JPS5822736B2 - Genzou exo saves - Google Patents

Genzou exo saves

Info

Publication number
JPS5822736B2
JPS5822736B2 JP50004860A JP486075A JPS5822736B2 JP S5822736 B2 JPS5822736 B2 JP S5822736B2 JP 50004860 A JP50004860 A JP 50004860A JP 486075 A JP486075 A JP 486075A JP S5822736 B2 JPS5822736 B2 JP S5822736B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ammonium
developer
acid
group
photosensitive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP50004860A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS5180228A (en
Inventor
河合隆雄
喜多信行
寺脇晃
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP50004860A priority Critical patent/JPS5822736B2/en
Publication of JPS5180228A publication Critical patent/JPS5180228A/en
Publication of JPS5822736B2 publication Critical patent/JPS5822736B2/en
Expired legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、感光性シートの現像液組成物に関するもので
、とくに平版印刷材の現像液組成物に関するものである
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a developer composition for photosensitive sheets, and particularly to a developer composition for lithographic printing materials.

詳しく述べると、露光された感光性シート(平版印刷材
)を現像して非画像部を除き、レリーフ像を形成させる
ための現像液組成物に関するものである。
More specifically, the present invention relates to a developer composition for developing an exposed photosensitive sheet (lithographic printing material) to remove non-image areas and form a relief image.

平版印刷とは、親水性表面を有する支持体上に親油性画
像が形成された版材を用いて、水と油脂性インキを用い
て印刷する方法である。
Lithographic printing is a method of printing using water and oil-based ink using a plate material on which a lipophilic image is formed on a support having a hydrophilic surface.

すなわち、その非画像部は親水性であるため、水は受け
つけるが油脂性インキは受けつけず、一方、画像部は親
油性であるので、油脂性インキは受けつけるが水は受け
つけないのである。
That is, the non-image area is hydrophilic, so it accepts water but not oil-based ink, while the image area is lipophilic, so it accepts oil-based ink but not water.

したがって、これをブランケットに転写して、その後紙
に転写すると印刷物かえられるのである。
Therefore, if you transfer this to a blanket and then to paper, you can change the printed matter.

このように、平版印刷版をつくるには、適当な親水性支
持体に感光性物質を導く塗布しく塗布重量05〜59/
m′)、その上から写真のネガフィルムを透して露光す
ると、光の当った部分だけが硬化して現像液に不溶とな
るので、該印刷版を現像すれば非露光部分は除去されて
ポジ画像が形成される。
As described above, in order to make a lithographic printing plate, the photosensitive material is introduced onto a suitable hydrophilic support by coating at a coating weight of 05 to 59/2.
m'), if you expose the printing plate to light through a photographic negative film, only the areas hit by the light will harden and become insoluble in the developer, so if you develop the printing plate, the unexposed areas will be removed. A positive image is formed.

このとき使用される現像液は、平版印刷版をつくるため
には重要な働きをし、非画像部を完全に除去し、しかも
、画像部を保護するものが望ましい。
The developer used at this time plays an important role in producing a lithographic printing plate, and is preferably one that completely removes non-image areas and protects image areas.

本発明者らは、酸価10〜300を有し、且つ側鎖にヒ
ドロキシ基およびシアノ基を有するアクリル酸系または
メタクリル酸系の高分子重合体およびジアゾ化合物から
なる感光性組成物を塗布した感光性シートの未露光部分
を除去するための現像液として、ホウ酸アンモニウム、
五ホウ酸アンモニウム、炭酸アンモニウム、ケイ酸アン
モニウム、リン酸第三アンモニウムおよびリン酸第三ア
ンモニウムよりなる群から選ばれた少なくとも1種の弱
酸のアンモニウム塩水溶液を使用することにより、画像
部の感脂性を低下させることなく耐刷性の画像が形成さ
れ、しかも、低公害性であることを見出し、本発明を完
成したものである。
The present inventors coated a photosensitive composition comprising an acrylic acid-based or methacrylic acid-based polymer having an acid value of 10 to 300 and a hydroxyl group and a cyano group in the side chain, and a diazo compound. Ammonium borate,
By using an aqueous ammonium salt solution of at least one weak acid selected from the group consisting of ammonium pentaborate, ammonium carbonate, ammonium silicate, tertiary ammonium phosphate, and tertiary ammonium phosphate, the image area can be made oil-sensitive. The present invention was completed based on the discovery that an image with long printing durability can be formed without deteriorating the printing quality and is low in pollution.

本出願人の出願に係わる特開昭50−3292附公報に
は、酸価10〜300を有する有機高分子重合体として
シス−4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボキシレー
ト基を側鎖に含有する重合体と、感光性化合物としてジ
アゾ樹脂と芳香族アジド化合物からなる感光性組成物の
現像液として、ケイ酸すl−IJウム水溶液を用いるこ
とが記載されており、また本出願人の出願に係わる特開
昭50−118802号公報には、酸価10〜100を
有するヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート−(メ
タ)アクリロニトル共重合体とジアゾ化合物からなる感
光性組成物の現像液として、同じくケイ酸すl−IJウ
ム水溶液を使用することが記載されているが、現像時間
が過剰になったり、現像温度が高ければ印刷時における
耐刷性の劣化を引き起すという欠点を有していた。
JP-A No. 50-3292 filed by the present applicant describes an organic polymer having an acid value of 10 to 300 containing a cis-4-cyclohexene-1,2-dicarboxylate group in its side chain. It is described that an aqueous solution of sulfur silicate is used as a developer for a photosensitive composition consisting of a polymer containing a diazo resin and an aromatic azide compound as a photosensitive compound, and the present applicant's application JP-A-50-118802 discloses that silica is used as a developer for a photosensitive composition comprising a hydroxyalkyl (meth)acrylate-(meth)acrylonitrile copolymer having an acid value of 10 to 100 and a diazo compound. Although it is described that an aqueous solution of sulfur-IJ is used, it has the disadvantage that if the development time is excessive or the development temperature is high, the printing durability during printing will deteriorate.

これに対して、本発明に従って、酸価10〜300を有
し且つ側鎖にヒドロキシ基およびシアン基を有するアク
リル酸系またはメタクリル酸系の高分子重合体およびジ
アゾ化合物を含む感光性組成物を設けた感光性シートの
未露光部分を除去するための現像液として、前述の如き
特定の化合物群から選ばれた少なくとも1種の弱酸のア
ンモニウム塩水溶液からなる現像液を用いた場合には、
上述のような欠点が解消される。
In contrast, according to the present invention, a photosensitive composition containing an acrylic or methacrylic acid-based polymer and a diazo compound having an acid value of 10 to 300 and having a hydroxyl group and a cyanide group in the side chain is used. When a developer consisting of an aqueous solution of ammonium salt of at least one weak acid selected from the above-mentioned specific compound group is used as a developer for removing the unexposed portion of the provided photosensitive sheet,
The above-mentioned drawbacks are eliminated.

本発明において、特に好ましい結果が得られる感光性組
成物は、特開昭50−118802号公報に記載されて
いる、一般式CI) (ただし、式中、R1は水素原子またはメチル基、R2
は水素原子、メチル基、エチル基またはクロロメチル基
を示し、かつ、nは1〜10の整数である。
In the present invention, a photosensitive composition from which particularly favorable results can be obtained is the general formula CI) described in JP-A-50-118802 (wherein R1 is a hydrogen atom or a methyl group, R2
represents a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or a chloromethyl group, and n is an integer of 1 to 10.

)で示される構造単位およびつぎの一般式(II) (ただし、式中、R3は水素原子またはメチル基である
) and the following general formula (II) (wherein, R3 is a hydrogen atom or a methyl group).

)で示される構造単位を含み、かつ、酸価が10〜10
0である重合体およびジアゾ化合物からなる感光性組成
物である。
) and has an acid value of 10 to 10
This is a photosensitive composition consisting of a polymer with a diazo compound of 0.0 and a diazo compound.

上記の重合体の酸価を10〜300とするために側鎖に
カルボキシ基などの酸基が導入されるが、そのためには
、例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタ
コン酸などを共重合体させる方法など公知の方法が利用
できる。
In order to give the above polymer an acid value of 10 to 300, acid groups such as carboxyl groups are introduced into the side chains. Known methods such as combining methods can be used.

他方、具体的なジアゾ化合物としては、前記のような重
合体と相溶性を有するものが好ましい。
On the other hand, as specific diazo compounds, those having compatibility with the above-mentioned polymers are preferred.

とくに好ましいジアゾ化合物としては、P−ジアゾジフ
ェニルアミンとホルムアルデヒドまたはアセトアルデヒ
ドとの縮合物の塩、たとえば、フェノール塩、フルオロ
カプリン酸塩およびトリイソプロピルナフタレンスルホ
ン酸、4,4−ビフェニルジスルホン酸、5−ニトロオ
ルト−トルエンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、2
,5−ジメチルベンゼンスルホン酸、2−ニトロベンゼ
ンスルホン酸、3−り四ロベンゼンスルホン酸、3−ブ
ロモベンゼンスルホン酸、2−クロロ−5−二トロベン
ゼンスルホン酸、2−フルオロカプリルナフタレンスル
ホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキ
ー4−ヒドロオキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホ
ン酸およびパラトルエンスルホン酸などのスルホン酸の
塩などのように一分子中に2個以上のジアゾ基を有する
化合物である。
Particularly preferred diazo compounds include salts of condensates of P-diazodiphenylamine and formaldehyde or acetaldehyde, such as phenol salts, fluorocaprates and triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 4,4-biphenyldisulfonic acid, 5-nitroortho- Toluenesulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, 2
, 5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 3-ditetrabenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-chloro-5-nitrobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, Having two or more diazo groups in one molecule, such as salts of sulfonic acids such as 1-naphthol-5-sulfonic acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl-benzenesulfonic acid, and para-toluenesulfonic acid. It is a compound.

この他望ましいジアゾ化合物としては上記の塩を含む2
.5−ジメトキシ−4−P−トリルメルカプトンベンゼ
ンジアゾニウムとホルムアルデヒドの縮合物、2,5−
ジメトキシ−4−モルホリノベンゼンジアゾニウムとホ
ルムアルデヒドまたはアセトアルデヒドの縮合物、およ
び特開昭48−33907号公報に記載されているよう
な下記一般式で示される化合物が含まれる。
Other desirable diazo compounds include the above-mentioned salts.
.. 5-Dimethoxy-4-P-tolylmercaptone Condensate of benzenediazonium and formaldehyde, 2,5-
Included are condensates of dimethoxy-4-morpholinobenzenediazonium and formaldehyde or acetaldehyde, and compounds represented by the following general formula as described in JP-A-48-33907.

式中、R1,R2,R3およびR4は各々炭素数1〜4
アルキル基、たとえば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基などを示し、Xは置換アミ7基、たとえば
、N−(β−ヒドロキシエチル)アミノ基、N、N−ジ
(β−ヒドロキシエチル〕アミノ基などのヒドロキシア
ルキルアミノ基を示し、Yは前記のような酸のアニオン
を示す。
In the formula, R1, R2, R3 and R4 each have 1 to 4 carbon atoms.
An alkyl group, such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, etc.; ] represents a hydroxyalkylamino group such as an amino group, and Y represents an anion of the acid as described above.

具体的には、たとえば、2,6−ビス(4−ジアゾ二2
.5−ジメトキシフェニルアミノ)−4−N、N−(シ
ーβ−ヒドロキシエチル)アミノ−1,3,5−トリア
ジンの2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル
ベンゼンスルホン酸塩、2,6−ビス(4−ジアゾ二2
,5−ジメトキシフェニルアミノ)−4−N−(β−ヒ
ドロキシエチル)アミノ−1,3,5−トリアジンの2
−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルベンゼン
スルホン酸塩、2.6−ビス(4−ジアゾ二2.5−ジ
ェトキシフェニルアミン)−4−N−(β−ヒドロキシ
エチルアミノ−1,3,5−1−リアジンの2−メトキ
シ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルベンゼンスルホン
酸塩などがある。
Specifically, for example, 2,6-bis(4-diazodi2
.. 2-Methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzenesulfonate of 5-dimethoxyphenylamino)-4-N,N-(cyβ-hydroxyethyl)amino-1,3,5-triazine, 2,6- Bis(4-diazodi2
,5-dimethoxyphenylamino)-4-N-(β-hydroxyethyl)amino-1,3,5-triazine 2
-methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzenesulfonate, 2,6-bis(4-diazodi2,5-jethoxyphenylamine)-4-N-(β-hydroxyethylamino-1,3, Examples include 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzenesulfonate of 5-1-riazine.

さらに、他の有用なジアゾ化合物は、米国特許、′第2
,649,373号明細書に記載されているような化合
物を含む。
Additionally, other useful diazo compounds are described in U.S. Pat.
, 649,373.

ジアゾ化合物の配合量は、前記重合体にたいして2〜4
00重量係、好ましくは8〜100重量係である。
The blending amount of the diazo compound is 2 to 4 with respect to the polymer.
00 weight ratio, preferably 8 to 100 weight ratio.

本発明において用いられる弱酸のアンモニウム塩として
は、その1重量係の水溶液でpI]が7.5〜10.0
を示すものから選ばれる。
The ammonium salt of a weak acid used in the present invention has a pI of 7.5 to 10.0 in an aqueous solution of 1 weight.
Selected from those that indicate

その代表例として、ホウ酸アンモニウム、五ホウ酸アン
モニウム、炭酸アンモニウム、ケイ酸アンモニウム、リ
ン酸。
Representative examples include ammonium borate, ammonium pentaborate, ammonium carbonate, ammonium silicate, and phosphoric acid.

第二アンモニウム、リン酸第三アンモニウムをあげるこ
とができる。
Examples include secondary ammonium and tertiary ammonium phosphate.

現像液組成物中における弱酸のアンモニウム塩の濃度は
0.1〜5重量係であり、好ましくは0.5〜2重量係
である。
The concentration of the ammonium salt of a weak acid in the developer composition is from 0.1 to 5 parts by weight, preferably from 0.5 to 2 parts by weight.

本発明による弱酸のアンモニウム塩水溶液から、なる現
像液組成物の現像速度を高めるために、界面活性剤およ
び水と混和できる有機溶媒を加えることもできる。
In order to increase the development rate of developer compositions made from aqueous solutions of ammonium salts of weak acids according to the invention, surfactants and water-miscible organic solvents can also be added.

界面活性剤としては、ノニオン系界面活性剤およびアニ
オン系界面活性剤が有効である。
As the surfactant, nonionic surfactants and anionic surfactants are effective.

このような界面活性剤として、具体的には、。たとえば
、高級アルコール(08〜C22)硫酸エステル塩類、
脂肪族アルコールリン酸エステル塩類、二塩基性脂肪酸
エステルのスルホン酸塩類、肪肪酸アミドスルホン酸塩
類、アルキルアリールスルホン酸塩類、ポリオキシアル
キレンアルキルエーテル類、ポリオキシアルキレンアル
キルエステル類、ポリオキシアルキレンアルキルアリー
ルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアミン類、
ポリオキシエチレンアルキルアミド類、ポリオキシエチ
レンソルビタンアルキルエステル類、プルロニツクス型
およびテトロニツクス型界面活性剤がある。
Specifically, such surfactants include: For example, higher alcohol (08-C22) sulfate ester salts,
Fatty alcohol phosphate ester salts, dibasic fatty acid ester sulfonates, fatty acid amide sulfonates, alkylaryl sulfonates, polyoxyalkylene alkyl ethers, polyoxyalkylene alkyl esters, polyoxyalkylene alkyl Aryl ethers, polyoxyethylene alkyl amines,
These include polyoxyethylene alkylamides, polyoxyethylene sorbitan alkyl esters, Pluronics type and Tetronics type surfactants.

これらの界面活性剤の量は、現像液組成物中の0.1〜
10重量係で、好ましくは0.5〜3重量係である。
The amount of these surfactants in the developer composition ranges from 0.1 to
10 parts by weight, preferably 0.5 to 3 parts by weight.

また、水と混和できる有機溶媒としては、ベンジルアル
コール、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキサイド、イソプロ
パツール、エチレンクリコール七ツメチルエーテル、エ
チレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコ
ールモノブチルエーテル、タイアセントアルコールなど
がある。
Organic solvents that are miscible with water include benzyl alcohol, cyclohexanone, cyclohexanol, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, isopropanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, Ascent alcohol, etc.

これらの有機溶媒の量は、現像液組成物中の0.5〜1
0重量係で、好ましくは1〜4重量係である。
The amount of these organic solvents is 0.5 to 1 in the developer composition.
0 weight ratio, preferably 1 to 4 weight ratio.

上記の界面活性剤と有機溶媒中、とくに好ましいものと
しては、イソプロビルナフクレンスルホン酸ナトリウム
とベンジルアルコールの組合わせである。
Among the above-mentioned surfactants and organic solvents, a combination of isoprobylnafucrene sodium sulfonate and benzyl alcohol is particularly preferred.

本発明による弱酸のアンモニウム塩水溶液からなる現像
液は、液口体のpHが中和点に近く(たとえば、ホウ酸
アンモニウム1重量係水溶液のpHは8.3である。
In the developer comprising an aqueous solution of ammonium salt of a weak acid according to the present invention, the pH of the liquid body is close to the neutralization point (for example, the pH of a 1 weight aqueous solution of ammonium borate is 8.3).

)、廃液を捨てる場合はとんど中和する必要がなく、非
常に低公害性である。
), there is no need to neutralize the waste liquid when it is disposed of, and the pollution is extremely low.

そのうえ、本発明の現像液で処理した平版印刷版は、他
のアルカリ剤、たとえば、ケイ酸ナトIJウムの水溶液
からなる現像液で処理したものに比較して耐刷性は犬で
、また、現像時間が過剰になっても、さらに、現像温度
が高くなっても、耐刷性における劣化は極めて小さい。
Moreover, the printing durability of the lithographic printing plate treated with the developer of the present invention is inferior to that of the plate treated with a developer made of other alkaline agents, for example, an aqueous solution of sodium silicate. Even if the development time becomes excessive or the development temperature becomes high, the deterioration in printing durability is extremely small.

本発明の現像液組成物は、さらにフォトレジスト材料、
フォトマスクなどの現像にも使用することができる。
The developer composition of the present invention further comprises a photoresist material,
It can also be used for developing photomasks, etc.

つぎに、実施例をあげて本発明をさらに詳細に説明する
Next, the present invention will be explained in more detail by giving examples.

なお、下記実施例におけるパーセンテージは、とくにこ
とわらない限り、重量係である。
Note that the percentages in the following examples are by weight unless otherwise specified.

実施例 1 窒素気流下にジオキサン300gを100°Cに加熱し
、2−ヒドロキシエチルメククリレート150g、メチ
ルメタクリレート79.57!、アクリロニトリル60
g、メタクリル酸10.5gおよび過酸化ベンゾイル1
.2gの混合液を2時間かかつて滴下した。
Example 1 300 g of dioxane was heated to 100°C under a nitrogen stream, and 150 g of 2-hydroxyethyl meccrylate and 79.57 g of methyl methacrylate were added. , acrylonitrile 60
g, methacrylic acid 10.5 g and benzoyl peroxide 1
.. 2 g of the mixture was added dropwise over a period of 2 hours.

滴下終了15分後にジオキサン300gと過酸化ベンゾ
イル0.3gを加えて、そのまま4時間反応させた。
15 minutes after the completion of the dropwise addition, 300 g of dioxane and 0.3 g of benzoyl peroxide were added, and the mixture was allowed to react for 4 hours.

反応終了後、メタノールで希釈して水中に投じて共重合
体を沈殿させ、70℃で真空乾燥させた。
After the reaction was completed, the copolymer was diluted with methanol and poured into water to precipitate it, followed by vacuum drying at 70°C.

この2−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体の酸
価は20であり、2−メトキシエタノール33係溶液の
25℃における粘度は4,980センチポイズであった
The acid value of this 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer was 20, and the viscosity of the 2-methoxyethanol 33 solution at 25°C was 4,980 centipoise.

厚さ0.15mmの38アルミニウム板を、80°Cに
保たれたリン酸第三ナトリウムの10係水溶液に3分間
浸漬して脱脂、水洗し、ついで70%硝酸水溶液を用い
てデスマットし、水洗後70℃のケイ酸ナトリウム1.
25%水溶液に1分間浸漬処理し、平滑な砂目のないア
ルミニウム板を作製した。
A 38 aluminum plate with a thickness of 0.15 mm was immersed for 3 minutes in a 10% aqueous solution of tertiary sodium phosphate kept at 80°C, degreased and washed with water, then desmutted with a 70% nitric acid aqueous solution and washed with water. Sodium silicate at 70℃ 1.
It was immersed in a 25% aqueous solution for 1 minute to produce a smooth aluminum plate without grains.

このアルミニウム板に、下記の組成を有する感光性組成
物溶液をボイラーを用いて塗布した。
A photosensitive composition solution having the following composition was applied to this aluminum plate using a boiler.

乾燥は100℃で2分間行なった。Drying was performed at 100°C for 2 minutes.

2−ヒドロキシエチルメタクリ シー1〜共重合体の2−メトキシ エタノール33係溶液 25.5g 。2-hydroxyethyl methacrylate Sea 1-2-methoxy copolymer Ethanol 33 solution 25.5g.

P−ジアゾジフェニルアミンと パラホルムアルデヒドの縮合物 の2−メトキシ−4−ヒドロキ シ−5−ベンゾイルベンゼンス ルホン酸塩 L25,9オイルブ
ルー8603(オリエ ント化学工業株式会社製) 0.:12−メ
トキシエタノール 90gメタノール
90gエチレンジクロライド
90g 。
2-Methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzene sulfonate of condensate of P-diazodiphenylamine and paraformaldehyde L25,9 Oil Blue 8603 (manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.) 0. :12-methoxyethanol 90g methanol
90g ethylene dichloride
90g.

乾燥塗布重量は0.82%J/ m”であった。The dry coating weight was 0.82% J/m''.

この感光性平版印刷版を30アンペアのカーボンアーク
灯で70cIrLの距離から20秒間露光しくグレース
ケールで3段ベタであった。
This photosensitive lithographic printing plate was exposed to a 30 ampere carbon arc lamp from a distance of 70 cIrL for 20 seconds, resulting in a three-level solid gray scale.

これは、適正露光時間の半分の露光量であった。This was an exposure amount that was half the appropriate exposure time.

)。ついで、下記。の組成を有する現像液にて25℃で
1分間浸漬し、その後、30秒間脱脂綿で軽くこすりな
がら水洗を行なった。
). Then, below. The sample was immersed in a developer having the following composition at 25° C. for 1 minute, and then washed with water while being lightly rubbed with absorbent cotton for 30 seconds.

ベンジルアルコール 205+イソプロ
ビルナフクレンスルホ ン酸ナトリウム 10gアルカリ
剤 ×g水
1000gこのようにしてえられた
印刷版をハリス・オーシリア125印刷機にかけて上質
紙に印刷したところ、第1表の結果かえられた。
Benzyl alcohol 205 + sodium isoprobylnafucrene sulfonate 10g alkaline agent xg water
When 1000 g of the printing plate thus obtained was printed on high-quality paper using a Harris Ausilia 125 printing machine, the results shown in Table 1 were obtained.

比較例 1〜3 アルカリ剤の種類および量を第1表に示すものに変えた
以外は、未施例1と同様の方法を行なったところ、第1
表の結果かえられた。
Comparative Examples 1 to 3 The same method as in Example 1 was carried out except that the type and amount of the alkaline agent were changed to those shown in Table 1.
The table results have been changed.

第1表の結果から明らかなように、ホウ酸アンモニウム
を使用したものは、他のアルカリ剤を用いたものと比較
して2倍から6倍の耐刷性を有している。
As is clear from the results in Table 1, those using ammonium borate have printing durability that is 2 to 6 times longer than those using other alkaline agents.

また、現像液のpHは8.3で、はとんど中性に近いた
め、低公害性であった。
Furthermore, the pH of the developing solution was 8.3, which was close to neutral, so it was low pollution.

実施例 2 実施例1で用いた感光性平版印刷版を、30アンペアの
カーボンアーク灯で70cTLの距離から40秒間露光
しくグレースケール5段ベタであった。
Example 2 The photosensitive lithographic printing plate used in Example 1 was exposed to light for 40 seconds from a distance of 70 cTL using a 30 ampere carbon arc lamp, resulting in a 5-level gray scale.

これは適正露光時間であった。)、ついで、下記の組成
を有する現像液にて25°Cで30秒間オートプロセッ
サー80O8自動現像機(富士写真フィルム株式会社製
)で現像した。
This was an appropriate exposure time. ), and then developed with a developer having the following composition at 25° C. for 30 seconds using an Autoprocessor 80O8 automatic processor (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.).

ベンジルアルコール 300gイソプロ
ピルナフタレンスルホ ン酸ナトリウム 150gホウ酸ア
ンモニウム 100g水
10,000gこのようにしてえられた
平版印刷版を、ノ1リス・オーシリア125印刷機にか
けて上質紙に印刷したところ、30,000枚以上印刷
することができた。
Benzyl alcohol 300g Sodium isopropylnaphthalene sulfonate 150g Ammonium borate 100g Water
When 10,000 g of the lithographic printing plate thus obtained was printed on high-quality paper using a Norris Aucilia 125 printing machine, more than 30,000 sheets could be printed.

また、この現像液の処理能力を調べたところ、30 r
n:/ 1以上処理することができ、現像速度は新液と
ほとんど差がなく、印刷時における非画像部の汚れも発
生しなかった。
Also, when we investigated the processing ability of this developer, we found that it was 30 r
It was possible to process n:/1 or more, the development speed was almost the same as that of the new solution, and no staining of non-image areas occurred during printing.

この30 rrl/ 1!を処理した現像液は、感光性
組成物から溶出した染料とバインダーである2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート共重合体で、どろどろし、着
色した液となったが、この現像液に硫酸アルミニウムを
少量加えてpH7以下にしたところ、染料とバインダー
が沈殿し、透明な液となった。
This 30 rrl/1! The developer treated with this process was thick and colored due to the dye eluted from the photosensitive composition and the binder 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer, but when a small amount of aluminum sulfate was added to this developer, When the pH was lowered to 7 or lower, the dye and binder precipitated, resulting in a clear liquid.

この透明な液は、もはや現像する能力はなかったがBO
Dの測定からほとんど有機物が取り除かれていた。
This clear liquid no longer had the ability to develop, but BO
Almost all organic matter was removed from the D measurement.

このように、ホウ酸アンモニウムを含有する現像液の廃
液の処理も簡単であった。
In this way, the treatment of developer waste containing ammonium borate was also simple.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 酸価10〜300を有し且つ側鎖にヒドロキ基およ
びシアン基を有するアクリル酸系またはメタクリル酸系
の高分子重合体およびジアゾ化合物を含む感光性組成物
を塗布した感光性シートの未露光部分を除去するための
現像液として、ホウ酸アンモニウム、五ホウ酸アンモニ
ウム、炭酸アンモニウム、ケイ酸アンモニウム、リン酸
第三アンモニウムおよびリン酸第三アンモニウムよりな
る群から選ばれた少なくとも1種の弱酸のアンモニウム
塩水溶液を含むことを特徴とする現像液組成物。
1. Unexposed photosensitive sheet coated with a photosensitive composition containing an acrylic or methacrylic acid polymer and a diazo compound having an acid value of 10 to 300 and having a hydroxy group and a cyan group in the side chain As a developer for removing the portion, at least one weak acid selected from the group consisting of ammonium borate, ammonium pentaborate, ammonium carbonate, ammonium silicate, tertiary ammonium phosphate, and tertiary ammonium phosphate is used. A developer composition comprising an aqueous ammonium salt solution.
JP50004860A 1975-01-10 1975-01-10 Genzou exo saves Expired JPS5822736B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP50004860A JPS5822736B2 (en) 1975-01-10 1975-01-10 Genzou exo saves

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP50004860A JPS5822736B2 (en) 1975-01-10 1975-01-10 Genzou exo saves

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5180228A JPS5180228A (en) 1976-07-13
JPS5822736B2 true JPS5822736B2 (en) 1983-05-11

Family

ID=11595419

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP50004860A Expired JPS5822736B2 (en) 1975-01-10 1975-01-10 Genzou exo saves

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5822736B2 (en)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS552213A (en) * 1978-06-19 1980-01-09 Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai Developing method
JPS55134847A (en) * 1979-04-06 1980-10-21 Nec Corp Manufacture of resist image
JPS57192951A (en) * 1981-05-25 1982-11-27 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Composition of developing solution
JPS5854341A (en) * 1981-09-28 1983-03-31 Fuji Photo Film Co Ltd Developing method and developing solution
JPS60130741A (en) * 1983-12-19 1985-07-12 Nippon Seihaku Kk Photosensitive lithographic plate developer

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS48101201A (en) * 1972-04-12 1973-12-20
JPS49103702A (en) * 1973-02-07 1974-10-01
JPS49127709A (en) * 1973-04-16 1974-12-06

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS48101201A (en) * 1972-04-12 1973-12-20
JPS49103702A (en) * 1973-02-07 1974-10-01
JPS49127709A (en) * 1973-04-16 1974-12-06

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5180228A (en) 1976-07-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1098752A (en) Aqueous developer for a daizo lithographic printing plate including a benzyl alcohol or glycol ether derivative and sulfite
US4762771A (en) Method of treating photosensitive printing plate
US4511640A (en) Aqueous developable diazo lithographic printing plates with admixture of polyvinyl acetate and styrene maleic acid ester copolymer
JPH0454218B2 (en)
JPH04507007A (en) Aqueous developer composition for developing negative-working lithographic printing plates
JPH0570815B2 (en)
JPH0470627B2 (en)
US4348954A (en) Agent for protecting the surface of lithographic printing plate
JPS5822736B2 (en) Genzou exo saves
JPS61238054A (en) Manufacture of photographic element
US4786580A (en) Method of developing imaged diazo material with propanol containing developer composition
JPS6120939A (en) Photosensitive composition
US4539285A (en) Photosensitive negative diazo composition with two acrylic polymers for photolithography
JPH02254457A (en) Developing solution composition for photosensitive planographic printing plate and photomechanical process
JPH0355816B2 (en)
JPH0642071B2 (en) Photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate
JPS60213943A (en) Developing solution composition
JPH0689025A (en) Photosensitive multifunctional aromatic diazo compound and photosensitive composition using same
JPH0354337B2 (en)
JPH01170941A (en) Developing agent composition for photosensitive planographic plate improved in deterioration of visible image
JPH067264B2 (en) Developer for developing a negative-working, exposed copy layer disposed on a support
US5081003A (en) Developer compositions for newspaper plates
JP2971961B2 (en) Developer for photosensitive lithographic printing plate
JPS63170646A (en) Preparation of printing plate from photosensitive lithographic printing plate which is improved in developability and the like
JPS5822486B2 (en) Hikari Kasei Soseibutsu