JPS5825922B2 - 強制循環流体加熱装置 - Google Patents

強制循環流体加熱装置

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JPS5825922B2
JPS5825922B2 JP51086631A JP8663176A JPS5825922B2 JP S5825922 B2 JPS5825922 B2 JP S5825922B2 JP 51086631 A JP51086631 A JP 51086631A JP 8663176 A JP8663176 A JP 8663176A JP S5825922 B2 JPS5825922 B2 JP S5825922B2
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tube
wall
panel
fluid heating
tubes
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エドワード・ジエー・ピアスコウスキイ
カール・リーブ
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Babcock and Wilcox Co
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Description

【発明の詳細な説明】 この発明は総体的に強制流動流体加熱装置の構造に関し
、特に炉壁支持体として特別に利用される流体加熱回路
の構造およびその配置の改良に関する。
この発明は米国特許第3,665,893号および同第
3,834,358号明細書に記載される型式の、強制
循環貫流蒸気発生装置の構造の改良を目的としており、
ここで炉の直立境界壁は上部分および下部分に分割され
ており、前記壁部分の各々に少なくとも一つの別の連続
上向き流れの流体加熱通路が包含され、この別の流体加
熱通路のチューブ部分は共通平面を形成しており、前記
チューブは織合わされ、かつ同一空間に延びておりさら
に前記共通平面の上方および下方で、壁の平面の外方へ
屈曲して適当に配置されたヘッダーに連結されている。
これは流体が一つの加熱通路から他の加熱通路へ流れる
時、エンタルピーの均等化を可能とする。
ここに記述した壁を形成することは、比較的短かいチュ
ーブ長のものを個々に屈曲し、かつこれらチューブ長の
ものを流体加熱通路の織合わされたチューブ部分により
形成される共通平面の上方部と下方部に手溶接しなけれ
ばならないことから、相当の費用と時間がかかることと
なる。
この発明は強制循環流体加熱装置に関し、その炉室は上
部分および下部分を形成する直立壁により画定され、こ
れには下部壁部分から流体を受入れ混合した流体を上部
壁部分へ排出する混合ヘッダーを包含する。
この発明において、上部および下部炉壁部分は、横方向
に間隔をもって位置しかつそのほとんど全長にわたって
剛性に一体化されて上方へ延びるパネルで形成されてい
る。
上部および下部壁部分のいくつかのチューブは、それぞ
れ第1および第2レベルにおいて壁の面の外方へ屈曲し
混合ヘッダーと連結され、かつ第1および第2レベルの
間で壁の面内において相互に織合わされている。
上部および下部壁部分の残りのチューブパネルは、それ
ぞれほぼ第2および第ルベルにおいて壁の平面の外方へ
屈曲され、混合へラダーへ連結される。
上部および下部炉壁部分の織合わされたパネル部分は剛
性に一体化され、下部壁部分の負荷を上部壁部分へ伝達
するようになっている。
この発明により、各パネル構成のチューブはそれぞれの
間に設けられたウェブと機械溶接され剛性に一体化され
、壁面の外方へは集合的に屈曲されかつ各チューブは同
一面内で平行に位置する構造の工場組立されたパネルを
提供するとにより、実質的に時間と価格を節約すること
を可能としたものである。
この発明を図面により中央発電所で使用するようにされ
た、頂部支持型の強制貫流蒸気発生装置における一実施
例により説明する。
第1図に示すようにこの装置の主要部は直立炉室10を
包含し、この炉室は直立壁たる前壁11.後壁13、側
壁14、屋根(ルーフ)16およびホッパー17で画定
され実質的に四角形の水平断面を有する。
炉室10の頂端部にはガス出口18が形成され、この出
口は床21と屋根16の延長部と側壁14及び20によ
り画定されて水平に延びる四角形垂直断面のガス通路1
9に開口する。
ガス通路19はその後端部で四角形水平断面の直立ガス
通路22に連通し、前記通路22は前壁23、後壁24
、側壁26、およびガス通路19の屋根の延長部により
画定される。
燃料点火部は垂直方向に隔置され列をなすバーナ27か
らなり、これは炉室10の下部で対向壁11と13に配
置される。
ガス通路19は二次過熱器28と再熱器29を収容し、
これはガス流に関して直列に配置され、ガス通路22は
一次過熱器33とエコノマイザ−34を収容し、これは
ガス流に関して直列に配置される。
蒸気発生装置の正常作動において、燃焼空気および燃料
はバーナ27へ供給され、燃料は炉室10の下部におい
て燃焼される。
燃焼ガスは炉室10を通り炉の出口へ向けて上方へ流れ
、それからガス通路19の二次過熱器28と再熱器29
の間を通り、ガス通路22の一次過熱器33とエコノマ
イザ−34の間を通り、図示しない煙突へ排出される前
に図示しない空気予熱器へ送られる。
通常実施されているように、それぞれの過熱部及び再加
熱部は対応するガス通路の全幅を横断して延び、マルチ
ループチューブを通る直列蒸気流を形成している。
蒸気発生装置本体は氷壁と伝熱面を支持するバンガー9
5(そのいくつかは図示)が取付される梁90と直立部
材85を含む構造部材により上部支持(トップサポート
)される。
高圧の給水は図示しない一つまたはそれ以上のポンプに
よりエコノマイザの人口ヘッダ−25に供給され、エコ
ノマイザ34のチューブを介して出口ヘッダ−30へ流
れ、そこから−以上の下降管35により、炉室10の境
界壁流体加熱回路へ移送される。
通路19と22の直立境界壁は気密構造を有し、人口ヘ
ッダ72および出口ヘッダ−73の間に延びるチューブ
71をもつ前壁23を含む。
後壁24は人口ヘッダ−76および出口ヘッダ−77の
間に延びるチューブ74を有する。
側壁26は人口および出ロヘソダー79および81の間
に延びるチューブ78を有し、側壁20は入口および出
ロヘソダー83および84の間に延びるチューブ82を
有する。
床21は一列のチューブ86でライニングされ、その人
口端はヘッダー57に連結され、出口端はヘッダー73
に連結され、後者は一列のスクリーンチューブ89を介
してヘッダー88へ連結される。
ヘッダー72,76.79および83はルーフヘッダー
50から導管69を通して平行に流体を供給するように
連結され、ヘッダー77.81゜84および88は収集
ヘッダー91へ排出するように連結され、そこから流体
は導管92を介して一次過熱器33へ通じる。
過熱された蒸気は一次過熱器33から二次過熱器28へ
送られ、そこで図示しない高圧タービンへ送られる前に
さらに過熱される。
高圧タービンから排出される部分的に膨張した蒸気は再
熱器へ送られ、そこから図示しない低圧タービンへ送ら
れ、そこで最終膨張が起こる。
炉10の各直立境界壁は上方へ延びる平行チューブによ
り形成され、このチューブは3つの上向き流体加熱通路
を形成するように配置され、相互チューブ間隔は気密構
造を与えるため隣接チューブに溶接された金属ウェブに
より閉鎖される。
最初の2つの流体加熱通路は第1グループのチューブか
らなり、各炉壁の下部を形成しており、また第3流体加
熱通路は第2グループのチューブからなり、各炉壁の上
部を形成する。
特別のヘッダー装置が、熱吸収媒体をその一つの通路か
ら他の通路への中間で混合するために設けられ、各流体
加熱通路からの混合装置は特に、炉壁の幅を横切る壁チ
ューブの温度差を最小に維持することを目的としている
炉の清潔さおよびマルチプルパラレルフローの流体通路
を通る流速に差があるときは、チューブ内およびそれら
の間の金属ウェブに高応力をもたらすのに十分な温度差
を生せしめることは充分ありうる。
流体加熱通路内での全体的な吸収を限定することにより
、平行な流体通路からなるチューブ内の熱的非平衡度も
限定される。
したがって、炉の周壁は炉の高さの特定のレベルにおけ
る温度が、そのレベルにおけるすべての炉壁チューブの
計算された平均流体温度から55.6℃(1000F)
以上相違しないように、したがって、隣接チューブの間
の計算された最大温度差が、流体の流動非平衡の影響を
最小にするため予じめ決められた臨界限定値より小さく
なるように、そして各流体加熱通路のチューブが十分な
循環速度を与えるのに十分な流動面積を有するように設
計される。
さらに、炉の境界壁のすべての加熱されたチューブは上
向き流となるように配置されており、それはこのように
配置されたチューブを有する加熱通路内の流動安定性が
、流動回路が下向き流および上向き流チューブを加熱す
る条件において著しく改善されるからである。
言いかえると同一平均の熱吸収と擾乱熱吸収条件に対す
る流動不平衡は、熱吸収領域内における上向き流および
下向き流量路についてのものより、すべての上向き流チ
ューブについてのものの方がかなり厳しくないものにな
っている。
前壁11は第1上向き流チューブ37A、3i’、第2
上向き流チューブ37B。
37B′、および第3上向き流チューブ37C237C
′、を包含する。
後壁13は第1上向き流チューブ38A、38A/、第
2上向き流チューブ38B、38B’、および第3上向
き流チューブ38C238C′、を包含する。
後者のチューブの幾つかはガス通路19の前方にスクリ
ーン42を形成し、残りのチューブは火炉ノーズアーチ
41を形成する。
各側壁14は第1上向き流チューブ39A、39A’、
第2上向き流チューブ39B。
39B′、第3上向き流チューブ39C,39C’。
を包含する。
第1上向き流チューブ37A、37A’、38A。
38A’、および39A、39A’は、対応する壁部に
関連する人口ヘッダ−44に、その下端部を連結される
チューブ37A、38Aおよび39Aはその上端部を出
口ヘッダ−45に連結され、チューブ37A’、38A
’および39A′はその上端部を、ヘッダー45の上方
に配置された出ロヘソダー45Aへ連結される。
第2上向き流チューブ37B、37B’、38B。
38B′および39B、39B’はその下端部を対応す
る壁部に関連する人口ヘッダ−52へ連結される。
チューブ37B、38Bおよび39Bはその上端部を出
口ヘッダ−53へ連結され、チューブ37B’、38B
’および39B′はその上端部を、ヘッダー53の上方
に配置された出口ヘッダ−53Aへ連結される。
第3上向き流チューブ37C,38Cおよび39Cはそ
の下端部を人口ヘッダ−57へ連結され、第3上向き流
チューブ37C’、38C’および39C′はその下端
部を、ヘッダー57の上方に配置された人口ヘッダ−5
7Aへ連結される。
チューブ37Cと37C′はその上端部を炉のルーフ(
屋根)の供給ヘッダー58へ連結される。
幾つかのチューブ38Cと38C′はその上端部をチュ
ーブスクリーン人口ヘッダ−73へ連結され、残りのチ
ューブ38Cと38C′はその上端部をチューブスクリ
ーン出口ヘッダ−88へ連結される。
チューブ39Cと39C′はその上端を出口ヘッダ−6
3へ連結される。
導管35にエコノマイザ−34から流体を人口ヘッダ−
44へ供給し、そこから第1上向き流チューブ37A、
37A’、38A、38A’および39A、39A’を
通して送られ、第1流出口ヘッダ−45および45Aに
収集され、それから導管51および51Aを介して対応
する壁部に関連する第2流入口ヘッダ−52へ送られる
ヘッダー52からの流体は第2上向き流チューブ37B
37B’、38B、38B’、および39B、39B’
を通して送られ、第2流出口ヘッダ−53および53A
に収集され、それから導管48および48Aを介して第
3流入口ヘッダ−57および57Aへ送られる。
導管48および48Aを流動する流体は図示しない一つ
またはそれ以上のより大きいヘッダーへ流れてゆき、対
応する第3流入ロヘツダー57および57Aへ導入され
る前にさらに混合が行なわれる。
後壁13に関連するヘッダー57および57Aからの流
体は、それぞれ第3上向き流チューブ38Cおよび38
C′を通して送られ、チューブスクリーン・ヘッダー7
3および88に収集される。
前壁11に関連するヘッダー57および57Aからの流
体は、それぞれ第3上向き流チューブ37Cおよび37
C′を通して送られ、ルーフ・サプライヘッダー58に
収集される。
側壁14に関連するヘッダー57および57Aからの流
体は、それぞれ第3上向き流チューブ39Cおよび39
C′を通して送られ、出口ヘッダー63に収集される。
これまでの説明から明らかなように、チューブ37A、
37A’、38A、38A’および39A。
39A′は第1流体加熱通路を構成し、チューブ37B
、37B’、38B、38B’および39B。
39B′は第2流体加熱通路を構成し、チューブ37C
,37C’、38C,38C’および39C239C′
は第3流体加熱通路を構成する。
第1流体加熱通路のチューブは第2流体加熱通路のチュ
ーブ相互間の空間に配置され、その相互チューブ空間は
実質的に全平行長さに沿ってチューブに溶接一体化され
た金属ウェブにより閉鎖され、したがって各ウェブは第
1加熱通路の一つのチューブに溶接され、かつ第2加熱
通路の一つのチューブに溶接される。
第3流体加熱通路のチューブはスクリーン部を除いて、
その相互チューブ空間をチューブに溶接一体化された金
属ウェブにより閉鎖される。
第1および第2流体加熱通路のチューブはその各壁部内
のほとんど全長にわたって同一平面内にあり、さらに後
壁の部分を除いて対応する壁部の関連する第3流体加熱
通路のチューブと同一平面内にある。
流体の収集、混合および分配装置および関連するチュー
ブが、すべての炉壁に対して実質的に同一であるから、
前壁11に対応する装置を説明すれば十分であろう。
第2,3図に前壁11の概略断面図を示し、これはパネ
ル13TABを包含し、この第1および第2通路チュー
ブ37Aおよび37Bはその上端部をほぼ第1水平面1
01Aにおいて壁部の平面から外方へ屈曲され、下方へ
延びて、それぞれ何個の対応する第1および第2通路出
ロヘツダー45および53へ連結されており、また前壁
11はパネル137A’B’を包含しており、その第1
および第2通路チューブ37A′および37B’はその
上端部を第2水平面102において壁部の平面から外方
へ屈曲され、下方へ延びて、それぞれ個々の対応する第
1および第2通路出ロヘッダー45Aおよび53Aへ連
結される。
第1通路出ロヘッダー45および45Aに収集された流
体は、導管51および51Aを介して第2通路人口ヘッ
ダ−52へ送られる。
第3流入ロヘツダー57に収集された流体は、導管48
を介して対応する第3通路人口ヘッダ−57へ送られ、
パネル137Cへ分配され、この第3通路チューブ37
Cはその下端部分が個々の対応する人口ヘッダー57か
ら水平内方へ延び、上方へ屈曲して第1水平面q01に
おいて前壁11に入り、そこから壁部の平面内を上方へ
延びる。
第2通路出ロヘッダー53Aに収集された流体は導管4
8Aを介して、対応する第3通路人口ヘッダ−57Aへ
送られ、パネル137C’へ分配され、その第3通路チ
ューブ37C′はその下端部分が個々の対応する人口ヘ
ッダ−57Aから水平内方へ延び、上方へ屈曲し、はぼ
第2水平面102Aにおいて前壁11に入り、そこから
壁部の平面内を上方へ延びる。
金属ウェブ55が相互チューブ空間を閉鎖し、通常は隣
接するチューブに密封溶接きれる。
流体の収集、混合および分配装置の別の実施例を第4,
5図に示すと、上方に延びる平行なチューブにより形成
される炉の各直立境界壁が、2つの上向き流体加熱通路
を与えるように配置される。
第1流体加熱通路は第1グループのチューブからなり、
各炉壁の下部を形成しており、第2流体加熱A路は第2
グループのチューブからなり、各炉壁の上部を形成して
いる。
流体収集、混合および分配装置、および関連するチュー
ブの構造および構成はすべての壁部において同一である
から、前壁11に対応する装置を説明すれば十分であろ
う。
第4,5図に前壁11の概略断面を示し、これはパネル
140Aを包含し、その第1通路チューブ40Aはその
上端部分がほぼ第1水平面101Aにおいて壁部の平面
から外方へ屈曲し、下方へ延びて、個々の対応する第1
通路出ロヘッダー42へ連結され、また前壁11はパネ
ル140A’を包含し、その第1通路チューブ40A′
はその上端部分が第2水平面102において壁部の平面
から外方へ屈曲し、下方へ延び、個々の対応する第1通
路出ロヘッダー42Aに連結される。
第1通路出ロヘッダー42に収集された流体は、導管3
6を介して対応する第2通路人口ヘッダ−43へ送られ
、パネル140Bへ分配されるようになっており、その
第2通路チューブ40Bはその下端部分が個々の対応す
る人口ヘッダ−43から水平に内方へ延び、上方へ屈曲
し、第1水平面101において前壁11に入り、そこか
ら壁部の平面内を上方へ延びる。
第1通路出ロヘッダー42Aに収集された流体は、導管
36Aを介して対応する第2通路人口ヘッダ−43Aへ
送られ、パネル140B’へ分配されるようになってお
り、その第2通路チューブ40B′はその下端部が個々
の対応する人口ヘッダ−43人から水平に内方へ延び、
はぼ第2水平面102Aにおいて前壁11に入り、そこ
から壁部の平面内を上方へ延びる。
金属ウェブ55は相互チューブ空間を閉鎖し、通常は隣
接チューブに密封溶接される。
別の実施例は第2通路チューブ40Bおよび40B′を
有し、これは第1通路40Aおよび40A′に比較して
大きい直径と幅広の相互チューブ空間を有するが、他の
組合わせの寸法および空間がこの発明において利用され
る。
第6,7,8図に水平面102および102Aの間に形
成された股部に設けられた密封装置の、それぞれの断面
の側面図、平面図および前面図を示す。
ここに示す密封装置は水平面101および101Aにお
けるチューブ屈曲部により形成された股部、および別の
実施例において同じ水平面に形成された股部に同様に適
用できることが解るであろう。
したがって、そのチューブ37Cが前壁11の平面内を
上方へ延びるパネル137Cと、そのチューブ37A′
および37B′の上端部分が第2水平面102において
壁部の平面から外方へ屈曲しているパネル13TAB’
と、そのチューブ37C′の下端部分かほぼ第2水平面
102Aにおいて壁部の平面から外方へ屈曲しているパ
ネル137C’を示す。
水平面102および102Aの間の股部密封装置は密封
ボックス59を包含し、これはスロット付き板60と平
板61.側板63、および背板64で画定され、後者は
チューブ37A’。
37B′、および37C′の屈曲部の輪郭にしたがうよ
うに屈曲している。
板インサート66が隣接チューブの間に嵌合され、それ
と、チューブ37A’。
37B′および37C′の屈曲部により形成された股部
を密封するロッド67に溶接連結される。
別のインサート66および平担バー68が密封ボックス
59を隣接チューブパネルに連結するのに設けられる。
限定するわけではない実例および主実施例において、上
部および下部炉部分の各パネルは約136crrL(6
4in)の幅で、中心間距離が4.45(m(1,75
in)で外径が3.18crrt(1,25in )の
37本のチューブを包含する。
別の実施例は主実施例と同一幅のパネルを有するが、上
部炉壁部分の各パネルは中心間距離が5.72crrL
(2,25in)で外径が3.8 IcrfL(1,5
in )の28本のチューブを包含する。
これまでこの発明の特別の実施例を図示し説明してきた
が、特許請求の範囲に記載の発明の範囲内で変更が可能
であること、およびこの発明のある形態が他の形態を対
応して利用することなく使用できることが当業者にとっ
て明らかであろう。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の強制流動蒸気発生装置の断面を示す
側面図、第2図は第1図に示す流体収集、混合および分
配装置の一部の拡大正面図、第3図は第2図に示す装置
の部分の拡大側面図、第4図は別の流体収集、混合およ
び分配装置の一部の拡大正面図、第5図は第4図に示す
装置の部分の拡大側面図、第6図は流体収集、混合およ
び分配装置に使用される壁部密封装置の詳細側面図、第
7図は第6図の7−7線に沿う平面図、第8図は第1図
の8−8線に沿う側面図である。 10・・・・・・炉室、11・・・・・・前壁、13・
・・・・・後壁、14・・・・・・側壁、55・・・・
・・金属ウェブ、101゜101A・・・・・・第1水
平面、102,102A・・・・・・第2水平面、37
A、37A’、38A、38A’。 39 A 、 39 A’・・・・・第1流体加熱通路
、37B。 37B’、38B、38B’、39B、39B’、・・
・・・第2流体加熱通路、37C,37C’、38C,
38C’。 39C,39C′・・・・・・第3流体加熱通路、13
7AB。 13γA’B’、 137c 、 137c’・・・・
・・チューブパネル。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 直立パネル壁により炉室を形成し、少なくとも一つ
    のパネル壁に上部分および下部分を包含させ、前記下部
    分から流体を受入れて混合した流体を前記上部分へ排出
    する混合ヘッダー装置を設け、前記上部および下部壁部
    分はほとんど全長にわたり剛性一体化されて上方に延び
    、上部および下部壁部分の管のパネル壁面での屈曲部が
    第1水平面または第2水平面に位置する流体加熱装置に
    おいて、 並夕1ルかつ横方向に隔置しウェブで接続した複数本の
    チューブからなる単位のチューブパネルの複数個で前記
    上部および下部壁部分をそれぞれ形成し、これら上部と
    下部の対向する単位のチューブパネルを相互に各ウェブ
    部で接続部材により接続し、該単位チューブパネルの接
    続部のレベルを壁の横方向につき順次第1水平面と第2
    水平面に交互に位置するように設け、前記上部および下
    部壁部分の織合わされたパネル部を包含する前記一つの
    パネル壁を前記接続部が交互に位置する壁面を含み剛性
    一体化し、前記下部分の荷重を前記上部分へ伝達するよ
    うに配置したことを特徴とする強制循環流体加熱装置。 2 前記下部壁部分のチューブパネルは第1の流体加熱
    通路のみを含み、前記上部壁部分のチューブパネルは第
    2の流体加熱通路のみを含む特許請求の範囲第1項記載
    の強制循環流体加熱装置。 3 前記上部壁部分のパネルのチューブの管内断面積を
    、前記下部壁部分のパネルのチューブの管内断面積より
    大きくした特許請求の範囲第1項記載の強制循環流体加
    熱装置。
JP51086631A 1975-08-18 1976-07-22 強制循環流体加熱装置 Expired JPS5825922B2 (ja)

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US05/605,504 US4025687A (en) 1974-10-08 1975-08-18 Laminates

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Publication Number Publication Date
JPS5224602A JPS5224602A (en) 1977-02-24
JPS5825922B2 true JPS5825922B2 (ja) 1983-05-31

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JP51086631A Expired JPS5825922B2 (ja) 1975-08-18 1976-07-22 強制循環流体加熱装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN103874549A (zh) * 2011-07-14 2014-06-18 贝斯荷兰有限公司 用于清洁电子元件封装装置的设备

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