には最高３重量％までに制限するのが有利である。
しかしながら、実質的に無水で、即ち溶剤混合物に対し
て最高１重量％、有利には最高０．５重量％、特に最高
０．１重量−の含水率で操作するのが有利なこともある
。更に９例えばアセトニトリルのように水と共沸混合物
を形成する添加溶剤を使用する−には、溶剤混合物中に
含有される有機溶剤に対して、はぼ水と有機溶剤との共
沸混合物比に相当する含水率を有する溶剤混合物を使用
するのが有利なこともある。本発明の溶剤混合物に水を
添加する際及び添加溶剤としてアセトニトリルを使用す
る際には、溶剤混合物中の水とアセトニトリルとの重量
比は有利には１：３〜１：９゜特にｌ：４〜ｌ：８であ
る。
て最高１重量％、有利には最高０．５重量％、特に最高
０．１重量−の含水率で操作するのが有利なこともある
。更に９例えばアセトニトリルのように水と共沸混合物
を形成する添加溶剤を使用する−には、溶剤混合物中に
含有される有機溶剤に対して、はぼ水と有機溶剤との共
沸混合物比に相当する含水率を有する溶剤混合物を使用
するのが有利なこともある。本発明の溶剤混合物に水を
添加する際及び添加溶剤としてアセトニトリルを使用す
る際には、溶剤混合物中の水とアセトニトリルとの重量
比は有利には１：３〜１：９゜特にｌ：４〜ｌ：８であ
る。
本発明に基づき選択性溶剤として使用すべき溶剤混合物
を使用して共役ジオレフィンを含有するＣ４−父はＣ３
−炭化水素混合物ふら該ジオレフィンを収得するには、
自体公知の方法（例えばドイツ連邦共和国特許第１１８
４３３４弓°、同国特許出願公告第１５６８８７６号、
同国特許出願公告筒１５６８９０２り明細、１シ参照）
に基づき１工程もしくは多工程式の。
を使用して共役ジオレフィンを含有するＣ４−父はＣ３
−炭化水素混合物ふら該ジオレフィンを収得するには、
自体公知の方法（例えばドイツ連邦共和国特許第１１８
４３３４弓°、同国特許出願公告第１５６８８７６号、
同国特許出願公告筒１５６８９０２り明細、１シ参照）
に基づき１工程もしくは多工程式の。
イｊ°利には１工程もしくは２工程式の抽出蒸留によっ
て行なう。Ｃ４−又はＣ３−炭化水素混合物からの共役
ジオレフィン例えば１．３−ブタジェン、イソプレン及
び１．３−ペンタジェンの１ｔＸ（４Ｒ，例えば以下の
方法で、即ち共役したジオレフィンよりも易溶性の炭化
水素及び共役したジオレフィンよりも難溶性の炭化水素
を含有するＣ４−又はＯ，−炭化水素混合物を１本発明
に基づき使用すべき溶剤混合物を用いる抽出蒸留にかけ
、その際に難溶性炭化水素を含有する留出物と、共役ジ
オレフィン及び可溶性炭化水素及び選１ｊり性溶剤を含
有する抽出物を分離する形式で行なう。抽出物から、共
役ジオレフィンを粗製生成物として単離することができ
、該粗製生成物は多くの使用目的にとっては十分な純度
を有しているが、（１！ｌ、更に別の精製操作１例えば
分留にかけることもできる。しかしながら１本発明に基
づき使用すべき溶剤混合物を用いて２つの直列接続され
た抽出蒸留」−程を使用して共役ジオレフィンを取得す
るのが有利である。
て行なう。Ｃ４−又はＣ３−炭化水素混合物からの共役
ジオレフィン例えば１．３−ブタジェン、イソプレン及
び１．３−ペンタジェンの１ｔＸ（４Ｒ，例えば以下の
方法で、即ち共役したジオレフィンよりも易溶性の炭化
水素及び共役したジオレフィンよりも難溶性の炭化水素
を含有するＣ４−又はＯ，−炭化水素混合物を１本発明
に基づき使用すべき溶剤混合物を用いる抽出蒸留にかけ
、その際に難溶性炭化水素を含有する留出物と、共役ジ
オレフィン及び可溶性炭化水素及び選１ｊり性溶剤を含
有する抽出物を分離する形式で行なう。抽出物から、共
役ジオレフィンを粗製生成物として単離することができ
、該粗製生成物は多くの使用目的にとっては十分な純度
を有しているが、（１！ｌ、更に別の精製操作１例えば
分留にかけることもできる。しかしながら１本発明に基
づき使用すべき溶剤混合物を用いて２つの直列接続され
た抽出蒸留」−程を使用して共役ジオレフィンを取得す
るのが有利である。
この場合には１例えば既述のように、抽出蒸留の第１工
程で難溶性炭化水素を含有する留出物と。
程で難溶性炭化水素を含有する留出物と。
易溶性炭化水素及び選択性溶剤を含有する抽出物とを分
離する。この抽出物からストリッピング：ｔ′Ｉ域内で
選択性溶剤を除去する。゛この場合共役ジオレフィン及
び可溶性炭化水素から成る混合物が得られる。この混合
物を選択性溶剤を用いる第２ Ｊｌｉ＋出蒸留にかける
。この場合蒸留物としての共役ジオレフィンと、易溶性
炭化水素及び選択性溶ｆ（すを含有する抽出物とが得ら
れる。得られた抽出物から、引続きストリッピング＋ｌ
ｋ域で選択１１ミ溶剤を除去する。この場合易溶性炭化
水素を含イ１゛する４’Ｊ２化水素流が得られる。
離する。この抽出物からストリッピング：ｔ′Ｉ域内で
選択性溶剤を除去する。゛この場合共役ジオレフィン及
び可溶性炭化水素から成る混合物が得られる。この混合
物を選択性溶剤を用いる第２ Ｊｌｉ＋出蒸留にかける
。この場合蒸留物としての共役ジオレフィンと、易溶性
炭化水素及び選択性溶ｆ（すを含有する抽出物とが得ら
れる。得られた抽出物から、引続きストリッピング＋ｌ
ｋ域で選択１１ミ溶剤を除去する。この場合易溶性炭化
水素を含イ１゛する４’Ｊ２化水素流が得られる。
本発明方法のための出発混合物として適当である、共役
ジオレフィンを含イ１する炭化水素混合物としては１石
油フラクション（例えばＬＰＧ 、ナフサ等）の熱分解
によって得られるＣ１−又はＣ６−フラクション、ｎ−
ブタン及び／又はｎ−ブテンの脱水素化によって得られ
るフラクション、及びインベンクン及び／又はインアミ
レンの脱水素化により得られたイソプレンを含有するフ
ラクションを使用することができる。一般に、０４−炭
化水素混合物は、共役ジオレフィンとしての１，３−ブ
タジェン、ブタン、ｎ−ブテン、イソブチン、ビニルア
セチレン、エチルアセチ、レン、ｌ、２−ブタジェン及
び場合により少＋ｒｋのＣ３−及び／又は偽−炭化水素
を含有する。−一炭化水素混合物は。
ジオレフィンを含イ１する炭化水素混合物としては１石
油フラクション（例えばＬＰＧ 、ナフサ等）の熱分解
によって得られるＣ１−又はＣ６−フラクション、ｎ−
ブタン及び／又はｎ−ブテンの脱水素化によって得られ
るフラクション、及びインベンクン及び／又はインアミ
レンの脱水素化により得られたイソプレンを含有するフ
ラクションを使用することができる。一般に、０４−炭
化水素混合物は、共役ジオレフィンとしての１，３−ブ
タジェン、ブタン、ｎ−ブテン、イソブチン、ビニルア
セチレン、エチルアセチ、レン、ｌ、２−ブタジェン及
び場合により少＋ｒｋのＣ３−及び／又は偽−炭化水素
を含有する。−一炭化水素混合物は。
一般にイソプレン、トランス−及びシス−１，３−ペン
タジェン及びシクロペンタジェンを共役ジオレフィンと
して並びにペンタン、ｎ−ペンテン。
タジェン及びシクロペンタジェンを共役ジオレフィンと
して並びにペンタン、ｎ−ペンテン。
インアミレン、シクロペンテン、高級アセチレンを含有
すみ。
すみ。
例えばＣ４−フラクションの抽出蒸留によりまずブタン
及びブテンを含有する留出物並びに１． ３−ブタジェ
ン、エチレンアセチレン、ビニルアセチレン及びｌ、２
−ブタジェンを含イ１゛する抽出物が生成し、該抽出物
は別の抽出蒸留にかけると。
及びブテンを含有する留出物並びに１． ３−ブタジェ
ン、エチレンアセチレン、ビニルアセチレン及びｌ、２
−ブタジェンを含イ１゛する抽出物が生成し、該抽出物
は別の抽出蒸留にかけると。
留出物、とじてｌ、３−ブタジェンを提供し、一方抽出
物はエチレンアセチレン、ビニルアセチレン及び１，２
−ブタジェンを含有する。エチレンアセチレン、ビニル
アセチレン及び↓゛−２−ブタジェンを含有する抽出物
から、゛これらの炭化水素を排気装置で分離しかつ一排
気した溶剤を抽出蒸留に戻す。その留出物として得られ
たｌ、３−ブタジェンを、引続き場合によりなお存在す
る極めて少量の０３−及び／又はＣ３−炭化水素を分離
するために別留にかけることができる。
物はエチレンアセチレン、ビニルアセチレン及び１，２
−ブタジェンを含有する。エチレンアセチレン、ビニル
アセチレン及び↓゛−２−ブタジェンを含有する抽出物
から、゛これらの炭化水素を排気装置で分離しかつ一排
気した溶剤を抽出蒸留に戻す。その留出物として得られ
たｌ、３−ブタジェンを、引続き場合によりなお存在す
る極めて少量の０３−及び／又はＣ３−炭化水素を分離
するために別留にかけることができる。
添付図面には１本発明方法の１実施例の系統図、が示さ
れており、該図面につき本発明方法を説明する。
れており、該図面につき本発明方法を説明する。
再生すべき選択性□溶剤９例えばＣ４−炭化水素混合物
からブタジェンを得るための装置から得られたＮ−メチ
ルピロリドン及び水５〜１５小：１１【％から成る混合
物は、導管１を介して塔槽の薄膜式蒸発８；９２に供給
されかつモータ８によって駆動されるワイパー９により
薄膜式蒸発器の加熱ｉｉ′ｆ域３の加熱される内側面−
Ｌに分配されかつ蒸発せしめられる。加熱面の加熱は、
ｆｉｌｌ接的に水蒸気が導管６を介して加熱ジャケッ
ト５に導入されることにより行なわれる。液状の凝縮物
は上記ジャケットから導管７を介して“取出される。導
管１１を介して、薄膜式蒸発器の塔底４にス） ＩＪッ
ピング剤例えば水が供給され、該ストリッピング剤は塔
底生成物からなお存在する残留量の選択性溶剤を追出し
かつ同時に塔底生成物のための希釈剤として役立つ。
からブタジェンを得るための装置から得られたＮ−メチ
ルピロリドン及び水５〜１５小：１１【％から成る混合
物は、導管１を介して塔槽の薄膜式蒸発８；９２に供給
されかつモータ８によって駆動されるワイパー９により
薄膜式蒸発器の加熱ｉｉ′ｆ域３の加熱される内側面−
Ｌに分配されかつ蒸発せしめられる。加熱面の加熱は、
ｆｉｌｌ接的に水蒸気が導管６を介して加熱ジャケッ
ト５に導入されることにより行なわれる。液状の凝縮物
は上記ジャケットから導管７を介して“取出される。導
管１１を介して、薄膜式蒸発器の塔底４にス） ＩＪッ
ピング剤例えば水が供給され、該ストリッピング剤は塔
底生成物からなお存在する残留量の選択性溶剤を追出し
かつ同時に塔底生成物のための希釈剤として役立つ。
加熱帯域３内では、塔底４よりも高い温度が保持される
１例えば薄膜式蒸留器の加熱帯域内の温度は１２０〜１
５０℃にかつ塔底の湿度は例えば１０〜５０℃に保持さ
れる。薄膜式蒸発、器は減圧下で、−例えハエ０〜８０
ミリバールの圧力下で運転される。薄膜式蒸発器の頂部
から、気化した選択性溶剤及び場合により気化した選択
性溶剤への添加物例えば水、並びに気化したス） ＩＪ
ツビング剤例えば水が導管１０から取出されかつ冷却器
１２内で凝集される。高沸点もしくは１１１発性の不純
物を訴まない凝集物は、冷却器１２から導管１４を介し
て容器１５にかつそこから導管１６を介してブタジェン
収得装置ｉ＝７に戻される。微足の選択性溶剤及びその
他の揮発性生成物は、真空系１７への途中でｒ ′Ｊ４
Ｊ ＩＩ：’ｉ’ ｌ ８を介して洗浄剤例えば水が供
給される塔１３内で引き留められる。薄膜式蒸発器の底
に、全七の不純物がなお液状の圧送可能な相で回収され
る。塔底内での液状状態は、有利には位１６の調節可能
に、一般に加熱帯域３の下方縁に接続されることにより
保持される。これにより不純物の晶出又は沈殿を阻止す
ることができる。塔底生成物は液状の形で導４゛；・１
９を介して取出きれ、この際に選択性溶剤は該塔底生成
物から導管１１を介して供給される水又は４１″機溶剤
によって完全ｔｌ’Ｈ出されかつ塔底生成物は同時に供
給された水又は有機溶剤によって希釈される。場合によ
、す、取出された塔底生成物の分流を導管２０を介して
塔底４に戻すのが有利である。
１例えば薄膜式蒸留器の加熱帯域内の温度は１２０〜１
５０℃にかつ塔底の湿度は例えば１０〜５０℃に保持さ
れる。薄膜式蒸発、器は減圧下で、−例えハエ０〜８０
ミリバールの圧力下で運転される。薄膜式蒸発器の頂部
から、気化した選択性溶剤及び場合により気化した選択
性溶剤への添加物例えば水、並びに気化したス） ＩＪ
ツビング剤例えば水が導管１０から取出されかつ冷却器
１２内で凝集される。高沸点もしくは１１１発性の不純
物を訴まない凝集物は、冷却器１２から導管１４を介し
て容器１５にかつそこから導管１６を介してブタジェン
収得装置ｉ＝７に戻される。微足の選択性溶剤及びその
他の揮発性生成物は、真空系１７への途中でｒ ′Ｊ４
Ｊ ＩＩ：’ｉ’ ｌ ８を介して洗浄剤例えば水が供
給される塔１３内で引き留められる。薄膜式蒸発器の底
に、全七の不純物がなお液状の圧送可能な相で回収され
る。塔底内での液状状態は、有利には位１６の調節可能
に、一般に加熱帯域３の下方縁に接続されることにより
保持される。これにより不純物の晶出又は沈殿を阻止す
ることができる。塔底生成物は液状の形で導４゛；・１
９を介して取出きれ、この際に選択性溶剤は該塔底生成
物から導管１１を介して供給される水又は４１″機溶剤
によって完全ｔｌ’Ｈ出されかつ塔底生成物は同時に供
給された水又は有機溶剤によって希釈される。場合によ
、す、取出された塔底生成物の分流を導管２０を介して
塔底４に戻すのが有利である。
次に実施例により本発明を、１η細に説明する。
実施例１
攪拌機を備えた連続的に作業する簿膜式蒸発器で、ブタ
ジェン装置の戻される溶剤流から取出した。水９．５重
量％及び非揮発性不純物０．２重量％を含有するＮ−メ
チルピロリドン（ＮＭＰ 、） １２００’ｇ／ｈを１
４０℃の温度でかつ４０ミリバールの減圧及び２０Ｏｒ
ｐｍの撹拌機回転数で再生した。３０℃の湿度に保持し
た薄膜式蒸発器の塔底に、水６０ｇ／ｈを供給し、該水
を同時にＮＭＰのための３ドリツピング剤としてかつ塔
底生成物のための希釈剤として利用した。留出物として
、含水率１０．１重量％を有する純粋なＮＭＰが得られ
た。取出された塔底生成物は、全ての非揮発性不純物及
びＮＭＰの残留含有率０．５３重門外を含有していた。
ジェン装置の戻される溶剤流から取出した。水９．５重
量％及び非揮発性不純物０．２重量％を含有するＮ−メ
チルピロリドン（ＮＭＰ 、） １２００’ｇ／ｈを１
４０℃の温度でかつ４０ミリバールの減圧及び２０Ｏｒ
ｐｍの撹拌機回転数で再生した。３０℃の湿度に保持し
た薄膜式蒸発器の塔底に、水６０ｇ／ｈを供給し、該水
を同時にＮＭＰのための３ドリツピング剤としてかつ塔
底生成物のための希釈剤として利用した。留出物として
、含水率１０．１重量％を有する純粋なＮＭＰが得られ
た。取出された塔底生成物は、全ての非揮発性不純物及
びＮＭＰの残留含有率０．５３重門外を含有していた。
即ち選択性溶剤は９９．９％まで回収された。
実施例１記載と同様に操作したが、この場合には下記表
に記載の出発混合物を横用して該表に記載の結果が得ら
れた。
に記載の出発混合物を横用して該表に記載の結果が得ら
れた。
実施例ダ
連続的に作業する薄膜式蒸発器内で、実施例１の条件に
相応して、ブタジェン抽出装置から得られた水９．５重
量％及び非揮発性不純物０．２重量％を含有するＮ−メ
チルピロリドン（ＮＭＰ ） ３２０ ｋｙ／ｈを薄膜
式蒸発器の塔底に水１２．３ｋｇ／ｈを供給しながら再
生した。この際に、 Ｎ”ＭＰ ０．０５５ ｋｆ／
ｈ及び非揮発性不純物０．６４ｋｊＬ／ｈを含有する
塔底生成物が得られた。ＮＭＰは９９．９％まで回収さ
れた。
相応して、ブタジェン抽出装置から得られた水９．５重
量％及び非揮発性不純物０．２重量％を含有するＮ−メ
チルピロリドン（ＮＭＰ ） ３２０ ｋｙ／ｈを薄膜
式蒸発器の塔底に水１２．３ｋｇ／ｈを供給しながら再
生した。この際に、 Ｎ”ＭＰ ０．０５５ ｋｆ／
ｈ及び非揮発性不純物０．６４ｋｊＬ／ｈを含有する
塔底生成物が得られた。ＮＭＰは９９．９％まで回収さ
れた。
図面は本発明方法の１実施例を実施する装置の系統図で
ある。 ２・・・・・・薄膜式蒸発器、３・・・・・・加熱装置
、４・・・・・塔底、５・・・・・加熱ジャナツト、９
・・・・・・ワイパー。 １２・・・・・・冷却器、 １３・・・・・・塔、１
７・・・・・・真空系特許出願人 パスフ ァクチ
ェンゲゼルシャフト代理人弁理士 １）代 蒸 治
ある。 ２・・・・・・薄膜式蒸発器、３・・・・・・加熱装置
、４・・・・・塔底、５・・・・・加熱ジャナツト、９
・・・・・・ワイパー。 １２・・・・・・冷却器、 １３・・・・・・塔、１
７・・・・・・真空系特許出願人 パスフ ァクチ
ェンゲゼルシャフト代理人弁理士 １）代 蒸 治
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （／１選択性溶剤を用いてｌ工程もしくは多工程式で抽
出蒸留しかつ夫々の抽出蒸留工程に後続されたストリッ
ピング帯域から得られた選択性溶剤を抽出蒸留工程に戻
し、その際に戻された選択性溶剤の分流を溶剤再生工程
で、溶剤中に含有された高沸点もしくは非揮発性の不純
物を分離しながら再生しかつ溶剤精製工程から得られた
再生溶剤を同様に戻す形式の、共役ジオレフィンを含有
するＣ４−又は−一炭化水素混合物から該ジオレフィン
を収得する方法において、再生すべき溶剤を薄膜式蒸発
帯域で再生することを特徴とする。０１−又はら−炭化
水素混合物から共役ジオレフィンを収得する方法。 （４）再生すべき選択性溶剤を鉛直に配置された薄膜式
蒸発帯域の上方％の位置から供給し、該帯域から再生さ
れた溶剤を塔頂生成物上してかつ高沸点もしくは非揮発
性の不純物を含有する塔底生成物を取出す、特許請求の
範囲第１項記載の方法。 （３）選択性溶剤の再生をストリッピング剤を使用して
行なう、特許請求の範囲第１項又は第２項記載の方法。 （４’）ストリッピング剤を薄膜式蒸発帯域の下方↓イ
の位置から供給する。特許請求の範吸第３項記載の方法
。 （ｊ）ストリッピング剤を薄膜式蒸発帯域の塔底に供給
する。特許請求の範囲第３項又は第μ項記載の方法。 （６）ストリッピング剤として水又ハ３０〜２００℃の
範囲の沸点を有する有機溶斧ｊを特徴する特許８１′７
求の範囲第１項〜第ｊ項のいずれか１項に記載の方法。 （７）薄膜蒸発帯域の塔底から取出された塔底生成物の
一部を薄膜式蒸発帯域の塔底へ向かう循環路に戻す、特
許請求の範囲第１項〜第６項のいずれか１項に記載の方
法。 （ｌｒ）再生を鉛直に配置された薄膜式蒸発器内で。 かつ薄膜式蒸発器の内壁を擦過する１機械的に駆動され
るワイパーを使用して実施する。特許請求の範囲第１項
〜第７項のいずれか１項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19813119540 DE3119540A1 (de) | 1981-05-16 | 1981-05-16 | Verfahren zur gewinnung eines konjugierten diolefinsaus einem c(pfeil abwaerts)4(pfeil abwaerts)- oder c(pfeil abwaerts)5(pfeil abwaerts)-kohlenwasserstoffgemisch |
| DE3119540.7 | 1981-05-16 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5832685A true JPS5832685A (ja) | 1983-02-25 |
| JPH0245672B2 JPH0245672B2 (ja) | 1990-10-11 |
Family
ID=6132492
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57078499A Granted JPS5832685A (ja) | 1981-05-16 | 1982-05-12 | Ｃ↓４‐又はｃ↓５‐酸化水素混合物から共役ジオレフインを収得する方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0065194B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5832685A (ja) |
| AT (1) | ATE9683T1 (ja) |
| CA (1) | CA1182774A (ja) |
| DE (2) | DE3119540A1 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6191302U (ja) * | 1984-11-20 | 1986-06-13 | ||
| WO1998040448A1 (fr) * | 1997-03-11 | 1998-09-17 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Procede de preparation de diene conjugue purifie |
| WO2003031377A1 (fr) * | 2001-09-28 | 2003-04-17 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Procede de separation/purification de diene conjugue et appareil associe |
| JP2008535914A (ja) * | 2005-04-13 | 2008-09-04 | エクイスター ケミカルズ、 エルピー | ブタジエンの溶媒抽出 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3710434A1 (de) * | 1987-03-28 | 1988-10-06 | Basf Ag | Verfahren zur gewinnung von 1,3-butadien |
| DE4131938A1 (de) * | 1991-09-25 | 1993-04-01 | Krupp Koppers Gmbh | Verfahren zur aufarbeitung des sumpfproduktes einer extraktivdestillation zur gewinnung reiner kohlenwasserstoffe |
| ITTV20130045A1 (it) | 2013-04-09 | 2014-10-10 | Northwave Srl | Dispositivo di serraggio |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50131863A (ja) * | 1974-03-29 | 1975-10-18 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3000794A (en) * | 1958-05-19 | 1961-09-19 | Petro Tex Chem Corp | Extractive distillation of vinyl acetylene in the purification of butadiene |
| DE1443987A1 (de) * | 1962-05-08 | 1969-03-20 | Harpener Bergbau Ag | Extraktiv-Destillation |
-
1981
- 1981-05-16 DE DE19813119540 patent/DE3119540A1/de not_active Withdrawn
-
1982
- 1982-05-05 EP EP82103839A patent/EP0065194B1/de not_active Expired
- 1982-05-05 AT AT82103839T patent/ATE9683T1/de not_active IP Right Cessation
- 1982-05-05 CA CA000402343A patent/CA1182774A/en not_active Expired
- 1982-05-05 DE DE8282103839T patent/DE3260874D1/de not_active Expired
- 1982-05-12 JP JP57078499A patent/JPS5832685A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50131863A (ja) * | 1974-03-29 | 1975-10-18 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS6191302U (ja) * | 1984-11-20 | 1986-06-13 | ||
| WO1998040448A1 (fr) * | 1997-03-11 | 1998-09-17 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Procede de preparation de diene conjugue purifie |
| US6395953B1 (en) | 1997-03-11 | 2002-05-28 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Process for preparing purified conjugated diene |
| WO2003031377A1 (fr) * | 2001-09-28 | 2003-04-17 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Procede de separation/purification de diene conjugue et appareil associe |
| JP2008535914A (ja) * | 2005-04-13 | 2008-09-04 | エクイスター ケミカルズ、 エルピー | ブタジエンの溶媒抽出 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0065194A1 (de) | 1982-11-24 |
| CA1182774A (en) | 1985-02-19 |
| DE3260874D1 (en) | 1984-11-08 |
| ATE9683T1 (de) | 1984-10-15 |
| EP0065194B1 (de) | 1984-10-03 |
| DE3119540A1 (de) | 1982-12-02 |
| JPH0245672B2 (ja) | 1990-10-11 |
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