JPS5830679B2 - bistable circuit - Google Patents

bistable circuit

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Publication number
JPS5830679B2
JPS5830679B2 JP50030213A JP3021375A JPS5830679B2 JP S5830679 B2 JPS5830679 B2 JP S5830679B2 JP 50030213 A JP50030213 A JP 50030213A JP 3021375 A JP3021375 A JP 3021375A JP S5830679 B2 JPS5830679 B2 JP S5830679B2
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JP
Japan
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transistor
memory cell
logic
potential
transistors
Prior art date
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Application number
JP50030213A
Other languages
Japanese (ja)
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JPS51105733A (en
Inventor
幸弘 西口
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NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Electric Co Ltd filed Critical Nippon Electric Co Ltd
Priority to JP50030213A priority Critical patent/JPS5830679B2/en
Publication of JPS51105733A publication Critical patent/JPS51105733A/ja
Publication of JPS5830679B2 publication Critical patent/JPS5830679B2/en
Expired legal-status Critical Current

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  • Static Random-Access Memory (AREA)
  • Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はメモリーセル等の双安手回路、特に絶縁ゲート
型電界効果トランジスタで構成されたメモリーセルに関
するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a double-sided circuit such as a memory cell, and particularly to a memory cell constructed of an insulated gate field effect transistor.

ゲートが第2の電界効果トランジスタのドレインに接続
され且つソースが接地された第1の電界効果トランジス
タと、ゲートが前記第1の電界効果トランジスタのドレ
インに接続され且つソースが接地された第2の電界効果
トランジスタとを有し、さらに前記第1、第2の電界効
果トランジスタのドレインがそれぞれ負荷抵抗を介して
直流電源に接続され、しかも前記第1、第2の電界効果
トランジスタのドレインに信号を供給する手段を備えた
メモリーセルに於て、前記の各負荷抵抗に接続されてい
る直流電源は単一のものを共通にして使用されている。
a first field effect transistor whose gate is connected to the drain of the second field effect transistor and whose source is grounded; and a second field effect transistor whose gate is connected to the drain of the first field effect transistor and whose source is grounded. a field effect transistor, the drains of the first and second field effect transistors are respectively connected to a DC power supply via a load resistor, and a signal is transmitted to the drains of the first and second field effect transistors. In a memory cell equipped with supply means, a single DC power supply is commonly used and connected to each of the load resistors.

従来、かかるメモリーセルの良品、不良品の検査即ち前
記負荷抵抗として使用されている電界効果トランジスタ
の破壊等の検査は、メモリーセルにある清報を書き込み
それを読み出すことによって行われている。
Conventionally, inspection of good and defective memory cells, that is, inspection of destruction of the field effect transistor used as the load resistor, has been carried out by writing a report in the memory cell and reading it.

しかるに高速度で行う検査の場合には、トランジスタの
接合容量、配線容量等に起因する漂遊容量のために、前
記負荷抵抗としての電界効果トランジスタが破壊等して
、書き込まれた情報が、本来は正確にメモリーされない
ので読み取れないにもかかわらず、一定の時間前記漂遊
容量によって形成されるコンデンサに蓄積される結果、
それが読み取られ、不良品が誤って良品と判断されて検
出される欠点があった。
However, in the case of high-speed inspection, the field effect transistor serving as the load resistor may be destroyed due to stray capacitance caused by transistor junction capacitance, wiring capacitance, etc., and the written information may be lost. As a result, it accumulates in the capacitor formed by said stray capacitance for a certain period of time, even though it is not memorized accurately and therefore cannot be read.
There was a drawback in that when the data was read, defective products were incorrectly determined to be non-defective products.

また前記コンデンサに記憶された情報は一定時間経過後
には放電により消滅するので、その一定時間を待って検
査を行えば正確に不良素子を検出することができるけれ
ども、それによれば極端に長い検査時間を必要とする欠
点がある。
Furthermore, since the information stored in the capacitor disappears due to discharge after a certain period of time has elapsed, it is possible to accurately detect defective elements by waiting for that certain period of time before testing, but this would require an extremely long test time. It has the disadvantage of requiring

本発明は従来の技術に内在する上記欠点を克服する為に
なされたものであり、従って本発明の目的は、メモリー
セル自体の良品、不良品を簡便にしかも短時間に従って
高速度で検査することができる新規なメモリーセルを
供することにある。
The present invention has been made in order to overcome the above-mentioned drawbacks inherent in the conventional technology, and therefore, an object of the present invention is to easily and quickly inspect whether the memory cells themselves are good or defective in a short period of time. A new memory cell that can
It is about providing.

本発明の他の目的は、複数個同時に使用するいわゆるメ
モリーアレイに於て、全セル同時にメモリーセルの状態
を揃える(リセット)ことができる新規なメモリーセル
を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a novel memory cell in which the states of all memory cells can be aligned (reset) at the same time in a so-called memory array in which a plurality of memory cells are used simultaneously.

本発明の上記目的は、ゲートが第2の電界効果トランジ
スタのドレインに接続され且つソースが接地された第1
の電界効果トランジスタと、ゲートが前記第1の電界効
果トランジスタのドレインに接続され且つソースが接地
された第2の電界効果トランジスタとを有し、さらに前
記第1、第2の電界効果トランジスタのドレインがそれ
ぞれ負荷抵抗を介して直流電源に接続され、しかも前記
第1、第2の電界効果トランジスタのドレインに信号を
供給する手段を備えたメモリーセルに於て、それぞれの
前記負荷抵抗に印加する直流電圧の供給電源を別系統に
なし、それぞれ別個の電源により電圧を供給するように
したことを特徴とするメモリーセルによって達成される
The above object of the present invention is to provide a first field effect transistor whose gate is connected to the drain of the second field effect transistor and whose source is grounded.
a second field effect transistor whose gate is connected to the drain of the first field effect transistor and whose source is grounded; are each connected to a DC power source via a load resistor, and further includes means for supplying a signal to the drains of the first and second field effect transistors, the DC voltage applied to each of the load resistors is This is achieved by a memory cell characterized in that the voltage supply power sources are provided in separate systems, and the voltages are supplied by separate power sources.

即ち本発明は、メモリーセルに接続されている直流電源
を別系統の2電源にすることによって、上記従来の方法
を使用することによって生ずる欠点を除去し、容易にメ
モリーセル自体の良品、不良品を検出できその結果は甚
大である。
That is, the present invention eliminates the drawbacks caused by using the above-mentioned conventional method by making the DC power supply connected to the memory cell two different power supplies, and easily distinguishes between good and defective memory cells. can be detected, and the consequences are enormous.

本発明の目的、特徴及び利点は添付の図面及び以下の説
明によって一層明らかになるであろう。
The objects, features, and advantages of the present invention will become more apparent from the accompanying drawings and the following description.

第1図は従来のメモリーセルを示し、第2図は本発明に
係るメモリーセルの一実施例を示す構成図であるが本発
明の特徴を一層よく知るためにまず第1図の従来のメモ
リーセルについて説明する。
FIG. 1 shows a conventional memory cell, and FIG. 2 is a configuration diagram showing an embodiment of a memory cell according to the present invention. Explain about cells.

第1図に示されたメモリーセルはPチャンネル絶縁ゲー
ト型電界効果トランジスタ(以下単にトランジスタとい
う)で構成され、トランジスタQ1Q2はトランジスタ
Q3 、Q4の負荷を形成し、直流電源vOGの電圧が
トランジスタQl、Q2のゲートに印加されていて負荷
として働き、また直流電源VDD は端子2に接続さ
れている。
The memory cell shown in FIG. 1 is composed of P-channel insulated gate field effect transistors (hereinafter simply referred to as transistors), transistors Q1 and Q2 form loads for transistors Q3 and Q4, and the voltage of DC power supply vOG is applied to transistors Q1 and Q4. It is applied to the gate of Q2 and acts as a load, and the DC power supply VDD is connected to terminal 2.

トランジスタQ3.Q4はそれぞれのゲートが相手側の
ドレインに接続され且つソースが接地されている。
Transistor Q3. Each gate of Q4 is connected to the drain of the other side, and the source is grounded.

駆動用のトランジスタであり、トランジスタQ5 、Q
6は書き込み、読み出しの際にアドレス信号〆により制
御されゲートとして働く。
It is a driving transistor, and transistors Q5 and Q
6 is controlled by the address signal ㆆ during writing and reading and functions as a gate.

アドレス線が接続される端子3は通常接地電位もしくは
負電位に保たれ、それによってメモリーセルをディジイ
ツト線C及びDとから絶縁し、メモリーセルのトランジ
スタの導通、遮断状態をそのまま維持してデータを記憶
するが、アドレス信号〆によってトランジスタQ5、ト
ランジスタQ6が導通状態(以下アドレスした状態とい
う)になると、ディジイツト線C,Dがメモリーセルと
接続される。
Terminal 3, to which the address line is connected, is normally kept at ground potential or negative potential, thereby insulating the memory cell from digit lines C and D, maintaining the conduction and cut-off states of the memory cell's transistor, and transmitting data. When the transistor Q5 and the transistor Q6 become conductive (hereinafter referred to as the addressed state) by the address signal 〆, the digit lines C and D are connected to the memory cell.

まずこのメモリーセルへの書き込みの場合には、ディジ
イツト線Cに書き込みたい電位、つまり接地電位(以下
論理″1′″という)もしくは直流電源の電位(以下V
DD電位、論理″0′′という)を与え、ディジイツト
線りには書き込みたい電位の逆の電位を与える。
First, when writing to this memory cell, the potential to be written to the digit line C, that is, the ground potential (hereinafter referred to as logic "1'") or the potential of the DC power supply (hereinafter referred to as V
DD potential (referred to as logic "0'') is applied, and a potential opposite to the potential to be written is applied to the digit line.

つまり、論理パ1−をメモリーセルに書き込む場合はデ
ィジイツト線C1ディジイツト線りにはそれぞれ接地電
位、vDD電位を与え、論理TT OI+を書き込む場
合はディジイツト線C1ディジイツト線りにはそれぞれ
VDD電位、接地電位を与える。
In other words, when writing the logic P1- into the memory cell, the ground potential and vDD potential are applied to the digit line C1, respectively, and when writing the logic TTOI+, the VDD potential and the ground potential are applied to the digit line C1, respectively. Give a potential.

読み出しの場合にはディジイツト線Cが接地電位もしく
はVDD電位であるかによって論理n 1 nもしくは
論理パ0”を読み出す。
In the case of reading, logic n 1 n or logic par 0'' is read depending on whether digit line C is at ground potential or VDD potential.

例えば第1図に於て、いまトランジスタQ4が導通、ト
ランジスタQ3が遮断状態であるとすると、点Bが接地
電位に近く、点AはVDD電位に近い電位になっている
For example, in FIG. 1, if transistor Q4 is in a conductive state and transistor Q3 is in a cut-off state, point B is close to the ground potential, and point A is close to the VDD potential.

論理”1″を書き込む場合にはアドレスした状態でディ
ジイツト線Cに接地電位、ディジイツト線りにはVDD
電位を与える。
When writing logic "1", set the ground potential to digit line C and VDD to digit line C in the addressed state.
Give a potential.

するとディジイツト線Cが接地電位なので点Aが接地電
位、又ディジイツト線りがVDD電位なので点BがVD
D電位になり、トランジスタQ3が導通、トランジスタ
Q4が遮断状態になるので論理+11 tfが書き込ま
れたことになる。
Then, since digit line C is at ground potential, point A is at ground potential, and since digit line C is at VDD potential, point B is at VD.
The potential becomes D, transistor Q3 becomes conductive, and transistor Q4 becomes cut off, meaning that logic +11 tf has been written.

論理1j O11を書き込む場合には、ディジイツト線
に与える電位を上記と逆にし、従ってトランジスタの状
態が上記と逆になる。
When writing logic 1j O11, the potential applied to the digit line is reversed, and the state of the transistor is therefore reversed.

次に上記の論理”■”が書き込まれている場合に於て読
み出す場合には、アドレスした状態にすると点Aが接地
電位なのでディジイツト線Cが接地電位にきり論理jl
1 ftが読み出される。
Next, when reading when the above logic "■" is written, when it is in the addressed state, point A is at ground potential, so digit line C is at ground potential, and logic jl
1 ft is read.

論理tl ONの読み出しの場合はディジイツト線Cが
VDD電位になり論理”0″が読み出される。
In the case of reading the logic tl ON, the digit line C becomes the VDD potential and logic "0" is read.

このように第1図の回路はスタティックメモリーセルと
して動作する。
In this manner, the circuit of FIG. 1 operates as a static memory cell.

次に負荷として動作しているトランジスタQ1もしくは
Q2が破壊している場合或いは形成されていない場合等
で端子2とトランジスタQ3゜Q4が電気的に絶縁され
ている場合(以下破損していると言う)についての書き
込み、読み出しによる検査について説明する。
Next, if the transistor Q1 or Q2 operating as a load is damaged or not formed, and the terminal 2 and the transistor Q3゜Q4 are electrically isolated (hereinafter referred to as damaged). ) inspection by writing and reading will be explained.

以下に説明するところのコンデンサCI、C2の保持時
間よりもメモリーセルに書き込んでから読み出すまでの
間が時間的に短い周期になるようなパルスで動作させた
場合(以下高速で動作させると言う)には、第1図に示
した従来のメモリーセルは実際には不良品であるにもか
かわらず、良品として正常に働くものとして検出される
When operating with a pulse such that the time period between writing to the memory cell and reading it is shorter than the retention time of capacitors CI and C2 as explained below (hereinafter referred to as high-speed operation) In this case, although the conventional memory cell shown in FIG. 1 is actually a defective product, it is detected as a good product and functioning normally.

これを具体的に説明するに、第1図においてコンデンサ
C1はトランジスタQ1或いはQ3の接合容量及びそれ
らのトランジスタをトランジスタQ4に結ぶ配線容量等
によって形成されるものであり、コンデンサC2はトラ
ンジスタQ2或いはQ4の接合容量及びそれらのトラン
ジスタをトランジスタQ3に結ぶ配線容量等によって形
成されるものである。
To explain this specifically, in FIG. 1, the capacitor C1 is formed by the junction capacitance of the transistor Q1 or Q3 and the wiring capacitance connecting these transistors to the transistor Q4, and the capacitor C2 is formed by the junction capacitance of the transistor Q1 or Q3. It is formed by the junction capacitance of , the wiring capacitance connecting those transistors to the transistor Q3, etc.

いまトランジスタQ1が破損してトランジスタQ3のド
レインと直流電源VDDとが電気的に絶縁されている場
合には、前記のようにトランジスタQ4が導通、トラン
ジスタQ3が遮断状態にあるものとして、いま、論理9
10 ?1を書き込むと、第1図点Bは接地電位に近い
電位に、点AはVDDに近い電位になるので、コンデン
サC2には負電荷が充電され、VDD電位に近い電位に
充電される。
If the transistor Q1 is now damaged and the drain of the transistor Q3 is electrically isolated from the DC power supply VDD, the logic 9
10? When 1 is written, point B in Figure 1 becomes a potential close to the ground potential, and point A becomes a potential close to VDD, so that the capacitor C2 is charged with a negative charge and is charged to a potential close to the VDD potential.

これを読み出す場合にはアドレスした状態でディジイツ
ト線Cの電位を見る。
When reading this, the potential of digit line C is checked in the addressed state.

コンデンサC2には保持時間の間VDD電位が充電され
ていることにより、点AがVDD電位に近い電位となる
ので、ディジイツト線CがVDDに近い電位になり従っ
て論理II OIIとして読み出される。
Since the capacitor C2 is charged with the VDD potential during the holding time, the point A becomes a potential close to the VDD potential, so the digit line C becomes a potential close to VDD and is therefore read out as logic II OII.

しかしながら書き込みから読み出しまでの時間がある程
度長い場合には、絶縁ゲート型電界効果トランジスタは
ドレイン、ソース間にリーク電流を持ち、ゲートに電圧
を印加しない場合にでもドレイン、ソース間には少しの
電流が流れていて、又コンデンサC1,C2の容量はそ
の性質上非常に小さいので上記のようにトランジスタQ
1が破損している場合には、コンデンサC2に蓄えられ
た電荷はトランジスタQ3のリーク電流としてトランジ
スタQ3を通って放電してしまう。
However, if the time between writing and reading is long enough, an insulated gate field effect transistor will have a leakage current between the drain and source, and even when no voltage is applied to the gate, a small amount of current will flow between the drain and source. Also, since the capacitance of capacitors C1 and C2 is very small due to their nature, the transistor Q
If the capacitor C2 is damaged, the charge stored in the capacitor C2 will be discharged through the transistor Q3 as a leakage current of the transistor Q3.

この放電後に読み出しを行なっても上記のようにコンデ
ンサC2には電荷が蓄えられていないので、ディジイツ
ト線CにはVDD電位が現われず論理It OF+の読
み出しが不呵能となり、従ってトラジスタQ1の破損を
検出できることになる。
Even if reading is performed after this discharge, no charge is stored in the capacitor C2 as described above, so the VDD potential does not appear on the digit line C, making it impossible to read the logic ItOF+, and thus damaging the transistor Q1. can be detected.

以下、このようにコンデンサC2,CIが充電されてか
らその蓄えられた電荷がトランジスタQ3 、Q4のリ
ーク電流となって放電するまでの時間を保持時間という
Hereinafter, the time from when the capacitors C2 and CI are charged in this way until the stored charges become leakage currents of the transistors Q3 and Q4 and are discharged will be referred to as retention time.

従来メモリーセルには前記のような単一電源が使用され
ていたが、かかる方式によると、前記のように負荷トラ
ンジスタが破損している不良メモリーセルを書込みから
読み出しまでの間の時間又は読み出し動作の時間が保持
時間より短いいわゆる高速で検査動作させた場合には、
このメモリ−セルは不良品であるにもかかわらず正常で
ある如く動作する。
Conventionally, a single power supply as described above has been used for memory cells, but according to this method, the time between writing and reading or the read operation of a defective memory cell with a damaged load transistor as described above When the inspection is performed at a high speed where the time is shorter than the retention time,
Although this memory cell is a defective product, it operates as if it were normal.

従って従来のメモリーセルは、不良メモリーセルを高速
度で動作させて検出することができないという欠点を有
していた。
Therefore, conventional memory cells have the disadvantage that defective memory cells cannot be operated at high speed and detected.

本発明はこのような負荷トランジスタの破損のある不良
素子を高速度で動作させても前記のような負荷トランジ
スタに破損のある不良素子を容易に検出することができ
るメモリーセルを提供するのであり、以下その良好な一
実施例について第2図を参照しながら説明する。
The present invention provides a memory cell in which a defective element with a damaged load transistor as described above can be easily detected even if such a defective element with a damaged load transistor is operated at high speed. A good example of this will be described below with reference to FIG.

第2図は本発明に係るメモリーセルの一実施例を示す構
成図である。
FIG. 2 is a configuration diagram showing an embodiment of a memory cell according to the present invention.

第1図の直流電源VDDが接続されている端子2は第2
図に示される如く端子12.12’に分割され、端子1
2及び12′にはそれぞれトランジスタQ1のドレイン
及びQ2のドレインが接続されている。
Terminal 2 to which the DC power supply VDD in Figure 1 is connected is the second
The terminal 1 is divided into terminals 12 and 12' as shown in the figure.
2 and 12' are connected to the drains of transistors Q1 and Q2, respectively.

端子12及び12′には、亦、同じ値の電圧を発生する
直流電源VDDI及びVDD2にそれぞれ接続されてい
る。
The terminals 12 and 12' are also connected to DC power supplies VDDI and VDD2, respectively, which generate voltages of the same value.

その他の部分は第1図の構成と同じであり、第1図の場
合と同じ参照番号にて示されている。
The other parts are the same as those in FIG. 1, and are designated by the same reference numerals as in FIG.

いま第2図に示されたメモリーセル論理”0″が書き込
まれ、トランジスタQ3が遮断、トランジスタQ4が導
通状態にある場合(この場合にはコンデンサC2にVD
DIに近い電位が蓄えられている)には、直流電源vD
D1が接続されている端子12を接地すると、点Aが接
地電位に近い電位になるのでトランジスタQ4が遮断状
態になり、点BがVDD2電位に近い電位になるのでト
ランジスタQ3が導通状態になる。
If the memory cell logic "0" shown in FIG. 2 is written, transistor Q3 is cut off, and transistor Q4 is in a conductive state (in this case, VD
(where a potential close to DI is stored) is a DC power supply vD
When the terminal 12 to which D1 is connected is grounded, the point A becomes a potential close to the ground potential, so the transistor Q4 is turned off, and the point B becomes a potential close to the VDD2 potential, so the transistor Q3 becomes conductive.

したがってトランジスタQ1のドレイン側を接地する以
前と比べてメモリーセルの状態は接地後全く逆になり、
論理′°1′′が書き込まれたのと同様な状態になる。
Therefore, compared to before the drain side of transistor Q1 was grounded, the state of the memory cell is completely reversed after grounding.
The state is the same as if the logic '°1'' was written.

しかしトランジスタQ3゜Q4が遮断、導通状態の場合
に端子12′を接地しても、点Bが接地電位なのでメモ
リーセルの状態には変化がなく、論理”OItの状態が
保たれる。
However, even if the terminal 12' is grounded when the transistors Q3 and Q4 are in the cutoff and conduction states, since the point B is at the ground potential, there is no change in the state of the memory cell, and the logic "OIt" state is maintained.

又メモリーセルに論理91191が書き込まれている場
合には、直流電源VDD2が接続されている端子12′
を接地すれば、同様に結果として論理?+ 091が書
き込まれたのと同様な状態になる。
In addition, when logic 91191 is written in the memory cell, the terminal 12' to which the DC power supply VDD2 is connected
If I ground it, the result would be logical as well? The state will be the same as if +091 had been written.

しかるにメモリーセルに論理”1″が書き込まれている
ときに端子12を接地しても状態には変化がないことは
明らかである。
However, it is clear that even if the terminal 12 is grounded when a logic "1" is written in the memory cell, the state will not change.

このことから複数個メモIJ &++セルを同時に使用
するところのメモリーアレイに於て端子12を接地すれ
ば論理II O?+が書き込まれていたメモリーセルは
論理I+ 111が書き込まれた状態になり、もともと
論理211 $1が書き込まれていたメモリーセルは論
理′″1″が書き込まれた状態に変化がない。
From this, in a memory array where multiple memory IJ &++ cells are used simultaneously, if terminal 12 is grounded, the logic II O? The memory cell in which + was written is now in a state in which logic I+ 111 has been written, and the memory cell in which logic 211 $1 was originally written remains in a state in which logic ``1'' has been written.

したがってメモリーアレイに於て、端子12もしくは端
子12′を接地することにより複数個のメモリーセルの
状態を同時に揃えることができる。
Therefore, in the memory array, the states of a plurality of memory cells can be simultaneously aligned by grounding the terminal 12 or 12'.

しかしながら前記のよう1ζ負荷トランジスタQ1もし
くはQlが破損している場合においては上記とは異なる
However, in the case where the 1ζ load transistor Q1 or Ql is damaged as described above, the situation is different from the above.

いまトランジスタQ1が破損しているものとすると、論
理″0′”が書き込まれて記憶され、トランジスタQ3
が遮断、トランジスタQ4が導通状態で直流電源VDD
Iが接続されている端子12を接地してもトランジスタ
Q1が破損しているので点Aが接地電位にならず、メモ
リーセルの状態には変化がない。
Assuming that transistor Q1 is now damaged, logic "0'" is written and stored, and transistor Q3
is cut off, transistor Q4 is in a conductive state, and the DC power supply VDD is turned off.
Even if the terminal 12 to which I is connected is grounded, since the transistor Q1 is damaged, the point A will not reach the ground potential, and there will be no change in the state of the memory cell.

したがってメモリーセルの状態は反転しない。Therefore, the state of the memory cell is not reversed.

論理11191がメモリーセルに書き込まれ、トランジ
スタQ2が破損している場合には直流電源VDD2が接
続されている端子12/を接地しても同様にメモリーセ
ルの状態は反転しない。
If the logic 11191 is written in the memory cell and the transistor Q2 is damaged, the state of the memory cell will not be reversed even if the terminal 12/ to which the DC power supply VDD2 is connected is grounded.

このように負荷のトランジスタQ1もしくはQlが破損
している場合には、端子12もしくは12′を接地して
もメモリーセルを構成しているトランジスタの導通、遮
断状態には変化がない。
If the load transistor Q1 or Ql is damaged in this way, even if the terminal 12 or 12' is grounded, there is no change in the conduction or cutoff state of the transistor constituting the memory cell.

従って以上の事実より与えられたメモリーセルに論理n
OI+を書き込み、次いで端子12を接地し、その後
の読み出しの結果論理′”1″が読み出される場合、或
いは論理Pt 199を書き込み、次いで端子12′を
接地し1その後の読み出しの結果論理II O11が読
み出される場合には該メモリーセルは良品と判断され、
前者の場合に論理pH011が読み出されるか、或いは
後者の場合に論理″1′”が読み出される場合には該メ
モリーセルは不良品と判断することができる。
Therefore, based on the above facts, a given memory cell has a logic n
If OI+ is written, then terminal 12 is grounded, and the subsequent read results in a logic ``1'', or logic Pt 199 is written, then terminal 12' is grounded, and the subsequent read results in logic II O11. If the memory cell is read out, it is determined that the memory cell is good.
If logic pH011 is read out in the former case, or logic "1'" is read out in the latter case, the memory cell can be determined to be a defective product.

しかして本発明によれば第1図のトランジスタQl、Q
2が接続されている端子2を分割し、第2図のように端
子12及び12′の2端子とし、別系統の直流電源をそ
れぞれの端子に別個に供給することにより、複数個のメ
モリーセルの状態を同時にしかも一度に揃える(セット
又はリセット)ことができると共に、この原理を利用す
ることにより、書き込みから読み出しの周期がコンデン
サの保持時間より短くなるように動作させることができ
るパルスで動作させた場合に於て、従来は負荷トランジ
スタの破損検出は配線容量等に起因して困難とされてい
たが、本発明によれば容易に検出する方法が与えられる
According to the present invention, however, the transistors Ql and Q of FIG.
By dividing the terminal 2 to which 2 is connected and creating two terminals, terminals 12 and 12', as shown in Figure 2, and separately supplying DC power from a separate system to each terminal, multiple memory cells can be connected. It is possible to align (set or reset) the states of the capacitor at the same time and at once, and by using this principle, the capacitor can be operated with a pulse so that the cycle from writing to reading is shorter than the holding time of the capacitor. In such cases, it has conventionally been difficult to detect damage to the load transistor due to wiring capacitance, etc., but the present invention provides a method for easily detecting damage.

上述したメモリーセルは、Pチャンネル絶縁ゲー型電界
効果トランジスタに関したものであるが、nチャンネル
絶縁ゲート型電界効果トランジスタに関しても同様に説
明し得ることは勿論である。
Although the above-described memory cell relates to a P-channel insulated gate field effect transistor, it goes without saying that the same explanation can be applied to an n-channel insulated gate field effect transistor.

また以上の説明はユニポーラトランジスタを使用したメ
モリーについてのものであるが、バイポーラトランジス
タを使用した記憶素子についても本発明の思想を適用し
得ることは言うまでもない。
Moreover, although the above description is about a memory using unipolar transistors, it goes without saying that the idea of the present invention can also be applied to a memory element using bipolar transistors.

以上本発明は一実施例について説明したが、それは単な
る例示的なものであり、ここで説明された実施例によっ
てのみ本願発明を限定するものでないことは勿論である
Although one embodiment of the present invention has been described above, this is merely an example, and it goes without saying that the present invention is not limited only to the embodiment described here.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は従来のメモリーセルを示す構成図、第2図は本
発明に係るメモリーセルの一実施例を示す構成図である
。 Ql 、Ql、Q3.Q4.Q5.Q6・・・・・・絶
縁ゲート型電界効果トランジスタ、C線、D線・・・・
・・ディジイツト線、C1,C2・・・・・・漂遊容量
、〆・・・・・・アドレス信号。
FIG. 1 is a block diagram showing a conventional memory cell, and FIG. 2 is a block diagram showing an embodiment of a memory cell according to the present invention. Ql, Ql, Q3. Q4. Q5. Q6...Insulated gate field effect transistor, C line, D line...
... Digit line, C1, C2 ... Stray capacitance, Terminal ... Address signal.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 第1と第2の節点で入力電極と出力電極とが互いに
交差接続された一対のトランジスタと上記第1および第
2の節点(グ一端が接続され定常的な導通状態を呈する
一対の負荷手段を有し、該一対の負荷手段の他端を直流
電源に接続せしめた双安定回路において、上記一対の負
荷手段の各他端への電源供給配線をそれぞれ別個に設け
、上記電源供給配線の一方と他方との間に直流電圧差を
生ぜしめうるようになし、もって上記一対のトランジス
タの一方を強制的に導通せしめ、他方を強制的に遮断せ
しめうるようにしたことを特徴とする双安定回路。
1 A pair of transistors whose input electrodes and output electrodes are cross-connected to each other at the first and second nodes, and a pair of load means whose one ends are connected to each other and exhibit a steady conduction state. In a bistable circuit having the other ends of the pair of load means connected to a DC power source, power supply wiring to each other end of the pair of load means is separately provided, and one of the power supply wirings is provided separately. A bistable circuit characterized in that a DC voltage difference can be generated between the pair of transistors and the other, so that one of the pair of transistors can be forcibly made conductive and the other can be forcibly cut off. .
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